JP2022011770A - 弾性表面波素子 - Google Patents
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Abstract
Description
しかしながら、特許文献1、2のいずれにも、バスバーに接続された電極指が交差する領域の外側におけるこれら電極指の特徴に係る技術は記載されていない。
前記圧電基板上に形成された一対のバスバーと、これらバスバーの各々から対向するバスバーに向かって互いに櫛歯状に伸び出す複数の電極指と、を備え、これら複数の電極指の並び方向に沿って見たとき、一方のバスバーに接続された電極指と、他方のバスバーに接続された電極指とが交差する領域である交差領域が形成された一対のIDT電極を備え、
前記交差領域の外側の非交差領域における前記電極指の厚みが、前記交差領域における当該電極指の厚みよりも小さいことを特徴とする。
(a)前記複数の電極指の並び方向に沿って見たとき、前記交差領域は、これら電極指の端部が含まれる領域である2つの端部領域を含み、これら端部領域は、その内側の交差領域よりも、弾性表面波の伝播速度が遅い低音速領域となっていること。
(b)(a)において、前記電極指は、前記非交差領域に設けられた第1電極指膜と、前記交差領域に設けられ、前記第1電極指膜よりも厚みが大きい第2電極指膜とを接続して構成されることと、前記端部領域にて、前記第1電極指膜の前記バスバーに接続される端部とは反対側の端部である先端部と、前記第2電極指膜の前記第1電極指膜側の端部である基端部とを積層して接続すると共に、当該端部領域に含まれる前記第2電極指膜の前記基端部とは反対側の端部である先端部と、前記電極指の厚みを大きくして、前記弾性表面波の伝播速度を低速にするための伝播速度調節膜とを積層することにより、前記低音速領域を形成すること。
(c)(b)において、前記第1電極指膜は、前記圧電基板上の前記第2電極指膜の形成領域以外の領域に形成された誘電体からなる支持膜上に形成されていると共に、当該第1電極指膜の先端部は、前記第2電極指膜の基端部の上面側に積層されていることと、前記伝播速度調節膜は、前記第2電極指膜の先端部の上面側に積層されていること。さらに前記伝播速度調節膜は、前記非交差領域側の前記支持膜上に向けて延伸された延伸部を備えること。
(d)(b)、(c)において、前記非交差領域には、前記一対のバスバーの各々について、一方のバスバーに接続された複数の前記電極指の先端部と、他方のバスバーとの間に、これらの先端部から離れて、他方のバスバーから伸び出す複数のダミー電極指が形成されていること。また、前記ダミー電極指の厚みが、前記交差領域における前記電極指の厚みよりも小さいこと。
(e)(b)~(e)において、前記第1電極指膜及び前記伝播速度調節膜の密度が、前記第2電極指膜よりも小さいこと。
(f)前記IDT電極が形成された弾性表面波素子の上面側の少なくとも一部領域には、誘電体膜が形成されていること。このとき、前記圧電基板は、LiNbO3であり、前記誘電体膜は、前記圧電基板の周波数温度特性とは反対の方向に周波数が変化する周波数温度特性を有する酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、またはフッ素ドープ酸化ケイ素からなる誘電体材料群から選択された材料により構成されること
(g)前記圧電基板は、LiNbO3であり、オイラー角(φ,θ,ψ)表記におけるそのカット角がφ、ψ=0±10°、θ=38±10°であること。
図1(a)はSAW素子に設けられるIDT電極の一部を拡大して模式的に示した拡大平面図、図1(b)は、図1(a)中、A-A’の破線で示す位置におけるSAW素子の縦断側面図である。さらに図1(c)は、図1(a)中に示すY軸方向に沿って見たSAWの伝播速度の分布図、図1(c)は、同方向に沿って見たSAWの振幅の分布図である。
また、本実施の形態に係る圧電基板11には、(i)非圧電体材料からなる基板の表面に、圧電薄膜を形成したものや(ii)非圧電材料と圧電材料とを積層した積層基板が含まれる。(i)としては、非圧電材料であるサファイア基板の表面に、窒化アルミニウムの圧電薄膜を形成する場合が例示できる。また、(ii)としては、非圧電材料であるシリコン基板と圧電材料であるLiTaO3基板とを積層した積層基板を例示できる。
圧電材料としてLiTaO3を用いる場合、オイラー角(φ,θ,ψ)表記におけるLiTaO3のカット角はφ、ψ=0±10°、θ=132±15°であるもの、またはφ、ψ=0±10°、θ=-90±15°であるものを例示できる。
また、各バスバー2a、2bが形成されている2つの領域をバスバー領域SBとも呼ぶ。
形成されている領域(交差領域ZAB、非交差領域RB)に応じて電極指3a、3bの厚みを相違させる手法として、例えば図1に示すSAW素子は、互いに厚みの異なる第1電極指膜31と第2電極指膜32とを接続して電極指3a、3bを形成した構成となっている。
端部領域EBを低音速領域とする具体的な手法として、既述の第1電極指膜31と第2電極指膜32とを上下に積層して接続している。またこれらの電極膜31、32の接続位置とは反対側に設けられた第2電極指膜32の先端部には、電極指3a、3bの厚みを大きくするための伝播速度調節膜33が設けられている。
なお、SAW素子を閉じ込めモードで動作させるにあたり、ピストンモードを利用することは必須の要件ではない。
このとき、図1(a)、(b)に示すSAW素子は、第1電極指膜31の先端部と、第2電極指膜32の基端部とが上下に積層して接続され、当該積層された部分が既述の端部領域EBに設けられている。また第2電極指膜32の先端部は、電極指3a、3bの先端部の厚みを大きくして、SAWの伝播速度を低速にするための伝播速度調節膜33上に積層され、当該第2電極指膜32を積層した部分が端部領域EBに設けられている。
上述の構成により、図1(c)に示すSAWの伝播速度の分布を形成することができ、この結果、図1(d)に示す振幅分布を有するピストンモードのSAWを励振することが可能である。
例えば、第1電極指膜31及び伝播速度調節膜33を構成する金属としてアルミニウム(Al)を選択したとき、伝播速度調節膜33を構成する金属としては、プラチナ(Pt)、銅(Cu)、金(Au)、銀(Ag)、タングステン(W)、モリブデン(Mo)、コバルト(Co)、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、タンタル(Ta)を選択する場合を例示することができる。
なお、図1(a)においては記載を省略してあるが、圧電基板11とIDT電極(バスバー2a、2bや電極指3a、3bなど)との間には、これらのIDT電極の付着性を向上させるためのチタン(Ti)やクロム(Cr)からなる下地膜を設けてもよい。
TC-SAW素子においては、IDT電極(バスバー2a、2b、電極指3a、3b)が形成された圧電基板11の上面に、誘電体膜5が形成(「装荷」ともいう)されている。なお、図示内容が煩雑になることを避けるため、図1(a)などの平面図においては、誘電体膜5の記載を省略(誘電体膜5の下面側を透視した状態を記載)してある。
なお、SAW素子に温度補償機能を持たせることは必須の要件ではない。この場合には、圧電性を有さない窒化ケイ素などにより圧電基板11の表面を覆い、保護膜としてもよい。
これにより、第1電極指膜31と、これよりも厚みが大きい第2電極指膜32とを接続して電極指3a、3bを構成することができる。また、端部領域EBに第1電極指膜31、第2電極指膜32及び第2電極指膜32、伝播速度調節膜33の積層部分を設けることにより、低音速領域を形成することができる。
ただし、音響エネルギーを閉じ込める高音速領域を形成できるようにバスバー2a、2bを例えば第1電極指膜31と同一の金属膜で形成することで、上記の制限を取り除き、非交差領域RBの幅寸法を0.1d~1d程度にすることも可能となる。
図1(c)に示すピストンモードで動作するSAW素子は、基本的に導波路の幅を均一にすることが可能である。このため、従来のSAW素子にて採用されていた、電極指の長さを次第に変化させるアポダイゼーションの手法と比較して実効的電気機械結合係数の劣化が小さく、スプリアスを抑制できる利点がある。
しかしながら、一般的に、構造的に不連続な部分で波動が反射される場合、反射と同時に散乱が生じることが知られている。上述のSAW素子においても、SAWが非交差領域RBにて反射される際の散乱の発生は、当該SAW素子の音響的な損失の増大につながる。
この結果、非交差領域RBの構造的な対称性が高くなるため、当該構造により、SAWが非交差領域RBに進入する際の散乱が抑えられ、低損失のSAW素子を構成することができると考えられる。
設計変数を列挙すると、IDTのピッチ4μm、交差領域ZABの幅51.4μm、端部領域EBの幅2.6μm、非交差領域RBの幅13μm、第1電極指膜31、第2電極指膜32の電極材料は銅(Cu)、第1電極指膜31、伝播速度調節膜33の厚み88nm、第2電極指膜32の厚み260nmであり、誘電体膜5として厚み1.4μmの酸化ケイ素(SiO2)を装荷した。また圧電基板11の圧電材料は、126.5XYカット(オイラー角表記にて(φ,θ,ψ)=(0°,36.5°,0°))のLiNbO3である。
図3はSAWの周波数変化に対するアドミッタンスの変化を示し、図4はSAWの周波数変化に対するQ値の一種であるBode Qの変化を示している。
Bode Qは、以下の(1)式に基づき算出される。
Bode Q=(ω|S11|group_delay(S11))
/(1-|S11|2) …(1)
ここでω|S11|はSAW素子の反射係数S11の角周波数、group_delay(S11)は反射係数S11の群遅延、|S11|は反射係数S11の振幅である。
一方、図4のBode Qの値については、その最大値が比較形態に係るSAW素子において約2400である一方、第1実施形態に係るSAW素子では約2500となった。このように、第1実施形態に係るSAW素子は、従来構成のものと比較して100程度のBode Qの改善が見られ、低損失のSAW素子であると言える。
このとき、非交差領域RBに設けられるダミー電極指34の厚みは、交差領域ZABにおける電極指3a、3bの厚み(図5に示す例では、第2電極指膜32の厚み)よりも小さくすることが好ましい。これにより、交差領域ZABに対して、高音速な領域が形成でき、かつ、構造の周期性も交差領域ZABと同等にすることが可能となる。
また、ダミー電極指34を交差領域ZABにおける電極指3a、3bの厚みより大きくした場合、弾性波が音速の異なる領域に侵入する際にも反射が生じるため、弾性波をより効果的に交差領域ZAB内に閉じ込めることが可能となる。
また、伝播速度調節膜33は、第2電極指膜32の先端部の上面側に直接、積層される。なお、第1電極指膜31伝播速度調節膜33の上面側に、窒化ケイ素などからなる保護膜を設けてもよい。
これに対して図6(a)、(b)に示す第2実施形態のように、圧電性を有さない誘電体からなる支持膜6上に第1電極指膜31を設けることにより、上述の微弱な励振を抑圧し、さらなる損失の低減を図ることできる可能性がある。
図6(a)、(b)に示す構成上の相違を除いて、各設計変数は第1実施形態のシミュレーションモデルと同様である。
また、図8のBode Qの値についても、FEM解析上、第1、第2実施形態のいずれのSAW素子においてもその最大値が約2500となった。このように、第3実施形態に係るSAW素子は、第1実施形態に係るSAW素子と同等の特性を有し、図2~図4を用いて説明した従来構成に係るSAW素子と比較して低損失の特性を有する。
即ち、当該SAW素子においては、伝播速度調節膜33aが非交差領域RB側の支持膜6上に向けて延伸された延伸部331を備えている。
なお、延伸部331を圧電基板11上に形成した場合には、延伸部331にて生じるSAWの励振によって、スプリアス応答が生じるため、フィルタやデュプレクサの共振子として用いることが不適当なSAW素子となるおそれがある。
延伸部331の長さを6.4μm(短)、12.8μm(長)と変化させた点を除いて、各設計変数は第3実施形態のシミュレーションモデルと同様である。
例えば厚みの均一な金属膜を形成し、電極指3a、3bをパターニングした後、非交差領域RBの電極指3a、3bの一部をエッチングにより一部削って、当該非交差領域RBの電極指3a、3bの厚みを小さくしてもよい。
さらに当該SAW素子は、共通の圧電基板11に複数のIDT電極を設けた弾性波共振器や弾性波フィルタにも適用することができる。
EB 端部領域
RB 非交差領域
11 圧電基板
2a、2b バスバー
3a、3b 電極指
31 第1電極指膜
32 第2電極指膜
33 伝播速度調節膜
331 延伸部
5 誘電体膜
6 支持膜
Claims (11)
- 圧電基板と、
前記圧電基板上に形成された一対のバスバーと、これらバスバーの各々から対向するバスバーに向かって互いに櫛歯状に伸び出す複数の電極指と、を備え、これら複数の電極指の並び方向に沿って見たとき、一方のバスバーに接続された電極指と、他方のバスバーに接続された電極指とが交差する領域である交差領域が形成された一対のIDT電極を備え、
前記交差領域の外側の非交差領域における前記電極指の厚みが、前記交差領域における当該電極指の厚みよりも小さいことを特徴とする弾性表面波素子。 - 前記複数の電極指の並び方向に沿って見たとき、前記交差領域は、これら電極指の端部が含まれる領域である2つの端部領域を含み、これら端部領域は、その内側の交差領域よりも、弾性表面波の伝播速度が遅い低音速領域となっていることを特徴とする請求項1に記載の弾性表面波素子。
- 前記電極指は、前記非交差領域に設けられた第1電極指膜と、前記交差領域に設けられ、前記第1電極指膜よりも厚みが大きい第2電極指膜とを接続して構成されることと、
前記端部領域にて、前記第1電極指膜の前記バスバーに接続される端部とは反対側の端部である先端部と、前記第2電極指膜の前記第1電極指膜側の端部である基端部とを積層して接続すると共に、当該端部領域に含まれる前記第2電極指膜の前記基端部とは反対側の端部である先端部と、前記電極指の厚みを大きくして、前記弾性表面波の伝播速度を低速にするための伝播速度調節膜とを積層することにより、前記低音速領域を形成することと、を特徴とする請求項2に記載の弾性表面波素子。 - 前記第1電極指膜は、前記圧電基板上の前記第2電極指膜の形成領域以外の領域に形成された誘電体からなる支持膜上に形成されていると共に、当該第1電極指膜の先端部は、前記第2電極指膜の基端部の上面側に積層されていることと、
前記伝播速度調節膜は、前記第2電極指膜の先端部の上面側に積層されていることと、を特徴とする請求項3に記載の弾性表面波素子。 - 前記伝播速度調節膜は、前記非交差領域側の前記支持膜上に向けて延伸された延伸部を備えることを特徴とする請求項4に記載の弾性表面波素子。
- 前記非交差領域には、前記一対のバスバーの各々について、一方のバスバーに接続された複数の前記電極指の端部と、他方のバスバーとの間に、これらの端部から離れて、他方のバスバーから伸び出す複数のダミー電極指が形成されていることを特徴とする請求項3ないし5のいずれか一つに記載の弾性表面波素子。
- 前記ダミー電極指の厚みが、前記交差領域における前記電極指の厚みよりも小さいことを特徴とする請求項6に記載の弾性表面波素子。
- 前記第1電極指膜及び前記伝播速度調節膜の密度が、前記第2電極指膜よりも小さいことを特徴とする請求項3ないし7のいずれか一つに記載の弾性表面波素子。
- 前記IDT電極が形成された弾性表面波素子の上面側の少なくとも一部領域には、誘電体膜が形成されていることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか一つに記載の弾性表面波素子。
- 前記圧電基板は、LiNbO3であり、前記誘電体膜は、前記圧電基板の周波数温度特性とは反対の方向に周波数が変化する周波数温度特性を有する酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、またはフッ素ドープ酸化ケイ素からなる誘電体材料群から選択された材料により構成されることを特徴とする請求項9に記載の弾性表面波素子。
- 前記圧電基板は、LiNbO3であり、オイラー角(φ,θ,ψ)表記におけるそのカット角がφ、ψ=0±10°、θ=38±10°であることを特徴とする請求項1ないし10のいずれか一つに記載の弾性表面波素子。
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