JP2021533254A - クロム、炭素およびケイ素を含むアンダーコートの上を非水素化非晶質炭素コーティングで被覆した部品 - Google Patents
クロム、炭素およびケイ素を含むアンダーコートの上を非水素化非晶質炭素コーティングで被覆した部品 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021533254A JP2021533254A JP2020560141A JP2020560141A JP2021533254A JP 2021533254 A JP2021533254 A JP 2021533254A JP 2020560141 A JP2020560141 A JP 2020560141A JP 2020560141 A JP2020560141 A JP 2020560141A JP 2021533254 A JP2021533254 A JP 2021533254A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chromium
- content
- sublayer
- amorphous carbon
- carbon coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
- C23C28/046—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material with at least one amorphous inorganic material layer, e.g. DLC, a-C:H, a-C:Me, the layer being doped or not
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/027—Graded interfaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0605—Carbon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0605—Carbon
- C23C14/0611—Diamond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
- C23C28/048—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material with layers graded in composition or physical properties
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Cylinder Crankcases Of Internal Combustion Engines (AREA)
Abstract
Description
自動車分野では、例えば、フィンガーフォロワー、タペットまたは例えば部品間の摩擦を低減するカムのような分配部品であり、その摩耗を低減し、ドラッギングに対して表面を保護するピストンピンでもよい。
また、本明細書に記載されるコーティングは、ピストンリング、ピストンスカート、ライナーのような構成要素にも適合し得る。
前述の非限定例において、潤滑環境で作動するにはコーティングが必要とされることが多い。
本来、非晶質炭素のコーティングは、水素化されているか否かに関係なく、自動車、航空または宇宙産業のための構成要素に限定されない多数の用途を有する。例えばプラスチック産業における金型のような誘導または摺動部材も、潤滑剤なしで摩耗および摩擦を最小にするためにかかるコーティングで被覆され得る。
これらのコーティングは例えば2つの種類、すなわち水素(H)を含むものおよび水素を含まないものに分類され得る。
水素を有するコーティングのうち、産業上極めて興味深いDLCコーティングは「a−C:H」コーティング(「a−C:H」は「水素化非晶質炭素」を表す)である。これらのコーティングは一般に炭素ベースの気体状前駆体(例えばアセチレン(C2H2))のプラズマ支援化学気相蒸着により生成する。
水素を含まないコーティングのうち、産業上極めて興味深いDLCコーティングは、一般にグラファイト標的のマグネトロンスパッタリングにより生成する「a−C」コーティング(「a−C」は「非晶質炭素」を表す)、および殊に、一般にグラファイト標的のアーク蒸発により生成する「ta−C」コーティング(「ta−C」は「四面体非晶質炭素」を表す)である。
また、現在のところ、上述したような(上で説明したように異なる技術で形成される)各々のタイプのDLCコーティングに対して、コーティングが所与の基材に接着するように特別なサブ層を使用する必要があることが多い。
例えば、ta−Cのコーティングの場合、接着は、堆積の開始時に極めて高いエネルギー(すなわち数キロ電子ボルト程度)で炭素イオン(C)を基材に衝突させることによって得られる(これは、例えば文書: Tetrahedrally Bonded Amorphous Carbon Films I, Basics, Structure and Preparation, Bernd Schultrich, (C) Springer-Verlag GmbH Germany 2018 p.552に記載されている)。
基材は、あらかじめ金属クロム(Cr)の薄い層で、時にはクロム(Cr)のフラッシュ(flash)で被覆され、それにより特に鋼基材に対する良好な接着の促進を可能にしてもよい。しかしながらこのクロム層は任意であり、したがってなくてもよい。
この条件は、この衝突に先行する初期のステップ(加熱による基材および機械のガス抜き、イオンストリッピングおよびCrのフラッシュの堆積)が部品の加熱を招き、この加熱がta−Cの層の接着に有害であるので、束縛する。したがって、高エネルギーの炭素イオンによる基材の衝突の前に基材の冷却を行うのが望ましい。しかし、真空中での部品(ここでは基材)の冷却の効力は不十分であることが多く、許容可能と考えられる接着を目的として所望の温度を得るには通例数時間もの多くの時間がかかる。
また、先に述べたように、接着は、あらかじめクロムのフラッシュで被覆されていてもいなくても基材に高エネルギーの炭素イオンを衝突させることによって得られる。
炭素イオンを衝突させるこの高エネルギー相の別の欠点は、イオンから被覆するべき部品へのエネルギーの移動の結果起こる被覆するべき部品の加熱である。基材上の炭素イオンの高密度と高いエネルギーの組合せが基材にかけられる高密度の電力を誘発し、その結果その温度の速い上昇を誘発する。
この温度上昇は焼き戻し温度が低い、すなわち通例150℃〜220℃である機械的部品の特性に有害であり得るという事実に加えて、これはまたおよそ200℃の堆積温度を超えると崩壊するta−Cの機械的性質にとっても重大である。
したがって、普通の方法では、部品の過熱のリスクをもたらす可能性がある。
特に、本発明の目的は、非水素化DLCコーティングを含んでおり、非常に高い機械的性質を有し、そのDLCコーティングが基材に対して満足のいく接着力を有する部品を提供することである。
したがって、本発明は、例えばta−Cコーティングの場合に堆積前の冷却ステップなしに得ることができる部品を提供することに関し、すなわち、かかる部品を得るための堆積方法は、ta−Cコーティングの堆積に先立つ冷却ステップなしで済まし、現在ta−Cコーティングを接着させるのに使用されている高エネルギーのイオン衝突の使用なしで済ますことを可能にする。
− 0.35〜0.60のケイ素含量とクロム含量との比(Si/Cr)、および
− 2.5〜3.5の炭素含量とケイ素含量との比(C/Si)
を含むことを特徴とする部品が提供される。
かかるサブ層により、HF1と格付けされる経時的に安定なコーティング接着結果を得ることが可能になることが分かる。
また、かかるサブ層は、少なくともta−Cの堆積の場合、技術水準に反して、技術水準による数百ボルトと比較して非常に低いバイアス電圧で炭素コーティングの堆積を開始することが可能であるので、冷却ステップなしで済ますことが可能になることが分かっている。
また、かかるサブ層はta−Cまたはa−CタイプのDLCコーティングと金属基材との間の機械的性質の推移を可能にすることも分かっている。
したがって、かかるサブ層は主にクロム(Cr)、ケイ素(Si)および炭素(C)をベースにした組成を有する傾斜層の形態をとる。
サブ層は、(基材からDLCコーティングに向かって)ケイ素(Si)および炭素(C)が次第に富化されて、上述したコーティングの接着を可能にする組成を達成する。
特定の例において、DLCとの界面の付近のサブ層のケイ素含量とクロム含量との比(Si/Cr)は0.38〜0.60、またはさらには0.40〜0.60である。
特定の例において、DLCとの界面の付近のサブ層の炭素含量とケイ素含量との比(C/Si)は2.8〜3.2、またはさらには2.9〜3.1である。
サブ層は窒素(N)を含んでいてもよい。これは、以下に記載するように部品がさらに窒化クロムの層を含む場合特に有利である。
したがって、有利な例示の実施形態において、サブ層はさらに窒素の原子(N)を含み、窒素含量とクロム含量との比(N/Cr)はDLCとの界面の付近で、すなわちサブ層と非晶質炭素コーティングとの間の界面において0.70未満である。
有利な例に従って、ケイ素含量とクロム含量との比(Si/Cr)はサブ層と非晶質炭素コーティングとの間の界面で0.40〜0.55、またはさらには0.45〜0.55である。
好ましい例において、サブ層は、窒素を含んでも含まなくても、10分の数マイクロメートルの厚さ、好ましくはおよそ1.1μm以下、例えばおよそ0.2μm〜1.1μm、好ましくはおよそ0.3μm〜0.6μmの厚さを有する。
が起こり、これはサブ層の保持に有害であり、0.2μm未満ではサブ層が適合層の効果を生じない。
非晶質炭素コーティングは例えばおよそ0.3μm、またはさらにはおよそ0.5μm、またはさらにはおよそ1μm、またはさらには1.5μm以上の厚さを有する。
非晶質炭素コーティングは例えばおよそ10μm、またはさらには8μm、またはおそらくさらにはおよそ3.5μm以下の厚さを有する。
非晶質炭素コーティングは例えばおよそ1.5μm〜およそ3.5μmの厚さを有するが、かかるコーティングが例えばピストンリングに付けられるときは8μmになってもよい。
金属基材は例えば鋼またはその他の金属合金である。
有利な例示の実施形態において、部品はさらに、基材上に堆積しており、上にサブ層が形成されたクロムベースの層を含む。
好ましくは、部品はクロム(Cr)の層、またはクロム(Cr)の層に続いて窒化クロム(例えばCrNもしくはCr2N、または任意の中間化合物)の層を含む。
好ましくは、クロムベースの層は10分の数マイクロメートルの厚さ、好ましくはおよそ1μm、またはさらには0.6μm以下、例えばおよそ0.1μm〜0.5μm、またはさらにはおよそ0.3μm〜0.5μmの厚さを有する。
下記表は、1〜15と番号を付けた様々な試験を提示する。EDXにより測定された原子比はコーティングとの界面の付近のサブ層のものである(サブ層が組成の傾斜を示すことに留意して、目指した組成はDLCコーティングとの界面に向かうものである)。
表面の窒素の存在はDLCの接着にとって決定的ではない。実際のところ、同様な窒素の割合(N/Cr)で(実施例9、12および13)、接着は良好と判定されたりまたは良好でないと判定されたりし得る。比較的強い窒素の存在は実施例11のように接着に対して悪影響を及ぼし得る。窒素の不在は良好な接着を生じることも(実施例4〜6、14および15)生じないこともある(実施例1〜3、7、8)。
対照的に、クロムの割合はより決定的な要因であることが判明した。クロムの割合はSi/Cr比、および窒素が存在するならばN/Cr比により定義される。クロムの比較的高い割合は接着に適しているようには見えない(例えば実施例1〜3)。クロムの比較的低い割合もDLCの接着に適しているようには見えない(例えば実施例7および8)。
したがって、Si/Cr組成の比が0.35〜0.6であるとき、これらのサブ層上に堆積させたすべてのDLC層が接着性であると判明した(実施例4、5、6、9、10、13、14および15)。
真空蒸着装置は主としてチャンバー、ポンプ系、加熱系を含み、これらは部品(基材)をポンプで供給し加熱し、チャンバー内で、ガスの脱着を加速し、良品質と考えられる真空をチャンバー内で迅速に得るように構成されている。
堆積装置はさらに基材担体を含み、これは幾何学、電気バイアスおよび運動学の観点から部品、または部品の被覆するべき部分に適している。
真空蒸着装置はまた、被覆するべき金属基材上に一般に存在するパッシベーション層を除去するために被覆するべき部品(基材)にアルゴン(Ar)イオンを衝突させるように構成されたイオンストリッピングシステムも含む。
真空蒸着装置はまた、クロムベースの層を生成するために、クロム標的を備えたマグネトロンカソードも含む。
好ましくは、イオンストリッピングシステムはマグネトロンカソードと同時に作動するように構成されている。したがって、イオンストリッピングの終了はクロム標的を備えたマグネトロンカソードをプレスパッタリングするのに利用される。
例えば、文書FR2995493に記載されているようなプラズマ源を実施して、被覆するべき部品の効果的なイオンストリッピングを行い、それらをta−C、もしくはa−C、またはさらにはa−C:HタイプのDLCコーティングで被覆することができる。
サブ層を堆積させるステップは、例えば、上に記載したような組成を有するサブ層を生成するように構成される。
サブ層を堆積させるステップは、例えば、また上に記載したような厚さを有するサブ層を生成するように構成される。
実施の一例において、方法は、金属クロムを堆積させるステップ、例えばクロムをスパッタリングするステップを含んでいてもよい。この金属クロムを堆積させるステップは、窒化クロム、例えばCrNもしくはCr2Nまたは任意の中間化合物の層を得るように、クロムをスパッタリングするステップと同時に窒素を導入するステップを含んでいてもよい。
堆積は、有機ケイ素ガス、すなわち、実施するのが最も容易である、少なくともケイ素を、通例(微量の酸素を含んでもよい、式(Si(CH3)4)のTMSともいわれる)テトラメチルシランを含むガス、またはシランと炭化水素の混合物の導入と共に続ける。他を排することはないが、TMSは、その比較的高い化学的安定性および質量流量計を用いた容易な実施を可能にするその高い揮発性のために極めて優先的に使用される。
クロムベースの層(Cr、および/またはCrNもしくはCr2N)の事前の堆積の場合、有機ケイ素ガスは、サブ層のケイ素含量がそのクロム含量のおよそ0.35倍と少なくとも等しく界面の付近のクロム含量の多くてもおよそ0.60倍である流量まで増大する速度で導入される。炭素含量とケイ素含量との比は並行して界面の付近で2.5〜3.5である。
例として、CrNの層を考慮すると、その際N/Crは例えば1の値を有し、したがって窒素の量はおそらく過度であると考えられる。Cr2Nの層を考慮して、その際N/Crは例えば0.5の値を有し、かかる場合、この比を保ち得る。
上に記載した真空中で様々な薄い層(クロムベースの層、サブ層または例えばDLCコーティング)を生成させる間、基材担体のバイアス電圧は一般に−50V〜−100V(ボルト)に設定される。
これらの層の堆積中のアルゴンの分圧は0.2Pa〜0.4Paに設定するのが好ましい。
Claims (10)
- 金属基材、基材を被覆するta−Cタイプまたはさらにはa−Cタイプの非水素化非晶質炭素コーティング、ならびに金属基材と非晶質炭素コーティングとの間に配置され、上に非晶質炭素コーティングが付けられている、クロム(Cr)、炭素(C)およびケイ素(Si)をベースにしたサブ層を含み、サブ層がその非晶質炭素コーティングとの界面において次の原子比:
− 0.35〜0.60のケイ素含量とクロム含量との比(Si/Cr)、および
− 2.5〜3.5の炭素含量とケイ素含量との比(C/Si)
を含むことを特徴とする部品。 - サブ層のケイ素含量(Si)とクロム含量(Cr)との比(Si/Cr)が0.38〜0.6であることを特徴とする、請求項1に記載の部品。
- サブ層の炭素含量(C)とケイ素含量(Si)との比(C/Si)が2.8〜3.2、またはさらには2.9〜3.1であることを特徴とする、請求項1または2に記載の部品。
- サブ層がさらに窒素の原子(N)を含み、窒素含量とクロム含量との比(N/Cr)がサブ層と非晶質炭素コーティングとの間の界面で0.70未満であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の部品。
- サブ層と非晶質炭素コーティングとの間の界面で、窒素含量とクロム含量との比(N/Cr)が0.26〜0.70であり、ケイ素含量とクロム含量との比(Si/Cr)が0.40〜0.55であることを特徴とする、請求項4に記載の部品。
- サブ層が1.1μm以下、例えば0.2μm〜1.1μm、好ましくは0.3μm〜0.6μmの厚さを有することを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の部品。
- 非晶質炭素コーティングが0.3μm、またはさらには0.5μm、またはおそらくさらには1μm以上の厚さを有することを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の部品。
- 非晶質炭素コーティングが1.5μm〜3.5μmの厚さを有することを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の部品。
- さらに、基材上に堆積しており、上にサブ層が形成されたクロムベースの層を含み、クロムベースの層がクロム(Cr)の層および/または窒化クロム、例えばCrNもしくはCr2N、または任意の中間化合物の層であることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の部品。
- クロムベースの層が10分の数マイクロメートルの厚さ、好ましくは1μm、またはさらには0.6μm以下、例えば0.1μm〜0.5μm、またはさらには0.3μm〜0.5μmの厚さを有することを特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記載の部品。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1855318 | 2018-06-18 | ||
FR1855318A FR3082527B1 (fr) | 2018-06-18 | 2018-06-18 | Piece revetue par un revetement de carbone amorphe non-hydrogene sur une sous-couche comportant du chrome, du carbone et du silicium |
PCT/FR2019/051463 WO2019243721A1 (fr) | 2018-06-18 | 2019-06-17 | Pièce revêtue par un revêtement de carbone amorphe non-hydrogéné sur une sous-couche comportant du chrome, du carbone et du silicium |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021533254A true JP2021533254A (ja) | 2021-12-02 |
JP7104806B2 JP7104806B2 (ja) | 2022-07-21 |
Family
ID=65031268
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020560141A Active JP7104806B2 (ja) | 2018-06-18 | 2019-06-17 | クロム、炭素およびケイ素を含むアンダーコートの上を非水素化非晶質炭素コーティングで被覆した部品 |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11732343B2 (ja) |
EP (1) | EP3807450B1 (ja) |
JP (1) | JP7104806B2 (ja) |
KR (1) | KR102520524B1 (ja) |
CN (1) | CN112400037B (ja) |
BR (1) | BR112020024242A2 (ja) |
CA (1) | CA3101723A1 (ja) |
ES (1) | ES2949386T3 (ja) |
FR (1) | FR3082527B1 (ja) |
HU (1) | HUE063739T2 (ja) |
MA (2) | MA51939B1 (ja) |
MX (1) | MX2020014186A (ja) |
PL (1) | PL3807450T3 (ja) |
WO (1) | WO2019243721A1 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000178736A (ja) * | 1998-12-15 | 2000-06-27 | Tdk Corp | ダイヤモンド状炭素膜を被覆した部材 |
JP2008050696A (ja) * | 2006-07-27 | 2008-03-06 | Nsk Ltd | コーティング装置およびスパッタリング成膜方法 |
JP2008214154A (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-18 | Kobe Steel Ltd | 成形金型 |
JP2013501143A (ja) * | 2009-08-07 | 2013-01-10 | エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハ | 耐食性と組合わされたトライボロジー、新種のpvdおよびpacvdコーティング |
WO2016171273A1 (ja) * | 2015-04-23 | 2016-10-27 | 日立金属株式会社 | 被覆金型およびその製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3885375B2 (ja) * | 1997-09-30 | 2007-02-21 | 帝国ピストンリング株式会社 | ピストンリング |
DE10018143C5 (de) * | 2000-04-12 | 2012-09-06 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | DLC-Schichtsystem sowie Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines derartigen Schichtsystems |
JP3292199B2 (ja) * | 2001-03-22 | 2002-06-17 | 住友電気工業株式会社 | ゴム用金型、ゴム用金型の製造方法およびゴムの成形方法 |
FR2891554B1 (fr) * | 2005-10-03 | 2008-01-11 | Hef Soc Par Actions Simplifiee | Revetement anti-corrosion a base de silicium, de carbone, d'hydrogene et d'azote. |
JP2008163430A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Jtekt Corp | 高耐食性部材およびその製造方法 |
JP5982408B2 (ja) * | 2011-03-02 | 2016-08-31 | エリコン・サーフェス・ソリューションズ・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハ | 潤滑化条件下でのトライボロジー用途により摩耗および摩擦挙動を向上させるための金属含有炭素層によりコーティングされた摺動部品 |
AT511605B1 (de) | 2011-12-12 | 2013-01-15 | High Tech Coatings Gmbh | Kohlenstoffbasierende beschichtung |
FR2995493B1 (fr) | 2012-09-11 | 2014-08-22 | Hydromecanique & Frottement | Dispositif pour generer un plasma presentant une etendue importante le long d'un axe par resonnance cyclotronique electronique rce a partir d'un milieu gazeux |
JP5965378B2 (ja) * | 2013-10-31 | 2016-08-03 | 株式会社リケン | ピストンリング及びその製造方法 |
DE102014217040A1 (de) * | 2014-08-27 | 2016-03-03 | Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft | Beschichtung für Metallbauteile, Verfahren zum Beschichten eines Metallbauteils, Kolben für Verbrennungskraftmaschinen und Kfz |
AT14701U1 (de) * | 2015-03-19 | 2016-04-15 | Plansee Composite Mat Gmbh | Beschichtungsquelle zur Herstellung dotierter Kohlenstoffschichten |
-
2018
- 2018-06-18 FR FR1855318A patent/FR3082527B1/fr active Active
-
2019
- 2019-06-17 MA MA51939A patent/MA51939B1/fr unknown
- 2019-06-17 BR BR112020024242-0A patent/BR112020024242A2/pt unknown
- 2019-06-17 CN CN201980040807.9A patent/CN112400037B/zh active Active
- 2019-06-17 EP EP19742447.6A patent/EP3807450B1/fr active Active
- 2019-06-17 PL PL19742447.6T patent/PL3807450T3/pl unknown
- 2019-06-17 JP JP2020560141A patent/JP7104806B2/ja active Active
- 2019-06-17 US US17/252,614 patent/US11732343B2/en active Active
- 2019-06-17 HU HUE19742447A patent/HUE063739T2/hu unknown
- 2019-06-17 ES ES19742447T patent/ES2949386T3/es active Active
- 2019-06-17 CA CA3101723A patent/CA3101723A1/fr active Pending
- 2019-06-17 MA MA52899A patent/MA52899B1/fr unknown
- 2019-06-17 MX MX2020014186A patent/MX2020014186A/es unknown
- 2019-06-17 WO PCT/FR2019/051463 patent/WO2019243721A1/fr unknown
- 2019-06-17 KR KR1020217001058A patent/KR102520524B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000178736A (ja) * | 1998-12-15 | 2000-06-27 | Tdk Corp | ダイヤモンド状炭素膜を被覆した部材 |
JP2008050696A (ja) * | 2006-07-27 | 2008-03-06 | Nsk Ltd | コーティング装置およびスパッタリング成膜方法 |
JP2008214154A (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-18 | Kobe Steel Ltd | 成形金型 |
JP2013501143A (ja) * | 2009-08-07 | 2013-01-10 | エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハ | 耐食性と組合わされたトライボロジー、新種のpvdおよびpacvdコーティング |
WO2016171273A1 (ja) * | 2015-04-23 | 2016-10-27 | 日立金属株式会社 | 被覆金型およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7104806B2 (ja) | 2022-07-21 |
ES2949386T3 (es) | 2023-09-28 |
BR112020024242A2 (pt) | 2021-02-23 |
MX2020014186A (es) | 2021-03-09 |
MA51939B1 (fr) | 2021-06-30 |
PL3807450T3 (pl) | 2023-11-06 |
FR3082527B1 (fr) | 2020-09-18 |
EP3807450C0 (fr) | 2023-06-07 |
US11732343B2 (en) | 2023-08-22 |
CN112400037A (zh) | 2021-02-23 |
US20210310112A1 (en) | 2021-10-07 |
FR3082527A1 (fr) | 2019-12-20 |
WO2019243721A1 (fr) | 2019-12-26 |
KR102520524B1 (ko) | 2023-04-12 |
EP3807450A1 (fr) | 2021-04-21 |
EP3807450B1 (fr) | 2023-06-07 |
MA52899A (fr) | 2021-04-21 |
CN112400037B (zh) | 2022-11-08 |
KR20210019538A (ko) | 2021-02-22 |
CA3101723A1 (fr) | 2019-12-26 |
MA51939A1 (fr) | 2021-02-26 |
MA52899B1 (fr) | 2023-09-27 |
HUE063739T2 (hu) | 2024-01-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7416786B2 (en) | Amorphous carbon film, process for producing the same and amorphous carbon film-coated material | |
US8202615B2 (en) | Nitrogen-containing amorphous carbon-type film, amorphous carbon-type lamination film, and sliding member | |
JP6337944B2 (ja) | 被覆工具 | |
CN108754406A (zh) | 一种模具表面复合处理方法 | |
JP2004043867A (ja) | 炭素膜被覆物品及びその製造方法 | |
JP4122387B2 (ja) | 複合硬質皮膜、その製造方法及び成膜装置 | |
JP2003247060A (ja) | 非晶質炭素被膜の製造方法及び非晶質炭素被覆摺動部品 | |
JP5077293B2 (ja) | 非晶質炭素被膜の製造方法及び非晶質炭素被覆摺動部品 | |
JP2009035584A (ja) | 摺動部材 | |
JP7104806B2 (ja) | クロム、炭素およびケイ素を含むアンダーコートの上を非水素化非晶質炭素コーティングで被覆した部品 | |
WO2023066510A1 (en) | Method for forming hard and ultra-smooth a-c by sputtering | |
CN112400038B (zh) | 在包含铬、碳和硅的底涂层上涂覆有氢化非晶碳涂层的零件 | |
RU2778062C2 (ru) | Деталь, снабженная покрытием из негидрированного аморфного углерода на подслое, содержащем хром, углерод и кремний | |
JP2000144426A (ja) | 高硬度高密着性dlc膜の成膜方法 | |
RU2788796C2 (ru) | Деталь, снабженная покрытием из гидрированного аморфного углерода на подслое, содержащем хром, углерод и кремний | |
CN115413313B (zh) | 活塞环及其制造方法 | |
JP3311767B2 (ja) | 摺動材料及びその製造方法 | |
JP2003013200A (ja) | 硬質炭素膜およびその製造方法 | |
JP3784953B2 (ja) | 耐摩耗性及び摺動性に優れた硬質皮膜及びその形成方法 | |
JPH05125521A (ja) | 摺動材料及びその製造方法 | |
TWI248475B (en) | Hard coating and method for producing the same | |
JP2003160866A (ja) | ダイヤモンドまたはダイヤモンド状炭素膜被覆部材の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220513 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220608 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220708 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7104806 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |