JP2022022508A - Flux, solder paste, electronic circuit mounting substrate, and electronic control device - Google Patents

Flux, solder paste, electronic circuit mounting substrate, and electronic control device Download PDF

Info

Publication number
JP2022022508A
JP2022022508A JP2020109201A JP2020109201A JP2022022508A JP 2022022508 A JP2022022508 A JP 2022022508A JP 2020109201 A JP2020109201 A JP 2020109201A JP 2020109201 A JP2020109201 A JP 2020109201A JP 2022022508 A JP2022022508 A JP 2022022508A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flux
mass
solder
acid
less
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020109201A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6917506B1 (en
Inventor
司 勝山
Tsukasa Katsuyama
靖文 柴田
Yasufumi Shibata
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tamura Corp
Toyota Motor Corp
Original Assignee
Tamura Corp
Toyota Motor Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tamura Corp, Toyota Motor Corp filed Critical Tamura Corp
Priority to JP2020109201A priority Critical patent/JP6917506B1/en
Priority to PCT/JP2021/023691 priority patent/WO2021261502A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6917506B1 publication Critical patent/JP6917506B1/en
Publication of JP2022022508A publication Critical patent/JP2022022508A/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/24Selection of soldering or welding materials proper
    • B23K35/26Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 400 degrees C
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/36Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
    • B23K35/3601Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest with inorganic compounds as principal constituents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C13/00Alloys based on tin
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering

Abstract

To provide a flux which can suppress occurrence of a whisker in a solder joint part and can exhibit good solderability and storage stability, a solder paste, an electronic circuit mounting substrate and an electronic control device.SOLUTION: A flux contains a base resin, an organic acid, a heterocyclic compound and a solvent, and contains 0.05 mass% or more and less than 15 mass% of a cyclohexanedicarboxylic acid as the organic acid with respect to the total amount of the flux, and contains 0.05 mass% or more and less than 15 mass% of the heterocyclic compound with respect to the total amount of the flux.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、フラックス、ソルダペースト、電子回路実装基板及び電子制御装置に関する。 The present invention relates to flux, solder paste, electronic circuit mounting boards and electronic control devices.

電子回路基板(プリント配線板やシリコンウエハ等)上に形成されている電子回路に電子部品を接合する方法として、はんだ合金といったはんだ接合用材料を用いたはんだ接合方法が一般的に用いられている。このはんだ接合方法としては、例えばフローソルダリング(電子回路基板と電子部品とを溶融したはんだに接触させてはんだ付を行う方法)、リフローソルダリング(はんだ合金からなる合金粉末とフラックスとを混合したソルダペーストや、ソルダプリフォーム等をリフロー炉で再溶融させてはんだ付を行う方法)等が挙げられる。
そしてこのはんだ接合により、電子回路実装基板上にはんだ接合部が形成され、電子回路実装基板上の電極と電子部品の電極とが電気的に接合される。
As a method of joining electronic components to an electronic circuit formed on an electronic circuit board (printed wiring board, silicon wafer, etc.), a solder joining method using a solder joining material such as a solder alloy is generally used. .. Examples of this solder joining method include flow soldering (a method in which an electronic circuit board and an electronic component are brought into contact with molten solder to perform soldering) and reflow soldering (a method in which an alloy powder made of a solder alloy and a flux are mixed). A method of remelting solder paste, solder preform, etc. in a reflow oven and soldering) and the like.
Then, by this solder bonding, a solder bonding portion is formed on the electronic circuit mounting board, and the electrodes on the electronic circuit mounting board and the electrodes of the electronic components are electrically bonded.

従来、このはんだ合金には鉛が使用されていた。しかし環境負荷の観点からRoHS指令等によって鉛の使用が制限されたため、近年では鉛を含有しない、所謂鉛フリーはんだ合金によるはんだ接合方法が一般的になりつつある。 Conventionally, lead has been used for this solder alloy. However, since the use of lead is restricted by the RoHS Directive from the viewpoint of environmental load, in recent years, a solder joining method using a so-called lead-free solder alloy that does not contain lead is becoming common.

この鉛フリーはんだ合金としては、例えばSn-Cu系、Sn-Ag-Cu系、Sn-Bi系及びSn-Zn系はんだ合金等がよく知られている。その中でも、はんだ合金の強度、融点及びコスト等の観点で比較的バランスのとれているSn-Ag-Cu系はんだ合金が、民生用電子機器や車載用電子機器の電子回路実装基板に広く使用されている。 As the lead-free solder alloy, for example, Sn—Cu type, Sn—Ag—Cu type, Sn—Bi type, Sn—Zn type solder alloy and the like are well known. Among them, Sn-Ag-Cu-based solder alloys, which are relatively well-balanced in terms of solder alloy strength, melting point, cost, etc., are widely used for electronic circuit mounting boards of consumer electronic devices and in-vehicle electronic devices. ing.

しかし、鉛フリーはんだ合金を使用してはんだ接合を行う場合、鉛を含有したはんだ合金ではほとんど発生し得なかったウィスカの発生が問題となっている。
ここでウィスカとは、金属の結晶表面から外側に向けて主にひげ状に成長した結晶である。鉛フリーはんだ合金を用いたはんだ接合を行う場合、特に電子回路実装基板上の電極や電子部品の電極においてSnを主成分とするウィスカが多く確認されている。
However, when solder bonding is performed using a lead-free solder alloy, the generation of whiskers, which could hardly occur in a lead-containing solder alloy, has become a problem.
Here, the whisker is a crystal that grows mainly like a whiskers from the surface of the metal crystal toward the outside. When soldering using a lead-free solder alloy, many whiskers containing Sn as a main component have been confirmed, especially in electrodes on electronic circuit mounting boards and electrodes of electronic components.

このウィスカは、電子回路実装基板上の電極や電子部品の電極に施されためっき内部に発生する残留応力によって当該めっきに含まれるSnが再結晶することがその発生原因と考えられている。そのため、前記めっきをリフローしてこれを再凝固させて内部応力を除去することで、このようなウィスカの成長は防止し得る。 It is considered that the cause of this whisker is that Sn contained in the plating is recrystallized by the residual stress generated inside the plating applied to the electrodes on the electronic circuit mounting substrate and the electrodes of the electronic components. Therefore, such growth of whiskers can be prevented by reflowing the plating and resolidifying it to remove internal stress.

しかし近年では、電子回路実装基板上に形成されたはんだ接合部にもウィスカが発生することが報告されている。はんだ接合部に発生するウィスカは導通性を有するため電気回路の短絡を引き起こし、電気的信頼性を著しく低下させる虞がある。
特に車載用電子機器の使用される環境は、民生用電子機器以上に腐食を促進しやすい高温高湿環境下であり、且つ長期間使用されることもあるため、ウィスカが発生し易く、また成長もし易い。
However, in recent years, it has been reported that whiskers also occur in solder joints formed on electronic circuit mounting boards. Since the whiskers generated in the solder joints have conductivity, they may cause a short circuit in the electric circuit and significantly reduce the electrical reliability.
In particular, the environment in which in-vehicle electronic devices are used is a high-temperature and high-humidity environment in which corrosion is more likely to be promoted than consumer electronic devices, and since they may be used for a long period of time, whiskers are likely to occur and grow. If easy.

また今後、自動車の更なる電動化や自動運転化は進み、これに伴い、センサー及び通信機器の自動車内への搭載数が更に増加することが予想される。しかし自動車内における電子機器の搭載スペースには限界があるため、電子機器には更なるダウンサイジングが求められる。
電子機器の省スペース化は当然ながら電子回路実装基板及びこれに搭載される電子部品の省スペース化にも繋がる。そのため、電子回路実装基板に搭載される電子部品は、更なる微小化及び高密度化が求められる。
In the future, further electrification and autonomous driving of automobiles will progress, and it is expected that the number of sensors and communication devices installed in automobiles will further increase accordingly. However, since there is a limit to the mounting space for electronic devices in automobiles, further downsizing is required for electronic devices.
Space saving of electronic devices naturally leads to space saving of electronic circuit mounting boards and electronic components mounted on them. Therefore, the electronic components mounted on the electronic circuit mounting board are required to be further miniaturized and densified.

そして電子部品の微小化及び高密度化により、電子部品間や導体パターン間のピッチはより一層狭くなるため、はんだ接合部に発生するウィスカを原因とする電気回路の短絡はより発生し易くなる。このように、特に車載用電子機器においては、はんだ接合部におけるウィスカの発生抑制は重要な課題の1つとなりつつある。 Due to the miniaturization and high density of electronic components, the pitch between electronic components and conductor patterns becomes even narrower, so that short circuits in electric circuits caused by whiskers generated at solder joints are more likely to occur. As described above, suppressing the generation of whiskers at the solder joints is becoming one of the important issues, especially in in-vehicle electronic devices.

ここで、鉛フリーはんだ合金は、鉛を含有したはんだ合金と比較してはんだ付性が劣る。そのため、はんだ接合時に補助材料として使用するフラックスにはんだ付性を補填する目的で、臭素やヨウ素といったハロゲン元素を含むハロゲン化合物を添加する方法が広く用いられている。 Here, the lead-free solder alloy is inferior in solderability as compared with the lead-containing solder alloy. Therefore, a method of adding a halogen compound containing a halogen element such as bromine or iodine is widely used for the purpose of supplementing the solderability to the flux used as an auxiliary material at the time of solder bonding.

しかし、フラックスに含まれるハロゲン化合物(ハロゲン元素)は、上述したはんだ接合部に発生するウィスカの発生要因の1つに当たると考えられる。
即ち、前記はんだ接合部を形成する鉛フリーはんだ合金に含まれているSnは、周囲環境の湿気及び酸素、並びに当該はんだ接合部周辺に残留するフラックス残さに含まれるハロゲン成分によって酸化及び腐食し、SnOに変化する。前記はんだ接合部のうちSnがSnOになった部分の体積は膨張するため、腐食(SnOへの変化)が進行すると当該はんだ接合部の未腐食部に圧縮応力が生じ、この圧縮応力がウィスカの発生に繋がると考えられる。
このように、フラックスに含まれるハロゲン化合物(ハロゲン元素)は、触媒となって前記はんだ接合部に含まれるSnの腐食反応を促進し、当該はんだ接合部におけるウィスカの発生に深く関与しているものと考えられる。
However, the halogen compound (halogen element) contained in the flux is considered to be one of the causes of whiskers generated in the solder joint described above.
That is, Sn contained in the lead-free solder alloy forming the solder joint is oxidized and corroded by moisture and oxygen in the surrounding environment and a halogen component contained in the flux residue remaining around the solder joint. It changes to SnO 2 . Since the volume of the portion of the solder joint where Sn becomes SnO 2 expands, when corrosion (change to SnO 2 ) progresses, compressive stress is generated in the uncorroded portion of the solder joint, and this compressive stress is generated. It is thought that it will lead to the outbreak of whiskers.
As described above, the halogen compound (halogen element) contained in the flux acts as a catalyst to promote the corrosion reaction of Sn contained in the solder joint, and is deeply involved in the generation of whiskers in the solder joint. it is conceivable that.

本出願人らは、臭素やヨウ素を含有したハロゲン化合物を添加したフラックスAと、ハロゲン化合物を添加していないフラックスBとを用意し、フラックスAとフラックスBをそれぞれ鉛フリーはんだ合金からなる合金粉末と混練したソルダペーストA及びBを用いて、高温高湿環境下でのはんだ接合部におけるウィスカの発生有無を確認した。
その結果、フラックスAを用いたソルダペーストAでは、形成したはんだ接合部にウィスカの発生が確認されたのに対して、フラックスBを用いたソルダペーストBでは、高温高湿環境下に2,000時間放置した後もはんだ接合部におけるウィスカの発生は確認されなかった。
Applicants prepared a flux A to which a halogen compound containing bromine or iodine was added and a flux B to which a halogen compound was not added, and the flux A and the flux B were each an alloy powder made of a lead-free solder alloy. Using the solder pastes A and B kneaded with the above, it was confirmed whether or not whiskers were generated at the solder joint in a high temperature and high humidity environment.
As a result, whiskers were confirmed to be generated in the formed solder joints in the solder paste A using the flux A, whereas the solder paste B using the flux B was 2,000 in a high temperature and high humidity environment. No whiskers were found at the solder joints even after being left for a long time.

このように、はんだ接合部におけるウィスカ発生の抑制には、ハロゲン化合物を含有しないフラックスを使用することが効果的であることが分かる。しかし上述の通り、鉛フリーはんだ合金は、鉛を含有したはんだ合金と比較してぬれ性やボイドの発生という観点ではんだ付性が劣る。そのため、ハロゲン化合物を含有するフラックスと比べ、鉛フリーはんだ合金を用い且つハロゲン化合物を含有しないフラックスを用いてはんだ接合を行う場合、そのはんだ付性は悪化することが当然に予想される。
そのため、ハロゲン化合物を含有していてもウィスカの発生を抑制できる、またはハロゲン化合物を含有しない、若しくはその配合量を低減したフラックスであって、鉛フリーはんだ合金を用いた場合にもそのはんだ付性を損なわないフラックスの提供が課題となっていた。
As described above, it can be seen that it is effective to use a flux that does not contain a halogen compound in order to suppress the generation of whiskers in the solder joint. However, as described above, the lead-free solder alloy is inferior in solderability in terms of wettability and generation of voids as compared with the lead-containing solder alloy. Therefore, it is naturally expected that the solderability will be deteriorated when soldering is performed using a lead-free solder alloy and a flux not containing a halogen compound as compared with a flux containing a halogen compound.
Therefore, it is a flux that can suppress the generation of whiskers even if it contains a halogen compound, or does not contain a halogen compound, or has a reduced amount of the flux, and its solderability even when a lead-free solder alloy is used. Providing a flux that does not impair the problem has been an issue.

特許第4325746号Patent No. 4325746 特許第6370324号Patent No. 6370324 特開2011-143445号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-143445 国際公開第2012/118074号パンフレットInternational Publication No. 2012/118074 Pamphlet 特許第4461009号Patent No. 446109 特許第5667101号Patent No. 5667101

特許文献1には、酸性りん酸エステル及びその誘導体から選ばれた少なくとも1種の化合物を0.2~4質量%含有する鉛フリーはんだ用の無洗浄型樹脂系フラックスが開示されている。当該フラックスは、少量の酸性りん酸エステルをフラックスに含有させることにより、活性剤としてハロゲン化合物を使用する場合においてもはんだ接合部におけるウィスカの発生を抑制し得るものである。 Patent Document 1 discloses a non-cleaning resin-based flux for lead-free solder containing 0.2 to 4% by mass of at least one compound selected from an acidic phosphoric acid ester and a derivative thereof. By containing a small amount of acidic phosphoric acid ester in the flux, the flux can suppress the generation of whiskers in the solder joint even when a halogen compound is used as an activator.

特許文献2には、フラックス組成物中における塩素濃度が900質量ppm以下、臭素濃度が900質量ppm以下であり、且つ、ハロゲン濃度が1,500質量ppm以下であって、ハイドロタルサイト化合物を含有するフラックス組成物を含むはんだ組成物が開示されている。当該フラックス組成物は、その塩素濃度及びハロゲン濃度を所定の数値以下とすることにより、はんだ接合部におけるSnウィスカの発生を抑制し得るものである。 Patent Document 2 contains a hydrotalcite compound having a chlorine concentration of 900 mass ppm or less, a bromine concentration of 900 mass ppm or less, and a halogen concentration of 1,500 mass ppm or less in the flux composition. Disclosed is a solder composition comprising a flux composition. By setting the chlorine concentration and the halogen concentration to a predetermined value or less, the flux composition can suppress the generation of Sn whiskers in the solder joint portion.

特許文献1に開示される酸性りん酸エステルを含有するフラックス、及び特許文献2に開示されるハイドロタルサイト化合物を含有するフラックス組成物は、はんだ接合時に溶融したはんだ内に取り込まれたフラックスや空気を排出し難くなる虞がある。そのため、これらのフラックスを使用するソルダペーストを用いて形成したはんだ接合部の内部にはボイドが発生し易くなる虞がある。そしてはんだ接合部に発生したボイドは、車載用電子機器のように寒暖の差の激しい環境下に置かれる場合、はんだ接合部における亀裂発生の要因となるため、その信頼性の低下に繋がる虞がある。 The flux containing the acidic phosphoric acid ester disclosed in Patent Document 1 and the flux composition containing the hydrotalcite compound disclosed in Patent Document 2 are the flux and air taken into the molten solder at the time of solder bonding. May be difficult to discharge. Therefore, there is a possibility that voids are likely to occur inside the solder joint portion formed by using the solder paste using these fluxes. When the voids generated in the solder joints are placed in an environment with a large temperature difference such as in-vehicle electronic devices, they cause cracks in the solder joints, which may lead to a decrease in reliability. be.

また特許文献3には、ハロゲン化合物を含有しないフラックスが開示されている。当該フラックスは、ハロゲン化合物を含有せず、有機酸及びアミン化合物の少なくとも一方を活性剤として使用することで、はんだ接合部におけるウィスカの発生を抑制し、ぬれ性の向上を両立し得るものである。
しかし特許文献3に開示されるフラックスは、微小化及び高密度化された電子部品の実装、即ち、狭ピッチ化された電子部品の実装においても高い信頼性を発揮し得ることは開示されていない。
Further, Patent Document 3 discloses a flux containing no halogen compound. The flux does not contain a halogen compound, and by using at least one of an organic acid and an amine compound as an activator, it is possible to suppress the generation of whiskers at the solder joint and improve the wettability at the same time. ..
However, it is not disclosed that the flux disclosed in Patent Document 3 can exhibit high reliability even in the mounting of miniaturized and high-density electronic components, that is, in the mounting of electronic components having a narrow pitch. ..

特許文献4には、ハロゲン化合物を含有しないフラックスが開示されている。当該フラックスは、有機酸と、イミダゾール系誘導体もしくは有機アミンを活性剤として組み合わせることにより、ハロゲン化合物を添加しない場合であってもフラックスのぬれ性を向上し得るものである。 Patent Document 4 discloses a flux containing no halogen compound. By combining an organic acid with an imidazole derivative or an organic amine as an activator, the flux can improve the wettability of the flux even when a halogen compound is not added.

特許文献5には、積極的にハロゲン化合物を含有しないはんだ融剤組成物が開示されている。当該はんだ融剤組成物は、メチルコハク酸からなる活性化成分とイミダゾール化合物またはイミダゾール誘導体を含有させることにより、適度な粘性、流動性、粘着性及び滑り性を発揮し得るものである。 Patent Document 5 discloses a solder flux composition that does not positively contain a halogen compound. The solder flux composition can exhibit appropriate viscosity, fluidity, adhesiveness and slipperiness by containing an activating component composed of methylsuccinic acid and an imidazole compound or an imidazole derivative.

特許文献6には、ハロゲン化合物を含有しないビヒクルを有するはんだ組成物が開示されている。当該はんだ組成物は、炭素数8以上の不飽和脂肪酸と当該不飽和脂肪酸以外の有機酸と、所定のイミダゾール化合物とを含有するビヒクルを含むことにより、優れたはんだ付性及び保存安定性を発揮し得るものである。 Patent Document 6 discloses a solder composition having a vehicle containing no halogen compound. The solder composition exhibits excellent solderability and storage stability by containing an unsaturated fatty acid having 8 or more carbon atoms, an organic acid other than the unsaturated fatty acid, and a vehicle containing a predetermined imidazole compound. It is possible.

しかし、イミダゾール系誘導体やイミダゾール化合物を含有するフラックスは、フラックスやこれを用いたソルダペーストの保存安定性が悪化する虞がある。
ここで、上述のように、微小化及び高密度化された電子部品の実装においては、鉛フリーはんだ合金からなる合金粉末の平均粒子径を、従来より使用されている30μm程度のものから10μm程度のものに変更することが検討されている。このような平均粒子径の小さい合金粉末は、単位体積あたりの表面積の増加に伴い、その酸化被膜量も増加し得る。
そのため、その酸化被膜を除去するためにより活性力の高いフラックスが必要となり得る。
しかし特許文献6のフラックスは、優れた保存安定性を発揮し得ることが開示されているものの、このような単位体積あたりの表面積の大きい合金粉末を使用したソルダペーストにおいても良好な保存安定性を発揮し得ることは開示されていない。
However, a flux containing an imidazole derivative or an imidazole compound may deteriorate the storage stability of the flux and the solder paste using the flux.
Here, as described above, in the mounting of miniaturized and high-density electronic components, the average particle size of the alloy powder made of a lead-free solder alloy is about 10 μm from the conventionally used one of about 30 μm. It is being considered to change to the one. Such an alloy powder having a small average particle size can increase the amount of the oxide film as the surface area per unit volume increases.
Therefore, a more active flux may be required to remove the oxide film.
However, although it is disclosed that the flux of Patent Document 6 can exhibit excellent storage stability, it also provides good storage stability even in a solder paste using an alloy powder having a large surface area per unit volume. It is not disclosed that it can be exerted.

本発明は、はんだ接合部におけるウィスカ発生の抑制、良好なはんだ付性及び保存安定性を発揮し得るフラックス、ソルダペースト、電子回路実装基板及び電子制御装置の提供をその目的とする。 An object of the present invention is to provide a flux, a solder paste, an electronic circuit mounting board, and an electronic control device capable of suppressing the generation of whiskers in a solder joint and exhibiting good solderability and storage stability.

本発明のフラックスは、ベース樹脂と、有機酸と、複素環式化合物と、溶剤とを含み、前記有機酸として下記一般式(1)で表される化合物をフラックス全量に対して0.05質量%以上15質量%未満含み、前記複素環式化合物をフラックス全量に対して0.05質量%以上15質量%未満含む。 The flux of the present invention contains a base resin, an organic acid, a heterocyclic compound, and a solvent, and the compound represented by the following general formula (1) is added as the organic acid by 0.05 mass with respect to the total amount of the flux. % Or more and less than 15% by mass, and the heterocyclic compound is contained in an amount of 0.05% by mass or more and less than 15% by mass with respect to the total amount of the flux.

Figure 2022022508000001
(前記一般式(1)中、Xは1つ以上のカルボキシル基、アルキル基及び水素原子の群から選ばれる少なくともいずれかであって、これらの各置換基及び水素原子の位置並びにその数は限定されず、単一及び複数の組合せのいずれであってもよい。)
Figure 2022022508000001
(In the above general formula (1), X is at least one selected from the group of one or more carboxyl groups, alkyl groups and hydrogen atoms, and the positions and numbers of each of these substituents and hydrogen atoms are limited. It may be either a single or a combination of two or more.)

本発明のフラックスは、前記一般式(1)で表される化合物としてシクロヘキサンジカルボン酸を含むことが好ましい。 The flux of the present invention preferably contains cyclohexanedicarboxylic acid as the compound represented by the general formula (1).

本発明のフラックスは、前記シクロヘキサンジカルボン酸として1,3-シクロヘキサンジカルボン酸及び1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の少なくともいずれかを含むことが好ましい。 The flux of the present invention preferably contains at least one of 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid as the cyclohexanedicarboxylic acid.

前記複素環式化合物は、イミダゾール骨格、イミダゾリン骨格及びベンゾイミダゾール骨格の少なくともいずれかを含むことが好ましい。 The heterocyclic compound preferably contains at least one of an imidazole skeleton, an imidazoline skeleton and a benzimidazole skeleton.

前記イミダゾール骨格を含む複素環式化合物はアルキル基を有することが好ましい。 The heterocyclic compound containing the imidazole skeleton preferably has an alkyl group.

本発明のフラックスは、更にチキソ剤をフラックス全量に対して0質量%超15質量%以下含むことが好ましい。 The flux of the present invention preferably further contains a thixotropic agent in an amount of more than 0% by mass and 15% by mass or less based on the total amount of the flux.

本発明のソルダペーストは、前記フラックスと、鉛フリーはんだ合金からなる合金粉末とを含む。 The solder paste of the present invention contains the flux and an alloy powder made of a lead-free solder alloy.

前記鉛フリーはんだ合金からなる合金粉末の平均粒子径は10μm以上30μm以下であることが好ましい。 The average particle size of the alloy powder made of the lead-free solder alloy is preferably 10 μm or more and 30 μm or less.

本発明の電子回路実装基板は、前記ソルダペーストを用いて形成されるはんだ接合部を有する。 The electronic circuit mounting board of the present invention has a solder joint formed by using the solder paste.

本発明の電子制御装置は、前記電子回路実装基板を有する。 The electronic control device of the present invention has the electronic circuit mounting board.

本発明のフラックス、ソルダペースト、電子回路実装基板及び電子制御装置は、はんだ接合部におけるウィスカ発生の抑制、良好なはんだ付性及び保存安定性を発揮し得る。 The flux, solder paste, electronic circuit mounting board, and electronic control device of the present invention can exhibit whisker generation suppression, good solderability, and storage stability at the solder joint.

以下、本発明のフラックス、ソルダペースト、電子回路実装基板及び電子制御装置の一実施形態を詳述する。なお、本発明が以下の実施形態に限定されるものではないことはもとよりである。 Hereinafter, one embodiment of the flux, solder paste, electronic circuit mounting board, and electronic control device of the present invention will be described in detail. It goes without saying that the present invention is not limited to the following embodiments.

(1)フラックス
本実施形態のフラックスは、ベース樹脂と、有機酸と、複素環式化合物と、溶剤とを含む。
また本実施形態のフラックスは、ハロゲン化合物を含有せず、これにより、はんだ接合部におけるウィスカの発生を抑制することができる。なお、本実施形態においてハロゲン化合物を含有しないとは、意図的にハロゲン化合物を添加しないことを意味する。
(1) Flux The flux of the present embodiment contains a base resin, an organic acid, a heterocyclic compound, and a solvent.
Further, the flux of the present embodiment does not contain a halogen compound, whereby the generation of whiskers at the solder joint can be suppressed. In addition, in this embodiment, the fact that the halogen compound is not contained means that the halogen compound is not intentionally added.

<ベース樹脂>
前記ベース樹脂としては、例えばトール油ロジン、ガムロジン、ウッドロジン等のロジン、水添ロジン、重合ロジン、不均一化ロジン、アクリル酸変性ロジン及びマレイン酸変性ロジン等のロジン誘導体を含むロジン系樹脂;アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸の各種エステル、メタクリル酸の各種エステル、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、マレイン酸のエステル、無水マレイン酸のエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、塩化ビニル、酢酸ビニル等の少なくとも1種のモノマーを重合して得られるアクリル樹脂;スチレン-マレイン酸樹脂;エポキシ樹脂;ウレタン樹脂;ポリエステル樹脂;フェノキシ樹脂;テルペン樹脂;ポリアルキレンカーボネート等が挙げられる。これらは単独でまたは複数を組合せて用いることができる。
<Base resin>
Examples of the base resin include rosins such as tall oil rosin, gum rosin and wood rosin, hydrogenated rosins, polymerized rosins, heterogeneous rosins, acrylic acid-modified rosins and maleic acid-modified rosins and other rosin-based resins; acrylics. Acids, methacrylic acid, acrylic acid various esters, methacrylic acid various esters, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, maleic acid ester, maleic anhydride ester, acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylamide, methacryl Acrylic resin obtained by polymerizing at least one monomer such as amide, vinyl chloride, vinyl acetate, etc .; styrene-maleic acid resin; epoxy resin; urethane resin; polyester resin; phenoxy resin; terpene resin; polyalkylene carbonate and the like. Be done. These can be used alone or in combination of two or more.

前記ベース樹脂としては、ロジン系樹脂とそれ以外の樹脂とを併用することが好ましく、ロジン系樹脂とアクリル樹脂との併用がより好ましい。
なお、ロジン系樹脂としては、特に酸変性されたロジンに水素添加をした水添酸変性ロジンが好ましく用いられる。
As the base resin, it is preferable to use a rosin-based resin and other resins in combination, and it is more preferable to use a rosin-based resin and an acrylic resin in combination.
As the rosin-based resin, hydrogenated acid-modified rosin obtained by hydrogenating an acid-modified rosin is particularly preferably used.

前記ベース樹脂の酸価は10mgKOH/g以上250mgKOH/g以下であることが好ましい。より好ましいその酸価は100mgKOH/g以上250mgKOH/g以下であり、140mgKOH/g以上250mgKOH/g以下であることが特に好ましい。
また前記ベース樹脂の配合量はフラックス全量に対して10質量%以上90質量%以下であることが好ましい。より好ましいその配合量は20質量%以上50質量%以下であり、30質量%以上50質量%以下であることが特に好ましい。
The acid value of the base resin is preferably 10 mgKOH / g or more and 250 mgKOH / g or less. The acid value thereof is more preferably 100 mgKOH / g or more and 250 mgKOH / g or less, and particularly preferably 140 mgKOH / g or more and 250 mgKOH / g or less.
The blending amount of the base resin is preferably 10% by mass or more and 90% by mass or less with respect to the total amount of the flux. The blending amount thereof is more preferably 20% by mass or more and 50% by mass or less, and particularly preferably 30% by mass or more and 50% by mass or less.

本実施形態のフラックスに前記ベース樹脂としてロジン系樹脂を含有させる場合、その配合量はフラックス全量に対して5質量%以上70質量%以下であることが好ましい。より好ましいその配合量は10質量%以上60質量%以下であり、20質量%以上50質量%以下であることが特に好ましい。 When the flux of the present embodiment contains a rosin-based resin as the base resin, the blending amount thereof is preferably 5% by mass or more and 70% by mass or less with respect to the total amount of the flux. The blending amount thereof is more preferably 10% by mass or more and 60% by mass or less, and particularly preferably 20% by mass or more and 50% by mass or less.

また前記ベース樹脂としてロジン系樹脂とアクリル樹脂とを併用する場合、アクリル樹脂の配合量はフラックス全量に対して5質量%以上90質量%以下であることが好ましい。より好ましいその配合量は10質量%以上60質量%以下であり、20質量%以上50質量%以下であることが特に好ましい。 When the rosin resin and the acrylic resin are used in combination as the base resin, the blending amount of the acrylic resin is preferably 5% by mass or more and 90% by mass or less with respect to the total amount of the flux. The blending amount thereof is more preferably 10% by mass or more and 60% by mass or less, and particularly preferably 20% by mass or more and 50% by mass or less.

<有機酸>
本実施形態のフラックスは、前記有機酸として下記一般式(1)で表される化合物を含有することが好ましい。本実施形態のフラックスは、後述する複素環式化合物を含有しても、前記有機酸として下記一般式(1)で表される化合物を併用することにより、良好な保存安定性を発揮し得る。
<Organic acid>
The flux of the present embodiment preferably contains the compound represented by the following general formula (1) as the organic acid. Even if the flux of the present embodiment contains a heterocyclic compound described later, good storage stability can be exhibited by using the compound represented by the following general formula (1) in combination as the organic acid.

Figure 2022022508000002
(前記一般式(1)中、Xは1つ以上のカルボキシル基、アルキル基及び水素原子の群から選ばれる少なくともいずれかであって、これらの各置換基及び水素原子の位置並びにその数は限定されず、単一及び複数の組合せのいずれであってもよい。)
Figure 2022022508000002
(In the above general formula (1), X is at least one selected from the group of one or more carboxyl groups, alkyl groups and hydrogen atoms, and the positions and numbers of each of these substituents and hydrogen atoms are limited. It may be either a single or a combination of two or more.)

本実施形態のフラックスは、前記一般式(1)で表される化合物としてシクロヘキサンジカルボン酸を含むことが好ましい。
本実施形態のフラックスが前記一般式(1)で表される化合物としてシクロヘキサンジカルボン酸を含む場合、濡れ性及びはんだ付け性を確保した上で、フラックスの保存安定性をより向上し得る。
また本実施形態のフラックスは、前記シクロヘキサンジカルボン酸として、1,3-シクロヘキサンジカルボン酸及び1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の少なくともいずれかを含むことが特に好ましい。更に前記シクロヘキサンジカルボン酸の異性体として、シス型、トランス型のいずれも使用することができるが、シス型の方がより好ましい。
これらは単独でまたは複数を組合せて用いることができる。
The flux of the present embodiment preferably contains cyclohexanedicarboxylic acid as the compound represented by the general formula (1).
When the flux of the present embodiment contains cyclohexanedicarboxylic acid as the compound represented by the general formula (1), the storage stability of the flux can be further improved while ensuring wettability and solderability.
Further, it is particularly preferable that the flux of the present embodiment contains at least one of 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid as the cyclohexanedicarboxylic acid. Further, as the isomer of the cyclohexanedicarboxylic acid, either a cis type or a trans type can be used, but the cis type is more preferable.
These can be used alone or in combination of two or more.

前記一般式(1)で表される化合物の配合量は、フラックス全量に対して0.05質量%以上15質量%未満であることが好ましい。より好ましいその配合量は2質量%以上10質量%以下であり、4質量%以上10質量%以下であることが特に好ましい。
前記一般式(1)で表される化合物の配合量をこの範囲とすることにより、フラックスの保存安定性を更に向上し得る。
The blending amount of the compound represented by the general formula (1) is preferably 0.05% by mass or more and less than 15% by mass with respect to the total amount of the flux. The blending amount thereof is more preferably 2% by mass or more and 10% by mass or less, and particularly preferably 4% by mass or more and 10% by mass or less.
By setting the blending amount of the compound represented by the general formula (1) within this range, the storage stability of the flux can be further improved.

本実施形態のフラックスには、前記一般式(1)で表される化合物と共に、これ以外の有機酸(以下、「その他の有機酸」という。)を含有させることができる。
前記その他の有機酸としては、例えばモノカルボン酸、ジカルボン酸、その他の有機酸等が挙げられる。
前記モノカルボン酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、ペンタン酸、カプロン酸、エナント酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ツベルクロステアリン酸、アラキジン酸、ベヘニン酸、リグノセリン酸、グリコール酸等が挙げられる。
また前記ジカルボン酸としては、シュウ酸、マロン酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、ジグリコール酸等が挙げられる。
更にその他の有機酸等としては、ダイマー酸、レブリン酸、乳酸、アクリル酸、安息香酸、サリチル酸、アニス酸、クエン酸、ピコリン酸等が挙げられる。
これらは単独でまたは複数を組合せて用いることができる。
The flux of the present embodiment may contain other organic acids (hereinafter referred to as "other organic acids") in addition to the compound represented by the general formula (1).
Examples of the other organic acid include monocarboxylic acid, dicarboxylic acid, and other organic acids.
Examples of the monocarboxylic acid include formic acid, acetic acid, propionic acid, butanoic acid, pentanoic acid, caproic acid, enanthic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, pentadecic acid, palmitic acid, margaric acid, stearic acid and tubercrostearic. Examples thereof include acid, arachidic acid, behenic acid, lignoseric acid, glycolic acid and the like.
Examples of the dicarboxylic acid include oxalic acid, malonic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, tartaric acid, and diglycolic acid.
Further, examples of other organic acids include dimer acid, levulinic acid, lactic acid, acrylic acid, benzoic acid, salicylic acid, anis acid, citric acid, picolin acid and the like.
These can be used alone or in combination of two or more.

前記有機酸として前記一般式(1)で表される化合物と前記その他の有機酸とを併用する場合、その合計配合量は0.5質量%以上20質量%以下であることが好ましい。より好ましいその配合量は0.5質量%以上10質量%以下であり、0.5質量%以上5質量%以下であることが特に好ましい。 When the compound represented by the general formula (1) and the other organic acid are used in combination as the organic acid, the total blending amount thereof is preferably 0.5% by mass or more and 20% by mass or less. The blending amount thereof is more preferably 0.5% by mass or more and 10% by mass or less, and particularly preferably 0.5% by mass or more and 5% by mass or less.

<複素環式化合物>
本実施形態のフラックスは、複素環式化合物を含有することが好ましい。本実施形態のフラックスは、複素環式化合物を含有することにより、ハロゲン化合物を含有せずとも良好なはんだ付性を発揮し得る。また上述のように、本実施形態のフラックスは、前記一般式(1)で表される化合物を併用することにより、良好な保存安定性を発揮し得る。
<Heterocyclic compound>
The flux of the present embodiment preferably contains a heterocyclic compound. By containing the heterocyclic compound, the flux of the present embodiment can exhibit good solderability even if it does not contain a halogen compound. Further, as described above, the flux of the present embodiment can exhibit good storage stability by using the compound represented by the general formula (1) in combination.

本実施形態のフラックスは、前記複素環式化合物として、イミダゾール骨格、イミダゾリン骨格及びベンゾイミダゾール骨格の少なくともいずれかを含むことが好ましい。 The flux of the present embodiment preferably contains at least one of an imidazole skeleton, an imidazoline skeleton, and a benzimidazole skeleton as the heterocyclic compound.

このような前記複素環式化合物としては、アルキルイミダゾールが好ましく用いられる。
前記アルキルイミダゾールとしては、例えば2-エチル-4-メチルイミダゾール、ウンデシルイミダゾール等が挙げられる。
これらは単独でまたは複数を組合せて用いることができる。
As such a heterocyclic compound, alkylimidazole is preferably used.
Examples of the alkylimidazole include 2-ethyl-4-methylimidazole and undecylimidazole.
These can be used alone or in combination of two or more.

前記複素環式化合物の配合量は、フラックス全量に対して0.05質量%以上15質量%未満であることが好ましい。より好ましいその配合量は1質量%以上10質量%以下であり、2質量%以上8質量%以下であることが特に好ましい。
前記複素環式化合物の配合量をこの範囲とすることにより、フラックスのはんだ付性を更に向上し得る。
The blending amount of the heterocyclic compound is preferably 0.05% by mass or more and less than 15% by mass with respect to the total amount of the flux. The blending amount thereof is more preferably 1% by mass or more and 10% by mass or less, and particularly preferably 2% by mass or more and 8% by mass or less.
By setting the blending amount of the heterocyclic compound in this range, the solderability of the flux can be further improved.

<溶剤>
前記溶剤としては、例えばイソプロピルアルコール、エタノール、アセトン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、グリコールエーテル等を使用することができる。これらは単独でまたは複数を組合せて使用することができる。
前記溶剤の配合量は、フラックス全量に対して5質量%以上50質量%以下であることが好ましい。より好ましいその配合量は10質量%以上40質量%以下であり、20質量%以上40質量%以下であることが特に好ましい。
<Solvent>
As the solvent, for example, isopropyl alcohol, ethanol, acetone, toluene, xylene, ethyl acetate, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, glycol ether and the like can be used. These can be used alone or in combination of two or more.
The blending amount of the solvent is preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less with respect to the total amount of the flux. The blending amount thereof is more preferably 10% by mass or more and 40% by mass or less, and particularly preferably 20% by mass or more and 40% by mass or less.

<チキソ剤>
本実施形態のフラックスには、更にチキソ剤を含有させることができる。前記チキソ剤としては、例えば水素添加ヒマシ油、脂肪酸アマイド類、オキシ脂肪酸類が挙げられる。これらは単独でまたは複数を組合せて使用することができる。
前記チキソ剤の配合量は、フラックス全量に対して0質量%超15質量%以下であることが好ましい。より好ましいその配合量は1質量%以上10質量%以下であり、3質量%以上8質量%以下であることが特に好ましい。
<Thixotropic agent>
The thixotropic agent can be further contained in the flux of the present embodiment. Examples of the thixotropic agent include hydrogenated castor oil, fatty acid amides, and oxyfatty acids. These can be used alone or in combination of two or more.
The blending amount of the thixotropic agent is preferably more than 0% by mass and 15% by mass or less with respect to the total amount of the flux. The blending amount thereof is more preferably 1% by mass or more and 10% by mass or less, and particularly preferably 3% by mass or more and 8% by mass or less.

<酸化防止剤>
本実施形態のフラックスには、鉛フリーはんだ合金の酸化を抑える目的で更に酸化防止剤を含有させることができる。この酸化防止剤としては、例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、ビスフェノール系酸化防止剤、ポリマー型酸化防止剤等が挙げられる。その中でも特にヒンダードフェノール系酸化防止剤が好ましく用いられる。これらは単独でまたは複数を組合せて使用することができる。
前記酸化防止剤の配合量は特に限定されないが、一般的にはフラックス全量に対して0.5質量%以上5質量%程度以下であることが好ましい。
<Antioxidant>
The flux of the present embodiment may further contain an antioxidant for the purpose of suppressing oxidation of the lead-free solder alloy. Examples of the antioxidant include hindered phenolic antioxidants, phenolic antioxidants, bisphenolic antioxidants, polymer-type antioxidants and the like. Among them, hindered phenolic antioxidants are particularly preferably used. These can be used alone or in combination of two or more.
The blending amount of the antioxidant is not particularly limited, but is generally preferably 0.5% by mass or more and 5% by mass or less with respect to the total amount of the flux.

<添加剤>
本実施形態のフラックスには、更につや消し剤、消泡剤及び無機フィラー等の添加剤を含有させることができる。
前記添加剤の配合量は、フラックス全量に対して10質量%以下であることが好ましい。またこれらの更に好ましい配合量はフラックス全量に対して5質量%以下である。
<Additives>
The flux of the present embodiment may further contain additives such as a matting agent, a defoaming agent and an inorganic filler.
The blending amount of the additive is preferably 10% by mass or less with respect to the total amount of the flux. Further, a more preferable blending amount thereof is 5% by mass or less with respect to the total amount of the flux.

(2)ソルダペースト
本実施形態のフラックスは、例えばこれを鉛フリーはんだ合金からなる合金粉末と混合してソルダペーストとすることができる。
但し、本実施形態のフラックスは、ソルダペーストを用いる以外のはんだ接合方法、例えばはんだボールによる実装(はんだ接合)、鉛フリーはんだ合金と本実施形態のフラックスを含むはんだ接合用材料によるはんだ接合等にも使用することができる。
なお、本実施形態のフラックスは、特にソルダペーストに好ましく用いられる。
(2) Solder paste The flux of the present embodiment can be, for example, mixed with an alloy powder made of a lead-free solder alloy to form a solder paste.
However, the flux of this embodiment can be used for solder joining methods other than using solder paste, for example, mounting with solder balls (solder joining), solder joining with a lead-free solder alloy and a solder joining material containing the flux of this embodiment, and the like. Can also be used.
The flux of this embodiment is particularly preferably used for solder paste.

<鉛フリーはんだ合金からなる合金粉末>
前記鉛フリーはんだ合金からなる合金粉末としては、例えばSn、Ag、Cu、Bi、Sb、Ni、Co、P、Ga、Ge、Fe、Mn、Cr、Mo、In、Cd、Tl、Se、Au、Ti、Si、Al、Mg及びZn等を含む合金を使用することができる。
なお、上述した元素以外であってもその組合せに使用することは可能であり、当然ながら不可避不純物も含まれるものである。
<Alloy powder made of lead-free solder alloy>
Examples of the alloy powder made of the lead-free solder alloy include Sn, Ag, Cu, Bi, Sb, Ni, Co, P, Ga, Ge, Fe, Mn, Cr, Mo, In, Cd, Tl, Se, Au. , Ti, Si, Al, Mg, Zn and the like can be used.
It should be noted that elements other than the above-mentioned elements can be used in the combination thereof, and of course, unavoidable impurities are also included.

前記ソルダペーストを作製する場合、前記鉛フリーはんだ合金からなる合金粉末とフラックスとの配合比率は、鉛フリーはんだ合金からなる合金粉末:フラックスの比率で65:35から95:5であることが好ましい。より好ましい配合比率は85:15から93:7であり、特に好ましい配合比率は87:13から92:8である。 When the solder paste is produced, the blending ratio of the alloy powder made of the lead-free solder alloy and the flux is preferably 65:35 to 95: 5 in the ratio of the alloy powder made of the lead-free solder alloy: flux. .. A more preferred blending ratio is 85:15 to 93: 7, and a particularly preferred blending ratio is 87:13 to 92: 8.

なお前記鉛フリーはんだ合金からなる合金粉末の平均粒子径は1μm以上40μm以下であることが好ましく、10μm以上30μm以下であることがより好ましく、5μm以上15μm以下であることが特に好ましい。 The average particle size of the alloy powder made of the lead-free solder alloy is preferably 1 μm or more and 40 μm or less, more preferably 10 μm or more and 30 μm or less, and particularly preferably 5 μm or more and 15 μm or less.

ここで、上述の通り、特に車載用電子機器においては、電子回路実装基板に実装する電子部品の微小化及び高密度化が進んでおり、これに伴い、微細な(平均粒子径の小さい)鉛フリーはんだ合金からなる合金粉末を使用したはんだ接合が行われるようになっている。
しかし鉛フリーはんだ合金からなる合金粉末は、平均粒子径が小さければ小さいほど、その単位体積あたりの表面積が大きくなる。そして当該表面積が大きくなればなるほど、合金粉末表面の酸化被膜の量(面積)が増加し、フラックスと合金粉末との反応がより進行し易いため、フラックスのはんだ付性及び保存安定性が阻害される虞がある。
Here, as described above, especially in in-vehicle electronic devices, the miniaturization and high density of electronic components mounted on electronic circuit mounting boards are progressing, and along with this, fine lead (small average particle size) is being used. Solder bonding using alloy powder made of free solder alloy has been performed.
However, the smaller the average particle size of the alloy powder made of lead-free solder alloy, the larger the surface area per unit volume. As the surface area increases, the amount (area) of the oxide film on the surface of the alloy powder increases, and the reaction between the flux and the alloy powder is more likely to proceed, so that the solderability and storage stability of the flux are impaired. There is a risk of

しかし本実施形態のソルダペーストは、前記フラックスを含有することにより、例えば平均粒子径が10μm程度の鉛フリーはんだ合金からなる合金粉末を使用した場合であっても、良好なはんだ付性及び保存安定性を発揮し得る。
このように、本実施形態のソルダペーストは、電子部品の微小化及び高密度化、並びに高い信頼性の求められる車載用電子機器(車載用電子回路実装基板)においても好適に使用することができる。
However, since the solder paste of the present embodiment contains the flux, it has good solderability and storage stability even when an alloy powder made of a lead-free solder alloy having an average particle size of about 10 μm is used. Can exert sex.
As described above, the solder paste of the present embodiment can be suitably used in an in-vehicle electronic device (vehicle-mounted electronic circuit mounting board) that requires miniaturization and high density of electronic components and high reliability. ..

(3)電子回路実装基板
本実施形態の電子回路実装基板は、例えば以下の方法により形成される。なお、本実施形態のはんだ接合部が形成される基板としては、プリント配線板、シリコンウエハ及びセラミックパッケージ基板等、電子部品の搭載、実装に用いられるものであればこれらに限らず使用できる。
(3) Electronic circuit mounting board The electronic circuit mounting board of the present embodiment is formed by, for example, the following method. The substrate on which the solder joint portion of the present embodiment is formed is not limited to a printed wiring board, a silicon wafer, a ceramic package substrate, or any other substrate used for mounting or mounting electronic components.

即ち、例えば予め定められた位置に所定のパターンの電極及び絶縁層を有する電子回路基板上に、このパターンに合わせて前記ソルダペーストを印刷する。そして当該電子回路基板上の所定の位置に電子部品を搭載し、これを例えば220℃から245℃の温度でリフローすることにより、前記ソルダペーストを使用して形成されたはんだ接合部を有する電子回路実装基板が作製される。 That is, for example, the solder paste is printed in accordance with this pattern on an electronic circuit board having a predetermined pattern of electrodes and an insulating layer at a predetermined position. An electronic circuit having a solder joint formed by using the solder paste by mounting an electronic component at a predetermined position on the electronic circuit board and reflowing the electronic component at a temperature of, for example, 220 ° C to 245 ° C. A mounting board is manufactured.

前記ソルダペーストは、前記フラックスを含有することにより、良好な保存安定性及びはんだ付性を発揮し得るため、信頼性の高いはんだ接合部を形成することができる。また当該フラックスにはハロゲン化合物が含有されていないため、はんだ接合部におけるウィスカの発生を抑制でき、その信頼性を向上させることができる。 Since the solder paste contains the flux, it can exhibit good storage stability and solderability, so that a highly reliable solder joint can be formed. Further, since the flux does not contain a halogen compound, it is possible to suppress the generation of whiskers at the solder joint and improve its reliability.

このように、本実施形態のはんだ接合部を有する電子回路実装基板は、高い信頼性が要求される車載用電子回路実装基板として特に好適に使用することができる。 As described above, the electronic circuit mounting board having the solder joint portion of the present embodiment can be particularly preferably used as an in-vehicle electronic circuit mounting board that requires high reliability.

(4)電子制御装置
またこのような電子回路実装基板を組み込むことにより、信頼性の高い電子制御装置が作製される。そしてこのような電子制御装置は、特に高い信頼性の求められる車載用電子制御装置として好適に用いることができる。
(4) Electronic control device By incorporating such an electronic circuit mounting board, a highly reliable electronic control device can be manufactured. And such an electronic control device can be suitably used as an in-vehicle electronic control device that requires particularly high reliability.

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を詳述する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to these examples.

表1及び表2に記載の各成分を混練し、実施例1から実施例8、比較例1から比較例7に係るフラックスを作製した。なお、表中の数値の単位は全て質量%である。
そして、これらの各フラックス11質量%と、Sn-3Ag-0.5Cuはんだ合金粉末(平均粒子径:10μm)89質量%とを混合し、各ソルダペーストを作製した。
Each component shown in Tables 1 and 2 was kneaded to prepare fluxes according to Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 7. The units of the numerical values in the table are all mass%.
Then, 11% by mass of each of these fluxes and 89% by mass of Sn-3Ag-0.5Cu solder alloy powder (average particle diameter: 10 μm) were mixed to prepare each solder paste.

Figure 2022022508000003
※1 水添酸変性ロジン 荒川化学工業(株)製
※2 脂肪酸アマイド 三菱ケミカル(株)
Figure 2022022508000003
* 1 Hydrogenated acid-modified rosin manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd. * 2 Fatty acid amide Mitsubishi Chemical Corporation

Figure 2022022508000004
※1 水添酸変性ロジン 荒川化学工業(株)製
※2 脂肪酸アマイド 三菱ケミカル(株)
Figure 2022022508000004
* 1 Hydrogenated acid-modified rosin manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd. * 2 Fatty acid amide Mitsubishi Chemical Corporation

1.ウィスカ発生確認試験
以下の用具を用意した。
・QFP部品(ピッチ幅:0.5mm、縦20mm×横20mm×厚さ1.7mm、端子数:144ピン、Snメッキ)
・上記QFP部品を実装できるパターンを有するソルダレジスト及び前記QFP部品を接続する電極とを備えたプリント配線板
・上記パターンを有する厚さ150μmのメタルマスク
前記プリント配線板に前記メタルマスクを用いて各実施例及び各比較例に係る各ソルダペーストを印刷し、前記QFP部品を搭載した。
その後、リフロー炉(製品名:TNV30-508EM2-X、(株)タムラ製作所製)を用いて前記各プリント配線板を加熱して、各プリント配線板と各QFP部品とを電気的に接続するはんだ接合部を有する各電子回路実装基板を作製した。この際のリフロー条件はプリヒートを170℃から190℃、ピーク温度を245℃とし、220℃以上の時間が45秒間、ピーク温度から200℃までの冷却速度を1℃から8℃/秒とした。また酸素濃度は1,500±500ppmに設定した。
そして、上記各電子回路実装基板について、恒温恒湿器内に85℃85%の条件下で200時間放置後、25℃50%の条件下で24時間放置する工程を1サイクルとし、この工程を5サイクル行い、各試験基板を作製した。
その後、前記各試験基板のはんだ接合部の状態について、走査電子顕微鏡(製品名:TM-1000、(株)日立ハイテクノロジーズ製)を用いて観察し、以下の基準に従い評価した。その結果を表3及び表4に表わす。
〇:はんだ接合部にウィスカが発生していない
×:はんだ接合部にウィスカが発生している
1. 1. Whisker occurrence confirmation test The following tools were prepared.
・ QFP parts (pitch width: 0.5 mm, length 20 mm x width 20 mm x thickness 1.7 mm, number of terminals: 144 pins, Sn plating)
-Printed wiring board provided with a solder resist having a pattern on which the QFP component can be mounted and an electrode for connecting the QFP component-Metal mask having the above pattern and having a thickness of 150 μm Each using the metal mask on the printed wiring board. Each solder paste according to the examples and each comparative example was printed, and the QFP component was mounted.
After that, each printed wiring board is heated using a reflow furnace (product name: TNV30-508EM2-X, manufactured by Tamura Seisakusho Co., Ltd.), and solder that electrically connects each printed wiring board and each QFP component. Each electronic circuit mounting board having a joint was manufactured. The reflow conditions at this time were a preheat of 170 ° C. to 190 ° C., a peak temperature of 245 ° C., a time of 220 ° C. or higher for 45 seconds, and a cooling rate from the peak temperature to 200 ° C. of 1 ° C. to 8 ° C./sec. The oxygen concentration was set to 1,500 ± 500 ppm.
Then, each of the above electronic circuit mounting boards is left in a constant temperature and humidity chamber for 200 hours under the condition of 85 ° C. and 85%, and then left for 24 hours under the condition of 25 ° C. and 50%, and this step is defined as one cycle. Five cycles were performed to prepare each test substrate.
Then, the state of the solder joint of each test substrate was observed using a scanning electron microscope (product name: TM-1000, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Tables 3 and 4.
〇: Whiskers are not generated at the solder joints ×: Whiskers are generated at the solder joints

2.保存安定性試験
各実施例及び各比較例に係る各ソルダペースト(以下、これらを纏めて「保存安定性試験用ソルダペースト」という。)をそれぞれ容器に収容し、これらを室温(25℃)下で2時間から3時間放置した。その後、前記各容器の蓋を開け、収容された前記各ソルダペーストをスパチュラを用いて空気の混入を避けるようにして1分間から2分間かき混ぜた。
次いで、保存安定性試験用ソルダペーストをスパイラル型粘度計(製品名:PCU-II型、(株)マルコム製)にセットし、回転数10rpm、温度25℃の条件にて6分間、ローターを回転させた。その後、一旦ローターの回転を停止させ、温度調整をした後に、回転数を10rpmに調整し、更に3分間ローターを回転させた後の、保存安定性試験用ソルダペーストのそれぞれの粘度値(粘度a)を計測した。
2. 2. Storage stability test Each solder paste according to each example and each comparative example (hereinafter collectively referred to as "solda paste for storage stability test") is placed in a container, and these are placed at room temperature (25 ° C.). It was left for 2 to 3 hours. Then, the lid of each container was opened, and each of the contained solder pastes was stirred with a spatula for 1 to 2 minutes so as to avoid air contamination.
Next, the solder paste for storage stability test was set in a spiral viscometer (product name: PCU-II type, manufactured by Malcolm Co., Ltd.), and the rotor was rotated for 6 minutes under the conditions of a rotation speed of 10 rpm and a temperature of 25 ° C. I let you. After that, the rotation of the rotor was stopped once, the temperature was adjusted, the rotation speed was adjusted to 10 rpm, and the rotor was further rotated for 3 minutes, and then the respective viscosity values (viscosity a) of the solder paste for the storage stability test. ) Was measured.

また保存安定性試験用ソルダペーストをそれぞれを容器に収容し、30℃の温度環境下に設定した恒温槽にこれを入れ、7日放置した。その後、上記と同じ条件にて保存安定性試験用ソルダペーストのそれぞれの粘度値(粘度b)を計測した。
そして、粘度aと粘度bに基づく保存安定性試験用ソルダペーストそれぞれの粘度上昇率を算出し、以下の基準に従い評価した。その結果を表3及び表4に表わす。
◎:粘度上昇率5%未満
〇:粘度上昇率5%以上10%未満
△:粘度上昇率10%以上20%以下
×:粘度上昇率21%以上
Further, each of the solder pastes for storage stability test was housed in a container, placed in a constant temperature bath set in a temperature environment of 30 ° C., and left for 7 days. Then, each viscosity value (viscosity b) of the solder paste for storage stability test was measured under the same conditions as above.
Then, the viscosity increase rate of each of the solder pastes for storage stability test based on the viscosity a and the viscosity b was calculated and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Tables 3 and 4.
⊚: Viscosity increase rate less than 5% 〇: Viscosity increase rate 5% or more and less than 10% Δ: Viscosity increase rate 10% or more and 20% or less ×: Viscosity increase rate 21% or more

3.ぬれ性試験
JIS規格Z3284-4:2014(4.1:ぬれ効力及びディウェッティング試験)の規定に準じて行った。
清浄した銅板と、直径6.5mmの穴が空いたメタルマスク(厚さ:0.2mm)とを用意した。
前記銅板上に、前記メタルマスクを用いて各実施例及び各比較例に係るソルダペーストを印刷し、各基板を作製した。
次いで、Sn-3Ag-0.5Cuはんだ合金よりも35℃高い温度(誤差:3℃以内)に設定したはんだバス上で、ソルダペーストの印刷面を上として前記各基板を加熱した。前記各基板上に印刷された前記各ソルダペーストの一部が溶融した時点から5秒間加熱を続けた後、前記各基板を水平状態にして取り出した。そして当該各基板を室温まで冷却して、各試験板を作製した。当該各試験板上のはんだ(ソルダペーストに含まれる鉛フリーはんだ合金からなる合金粉末が溶融したもの)の広がりを目視で確認し、以下の基準に従い評価した。その結果を表3及び表4に表わす。
◎:溶融したはんだがソルダペーストを塗布した面積以上に広がり、試験板をぬらしている状態である
〇:ソルダペーストを塗布した部分は、全てはんだでぬれた状態である
△:ソルダペーストを塗布した部分の大半は、はんだでぬれた状態(ディウェッティングも含まれる。)である
×:試験板は、はんだがぬれた様子はなく、溶融したはんだは1つまたは複数のソルダボールとなった状態(ノンウェッティング)である
3. 3. Wetting property test The test was carried out in accordance with the provisions of JIS standard Z3284-4: 2014 (4.1: Wetting efficacy and dewetting test).
A clean copper plate and a metal mask (thickness: 0.2 mm) with a hole having a diameter of 6.5 mm were prepared.
The solder paste according to each Example and each Comparative Example was printed on the copper plate using the metal mask to prepare each substrate.
Next, each of the substrates was heated with the printed surface of the solder paste facing up on a solder bath set at a temperature 35 ° C. higher (error: within 3 ° C.) than that of the Sn-3Ag-0.5Cu solder alloy. After heating was continued for 5 seconds from the time when a part of the solder paste printed on each of the substrates was melted, each of the substrates was taken out in a horizontal state. Then, each substrate was cooled to room temperature to prepare each test plate. The spread of the solder (melted alloy powder made of lead-free solder alloy contained in the solder paste) on each of the test plates was visually confirmed and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Tables 3 and 4.
⊚: The molten solder spreads beyond the area where the solder paste is applied and the test plate is wet. 〇: The part where the solder paste is applied is all wet with the solder. △: The solder paste is applied. Most of the parts are wet with solder (including dewetting). ×: The test plate does not appear to be wet with solder, and the molten solder is in one or more solder balls. (Non-wetting)

4.ソルダボール発生確認試験
JIS規格Z3284-4:2014(4.2:ソルダボール試験)の規定に準じて行った。
セラミック板と、直径6.5mmの穴が空いたメタルマスク(厚さ:0.2mm)とを用意し、前記セラミック板上に、前記メタルマスクを用いてソルダペーストを印刷する以外は、3.ぬれ性試験と同じ条件にて各試験板を作製した。
そして、各試験板上に発生したソルダボールの粒径及び数を以下の基準に従い評価した。その結果を表3及び表4に表わす。
◎:はんだが1つの大きな球となり、その周囲に発生した直径75μm以下のソルダボールは3つ以下である
〇:はんだが1つの大きな球となり、その周囲に発生した直径75μm以下のソルダボールは4つ以上であり、これらは半連続の環状に並んでいない
△:はんだが1つの大きな球となり、その周囲に多数の細かい球が半連続の環状に並んでいる
×:はんだが1つの大きな球とはならず、多数の細かい球が分散している
4. Solder ball generation confirmation test Performed in accordance with JIS standard Z3284-4: 2014 (4.2: Solder ball test).
2. Except for preparing a ceramic plate and a metal mask (thickness: 0.2 mm) having a hole with a diameter of 6.5 mm, and printing solder paste on the ceramic plate using the metal mask. Each test plate was prepared under the same conditions as the wettability test.
Then, the particle size and the number of solder balls generated on each test plate were evaluated according to the following criteria. The results are shown in Tables 3 and 4.
⊚: Solder becomes one large sphere and the number of solder balls with a diameter of 75 μm or less generated around it is 3 or less. 〇: Solder becomes one large sphere and the number of solder balls with a diameter of 75 μm or less generated around it is 4. There are two or more, and these are not arranged in a semi-continuous ring. Δ: Solder is one large sphere, and many fine spheres are arranged in a semi-continuous ring around it. ×: Solder is one large sphere. Many small spheres are scattered

Figure 2022022508000005
Figure 2022022508000005

Figure 2022022508000006
表4のうち、「-」は未評価を示す。
Figure 2022022508000006
In Table 4, "-" indicates unevaluated.

以上に示す通り、実施例に係るソルダペーストは、はんだ接合部におけるウィスカの発生を抑制すると共に、良好な保存安定性、ぬれ性(ソルダボールの発生抑制)効果を発揮し得ることが分かる。
また実施例に係るソルダペーストは、平均粒子径が10μm程度の微小な鉛フリーはんだ合金からなる合金粉末を使用した場合であっても、良好な保存安定性及びぬれ性(ソルダボールの発生抑制)効果を発揮し得る。
As shown above, it can be seen that the solder paste according to the embodiment can suppress the generation of whiskers at the solder joint, and also exhibit good storage stability and wettability (suppression of the generation of solder balls).
Further, the solder paste according to the embodiment has good storage stability and wettability (suppression of solder ball generation) even when an alloy powder made of a fine lead-free solder alloy having an average particle diameter of about 10 μm is used. It can be effective.

このように、実施例に係るソルダペーストは、微小化及び高密度化された電子部品の実装にも好適に用いることができ、また高い信頼性の求められる車載用電子回路実装基板にも好適に用いることができる。

As described above, the solder paste according to the embodiment can be suitably used for mounting miniaturized and high-density electronic components, and is also suitable for an in-vehicle electronic circuit mounting board that requires high reliability. Can be used.

Claims (10)

ベース樹脂と、有機酸と、複素環式化合物と、溶剤とを含み、
前記有機酸として下記一般式(1)で表される化合物をフラックス全量に対して0.05質量%以上15質量%未満含み、
前記複素環式化合物をフラックス全量に対して0.05質量%以上15質量%未満含むフラックス。
Figure 2022022508000007
(前記一般式(1)中、Xは1つ以上のカルボキシル基、アルキル基及び水素原子の群から選ばれる少なくともいずれかであって、これらの各置換基及び水素原子の位置並びにその数は限定されず、単一及び複数の組合せのいずれであってもよい。)
Contains a base resin, an organic acid, a heterocyclic compound, and a solvent.
The organic acid contains a compound represented by the following general formula (1) in an amount of 0.05% by mass or more and less than 15% by mass with respect to the total amount of the flux.
A flux containing the heterocyclic compound in an amount of 0.05% by mass or more and less than 15% by mass with respect to the total amount of the flux.
Figure 2022022508000007
(In the above general formula (1), X is at least one selected from the group of one or more carboxyl groups, alkyl groups and hydrogen atoms, and the positions and numbers of each of these substituents and hydrogen atoms are limited. It may be either a single or a combination of two or more.)
前記一般式(1)で表される化合物としてシクロヘキサンジカルボン酸を含む請求項1に記載のフラックス。 The flux according to claim 1, which comprises cyclohexanedicarboxylic acid as the compound represented by the general formula (1). 前記シクロヘキサンジカルボン酸として1,3-シクロヘキサンジカルボン酸及び1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の少なくともいずれかを含む請求項2に記載のフラックス。 The flux according to claim 2, wherein the cyclohexanedicarboxylic acid contains at least one of 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid. 前記複素環式化合物は、イミダゾール骨格、イミダゾリン骨格及びベンゾイミダゾール骨格の少なくともいずれかを含む請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のフラックス。 The flux according to any one of claims 1 to 3, wherein the heterocyclic compound contains at least one of an imidazole skeleton, an imidazoline skeleton, and a benzimidazole skeleton. 前記イミダゾール骨格を含む複素環式化合物はアルキル基を有する請求項4に記載のフラックス。 The flux according to claim 4, wherein the heterocyclic compound containing an imidazole skeleton has an alkyl group. 更にチキソ剤をフラックス全量に対して0質量%超15質量%以下含む請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のフラックス。 The flux according to any one of claims 1 to 5, further comprising a thixotropic agent in an amount of more than 0% by mass and 15% by mass or less based on the total amount of the flux. 請求項1から請求項6に記載のフラックスと、鉛フリーはんだ合金からなる合金粉末とを含むソルダペースト。 A solder paste containing the flux according to claim 1 to claim 6 and an alloy powder made of a lead-free solder alloy. 前記鉛フリーはんだ合金からなる合金粉末の平均粒子径は10μm以上30μm以下である請求項7に記載のソルダペースト。 The solder paste according to claim 7, wherein the alloy powder made of the lead-free solder alloy has an average particle size of 10 μm or more and 30 μm or less. 請求項7または請求項8に記載のソルダペーストを用いて形成されるはんだ接合部を有する電子回路実装基板。 An electronic circuit mounting board having a solder joint formed by using the solder paste according to claim 7. 請求項9に記載の電子回路実装基板を有する電子制御装置。

An electronic control device having the electronic circuit mounting board according to claim 9.

JP2020109201A 2020-06-24 2020-06-24 Flux, solder paste, electronic circuit board and electronic control device Active JP6917506B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020109201A JP6917506B1 (en) 2020-06-24 2020-06-24 Flux, solder paste, electronic circuit board and electronic control device
PCT/JP2021/023691 WO2021261502A1 (en) 2020-06-24 2021-06-23 Flux, solder paste, electronic circuit mounting board, and electronic control device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020109201A JP6917506B1 (en) 2020-06-24 2020-06-24 Flux, solder paste, electronic circuit board and electronic control device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP6917506B1 JP6917506B1 (en) 2021-08-11
JP2022022508A true JP2022022508A (en) 2022-02-07

Family

ID=77172691

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020109201A Active JP6917506B1 (en) 2020-06-24 2020-06-24 Flux, solder paste, electronic circuit board and electronic control device

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6917506B1 (en)
WO (1) WO2021261502A1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024062951A1 (en) * 2022-09-22 2024-03-28 株式会社弘輝 Flux and solder paste

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014117737A (en) * 2012-12-18 2014-06-30 Nippon Handa Kk Solder paste and soldering packaging method
JP2020142261A (en) * 2019-03-05 2020-09-10 千住金属工業株式会社 Solder paste
JP6795778B1 (en) * 2020-03-30 2020-12-02 千住金属工業株式会社 Flux, soldering with flux, flux-coated solder with flux, and soldering method

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6628821B2 (en) * 2017-02-28 2020-01-15 株式会社タムラ製作所 Flux composition, solder composition and electronic substrate
JP6477842B1 (en) * 2017-11-24 2019-03-06 千住金属工業株式会社 Flux and solder paste

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014117737A (en) * 2012-12-18 2014-06-30 Nippon Handa Kk Solder paste and soldering packaging method
JP2020142261A (en) * 2019-03-05 2020-09-10 千住金属工業株式会社 Solder paste
JP6795778B1 (en) * 2020-03-30 2020-12-02 千住金属工業株式会社 Flux, soldering with flux, flux-coated solder with flux, and soldering method

Also Published As

Publication number Publication date
WO2021261502A1 (en) 2021-12-30
JP6917506B1 (en) 2021-08-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6755837B2 (en) Lead-free solder alloys, electronic circuit boards and electronic control units
JP5667101B2 (en) Solder composition, method for producing the same, and printed wiring board
JP6359499B2 (en) Cold-heat shock flux composition, solder paste composition, and electronic circuit board
JP6027426B2 (en) Solder paste and soldering mounting method
JP6560272B2 (en) Solder paste, electronic circuit board and electronic control device
JP2006289493A (en) Sn-zn based solder, lead-free solder, its solder work, solder paste, and electronic component-soldering substrate
JP7089491B2 (en) Flux composition, solder paste and electronic circuit board
JP6423840B2 (en) Flux composition and solder paste
TWI777041B (en) Lead-free solder alloys, solder bonding materials, electronic circuit packaging substrates, and electronic control devices
JP6578393B2 (en) Lead-free solder alloy, electronic circuit mounting board, and electronic control device
JP6731034B2 (en) Lead-free solder alloy, solder joint material, electronic circuit mounting board and electronic control device
JP6917506B1 (en) Flux, solder paste, electronic circuit board and electronic control device
TW201915186A (en) Lead-free solder alloy, electronic circuit substrate and electronic control device capable of not only suppressing cracks generated at solder joints but also suppressing cracks generated at electrodes of chip resistors
JP6585554B2 (en) Lead-free solder alloy, electronic circuit board and electronic control device
JP2003332731A (en) ARTICLE SOLDERED WITH Pb-FREE SOLDER
JP7241795B2 (en) Residue-free flux composition and solder paste
JP7241716B2 (en) Lead-free solder alloys, solder joint materials, electronic circuit mounting boards, and electronic control devices
JP6916243B2 (en) Lead-free solder alloys, electronic circuit boards and electronic control devices
JP6420936B1 (en) Lead-free solder alloy, solder paste, electronic circuit mounting board and electronic control device
JP2018122322A (en) Lead-free solder alloy, solder paste, electronic circuit board and electronic control device
KR20210015600A (en) Lead-free solder alloys, solder pastes, electronic circuit mounting boards and electronic control devices
JP6998994B2 (en) Solder alloys and solder compositions
CN116833616A (en) Leadless soft solder alloy, soldering paste, electronic circuit mounting substrate and electronic control device
JP2021037545A (en) Lead-free solder alloy, solder paste, electronic circuit mounting substrate and electronic controller
JP2019081201A (en) Lead-free solder alloy, solder paste composition, electronic circuit board, and electronic controller

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20201210

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20201210

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20201225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210316

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210423

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210706

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210719

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6917506

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150