JP2021193068A - 植物病害防除剤 - Google Patents

Abstract

【課題】 植物に抵抗性を誘導することを特徴とする置換ピリジン化合物、及びそれらを有効成分とする、薬害が軽減された植物病害防除剤、及び植物病害防除方法を提供する。【解決手段】 下記式（１）で示される化合物、及びそれらを有効成分として含有する植物病害防除剤。【化１】【選択図】なし

Description

本発明は、植物病害防除剤に関する。より詳細には、本発明は、植物病害防除剤、新規化合物及び植物病害防除方法に関する。

植物は、外部の病原菌による攻撃に対して、物理的及び化学的な抵抗性機構を進化の過程で獲得してきた。物理的な抵抗性機構とは、例えば、ワックス層やクチクラ層等の被覆物、あるいは細胞壁であり、病原菌の進入障壁となるものである。一方、化学的な抵抗性機構とは、病原菌の生育を阻害するシステムであり、例えば、植物に先天的に蓄積された抵抗性因子や、誘導的に生合成及び蓄積された抵抗性因子が挙げられる。

近年、植物を病害ストレスから守るために、外部から薬剤を投与して、化学的な抵抗性機構を活性化させ、植物の耐性を向上させる試みがなされている。このような薬剤は抵抗性誘導剤と呼ぶことができ、これまでに種々の誘導剤が検討されてきた。例えば、サリチル酸やアセチルサリチル酸でタバコを処理することにより、タバコモザイクウイルス（ＴＭＶ）に対する抵抗性が誘導されることが明らかにされている（非特許文献１参照）。

このように植物の抵抗性を誘導して植物病原菌あるいは植物病原細菌の感染から植物を保護することは、健全な植物を成育し、食料を確保する点で非常に有用である。

塩素置換ピリジン化合物に関しては、植物病害防除効果があることが開示されている（特許文献１〜７）。しかし、上記化合物においては、薬害が発生する場合があること、植物病害防除効果が弱い場合があることが知られている。またフッ素置換ピリジン化合物に関しては、類似の植物病害防除剤が開示されている（特許文献８〜１２）が、本発明の植物病害防除剤に関する具体的な記載はない。

特開昭６２−２７７３６１号公報 特開昭６３−９３７６６号公報 特開平１−２８３２７０号公報 特開平９−１６５３７４号公報 特開平１０−９５７７２号公報 特開平１１−１７１８６４号公報 国際公開第２００５−６８４３０号 国際公開第２００８−０９８９２８号 国際公開第９６−０３０４７号 特開平１−２７２５６９号公報 国際公開第２００９−１１３０５号 国際公開第２０１４−１２４９８８号

R.F.White, Acetylsalicylic acid (aspirin) induces resistance to tobacco mosaic virus in tobacco, Virology, 99, 410 (1979)

本発明は、薬害が軽減された植物病害防除剤、新規化合物及び植物病害防除方法を提供することを課題とする。

本発明者はハロゲン置換ピリジン化合物について詳細に検討した結果、植物病原菌に対して直接抗菌活性を示さずに薬害が軽減され、高い抵抗性誘導活性を示す化合物があることを見出し、本発明を完成させた。

本発明は以下の態様を含む。
［１］下記式（１）で示される化合物（但し、下記式（２）中、Ａａが 下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、又は下記Ｄ群の基、ベンジル基、フェニル基及びフェノキシ基からなる群から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいフェニル基を示し、Ｇがメチル基を示す化合物を除く。）。

［式（１）中、Ｘ¹及びＸ⁴は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、塩素原子又はトリフルオロメチル基を示し、Ｘ¹及びＸ⁴のいずれか１つはフッ素原子、塩素原子又はトリフルオロメチル基を示し、Ｘ²及びＸ³は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、塩素原子又はメチル基であり、
Ｘ^aは下記式（２）又は（３）で示される基であり、

式（２）中、Ｊａ、Ｊｂは同一または異なっていてもよく酸素原子又は硫黄原子を示し、
Ｇは、
下記Ｃ群の基、チオール基、メトキシカルボニル基及びＮ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基からなる群から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、
下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数２〜８のアルケニル基、
下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数２〜８のアルキニル基、
下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキルカルボニル基、
下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキルオキシ基、
下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキルスルホニル基、
下記Ｄ群の基、ベンジル基、フェニル基及びフェノキシ基からなる群から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいフェニルカルボニル基、
下記Ｄ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいフェニルスルホニル基、
下記Ｄ群の基、フェノキシ基及びベンジル基からなる群から選ばれる１〜５個の基で置換されていてもよいフェニル基、
５，６，７，８−テトラヒドロナフチル基、
ナフチル基、又は
下記Ｄ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいヘテロ環基（ここで、ヘテロ環基は下記Ｅ群から選ばれる基である。）を示し、
Ａａは、
下記Ｃ群の基、チオール基、メトキシカルボニル基及びＮ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基からなる群から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、
下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数２〜８のアルケニル基、
下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数２〜８のアルキニル基、
下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキルオキシ基（但し、Ｘ¹が塩素原子であり、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴が水素原子であり、Ｊａ及びＪｂが同時に酸素原子であり、Ｇが炭素数１〜４のアルキル基である場合を除く。）、
下記Ｄ群の基、フェノキシ基及びベンジル基からなる群から選ばれる１〜５個の基で置換されていてもよいフェニル基、
５，６，７，８−テトラヒドロナフチル基、
ナフチル基、又は
下記Ｄ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいヘテロ環基（ここで、ヘテロ環基は下記Ｅ群から選ばれる基である。）を示し、
式（３）中、Ｑは、酸素原子、硫黄原子、式：−ＮＨ−で示される２価の基又は式：−Ｎ（ＣＨ₃）−で示される２価の基を示し、
Ａｂは、
下記Ｄ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいフェニル基（但し、Ｘ¹及びＸ⁴が塩素原子であり、Ｘ²及びＸ³が水素原子であり、Ｑが酸素原子である場合、Ａｂは、「アミノ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、アセトキシ基、ニトロ基及びシアノ基」からなる群から選択される１個の基のみで置換されたフェニル基、又は１〜２個のハロゲン原子のみで置換されたフェニル基を示さない。）、又は
下記Ｄ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいヘテロ環基（ここで、ヘテロ環基は下記Ｅ群から選ばれる基である。但し、Ｘ¹及びＸ⁴が塩素原子であり、Ｘ²及びＸ³が水素原子であり、Ｑが酸素原子である場合、Ａｂは２−チエニル基、３−フラニル基ピリジン−４-イル基、２-メチルピリジン−３−イル基又は２-シアノピリジン−３−イル基を示さない。）を示し、
Ｃ群は、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、５−メチル−１，３−ジオキソール−２−オン−４−イル基、フェニルカルボニル基、下記Ｄ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよいピリジル基、及び下記Ｄ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいフェニル基からなる群であり、
Ｄ群は、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、メチルチオ基、１〜３個のハロゲン原子により置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基、１〜３個のハロゲン原子により置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキルオキシ基、炭素数１〜４のアルキルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルアミノカルボニル基、アセトキシ基、ニトロ基、及びシアノ基からなる群であり、
Ｅ群は、ピリジル基、チアゾリル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、イソチアゾリジル基、イソキサゾリル基、ピリミジニル基、ベンズイミダゾリル基、チエニル基、フラニル基、ベンゾオキサニル基、２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］［１，４］ジオキシン−６−イル基、ジヒドロチアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、（１，１−ジオキドベンゾ［ｄ］イソチアゾール−３−イル）オキシ基、ジベンゾフラニル基、イソチアゾリル基、及びトリアゾリル基からなる群である。］
［２］前記式（１）中、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴が水素原子、フッ素原子又は塩素原子である、［１］に記載の化合物。
［３］前記式（１）中、Ｘ¹及びＸ⁴が同一でフッ素原子又は塩素原子を示し、Ｘ²及びＸ³が水素原子である、［１］に記載の化合物。
［４］前記式（２）中、Ｊａ及びＪｂが酸素原子である［１］〜［３］のいずれかに記載の化合物。
［５］前記式（３）中、Ｑが酸素原子である、［１］〜［３］のいずれかに記載の化合物。
［６］前記式（３）中、Ｑが酸素原子であり、ＡｂがＤ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいヘテロ環基（ここで、ヘテロ環基はＥ群から選ばれる基である。）である、［１］〜［３］のいずれかに記載の化合物。
［７］［１］〜［６］のいずれかに記載の化合物の少なくとも１つを有効成分として含有する植物病害防除剤。
［８］［１］〜［６］のいずれかに記載の化合物又は［７］に記載の植物病害防除剤を植物への茎葉部、土壌、イネを成育させる田面水、植物を成育する担体、水耕栽培の水（栄養分を含んでいてもよい）、植物の根、根茎、塊茎、球根、発芽した植物あるいは種子に処理する植物病害防除方法。

本発明によれば、薬害が軽減された植物病害防除剤、新規化合物及び植物病害防除方法を提供することができる。本発明の植物病害防除剤及び新規化合物は、優れた抵抗性誘導活性を有しており、植物病害の防除に有用である。

１実施形態において、本発明は、下記式（１）で示される化合物を提供する。また、１実施形態において、本発明は、下記式（１）で示される化合物（但し、下記式（２）中、Ａａが 下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、又は下記Ｄ群の基、ベンジル基、フェニル基及びフェノキシ基からなる群から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいフェニル基を示し、Ｇがメチル基を示す化合物を除く。）を有効成分として含有する植物病害防除剤を提供する。

式（１）中、Ｘ¹及びＸ⁴は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、塩素原子又はトリフルオロメチル基を示し、Ｘ¹及びＸ⁴のいずれか１つはフッ素原子、塩素原子又はトリフルオロメチル基を示し、Ｘ²及びＸ³は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、塩素原子又はメチル基である。

式（１）中、Ｘ¹及びＸ⁴は、フッ素原子又は塩素原子であることが好ましく、Ｘ²及びＸ³は水素原子であることが好ましい。

式（１）中、Ｘ^aは下記式（２）又は（３）で示される基である。

式（２）中、Ｊａ、Ｊｂは同一または異なっていてもよく酸素原子又は硫黄原子を示す。また、式（２）中、Ｇは、下記Ｃ群の基、チオール基、メトキシカルボニル基及びＮ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基からなる群から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数２〜８のアルケニル基、下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数２〜８のアルキニル基、下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキルカルボニル基、下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキルオキシ基、下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキルスルホニル基、下記Ｄ群の基、ベンジル基、フェニル基及びフェノキシ基からなる群から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいフェニルカルボニル基、下記Ｄ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいフェニルスルホニル基、下記Ｄ群の基、フェノキシ基及びベンジル基からなる群から選ばれる１〜５個の基で置換されていてもよいフェニル基、５，６，７，８−テトラヒドロナフチル基、ナフチル基、又は下記Ｄ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいヘテロ環基（ここで、ヘテロ環基は下記Ｅ群から選ばれる基である。）で示される基である。

式（２）中、Ａａは、下記Ｃ群の基、チオール基、メトキシカルボニル基及びＮ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基からなる群から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数２〜８のアルケニル基、下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数２〜８のアルキニル基、下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキルオキシ基（但し、Ｘ¹が塩素原子であり、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴が水素原子であり、Ｊａ及びＪｂが同時に酸素原子であり、Ｇが炭素数１〜４のアルキル基である場合を除く。）、下記Ｄ群の基、フェノキシ基及びベンジル基からなる群から選ばれる１〜５個の基で置換されていてもよいフェニル基、５，６，７，８−テトラヒドロナフチル基、ナフチル基、又は下記Ｄ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいヘテロ環基（ここで、ヘテロ環基は下記Ｅ群から選ばれる基である。）で示される基である。

式（３）中、Ｑは、酸素原子、硫黄原子、式：−ＮＨ−で示される２価の基又は式：−Ｎ（ＣＨ₃）−で示される２価の基を示す。

式（３）中、Ａｂは、下記Ｄ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいフェニル基（但し、Ｘ¹及びＸ⁴が塩素原子であり、Ｘ²及びＸ³が水素原子であり、Ｑが酸素原子である場合、Ａｂは、「アミノ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、アセトキシ基、ニトロ基及びシアノ基」からなる群から選択される１個の基のみで置換されたフェニル基、又は１〜２個のハロゲン原子のみで置換されたフェニル基を示さない。）、又は、下記Ｄ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいヘテロ環基（ここで、ヘテロ環基は下記Ｅ群から選ばれる基である。但し、Ｘ¹及びＸ⁴が塩素原子であり、Ｘ²及びＸ³が水素原子であり、Ｑが酸素原子である場合、Ａｂは２−チエニル基、３−フラニル基ピリジン−４-イル基、２-メチルピリジン−３−イル基又は２-シアノピリジン−３−イル基を示さない。）を示す。

Ｃ群は、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、５−メチル−１，３−ジオキソール−２−オン−４−イル基、フェニルカルボニル基、下記Ｄ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよいピリジル基、及び下記Ｄ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいフェニル基からなる群である。

Ｄ群は、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、メチルチオ基、１〜３個のハロゲン原子により置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基、１〜３個のハロゲン原子により置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキルオキシ基、炭素数１〜４のアルキルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルアミノカルボニル基、アセトキシ基、ニトロ基、及びシアノ基からなる群である。

Ｅ群は、ピリジル基、チアゾリル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、イソチアゾリジル基、イソキサゾリル基、ピリミジニル基、ベンズイミダゾリル基、チエニル基、フラニル基、ベンゾオキサニル基、２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］［１，４］ジオキシン−６−イル基、ジヒドロチアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、（１，１−ジオキドベンゾ［ｄ］イソチアゾール−３−イル）オキシ基、ジベンゾフラニル基、イソチアゾリル基、及びトリアゾリル基からなる群である。

本実施形態において、炭素数１〜１２のアルキル基とは、炭素数１〜１２の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基を意味する。炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロプロピル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基等が挙げられる。

炭素数２〜８のアルケニル基とは、炭素数２〜８のアルキル基の任意の位置に１個以上の二重結合を有する直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルケニル基を意味する。炭素数２〜８のアルケニル基としては、例えば、エテニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、イソプロペニル基、３−ブテニル基、４−ペンテニル基、５−ヘキセニル基、１−シクロヘキセニル基等が挙げられ、好ましくは、２−プロペニル基である。

炭素数２〜８のアルキニル基とは、炭素数２〜８のアルキル基の任意の位置に１個以上の三重結合を有する直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキニル基を意味する。炭素数２〜８のアルキニル基としては、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、３−ブチニル基、シクロプロピルエチニル基等が挙げられ、好ましくは、２−プロピニル基である。

炭素数１〜４のアルキルオキシ基とは、炭素数１〜４の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基で置換された酸素原子からなる基を意味する。炭素数１〜４のアルキルオキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基等が挙げられ、好ましくは、メトキシ基である。

炭素数１〜８のアルキルカルボニル基とは、炭素数１〜８の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基で置換されたカルボニル基を意味する。炭素数１〜８のアルキルカルボニル基としては、例えば、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、イソブチルカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル基、ｎ−オクチルカルボニル基、シクロプロピルカルボニル基、シクロブチルカルボニル基、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基等が挙げられる。

炭素数１〜８のアルキルスルホニル基とは、炭素数１〜８の直鎖状、分枝鎖状又は環状のアルキル基で置換されたスルホニル基を意味する。炭素数１〜８のアルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基、ｎ−オクチルスルホニル基、シクロプロピルスルホニル基、シクロブチルスルホニル基、シクロペンチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基等が挙げられる。

５，６，７，８−テトラヒドロナフチル基としては、例えば５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−１−イル基、５，６，７，８−テトラヒドロナフタレン−２−イル基等が挙げられる。

ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。

本明細書において、特に断りがない場合、構造式中の原子及び／又は基を結合する記号「−」は単結合を示し、「＝」は二重結合を示す。例えば、式（２）において記号「−」は全て単結合を示し、記号「＝」は全て二重結合を示す。

Ｄ群において、１〜３個のハロゲン原子により置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基とは、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。

Ｄ群において、１〜３個のハロゲン原子により置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキルオキシ基とは、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、トリフルオロメチルオキシ基、クロロメチルオキシ基等が挙げられる。

式（２）において、Ａａのより好ましい態様は、Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基；Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数２〜３のアルケニル基；Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数２〜３のアルキニル基；Ｄ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよいフェニル基；又はＤ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいヘテロ環基である。

式（２）において、Ｊａ及びＪｂのより好ましい態様は、酸素原子である。

式（１）で示される化合物は、水和物又は任意の溶媒和物として存在する場合があるが、これらの水和物又は溶媒和物も本実施形態に包含される。また、式（１）で示される化合物は、不斉炭素を有する場合があるが、これらの不斉炭素は任意の立体配置であってもよい。これらの不斉炭素に基づく純粋な形態の光学異性体又はジアステレオ異性体等の立体異性体、任意の立体異性体の混合物、ラセミ体等はいずれも本実施形態に包含される。また、式（１）で示される化合物は、１以上の二重結合を有する場合があり、二重結合又は環構造に由来する幾何異性体も存在する場合がある。純粋な形態の任意の幾何異性体又は任意の幾何異性体の混合物も本実施形態に包含されることはいうまでもない。

次に本実施形態の化合物の製造法について説明する。本実施形態の化合物は、例えば以下のＡ〜Ｋの方法にしたがって製造されるが、本実施形態化合物の製造方法はこれらに限定されるものではない。

［Ａ法］

式（１）で示される化合物のうち式（２’）で示される化合物は、式（５１）の化合物（式（５１）中、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴は、式（１）における定義に同じである。）と式（５２）の化合物（式（５２）中、Ｇは、式（２）における定義に同じである。）より得られる式（５３）の化合物と式（５４）の化合物（式（５４）中、Ａａは、式（２）における定義に同じであり、Ｊｂは酸素原子又は硫黄原子を示す。）を反応させることにより製造される。

まず第１工程において、式（５１）の化合物と式（５２）の化合物を塩基の存在下又は非存在下、縮合剤存在下で反応させることにより式（５３）の化合物を製造する。

出発原料である式（５１）で示される化合物としては、市販されている試薬を用いてもよいし、合成した化合物を用いてもよい。式（５１）で示される化合物は、例えば、特開昭６３−９３７６６号公報、特開平１−２８３２７０号公報、Ｒ．Ｅ．Ｂａｎｋｓ，ｅｔ ａｌ．，Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ ｐｏｌｙｆｌｕｏｒｏ−ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ．Ｐａｒｔ ＸＩＩ．Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ａｎｄ ｓｏｍｅ ｒｅａｃｔｉｏｎｓ ｏｆ ２，３，５，６−ｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏ−４−ｉｏｄｏｐｙｒｉｄｉｎｅ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（Ｃ），２０９１−２０９５（１９６７）等に記載された方法で合成することができる。

反応に用いられる溶媒は、例えばジクロロメタン、クロロホルム、アセトニトリル、酢酸エチル、トルエン、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン及びジメチルスルホキシド等が挙げられる。

反応に用いられる縮合剤は、例えば１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等が挙げられる。

反応に用いられる塩基は、例えば４−ジメチルアミノピリジンが挙げられる。塩基の使用量はカルボン酸（５１）を基準に０．０１〜１．２当量の範囲である。

縮合剤の使用量はカルボン酸（５１）を基準に１．０〜１．２当量の範囲である。

式（５２）で示される化合物の使用量は式（５１）で示される化合物を基準に、１〜５当量の範囲である。

反応温度は例えば０〜６０℃の範囲で選択され、好ましくは１０〜４０℃の範囲である。反応時間は例えば１０分〜２４時間の範囲であり、好ましくは３０分〜４時間の範囲である。

次に、第２工程において、式（５３）の化合物と式（５４）の化合物を塩基存在下で反応させることにより式（２’）で示される化合物を製造することができる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、トルエン、酢酸エチル、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド及びこれらの混合溶媒が挙げられる。

反応に用いられる塩基は、水素化ナトリウム、ｎ−ブチルリチウム、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。塩基の使用量は式（５３）の化合物を基準に１〜１０当量の範囲である。

式（５４）で示される化合物の使用量は式（５３）で示される化合物を基準に、１〜５当量の範囲である。

反応温度は、例えば−７８〜１９０℃の範囲であり、好ましくは１０〜８０℃の範囲である。反応時間は１０分〜６時間の範囲であり、好ましくは３０分〜３時間の範囲である。

［Ｂ法］

式（１）で示される化合物のうち式（２’）で示される化合物は、式（５３）の化合物と式（５５）の化合物（式（５５）中、Ａａは、式（２）における定義に同じであり、Ｊｂは酸素原子又は硫黄原子を示す。）を反応させることによっても製造される。

すなわち、式（５３）の化合物と式（５５）の化合物を塩基存在下で反応させることにより式（２’）で示される化合物を製造することができる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、トルエン、酢酸エチル、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド及びこれらの混合溶媒が挙げられる。

反応に用いられる塩基は、水素化ナトリウム、ｎ−ブチルリチウム、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。塩基の使用量は式（５３）の化合物を基準に１〜１０当量の範囲である。

式（５５）で示される化合物の使用量は式（５３）で示される化合物を基準に、１〜５当量の範囲である。

反応温度は、例えば−７８〜１９０℃の範囲であり、好ましくは１０〜８０℃の範囲である。反応時間は１０分〜６時間の範囲であり、好ましくは３０分〜３時間の範囲である。

［Ｃ法］

式（１）で示される化合物のうち式（２’）で示される化合物は、式（５１）の化合物（式（５１）中、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴は、式（１）における定義に同じである。）から式（５６）の化合物（式（５６）中、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴は、式（１）における定義に同じである。）を経由する下記の方法によっても製造できる。

まず第１工程において、式（５１）の化合物を塩素化することにより式（５６）の化合物を製造する。

反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、トルエン、酢酸エチル、ジクロロメタン、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられるが、反応を無溶媒で行うこともできる。

反応に用いられる塩素化剤としては、例えば塩化チオニル、塩化オキザリル等が挙げられる。塩素化剤の使用量は式（５１）の化合物を基準に１〜５当量の範囲である。

反応温度は、例えば−２０〜１００℃の範囲であり、好ましくは１０〜８０℃の範囲である。反応時間は１０分〜２４時間の範囲であり、好ましくは３０分〜４時間の範囲である。

次に、第２工程において、式（５６）の化合物と式（５７）の化合物（式（５７）中、Ａａ及びＧは、式（２）における定義に同じであり、Ｊｂは酸素原子又は硫黄原子を示す。）を塩基存在下で反応させることにより式（２’）で示される化合物を製造することができる。

反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、トルエン、酢酸エチル、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド及びこれらの混合溶媒が挙げられる。

反応に用いられる塩基は、水素化ナトリウム、ｎ−ブチルリチウム、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。塩基の使用量は式（５７）の化合物を基準に１〜１０当量の範囲である。

式（５７）で示される化合物の使用量は式（５６）で示される化合物を基準に、１〜５当量の範囲である。

反応温度は、例えば−７８〜１９０℃の範囲であり、好ましくは１０〜８０℃の範囲である。反応時間は１０分〜６時間の範囲であり、好ましくは３０分〜３時間の範囲である。

［Ｄ法］

式（１）で示される化合物のうち式（２’）で示される化合物は、式（５１）の化合物（式（５１）中、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴は、式（１）における定義に同じである。）から式（５９）の化合物を経由する下記の方法によっても製造できる。

まず第１工程において、式（５１）の化合物と式（５８）の化合物（式（５８）中、Ａａは、式（２）における定義に同じであり、Ｊｂは酸素原子、硫黄原子を示す。）を塩基の存在下又は非存在下、縮合剤存在下で反応させることにより式（５９）の化合物を製造する。

反応に用いられる溶媒は、例えばジクロロメタン、クロロホルム、アセトニトリル、酢酸エチル、トルエン、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン及びジメチルスルホキシド等が挙げられる。

反応に用いられる縮合剤は、例えば１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等が挙げられる。

反応に用いられる塩基は、例えば４−ジメチルアミノピリジンが挙げられる。塩基の使用量はカルボン酸（５１）を基準に０．０１〜１．２当量の範囲である。

縮合剤の使用量はカルボン酸（５１）を基準に１．０〜１．２当量の範囲である。

式（５８）で示される化合物の使用量は式（５１）で示される化合物を基準に、１〜５当量の範囲である。

反応温度は例えば０〜６０℃の範囲で選択され、好ましくは１０〜４０℃の範囲である。反応時間は例えば１０分〜２４時間の範囲であり、好ましくは３０分〜４時間の範囲である。

次に、第２工程において、式（５９）の化合物と式（６０）の化合物（式（６０）中、Ａは、式（２）における定義に同じであり、Ｚはヨウ素、臭素、塩素、ｐ−トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基などの脱離基を示す。）を塩基存在下で反応させることにより式（２’）で示される化合物を製造する。

反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、トルエン、酢酸エチル、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド及びこれらの混合溶媒が挙げられる。

反応に用いられる塩基は、水素化ナトリウム、ｎ−ブチルリチウム、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。塩基の使用量は式（５９）の化合物を基準に１〜１０当量の範囲である。

式（６０）で示される化合物の使用量は式（５９）で示される化合物を基準に、１〜５当量の範囲である。

反応温度は、例えば−７８〜１９０℃の範囲であり、好ましくは１０〜８０℃の範囲である。反応時間は１０分〜６時間の範囲であり、好ましくは３０分〜３時間の範囲である。

［Ｅ法］

式（１）で示される化合物のうち式（２’）で示される化合物は、式（５６）の化合物（式（５６）中、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴は、式（１）における定義に同じである。）から式（５９）の化合物を経由する下記の方法によっても製造できる。

まず第１工程において、式（５６）の化合物と式（５８）の化合物を塩基存在下で反応させることにより式（５９）で示される化合物を製造する。

反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、トルエン、酢酸エチル、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド及びこれらの混合溶媒が挙げられる。

反応に用いられる塩基は、水素化ナトリウム、ｎ−ブチルリチウム、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。塩基の使用量は式（５６）の化合物を基準に１〜１０当量の範囲である。

式（５８）で示される化合物の使用量は式（５６）で示される化合物を基準に、１〜５当量の範囲である。

反応温度は、例えば−７８〜１９０℃の範囲であり、好ましくは１０〜８０℃の範囲である。反応時間は１０分〜６時間の範囲であり、好ましくは３０分〜３時間の範囲である。

次に、第２工程において、式（５９）の化合物と式（６０）の化合物を前記Ｄ法と同様の方法で反応させることにより式（２’）で示される化合物を製造することができる。

［Ｆ法］

式（１）で示される化合物のうち式（３’）で示される化合物は、式（５１）で示される化合物（式（５１）中、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴は、式（１）における定義に同じである。）から式（６１）で示される化合物（式（６１）中、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴は、式（１）における定義に同じである。）を経由する下記の方法により製造することができる。

まず、第１工程において、式（５１）で示される化合物を還元することにより式（６１）で示される化合物を製造する。

反応に用いられる溶媒は、例えばテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、トルエン等が挙げられる。

反応に用いられる還元剤は、例えばボラン−テトラヒドロフラン錯体、ボラン−ジメチルスルフィド錯体等が挙げられる。還元剤の使用量は式（５１）で示される化合物を基準に３〜６当量の範囲である。

反応温度は−２０〜１００℃の範囲であり、好ましくは２０〜８０℃の範囲である。反応時間は１０分〜８時間の範囲であり、好ましくは３０分〜６時間の範囲である。

次に、第２工程において、式（６１）の化合物と式（６２）の化合物（式（６２）中、Ａｂは、式（３）における定義に同じである。）を塩基存在下又は非存在下、縮合剤存在下で反応させることにより式（３'）の化合物を製造する。

反応に用いられる溶媒は、例えばジクロロメタン、クロロホルム、アセトニトリル、酢酸エチル、トルエン、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン及びジメチルスルホキシド等が挙げられる。

反応に用いられる縮合剤は、例えば１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等が挙げられる。

反応に用いられる塩基は、例えば４−ジメチルアミノピリジンが挙げられる。塩基の使用量は式（６１）で示される化合物を基準に０．０１〜１．２当量の範囲である。

縮合剤の使用量は式（６１）で示される化合物を基準に１．０〜１．２当量の範囲である。

式（６２）で示される化合物の使用量は式（６１）で示される化合物を基準に、１〜５当量の範囲である。

反応温度は例えば０〜６０℃の範囲で選択され、好ましくは１０〜４０℃の範囲である。反応時間は例えば１０分〜２４時間の範囲であり、好ましくは３０分〜４時間の範囲である。

［Ｇ法］

式（１）で示される化合物のうち式（３’）で示される化合物は、式（６１）で示される化合物（式（６１）中、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴は、式（１）における定義に同じである。）と式（６３）で示される化合物（式（６３）中、Ａｂは、式（３）における定義に同じである。）を反応させることによっても製造される。

すなわち、式（６１）の化合物と式（６３）の化合物を塩基存在下で反応させることにより式（３'）の化合物を製造する。

反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、トルエン、酢酸エチル、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド及びこれらの混合溶媒が挙げられる。

反応に用いられる塩基は、水素化ナトリウム、ｎ−ブチルリチウム、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。塩基の使用量は式（６１）の化合物を基準に１〜１０当量の範囲である。

式（６３）で示される化合物の使用量は式（６１）で示される化合物を基準に、１〜５当量の範囲である。

反応温度は、例えば−７８〜１９０℃の範囲であり、好ましくは１０〜８０℃の範囲である。反応時間は１０分〜６時間の範囲であり、好ましくは３０分〜３時間の範囲である。

式（１）で示される化合物のうち式（２’’）で示される化合物の具体的な態様を下記表１〜表６に示す。式（２’’）で示される具体的な化合物としては、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴、Ｊａ及びＪｂが下記表１〜表２に示される置換基の組み合わせであり、Ａａが表３〜表４、Ｇが表５〜表６で示される置換基の組み合わせである化合物が挙げられる。

以下、本明細書において、以下の略語を用いる場合がある。
ｎ：ノルマル
ｓｅｃ：セカンダリー
ｔｅｒｔ：ターシャリー

式（１）で示される化合物のうち式（３’）で示される化合物の具体的な態様を下記表７〜表８に示す。

式（３’）で示される具体的な化合物としては、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³、Ｘ⁴及びＱが下記表７〜表８に示される置換基の組み合わせであり、Ａｂが、ピリジル基、チアゾリル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、イソチアゾリジル基、イソキサゾリル基、ピリミジニル基、ベンズイミダゾリル基、チエニル基、フラニル基、ベンゾオキサニル基、２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］［１，４］ジオキシン−６−イル基、ジヒドロチアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基_、（１，１−ジオキドベンゾ［ｄ］イソチアゾール−３−イル）オキシ基、ジベンゾフラニル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、及び３，４−ジクロロ−５−イソチアゾリル基からなる化合物が挙げられる。

［植物病原体］
本実施形態の植物病害防除剤が防除の対象とする植物病原体としては、特に限定されるものではないが、例えば真菌、細菌、ウイルス等が挙げられる。

植物病原真菌としては、例えば、野菜類苗立枯病菌（Ｐｙｔｈｉｕｍ ｕｌｔｉｍｕｍ）、野菜類立枯病菌（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ ｓｏｌａｎｉ）、ウリ類つる割病菌（Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｏｘｙｓｐｏｒｕｍ）、野菜類萎凋病菌（Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｏｘｙｓｐｏｒｕｍ）、ウリ類ホモプシス根腐病菌（Ｐｈｏｍｏｐｓｉｓ ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｉｄｅｓ）、アブラナ科野菜根こぶ病菌（Ｐｌａｓｍｏｄｉｏｐｈｏｒａ ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、ジャガイモ粉状そうか病菌（Ｓｐｏｎｇｏｓｐｏｒａ ｓｕｂｔｅｒｒａｎｅａ）、果樹紫紋羽病菌（Ｈｅｌｉｃｏｂａｓｉｄｕｍ ｍｏｍｐａ）、果樹白紋羽病菌（Ｒｏｓｅｌｌｉｎｉａ ｎｅｃａｔｒｉｘ）、ダイズ白絹病菌（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｕｍ ｒｏｌｆｓｉｉ）、トマト褐色根腐病菌（Ｐｙｒｅｎｏｃｈａｅｔａ ｌｙｃｏｐｅｒｓｉｃｉ）、コムギ条斑病菌（Ｃｅｐｈａｌｏｓｐｏｒｉｕｍ ｇｒａｍｉｎｅｕｍ）、ダイズ落葉病菌（Ｐｈｉａｌｏｐｈｏｒａ ｇｒｅｇａｔａ）、ダイズ茎疫病菌（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ ｓｏｊａｅ）、ダイズ黒根腐病菌（Ｃｙｌｉｎｄｒｏｃｌａｄｉｕｍ ｃｒｏｔａｌａｒｉａｅ）、雪腐褐色小粒菌核病菌（Ｔｙｐｈｕｌａ ｉｎｃａｒｎａｔａ）、雪腐黒色小粒菌核病菌（Ｔｙｐｈｕｌａ ｉｓｈｉｋａｒｉｅｎｓｉｓ）、テンサイ苗立枯病菌（Ａｐｈａｎｏｍｙｃｅｓ ｃｏｃｈｌｉｏｉｄｅｓ）、タバコ黒根病菌（Ｔｈｉｅｌａｖｉｏｐｓｉｓ ｂａｓｉｃｏｌａ）、コムギ立枯病菌（Ｇａｅｕｍａｎｏｎｏｍｙｃｅｓ ｇｒａｍｉｎｉｓ）、ナシ黒斑病菌（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ ａｌｔｅｒｎａｔａ）、ナシ黒斑病菌（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ ｋｉｋｕｔｉａｎａ）、灰色かび病菌（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ ｃｉｎｅｒｅａ）、イネごま葉枯病菌（Ｃｏｃｈｌｉｏｂｏｌｕｓ ｍｉｙａｂｅａｎｕｓ）、ジャガイモ炭疽病菌（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ ａｔｒａｍｅｎｔａｒｉｕｍ）、キュウリ灰色疫病菌（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ ｃａｐｓｉｃｉ）、キュウリ炭疽病菌（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ ｌａｇｅｎａｒｉｕｍ）、トマト萎ちょう病菌（Ｆｕｓａｒｉｕｍ ｏｘｙｓｐｏｒｕｍ ｆ． ｓｐ． ｌｙｃｏｐｅｒｓｉｃｉ）、イネばか苗病菌（Ｇｉｂｂｅｒｅｌｌａ ｆｕｊｉｋｕｒｏｉ）、ブドウべと病菌（Ｐｌａｓｍｏｐａｒａ ｖｉｔｉｃｏｌａ）、ブドウ晩腐病菌（Ｇｌｏｍｅｒｅｌｌａ ｃｉｎｇｕｌａｔａ）、イネいもち病菌（Ｐｙｒｉｃｕｌａｒｉａ ｏｒｙｚａｅ）、イネ苗立枯病菌（Ｐｙｔｈｉｕｍ ｇｒａｍｉｎｉｃｏｌａ）、トマト小粒菌核病菌（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ ｍｉｎｏｒ）、ジャガイモ半身萎ちょう病菌（Ｖｅｒｔｉｃｉｌｌｉｕｍ ａｌｂｏ−ａｔｒｕｍ）、コムギ赤さび病菌（Ｐｕｃｃｉｎｉａ ｒｅｃｏｎｄｉｔａ）、オオムギうどんこ病菌（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ ｇｒａｍｉｎｉｓ）、ジャガイモ疫病菌（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ ｉｎｆｅｓｔａｎｓ）、キュウリべと病菌（Ｐｓｅｕｄｏｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ ｃｕｂｅｎｓｉｓ）、キュウリうどんこ病菌（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ ｆｕｌｉｇｉｎｅａ）、スイカ疫病菌（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ ｃｒｙｐｔｏｇｅａ）、トマト輪紋病菌（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ ｓｏｌａｎｉ）、ダイコン白さび病菌（Ａｌｂｕｒｏ ｍａｃｒｏｓｐｏｒａ）、野菜類菌核病菌（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ）、リンゴ黒星病菌（Ｖｅｎｔｕｒｉａ ｉｎａｅｑｕａｌｉｓ）、モモ灰星病菌（Ｍｏｎｉｌｉｎｉａ ｆｒｕｃｔｉｃｏｌａ）、イチゴ炭疸病菌（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ ｇｌｏｅｏｓｐｏｒｉｏｉｄｅｓ）、ダイズ紫斑病菌（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ ｋｉｋｕｃｈｉｉ）、テンサイ褐斑病菌（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ ｂｅｔｉｃｏｌａ）、コムギふ枯病菌（Ｌｅｐｔｏｓｐｈａｅｒｉａ ｎｏｄｏｒｕｍ）、コムギうどんこ病菌（Ｂｌｕｍｅｒｉａ ｇｒａｍｉｎｉｓ）、キャベツ苗立枯病菌（Ｐｙｔｈｉｕｍ ｚｉｎｇｉｂｅｒｉｓ）、タマネギべと病菌（Ｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ ｄｅｓｔｒｕｃｔｏｒ）、トウモロコシ斑点病菌（Ｐｈｙｓｏｄｅｒｍａ ｍａｙｄｉｓ）、等が挙げられる。

また、植物病原細菌としては、例えばＰｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ属、Ｅｒｗｉｎｉａ属、Ｐｅｃｔｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ属、Ｘａｎｔｈｏｍｏｎａｓ属、Ｂｕｒｋｈｏｌｄｅｒｉａ属、Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ属、Ｒａｌｓｔｏｎｉａ属、Ｃｌａｖｉｂａｃｔｅｒ属、Ｒｈｉｚｏｍｏｎａｓ属、Ａｇｒｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ属、Ｂａｃｉｌｌｕｓ属、Ｃｌｏｓｔｒｉｄｉｕｍ属、Ｃｕｒｔｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ属、Ｐａｎｔｏｅａ属、Ａｃｉｄｏｖｏｒａｘ属、Ａｒｔｈｒｏｂａｃｔｅｒ属、Ｒｈｏｄｏｃｏｃｃｕｓ属等が挙げられる。前記植物病原細菌の好ましい例としては、Ｘａｎｔｈｏｍｏｎａｓ属が挙げられ、前記Ｘａｎｔｈｏｍｏｎａｓ属の中でもイネ白葉枯病菌（Ｘａｎｔｈｏｍｏｎａｓ ｏｒｙｚａｅ ｐｖ． Ｏｒｉｚａｅ）が好ましい。

さらに、植物病原ウイルスとしては、ムギ類萎縮ウイルス（Ｓｏｉｌ−ｂｏｒｎｅ ｗｈｅａｔｍｏｓａｉｃ ｖｉｒｕｓ）、ダイズモザイクウイルス（Ｓｏｙｂｅａｎ ｍｏｓａｉｃ ｖｉｒｕｓ）、アルファルファモザイクウイルス（Ａｌｆａｌｆａ ｍｏｓａｉｃ ｖｉｒｕｓ）、ジャガイモ葉巻ウイルス（Ｐｏｔａｔｏ ｌｅａｆ ｒｏｌｌ ｖｉｒｕｓ）、キュウリモザイクウイルス（Ｃｕｃｕｍｂｅｒ ｍｏｓａｉｃ ｖｉｒｕｓ）、タバコモザイクウイルス（Ｔｏｂａｃｃｏ ｍｏｓａｉｃ ｖｉｒｕｓ）等が挙げられる。

本実施形態の植物病害防除剤は、式（１）で示される化合物を有効成分として含有する。本明細書において、「式（１）で示される化合物を１つ以上有効成分として含有する」とは、少なくとも1つの式（１）で示される化合物を、植物病害防除効果が得られる程度の量含有することを意味し、式（１）で表される化合物を、フリー体、水和物、任意の溶媒和物、塩等の形態で活性成分として含むものであれば、その含有量は特に限定されない。

本実施形態の植物病害防除剤を、農園芸用病害防除剤の有効成分として用いる場合には、上述した化合物をそのまま用いてもよいし、農園芸用病害防除剤の常法にしたがって、農園芸用として許容される担体、例えば、固体担体、液体担体、ガス状担体、界面活性剤、分散剤と混合して、乳剤、液剤、懸濁剤、水和剤、粉剤、粒剤、錠剤、油剤、エアゾール、フロアブル剤等の任意の剤型の植物病害防除用組成物（製剤）の形態で用いてもよい。植物病害防除用組成物は、その他の製剤用補助剤を更に含有していてもよい。

使用可能な担体としては、液体担体、固体担体、ガス状担体、界面活性剤、分散剤等が挙げられる。また、製剤用補助剤としては、植物病害防除用組成物に通常用いられるものが挙げられる。

固体担体としては、例えば粘土類（カリオンクレー、珪藻土、ベントナイト、酸性白土等）、合成含水酸化珪素、タルク、セラミック、その他の無機鉱物（セリナイト、石英、硫黄、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ等）等の微粉末や粒状物、でんぷん、乳糖、塩化ビニル系重合体、ポリウレタン等の合成ポリマーが挙げられる。

液体担体としては、例えば、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、グリセリン等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、芳香族炭化水素類（ベンジルアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン等）、脂肪族炭化水素類（パラフィン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ケロシン、灯油等）、エーテル類（ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、エステル類（炭酸プロピレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、安息香酸ベンジル、ミスチリン酸イソプロピル、プロピレングリコールの脂肪酸エステル等）、ニトリル類（アセトニトリル、イソブチロニトリル等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、ハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン、トリクロロエタン、四塩化炭素等）、ダイズ油、綿実油等の動植物油類、ジメチルスルホキシド、シリコーンオイル、高級脂肪酸、グリセロールホルマール、水等が挙げられる。

ガス状担体としてはＬＰＧ、空気、窒素、炭酸ガス、ジメチルエーテル等が挙げられる。

乳化、分散、展着等のための界面活性剤、分散剤としては、例えばアルキル硫酸エステル類、アルキル（アリール）スルホン酸塩類、ポリオキシアルキレンアルキル（アリール）エーテル類、多価アルコールエステル類、リグニンスルホン酸塩等が用いられる。更に、製剤の性状を改善するための補助剤としては、例えばカルボキシメチルセルロース、アラビアガム、ポリエチレングリコール、ステアリン酸カルシウム等が用いられる。

上記の担体、界面活性剤、分散剤、及び補助剤は、必要に応じて各々単独で、あるいは組み合わせて用いることができる。

植物病害防除用組成物中の植物病害防除剤（式（１）で示される化合物）の含有量は、特に限定されず、例えば、乳剤では通常１〜５０質量％、水和剤では通常１〜５０質量％、粉剤では通常０．１〜３０質量％、粒剤では通常０．１〜１５質量％、油剤では通常０．１〜１０質量％、エアゾールでは通常０．１〜１０質量％である。

本実施形態の植物病害防除剤又は植物病害防除用組成物は、そのまま用いてもよく、必要に応じて希釈して用いてもよい。

植物病害防除剤又は植物病害防除用組成物は、他の有害生物防除剤と共に用いることができ、例えば、抵抗性誘導剤及び他の有害生物防除剤を混合して散布してもよいし、別々に時間差を設けて又は同時に散布してもよい。

他の有害生物防除剤としては、例えば、殺虫剤、殺菌剤、殺ダニ剤、除草剤、植物成長調節剤、肥料等が挙げられ、具体的には、例えば、ペスティサイド マニュアル（Ｔｈｅ Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ Ｍａｎｕａｌ、第１３版 Ｔｈｅ Ｂｒｉｔｉｓｈ Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｃｏｕｎｃｉｌ 発行）及びシブヤインデックス（ＳＨＩＢＵＹＡ ＩＮＤＥＸ 第１３版、２００８年、ＳＨＩＢＵＹＡ ＩＮＤＥＸ ＲＥＳＥＡＲＣＨ ＧＲＯＵＰ 発行）に記載のものが挙げられる。

前記殺虫剤としては、例えば、アセフェート（ａｃｅｐｈａｔｅ）、ジクロルボス（ｄｉｃｈｌｏｒｖｏｓ）、ＥＰＮ、フェニトロチオン（ｆｅｎｉｔｒｏｔｈｉｏｎ）、フェナミホス（ｆｅｎａｍｉｆｏｓ）、プロチオホス（ｐｒｏｔｈｉｏｆｏｓ）、プロフェノホス（ｐｒｏｆｅｎｏｆｏｓ）、ピラクロホス（ｐｙｒａｃｌｏｆｏｓ）、クロルピリホスメチル（ｃｈｌｏｒｐｙｒｉｆｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロルフェンビンホス（ｃｈｌｏｒｆｅｎｖｉｎｐｈｏｓ）、デメトン（ｄｅｍｅｔｏｎ）、エチオン（ｅｔｈｉｏｎ）、マラチオン（ｍａｌａｔｈｉｏｎ）、クマホス（ｃｏｕｍａｐｈｏｓ）、イソキサチオン（ｉｓｏｘａｔｈｉｏｎ）、フェンチオン（ｆｅｎｔｈｉｏｎ）、ダイアジノン（ｄｉａｚｉｎｏｎ）、チオジカルブ（ｔｈｉｏｄｉｃａｒｂ）、アルジカルブ（ａｌｄｉｃａｒｂ）、オキサミル（ｏｘａｍｙｌ）、プロポキスル（ｐｒｏｐｏｘｕｒ）、カルバリル（ｃａｒｂａｒｙｌ）、フェノブカルブ（ｆｅｎｏｂｕｃａｒｂ）、エチオフェンカルブ（ｅｔｈｉｏｆｅｎｃａｒｂ）、フェノチオカルブ（ｆｅｎｏｔｈｉｏｃａｒｂ）、ピリミカーブ（ｐｉｒｉｍｉｃａｒｂ）、カルボフラン（ｃａｒｂｏｆｕｒａｎ）、カルボスルファン（ｃａｒｂｏｓｕｌｆａｎ）、フラチオカルブ（ｆｕｒａｔｈｉｏｃａｒｂ）、ヒキンカルブ（ｈｙｑｕｉｎｃａｒｂ）、アラニカルブ（ａｌａｎｙｃａｒｂ）、メソミル（ｍｅｔｈｏｍｙｌ）、ベンフラカルブ（ｂｅｎｆｕｒａｃａｒｂ）、カルタップ（ｃａｒｔａｐ）、チオシクラム（ｔｈｉｏｃｙｃｌａｍ）、ベンスルタップ（ｂｅｎｓｕｌｔａｐ）、ジコホル（ｄｉｃｏｆｏｌ）、テトラジホン（ｔｅｔｒａｄｉｆｏｎ）、アクリナトリン（ａｃｒｉｎａｔｈｒｉｎ）、ビフェントリン（ｂｉｆｅｎｔｈｒｉｎ）、シクロプロトリン（ｃｙｃｌｏｐｒｏｔｈｒｉｎ）、シフルトリン（ｃｙｆｌｕｔｈｒｉｎ）、ジメフルトリン（ｄｉｍｅｆｌｕｔｈｒｉｎ）、エンペントリン（ｅｍｐｅｎｔｈｒｉｎ）、フェンフルトリン（ｆｅｎｆｌｕｔｈｒｉｎ）、フェンプロパトリン（ｆｅｎｐｒｏｐａｔｈｒｉｎ）、イミプロトリン（ｉｍｉｐｒｏｔｈｒｉｎ）、メトフルトリン（ｍｅｔｏｆｌｕｔｈｒｉｎ）、ペルメトリン（ｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、フェノトリン（ｐｈｅｎｏｔｈｒｉｎ）、レスメトリン（ｒｅｓｍｅｔｈｒｉｎ）、テフルトリン（ｔｅｆｌｕｔｈｒｉｎ）、テトラメトリン（ｔｅｔｒａｍｅｔｈｒｉｎ）、トラロメトリン（ｔｒａｌｏｍｅｔｈｒｉｎ）、トランスフルトリン（ｔｒａｎｓｆｌｕｔｈｒｉｎ）、シペルメトリン（ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、デルタメトリン（ｄｅｌｔａｍｅｔｈｒｉｎ）、シハロトリン（ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）、フェンバレレート（ｆｅｎｖａｌｅｒａｔｅ）、フルバリネート（ｆｌｕｖａｌｉｎａｔｅ）、エトフェンプロックス（ｅｔｈｏｆｅｎｐｒｏｘ）、フルフェンプロックス（ｆｌｕｆｅｎｐｒｏｘ）、ハルフェンプロックス（ｈａｌｆｅｎｐｒｏｘ）、シラフルオフェン（ｓｉｌａｆｌｕｏｆｅｎ）、シロマジン（ｃｙｒｏｍａｚｉｎｅ）、ジフルベンズロン（ｄｉｆｌｕｂｅｎｚｕｒｏｎ）、テフルベンズロン（ｔｅｆｌｕｂｅｎｚｕｒｏｎ）、フルシクロクスロン（ｆｌｕｃｙｃｌｏｘｕｒｏｎ）、フルフェノクスロン（ｆｌｕｆｅｎｏｘｕｒｏｎ）、ヘキサフルムロン（ｈｅｘａｆｌｕｍｕｒｏｎ）、ルフェヌロン（ｌｕｆｅｎｕｒｏｎ）、ノバルロン（ｎｏｖａｌｕｒｏｎ）、ペンフルロン（ｐｅｎｆｌｕｒｏｎ）、トリフルムロン（ｔｒｉｆｌｕｍｕｒｏｎ）、クロルフルアズロン（ｃｈｌｏｒｆｌｕａｚｕｒｏｎ）、ジアフェンチウロン（ｄｉａｆｅｎｔｈｉｕｒｏｎ）、メトプレン（ｍｅｔｈｏｐｒｅｎｅ）、フェノキシカルブ（ｆｅｎｏｘｙｃａｒｂ）、ピリプロキシフェン（ｐｙｒｉｐｒｏｘｙｆｅｎ）、ハロフェノジド（ｈａｌｏｆｅｎｏｚｉｄｅ）、テブフェノジド（ｔｅｂｕｆｅｎｏｚｉｄｅ）、メトキシフェノジド（ｍｅｔｈｏｘｙｆｅｎｏｚｉｄｅ）、クロマフェノジド（ｃｈｒｏｍａｆｅｎｏｚｉｄｅ）、ジシクラニル（ｄｉｃｙｃｌａｎｉｌ）、ブプロフェジン（ｂｕｐｒｏｆｅｚｉｎ）、ヘキシチアゾクス（ｈｅｘｙｔｈｉａｚｏｘ）、アミトラズ（ａｍｉｔｒａｚ）、クロルジメホルム（ｃｈｌｏｒｄｉｍｅｆｏｒｍ）、ピリダベン（ｐｙｒｉｄａｂｅｎ）、フェンピロキシメート（ｆｅｎｐｙｒｏｘｙｍａｔｅ）、フルフェネリム（ｆｌｕｆｅｎｅｒｉｍ）、ピリミジフェン（ｐｙｒｉｍｉｄｉｆｅｎ）、テブフェンピラド（ｔｅｂｕｆｅｎｐｙｒａｄ）、トルフェンピラド（ｔｏｌｆｅｎｐｙｒａｄ）、フルアクリピリム（ｆｌｕａｃｒｙｐｙｒｉｍ）、アセキノシル（ａｃｅｑｕｉｎｏｃｙｌ）、シフルメトフェン（ｃｙｆｌｕｍｅｔｏｆｅｎ）、フルベンジアミド（ｆｌｕｂｅｎｄｉａｍｉｄｅ）、エチプロール（ｅｔｈｉｐｒｏｌｅ）、フィプロニル（ｆｉｐｒｏｎｉｌ）、エトキサゾール（ｅｔｈｏｘａｚｏｌｅ）、イミダクロプリド（ｉｍｉｄａｃｌｏｐｒｉｄ）、ニテンピラム（ｎｉｔｅｎｐｙｒａｍ）、クロチアニジン（ｃ１ｏｔｈｉａｎｉｄｉｎ）、アセタミプリド（ａｃｅｔａｍｉｐｒｉｄ）、ジノテフラン（ｄｉｎｏｔｅｆｕｒａｎ）、チアクロプリド（ｔｈｉａｃｌｏｐｒｉｄ）、チアメトキサム（ｔｈｉａｍｅｔｈｏｘａｍ）、ピメトロジン（ｐｙｍｅｔｒｏｚｉｎｅ）、ビフェナゼート（ｂｉｆｅｎａｚａｔｅ）、スピロジクロフェン（ｓｐｉｒｏｄｉｃｌｏｆｅｎ）、スピロメシフェン（ｓｐｉｒｏｍｅｓｉｆｅｎ）、フロニカミド（ｆｌｏｎｉｃａｍｉｄ）、クロルフェナピル（ｃｈｌｏｒｆｅｎａｐｙｒ）、ピリプロキシフェン（ｐｙｒｉｐｒｏｘｙｆｅｎｅ）、インドキサカルブ（ｉｎｄｏｘａｃａｒｂ）、ピリダリル（ｐｙｒｉｄａｌｙｌ）、スピノサド（ｓｐｉｎｏｓａｄ）、アベルメクチン（ａｖｅｒｍｅｃｔｉｎ）、ミルベマイシン（ｍｉｌｂｅｍｙｃｉｎ）、アザジラクチン（ａｚａｄｉｒａｃｈｔｉｎ）、ニコチン（ｎｉｃｏｔｉｎｅ）、ロテノン（ｒｏｔｅｎｏｎｅ）、ＢＴ剤、昆虫病原ウイルス剤、エマメクチン安息香酸塩（ｅｍａｍｅｃｔｉｎｂｅｎｚｏａｔｅ）、スピネトラム（ｓｐｉｎｅｔｏｒａｍ）、ピリフルキナゾン（ｐｙｒｉｆｌｕｑｕｉｎａｚｏｎ）、クロルアントラニリプロール（ｃｈｌｏｒａｎｔｒａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、シアントラニリプロール（ｃｙａｎｔｒａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、シエノピラフェン（ｃｙｅｎｏｐｙｒａｆｅｎ）、スピロテトラマット（ｓｐｉｒｏｔｅｔｒａｍａｔ）、レピメクチン（ｌｅｐｉｍｅｃｔｉｎ）、メタフルミゾン（ｍｅｔａｆｌｕｍｉｚｏｎｅ）、ピラフルプロール（ｐｙｒａｆｌｕｐｒｏｌｅ）、ピリプロール（ｐｙｒｉｐｒｏｌｅ）、ジメフルスリン（ｄｉｍｅｆｌｕｔｈｒｉｎ）、フェナザフロル（ｆｅｎａｚａｆｌｏｒ）、ヒドラメチルノン（ｈｙｄｒａｍｅｔｈｙｌｎｏｎ）、トリアザメート（ｔｒｉａｚａｍａｔｅ）、アフィドピロペン（ａｆｉｄｏｐｙｒｏｐｅｎ）、フルピリミン（ｆｌｕｐｙｒｉｍｉｎ）等が挙げられる。

前記殺菌剤としては、例えば、アゾキシストロビン（ａｚｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、クレソキシムメチル（ｋｒｅｓｏｘｙｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリフロキシストロビン（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、オリサストロビン（ｏｒｙｓａｓｔｒｏｂｉｎ）、ピコキシストロビン（ｐｉｃｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、フロキサストロビン（ｆｕｏｘａｓｔｒｏｂｉｎ）等のストロビルリン系化合物；メパニピリム（ｍｅｐａｎｉｐｙｒｉｍ）、ピリメサニル（ｐｙｒｉｍｅｔｈａｎｉｌ）、シプロジニル（ｃｙｐｒｏｄｉｎｉｌ）等のアニリノピリミジン系化合物；トリアジメホン（ｔｒｉａｄｉｍｅｆｏｎ）、ビテルタノール（ｂｉｔｅｒｔａｎｏｌ）、トリフルミゾール（ｔｒｉｆｌｕｍｉｚｏｌｅ）、エタコナゾール（ｅｔａｃｏｎａｚｏｌｅ）、プロピコナゾール（ｐｒｏｐｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、ペンコナゾール（ｐｅｎｃｏｎａｚｏｌｅ）、フルシラゾール（ｆｌｕｓｉｌａｚｏｌｅ）、ミクロブタニル（ｍｙｃｌｏｂｕｔａｎｉｌ）、シプロコナゾール（ｃｙｐｒｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、テブコナゾール（ｔｅｂｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、ヘキサコナゾール（ｈｅｘａｃｏｎａｚｏｌｅ）、プロクロラズ（ｐｒｏｃｈｌｏｒａｚ）、シメコナゾール（ｓｉｍｅｃｏｎａｚｏｌｅ）等のアゾール系化合物；キノメチオネート（ｑｕｉｎｏｍｅｔｈｉｏｎａｔｅ）等のキノキサリン系化合物；マンネブ（ｍａｎｅｂ）、ジネブ（ｚｉｎｅｂ）、マンコゼブ（ｍａｎｃｏｚｅｂ）、ポリカーバメート（ｐｏｌｙｃａｒｂａｍａｔｅ）、プロビネブ（ｐｒｏｐｉｎｅｂ）等のジチオカーバメート系化合物；ジエトフェンカルブ（ｄｉｅｔｈｏｆｅｎｃａｒｂ）等のフェニルカーバメート系化合物；クロロタロニル（ｃｈｌｏｒｏｔｈａｌｏｎｉｌ）、キントゼン（ｑｕｉｎｔｏｚｅｎｅ）等の有機塩素系化合物；ベノミル（ｂｅｎｏｍｙｌ）、チオファネートメチル（ｔｈｉｏｐｈａｎａｔｅ−ｍｅｔｈｙｌ）、カーベンダジム（ｃａｒｂｅｎｄａｚｏｌｅ）等のベンズイミダゾール系化合物；メタラキシル（ｍｅｔａｌａｘｙｌ）、オキサジキシル（ｏｘａｄｉｘｙｌ）、オフラセ（ｏｆｕｒａｓｅ）、ベナラキシル（ｂｅｎａｌａｘｙｌ）、フララキシル（ｆｕｒａｌａｘｙｌ）、シプロフラン（ｃｙｐｒｏｆｕｒａｍ）等のフェニルアミド系化合物；ジクロフルアニド（ｄｉｃｈｌｏｆｌｕａｎｉｄ）等のスルフェン酸系化合物；水酸化第二銅（ｃｏｐｐｅｒ ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）、オキシキノリン銅（ｏｘｉｎｅ−ｃｏｐｐｅｒ）等の銅系化合物；ヒドロキシイソキサゾール（ｈｙｄｒｏｘｙｉｓｏｘａｚｏｌｅ）等のイソキサゾール系化合物；ホセチルアルミニウム（ｆｏｓｅｔｙｌ−ａｌｕｍｉｎｉｕｍ）、トルクロホス−メチル（ｔｏｌｃｌｏｆｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）等の有機リン系化合物；キャプタン（ｃａｐｔａｎ）、カプタホール（ｃａｐｔａｆｏｌ）、フォルペット（ｆｏｌｐｅｔ）等のＮ−ハロゲノチオアルキル系化合物；プロシミドン（ｐｒｏｃｙｍｉｄｏｎｅ）、イプロジオン（ｉｐｒｏｄｉｏｎｅ）、ビンクロゾリン（ｖｉｎｃｈｌｏｚｏｌｉｎ）等のジカルボキシイミド系化合物；フルトラニル（ｆｌｕｔｏｌａｎｉｌ）、メプロニル（ｍｅｐｒｏｎｉｌ）等のベンズアニリド系化合物；フェンプロピモルフ（ｆｅｎｐｒｏｐｉｍｏｒｐｈ）、ジメトモルフ（ｄｉｍｅｔｈｏｍｏｒｐｈ）等のモルフォリン系化合物；水酸化トリフェニルスズ（ｆｅｎｔｈｉｎ ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）、酢酸トリフェニルスズ（ｆｅｎｔｈｉｎ ａｃｅｔａｔｅ）等の有機スズ系化合物；フルジオキソニル（ｆｌｕｄｉｏｘｏｎｉｌ）、フェンピクロニル（ｆｅｎｐｉｃｌｏｎｉｌ）等のシアノピロール系化合物；その他、フサライド（ｆｔｈａｌｉｄｅ）、プロベナゾール（ｐｒｏｂｅｎａｚｏｌｅ）、アシベンゾラルＳメチル（ａｃｉｂｅｎｚｏｌａｒ−Ｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、チアジニル（ｔｉａｄｉｎｉｌ）、イソチアニル（ｉｓｏｔｉａｎｉｌ）、カルプロパミド（ｃａｒｐｒｏｐａｍｉｄ）、ジクロシメット（ｄｉｃｌｏｃｙｍｅｔ）、フェノキサニル（ｆｅｎｏｘａｎｉｌ）、トリシクラゾール（ｔｒｉｃｙｃｌａｚｏｌｅ）、ピロキロン（ｐｙｒｏｑｕｉｌｏｎ）、フェリムゾン（ｆｅｒｉｍｚｏｎｅ）、フルアジナム（ｆｌｕａｚｉｎａｍ）、シモキサニル（ｃｙｍｏｘａｎｉｌ）、トリホリン（ｔｒｉｆｏｒｉｎｅ）、ピリフェノックス（ｐｙｒｉｆｅｎｏｘ）、フェナリモル（ｆｅｎａｒｉｍｏｌ）、フェンプロピディン（ｆｅｎｐｒｏｐｉｄｉｎ）、ペンシクロン（ｐｅｎｃｙｃｕｒｏｎ）、シアゾファミド（ｃｙａｚｏｆａｍｉｄ）、シフルフェナミド（ｃｙｆｌｕｆｅｎａｍｉｄ）、ボスカリド（ｂｏｓｃａｌｉｄ）、ペンチオピラド（ｐｅｎｔｈｉｏｐｙｒａｄ）、プロキナジド（ｐｒｏｑｕｉｎａｚｉｄ）、キノキシフェン（ｑｕｉｎｏｘｙｆｅｎ）、ファモキサドン（ｆａｍｏｘａｄｏｎｅ）、フェナミドン（ｆｅｎａｍｉｄｏｎｅ）、イプロバリカルブ（ｉｐｒｏｖａｌｉｃａｒｂ）、ベンチアバリカルブイソプロピル（ｂｅｎｔｈｉａｖａｌｉｃａｒｂ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ）、フルオピコリド（ｆｌｕｏｐｉｃｏｌｉｄｅ）、ピリベンカルブ（ｐｙｒｉｂｅｎｃａｒｂ）、フルチアニル（ｆｌｕｔｉａｎｉｌ）、イソピラザム（ｉｓｏｐｙｒａｚａｍ）、フェンピコキサミド（ｆｅｎｐｉｃｏｘａｍｉｄ）、カスガマイシン（ｋａｓｕｇａｍｙｃｉｎ）、バリダマイシン（ｖａｌｉｄａｍｙｃｉｎ）等が挙げられる。

前記殺ダニ剤としては、例えば、ブロモプロピレート（ｂｒｏｍｏｐｒｏｐｙｌａｔｅ）、テトラジホン（ｔｅｔｒａｄｉｆｏｎ）、プロパルギット（ｐｒｏｐａｒｇｉｔｅ）、アミトラズ（ａｍｉｔｒａｚ）、フェノチオカルブ（ｆｅｎｏｔｈｉｏｃａｒｂ）、ヘキシチアゾクス（ｈｅｘｙｔｈｉａｚｏｘ）、フェンブタチンオキシド（ｆｅｎｂｕｔａｔｉｎ ｏｘｉｄｅ）、ジエノクロル（ｄｉｅｎｏｃｈｌｏｒ）、フェンピロキシメート（ｆｅｎｐｙｒｏｘｉｍａｔｅ）、テブフェンピラド（ｔｅｂｕｆｅｎｐｙｒａｄ）、ピリダベン（ｐｙｒｉｄａｂｅｎ）、ピリミジフェン（ｐｙｒｉｍｉｄｉｆｅｎ）、クロフェンテジン（ｃｌｏｆｅｎｔｅｚｉｎｅ）、エトキサゾール（ｅｔｏｘａｚｏｌｅ）、ハルフェンプロックス（ｈａｌｆｅｎｐｒｏｘ）、ミルベメクチン（ｍｉｌｂｅｍｅｃｔｉｎ）、アセキノシル（ａｃｅｑｕｉｎｏｃｙｌ）、ビフェナゼート（ｂｉｆｅｎａｚａｔｅ）、フルアクリピリム（ｆｌｕａｃｒｙｐｙｒｉｍ）、スピロジクロフェン（ｓｐｉｒｏｄｉｃｈｌｏｆｅｎ）、スピロメシフェン（ｓｐｉｒｏｍｅｓｉｆｅｎ）、クロルフェナピル（ｃｈｌｏｒｆｅｎａｐｙｒ）、アベルメクチン（Ａｖｅｒｍｅｃｔｉｎ）、シエノピラフェン（ｃｙｅｎｏｐｙｒａｆｅｎ）、シフルメトフェン（ｃｙｆｌｕｍｅｔｏｆｅｎ）等が挙げられる。

前記除草剤としては、例えば、シハロホップブチル（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、２，４−Ｄ等のフェノキシ酸系化合物；エスプロカルブ（ｅｓｐｒｏｃａｒｂ）、デスメディファム（ｄｅｓｍｅｄｉｐｈａｍ）等のカーバメート系化合物；アラクロール（ａｌａｃｈｌｏｒ）、メトラクロール（ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）等の酸アミド系化合物；ジウロン（ｄｉｕｒｏｎ）、テブチウロン（ｔｅｂｕｔｈｉｕｒｏｎ）等の尿素系化合物；ハロスルフロンメチル（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フラザスルフロン（ｆｌａｚａｓｕｌｆｕｒｏｎ）等のスルホニルウレア系化合物；ピリミノバックメチル（ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ−ｍｅｔｈｙｌ）等のピリミジルオキシ安息香酸系化合物；グリホサート（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ）、ビアラホス（ｂｉｌａｎａｆｏｓ）、グルホシネート（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）等のアミノ酸系化合物等が挙げられる。

前記植物成長調節剤としては、例えば、エテホン（ｅｔｈｅｐｈｏｎ）等のエチレン剤；インドール酪酸（ｉｎｄｏｌｅｂｕｔｙｒｉｃ ａｃｉｄ）、エチクロゼート（ｅｔｈｙｃｈｌｏｚａｔｅ）等のオーキシン剤；サイトカイニン剤；ジベレリン剤；オーキシン拮抗剤；矮化剤；蒸散抑制剤等が挙げられる。

前記肥料としては、例えば、尿素、硝酸アンモニウム、硝酸苦土アンモニウム、塩化アンモニウム等の窒素質肥料；過リン酸石灰、リン酸アンモニウム、苦土過リン酸、苦土リン酸等のリン酸質肥料；塩化カリウム、重炭酸カリウム、硝酸カリ苦土、硝酸カリウム、硝酸カリナトリウム等のカリウム質肥料；硫酸マンガン、硝酸苦土マンガン等のマンガン質肥料；ホウ酸、ホウ酸塩等のホウ素質肥料等が挙げられる。

１実施形態において、本発明は、上述した植物病害防除剤又は上述した化合物を、植物体又は種子と接触させるか、あるいは栽培床に含有させる、植物病害防除方法を提供する。植物病害防除剤又は上述した化合物は、上述した植物病害防除用組成物の形態で用いてもよい。

上述した植物病害防除剤又は上述した化合物を植物体に接触させる場合、植物の茎葉部、根、根茎、塊茎、球根、発芽した芽等に接触させればよい。また、上述した植物病害防除剤又は上述した化合物を植物の種子に接触させてもよい。また、栽培床としては、土壌、イネを成育させる田面水、植物を成育する担体、水耕栽培の水等が挙げられる。水耕栽培の水は栄養分を含んでいてもよい。

本実施形態の方法において、上述した植物病害防除剤又は上述した化合物を植物体又は種子と接触させる方法、あるいは栽培床に含有させる方法としては、農業及び園芸において一般的に適用される施用方法であれば特に限定されず、例えば、茎葉散布、水面施用、土壌処理、育苗箱施用、種子処理、浸漬処理、肥料混和、灌水用水混和等が挙げられる。

本実施形態の植物病害防除剤の施用量は、施用方法の他、航空散布及び超微量散布等の施用態様を考慮し、対象病害の種類及び発病程度、対象作物の種類及び対象部位に応じて、決定することができる。

例えば、前記植物病害防除剤を植物の茎葉に散布する場合には、乳剤、水和剤又はフロアブル剤の形態で、１０アールあたり、製剤１〜１０００ｇを５０〜１０００Ｌの水で希釈したものを使用することができ、粉剤の形態では、１０アールあたり製剤１〜１０ｋｇ程度を使用することができる。

前記植物病害防除剤を土壌に施用する場合には、例えば、粒剤の形態では、１０アールあたり１〜１０ｋｇ程度を使用することができる。

以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。

以下、実施例において以下の略語を用いる場合がある。
ＥＳＩ：電子スプレーイオン化法
ＭＳ：質量スペクトル
ＮＭＲ：核磁気共鳴スペクトル

［実施例１］
２，６-ジフルオロイソニコチン酸（５０ｍｇ）をクロロホルム（３．１ｍＬ）に溶解し、アニリン（２９μＬ）及び１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(６５ｍｇ)、４−ジメチルアミノピリジン(触媒量)を加えて、室温で３時間撹拌した。次いで、反応混合物に水を加えて酢酸エチルで抽出した後、飽和塩化アンモニウム、飽和炭酸水素ナトリウム、食塩水で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去し、残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／酢酸エチル＝５０／１〜８／１）により精製し、２，６-ジフルオロイソニコチンアニリドの白色粉末を６６．３ｍｇ得た。

［実施例２］
２,６−ジクロロイソニコチン酸（１９２ｍｇ）をアセトニトリル（１０ｍＬ）に溶解し、アニリン（９１μＬ）及び１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩(２０８ｍｇ)、４−ジメチルアミノピリジン(触媒量)を加えて、室温で３０分撹拌した。次いで、反応溶液に水を加えて析出物をろ取し、この析出物を水で２回洗浄することにより、２，６-ジクロロイソニコチンアニリドの白色粉末を２３８ｍｇ得た。

［実施例３］
実施例２で作成した２，６-ジクロロイソニコチンアニリド（５０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（１．９ｍＬ）に溶解し、５５％水素化ナトリウム（１６ｍｇ）を加えて室温で１５分間撹拌した。この混合溶液に、アセチルクロライド（２７μＬ）を加えて室温で１時間撹拌した。反応溶液に水を加えて酢酸エチルで抽出した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／酢酸エチル＝２５／１）により精製し、実施例１−１の化合物の白色粉末を１７．８ｍｇ得た。

［実施例４］
実施例１で得られた２，６-ジフルオロイソニコチンアニリド（５０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（１．９ｍＬ）に溶解し、５５％水素化ナトリウム（１６ｍｇ）を加えて室温で１５分間撹拌した。この混合溶液に、塩化ベンゾイル(４４μＬ)を加えて室温で２時間撹拌した後、反応溶液に水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去し、残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／酢酸エチル＝２５／１）により精製し、実施例１−８の白色粉末を２７ｍｇ得た。

［実施例５］
２，６−ジクロロイソニコチン酸（９６０ｍｇ）をテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に溶解し、加熱還流した。その溶液中にジメチルスルフィドボラン（１．４ｍＬ）を滴下して加え、２時間加熱還流した。次いで、反応溶液を氷冷下に冷却して、飽和炭酸水素ナトリウムを加え、酢酸エチルで抽出した後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶媒を留去し、残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）により精製し、２，６−ジクロロ−４−ピリジンメタノールの白色粉末を８０１ｍｇ得た。

［実施例６］
実施例５で得られた２，６−ジクロロ−４−ピリジンメタノール（４５ｍｇ）をアセトニトリル（２．５ｍＬ）に溶解し、３，４−ジクロロ−５−イソチアゾールカルボン酸（５９ｍｇ）及び１−エチル−３−(３−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(５７ｍｇ)、４−ジメチルアミノピリジン（３７ｍｇ)を加えて、室温で１時間撹拌した。次いで、反応溶液に水を加えて酢酸エチルで抽出した後、飽和炭酸水素ナトリウム、食塩水で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を留去し、残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）により精製し、実施例２−６の化合物の白色粉末を１３．８ｍｇ得た。

実施例１〜実施例４の方法に準じて、下記表９〜表１０に示す、式（２’’）で示される実施例１−１〜実施例１−１２の化合物を製造した。また、実施例５〜実施例６の方法に準じて、下記表１１に示す、式（３’）で示される実施例２−１〜実施例２−６の化合物を製造した。

式（２’’）及び式（３’）で示される各実施例化合物のＭＳ、¹Ｈ−ＮＭＲのデータを表９〜表１１に示す。なお¹Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、５００ＭＨｚ又は６００ＭＨｚ）の測定溶媒として重クロロホルムを使用した。ＭＳはＥＳＩ−ＭＳ法で測定した。

式（２’’）で示される実施例１−１〜実施例１−１２の化合物を表９〜表１０に示す。

式（３’）で示される実施例２−１〜実施例２−６の化合物を表１１に示す。

［実施例7］
＜イネいもち病に対する活性＞
適当な濃度に調製した実施例化合物のアセトン溶液を、水で１０倍に希釈し、１／１０００容のネオエステリンを添加し試験に供した。ポットに栽培した２葉期又は３葉期のイネに化合物を散布し、散布１日後に１．５×１０５〜５×１０５個／ｍＬに調製したイネいもち病菌（Ｐｙｒｉｃｕｌａｒｉａ ｏｒｙｚａｅ）の分生子懸濁液を噴霧接種し、湿室（温度２５℃、湿度１００％）に２４時間静置した。その後、植物栽培用チャンバーで栽培し、第２葉または第３葉に形成されたイネいもち病の病斑数を計数した。得られた病斑数を基に下記の数式により防除価を算出した。
防除価＝（（無処理区の病斑数−処理区の病斑数）／無処理区の病斑数）×１００

下記実施例の化合物は１０ｐｐｍの濃度で７０以上の防除価を示し、イネいもち病に対する防除効果が確認された。
１−１、１−２、１−３、１−８、１−１１、２−３、２−４、２−５、２−６

下記実施例の化合物は１００ｐｐｍの濃度で９０以上の防除価を示し、イネいもち病に対する防除効果が確認された。
１−１、１−２、１−３、１−４、１−５、１−６、１−７、１−８、１−９、１−１０

本発明によれば、薬害が軽減された植物病害防除剤、新規化合物及び植物病害防除方法を提供することができる。本発明の植物病害防除剤及び新規化合物は、優れた抵抗性誘導活性を有しており、植物病害の防除に有用である。

Claims (8)

1. 下記式（１）で示される化合物（但し、下記式（２）中、Ａａが 下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、又は下記Ｄ群の基、ベンジル基、フェニル基及びフェノキシ基からなる群から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいフェニル基を示し、Ｇがメチル基を示す化合物を除く。）。
   

   

   ［式（１）中、Ｘ¹及びＸ⁴は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、塩素原子又はトリフルオロメチル基を示し、Ｘ¹及びＸ⁴のいずれか１つはフッ素原子、塩素原子又はトリフルオロメチル基を示し、Ｘ²及びＸ³は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、塩素原子又はメチル基であり、
   Ｘ^aは下記式（２）又は（３）で示される基であり、
   

   

   式（２）中、Ｊａ、Ｊｂは同一または異なっていてもよく酸素原子又は硫黄原子を示し、
   Ｇは、
   下記Ｃ群の基、チオール基、メトキシカルボニル基及びＮ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基からなる群から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、
   下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数２〜８のアルケニル基、
   下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数２〜８のアルキニル基、
   下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキルカルボニル基、
   下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキルオキシ基、
   下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキルスルホニル基、
   下記Ｄ群の基、ベンジル基、フェニル基及びフェノキシ基からなる群から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいフェニルカルボニル基、
   下記Ｄ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいフェニルスルホニル基、
   下記Ｄ群の基、フェノキシ基及びベンジル基からなる群から選ばれる１〜５個の基で置換されていてもよいフェニル基、
   ５，６，７，８−テトラヒドロナフチル基、
   ナフチル基、又は
   下記Ｄ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいヘテロ環基（ここで、ヘテロ環基は下記Ｅ群から選ばれる基である。）を示し、
   Ａａは、
   下記Ｃ群の基、チオール基、メトキシカルボニル基及びＮ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基からなる群から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、
   下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数２〜８のアルケニル基、
   下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数２〜８のアルキニル基、
   下記Ｃ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキルオキシ基（但し、Ｘ¹が塩素原子であり、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴が水素原子であり、Ｊａ及びＪｂが同時に酸素原子であり、Ｇが炭素数１〜４のアルキル基である場合を除く。）、
   下記Ｄ群の基、フェノキシ基及びベンジル基からなる群から選ばれる１〜５個の基で置換されていてもよいフェニル基、
   ５，６，７，８−テトラヒドロナフチル基、
   ナフチル基、又は
   下記Ｄ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいヘテロ環基（ここで、ヘテロ環基は下記Ｅ群から選ばれる基である。）を示し、
   式（３）中、Ｑは、酸素原子、硫黄原子、式：−ＮＨ−で示される２価の基又は式：−Ｎ（ＣＨ₃）−で示される２価の基を示し、
   Ａｂは、
   下記Ｄ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいフェニル基（但し、Ｘ¹及びＸ⁴が塩素原子であり、Ｘ²及びＸ³が水素原子であり、Ｑが酸素原子である場合、Ａｂは、「アミノ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、アセトキシ基、ニトロ基及びシアノ基」からなる群から選択される１個の基のみで置換されたフェニル基、又は１〜２個のハロゲン原子のみで置換されたフェニル基を示さない。）、又は
   下記Ｄ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいヘテロ環基（ここで、ヘテロ環基は下記Ｅ群から選ばれる基である。但し、Ｘ¹及びＸ⁴が塩素原子であり、Ｘ²及びＸ³が水素原子であり、Ｑが酸素原子である場合、Ａｂは２−チエニル基、３−フラニル基ピリジン−４-イル基、２-メチルピリジン−３−イル基又は２-シアノピリジン−３−イル基を示さない。）を示し、
   Ｃ群は、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、５−メチル−１，３−ジオキソール−２−オン−４−イル基、フェニルカルボニル基、下記Ｄ群の基から選ばれる１〜３個の基で置換されていてもよいピリジル基、及び下記Ｄ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいフェニル基からなる群であり、
   Ｄ群は、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、メチルチオ基、１〜３個のハロゲン原子により置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基、１〜３個のハロゲン原子により置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキルオキシ基、炭素数１〜４のアルキルカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルアミノカルボニル基、アセトキシ基、ニトロ基、及びシアノ基からなる群であり、
   Ｅ群は、ピリジル基、チアゾリル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、イソチアゾリジル基、イソキサゾリル基、ピリミジニル基、ベンズイミダゾリル基、チエニル基、フラニル基、ベンゾオキサニル基、２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］［１，４］ジオキシン−６−イル基、ジヒドロチアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、（１，１−ジオキドベンゾ［ｄ］イソチアゾール−３−イル）オキシ基、ジベンゾフラニル基、イソチアゾリル基、及びトリアゾリル基からなる群である。］
2. 前記式（１）中、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴が水素原子、フッ素原子又は塩素原子である、請求項１に記載の化合物。
3. 前記式（１）中、Ｘ¹及びＸ⁴が同一でフッ素原子又は塩素原子を示し、Ｘ²及びＸ³が水素原子である、請求項１に記載の化合物。
4. 前記式（２）中、Ｊａ及びＪｂが酸素原子である請求項１〜請求項３のいずれかに記載の化合物。
5. 前記式（３）中、Ｑが酸素原子である、請求項１〜請求項３のいずれかに記載の化合物。
6. 前記式（３）中、Ｑが酸素原子であり、ＡｂがＤ群の基から選ばれる１〜４個の基で置換されていてもよいヘテロ環基（ここで、ヘテロ環基はＥ群から選ばれる基である。）である、請求項１〜請求項３のいずれかに記載の化合物。
7. 請求項１〜請求項６のいずれかに記載の化合物の少なくとも１つを有効成分として含有する植物病害防除剤。
8. 請求項１〜請求項６のいずれかに記載の化合物又は請求項７に記載の植物病害防除剤を植物への茎葉部、土壌、イネを成育させる田面水、植物を成育する担体、水耕栽培の水（栄養分を含んでいてもよい）、植物の根、根茎、塊茎、球根、発芽した植物あるいは種子に処理する植物病害防除方法。