JP2021189454A - Ｅｕｖ放射線源、ｅｕｖ放射線源のためのインサート、および、ｅｕｖ放射線源のためのインサートのためのインサート - Google Patents

Ｅｕｖ放射線源、ｅｕｖ放射線源のためのインサート、および、ｅｕｖ放射線源のためのインサートのためのインサート Download PDF

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Abstract

【課題】ＥＵＶ放射線源を改善すること。【解決手段】ＥＵＶ放射線源（１）のための外側インサート（８）の中の通路開口部（１０）のための内側インサート（１１）は、複数のパーツで具現化されており、および／または、長手方向（９）に延在し、異なる内部直径（ｄi、ｄa）を有する複数のセクション（２６、２７）を有する。【選択図】図２

Description

独国特許出願第ＤＥ１０２０２０２０６８７６．３号の内容は、参照により本明細書に組み込まれている。
本発明は、ＥＵＶ放射線源、そのようなＥＵＶ放射線源のためのインサート（ｉｎｓｅｒｔ：挿入物）、および、そのようなＥＵＶ放射線源のためのインサートのためのインサートに関する。加えて、本発明は、照明システム、投影露光装置、および、そのようなＥＵＶ放射線源を有する計量システムに関する。
ＥＵＶ範囲において使用される放射線は、ＥＵＶ放射線源のソースチャンバー（ｓｏｕｒｃｅ ｃｈａｍｂｅｒ）の中のソースプラズマ（ｓｏｕｒｃｅ ｐｌａｓｍａ）を点火することによって、ＥＵＶ放射線源の中で生成させられ得る。米国特許出願公開第２０１１／００８９８３４（Ａ１）号は、電極プラズマ生成デバイスを備えたＥＵＶ放射線源の実施形態を説明している。ＥＰ１７７４８３８Ｂ１は、誘導結合プラズマ供給源を開示している。
ＥＵＶ放射線源は、たとえば、Blackborow et al. (2010), “EUV source development for AIMS and blank inspection"; Proc SPIE, 7636からも知られている。
ＥＵＶ放射線源は、投影露光装置のための、特に、ＥＵＶリソグラフィー検査装置および計量システムのための、照明システムにおいて使用されている。対応する投影露光装置は、たとえば、ＷＯ２００９／１００８５６Ａ１から知られている。
投影露光装置の動作の間に、ＥＵＶ放射線源が、実質的に一貫した一定の強度の放射パルスを生成することが不可欠である。放射線源の摩耗パーツが交換された後に、これが、直接的に当てはまらないことが示されている。したがって、ＥＵＶ放射線源は、典型的に、摩耗パーツの交換の後に、長くて複雑な調整プロセスを受ける必要がある。
米国特許出願公開第２０１１／００８９８３４（Ａ１）号 ＥＰ１７７４８３８Ｂ１ ＷＯ２００９／１００８５６Ａ１
Blackborow et al. (2010), "EUV source development for AIMS and blank inspection"; Proc SPIE, 7636
本発明の目的は、ＥＵＶ放射線源を改善することである。特に、本発明の目的は、ＥＵＶ放射線源の摩耗パーツの交換の後に、調整プロセスが簡単化されるように、特に、短縮されるように、ＥＵＶ放射線源を改善することである。
この目的は、チャンバー開口部の中へ挿入可能な第１のインサートであって、第１のインサートは、長手方向に延在するチャネルを有している、第１のインサートと、通路チャネルの中に配置されている内側インサートとを有する、放射線源によって実現される。本発明の核心部は、複数のパーツで内側インサートを具現化すること、および／または、内側インサートが、長手方向に延在し、異なる内部直径を有する複数の、特に、２つの、３つの、またはそれ以上のセクションを有するようにすることにある。
チャンバー開口部の中へ挿入可能である第１のインサートおよび通路チャネルの中に配置される内側インサートは、本発明の独立した主題を形成する。
第１のインサートは、外側インサートまたは「キャリア」とも称される。場合によっては、通路チャネルを備えた第１のインサートおよび内側インサートは、全体として、ボアとも称される。
内側インサートは、「スリーブ」と称される場合もある。それは、特に、スリーブの様式で形成され得る。特に、それは、スリーブタイプのセクションを有することが可能である。
内側インサートは、特に、中空の円筒形状のセクションを有している。これは、内側インサートによって画定されており、特に、長手方向に対して垂直の方向に境界を定められている内側通路チャネルが、少なくとも部分的に円筒形状になっており、特に、円柱形状になっていることを意味することを意図している。それは、特に、円形の断面を有することが可能である。
内側インサートの外周は、原理的には、実質的に任意であることが可能である。内側インサートは、特に、円形の外周を有することも可能である。
キャリアおよび／または内側インサートは、好ましくは、交換可能であり得る。特に、それらは、交換可能な摩耗パーツである。
外側通路チャネルは、特に、実質的に円筒形状になっており、特に、円柱形状になっていることが可能である。特に、それは、一方または両方の端部の方向に膨張するように設計され得る。
第１の外側インサートは、特に、ソースチャンバーのエレメントと電気的接触をしており、特に、電圧が印加され得るそのプレートと電気的接触をしている。
キャリアは、特に、ソースチャンバーと熱的接触をしており、特に、電圧が印加され得るそのプレートと熱的接触をしている。
キャリアは、特に、ソースチャンバーのエレメントと電気的接触をしており、特に、そのベースプレートと電気的接触をしている。
キャリアは、特に、ソースチャンバーと熱的接触をしており、特に、そのベースプレートと熱的接触をしている。
なかでも、キャリアは、高性能の導電体としての役割を果たす。
なかでも、キャリアは、高性能の熱伝導体としての役割を果たす。キャリアは、特に、真空安定性に、および、ソースチャンバーの構造的な安定性に貢献する。追加的に、それは、特に、ソースプラズマを位置決めするのに役立つ。
ソースプラズマの位置は、第２の内側インサートの助けを借りて、さらに境界を定められている。次いで、内側インサートは、特に、「閉じ込め」（空間的な限界設定）としての役割を果たす。
内側インサートは、さらに、特に、ソースプラズマに対する、外側インサートのための保護としての役割を特に果たす。ソースプラズマは、第１のインサートおよび／または第２のインサートのスパッタリングをもたらすことが可能である。これは、放射線源の汚れにつながる可能性がある。
本発明の一態様によれば、内側インサートは、外側通路チャネルの内側に対して平らに横たわっている。
これは、外側インサートの中の内側インサートの機械的に安定した、特に、正確な配置を可能にする。
内側インサートは、長手方向に対して垂直の方向に、外側通路チャネルの内側に対して、特に、実質的にその円周全体にわたって、特に、その外側表面全体にわたって、横たわっている。
内側インサートは、特に、実質的に遊びの無い状態で、通路チャネルの中に配置され得る。内側インサートは、特に、第１の通路チャネルの中へ熱収縮され得る。また、それは、通路チャネルの中にはんだ付けされるか、溶接されるか、または接着結合され得る。特に、それは、フォームフィットによっておよび／または材料結合によって配置されている。
それは、長手方向軸線の周りに回転可能となるように、通路チャネルの中に配置され得る。また、それは、対称性破壊手段によって、長手方向軸線の周りの回転に対して固定され得る。
本発明のさらなる態様によれば、内側インサートは、外側インサートの中において、長手方向に画定された端部位置を有している。この目的のために、それは、たとえば、カラー、ショルダー部、厚くなった部分、特に、端部サイドの厚くなった部分の形態の、１つまたは複数の当接エレメントを有することが可能である。また、それは、わずかに円錐形状の外側を有することが可能である。
本発明のさらなる態様によれば、内側インサートは、外側通路チャネルの中に配置されており、外側通路チャネルの内側壁部は、第１の端部領域から第２の端部領域へ長手方向に対して平行に延在しており、内側インサートが、長手方向に対して垂直の方向に、第１の端部領域の領域において外側通路チャネルの内側壁部を完全にカバーするようになっている。
第１のインサート、特に、外側通路チャネルは、これによって、特に、ソースプラズマに起因する摩耗に対して効果的に保護されることが見出されている。加えて、パルス・ツー・パルス安定性（ｐｕｌｓｅ−ｔｏ−ｐｕｌｓｅ ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）が、これによって改善された。
代替的に、内側インサートのより短い設計も可能である。このようにして、内側インサートの中の熱応力が低減され得る。
特に有利な代替例によれば、内側インサートは、外側通路チャネルの端部領域までずっと延在しており、内側インサートは、長手方向に互いに隣接する２つの、３つの、またはそれ以上のパーツを有している。
本発明によれば、内側インサートが複数のパーツ、特に、２つの、３つの、もしくはそれ以上のパーツで具現化されている場合には、および／または、内側通路チャネルが、異なる内部直径を有する、長手方向に延在する複数のセクションを有している場合には、特に、放射線源のパルス・ツー・パルス安定性に関する利点は、内側インサートの交換の後に生じる可能性があることが見出されている。
本発明の一態様によれば、内側インサートは、特に、長手方向に互いに隣接する複数の構成パーツを有しており、構成パーツのうちの少なくとも２つは、異なる内部直径を有する、長手方向に延在するセクションを有しており、内部直径は、長手方向に一定になっている。
これらは、特に、中空の円筒形状の構成パーツであることが可能である。異なる内部直径を有する構成パーツ同士の間の移行領域において、内側通路チャネルは、好ましくは、ベベルを有している。内側通路チャネルは、特に、連続関数によって長手方向の位置の関数として記述可能な内部直径を有することが可能である。内側通路チャネルは、特に、段差無しに形成され得る。
内側通路チャネルの直径は、特に、単調関数、ただし、特に、厳密に単調ではない関数によって長手方向の位置の関数として記述され得る。
内側インサートは、特に、領域において一定であるが、セクションにおいて異なっている内部直径を有している。
本発明のさらなる態様によれば、内側インサートは、実質的に一定の外部直径を有している。このために、外側インサートの中へのインサートの導入、および、外側通路チャネルの中の内側インサートのしっかりとした嵌め合いが、簡単化および／または改善される。
また、内側インサートは、わずかに円錐形状の形態を有する外側形状を有することが可能である。このように、所定のスライドイン深さ（ｓｌｉｄｅ−ｉｎ ｄｅｐｔｈ）、特に、外側インサートの中の内側インサートの端部位置が画定され得る。
また、内側インサートは、たとえば、カラー、ショルダー部、厚くなった部分、特に、端部サイドの厚くなった部分の形態の、１つまたは複数の当接エレメントを有することが可能である。また、これは、所定の端部位置を確実にする。
内側インサートは、好ましくは、１つまたは複数の耐プラズマ性材料から作製されている。
内側インサートは、特に、１つまたは複数の耐熱性材料から作製されている。内側インサートの材料は、特に、少なくとも１０００℃、特に、少なくとも１５００℃、特に、少なくとも２０００℃の融点を有する１つまたは複数の材料を有している。真空の中で溶融するように作製されていないが、分解する炭化ケイ素のケースでは、融点は、ここでは、対応する分解が起こる温度を意味すると理解される。
内側インサートは、好ましくは、少なくとも１００Ｗ／（ｍ・Ｋ）の熱伝導率、特に、少なくとも１３０Ｗ／（ｍ・Ｋ）の熱伝導率を有する１つまたは複数の材料から作製されている。
本発明のさらなる態様によれば、内側インサートは、モリブデンまたはモリブデン化合物から少なくとも部分的に作り出されている。
モリブデンまたはモリブデン化合物は、対応するインサートを作り出すのに非常に適切であることが見出されている。モリブデンから作製された内側インサートは、特に、最初から高い安定性をもたらした。モリブデンから作製された内側インサートは、追加的に、初期から高い輝度をもたらした。
インサートは、特に、セクションにおいて、モリブデンまたはモリブデン化合物から作り出され得る。特に、それは、モリブデンまたはモリブデン化合物から構成される、すなわち、完全にモリブデンまたはモリブデン化合物から作製される、１つまたは複数のセクションを有することが可能である。
また、内側インサートは、炭化ケイ素から作製された１つまたは複数の構成パーツを有することが可能である。
本発明のさらなる態様によれば、外側インサートは、また、モリブデンまたはモリブデン化合物から少なくとも部分的に、特に、完全に、作り出され得る。それは、特に、モノリシックに形成され得る。
本発明のさらなる態様によれば、キャリアおよび内側インサートをワンピースでモノリシックに形成することが有利であり得ることが見出されている。そのようなモノリシックのインサートは、特に、モリブデンまたはモリブデン化合物から作り出されるかまたは構成され得る。
本発明のさらなる目的は、投影露光装置、マスク検査装置、または計量システムのための照明システムを改善することにある。
この目的は、先行する説明によるインサートを備えた放射線源を有する照明システムによって実現される。その利点は、インサートのものから明らかである。
本発明のさらなる目的は、リソグラフィック投影露光装置およびマスク検査装置または計量システムを改善することにある。
これらの目的は、先行する説明によるインサートを備えた放射線源を有する対応する装置によって実現される。その利点は、インサートのものから明らかである。
本発明のさらなる利点および詳細は、図を参照して、例示的な実施形態の説明から明らかになることとなる。
ＥＵＶ放射線源の概略断面図である。 通路チャネルの領域におけるＥＵＶ放射線源のソースチャンバーからの詳細部を通る部分的な概略断面図である。 通路チャネルの中に内側インサートの変形例を備えた、図２による説明図である。
図１は、ＥＵＶ放射線源１の例示的な実施形態の概略断面図を図示している。ＥＵＶ放射線源１は、投影露光装置の照明システム（明示的には図示されていない）の一部である。基本的な詳細に関して、例としてＤＥ１０２０１７２１２３５２Ａ１が参照され、その文献は、本出願の一部として本出願の中に完全に組み込まれている。
ＥＵＶ放射線源１は、上側チャンバーパーツ３と下側チャンバーパーツ４とを有する２パーツのソースチャンバー２を有している。センタープレート５が、上側チャンバーパーツ３と下側チャンバーパーツ４との間に位置付けされている。センタープレート５が、ソースチャンバー２の、特に、上側チャンバーパーツ３の、チャンバー壁部を形成している。
センタープレート５は、偏心開口部６および中央開口部７を有している。
センタープレート５は、複数のパーツで具現化され得る。それは、特に、ソースチャンバー２に面しており、高電圧が印加され得るプレート１８と、それとは別個に、外側ベースプレート１９とを有することが可能である。
第１のインサート８が、中央開口部７の中へ挿入されている。第１のインサート８は、外側インサートを形成している。第１のインサート８は、「キャリア」とも称される。それは、長手方向９に延在する第１の通路チャネル１０を有している。
第２のインサート１１が、第１の通路チャネル１０の中に配置されている。第２のインサート１１は、長手方向９に延在する第２の通路チャネル１２を有している。内側インサート１１を備えたキャリアは、「ボア」と称される場合もある。
第１の通路チャネル１０は、外側通路チャネルとも称される。第２の通路チャネル１２は、内側通路チャネルとも称される。２つの通路チャネル１０、１２は、長手方向９に延在する共通の長手方向軸線１３を有している。
ＥＵＶ放射線源１の動作の間に、偏心開口部６および中央開口部７、特に、通路チャネル１０、１２は、チャンバーパーツ３、４の中で点火されるソースプラズマのための通路に役立つ。
ＥＵＶ放射線源１は、誘導プラズマ電流生成器である。
投影露光装置の、マスク検査装置の、または計量システムの照明光学ユニット（明示的には図示されていない）の構成パーツは、ＥＵＶ放射線源１に接続されている。照明光学ユニットは、特に、照明システムの構成パーツである。照明システムは、特に、１つまたは複数のミラー、特に、１つまたは複数のファセットミラーを含むことが可能である。照明光学ユニットは、特に、結像される（ｉｍａｇｅｄ）こととなる構造体を有するマスクに対して、ＥＵＶ放射線源１によって生成された照明放射を伝達するのに役立つ。マスクは、レチクルとも称される。
図１は、同様に、ＥＵＶ放射線源１に隣接してメンテナンス領域１４を概略的に図示している。ドームストップ１５を有するインターフェースが、メンテナンス領域１４とＥＵＶ放射線源１との間に提供されている。詳細に関しては、ＤＥ１０２０１７２１２３５２Ａ１、特に、図２３および関連の説明が参照される。
メンテナンス領域１４は、メンテナンスフラップ１６の助けを借りて外側領域１７に対して真空気密になるようにシール可能である。メンテナンスフラップ１６は、メンテナンス目的のために開けられ得る。メンテナンスフラップ１６の開いた状態において、メンテナンス領域１４、および、結果的に、ＥＵＶ放射線源１がアクセスされ得る。特に、２つのインサート８、１１が、たとえば、それらを交換するために、メンテナンス領域１４を通してＥＵＶ放射線源１から除去されることが可能である。
第１のインサート８の詳細、および、特に、第２のインサート１１の詳細は、図２を参照して下記に説明されている。インサート８、１１の対応する実施形態は、ＥＵＶ放射線源１の残りの構造詳細から独立して有利である。
外側の第１のインサート８は、たとえば、複数のスクリューを介して、プレート１８に接続されている。それは、特に、プレート１８への電気接点２１を有している。Ｏリングが、第１のインサート８とプレート１８との間の接続領域の中に提供されている。
第１のインサート８は、たとえば、複数のスクリューを介して、ベースプレート１９に接続されている。それは、特に、ベースプレート１９への電気接点２３を有している。Ｏリングは、第１のインサート８とベースプレート１９との間の接触領域の中に提供されている。
内側の第２のインサート１１は、第１の通路チャネル１０の内周に対して円周方向に存在している。それは、特に、実質的に遊びの無い状態で、第１の通路チャネル１０の中に配置されている。しかし、それは、長手方向に変位可能となるように、第１の通路チャネル１０の中に配置され得る。
内側インサート１１は、通路チャネル１０の中に熱収縮され得る。また、内側インサート１１は、通路チャネル１０にはんだ付けされるか、溶接されるか、または接着結合され得る。また、それは、フォームフィットによっておよび／または材料結合によって、通路チャネル１０に接続され得る。
図２に図示されている変形例において、内側インサート１１は、２パーツで形成されている。それは、特に、内側パーツ２６および外側パーツ２７を有しており、外側パーツ２７は、長手方向９に内側パーツ２６に隣接している。内側パーツ２６および外側パーツ２７は、別個のパーツによって形成されている。
２つのパーツ２６、２７は、互いに隣り合って配設されている。
内側パーツ２６および外側パーツ２７は、それらの長手方向９の延在にわたって、実質的に一定の外部直径を有している。それらは、特に、同一の外部直径を有している。
内側パーツ２６および外側パーツ２７は、同じ材料から作製され得る。それらは、特に、炭化ケイ素から作製され得る。また、これらのパーツ２６、２７のうちの一方または両方が、モリブデンまたはモリブデン化合物から作り出されることが可能である。内側パーツ２６および／または外側パーツ２７は、特に、モリブデンまたはモリブデン化合物から構成され得る。
外側パーツ２７は、内側パーツ２６よりも大きい内部直径を有している。内側パーツ２６の内部直径ｄiに対する外側パーツ２７の内部直径ｄaの比率は、１．１〜５の範囲の中にあり、特に、１．５〜３の範囲の中にある。
外側パーツ２７は、第１の通路チャネル１０の内側端部領域２８まで長手方向に延在している。第１の通路チャネル１０は、その反対側の領域、第２の端部領域において、インサート１１によってカバーされていない。
外側パーツ２７は、スリーブの様式で具現化されている。特に、それは、中空の円筒形状の設計のものである。特に、それは、円形の外周および円形の内周を有する断面を有することが可能である。
外側パーツ２６は、スリーブの様式で具現化されている。特に、それは、中空の円筒形状の設計のものである。しかし、それは、端部サイドのベベル３０、３１を有している。
内側の第２のインサート１１の変形例が、図３を参照して下記に説明されることとなる。同一のコンポーネントは、図２による変形例と同じ参照記号を有している。
この変形例において、第１の通路チャネル１０は、長手方向９に第１のインサート８の内側端部まで延在している。図２による変形例とは対照的に、それは、ベベルを有していない。したがって、インサート１１の外側パーツ２７は、長手方向９に第１のインサート８の端部まで延在している。
図３による変形例における外側パーツ２７は、長手方向９に内側パーツ２６とおおよそ同じ延在を有している。
一般的に、２つのパーツ２６、２７は、長手方向９に実質的に同一の延在を有することが可能である。また、２つのパーツ２６、２７が長手方向９に異なる延在によって形成されることも可能である。その差は、特に、１０％よりも大きく、特に、２０％よりも大きく、特に、５０％よりも大きくなっていることが可能である。それは、特に、３００％よりも小さく、特に、２００％よりも小さく、特に、１００％よりも小さくなっていることが可能である。
長手方向９への２つのパーツ２６、２７の全体的な延在は、特に、２ｃｍ〜１５ｃｍの範囲にあり、特に、３ｃｍ〜１０ｃｍの範囲にあり、特に、４ｃｍ〜８ｃｍの範囲にある。
変形例によれば、２つのパーツ２６、２７は、別個のパーツとして形成されるのではなく、１つのパーツで形成されている。内側の第２のインサート１１は、２つのセクションを有しており、２つのセクションは、この変形例においても同様に、長手方向９に延在し、異なる内部直径ｄa、ｄiを有している。
インサート１１の１パーツ設計は、インサート１１の生産をより容易にする。また、それは、通路チャネル１０の中のインサート１１の正確な配置を簡単化する。
図２に図示されている変形例によるインサート１１が２つ以上のパーツで設計されていることは、インサート１１の個々の構成パーツの中の熱応力の低減を結果として生じさせる。これによって、ＥＵＶ放射線源１の動作の間にインサート１１が破損するリスクが低減され得る。
図２および図３は、インサート１１の２パーツの変形例を図示している。これは、限定するものとして理解されるべきではない。また、インサート１１は、１つの、３つの、４つの、またはそれ以上のパーツで具現化され得る。一般的に、それは、長手方向９に互いに隣接している１つの、２つの、３つの、４つの、またはそれ以上の構成パーツを有することが可能である。
１ ＥＵＶ放射線源
２ ソースチャンバー
３ 上側チャンバーパーツ
４ 下側チャンバーパーツ
５ センタープレート
６ 偏心開口部
７ 中央開口部
８ 第１のインサート
９ 長手方向
１０ 第１の通路チャネル
１１ 第２のインサート
１２ 第２の通路チャネル
１３ 長手方向軸線
１４ メンテナンス領域
１５ ドームストップ
１６ メンテナンスフラップ
１７ 外側領域
１８ プレート
１９ 外側ベースプレート
２１ 電気接点
２３ 電気接点
２６ 内側パーツ
２７ 外側パーツ
２８ 第１の端部領域、内側端部領域
２９ 第２の端部領域
３０ ベベル
３１ ベベル
ｄa 外側パーツ２７の内部直径
ｄi 内側パーツ２６の内部直径

Claims (11)

  1. ＥＵＶ放射線源（１）であって、
    １．１． ソースチャンバー（２）であって、
    １．１．１． 少なくとも１つのチャンバー開口部（７）を有するチャンバー壁部（５）と、
    １．１．２． 前記チャンバー開口部（７）の中へ挿入されている、長手方向（９）に延在する外側通路チャネル（１０）を備えた第１のインサート（８）と、
    １．１．３． 前記外側通路チャネル（１０）の中に配置されている、前記長手方向（９）に延在する内側通路チャネル（１２）を備えた内側インサート（１１）と
    を備える、ソースチャンバー（２）
    を有し、
    １．２． 前記内側インサート（１１）は、
    １．２．１． 複数のパーツで具現化されており、および／または、
    １．２．２． 前記長手方向（９）に延在し、異なる内部直径（ｄi、ｄa）を有する複数のセクション（２６、２７）を有する、
    ＥＵＶ放射線源（１）。
  2. 請求項１に記載のＥＵＶ放射線源（１）のためのインサート（８）であって、
    ２．１． 長手方向（９）に延在する外側通路チャネル（１０）と、
    ２．２． 前記外側通路チャネル（１０）の中に配置されている、前記長手方向（９）に延在する内側通路チャネル（１２）を備えた内側インサート（１１）と
    を有しており、
    ２．３． 前記内側インサート（１１）は、
    ２．３．１． 複数のパーツで具現化されており、および／または、
    ２．３．２． 前記長手方向（９）に延在し、異なる内部直径（ｄi、ｄa）を有する複数のセクション（２６、２７）を有する、インサート（８）。
  3. 前記内側インサート（１１）は、前記外側通路チャネル（１０）の内側に対して平らに横たわっていることを特徴とする、請求項２に記載のインサート（８）。
  4. 前記内側インサート（１１）は、前記外側通路チャネル（１０）の中に配置されており、前記外側通路チャネル（１０）の内側壁部は、第１の端部領域（２８）から第２の端部領域（２９）へ前記長手方向（９）に対して平行に延在しており、前記内側インサート（１１）が、前記長手方向（９）に対して垂直の方向に、前記第１の端部領域（２８）の領域において前記外側通路チャネル（１０）の内側壁部を完全にカバーするようになっていることを特徴とする、請求項２または３に記載のインサート（８）。
  5. 請求項２〜４のいずれか１項に記載のＥＵＶ放射線源（１）のための第１のインサート（８）のためのインサート（１１）であって、
    ５．１． 前記長手方向（９）に延在する内側通路チャネル（１２）を有する、インサート（１１）において、
    ５．２．
    ５．２．１． 前記インサート（１１）は、複数のパーツで具現化されており、および／または、
    ５．２．２． 前記インサート（１１）は、前記長手方向（９）に延在し、異なる内部直径（ｄi、ｄa）を有する複数のセクション（２６、２７）を有する
    ことを特徴とする、インサート（１１）。
  6. 前記インサート（１１）は、前記長手方向（９）に互いに隣接する複数の構成パーツ（２６、２７）を有しており、前記構成パーツのうちの少なくとも２つは、異なる内部直径（ｄi、ｄa）を有する、前記長手方向（９）に延在するセクションを有しており、前記内部直径（ｄi、ｄa）は、前記長手方向（９）において一定であることを特徴とする、請求項５に記載のインサート（１１）。
  7. 前記インサート（１１）は、実質的に一定の外部直径を有することを特徴とする、請求項５または６に記載のインサート（１１）。
  8. 前記インサート（１１）は、モリブデンまたはモリブデン化合物から少なくとも部分的に作り出されることを特徴とする、請求項５〜７のいずれか１項に記載のインサート（１１）。
  9. 請求項２〜８のいずれか１項に記載のインサート（８）を備えたＥＵＶ放射線源（１）を有する、投影露光装置、マスク検査装置、または計量システムのための照明システム。
  10. ＥＵＶリソグラフィーのための投影露光装置であって、
    １０．１． オブジェクトフィールドに配置されているレチクルを照明するための、請求項９に記載の照明システムと、
    １０．２． 像フィールドに配置されているウエハーの上に前記レチクルを結像するための投影光学ユニットと
    を備える、投影露光装置。
  11. 請求項９に記載の照明システムを有する、ＥＵＶリソグラフィーのためのマスクを検査するための計量システム。
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