JP2021500606A - 光学アセンブリ - Google Patents

Abstract

光学積層体上に直接的にインサート成形された光学素子を含む光学アセンブリを提供する。光学積層体は、光学フィルムを含み、光学素子とライナーとの間に光学フィルムが配置されたライナーを含み得る。ライナーは、含まれる場合、光学フィルムを実質的に損傷することなく、光学フィルムから除去可能である。光学フィルムの最も外側の層は、光学素子の主表面に拡散接合されてもよい。

Description

様々な用途において、光学素子上に光学フィルムを配置する場合がある。

本明細書のいくつかの態様では、光学積層体上に直接的にインサート成形された光学素子を含む光学アセンブリが提供される。光学積層体は、光学フィルム及びライナーを含み、光学フィルムは、光学素子とライナーとの間に配置されている。ライナーは、光学フィルムを実質的に損傷することなく、光学フィルムから除去可能である。

本明細書のいくつかの態様では、一体的に形成された多層光学フィルムと、光学フィルム上に直接的に射出インサート成形された第１の光学素子と、を含む光学アセンブリが提供される。光学フィルムは、主に光干渉によって光を反射又は透過する複数の交互ポリマー層を含む。光学フィルムの総面積の少なくとも８０％にわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して約８０％を超える反射率を有する。第１の光学素子の溶融温度は、光学フィルムのガラス転移温度よりも実質的に高い。

本明細書のいくつかの態様では、一体的に形成された多層光学フィルムと、光学フィルム上に直接的にインサート成形された光学素子と、を含む光学アセンブリが提供される。光学フィルムは、主に光干渉によって光を反射又は透過する複数の交互ポリマー層を含む。光学フィルムは、光学素子に拡散接合される。光学素子への光学フィルムの接合は、光学フィルム内の少なくとも１対の直接隣接する層の間の層間接合よりも強い。

本明細書のいくつかの態様では、一体的に形成された多層光学フィルムと、光学フィルム上に直接的にインサート成形された光学素子と、を含む光学アセンブリが提供される。光学フィルムは、光学素子に拡散接合される。光学フィルムは、主に光干渉によって光を反射又は透過する複数の交互ポリマー層を含む。光学フィルムの総面積の少なくとも９０％にわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して約９０％を超える反射率を有する。

本明細書のいくつかの態様では、光学フィルムと、光学フィルム上に直接的にインサート成形されたレンズと、を含む光学アセンブリが提供される。光学フィルムは、主に光干渉によって光を反射又は透過する複数の交互ポリマー層を含む。光学フィルムの総面積の少なくとも９０％にわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して９０％を超える反射率を有する。レンズは、第１の方向における最大横寸法に沿ってより大きく変化し、かつ、直交する第２の方向における最大横寸法に沿ってより小さく変化する光学リターダンスを有する。レンズ上の各位置における光学リターダンスは、約１０ｎｍ以下である。

本明細書のいくつかの態様では、レンズと、対向する第１の主表面及び第２の主表面を有する多層光学フィルムと、を含む光学アセンブリであって、第１の主表面はレンズの第１の側面の第１の部分上に配置される、光学アセンブリが提供される。多層光学フィルムの総面積の少なくとも８０％にわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して約８０％を超える反射率を有する。レンズの第１の側面の第２の部分は、多層光学フィルムの第２の主表面と実質的に同一平面にある。

本明細書のいくつかの態様では、レンズと、レンズの主表面上に配置された光学積層体とを含む光学アセンブリが提供される。レンズは、光学積層体の縁部の周囲を少なくとも部分的に包み込む。

本明細書のいくつかの態様では、光学アセンブリは、湾曲した凹部を内部に画定する第１の主表面を有するレンズと、湾曲した凹部に接着して適合する多層光学フィルムと、含む。

本明細書のいくつかの態様では、光学フィルムと、光学フィルム上に直接的に射出成形されたレンズと、を含む光学アセンブリが提供される。光学フィルムの総面積の少なくとも８０％にわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して約８０％を超える反射率を有する。レンズは、レンズの主表面の少なくとも８０％にわたって、各位置において約１０ｎｍ以下の光学リターダンスを有する。第１のレンズ位置におけるレンズ厚は、第２のレンズ位置におけるレンズ厚よりも少なくとも約２０％大きい。

光学アセンブリの概略断面図である。 光学アセンブリの概略断面図である。 光学素子の概略断面図である。 光学積層体の概略断面図である。 光学フィルムの概略断面図である。 光学積層体の概略断面図である。 図４Ａの光学積層体の概略底面図である。 光学積層体の概略断面図である。 光学積層体の概略断面図である。 光学アセンブリの概略断面図である。 光学アセンブリの概略断面図である。 レンズの概略断面図である。 図５Ｃのレンズの概略上面図である。 光学アセンブリの概略断面図である。 光学アセンブリの概略断面図である。 光学フィルム上に光学素子を射出インサート成形するためのプロセスを示す。 光学フィルム上に光学素子を射出インサート成形するためのプロセスを示す。 光学フィルム上に光学素子を射出インサート成形するためのプロセスを示す。 光学フィルム上に光学素子を射出インサート成形するためのプロセスを示す。 光学フィルム上に光学素子を射出インサート成形するためのプロセスを示す。 光学アセンブリの概略断面図である。 光学アセンブリの概略断面図である。 光学アセンブリの概略断面図である。 光学素子の概略断面図である。 レンズの概略上面図である。

発明の詳細な説明

以下の説明では、本明細書の一部を構成し、様々な実施形態が実例として示される、添付図面が参照される。図面は、必ずしも正確な比率の縮尺ではない。本開示の範囲又は趣旨から逸脱することなく、他の実施形態が想到され、実施可能である点を理解されたい。したがって、以下の発明を実施するための形態は、限定的な意味では解釈されないものとする。

光学素子上に光学フィルムを配置することが望ましい、多種多様な用途が存在する。例えば、ディスプレイは、光学フィルムがプリズムの斜辺上に配置された偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）を利用する場合がある。光学フィルムは、主に光干渉によって光を反射又は透過する多層ポリマー光学フィルムであってもよい。別の例として、ディスプレイシステムは、例えば、米国特許第９，５５７，５６８号（Ｏｕｄｅｒｋｉｒｋら）に記載されているように、部分反射体と、互いに隣接して離間配置された反射偏光子とを含む、屈曲光学系を利用することができる。いくつかの場合では、レンズの主表面上に反射偏光子を配置することが望ましい。

本明細書の光学アセンブリは、典型的には、光学レンズなどの光学素子上に配置された、一体的に形成された多層光学フィルムなどの光学フィルムを含む。例えば、光学フィルムは、両凸レンズ、平凸レンズ、正メニスカスレンズ、負メニスカスレンズ、平凹レンズ、又は両凹レンズのうちのいずれかの主表面上に配置されてもよい。いくつかの実施形態では、光学素子は、光学フィルムと光学素子との間に拡散接合が形成されるように、光学フィルム上に射出成形される。いくつかの実施形態では、拡散接合は、光学フィルム内の隣接する層の間の層間接合よりも強い。いくつかの実施形態では、インサート成形プロセスから得られる光学素子は、１０ｎｍ未満の光学複屈折を有し、いくつかの実施形態では、光学複屈折は、直交方向に沿ってよりも、一方向に沿ってより大きく変化する。

図１Ａは、光学素子１１０及び光学積層体１２０を含む光学アセンブリ１００の概略断面図である。いくつかの実施形態では、光学素子１１０は、光学積層体１２０上に直接的にインサート成形される。光学素子は、光学積層体を成形型内に挿入し、光学積層体上に光学素子を成形することによって、光学積層体上にインサート成形することができる。インサート成形は、射出インサート成形、圧縮インサート成形、又はいくつかの他の形態のインサート成形であり得る。光学素子１１０を形成する材料は、光学積層体１２０と接触するときに溶融しており、それによって、材料が、任意の追加の接着剤層を含むことなく光学積層体１２０との好適な結合を形成することが好ましい。いくつかの実施形態では、光学素子１１０を形成する材料、及び光学積層体１２０の最も外側の表面を形成する材料は、光学積層体１２０と光学素子１１０との間に好適な拡散接合が形成されるように、互いに適合性があるように選択される。例えば、いくつかの実施形態では、光学素子１１０を形成する材料、及び光学素子１１０に面する光学積層体１２０の最も外側の表面を形成する材料には、同様のポリマー、そうでなければ適合性がある（例えば、部分的に混和性がある）ポリマーが使用される。同様の又は適合性があるポリマーは、例えば、ほぼ等しい（例えば、５０℃以内、又は３０℃以内、又は２０℃以内、又は１０℃以内の）融点を有し得る。いくつかの実施形態では、光学積層体１２０は、複数の交互ポリマー層を含む光学フィルムを含み、光学素子１１０に対する光学フィルムの接合は、光学フィルム内の少なくとも１対の直接隣接する層の間の層間接合よりも強い。

いくつかの実施形態では、光学素子１１０はレンズである。いくつかの実施形態では、レンズは、少なくとも１つの方向に屈折光学パワーを有する。例えば、光学素子１１０は、１つの方向（例えば、ｘ方向）に光学パワーを有するシリンドリカルレンズ、又は２つの方向（例えば、ｘ方向及びｙ方向）に光学パワーを有する球面レンズ又は非球面レンズであってもよい。いくつかの実施形態では、他のタイプの光学素子が使用されてもよい。例えば、光学素子は、プリズムであってもよく、光学積層体１２０は、プリズムの面（例えば、湾曲した、又は実質的に平坦な斜辺）上に配置されてもよい。

いくつかの実施形態では、光学積層体１２０は、光学素子１１０の湾曲した主表面上に配置され、いくつかの実施形態では、光学積層体１２０は、光学素子１１０の実質的に平坦な主表面上に配置される。光学素子１１０の第１の湾曲した主表面上の少なくとも１つの位置が、２つの相互に直交する方向（例えば、ｘ方向及びｙ方向）のそれぞれにおいて約６ｍｍ〜約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有するように、光学積層体１２０は、光学素子１１０の湾曲した主表面上に配置されてもよい。表面は、最良適合球面が約２０００ｍｍを超える半径を有する場合、実質的に平面として説明され得る。

光学積層体１２０は、光学フィルムであってもよく、又は光学フィルムを含んでもよい。いくつかの実施形態では、光学フィルムは、ミラーフィルムであり、いくつかの実施形態では、光学フィルムは、反射偏光子である。反射偏光子の例として、多層ポリマーフィルム反射偏光子、及び反射偏光子のブロック軸内に概ね延在し、ポリマー基材であり得る基材上に配置されたワイヤを含み得る、ワイヤーグリッド偏光子が挙げられる。いくつかの実施形態では、光学積層体１２０は、主に光干渉によって光を反射又は透過する複数の交互ポリマー層を含む、一体的に形成された多層光学フィルムである。いくつかの実施形態では、光学積層体１２０は、一体的に形成された多層光学フィルムと、多層光学フィルムと一体ではない、少なくとも１つの追加層とを含む。本明細書で使用するとき、第２の要素と「一体的に形成された」第１の要素は、第１及び第２の要素が別個に製造されるのではなく、一緒に製造され、その後接合されることを意味する。「一体的に形成された」は、第１の要素を製造し、続いて第１要素上に第２要素を製造することを含む。複数の層を含む光学フィルム（例えば、反射偏光子）は、層が別個に製造されてその後接合されるのではなく、層が一緒に製造された場合には、一体的に形成される（例えば、溶融ストリームとして組み合わされ、次いでチルロール上にキャストされて各層を有するキャストフィルムを形成し、更にキャストフィルムを配向させる）。一体的に形成された多層光学フィルムと一体でない追加層は、追加層が多層光学フィルムと一体的に形成されないことを意味する。例えば、追加層は、別個に形成され、続いて、多層光学フィルムに接着され得る（例えば、光学的に透明な接着剤を用いて積層される）。

いくつかの実施形態では、光学積層体、又は光学積層体に含まれる光学フィルムは、ミラー（例えば、可視ミラー又は赤外線ミラー）フィルム又は反射偏光子フィルムである。図１Ａの光学積層体１２０は、反射偏光子として描かれており、図１Ｂの光学積層体１２０ｂは、ミラーとして描かれている。いくつかの実施形態では、光学積層体１２０又は光学積層体１２０に含まれる光学フィルムの総面積の少なくとも約８０％、又は少なくとも約９０％、又は少なくとも約９５％、又は全てにわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して、約８０％を超える、又は約９０％を超える、又は約９５％を超える反射率を有する。所定の波長は、所定の波長範囲内の任意の又は全ての波長であってもよい。所定の波長範囲は、可視範囲（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）であってもよく、並びに／又は赤外波長及び／若しくは紫外波長を含んでもよい。いくつかの実施形態では、所定の波長は、約５５０ｎｍである。

いくつかの実施形態では、光学積層体１２０又は光学積層体１２０に含まれる光学フィルムの総面積の少なくとも約８０％、又は少なくとも約９０％、又は少なくとも約９５％、又は全てにわたる各位置は、同じ所定の波長、及び第１の偏光状態に直交する同じ第２の偏光状態を有する垂直入射光に対して、約８０％を超える、又は約９０％を超える、又は約９５％を超える反射率を有する。

偏光状態は、垂直入射光が光学フィルムに接する軸を画定する、電界ベクトルの方向によって特徴付けることができる。光学フィルム上の２つの異なる位置における垂直入射光の電界に沿って光学フィルム又は光学積層体に接する軸が、それぞれが湾曲に沿って光学フィルムと交差する平行平面内にある場合、偏光状態は同じであると考えることができる。光学フィルム又は光学積層体に接し、光学フィルム上の２つの異なる位置における垂直入射光の電界に垂直である軸が、それぞれが湾曲に沿って光学フィルムと交差する平行平面内にある場合、偏光状態は、同じであると同様に考えることができる。例えば、マイナスｚ方向に平行に進み、光学積層体１２０の頂点（最大ｚ座標を有する点）に入射する光は、ｙ方向に沿った電界を伴う第１の偏光状態、及びｘ方向に沿った電界を伴う第２の偏光状態を有し得る。光線１１３の第１の偏光状態１６３は、どちらの場合も、入射点における電界ベクトルがｙ−ｚ平面に平行な平面内にあるため、頂点に入射する光の第１の偏光状態と同じである。光線１８４の第２の偏光状態１９３は、どちらの場合も、入射点における電界ベクトルが光学フィルムに接し、ｙ−ｚ平面に平行な平面内にある軸（ｙ軸に平行）に直交するため、頂点に入射する光の第２の偏光状態と同じである。

いくつかの実施形態では、光学積層体１２０は、光学フィルムを含み、光学フィルムは、所定の波長及びブロック偏光状態を有する垂直入射光を実質的に反射し、所定の波長及び直交する通過偏光状態を有する垂直入射光を実質的に透過する、反射偏光子である。実質的に反射することは、少なくとも６０％の反射率を意味すると理解することができ、実質的に透過することは、少なくとも６０％の透過率を意味すると理解することができる。反射偏光子のブロック偏光状態は、反射偏光子を通る最低透過率を有する偏光状態として説明することができ、通過偏光状態は、直交偏光状態である。反射偏光子の中心におけるブロック偏光状態は、第１の偏光状態であってもよい。ブロック偏光状態は、例えば、光学フィルムを湾曲した形状に熱成形することによって誘発される変化に起因して、中心位置から離れて第１の偏光状態から変化し得る（例えば、ブロック軸は、平面図において約５度未満、又は約２度未満だけ変化し得る）。

所定の波長λを有する光線１１３は、第１の偏光状態１６３で光学積層体１２０にほぼ垂直に入射し、反射光線１１６として光学積層体１２０から反射する。図示を容易にするために、小さいゼロでない入射角が示される。この場合、光線１１６は、光学積層体１２０から完全に反射されるもの（１００％の反射率及び０％の透過率）として概略的に図示されているが、光学積層体１２０は、１００％未満の反射率を有してもよく、光学積層体１２０を透過した第１の偏光状態１６３の一部の光を有してもよい。所定の波長λを有する光線１８４は、第２の偏光状態１９３で光学積層体１２０にほぼ垂直に入射し、透過光線１８６として光学積層体１２０を透過する。この場合、光線１８４は、光学積層体１２０から完全に透過されるもの（透過率１００％及び反射率０％）として概略的に図示されているが、光学積層体１２０は、１００％未満の透過率を有してもよく、光学積層体１２０から反射された第２の偏光状態１９３（例えば、フレネル反射による）のいくらかの光を有してもよい。第１の偏光状態１６３は、光学積層体１２０内の反射偏光子のブロック偏光状態であってもよく、又はほぼそう（例えば、平面図における第１の偏光状態１６３の軸の２度内のブロック軸）であってもよい。第２の偏光状態１９３は、光学積層体１２０内の反射偏光子の通過偏光状態であってもよく、又はほぼそう（例えば、平面図における第２の偏光状態の軸の２度内の通過軸）であってもよい。

他の実施形態では、光学積層体１２０は、第１の偏光状態１６３及び第２の偏光状態１９３の両方を実質的に反射するミラーフィルムを含む。これは、光学積層体１２０が光学積層体１２０ｂと置き換えられていることを除いて、光学アセンブリ１００と同様の光学アセンブリ１００ｂを示す図１Ｂに示されている。光学アセンブリ１００ｂは、第２の偏光状態１９３に対する反射特性及び透過特性を除いて、光学アセンブリ１００について記載された特性を有し得る。図１Ｂの場合、光線１８４は、光学積層体１２０ｂから完全に反射されるもの（１００％の反射率及び０％の透過率）として概略的に例示されているが、光学積層体１２０ｂは、１００％未満の反射率を有してもよく、光学積層体１２０ｂを透過した第２の偏光状態１９３の一部の光を有してもよい。光学積層体１２０及び１２０ｂは、それぞれの光学積層体の反射率及び透過率を実質的に決定する光学フィルムを含んでもよい。

反射率及び／又は透過率は、光学積層体又は光学フィルムの総面積の一部の特定画分である領域Ａにわたって指定されてもよい。例えば、領域Ａは、総面積の少なくとも約８０％であってもよく、例えば、光学積層体の周辺部付近の総面積の２０パーセントを除外してもよい。いくつかの実施形態では、領域Ａは、光学積層体１２０若しくは１２０ｂの総面積、又は光学積層体に含まれる光学フィルムの総面積である。

光学アセンブリ１００は、光学素子１１０の反対側の光学積層体１２０上に配置された第２の光学素子（図１Ａ〜図１Ｂには図示せず）を更に含んでもよい。例えば、光学素子１１０は、第１のレンズであってもよく、第２の光学素子は、第２のレンズであってもよい。

図１Ｃは、最大厚さｈ１及び最小厚さｈ２を示す光学素子１１０の概略断面図である。光学素子の位置における厚さは、その位置を通り、光学素子の対向する主表面を通る最短距離として説明することができる。いくつかの実施形態では、光学素子１１０はレンズである。いくつかの実施形態では、レンズのレンズ厚は、約５０％以下（（Ｈ２−Ｈ１））／Ｈ１^＊１００％が約５０％以下である）、又は約３０％以下、又は約２０％以下、又は約１０％以下だけ、位置によって変化する。いくつかの実施形態では、レンズのレンズ厚は、少なくとも約２０％（（Ｈ２−Ｈ１））／Ｈ１^＊１００％が少なくとも約２０％）、又は少なくとも約３０％、又は少なくとも約４０％、又は少なくとも約５０％、又は少なくとも約６０％、又は少なくとも約７５％、又は少なくとも約１００％、又は少なくとも約１５０％、又は少なくとも約２００％だけ、位置によって変化する。少なくとも指定された割合だけ位置によって変化するレンズ厚は、少なくとも１つの第２のレンズ位置におけるレンズ厚よりも、少なくとも指定された割合だけ大きい少なくとも１つの第１のレンズ位置を有する。例えば、Ｈ２がＨ１の少なくとも１．５倍である場合、レンズ厚は、位置によって少なくとも５０％だけ変化し、中心位置における厚さＨ２は、端部位置における厚さＨ１より少なくとも５０％大きい。

図２は、一体的に形成された多層光学フィルム２２２と、任意選択的な接着剤層２３２を介して光学フィルム２２２に接合された追加のフィルム又は層２３０とを含む、光学積層体２２０の概略断面図である。光学フィルム２２２は、複数の干渉層２２４、並びに非干渉層２２６ａ及び２２６ｂを含む。複数の干渉層２２４は、第１のポリマー層２２１と第２のポリマー層２２３とを交互に含む。

複数の干渉層２２４は、主に光干渉によって光を反射又は透過する。干渉層は、干渉層の反射率及び透過率が光干渉によって合理的に説明できるか、又は光干渉の結果として合理的に正確にモデル化できる場合、主に光干渉によって光を反射又は透過するものとして説明することができる。そのような干渉層は、例えば、米国特許第５，８８２，７７４号（Ｊｏｎｚａら）、及び米国特許第６，６０９，７９５号（Ｗｅｂｅｒら）に記載されており、交互ポリマー層を有する溶融ストリームを共押出しし、溶融ストリームをキャスティングしてキャストフィルムを形成し、次いで当該技術分野において既知であるように、キャストフィルムを（ミラーフィルムの場合は二軸に、反射偏光フィルムの場合は実質的に一軸に）配向して複屈折層を生成することによって（例えば、干渉層内の全ての他の層は複屈折性であり得るが、他の全ての層は実質的に等方性のままである）、作製することができる。異なる屈折率を有する干渉層の隣接する対は、対が、光波長の１?２の組み合わせ光学厚（屈折率×物理厚）を有するときに、光を反射する。干渉層は、典型的には、約２００ナノメートル未満の物理厚を有する。非干渉層は、光学厚が大きすぎて、干渉による可視光の反射に寄与できない。典型的には、非干渉層は、少なくとも１マイクロメートル、又は所定の波長の少なくとも３倍、又は所定の範囲の最大波長の少なくとも３倍の物理厚を有する。いくつかの実施形態では、２つ以上の非干渉層が含まれる。いくつかの実施形態では、少なくとも１つの非干渉層（図示した実施形態では、非干渉層２２６ａ及び２２６ｂ）は、複数の干渉層２２４と一体的に形成され、主に光干渉によって光を反射又は透過しない。

いくつかの実施形態では、追加層２３０は、光学フィルム２２２に剥離可能に接合されたライナーである。光学フィルムに接合されるが、光学フィルムを実質的に損傷することなく光学フィルムからきれいに除去できるライナーは、光学フィルムに剥離可能に接合されたものとして説明することができる。いくつかの実施形態では、光学フィルムに剥離可能に接合されたライナーは、光学フィルムに対する目に見える損傷を伴わずに光学フィルムから除去することができる。いくつかの実施形態では、ライナーが、光学フィルムを実質的に損傷することなく光学フィルムから除去可能である場合、光学フィルムの総面積の少なくとも８０％にわたる各位置に対して、ライナーが除去される前後間のその位置における光学フィルムの反射率間の差は、約５％未満（例えば、ライナーが除去される前後間の反射率の差の絶対値を、ライナーが除去された後の反射率で除算した値に１００％を掛けると、５％未満であり得る）、又は約２％未満、又は約１％未満である。例えば、いくつかの実施形態では、光学フィルムは、主に光干渉により光を反射又は透過する複数の交互ポリマー層を含み、光学フィルムの総面積の少なくとも約８０％にわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して、約８０％を超える反射率を有し、ライナーは、ライナーが除去される前後間のその位置における光学フィルムの反射率の差が約５％未満、又は約２％未満、又は約１％未満であるように、光学フィルムに剥離可能に接合される。剥離可能に接合されたライナーは、基材には強く結合するが光学フィルムには弱く接合する接着剤層を有する基材を含んでもよい。例えば、ライナーは、接着剤に対する結合を増大させるように表面処理された基材に適用される低粘着性接着剤の薄層を含んでもよい。他の好適なライナーとしては、例えば、米国特許第６，９９１，６９５号（Ｔａｉｔら）に記載されているように、光学フィルムに静電結合するものが挙げられる。好適なライナーの一例は、Ｓｕｎ Ａ Ｋａｋｅｎ Ｃｏ，Ｌｔｄ．から入手可能なＯＣＰＥＴ ＮＳＡ３３Ｔである。

いくつかの実施形態では、光学積層体２２０が湾曲した形状に形成され、次いで光学的構成要素が、追加層２３０の反対側の光学積層体上にインサート成形される。いくつかの実施形態では、追加層２３０は、光学積層体２２０を湾曲した形状に形成する前に、光学フィルム２２２に取り付けられたライナーであり、ライナーは、光学フィルム２２２を実質的に損傷することなく、光学積層体２２０上に光学素子がインサート成形された後に得られる光学アセンブリから除去可能である。

いくつかの実施形態では、追加層２３０は、光学的に透明である。いくつかの実施形態では、追加層２３０は、光学的に透明な保護層であり得る保護層である。層（例えば、接着剤層又はハードコート層）は、透過率が１０％未満のヘーズを有する場合、光学的に透明であると説明できる。ヘーズは、ＡＳＴＭ Ｄ１００３−１３試験標準に従って判定することができる。ヘーズを測定するのに好適な機器は、Ｈａｚｅ−Ｇａｒｄ Ｐｌｕｓヘーズメータ（ＢＹＫ Ｇａｒｄｎｅｒ（Ｃｏｌｕｍｂｉａ，Ｍａｒｙｌａｎｄ））である。

図３は、光学積層体に（例えば、光学積層体２２０内の光学フィルム２２２の代わりに）任意選択的に使用できる光学フィルム３２２の概略図である。光学フィルム３２２は、非干渉層３２６ｂによって分離された干渉層の第１のパケット２２４−１及び第２のパケット２２４−２を含む。光学フィルム３２２は、外側非干渉層３２６ａ及び３２６ｃを更に含む。光学フィルム３２２は、一体的に形成されてもよい。第１のパケット２２４−１及び第２のパケット２２４−２は、例えば、高コントラスト比（通過状態透過率のブロック状態透過率に対する比）の反射偏光子、又は低リークのミラーを提供する、「Ｈｉｇｈ Ｃｏｎｔｒａｓｔ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｌｍ ａｎｄ Ｄｅｖｉｃｅｓ Ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ ｔｈｅ Ｓａｍｅ」と題する、２０１７年３月６日に出願された、米国仮特許出願第６２／４６７７１２号に記載されているように、重なり合う厚さ範囲を利用することができる。いくつかの実施形態では、重なり合う厚さ範囲を有するパケットを利用する反射偏光子は、例えば、少なくとも９９％、又は少なくとも９９．５％、又は少なくとも９９．８％のブロック状態反射率を有する。

いくつかの実施形態では、光学フィルム２２２又は３２２は、所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して約８０％を超える反射率を有する。いくつかの実施形態では、たとえ光学フィルム又は光学積層体（例えば、光学積層体２２０）が湾曲した形状に熱成形され、かつ、光学素子が光学フィルム又は積層体上に成形された後であっても、光学フィルム２２２若しくは３２２又は本明細書の他の光学フィルムは、なおも高い反射率を有する。例えば、いくつかの実施形態では、光学フィルムの総面積の少なくとも約８０％、又は少なくとも約９０％、又は全てにわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して、約８０％を超える、又は約９０％を超える反射率を有する。光学フィルムはまた、たとえ形成された後であっても低リークであり、光学フィルム上に成形された光学素子を有してもよい。例えば、いくつかの実施形態では、光学フィルムの総面積の少なくとも約８０％、又は少なくとも約９０％、又は全てにわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して、約５％未満、又は約２％未満、又は約１％未満、又は約０．６％未満、又は約０．５％未満の透過率を有する。いくつかの実施形態では、光学フィルムは、所定の波長及びブロック偏光状態を有する垂直入射光を実質的に反射し、所定の波長及び直交する通過偏光状態を有する垂直入射光を実質的に透過する反射偏光子である。いくつかの実施形態では、反射偏光子の総面積の少なくとも約８０％、又は少なくとも約９０％、又は全てにわたる各位置は、所定の波長及びブロック偏光状態を有する垂直入射光に対して、約５％未満、又は約２％未満、又は約１％未満、又は約０．６％未満、又は約０．５％未満の透過率を有する。

いくつかの実施形態では、光学積層体は、光学フィルムと、光学フィルムの周辺部を越えて延在する追加層とを含む。例えば、追加層は、光学フィルムの周辺部に沿って光学フィルムに接する全ての方向に延在してもよい。図４Ａ〜図４Ｂは、光学フィルム４２２及び追加層４３０を含む光学積層体４２０の概略側面図及び底面図である。いくつかの実施形態では、光学フィルム４２２は、本明細書の他の箇所で更に説明されるように、一体的に形成された多層光学フィルムである（例えば、光学フィルム４２２は、光学フィルム２２２又は３２２に対応し得る）。いくつかの実施形態では、追加層４３０は、保護層（例えば、光学的に透明なハードコート）又はライナーである。いくつかの実施形態では、追加層４３０は、光学フィルム４２２に剥離可能に接合されたライナーである。光学フィルム４２２は、周辺部４２５を有し、追加層４３０は、光学フィルム４２２を完全に覆い、光学フィルム４２２の周辺部４２５を越えて延在する。いくつかの実施形態では、追加層４３０と光学フィルム４２２との間の境界面４２８は、光学的に平滑である。他の実施形態では、境界面４２８は、テクスチャ加工されている。表面粗さに起因する散乱が実質的にないほど十分に平滑である場合、表面は光学的に平滑である。例えば、表面粗さパラメータＲａが可視光の波長（例えば、５０ｎｍ未満）より著しく小さい場合、表面粗さからの光学効果は無視することができ、表面は光学的に平滑であると説明することができる。テクスチャ加工された表面は、典型的には、表面が光学的に平滑でないほどに十分に大きい振幅を有するテクスチャを含む。

いくつかの実施形態では、本明細書の他の箇所に記載される追加層４３０、又は他の追加層は、保護層（例えば、コーティングを硬化させることにより形成される層）、又は保護フィルム（例えば、保護コーティングを有するフィルム）である。いくつかの実施形態では、保護コーティングは、少なくとも部分的に硬化された組成物を含み、この組成物が、
ａ）成分ａ）〜ｄ）の総重量に基づいて７０〜９０重量％の、３〜９の平均（メタ）アクリレート官能価を有するウレタン（メタ）アクリレート化合物、
ｂ）成分ａ）〜ｄ）の総重量に基づいて５〜２０重量％の、１〜２の（メタ）アクリレート官能価を有する、ウレタン（メタ）アクリレート化合物ではない（メタ）アクリレートモノマー、
ｃ）成分ａ）〜ｄ）の総重量に基づいて０．５〜２重量％のシリコーン（メタ）アクリレート、
及び、ｄ）任意選択の有効量の光開始剤、を含む。

そのような保護コーティングは、「Ｉｎｆｒａｒｅｄ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｎｇ Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ Ａｓｓｅｍｂｌｙ ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄ ｏｆ Ｍａｋｉｎｇ ｔｈｅ Ｓａｍｅ」と題する、２０１６年１２月１６日に出願された米国仮特許出願第６２／５４９０８２号に、更に記載されており、その記載は、本明細書と矛盾しない範囲で、参照により本明細書に組み込まれる。この組成物を光学フィルム上にコーティングでき、次いで、光学フィルムを所望の形状に形成（例えば、熱成形）する前に硬化させることができる。

接頭語「（メタ）アクリル」は、メタクリル及び／又はアクリルを指す。「ウレタン（メタ）アクリレート化合物」は、少なくとも１つ（好ましくは少なくとも２、３、４個以上）のカルバメート基（すなわち、−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−）及び少なくとも１つの（メタ）アクリル基を有する化合物を意味する。定義により、組成物中の成分の重量％の合計は、１００重量％を超えてはならない。

３〜９の平均（メタ）アクリレート官能価を有する例示的なウレタン（メタ）アクリレート化合物は、市販の供給源から入手可能であり、かつ／又は既知の方法に従って調製することができる。市販のウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、全てＡｌｌｎｅｘ（Ｂｒｕｓｓｅｌｌｓ，Ｂｅｌｇｉｕｍ）製である、ＥＢＥＣＲＹＬ ２６４ 脂肪族ウレタントリアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ２６５ 脂肪族ウレタントリアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ １２５８ 脂肪族ウレタントリアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ４１００ 脂肪族ウレタントリアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ４１０１ 脂肪族 ウレタントリアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ８４１２ 脂肪族ウレタンアクリレート（３官能）、ＥＢＥＣＲＹＬ ４６５４ 脂肪族ウレタントリアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ４６６６ 脂肪族ウレタントリアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ４７３８ 脂肪族アロファネートウレタントリアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ４７４０ 脂肪族アロファネートウレタントリアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ８４０５ 脂肪族ウレタンテトラアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ８６０４ 脂肪族ウレタンテトラアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ４５００ 芳香族ウレタンテトラアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ４５０１ 芳香族ウレタンテトラアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ４２００ 脂肪族ウレタンテトラアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ４２０１ 脂肪族ウレタンテトラアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ８７０２ 脂肪族ウレタンヘキサアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ２２０ 芳香族ウレタンヘキサアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ２２１ 芳香族ウレタンヘキサアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ２２２１ 芳香族ウレタンヘキサアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ２２２１ 芳香族ウレタンヘキサアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ５１２９ 脂肪族ウレタンヘキサアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ １２９０ 脂肪族ウレタンヘキサアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ １２９１ 脂肪族ウレタンヘキサアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ８３０１−Ｒ 脂肪族ウレタンヘキサアクリレート、ＥＢＥＣＲＹＬ ８６０２ 脂肪族ウレタンアクリレート（非官能性）；Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．（Ｅｘｔｏｎ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ）製であるＣＮ９２９ ３官能ウレタンアクリレート及びＣＮ９００６ 脂肪族ウレタンアクリレート（６官能）が挙げられる。いくつかの実施形態では、ウレタン（メタ）アクリレート化合物は、ポリイソシアネート化合物をヒドロキシル官能性（メタ）アクリレート化合物と反応させることによって合成することができる。ウレタン（メタ）アクリレート化合物を調製する際には、様々なポリイソシアネートを使用することができる。本明細書で使用するとき、用語「ポリイソシアネート」は、例えば、ジイソシアネート、トリイソシアネート、テトライソシアネート、及びこれらの混合物など、単一分子中に２つ以上の反応性イソシアネート（−ＮＣＯ）基を有する任意の有機化合物を意味する。耐候性の向上及び黄変の減少のために、本明細書で使用されるウレタン（メタ）アクリレート化合物は、好ましくは脂肪族であり、したがって脂肪族ポリイソシアネートから誘導される。

平均（メタ）アクリレート官能価は、以下の方法で計算される。各化合物について添加したアクリレートの官能価を最初に計算する。例えば、組成物は、１．０当量のＤＥＳＮ１００（ＤＥＳＭＯＤＵＲ Ｎ１００ビウレット系ヘキサメチレンジイソシアネートオリゴマー、１００％の固形分、２２．０重量％のＮＣＯ、１９１ｇ／当量、Ｃｏｖｅｓｔｒｏ ＬＬＣ（Ｐｉｔｔｓｂｕｒｇｈ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ）から入手可能）、０．２５当量のＨＥＡ（２−ヒドロキシエチルアクリレート、Ａｌｆａ Ａｅｓａｒ（Ｔｅｗｋｓｂｕｒｙ，Ｍａｓｓａｃｈｕｓｅｔｔｓ）から入手可能）、及び０．７５当量のＰＥＴ３Ａ（ペンタエリスリトールトリアクリレート、Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．（Ｅｘｔｏｎ，Ｐｅｎｎｓｙｌｖａｎｉａ）からＳＲ４４４Ｃとして入手可能）を含み得る。これは、この化合物が、１当量のイソシアネート基（ＤＥＳＮ１００として）と、０．２５ヒドロキシル当量のヒドロキシエチルアクリレート及び０．７５ヒドロキシル当量のＰＥＴ３Ａとの反応生成物であることを意味する。ＨＥＡは、１ヒドロキシル基当たり１個のアクリレート基を有し、ＰＥＴ３Ａは、１ヒドロキシル基当たり３個のアクリレート基を有する。その結果、この化合物の添加されたアクリレートの官能価は、（０．２５×１）＋（０．７５×３）又は２．５である。平均（メタ）アクリレート官能価は、各化合物について添加されたアクリレートの官能価に、ポリイソシアネートの平均官能価を乗じることによって見付けられる。Ｃｏｖｅｓｔｒｏによれば、ＤＥＳＮ１００の平均官能価は３．６であり、そのため、この化合物の平均（メタ）アクリレート官能価は、２．５×３．６又は９である。ＤＥＳＮ３３００、ＤＥＳＮ３８００、及びＤＥＳＺ４４７０ＢＡについてのポリイソシアネートの他の推定平均官能価は、それぞれ３．５、３．０、及び３．３である。

いくつかの実施形態では、ポリイソシアネートのイソシアネート基の一部は、例えば、Ｐｅｒｓｔｏｒｐ Ｈｏｌｄｉｎｇ ＡＢ（Ｓｗｅｄｅｎ）からＰｏｌｙｏｌ ４８００として入手可能なアルコキシル化ポリオールなどのポリオールと反応させることができる。このようなポリオールは、５００〜１０００ｍｇ ＫＯＨ／ｇのヒドロキシル価、及び少なくとも２００又は２５０ｇ／モルから最大５００ｇ／モルの範囲の分子量を有することができる。

いくつかの実施形態では、ポリイソシアネートのイソシアネート基の一部は、１，６−ヘキサンジオールなどのポリオールと反応させることができる。

ポリイソシアネートを（メタ）アクリル化アルコールと反応させるために使用する反応条件の選択、及び触媒がある場合のその選択は、当業者には明らかであろう。

有用な（メタ）アクリレートモノマー（好ましくは非ウレタンであり、好ましくは非シリコーンであるが、これは必須ではない）は、１〜２の（メタ）アクリレート官能価を有する。これらのモノマーは、例えば、希釈剤又は溶媒として、粘度低下剤として、硬化時のバインダーとして、及び架橋剤として機能し得る。有用な（メタ）アクリレートの例としては、モノ（メタ）アクリレートであって、例えば、オクチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノールエトキシレート（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ベータカルボキシエチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、ステアリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシ官能性カプロラクトンエステル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシイソプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシイソブチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、上記（メタ）アクリレートモノマーのアルコキシル化バージョンであって、例えば、アルコキシル化テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、及びこれらの組み合わせが挙げられる。いくつかの実施形態では、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートが好ましい。ジ（メタ）アクリレートは、例えば、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール）ジ（メタ）アクリレート、ポリブタジエンジ（メタ）アクリレート、ポリウレタンジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートと、上記ジ（メタ）アクリレートのアルコキシル化バージョン、及びこれらの組み合わせが挙げられる。これらのうち、１，６−ヘキサンジオールジアクリレートが、いくつかの実施形態では好ましい。１又は２の官能価を有する（例えば上記のような）（メタ）アクリレートモノマーは、広く市販されている。

例示的な有用なシリコーン（メタ）アクリレートとしては、単官能性及び多官能性シリコーン（メタ）アクリレートが挙げられる。これらのうち、シリコーンポリ（メタ）アクリレートが好ましい場合があり、これは、硬化後のシリコーン（メタ）アクリレートの未結合の可能性が概して減少するためである。例示的なシリコーン（メタ）アクリレートとしては、Ａｌｌｎｅｘ製のＥＢＥＣＲＹＬ ３５０シリコーンジアクリレート及びＥＢＥＣＲＹＬ １３６０シリコーンヘキサアクリレート、Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．製のＣＮ９８００脂肪族シリコーンアクリレート及びＣＮ９９０シリコーン化ウレタンアクリレート化合物、並びにＥｖｏｎｉｋ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ（Ｐａｒｓｉｐｐａｎｙ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）製のＴＥＧＯ ＲＡＤ ２１００、ＴＥＧＯ ＲＡＤ ２２５０、及びＴＥＧＯ ＲＡＤ ２５００シリコーンポリエーテルアクリレートが挙げられる。

硬化性組成物は、任意選択だが、好ましくは、有効量の光開始剤を更に含むことができる。用語「有効量」とは、周囲条件下で硬化性組成物の硬化を引き起こすのに少なくとも十分な量である量を意味する。重合可能な（メタ）アクリレート基が残存していても硬化が完了し得ることが認識されるであろう。

例示的な光開始剤としては、ベンゾインなどのα−開裂光開始剤及びその誘導体、例えば、α−メチルベンゾイン；α−フェニルベンゾイン；α−アリルベンゾイン；α−ベンジルベンゾイン；ベンゾインエーテル、例えば、ベンジルジメチルケタール（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（Ｔａｒｒｙｔｏｗｎ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）からＩＲＧＡＣＵＲＥ ６５１として入手可能）、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインｎ−ブチルエーテル；アセトフェノン及びその誘導体、例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−プロパノン（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ ＣｈｅｍｉｃａｌｓからＤＡＲＯＣＵＲ １１７３として入手可能）及び１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ ＣｈｅｍｉｃａｌｓからＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４として入手可能）；２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−（４−モルホリニル）−１−プロパノン（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ ＣｈｅｍｉｃａｌｓからＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７として入手可能）；２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ ＣｈｅｍｉｃａｌｓからＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９として入手可能）；チタン錯体、例えば、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）ビス［２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）フェニル］チタン（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ ＣｈｅｍｉｃａｌｓからＣＧＩ ７８４ ＤＣとして入手可能）；及びモノアシルホスフィン及びビスアシルホスフィン（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ ＣｈｅｍｉｃａｌｓからＩＲＧＡＣＵＲＥ １７００，ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８００，ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８５０，及びＤＡＲＯＣＵＲ ４２６５として入手可能）が挙げられる。１つの有用な光開始剤、２官能α−ヒドロキシケトンは、ＬＡＭＢＥＲＴＩ Ｓ．ｐ．Ａ（Ａｌｂｉｚｚａｔｅ，Ｉｔａｌｙ）からＥＳＡＣＵＲＥ ＯＮＥとして入手可能である。

図４Ｃは、光学積層体４２０ｃが光学フィルム４２２に加えて第１の層４３０ｃ及び第２の層４３０ｂを含む、代替的な実施形態を示す。第１の層４３０ｃは、光学フィルム４２２の周辺部４２５を越えて延在するが、第２の層４３０ｂは延在しない。いくつかの実施形態では、第２の層４３０ｂは保護層（例えば、ハードコート）であり、第１の層４３０ｃはライナーである。

いくつかの実施形態では、光学積層体は、ライナーの第１の主表面と光学フィルムの最も外側の主表面との間に境界面を有する光学フィルムを含む。境界面は、光学的に平滑であってもよく、又はテクスチャ加工されてもよい。いくつかの用途では、境界面が光学的に平滑であることが望ましい場合があり（例えば、鏡面反射を提供するため）、他の用途では（例えば、そうでなければ鏡面反射に対してある程度の拡散特性を追加するために）非平滑であることが望ましい場合がある。図４Ｄは、ライナー４３０ｄ、光学フィルム４２２ｄ、及びそれらの間のテクスチャ加工された境界面４２８ｄ、を含む光学積層体４２０ｄの概略断面図である。光学フィルムは、光学的に平滑な表面で開始することが多いが、その後のフィルム加工において表面をテクスチャ加工することができる。境界面は、例えば、形成プロセスによりテクスチャ加工されてもよい。いくつかの実施形態では、光学フィルムは、例えば熱成形プロセスにおいて所望の形状に形成されてもよく、熱成形プロセスで使用される成形型からのテクスチャは、その後ライナーによって覆われる光学フィルムの外面に付与されてもよい。成形型内のテクスチャは、成形型内に合わせて設計されてもよく、又は、例えば、成形型がどのように作製されたかのアーチファクトであってもよい。他の実施形態では、ライナー（その後のインサート成形プロセスで使用されるのと同じライナーであってもよく、又はなくてもよい）は、熱成形前に光学フィルムに適用され、成形型からの任意のテクスチャは、光学フィルムに付与されない。

図５Ａは、対向する第１の主表面５１５及び第２の主表面５１７を有するレンズ、並びにレンズ５１０上に配置された光学積層体５２０を含む、光学アセンブリ５００の概略断面図である。第１の主表面５１５は、第１の部分５１２及び第２の部分５１４を含む。光学積層体は、光学フィルム５２２と、任意選択的な追加のフィルム又は層５３０と、を含む。追加層５３０はまた、第１の層と呼ばれ得る。２つ以上の追加層５３０が含まれてもよい。例えば、追加層は、光学フィルム５２２上に配置された第１の層と、レンズ５１０とは反対側の第１の層上に配置された第２の層とを含んでもよい（例えば、第１の層はハードコートであってもよく、第２の層はライナーであってもよい）。本明細書の他の箇所で更に説明される多層光学フィルムであり得る光学フィルム５２２は、第１の主表面５２７及び第２の主表面５２９を有する。光学フィルム５２２の第１の主表面５２７は、レンズ５１０の第１の主表面５１５の第１の部分５１２上に配置される。光学フィルム５２２は、レンズ５１０と、例えば、ライナー又は保護層であり得る追加層５３０との間に配置される。いくつかの実施形態では、光学フィルム５２２は、一体的に形成された多層光学フィルムであり、追加層５３０は、光学フィルム５２２と一体ではない。

第２の主表面５２９は、第１の主表面５１５の第２の部分５１４と実質的に同一平面にある。主表面と他方の表面との間の分離がフィルム又は層の厚さの約３０％以下である場合、フィルム又は層の主表面は、別の表面（又はフィルム若しくは層の主表面と実質的に同一平面である他の表面）と実質的に同一平面にあるものとして説明することができる。いくつかの実施形態では、フィルム又は層の主表面と他の表面との間の分離は、フィルム又は層の厚さの２０％以下又は１０％以下である。

第１の主表面５１５の第２の部分５１４は、図５Ａに概略的に示されるように、第１の主表面５１５の第１の部分５１２から垂直に延在してもよく、第２の部分５１４は、第１の部分５１２からある角度で延在してもよい。精密な角度は、レンズが光学積層体５２０上にインサート成形されたときの光学フィルム５２２の縁部の形状によって判定することができる。縁部の形状は、より大きなフィルム（例えば、光学フィルムのロール）から光学フィルム５２２が切り出された方法に依存し得る。

いくつかの実施形態では、追加層５３０は含まれない。いくつかの実施形態では、光学アセンブリ５００は、後に除去されるライナーである追加層５３０と共に形成される。図５Ｂは、例えば、光学アセンブリ５００から追加層５３０を除去することによって形成できる光学アセンブリ５００ｂの概略図である。

図５Ｃは、第１の主表面５１５上に光学フィルム（単数又は複数）が配置されていないレンズ５１０の概略断面図であり、図５Ｄは、レンズ５１０の概略上面図である。第１の主表面５１５は、湾曲した凹部５１９を画定するものとして説明されてもよい。図示された実施形態では、湾曲した凹部５１９は、第１の主表面５１５の第１の部分５１２の上方に延在し、第１の主表面５１５の第２の部分５１４によって境界される。

図５Ａに例示される実施形態では、レンズ５１０は、光学積層体５２０の縁部の周囲を少なくとも部分的に包み込むものとして説明することができる。光学積層体５２０の縁部は、光学フィルム５２２の縁部５５１ａと、追加層５３０の縁部５５１ｂとを含む。図示の実施形態では、レンズ５１０は、光学積層体５２０の光学フィルム５２２部分の縁部５５１ａの周囲を少なくとも部分的に包み込んで、光学フィルム５２２と同一平面になる。例えばプリズムなどの他の光学素子は、光学フィルム上に成形されてもよく、光学フィルムの縁部の周囲を少なくとも部分的に包み込むことができ、任意選択的に光学フィルムと同一平面にあってもよい。

他の実施形態では、レンズはまた、追加層の縁部の周囲を少なくとも部分的に包み込んでもよい。図６Ａは、レンズ６１０の第１の主表面６１５の第１の部分６１２上に配置された光学積層体６２０を含む光学アセンブリ６００の概略断面図である。レンズ６１０は、第１の主表面６１５の反対側の第２の主表面６１７を有する。光学積層体６２０は、多層光学フィルム６２２と、多層光学フィルム６２２上に配置された追加の層又はフィルム６３０とを含む。レンズ６１０は、光学積層体６２０の縁部の周囲を少なくとも部分的に包み込む。図示された実施形態では、レンズ６１０は、光学フィルム６２２の縁部の周囲を包み込み、追加フィルム６３０の縁部の周囲を少なくとも部分的に包み込む。いくつかの実施形態では、レンズ６１０は、追加フィルム６３０の縁部の周囲を少なくとも部分的に包み込んで、追加フィルム６３０と同一平面になる。例えば、第１の部分６１２の反対側の追加フィルム６３０の最も外側の主表面は、第１の主表面６１５の第２の部分６１４と同一平面にあってもよい。

多層光学フィルム６２２は、第１の部分６１２上に配置された第１の主表面６２７を含み、反対側の第２の主表面６２９を含む。いくつかの実施形態では、レンズは、多層光学フィルム６２２の縁部の周囲を完全に包み込み、レンズ６１０に対する法線６５３に平行な方向に多層光学フィルム６２２の第２の主表面６２９を越えて、レンズ６１０の第１の主表面６１５の中心にまで延在する。

いくつかの実施形態では、追加フィルム６３０は、保護フィルム（例えば、ハードコート）である。いくつかの実施形態では、追加フィルム６３０は、剥離可能に取り付けられたライナーである。図６Ｂは、追加層６３０が除去されていることを除いて光学アセンブリ６００に対応する、光学アセンブリ６００ｂの概略断面図である。

いくつかの実施形態では、レンズは、湾曲した凹部を内部に画定する第１の主表面を有し、多層光学フィルムは、湾曲した凹部に接着して適合している。例えば、図５Ａ〜図５Ｂ及び図６Ａ〜図６Ｂに示す実施形態のうちのいずれかは、第１の主表面によって画定される湾曲した凹部に適合する光学フィルムを有するものとして説明することができる。光学フィルムは、例えば、本明細書の他の箇所で更に説明されるように、拡散接合を介してレンズに拡散接合されることによって、湾曲した凹部に接着され得る。あるいは、レンズを別個に形成し、例えば、任意選択的に光学的に透明な接着剤で光学フィルムを湾曲した凹部に接合することができる。

いくつかの実施形態では、光学素子上に配置された光学フィルムは、光学素子に向かって凸状である。いくつかの実施形態では、光学素子上に配置された光学フィルムは、光学素子に向かって凹状である。いくつかの実施形態では、光学フィルムは、凸面（例えば、湾曲した凹部の凸面）に接着して適合する。いくつかの実施形態では、光学フィルムは、凹面（例えば、湾曲した凹部の凹面）に接着して適合する。いくつかの実施形態では、光学フィルムは、平面に接着して適合する。

図７Ａ〜図７Ｃは、光学アセンブリの製造方法を概略的に示す。この方法は、第１の湾曲した成形型表面４６２（図７Ａ）を有する第１の成形型４６０を提供することと、成形された光学フィルム又は光学積層体７２０を第１の湾曲した成形型表面４６２上に配置すること（図７Ｂ〜図７Ｃ）とを含む。光学積層体は、好ましくは、（例えば、熱成形により）第１の湾曲した成形型表面４６２の形状と実質的に一致する所望の形状に成形される。フィルム又は光学積層体の熱成形は、例えば、米国特許第９，５５７，５６８号（Ｏｕｄｅｒｋｉｒｋら）及び同第６，７８８，４６３号（Ｍｅｒｒｉｌｌら）によって概して記載されているように、フィルム又は光学積層体を加熱し、光学積層体を延伸しながら光学積層体を湾曲した成形型に接触させることによって、実行することができる。次に、第２の成形型４７０は、第２の成形型４７０の第２の成形型表面４７２が第１の湾曲した成形型表面４６２から離間して位置合わせされるように配置される。第２の成形型表面４７２は、図示されるように湾曲していてもよく、又は実質的に平面であってもよい。第１の成形型表面４６２及び第２の成形型表面４７２は、それらの間に成形型キャビティ４８０を画定する（図７Ｂ）。次に、成形型キャビティ４８０は、流動性材料４８３（図７Ｃ）で充填又は実質的に充填され、次いで固化されて、光学積層体７２０に接合された固体光学素子を形成する（例えば、光学アセンブリ１００の光学素子１１０を参照）。流動性材料４８３は、ゲート４８１を介して成形型キャビティ４８０内に導入され得る。第１の成形型４６０及び第２の成形型４７０は除去され、過度の材料（例えば、ゲート４８１からのランナー材料）が除去され得る。成形型キャビティを実質的に充填することは、５０体積パーセントを超えて成形型キャビティを充填することを意味すると理解できる。いくつかの実施形態では、成形型キャビティは、少なくとも８０体積％まで、又は少なくとも９０体積％まで、又は少なくとも９５体積％まで充填される。いくつかの実施形態では、成形型キャビティ４８０は、光学積層体７２０が占める容積を除いて、流動性材料４８３で完全に充填される。

いくつかの実施形態では、流動性材料４８３がキャビティ４８０内に流入するときに、流動性材料４８３は、光学積層体７２０のガラス転移温度よりも高い温度を有する。いくつかの実施形態では、第１の成形型４６０及び第２の成形型４７０は、流動性材料４８３を固体化するために、流動性材料４８３の融点より低い温度に保持される。いくつかの実施形態では、流動性材料４８３がキャビティ４８０内に流入するときに、第１の成形型４６０及び第２の成形型４７０の温度はまた、光学積層体７２０のガラス転移温度よりも低い。例えば、流動性材料４８３は、キャビティ４８０内に導入されるときに２５０〜３００℃の範囲の温度を有してもよく、第１及び第２の成形型は７５〜１００℃の範囲の温度を有してもよく、光学積層体７２０は１０５〜１３０℃の範囲のガラス転移温度を有してもよい。いくつかの実施形態では、光学積層体７２０は複数の層を有し、流動性材料４８３は、流動性材料４８３がキャビティ４８０内に流入するときに、光学積層体７２０の各層のガラス転移温度よりも高い温度を有する。いくつかの実施形態では、光学積層体７２０は複数の層を有し、流動性材料４８３がキャビティ４８０内に流入するとき、流動性材料４８３は、光学積層体７２０の少なくとも１つの層のガラス転移温度よりも高い温度を有する。いくつかの実施形態では、光学積層体７２０は複数の層を有し、流動性材料４８３がキャビティ４８０内に流入して光学積層体７２０に接触するとき、流動性材料４８３は、流動性材料４８３に直接隣接する光学積層体７２０の層のガラス転移温度よりも高い温度を有する。この層は、例えば、光学積層体７２０に含まれる一体的に形成された光学フィルムのスキン層であってもよい。いくつかの実施形態では、光学積層体７２０は、複屈折ポリマー層を含む複数の層を含み、流動性材料４８３は、流動性材料４８３がキャビティ４８０内に流入するときの複屈折ポリマー層のガラス転移温度よりも高い温度を有する。

いくつかの実施形態では、形成された光学素子の溶融温度は、光学フィルム又は光学積層体のガラス転移温度よりも実質的に高い（ガラス転移温度は、上述のガラス転移温度のうちのいずれかであり得る）。実質的により高い温度とは、別段の指示がない限り、１０℃超よりも高い温度を指す。いくつかの実施形態では、光学素子の溶融温度は、光学フィルムのガラス転移温度よりも少なくとも約５０℃高く、又は少なくとも約８０℃高い。いくつかの実施形態では、光学素子の溶融温度と光学フィルムの溶融温度との間の差の絶対値は、約５０℃未満、又は約３０℃未満、又は約２０℃未満、又は約１０℃未満である。いくつかの実施形態では、光学素子の溶融温度は、光学フィルムの溶融温度とほぼ同じである。ほぼ同じ温度とは、別段の指示がない限り、１０℃未満の温度差を指す。光学フィルムの溶融温度は、ガラス転移温度について記載された層のうちのいずれかの溶融温度であり得る。例えば、溶融温度は、流動性材料４８３がキャビティ４８０内に流入して光学フィルムに接触するとき、流動性材料４８３に直接隣接する光学フィルムの層のものであってもよい。

いくつかの実施形態では、光学積層体７２０は、本明細書の他の箇所に記載されるライナーを含む。いくつかの実施形態では、ライナーは、約５０℃超又は約８０℃よりも高いガラス転移温度を有する。

様々なフィルム又は層のガラス転移温度は、試験標準ＡＳＴＭ Ｅ１３５６−０８（２０１４）の「Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｔｅｓｔ Ｍｅｔｈｏｄ ｆｏｒ Ａｓｓｉｇｎｍｅｎｔ ｏｆ ｔｈｅ Ｇｌａｓｓ Ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅｓ ｂｙ Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ」に記載されている、示差走査熱量計によって判定することができる。

いくつかの実施形態では、第１の成形型４６０は、モールドベース内に配置されるように構成された第１のモールドインサートである。同様に、いくつかの実施形態では、第２の成形型４７０は、モールドベース内に配置されるように構成された第２のモールドインサートである。

第１の湾曲した成形型表面４６２は、いくつかの実施形態では約３０ｍｍ〜約１０００ｍｍの範囲にある、最良適合球面の第１の曲率半径Ｒを有する。第１の湾曲した成形型表面４６２は、サグＳを有する。いくつかの実施形態では、最良適合球面の第１の曲率半径Ｒに対するサグＳの比は、約０．０２〜約０．２の範囲、又は約０．０２〜約０．１５の範囲、又は約０．０２〜約０．１２の範囲、又は約０．０３〜約０．１２の範囲、又は約０．０４〜約０．１２の範囲にある。いくつかの実施形態では、光学積層体７２０は、これらの範囲うちのいずれかにおいて、サグ対半径比を有する。

図７Ｄは、第１の成形型４６０の第１の湾曲した成形型表面４６２上に配置された代替的な光学積層体７２０ｄの概略断面図である。この場合、光学積層体７２０ｄは、第１の湾曲した成形型表面４６２の縁部まで延在しない。光学積層体７２０ｄ上へのレンズの射出成形から得られる光学アセンブリは、例えば、光学アセンブリ６００について説明したとおりであり得る。

図７Ｅは、第１の成形型４６０の第１の湾曲した成形型表面４６２上に配置された代替的な光学積層体７２０ｅの概略断面図である。この場合では、光学積層体７２０ｅは、第１の湾曲した成形型表面４６２の縁部まで延在しない光学フィルム７２２ｅと、追加層７３０ｅ（例えば、光学フィルム７２２ｅに剥離可能に取り付けられたライナー）を含む。光学積層体７２０ｅ上へのレンズの射出成形から得られる光学アセンブリは、例えば、光学アセンブリ５００について説明したとおりであり得る。

インサート成形プロセスは、光学フィルム上に射出成形された第１の光学素子を、第１の光学素子とは反対側の光学フィルム上に第２の光学素子を形成する第２のインサート成形プロセス用のインサートとして使用して繰り返すことができる。

図８Ａは、光学積層体又は光学フィルム８２０と、光学フィルム８２０上に直接的に射出インサート成形され得る第１の光学素子８１０ａと、第１の光学素子８１０ａの反対側の光学フィルム８２０上に配置された第２の光学素子８１０ｂと、を含む光学アセンブリ８００の概略断面図である。第２の光学素子８１０ｂは、第１の光学素子８１０ａの反対側の光学フィルム８２０上に直接的に射出インサート成形されてもよい。いくつかの実施形態では、第１の光学素子８１０ａ及び第２の光学素子８１０ｂは、第１及び第２のレンズである。いくつかの実施形態では、第１及び第２のレンズのそれぞれ上の各位置は、約１０ｎｍ以下の光学リターダンスを有する。

いくつかの実施形態では、第２の光学素子８１０ｂの形状を有するレンズは、第１の光学素子８１０ａを含むことなく光学フィルム８２０上に成形される。図８Ｂは、光学フィルム８２０と、光学フィルム８２０上に直接的に射出インサート成形され得る光学素子８１０ｂと、を含む、光学アセンブリ８００ｂの概略断面図である。

別の実施形態が図８Ｃに示され、図８Ｃは、光学積層体又は光学フィルム８２０ｃと、光学積層体又は光学フィルム８２０ｃ上にインサート成形された光学素子８１０ｃと、を含む、光学アセンブリ８００ｃの概略断面図である。この場合、光学積層体又は光学フィルム８２０ｃは、光学素子８１０ｃの実質的に平坦な表面上に配置されている。

レンズなどの光学素子上のある位置における光学リターダンスは、その位置を通過し、光学素子を通る最短経路を有する光学素子を透過した光の位相リターダンスである。例えば、図９は、位置９８７において光学素子９１０に入射し、光学素子９１０を通って透過する２つの光線９８８及び９８９を概略的に示す。光線９８９が、位置９８７を通過する光線に対して光学素子９１０を通過する最短経路を有するため、光リターダンスは、光線９８９に対して指定される。光学素子９１０の対向する主表面がほぼ平行である場合、おおよその垂直入射光は、光学素子を通過する最短経路を有する。対向する主表面が平行でない場合、最短経路は、非垂直入射光の場合であり得る。位相リターダンスは、その位置を通る２つの直交偏光光線に対する位相の最大差である。入射光線の波長は、別段の指示がない限り、約５５０ｎｍである。光学素子の光学リターダンスは、光学素子の主表面上の位置によって特徴付けることができる。いくつかの実施形態では、レンズなどの光学素子は、低光学リターダンスを有する。いくつかの実施形態では、光学リターダンスは、光学素子の主表面の（表面積の）少なくとも８０％、又は少なくとも９０％にわたる各位置において約１０ｎｍ以下である。いくつかの実施形態では、光学素子上の各位置における光学リターダンスは、約１０ｎｍ以下、又は約７ｎｍ以下である。いくつかの実施形態では、光学素子は、レンズの中心において約５ｎｍ以下の光学リターダンスを有するレンズである。

いくつかの実施形態では、たとえレンズが実質的な厚さ変化を有する場合であっても、光学リターダンスは（例えば、上述の範囲のいずれかで）低い。例えば、いくつかの実施形態では、レンズは、レンズの主表面の少なくとも８０％にわたって、各位置において約１０ｎｍ以下の光学リターダンスを有し、第１のレンズ位置において、第２のレンズ位置におけるレンズ厚よりも、少なくとも約２０％大きい、又は少なくとも約３０％大きい、又は少なくとも約４０％大きい、又は少なくとも約５０％大きい、又は少なくとも約７５％大きい、又は少なくとも約１００％大きい、又は少なくとも約１５０％大きい、又は少なくとも約２００％大きい、レンズ厚を有する。

光学素子を作製する際に流動性材料４８３として低リターダンス材料を使用することによって、及び／又は、成形型キャビティ４８０に流動性材料４８３を充填した後、複屈折が実質的に緩和するのに十分な時間、流動性材料４８３を高温に維持することによって、光学素子の光学リターダンスを低く（例えば、１０ｎｍ未満）することができる。流動性材料４８３に使用できる好適な材料としては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート、ポリスチレン、環状オレフィン、及びポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が挙げられる。低複屈折を提供する好適なＰＭＭＡは、例えば、Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ Ｇａｓ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｉｎｃ．から入手可能なＯｐｔｉｍａｓ ７５００である。複数の交互ポリマー層を有する光学フィルムは、レンズ又は光学素子が光学フィルムのガラス転移温度より高い融点を有するが、光学フィルムの溶融温度未満であるとき、たとえ光学素子が低複屈折に緩和できるときであっても、少なくとも１つの偏光状態に対して高い反射率をなおも提供することができることが見出された。

たとえ複屈折がより低い値に緩和できるときであっても、残留複屈折及び光学リターダンスはなおも存在し得るが、光学リターダンスが低い場合がある（例えば、１０ｎｍ以下）。いくつかの実施形態では、光学リターダンスは、約１０ｎｍ以下のままでありながら、光学素子を通していくらかの空間的変化を示す。いくつかの実施形態では、レンズであり得る光学素子の光学リターダンスは、光学素子の縁部により近い少なくとも１つの位置において、光学素子の中心により近い少なくとも１つの位置における光学素子の光学リターダンスを超える。

図１０は、Ｄ１の第１の方向（ｘ方向に平行）に沿った最大横寸法を有し、Ｄ２の直交する第２方向（ｙ方向に平行）に沿った最大横寸法を有するレンズ１０１０の概略上面図である。Ｄ１は、Ｄ２より大きくても、小さくてもよく、又はＤ２とほぼ同じであってもよい。いくつかの実施形態では、レンズ１０１０は、直交する第２の方向Ｄ２における最大横寸法に沿ってより小さく、かつ、レンズ１０１０上の各位置において約１０ｎｍ以下である、第１の方向Ｄ１における最大横寸法に沿ってより大きく変化する光学リターダンスを有する。いくつかの場合では、光学リターダンスの変化は、光リターダンスがゲート付近でより高く、かつ、他の位置よりも低くなるレンズ１０１０を作成するために使用される射出インサート成形プロセスに起因するものである。例えば、第１の縁部位置１０９４は、ゲート付近の縁部位置であってもよく、中心位置１０９５よりも高い光学リターダンスを有してもよい。いくつかの実施形態では、第１の縁部位置１０９４は、中心位置１０９５における光学リターダンスよりも高く、第２の縁部位置１０９６における光学リターダンスよりも高い、光学リターダンスを有する。いくつかの実施形態では、第３の縁部位置１０９７及び第４の縁部位置１０９８は、中心位置１０９５における光学リターダンスのＲ１以内の光学リターダンスを有し、第１の縁部位置１０９４は、Ｒ２に中心位置１０９５における光学リターダンスを加えたものを超える光学リターダンスを有する（ここで、Ｒ２＞Ｒ１）。例えば、Ｒ２は２．５ｎｍであってもよく、Ｒ１は１．５ｎｍであってもよく、中心位置１０９５における光学リターダンスは４ｎｍであってもよく、第２の縁部位置１０９６、第３の縁部位置１０９７、及び第４の縁部位置１０９８のそれぞれにおける光学リターダンスはそれぞれ、約５ｎｍであってもよく、第１の縁部位置１０９４における光学リターダンスは、約７ｎｍであってもよい。いくつかの実施形態では、最も高い光学リターダンスは、第１の縁部位置１０９４（ゲート付近）で生じ、最も低い光学リターダンスは中心位置１０９５で生じる。

縁部位置及び中心位置は、それぞれ、レンズ１０１０の縁部又は中心に近い位置を指す。レンズ１０１０の中心は、第１及び第２の方向が交差する平面図の中心を指し得る。いくつかの実施形態では、中心位置は、レンズ１０の中心のＤ１及びＤ２のうちの小さい方の１０％以内であり、縁部位置は、レンズ１０の縁部のＤ１及びＤ２のうちの小さい方の１０％以内である。

いくつかの実施形態では、レンズ１０１０は、光学フィルム又は光学フィルムを含む光学積層体上に成形され、光学フィルムは反射偏光子であり、反射偏光子上の各位置は、所定の波長及びブロック偏光状態を有する垂直入射光を実質的に反射し、所定の波長及び直交する通過偏光状態を有する垂直入射光を実質的に透過する。いくつかの実施形態では、第１の方向は、反射偏光子の中心でブロック偏光状態に対して実質的に平行である。いくつかの実施形態では、第１の方向は、反射偏光子の中心で通過偏光状態に対して実質的に平行である。いくつかの実施形態では、第１の方向は、反射偏光子の中心でブロック偏光状態に対して斜角にある。例えば、反射偏光子の中心における反射偏光子のブロック軸は、Ｄ１に沿った第１の方向との角度αをなす軸１０９９に沿ってもよい。いくつかの実施形態では、角度αは１０度未満である。

「約、ほぼ（about）」又は「実質的に（substantially）」などの用語は、それらが本発明の記載に使用され記載されている文脈において、当業者によって理解されるだろう。特徴部の形状、量、及び物理的性質を表す量に適用される「約、ほぼ」の使用が、本発明の記載に使用され記載されている文脈において、当業者にとって明らかではない場合、「約、ほぼ」は、特定の値の１０パーセント以内を意味すると理解されるだろう。特定の値の約、ほぼとして与えられる量は、正確に特定の値であり得る。例えば、本発明の記載に使用され記載されている文脈において、当業者にとって明らかではない場合、約１の値を有する量は、０．９〜１．１の値を有する量かつその値が１であり得ることを意味する。

以下は、本明細書の例示的な実施形態の列挙である。

実施形態１は、光学積層体上に直接的にインサート成形された光学素子を含む光学アセンブリであり、光学積層体は光学フィルム及びライナーを含み、光学フィルムは、光学素子とライナーとの間に配置されており、
ライナーは、光学フィルムを実質的に損傷することなく、光学フィルムから除去可能である。

実施形態２は、光学フィルムの総面積の少なくとも約８０％にわたる各位置が、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して約８０％を超える反射率を有する、実施形態１の光学アセンブリである。

実施形態３は、光学フィルムの総面積の少なくとも約８０％にわたる各位置が、所定の波長及び第１の偏光状態に直交する同じ第２の偏光状態を有する垂直入射光に対して約８０％を超える反射率を有する、実施形態２の光学アセンブリである。

実施形態４は、光学フィルムの総面積の少なくとも約８０％にわたる各位置が、所定の波長及び第１の偏光状態に直交する同じ第２の偏光状態を有する垂直入射光に対して約８０％を超える透過率を有する、実施形態２の光学アセンブリである。

実施形態５は、光学フィルムの総面積の少なくとも約８０％にわたる各位置が、所定の波長及び第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して約５％未満の透過率を有する、実施形態２の光学アセンブリである。

実施形態６は、光学フィルムが、主に光干渉によって光を反射又は透過する複数の交互ポリマー層を含む、実施形態１〜５のうちのいずれか１つの光学アセンブリである。

実施形態７は、光学素子が光学積層体上に直接的に射出インサート成形されている、実施形態１の光学アセンブリである。

実施形態８は、光学素子の溶融温度が、光学フィルムのガラス転移温度よりも実質的に高い、実施形態７の光学アセンブリである。

実施形態９は、光学素子の溶融温度が、光学フィルムの溶融温度とほぼ同じである、実施形態７の光学アセンブリである。

実施形態１０は、ライナーが、約５０℃よりも高いガラス転移温度を有する、実施形態１の光学アセンブリである。

実施形態１１は、ライナーが、光学フィルムを完全に覆い、光学フィルムの周辺部を越えて延在する、実施形態１の光学アセンブリである。

実施形態１２は、光学素子がレンズである、実施形態１〜１１のうちのいずれか１つの光学アセンブリである。

実施形態１３は、光学素子が、光学素子上の各位置において約１０ｎｍ以下の光学リターダンスを有する、実施形態１〜１２のうちのいずれか１つの光学アセンブリである。

実施形態１４は、光学素子の縁部により近い少なくとも１つの位置における光学素子の光学リターダンスが、光学素子の中心により近い少なくとも１つの位置における光学素子の光学リターダンスを超える、実施形態１〜１３のうちのいずれか１つの光学アセンブリである。

実施形態１５は、ライナーの第１の主表面と光学フィルムの最も外側の主表面との間の境界面が光学的に平滑である、実施形態１の光学アセンブリである。

実施形態１６は、ライナーの第１の主表面と光学フィルムの最も外側の主表面との間の境界面がテクスチャ加工されている、実施形態１の光学アセンブリである。

実施形態１７は、光学フィルムとライナーとの間の光学フィルム上に、保護コーティングが配置されている、実施形態１の光学アセンブリである。

実施形態１８は、光学フィルムが、複数の干渉層及び最も外側の非干渉層を含む、実施形態１の光学アセンブリである。

実施形態１９は、最も外側の非干渉層が保護コーティングを含む、実施形態１８の光学アセンブリである。

実施形態２０は、保護コーティングがハードコートである、実施形態１７又は１９の光学アセンブリである。

実施形態２１は、保護コーティングが、少なくとも部分的に硬化された組成物を含み、この組成物が、
ａ）成分ａ）〜ｄ）の総重量に基づいて７０〜９０重量％の、３〜９の平均（メタ）アクリレート官能価を有するウレタン（メタ）アクリレート化合物、
ｂ）成分ａ）〜ｄ）の総重量に基づいて５〜２０重量％の、１〜２の（メタ）アクリレート官能価を有する、ウレタン（メタ）アクリレート化合物ではない（メタ）アクリレートモノマー、
ｃ）成分ａ）〜ｄ）の総重量に基づいて０．５〜２重量％のシリコーン（メタ）アクリレート、
及び、ｄ）任意選択の有効量の光開始剤、を含む、実施形態１７、１９、又は２０の光学アセンブリである。

実施形態２２は、光学素子が、光学積層体の縁部の周囲を少なくとも部分的に包み込む、実施形態１の光学アセンブリである。

実施形態２３は、光学素子が、光学フィルムと実質的に同一平面になるように光学フィルムの縁部の周囲を少なくとも部分的に包み込む、実施形態１の光学アセンブリである。

実施形態２４は、
一体的に形成された多層光学フィルムと、
光学フィルム上に直接的に射出インサート成形された第１の光学素子であって、光学フィルムは、主に光干渉によって光を反射又は透過する複数の交互ポリマー層を含み、光学フィルムの総面積の少なくとも８０％にわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して約８０％を超える反射率を有する、光学素子と、を含み、
第１の光学素子の溶融温度が、光学フィルムのガラス転移温度よりも実質的に高い、光学アセンブリである。

実施形態２５は、第１の光学素子の溶融温度が、光学フィルムのガラス転移温度よりも少なくとも約５０℃高い、実施形態２４の光学アセンブリである。

実施形態２６は、一体的に形成された実施形態２４の光学アセンブリである。

実施形態２７は、光学フィルムの最も外側の層が、第１の光学素子の主表面に拡散接合されている、実施形態２４の光学アセンブリである。

実施形態２８は、光学素子への光学フィルムの接合が、光学フィルム内の少なくとも１対の直接隣接する層の間の層間接合よりも強い、実施形態２７の光学アセンブリである。

実施形態２９は、第１の光学素子がレンズである、実施形態２４の光学アセンブリである。

実施形態３０は、第１の光学素子の溶融温度と光学フィルムの溶融温度との間の差の絶対値が５０℃未満である、実施形態２４の光学アセンブリである。

実施形態３１は、第１の光学素子が、第１の方向における最大横寸法に沿ってより大きく変化し、かつ、直交する第２の方向における最大横寸法に沿ってより小さく変化する光学リターダンスを有する、実施形態２４の光学アセンブリである。

実施形態３２は、光学フィルムが反射偏光子であり、反射偏光子上の各位置は、所定の波長及びブロック偏光状態を有する垂直入射光を実質的に反射し、所定の波長及び直交する通過偏光状態を有する垂直入射光を実質的に透過し、第１の方向は、反射偏光子の中心においてブロック偏光状態と実質的に平行である、実施形態３１の光学アセンブリである。

実施形態３３は、
一体的に形成された多層光学フィルムであって、光学フィルムは、主に光干渉によって光を反射又は透過する複数の交互ポリマー層を含む、多層光学フィルムと、
光学フィルム上に直接的にインサート成形された光学素子であって、光学フィルムは、光学素子に拡散接合されている、光学素子と、を含み、
光学素子への光学フィルムの接合は、光学フィルム内の少なくとも１対の直接隣接する層の間の層間接合よりも強い、光学アセンブリである。

実施形態３４は、光学フィルム上の各位置が、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して約８０％を超える反射率を有する、実施形態３３の光学アセンブリである。

実施形態３５は、光学フィルム上の各位置が、所定の波長及び第１の偏光状態に直交する同じ第２の偏光状態を有する垂直入射光に対して約８０％を超える反射率を有する、実施形態３４の光学アセンブリである。

実施形態３６は、光学フィルム上の各位置が、所定の波長及び第１の偏光状態に直交する同じ第２の偏光状態を有する垂直入射光に対して約８０％を超える透過率を有する、実施形態３４の光学アセンブリである。

実施形態３７は、光学素子が光学フィルム上に直接的に射出インサート成形され、第１の光学素子の溶融温度が光学フィルムのガラス転移温度よりも少なくとも約５０℃高い、実施形態３３の光学アセンブリである。

実施形態３８は、
一体的に形成された多層光学フィルムであって、光学フィルムは、主に光干渉によって光を反射又は透過する複数の交互ポリマー層を含み、光学フィルムの総面積の少なくとも９０％にわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して約９０％を超える反射率を有する、多層光学フィルムと、
光学フィルム上に直接的にインサート成形された光学素子であって、光学フィルムは、光学素子に拡散接合されている、光学素子と、を含む、光学アセンブリである。

実施形態３９は、光学素子の溶融温度が、光学フィルムのガラス転移温度よりも実質的に高い、実施形態３８の光学アセンブリである。

実施形態４０は、光学素子の溶融温度が、光学フィルムのガラス転移温度よりも少なくとも約５０℃高い、実施形態３８の光学アセンブリである。

実施形態４１は、第１の光学素子の溶融温度と光学フィルムの溶融温度との間の差の絶対値が約５０℃未満である、実施形態３８の光学アセンブリである。

実施形態４２は、光学素子への光学フィルムの接合が、光学フィルム内の少なくとも１対の直接隣接する層の間の層間接合よりも強い、実施形態３８の光学アセンブリである。

実施形態４３は、光学フィルムが反射偏光子であり、反射偏光子上の各位置は、所定の波長及びブロック偏光状態を有する垂直入射光を実質的に反射し、所定の波長及び直交する通過偏光状態を有する垂直入射光を実質的に透過し、第１の偏光状態は、反射偏光子の中心におけるブロック偏光状態である、実施形態３８の光学アセンブリである。

実施形態４４は、光学フィルム上の各位置が、所定の波長及びブロック偏光状態を有する垂直入射光に対して約１％未満の透過率を有する、実施形態４３の光学アセンブリである。

実施形態４５は、
主に光干渉によって光を反射又は透過する複数の交互ポリマー層を含む光学フィルムであって、光学フィルムの総面積の少なくとも９０％にわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して９０％を超える反射率を有する、光学フィルムと、光学フィルム上に直接的にインサート成形されたレンズであって、レンズは、第１の方向における最大横寸法に沿ってより大きく変化し、かつ、直交する第２の方向における最大横寸法に沿ってより小さく変化する光学リターダンスを有し、レンズ上の各位置における光学リターダンスが約１０ｎｍ以下である、レンズと、を含む、光学アセンブリである。

実施形態４６は、光学フィルムが反射偏光子であり、反射偏光子上の各位置は、所定の波長及びブロック偏光状態を有する垂直入射光を実質的に反射し、所定の波長及び直交する通過偏光状態を有する垂直入射光を実質的に透過する、実施形態４５の光学アセンブリである。

実施形態４７は、光学フィルム上の各位置が、所定の波長及び第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して約５％未満の透過率を有する、実施形態４５の光学アセンブリである。

実施形態４８は、レンズが、光学フィルムと実質的に同一平面になるように光学フィルムの縁部の周囲を少なくとも部分的に包み込む、実施形態４５の光学アセンブリである。

実施形態４９は、光学素子に対する光学フィルムの接合が、光学フィルム内の少なくとも１対の直接隣接する層の間の層間接合よりも強いように、光学フィルムがレンズに拡散接合されている、実施形態４５の光学アセンブリである。

実施形態５０は、
レンズと、
対向する第１の主表面及び第２の主表面を有する多層光学フィルムであって、第１の主表面は、レンズの第１の側面の第１の部分上に配置されており、多層光学フィルムの総面積の少なくとも８０％にわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して約８０％を超える反射率を有する、多層光学フィルムと、を含み、
レンズの第１の側面の第２の部分は、多層光学フィルムの第２の主表面と実質的に同一平面にある、光学アセンブリである。

実施形態５１は、レンズが多層光学フィルム上に直接的に射出成形されている、実施形態５０の光学アセンブリである。

実施形態５２は、レンズが、多層光学フィルムを含む光学積層体上に直接的に射出成形されている、実施形態５０の光学アセンブリである。

実施形態５３は、光学積層体が、多層光学フィルムと一体ではない第１の層を更に備え、多層光学フィルムが、レンズと第１の層との間に配置されている、実施形態５２の光学アセンブリである。

実施形態５４は、第１の層が、光学フィルム、及びレンズの第１の側面の第２の部分にわたって延在する、実施形態５３の光学アセンブリである。

実施形態５５は、第１の層が保護層である、実施形態５３又は５４の光学アセンブリである。

実施形態５６は、保護層が、少なくとも部分的に硬化された組成物を含み、この組成物が、
ａ）成分ａ）〜ｄ）の総重量に基づいて７０〜９０重量％の、３〜９の平均（メタ）アクリレート官能価を有するウレタン（メタ）アクリレート化合物、
ｂ）成分ａ）〜ｄ）の総重量に基づいて５〜２０重量％の、１〜２の（メタ）アクリレート官能価を有する、ウレタン（メタ）アクリレート化合物ではない（メタ）アクリレートモノマー、
ｃ）成分ａ）〜ｄ）の総重量に基づいて０．５〜２重量％のシリコーン（メタ）アクリレート、
及び、ｄ）任意選択の有効量の光開始剤、を含む、実施形態５５の光学アセンブリである。

実施形態５７は、第１の層が、多層光学フィルムに剥離可能に取り付けられたライナーである、実施形態５３又は５４の光学アセンブリである。

実施形態５８は、レンズの第１の側面の第２の部分が、レンズの第１の側面の第１の部分の周辺部を実質的に取り囲んでいる、実施形態５０の光学アセンブリである。

実施形態５９は、レンズに対する光学フィルムの接合が、光学フィルムの少なくとも１対の直接隣接する層の間の層間接合よりも強いように、光学フィルムがレンズに拡散接合されている、実施形態５０の光学アセンブリである。

実施形態６０は、
レンズと、
レンズの主表面上に配置された光学積層体と、を含み、
レンズは、光学積層体の縁部の周囲を少なくとも部分的に包み込む、光学アセンブリである。

実施形態６１は、光学積層体が、主に光干渉によって光を反射又は透過する複数の交互ポリマー層を含む多層光学フィルムを含む、実施形態６０の光学アセンブリである。

実施形態６２は、レンズが、多層光学フィルムの縁部の周囲に少なくとも部分的を包み込んでいる、実施形態６１の光学アセンブリである。

実施形態６３は、レンズが、多層光学フィルムの縁部の周囲を少なくとも部分的に包み込んで、多層光学フィルムと同一平面になる、実施形態６２の光学アセンブリである。

実施形態６４は、光学積層体が、多層光学フィルムと一体ではない追加フィルムを更に含む、実施形態６１の光学アセンブリである。

実施形態６５は、多層光学フィルムが、追加フィルムとレンズとの間に配置されている、実施形態６４の光学アセンブリである。

実施形態６６は、レンズが、追加フィルムの縁部の周囲を包み込んでいない、実施形態６４又は６５の光学アセンブリである。

実施形態６７は、レンズが、追加フィルムの縁部の周囲を少なくとも部分的に包み込んでいる、実施形態６４又は６５の光学アセンブリである。

実施形態６８は、レンズが、追加フィルムの縁部の周囲を少なくとも部分的に包み込んで、追加フィルムと同一平面になる、実施形態６４又は６５の光学アセンブリである。

実施形態６９は、
湾曲した凹部を内部に画定する第１の主表面を有するレンズと、
湾曲した凹部に接着して適合する多層光学フィルムと、を含む、光学アセンブリである。

実施形態７０は、多層光学フィルムが、対向する最も外側の第１の主表面及び第２の主表面を含み、多層光学フィルムの第１の主表面が、湾曲した凹部に接着され、レンズの第１の主表面の一部が、多層光学フィルムの第２の主表面と同一平面である、実施形態６９の光学アセンブリである。

実施形態７１は、多層光学フィルムが、対向する最も外側の第１及び第２の主表面を含み、多層光学フィルムの第１の主表面が、湾曲した凹部に接着され、レンズの第１の主表面の一部が、多層光学フィルムの縁部の周囲を包み込み、かつ、レンズの法線に対して平行な方向に多層光学フィルムの第２の主表面を越えて、レンズの第１の主表面の中心にまで延在する、実施形態６９の光学アセンブリである。

実施形態７２は、レンズの反対側の多層光学フィルム上に配置された追加層を更に備え、追加層が多層光学フィルムと一体ではなく、レンズの第１の主表面の部分が、多層光学フィルムの反対側の追加層の最も外側の主表面と同一平面にある、実施形態７１の光学アセンブリである。

実施形態７３は、レンズに対する光学フィルムの接合が、光学フィルムの少なくとも１対の直接隣接する層の間の層間接合よりも強いように、光学フィルムがレンズに拡散接合されている、実施形態６９の光学アセンブリである。

実施形態７４は、多層光学フィルムの総面積の少なくとも８０％にわたる各位置が、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して約８０％を超える反射率を有する、実施形態６９の光学アセンブリである。

実施形態７５は、
光学フィルムであって、光学フィルムの総面積の少なくとも８０％にわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して約８０％を超える反射率を有する、光学フィルムと、
光学フィルム上に直接的に射出成形されたレンズであって、レンズは、レンズの主表面の少なくとも８０％にわたる各位置において約１０ｎｍ以下の光学リターダンスを有し、第１のレンズ位置におけるレンズ厚は、第２のレンズ位置におけるレンズ厚よりも少なくとも約２０％大きい、レンズと、を含む、光学アセンブリである。

実施形態７６は、光学フィルムが複数の交互ポリマー層を含み、レンズに対する光学フィルムの接合が、複数の交互ポリマー層内の少なくとも１対の直接隣接する層の間の層間接合よりも強いように、光学フィルムがレンズに拡散接合されている、実施形態７５の光学アセンブリである。

実施例１：ＡＰＦ上へのレンズのインサート成形
多層光学フィルム反射偏光子（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）から入手可能な高度偏光フィルム（Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｐｏｌａｒｉｚｉｎｇ ｆｉｌｍ（ＡＰＦ）））を、米国特許第９，５５７，５６８号（Ｏｕｄｅｒｋｉｒｋら）に概して記載されているように、８ベースレンズ形状に熱成形した。

光学フィルムインサート成形を、８ベースレンズブランク射出成形型を使用して、Ｋｒａｕｓｓ Ｍａｆｆｅｉ ６５トン射出成形機で行った。熱成形した光学フィルムを、射出成形ツールに適合するように正確サイズにトリミングし、次いで成形ツールの凸側に配置した。次に、９９℃の成形ツールキャビティ内に、２７６℃の温度で射出された、ＰＭＭＡ成形材料（Ｏｐｔｉｍａｓ ７５００，Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ Ｇａｓ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｉｎｃ）を使用して、射出成形プロセスを実行した。得られた光学アセンブリは、総射出成形サイクル時間が６６秒になった後、射出成形機から取り外された。熱成形及び成形プロセスの前後のフィルムの目視検査では、反射率の顕著な変化を示さなかった。

クロスハッチテープ引張試験を使用して、レンズに対するフィルムの結合強度を試験した。これは、レンズ表面上のインサート成形フィルムにクロスハッチパターンで切り込みを入れ、切り込みの入ったクロスハッチフィルム表面上にテープを接着して、テープを表面から引き剥がすことによって行った。多層光学フィルムの一部がテープで除去されて、多層光学フィルムが分離され、別の部分がレンズ上に残ることが見出された。ＰＭＭＡ成形材料が、ポリカーボネートとコポリエステルとのブレンド（ＰＣ：ｃｏＰＥＴ）であるＡＰＦフィルムの外層に強く接合したと結論付けられた。比較のために、環状オレフィン樹脂を同様のプロセスで熱成形ＡＰＦに射出成形し、上述のように接着性を試験した。レンズ上に光学フィルムを残さずに、ＡＰＦがテープで完全に除去されたことが見出された。

射出成形によって作製されたレンズのリターダンスを判定するために、光学フィルムなしで上述のようにレンズを形成し、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ ＡｘｏＳｃａｎ（商標）Ｍｕｌｌｅｒマトリクス偏光計（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ，Ｉｎｃ．（Ｈｕｎｔｓｖｉｌｌｅ，ＡＬ）から入手可能）を使用してリターダンスを測定した。レンズは、約２ｍｍのほぼ一定の厚さ、３６ｍｍの曲率半径、及び７０ｍｍの直径を有した。極角と方位角との関数としてのｎｍ単位のリターダンスを（レンズの頂点から測定した極角の球面座標を使用して）表１に示す。５５０ｎｍの波長を使用し、その結果を２０回のスキャンにわたって平均化した。結果の再現性を判定するために重複ポイントを測定した（例えば、４８度の極角及び０度の方位角は、マイナス４８度の極角及び１８０度の方位角に相当する）。リターダンスは、ゲート側（約−４８度の偏光角及び約０度の方位角）からレンズの反対側への方向でより大きく変化し、直交方向ではあまり変化しなかった。リターダンスは、ゲート付近の小さい領域において１０ｎｍより高く、レンズの少なくとも８０％にわたって１０ｎｍ未満であった。アニール時間がより長くなると、ゲート付近のリターダンスを低下させ、それによってレンズ全体でリターダンスが１０ｎｍ未満になると考えられる。

実施例２：ＡＰＦ及びライナーの光学積層体上へのレンズのインサート成形
光学積層体は、米国特許第９，５５７，５６８号（Ｏｕｄｅｒｋｉｒｋら）に概して記載されているように、８ベースレンズ形状に熱成形した。光学積層体は、ＡＰＦの各主表面上に保護フィルムライナー（ＯＣＰＥＴ ＮＳＡ３３Ｔ、Ｓｕｎ Ａ Ｋａｋｅｎ Ｃｏ，Ｌｔｄ）が配置された、多層光学フィルム反射偏光子（ＡＰＦ）であった。ライナーはＡＰＦと位置合わせされ、ＡＰＦの縁部を越えて延在しなかった。

光学積層体インサート成形は、８ベースレンズブランク射出成形ツールを使用して、Ｋｒａｕｓｓ Ｍａｆｆｅｉ ６５トン射出成形機で行った。熱成形した光学積層体を、射出成形ツールに適合するように正確なサイズにトリミングし、ライナーのうちの１つを除去した。次いで熱成形した光学積層体を、成形ツールの凸側上に配置し、残りのライナーを成形型キャビティから離れる方向に向けた。次に、８２℃の成形ツールキャビティ内に、２６８℃の温度で射出された、ＰＭＭＡ成形材料（Ｏｐｔｉｍａｓ ７５００，Ｍｉｔｓｕｂｉｓｈｉ Ｇａｓ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｉｎｃ）を使用して、射出成形プロセスを実行した。得られた光学アセンブリは、総射出成形サイクル時間が６６秒になった後、射出成形機から取り外された。

レンズに対するフィルムの結合強度を、実施例１と同様に試験した。多層光学フィルムの一部がテープで除去されて、多層光学フィルムが分離され、別の部分がレンズ上に残ることが見出された。

図中の要素の説明は、別段の指示がない限り、他の図中の対応する要素に等しく適用されるものと理解されたい。具体的な実施形態を本明細書において例示し記述したが、様々な代替及び／又は同等の実施により、図示及び記載した具体的な実施形態を、本開示の範囲を逸脱することなく置き換え可能であることが、当業者には理解されるであろう。本出願は、本明細書において説明した具体的な実施形態のあらゆる適合例又は変形例を包含することを意図する。したがって、本開示は、特許請求の範囲及びその同等物によってのみ限定されるものとする。

前述の参照文献、特許、又は特許出願はいずれも、一貫した方法でそれらの全体を参照することにより本明細書に組み込まれる。組み込まれた参照文献の一部と本出願との間に不一致又は矛盾がある場合、前述の記載における情報が優先するものとする。

Claims (15)

1. 光学積層体上に直接的にインサート成形された光学素子を含む光学アセンブリであって、前記光学積層体は、光学フィルム及びライナーを含み、前記光学フィルムは、前記光学素子と前記ライナーとの間に配置されており、
   前記ライナーは、前記光学フィルムを実質的に損傷することなく、前記光学フィルムから除去可能である、光学アセンブリ。
2. 前記光学フィルムは、主に光干渉によって光を反射又は透過する複数の交互ポリマー層を含む、請求項１に記載の光学アセンブリ。
3. 前記光学素子は、前記光学積層体上に直接的に射出インサート成形されている、請求項１に記載の光学アセンブリ。
4. 前記光学素子の溶融温度は、前記光学フィルムのガラス転移温度よりも実質的に高い、請求項３に記載の光学アセンブリ。
5. 光学素子の溶融温度は、前記光学フィルムの溶融温度とほぼ同じである、請求項３に記載の光学アセンブリ。
6. 前記光学フィルムと前記ライナーとの間の前記光学フィルム上に、保護コーティングが配置されており、前記保護コーティングは、少なくとも部分的に硬化された組成物を含み、前記組成物は、
   ａ）成分ａ）〜ｄ）の総重量に基づいて７０〜９０重量％の、３〜９の平均（メタ）アクリレート官能価を有するウレタン（メタ）アクリレート化合物、
   ｂ）成分ａ）〜ｄ）の総重量に基づいて５〜２０重量％の、１〜２の（メタ）アクリレート官能価を有する、ウレタン（メタ）アクリレート化合物ではない（メタ）アクリレートモノマー、
   ｃ）成分ａ）〜ｄ）の総重量に基づいて０．５〜２重量％のシリコーン（メタ）アクリレート、
   及び、ｄ）任意選択の有効量の光開始剤、
   を含む、請求項１に記載の光学アセンブリ。
7. 光学アセンブリであって、
   一体的に形成された多層光学フィルムと、
   前記光学フィルム上に直接的に射出インサート成形された第１の光学素子であって、前記光学フィルムは、主に光干渉によって光を反射又は透過する複数の交互ポリマー層を含み、前記光学フィルムの総面積の少なくとも８０％にわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して約８０％を超える反射率を有する、第１の光学素子と、を含み、
   前記第１の光学素子の溶融温度は、前記光学フィルムのガラス転移温度よりも実質的に高い、光学アセンブリ。
8. 前記第１の光学素子の前記溶融温度は、前記光学フィルムの前記ガラス転移温度よりも少なくとも約５０℃高い、請求項７に記載の光学アセンブリ。
9. 光学アセンブリであって、
   一体的に形成された多層光学フィルムであって、前記光学フィルムは、主に光干渉によって光を反射又は透過する複数の交互ポリマー層を含む、多層光学フィルムと、
   前記光学フィルム上に直接的にインサート成形された光学素子であって、前記光学フィルムは、前記光学素子に拡散接合されている、光学素子と、を含み、
   前記光学素子への前記光学フィルムの前記接合は、前記光学フィルム内の少なくとも１対の直接隣接する層の間の層間接合よりも強い、光学アセンブリ。
10. 光学アセンブリであって、
    一体的に形成された多層光学フィルムであって、前記光学フィルムは、主に光干渉によって光を反射又は透過する複数の交互ポリマー層を含み、前記光学フィルムの総面積の少なくとも９０％にわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して約９０％を超える反射率を有する、多層光学フィルムと、
    前記光学フィルム上に直接的にインサート成形された光学素子であって、前記光学フィルムは、前記光学素子に拡散接合されている、光学素子と、
    を含む、光学アセンブリ。
11. 光学アセンブリであって、
    主に光干渉によって光を反射又は透過する複数の交互ポリマー層を含む光学フィルムであって、前記光学フィルムの総面積の少なくとも９０％にわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して９０％を超える反射率を有する、光学フィルムと、
    前記光学フィルム上に直接的にインサート成形されたレンズであって、第１の方向における最大横寸法に沿ってより大きく変化し、かつ、直交する第２の方向における最大横寸法に沿ってより小さく変化する光学リターダンスを有し、前記レンズ上の各位置における前記光学リターダンスが約１０ｎｍ以下である、レンズと、
    を含む、光学アセンブリ。
12. 光学アセンブリであって、
    レンズと、
    対向する第１の主表面及び第２の主表面を有する多層光学フィルムであって、前記第１の主表面は、前記レンズの第１の側面の第１の部分上に配置されており、前記多層光学フィルムの総面積の少なくとも８０％にわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して約８０％を超える反射率を有する、多層光学フィルムと、を含み、
    前記レンズの前記第１の側面の第２の部分は、前記多層光学フィルムの前記第２の主表面と実質的に同一平面にある、光学アセンブリ。
13. 光学アセンブリであって、
    レンズと、
    前記レンズの主表面上に配置された光学積層体と、を含み、
    前記レンズは、前記光学積層体の縁部の周囲を少なくとも部分的に包み込む、光学アセンブリ。
14. 光学アセンブリであって、
    湾曲した凹部を内部に画定する第１の主表面を有するレンズと、
    前記湾曲した凹部に接着して適合する多層光学フィルムと、
    を含む、光学アセンブリ。
15. 光学アセンブリであって、
    光学フィルムであって、前記光学フィルムの総面積の少なくとも８０％にわたる各位置は、同じ所定の波長及び同じ第１の偏光状態を有する垂直入射光に対して約８０％を超える反射率を有する、光学フィルムと、
    前記光学フィルム上に直接的に射出成形されたレンズであって、前記レンズは、前記レンズの主表面の少なくとも８０％にわたる各位置において約１０ｎｍ以下の光学リターダンスを有し、第１のレンズ位置におけるレンズ厚は、第２のレンズ位置におけるレンズ厚よりも少なくとも約２０％大きい、レンズと、
    を含む、光学アセンブリ。

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