JP2021523552A - 膜の厚さに鈍感な逆型厚膜の二次元ハイブリッドペロブスカイト太陽電池及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】該太陽電池が二次元ハイブリッドペロブスカイト厚膜材料を光吸収層とし、その厚さの範囲が500nm〜800nmであり、太陽光の充分吸収に有利している。該厚膜材料は、グアニジンよう化水素酸塩が添加される前駆体溶液から堆積して得ることができ、厚さ方向に沿って配向して成長する大結晶粒から構成される。該厚膜材料を光吸収層として製造される逆型構造太陽電池は、膜の厚さが500nm〜800nm範囲内にある場合には、電池効率の変動範囲が5%未満である。これは高性能ハイブリッドペロブスカイト太陽電池の大面積溶液法での製造に非常に重要な価値を持っている。
【選択図】図1
Description
膜の厚さに鈍感な逆型厚膜の二次元ハイブリッドペロブスカイト太陽電池であって、該太陽電池の光吸収層が前駆体溶液から堆積して得る二次元ハイブリッドペロブスカイト厚膜材料であり、前記前駆体溶液がメチルアミンよう化水素酸塩(Methylamine Hydroiodide)、スペーサーカチオンのよう化水素酸塩、グアニジンよう化水素酸塩、よう化鉛、及び有機溶媒の混合物であり、前記スペーサーカチオンのよう化水素酸塩がn−ブチルアミン、フェネチルアミン、ベンジルアミン、tert−ブチルアミン、及びイソブチルアミンの一種のよう化水素酸塩であり、前記二次元ハイブリッドペロブスカイト厚膜材料の厚さが500nm〜800nm範囲内にあり、電池効率の変動範囲が5%未満である膜の厚さに鈍感な逆型厚膜の二次元ハイブリッドペロブスカイト太陽電池。
まず、PEDOT:PSSをITO付きガラスにスピンコートして基板を製造する。
そして、メチルアミンよう化水素酸塩、スペーサーカチオンのよう化水素酸塩、グアニジンよう化水素酸塩、よう化鉛、及び有機溶媒を混合して前駆体溶液を調製する。中でも、スペーサーカチオンのよう化水素酸塩がn−ブチルアミン、フェネチルアミン、ベンジルアミン、tert−ブチルアミン、及びイソブチルアミンのいずれか一種のよう化水素酸塩である。前駆体溶液において、スペーサーカチオンのよう化水素酸塩:グアニジンよう化水素酸塩:メチルアミンよう化水素酸塩:よう化鉛の比率(モル比)が、(2〜2x):x:2:3、 (2〜2x):x:3:4、または(2〜2x):x:4:5であり、中でも、x = 0.01〜0.3。よう化鉛と有機溶媒との配合比が250mg〜400mg:1mLである(配合比によって最終に得られた膜の厚さが異なる)。有機溶媒がホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミドの一種、または多種の混合物である。
その後、引き続いて前駆体溶液をITO付きガラス基板の表面のPEDOT:PSS層にスピンコートして成膜し、そして焼鈍する。スピンコートする際に、基板の温度が25℃〜150℃であり、スピンコートするための前駆体溶液の温度が基板温度と同一である。焼鈍温度の範囲が70℃〜150℃であり、焼鈍時間の範囲が5分間〜20分間である。焼鈍が完了し、光吸収層を得る。
次に、光吸収層の表面に一層のPC61BM及び一層のBCPを順にスピンコートし、最後に、電極層として銀を100nm蒸着する。
Claims (10)
- 膜の厚さに鈍感な逆型厚膜の二次元ハイブリッドペロブスカイト太陽電池であって、
光吸収層が前駆体溶液から堆積して得る二次元ハイブリッドペロブスカイト厚膜材料であり、
前記前駆体溶液がメチルアミンよう化水素酸塩、スペーサーカチオンのよう化水素酸塩、グアニジンよう化水素酸塩、よう化鉛、及び有機溶媒の混合物であり、
前記スペーサーカチオンのよう化水素酸塩がn−ブチルアミン、フェネチルアミン、ベンジルアミン、tert−ブチルアミン、及びイソブチルアミンの一種のよう化水素酸塩であり、
前記二次元ハイブリッドペロブスカイト厚膜材料の厚さが500nm〜800nmの範囲内にあり、
電池効率の変動範囲が5%未満である
ことを特徴とする膜の厚さに鈍感な逆型厚膜の二次元ハイブリッドペロブスカイト太陽電池。 - 前記有機溶媒がホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミドの一種、または多種の混合物であることを特徴とする請求項1に記載の膜の厚さに鈍感な逆型厚膜の二次元ハイブリッドペロブスカイト太陽電池。
- 前記前駆体溶液において、よう化鉛と有機溶媒の配合比が250mg〜400mg:1mLであることを特徴とする請求項1に記載の膜の厚さに鈍感な逆型厚膜の二次元ハイブリッドペロブスカイト太陽電池。
- 前記前駆体溶液において、スペーサーカチオンのよう化水素酸塩:グアニジンよう化水素酸塩:メチルアミンよう化水素酸塩:よう化鉛が、モル比で、(2〜2x):x:2:3、(2〜2x):x:3:4、または(2〜2x):x:4:5であり、中でも、xが0.01〜0.3であることを特徴とする請求項1に記載の膜の厚さに鈍感な逆型厚膜の二次元ハイブリッドペロブスカイト太陽電池。
- 前記堆積は、前記前駆体溶液を基板にスピンコートして成膜し、焼鈍することであることを特徴とする請求項1に記載の膜の厚さに鈍感な逆型厚膜の二次元ハイブリッドペロブスカイト太陽電池。
- スピンコートする際に、基板の温度が25℃〜150℃であり、前記前駆体溶液の温度が基板と同一であることを特徴とする請求項5に記載の膜の厚さに鈍感な逆型厚膜の二次元ハイブリッドペロブスカイト太陽電池。
- 焼鈍温度の範囲が70℃〜150℃であり、焼鈍時間の範囲が5分間〜20分間であることを特徴とする請求項5に記載の膜の厚さに鈍感な逆型厚膜の二次元ハイブリッドペロブスカイト太陽電池。
- 前記基板はPEDOT:PSSが覆っているITO付きガラスであることを特徴とする請求項5に記載の膜の厚さに鈍感な逆型厚膜の二次元ハイブリッドペロブスカイト太陽電池。
- 下から上に向かって順にITO付きガラス、PEDOT:PSS層、前記光吸収層、PC61BM層、BCP層、及び銀電極層である多層構造であることを特徴とする請求項1に記載の膜の厚さに鈍感な逆型厚膜の二次元ハイブリッドペロブスカイト太陽電池。
- 膜の厚さに鈍感な逆型厚膜の二次元ハイブリッドペロブスカイト太陽電池の製造方法であって、
まず、表面にPEDOT:PSS層がスピンコートされているITO付きガラス基板を製造し、
そして、メチルアミンよう化水素酸塩、スペーサーカチオンのよう化水素酸塩、グアニジンよう化水素酸塩、よう化鉛、及び有機溶媒を混合して前駆体溶液を製造し、前記スペーサーカチオンのよう化水素酸塩がn−ブチルアミン、フェネチルアミン、ベンジルアミン、tert−ブチルアミン、及びイソブチルアミンの一種のよう化水素酸塩であり、前記有機溶媒がホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミドの一種、または多種の混合物であり、前記前駆体溶液において、スペーサーカチオンのよう化水素酸塩:グアニジンよう化水素酸塩:メチルアミンよう化水素酸塩:よう化鉛が、モル比で、(2〜2x):x:2:3、(2〜2x):x:3:4、または(2〜2x):x:4:5であり、中でも、xが 0.01〜 0.3であり、よう化鉛と有機溶媒の配合比が250mg〜400mg:1mLであり、
その後、前記前駆体溶液をITO付きガラス基板にスピンコートして成膜し、焼鈍して光吸収層を得、スピンコートする際に、基板の温度が25℃〜150℃であり、スピンコートするための前駆体溶液の温度が基板の温度と同一であり、焼鈍温度の範囲が70℃〜150℃であり、焼鈍時間の範囲が5分間〜20分間であり、
最後に、光吸収層の表面に順にPC61BM層、BCP層をスピンコートし、その後電極層として銀を一層蒸着する
ことを特徴とする膜の厚さに鈍感な逆型厚膜の二次元ハイブリッドペロブスカイト太陽電池の製造方法。
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Families Citing this family (5)
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CN110808335B (zh) * | 2019-11-04 | 2022-11-15 | 吉林师范大学 | 一种择优取向生长的锡铅二元钙钛矿薄膜的制备方法及应用 |
CN111584717B (zh) * | 2020-05-15 | 2022-05-10 | 浙江大学 | 光热组合外场辅助提高杂化钙钛矿太阳电池效率的方法 |
CN113725364A (zh) * | 2021-08-19 | 2021-11-30 | 华南师范大学 | 氢碘酸修饰的锡铅混合钙钛矿太阳能电池及其制备方法 |
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CN115843205B (zh) * | 2023-02-20 | 2023-05-23 | 中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司 | 一种钙钛矿膜层的制备方法及钙钛矿太阳能电池 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015153767A (ja) * | 2014-02-10 | 2015-08-24 | 国立大学法人山形大学 | スクアリリウム誘導体、それよりなるドナー材料およびそれを用いた有機薄膜太陽電池 |
JP2017112186A (ja) * | 2015-12-15 | 2017-06-22 | 三菱化学株式会社 | 半導体デバイス及びその製造方法、太陽電池、並びに半導体層形成用組成物 |
WO2017170869A1 (ja) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 国立大学法人九州大学 | ペロブスカイト膜の製造方法、ペロブスカイト膜、太陽電池およびペロブスカイト膜形成用溶媒 |
JP2018046096A (ja) * | 2016-09-13 | 2018-03-22 | 株式会社東芝 | 光電変換素子 |
WO2018181744A1 (ja) * | 2017-03-30 | 2018-10-04 | 積水化学工業株式会社 | 太陽電池、及びその製造方法 |
JP2018533195A (ja) * | 2015-07-10 | 2018-11-08 | エイチイーイーソーラー,エルエルシー | ペロブスカイト材料層プロセシング |
CN108987584A (zh) * | 2018-08-27 | 2018-12-11 | 湖北大学 | 钙钛矿太阳能电池及其制备方法 |
Family Cites Families (7)
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EP3420598B1 (en) * | 2016-02-22 | 2023-12-27 | Alliance for Sustainable Energy, LLC | Methods for producing perovskite halide films |
KR20180050190A (ko) * | 2016-11-04 | 2018-05-14 | 이화여자대학교 산학협력단 | 준-2 차원 페로브스카이트 필름, 이를 포함하는 발광 디바이스 및 태양 전지, 및 이의 제조 방법 |
CN106784325B (zh) * | 2016-12-26 | 2018-11-27 | 天津市职业大学 | 一种以钙钛矿型复合材料作为空穴传输层的钙钛矿太阳电池及制备方法 |
CN106816532B (zh) * | 2017-01-13 | 2019-08-27 | 浙江大学 | 基于有机-无机杂化钙钛矿取向结晶薄膜的太阳电池 |
CN106803538B (zh) * | 2017-01-13 | 2019-08-23 | 浙江大学 | 垂直取向结构的二维有机-无机杂化钙钛矿薄膜材料 |
CN108365102B (zh) * | 2018-02-22 | 2020-03-27 | 南京工业大学 | 一种稳定高效二维层状钙钛矿太阳能电池及其制备方法 |
CN109065723A (zh) * | 2018-07-13 | 2018-12-21 | 华中科技大学 | 一种基于添加剂提升太阳能电池开路电压的方法 |
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2021
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015153767A (ja) * | 2014-02-10 | 2015-08-24 | 国立大学法人山形大学 | スクアリリウム誘導体、それよりなるドナー材料およびそれを用いた有機薄膜太陽電池 |
JP2018533195A (ja) * | 2015-07-10 | 2018-11-08 | エイチイーイーソーラー,エルエルシー | ペロブスカイト材料層プロセシング |
JP2017112186A (ja) * | 2015-12-15 | 2017-06-22 | 三菱化学株式会社 | 半導体デバイス及びその製造方法、太陽電池、並びに半導体層形成用組成物 |
WO2017170869A1 (ja) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 国立大学法人九州大学 | ペロブスカイト膜の製造方法、ペロブスカイト膜、太陽電池およびペロブスカイト膜形成用溶媒 |
JP2018046096A (ja) * | 2016-09-13 | 2018-03-22 | 株式会社東芝 | 光電変換素子 |
WO2018181744A1 (ja) * | 2017-03-30 | 2018-10-04 | 積水化学工業株式会社 | 太陽電池、及びその製造方法 |
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