JP2022019535A - レーザエンボス用ポリエステルフィルム及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[第1の実施形態]
[第2の実施形態]
[第3の実施形態]
[実施形態による有利な効果]
11:基材層
111:第1の表面
112:第2の表面
11a:第1の基材層
11b:第2の基材層
12:表皮層
13:別の表皮層
M:金属版
P1:立体エンボスパターン
P2:別の立体エンボスパターン
Claims (14)
- 回収ポリエステル材料で作製されるレーザエンボス用ポリエステルフィルムであって、前記レーザエンボス用ポリエステルフィルムは、
基材層、及び前記基材層の少なくとも一面に設置される表皮層を備え、
前記表皮層は、第1のポリエステル組成物で形成され、前記第1のポリエステル組成物は、再生ポリエチレンテレフタレートを主成分として含むとともに、1,4-ブタンジオール、イソフタル酸、ネオペンチルグリコール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、ペンタンジオール、イソペンチルジオール、アジピン酸、及び1,4-シクロヘキサンジメタノールの中から選ばれる少なくとも一種の成分を含み、それによって、前記表皮層の融点を190℃~240℃にする、ことを特徴とするレーザエンボス用ポリエステルフィルム。 - 前記第1のポリエステル組成物は、物理的再生ポリエステル樹脂及び化学的再生ポリエステル樹脂を含み、前記物理的再生ポリエステル樹脂及び前記化学的再生ポリエステル樹脂は、それぞれ、再生ポリエチレンテレフタレートを主成分として形成され、前記第1のポリエステル組成物の総重量を100重量%としたときに、前記物理的再生ポリエステル樹脂の含有量は50~95重量%であり、前記化学的再生ポリエステル樹脂の含有量は1~40重量%であり、前記物理的再生ポリエステル樹脂及び前記化学的再生ポリエステル樹脂の総含有量は50~100重量%である、請求項1に記載のレーザエンボス用ポリエステルフィルム。
- 前記化学的再生ポリエステル樹脂は、化学的再生ポリエステルチップで形成され、前記化学的再生ポリエステルチップは、化学的再生通常ポリエステルチップ、化学的再生静電気密着ポリエステルチップ、及び化学的再生変性ポリエステルチップを含み、前記化学的再生変性ポリエステルチップは、再生ポリエチレンテレフタレートを主成分として形成されるとともに、1,4-ブタンジオール、イソフタル酸、ネオペンチルグリコール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、ペンタンジオール、イソペンチルジオール、アジピン酸、及び1,4-シクロヘキサンジメタノールの中から選ばれる少なくとも一種の残基を含む、請求項2に記載のレーザエンボス用ポリエステルフィルム。
- 化学的再生変性ポリエステルチップの総重量を100重量%としたときに、前記化学的再生変性ポリエステルチップは、0~60重量%の1,4-ブタンジオール残基、0~20重量%のイソフタル酸残基、0~20重量%のネオペンチルグリコール残基、0~60重量%の2-メチル-1,3-プロパンジオール残基、0~20重量%のペンタンジオール残基、0~20重量%のイソペンチルジオール残基、0~20重量%のアジピン酸残基、及び0~20重量%の1,4-シクロヘキサンジメタノール残基の中から選ばれる少なく一種の残基から構成される、請求項3に記載のレーザエンボス用ポリエステルフィルム。
- 前記物理的再生ポリエステル樹脂における環状オリゴマーの濃度は、前記化学的再生ポリエステル樹脂における環状オリゴマーの濃度よりも低い、請求項2に記載のレーザエンボス用ポリエステルフィルム。
- 前記表皮層は、0.0003~2重量%の結晶核剤を含有する、請求項1に記載のレーザエンボス用ポリエステルフィルム。
- 前記表皮層の厚さは、前記レーザエンボス用ポリエステルフィルムの総厚さの5%~40%であり、前記レーザエンボス用ポリエステルフィルムの総厚さは8μm~350μmである、請求項1に記載のレーザエンボス用ポリエステルフィルム。
- 前記第1のポリエステル組成物の総重量を100重量%としたときに、前記第1のポリエステル組成物は0.5~5重量%のイソフタル酸を含む、請求項1に記載のレーザエンボス用ポリエステルフィルム。
- 前記第1のポリエステル組成物の総重量を100重量%としたときに、前記第1のポリエステル組成物は1~25重量%のバイオマス誘導材料を含み、前記第1のポリエステル組成物中の全炭素原子に対して、前記第1のポリエステル組成物中のC14の含有量は0.2~5重量%である、請求項1に記載のレーザエンボス用ポリエステルフィルム。
- 前記第1のポリエステル組成物の総重量を100重量%としたときに、前記第1のポリエステル組成物は0.0003~0.04重量%の金属触媒を含み、前記金属触媒は、アンチモン、ゲルマニウム、チタン、又はそれらの任意の組み合わせである、請求項1に記載のレーザエンボス用ポリエステルフィルム。
- 前記基材層は、第2のポリエステル組成物で形成され、前記第2のポリエステル組成物は、再生ポリエチレンテレフタレートを主成分として含み、前記第2のポリエステル組成物は物理的再生ポリエステル樹脂及び化学的再生ポリエステル樹脂を含み、前記物理的再生ポリエステル樹脂及び前記化学的再生ポリエステル樹脂は、それぞれ、再生ポリエチレンテレフタレートを主成分として形成され、前記第2のポリエステル組成物の総重量を100重量%としたときに、前記物理的再生ポリエステル樹脂の含有量は50~95重量%であり、前記化学的再生ポリエステル樹脂の含有量は1~40重量%であり、前記物理的再生ポリエステル樹脂及び前記化学的再生ポリエステル樹脂の総含有量は50~100重量%である、請求項1に記載のレーザエンボス用ポリエステルフィルム。
- 回収ポリエステル材料を提供するステップと、
一部分の前記回収ポリエステル材料を物理的再生し、物理的再生通常ポリエステルチップを含む物理的再生ポリエステルチップを得るステップと、
他部分の前記回収ポリエステル材料を化学的再生し、化学的再生通常ポリエステルチップ及び静電気密着ポリエステルチップを含む化学的再生ポリエステルチップを得るステップと、
前記回収ポリエステル材料を再生することによって得られた変性ポリエステルチップ、前記物理的再生ポリエステルチップ、及び前記化学的再生ポリエステルチップを混合し、原料混合物を形成するステップと、
前記原料混合物を、融点が190℃~240℃の表皮層に形成するステップと、
前記表皮層に基材層を形成し、レーザエンボス用ポリエステルフィルムを得るステップと、を含むレーザエンボス用ポリエステルフィルムの製造方法であって、
前記変性ポリエステルチップは、再生ポリエチレンテレフタレートを主成分として含むとともに、1,4-ブタンジオール、イソフタル酸、ネオペンチルグリコール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、ペンタンジオール、イソペンチルジオール、アジピン酸、及び1,4-シクロヘキサンジメタノールの中から選ばれる少なくとも一種の成分を含む、ことを特徴とするレーザエンボス用ポリエステルフィルムの製造方法。 - 前記変性ポリエステルチップは、化学的再生変性ポリエステルチップであり、前記化学的再生変性ポリエステルチップを作製するステップは、
前記回収ポリエステル材料を解重合し、第1のオリゴマー混合物を得るステップと、
前記第1のオリゴマー混合物に、1,4-ブタンジオール、イソフタル酸、ネオペンチルグリコール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、ペンタンジオール、イソペンチルジオール、アジピン酸、及び1,4-シクロヘキサンジメタノールの中から選ばれる少なくとも一種を添加し、第2のオリゴマー混合物を形成するステップと、
前記第2のオリゴマー混合物を再重合し、前記化学的再生変性ポリエステルチップを得るステップと、を含み、
前記化学的再生変性ポリエステルチップは、再生ポリエチレンテレフタレートを主成分として形成されるとともに、1,4-ブタンジオール、イソフタル酸、ネオペンチルグリコール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、ペンタンジオール、イソペンチルジオール、アジピン酸、及び1,4-シクロヘキサンジメタノールの中から選ばれる少なくとも一種の残基を有する、請求項12に記載のレーザエンボス用ポリエステルフィルムの製造方法。 - 回収ポリエステル材料を提供するステップと、
一部分の前記回収ポリエステル材料を物理的再生し、物理的再生通常ポリエステルチップを含む物理的再生ポリエステルチップを得るステップと、
他部分の前記回収ポリエステル材料を化学的再生し、化学的再生通常ポリエステルチップ及び静電気密着ポリエステルチップを含む化学的再生ポリエステルチップを得るステップと、
前記回収ポリエステル材料を化学的再生することによって得られた変性ポリエステルチップ、物理的再生ポリエステルチップ、及び化学的再生ポリエステルチップを混合し、原料混合物を形成するステップと、
前記物理的再生ポリエステルチップ及び前記化学的再生ポリエステルチップを混合し、基材を形成するステップと、
前記原料混合物及び前記基材を共押出し、前記原料混合物で形成される表皮層、及び前記基材で形成される基材層を含むレーザエンボス用ポリエステルフィルムを得るステップと、を含むレーザエンボス用ポリエステルフィルムの製造方法であって、
前記変性ポリエステルチップは、再生ポリエチレンテレフタレートを主成分として含むとともに、1,4-ブタンジオール、イソフタル酸、ネオペンチルグリコール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、ペンタンジオール、イソペンチルジオール、アジピン酸、及び1,4-シクロヘキサンジメタノールの中から選ばれる少なくとも一種の成分を含み、
前記表皮層の融点は190℃~240℃である、ことを特徴とするレーザエンボス用ポリエステルフィルムの製造方法。
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