JP2021524654A - 電力供給装置及び該電力供給装置を動作させる方法 - Google Patents
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Abstract
Description
例えば半導体製造におけるエッチングプロセスのために使用可能であるような慣用のプラズマシステムを、少なくとも2つの異なるプラズマ状態が生じるように、動作させること、特に少なくとも1つの電力供給装置を用いてプラズマシステムに高周波エネルギーを供給することが知られている。例えば多くの高周波(HF)プラズマプロセスは、例えば少なくとも1つの高周波電力信号と、パルス化された直流電流(DC)又はパルス化されたさらなる高周波電力信号とを同時に印加するなどして、2つ又はさらにそれよりも多くの状態の間で交互に切り替えられる。このような慣用のプラズマシステムの場合、インピーダンス整合が最適には機能せず、その結果、高周波電力信号の一部が、プラズマプロセスから電力供給装置に反射して戻ってしまう。
好ましい実施形態は、少なくとも第1のプラズマ状態と第2のプラズマ状態とを有するプラズマに対し、少なくとも1つの電気的な高周波電力信号を生成する電力供給装置に関する。この場合、電力供給装置は、第1のプラズマ状態においてプラズマから反射した電力を表す第1の量、特に第1の2次元量又は複素量を求め、第2のプラズマ状態においてプラズマから反射した電力を表す第2の量、特に第2の2次元量又は複素量を求め、第1及び第2の量に応じて第3の量を形成し、高周波電力信号の周波数及び/又は電力を、第3の量に応じて制御するように設計されている。
a=r*cos φ及びb=r*sin φ
ここでrは、複素量の絶対値、即ち、実部と虚部とから成る合成ベクトルの長さであり、φは、実部軸に対する実部と虚部とから成る合成ベクトルの位相角である。複素量を例えば、インピーダンス、電力又は反射率とすることができる。
Claims (18)
- 少なくとも第1のプラズマ状態(S1)と第2のプラズマ状態(S2)とを有するプラズマ(P)に対し、少なくとも1つの電気的な高周波電力信号(LS;LS1)を生成する電力供給装置(100;100a)であって、
前記電力供給装置(100;100a)は、
前記第1のプラズマ状態(S1)において前記プラズマ(P)から反射した電力を表す第1の量(G1)、特に第1の2次元量又は複素量を求め(400)、
前記第2のプラズマ状態(S2)において前記プラズマ(P)から反射した電力を表す第2の量(G2)、特に第2の2次元量又は複素量を求め(410)、
前記第1の量(G1)及び前記第2の量(G2)に応じて第3の量(G3)を形成し(420)、
前記高周波電力信号(LS;LS1)の周波数及び/又は電力を、前記第3の量(G3)に応じて制御する(430)
ように設計されている、
電力供給装置(100;100a)。 - 前記第1の量(G1)は、前記第1のプラズマ状態(S1)中の、前記高周波電力信号(LS)の少なくとも1つの周期にわたり前記プラズマ(P)から反射した電力の瞬時値の時間平均値と、順方向に進行する高周波と逆方向に進行する高周波との間の位相角とを表し、及び/又は、
前記第2の量(G2)は、前記第2のプラズマ状態(S2)中の、前記高周波電力信号(LS)の少なくとも1つの周期にわたり前記プラズマ(P)から反射した電力の瞬時値の時間平均値と、順方向に進行する高周波と逆方向に進行する高周波との間の位相角とを表す、
請求項1に記載の電力供給装置(100;100a)。 - 前記電力供給装置(100;100a)は、前記第1の量(G1)と前記第2の量(G2)との重み付き平均値として、前記第3の量(G3)を求めるように設計されている、
請求項1又は2に記載の電力供給装置(100;100a)。 - 前記電力供給装置(100;100a)は、
a)前記第1の量(G1)に割り当てられた第1の重み付け係数(a1)を、前記第1のプラズマ状態(S1)の少なくとも1つの期間(T1)に応じて求め、及び/又は、
b)前記第2の量(G2)に割り当てられた第2の重み付け係数(a2)を、前記第2のプラズマ状態(S2)の少なくとも1つの期間(T2)に応じて求める
ように設計されている、
請求項3に記載の電力供給装置(100;100a)。 - 前記電力供給装置(100;100a)は、前記第1の重み付け係数(a1)及び前記第2の重み付け係数(a2)を、前記第1の重み付け係数(a1)及び前記第2の重み付け係数(a2)相互間の比率が、前記第1の期間(T1)及び前記第2の期間(T2)相互間の比率と少なくとも近似的に一致するように選択する、ように設計されている、
請求項4に記載の電力供給装置(100;100a)。 - 前記電力供給装置(100;100a)は、前記第3の量(G3)を、以下の要素、即ち、
a)前記電力供給装置(100;100a)の少なくとも1つの構成要素(110、120、130)の動作量、特に温度及び/又は動作時間、
b)前記電力供給装置(100;100a)の少なくとも1つの構成要素(110、120、130)の特性、特に電流耐性及び/又は電圧耐性、
のうちの少なくとも1つに応じて制御するように設計されている、
請求項1から5までのいずれか1項に記載の電力供給装置(100;100a)。 - 前記電力供給装置(100;100a)は、以下の要素、即ち、可制御発振器(110)、第1の可制御増幅器(120)、第2の可制御増幅器(130)、特に電力増幅器、のうちの少なくとも1つを有しており、
前記可制御発振器(110)及び/又は前記第1の可制御増幅器(120)及び/又は前記第2の可制御増幅器(130)の動作を、前記第3の量(G3)に応じて制御可能である、
請求項1から6までのいずれか1項に記載の電力供給装置(100;100a)。 - 前記電力供給装置(100;100a)は、少なくとも1つの表示装置(104)を有しており、前記電力供給装置(100;100a)は、前記表示装置(104)を介して以下の量、即ち、前記プラズマ(P)から反射した電力の瞬時値及び/又は前記プラズマ(P)から反射した電力の瞬時値から導出可能な量、前記第3の量(G3)、前記プラズマ(P)の反射率及び/又は前記プラズマ(P)の反射率から導出可能な量のうちの少なくとも1つを出力するように設計されている、
請求項1から7までのいずれか1項に記載の電力供給装置(100;100a)。 - 前記電力供給装置(100;100a)は、前記高周波電力信号(LS;LS1)の周波数及び/又は電力を、前記第3の量(G3)に応じて調整するように設計されており、特に前記電力供給装置(100;100a)は、前記高周波電力信号(LS;LS1)の周波数及び/又は電力を、前記第3の量(G3)と前記プラズマ(P)から反射した絶対電力を表す第4の量(G4)とに応じて調整する(432)ように設計されている、
請求項1から8までのいずれか1項に記載の電力供給装置(100;100a)。 - 少なくとも第1のプラズマ状態(S1)と第2のプラズマ状態(S2)とを有するプラズマ(P)に対し、少なくとも1つの電気的な高周波電力信号(LS;LS1)を生成する電力供給装置(100;100a)を動作させる方法であって、
前記電力供給装置(100;100a)は、
前記第1のプラズマ状態(S1)において前記プラズマ(P)から反射した電力を表す第1の量(G1)を求め(400)、
前記第2のプラズマ状態(S2)において前記プラズマ(P)から反射した電力を表す第2の量(G2)を求め(410)、
前記第1の量(G1)及び前記第2の量(G2)に応じて第3の量(G3)を形成し(420)、
前記高周波電力信号(LS;LS1)の周波数及び/又は電力を、前記第3の量(G3)に応じて制御する(430)、
電力供給装置(100;100a)を動作させる方法。 - 前記第1の量(G1)は、前記第1のプラズマ状態(S1)中の前記高周波電力信号(LS)の少なくとも1つの周期にわたり前記プラズマ(P)から反射した電力の瞬時値の時間平均値を表し、及び/又は、
前記第2の量(G2)は、前記第2のプラズマ状態(S2)中の前記高周波電力信号(LS)の少なくとも1つの周期にわたり前記プラズマ(P)から反射した電力の瞬時値の時間平均値を表す、
請求項10に記載の方法。 - 前記電力供給装置(100;100a)は、前記第1の量(G1)と前記第2の量(G2)との重み付き平均値として、前記第3の量(G3)を求める、
請求項10又は11に記載の方法。 - 前記電力供給装置(100;100a)は、
a)前記第1の量(G1)に割り当てられた第1の重み付け係数(a1)を、前記第1のプラズマ状態(S1)の少なくとも1つの期間(T1)に応じて求め、及び/又は、
b)前記第2の量(G2)に割り当てられた第2の重み付け係数(a2)を、前記第2のプラズマ状態(S2)の少なくとも1つの期間(T2)に応じて求め、
特に前記電力供給装置(100;100a)は、前記第1の重み付け係数(a1)及び前記第2の重み付け係数(a2)を、前記第1の重み付け係数(a1)及び前記第2の重み付け係数(a2)相互間の比率が、前記第1の期間(T1)及び前記第2の期間(T2)相互間の比率と少なくとも近似的に一致するように選択する、
請求項12に記載の方法。 - 前記電力供給装置(100;100a)は、前記第3の量(G3)を以下の要素、即ち、
a)前記電力供給装置(100;100a)の少なくとも1つの構成要素(110、120、130)の動作量、特に温度及び/又は動作時間、
b)前記電力供給装置(100;100a)の少なくとも1つの構成要素(110、120、130)の特性、特に電流耐性及び/又は電圧耐性、
のうちの少なくとも1つに応じて制御する、
請求項10から13までのいずれか1項に記載の方法。 - 前記電力供給装置(100;100a)は、以下の要素、即ち、可制御発振器(110)、第1の可制御増幅器(120)、第2の可制御増幅器(130)、特に電力増幅器、のうちの少なくとも1つを有しており、
前記電力供給装置(100;100a)は、前記可制御発振器(110)及び/又は前記第1の可制御増幅器(120)及び/又は前記第2の可制御増幅器(130)の動作を、前記第3の量(G3)に応じて制御する、
請求項10から14までのいずれか1項に記載の方法。 - 前記電力供給装置(100;100a)は少なくとも1つの表示装置(104)を有しており、前記電力供給装置(100;100a)は、前記表示装置(104)を介して以下の量、即ち、前記プラズマ(P)から反射した電力の瞬時値及び/又は前記プラズマ(P)から反射した電力の瞬時値から導出可能な量、前記第3の量(G3)、前記プラズマ(P)の反射率及び/又は前記プラズマ(P)の反射率から導出可能な量のうちの少なくとも1つを出力する、
請求項10から15までのいずれか1項に記載の方法。 - 前記電力供給装置(100;100a)は、前記高周波電力信号(LS;LS1)の周波数及び/又は電力を、前記第3の量(G3)に応じて調整し、特に前記電力供給装置(100;100a)は、前記高周波電力信号(LS;LS1)の周波数及び/又は電力を、前記第3の量(G3)と前記プラズマ(P)のところで反射した絶対電力を表す第4の量(G4)とに応じて調整する、
請求項10から16までのいずれか1項に記載の方法。 - インピーダンス整合装置(200)を調整するための、特に整合回路網(200)を調整するための使用であって、前記インピーダンス整合装置(200)の調整は、少なくとも第3の量(G3)に応じて実施される、
請求項1から9までのいずれか1項に記載の電力供給装置(100;100a)及び/又は請求項10から17までのいずれか1項に記載の方法の使用。
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