JPS59175178A - レ−ザ装置 - Google Patents
レ−ザ装置Info
- Publication number
- JPS59175178A JPS59175178A JP4918783A JP4918783A JPS59175178A JP S59175178 A JPS59175178 A JP S59175178A JP 4918783 A JP4918783 A JP 4918783A JP 4918783 A JP4918783 A JP 4918783A JP S59175178 A JPS59175178 A JP S59175178A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- mirror surface
- cooling holder
- bridges
- holder
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/0401—Arrangements for thermal management of optical elements being part of laser resonator, e.g. windows, mirrors, lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/0407—Liquid cooling, e.g. by water
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Lasers (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はレーザ装置、特に不安定形共振器を配した大
出力レーザの取出しミラーに関するものである。
出力レーザの取出しミラーに関するものである。
従来、この種の装置として第１図および第２図に示すも
のがあった。
のがあった。
第１図は従来の不安定形共振器を配したレーザ装置の概
略構成図、第２図は、従来の不安定共振器を配したレー
ザ装置の取出しミラーの斜視図である。
略構成図、第２図は、従来の不安定共振器を配したレー
ザ装置の取出しミラーの斜視図である。
図において、（Ｉ）は管体、（２）は励起空間、（３）
は第１ミラー、（４）は第２ミラーで取出しミラーであ
る。
は第１ミラー、（４）は第２ミラーで取出しミラーであ
る。
（５）は透過窓、（６）はレーザ光、（７）はレンズ、
（８）は加工対象物、（９）はボール、 （ｊｌＦｉ、
ミラー面である。
（８）は加工対象物、（９）はボール、 （ｊｌＦｉ、
ミラー面である。
次に動作について説明する。
励起空間（２）をはさんで第１ミラー（３）と取出しミ
ラー（４）で不安定形共振器が形成される。レーザ光（
６）はドーナツ形で透過窓（５）を通過し、使用側に供
される。取出しミラー（４）は１２０°毎に配されたポ
ール（９）によってミラー面ａ〔が保持されている。ボ
ール（９）の存在によってレーザ光（６）がさえぎられ
る分はレーザ出力の損失となる。従ってポール（９）は
大きくすることができず２通常数罷の直径のものである
。レンズ（７）によってレーザ光（６）を集光すると。
ラー（４）で不安定形共振器が形成される。レーザ光（
６）はドーナツ形で透過窓（５）を通過し、使用側に供
される。取出しミラー（４）は１２０°毎に配されたポ
ール（９）によってミラー面ａ〔が保持されている。ボ
ール（９）の存在によってレーザ光（６）がさえぎられ
る分はレーザ出力の損失となる。従ってポール（９）は
大きくすることができず２通常数罷の直径のものである
。レンズ（７）によってレーザ光（６）を集光すると。
回折効果によってよく収束したビームが加工対象物（８
）上に照射される。
）上に照射される。
従来の装置は以上のように構成されているので。
大出力レーザにこれを用いると、ミラー面ｆｉ鴨のレー
ザ光吸収にもとすく発熱によってミラー面Ｑｌ。
ザ光吸収にもとすく発熱によってミラー面Ｑｌ。
ボール（９）が熱変形を起し２発振の変動、停止などの
トラブルが生ずる欠点があった。
トラブルが生ずる欠点があった。
この発明は、上記のような従来のものの欠点を除去する
ために々されたもので、第２ミラーは中央部がミラー面
で９周縁部が冷却ホルダをなし。
ために々されたもので、第２ミラーは中央部がミラー面
で９周縁部が冷却ホルダをなし。
ミラー面と冷却ホルダをつなぐ複数個のブリッジにより
、複数の開口葛をミラー面の周囲に形成するように構成
され、上記ミラー面と冷却ホルダが熱的に接続されるよ
うにすることにより、大出力レーザの使用に耐える不安
定形共振器用の取出しミラーを提供することを目的とし
ている。
、複数の開口葛をミラー面の周囲に形成するように構成
され、上記ミラー面と冷却ホルダが熱的に接続されるよ
うにすることにより、大出力レーザの使用に耐える不安
定形共振器用の取出しミラーを提供することを目的とし
ている。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第３
図はこの発明にかかわる取出しミラーの一実施例を示す
斜視図である。
図はこの発明にかかわる取出しミラーの一実施例を示す
斜視図である。
図において、 ０１１は冷却ホルダで例えば中を冷却水
が流れるようになっている。０邊はミラー面Ｑｌと冷却
ホルダ（Ｉｌｌをつなぐブリッジ、０３１はブリッジ０
２によってミラー面Ｏｎの周囲にできた扇形の開口窓で
ある。（Ｉ４１は冷却水の入口、 （１９は冷却水の出
口である。
が流れるようになっている。０邊はミラー面Ｑｌと冷却
ホルダ（Ｉｌｌをつなぐブリッジ、０３１はブリッジ０
２によってミラー面Ｏｎの周囲にできた扇形の開口窓で
ある。（Ｉ４１は冷却水の入口、 （１９は冷却水の出
口である。
以上のような構成の取出ｊ−ミラー（４）は１例えば銅
等で一体に形成され中央部がミラー研摩されてミラー面
０〔をなしている。
等で一体に形成され中央部がミラー研摩されてミラー面
０〔をなしている。
以上のような構成で２例えばブリッジ＋１２のレーザ光
（６）の光軸方向の奥行が３０ｍ、、円周方向の幅約２
闘、ブリッジ０邊の長さ約３０ｕ、ミラー面（１１の直
径約２Ｌ朋の取出しミラー（４）を連続出力３ｋｗの大
出力レーザ装置に用いた場合、ミラー面ＯＩで６０ｗ程
度の吸収発熱がある。この熱はブリッジｔＪ２の熱伝導
によって有効に冷却ホルダαＤに伝わり。
（６）の光軸方向の奥行が３０ｍ、、円周方向の幅約２
闘、ブリッジ０邊の長さ約３０ｕ、ミラー面（１１の直
径約２Ｌ朋の取出しミラー（４）を連続出力３ｋｗの大
出力レーザ装置に用いた場合、ミラー面ＯＩで６０ｗ程
度の吸収発熱がある。この熱はブリッジｔＪ２の熱伝導
によって有効に冷却ホルダαＤに伝わり。
ここでさらに冷却水に伝わり、ミラー面（ＩＩが熱変形
をおこすことが回避されている。
をおこすことが回避されている。
不安定形共振器から出るレーザ光（６）はＩｏｎ程度伝
搬すると回折効果によって取出しミラ一部（４）のドー
ナツ状から、中のつ１つだビームに変化す ゛るが、そ
の変化はゆるやかである。ブリッジ（１２が光軸方向に
数土龍の厚みを有することで、レーザ光（６）の損失が
増したり、あるいはレンズ（７）による収束性を損なう
ことは全くない。
搬すると回折効果によって取出しミラ一部（４）のドー
ナツ状から、中のつ１つだビームに変化す ゛るが、そ
の変化はゆるやかである。ブリッジ（１２が光軸方向に
数土龍の厚みを有することで、レーザ光（６）の損失が
増したり、あるいはレンズ（７）による収束性を損なう
ことは全くない。
第４図（ａ）はこの発明にかかわる取出しミラーの他の
実施例を示す正面図、第４図（ｂ）は第４図（１）のＢ
−Ｂ’線での断面図である。
実施例を示す正面図、第４図（ｂ）は第４図（１）のＢ
−Ｂ’線での断面図である。
図において、ａＱはゴム糸の熱伝導シー）、 （Ｉηは
透過窓（５）のおさえ環である。ミラー面α１は、取出
しミラー（４）の中央部に熱伝導シートαＱを介してね
じ等により着脱可能に取りつけられており、冷却ホルダ
αＤと別個に製作でき安価である。冷却ホルダＱｌ）は
Ｏリング等で管体（１）にとりつけられる。また、透過
窓（５）はおさえ環αηと熱伝導シートａＱによってミ
ラー面Ｑ１． 冷却ホルダ０υ、ブリッジ０りの少なく
とも１つ（第４図（ｂ）ではミラー面ａ１および冷却ホ
ルダ０９部）の透過窓側に熱的に接続されており、透過
窓（５）も冷却でき、透過窓（５）の熱破壊が防げ、コ
ンパクトな構成にすることができる。
透過窓（５）のおさえ環である。ミラー面α１は、取出
しミラー（４）の中央部に熱伝導シートαＱを介してね
じ等により着脱可能に取りつけられており、冷却ホルダ
αＤと別個に製作でき安価である。冷却ホルダＱｌ）は
Ｏリング等で管体（１）にとりつけられる。また、透過
窓（５）はおさえ環αηと熱伝導シートａＱによってミ
ラー面Ｑ１． 冷却ホルダ０υ、ブリッジ０りの少なく
とも１つ（第４図（ｂ）ではミラー面ａ１および冷却ホ
ルダ０９部）の透過窓側に熱的に接続されており、透過
窓（５）も冷却でき、透過窓（５）の熱破壊が防げ、コ
ンパクトな構成にすることができる。
なお、上記実施例では冷却ホルダ０υは冷却水を流して
いたがフィンによる空冷でもよい。
いたがフィンによる空冷でもよい。
また上記実施例では、ブリッジ０りが三本の場合を示し
たが、それ以外の数でもよく、開口窓ｔ＋１も扇形でな
くともよいことは勿論である。
たが、それ以外の数でもよく、開口窓ｔ＋１も扇形でな
くともよいことは勿論である。
以上のように、この発明によれば第２ミラーは。
中央部がミラー面で９周縁部が冷却ホルダをなし。
ミラー面と冷却ホルダをつなぐ複数個のブリッジにより
、複数の開口窓をミラー面の周囲に形成するように構成
されているので、大出力レーザ装置の取出しミラーとし
て信頼性の高いものが得られる効果がある。
、複数の開口窓をミラー面の周囲に形成するように構成
されているので、大出力レーザ装置の取出しミラーとし
て信頼性の高いものが得られる効果がある。
第１図は従来の不安定形共振器を配したレーザ装置の概
略構成図、第２図は従来の不安定形共振器を配したレー
ザ装置の取出しミラーの斜視図。 第３図はこの発明にかかわる取出しミラーの一実施例を
示す斜視図、第４図（ａ）はこの発明にかかわる取出し
ミラーの他の実施例を示す正面図、第４図（ｂ）は第４
図（ａ）のＢ −Ｂ’線での断面図である。 図において、（２）は励起空間、（３）は第１ミラー。 （４）は第２ミラー、（５）は透過窓、（６）はレーザ
光、Ｈはミラー面、 ｆＩｌｌは冷却ホルダ、１１２は
ブリッジ、 （１３は開口窓、 Ｑ（９は熱伝導シート
である。 なお９図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 葛野信− １７嘱 第２図 第３図 第４図 Ｃｂ〕 手続補正書（自発） １．事件の表示 特願昭５８−４９１８７号３、補
正をする者 代表者片山仁へ部 ５、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 （１） 明細書第３頁第１８行の「開口葛」を「開口
窓」に訂正する。 （２１同第５頁第１４行の「ゴム糸」を「ゴム系」に訂
正する。 以上
略構成図、第２図は従来の不安定形共振器を配したレー
ザ装置の取出しミラーの斜視図。 第３図はこの発明にかかわる取出しミラーの一実施例を
示す斜視図、第４図（ａ）はこの発明にかかわる取出し
ミラーの他の実施例を示す正面図、第４図（ｂ）は第４
図（ａ）のＢ −Ｂ’線での断面図である。 図において、（２）は励起空間、（３）は第１ミラー。 （４）は第２ミラー、（５）は透過窓、（６）はレーザ
光、Ｈはミラー面、 ｆＩｌｌは冷却ホルダ、１１２は
ブリッジ、 （１３は開口窓、 Ｑ（９は熱伝導シート
である。 なお９図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 葛野信− １７嘱 第２図 第３図 第４図 Ｃｂ〕 手続補正書（自発） １．事件の表示 特願昭５８−４９１８７号３、補
正をする者 代表者片山仁へ部 ５、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 （１） 明細書第３頁第１８行の「開口葛」を「開口
窓」に訂正する。 （２１同第５頁第１４行の「ゴム糸」を「ゴム系」に訂
正する。 以上
Claims (3)
- （１）励起空間が第１ミラーと第２ミラーではさんで構
成された不安定形共振器を有し、上記第２ミラ一部より
レーザ光を取出すものにおいて、上記第２ミラーは中央
部がミラー面で１周縁部が冷却ホルダをなし、上記ミラ
ー面と上記冷却ホルダをつなぐ複数個のブリッジによシ
、複数の開口窓を上記ミラー面の周囲に形成するように
構成され。 上記ミラー面と上記冷却ホルダが熱的に接続されている
ことを％徴とするレーザ装置。 - （２）ミラー面を、第２ミラー中央部に着脱可能にとり
つけたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のレ
ーザ装置。 - （３）第２ミラーのレーザ光出力側に設けた透過窓ヲ、
ミラー面、冷却ホルダ、及びブリッジの少なくとも１つ
の上記透過窓側に、熱伝導シートを介して熱的に接続さ
れるように取りつけたことを特徴とする特許請求の範囲
第１項または第２項記載のレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4918783A JPS59175178A (ja) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | レ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4918783A JPS59175178A (ja) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | レ−ザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59175178A true JPS59175178A (ja) | 1984-10-03 |
Family
ID=12824023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4918783A Pending JPS59175178A (ja) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | レ−ザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59175178A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6423586A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-26 | Mitsubishi Electric Corp | Laser machining apparatus |
| JPH01130572U (ja) * | 1988-02-29 | 1989-09-05 | ||
| EP0938009A1 (de) * | 1998-02-20 | 1999-08-25 | Carl Zeiss | Optische Anordnung und Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie mit passiver thermischer Kompensation |
| EP1351091A2 (de) * | 2002-03-07 | 2003-10-08 | Carl Zeiss Laser Optics GmbH | Optische Anordnung mit einer Blende |
| US7274430B2 (en) | 1998-02-20 | 2007-09-25 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical arrangement and projection exposure system for microlithography with passive thermal compensation |
-
1983
- 1983-03-24 JP JP4918783A patent/JPS59175178A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6423586A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-26 | Mitsubishi Electric Corp | Laser machining apparatus |
| JPH01130572U (ja) * | 1988-02-29 | 1989-09-05 | ||
| EP0938009A1 (de) * | 1998-02-20 | 1999-08-25 | Carl Zeiss | Optische Anordnung und Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie mit passiver thermischer Kompensation |
| EP1596235A1 (de) * | 1998-02-20 | 2005-11-16 | Carl Zeiss SMT AG | Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie mit passiver thermischer Kompensation |
| US7274430B2 (en) | 1998-02-20 | 2007-09-25 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical arrangement and projection exposure system for microlithography with passive thermal compensation |
| EP1351091A2 (de) * | 2002-03-07 | 2003-10-08 | Carl Zeiss Laser Optics GmbH | Optische Anordnung mit einer Blende |
| EP1351091A3 (de) * | 2002-03-07 | 2007-11-21 | Carl Zeiss Laser Optics GmbH | Optische Anordnung mit einer Blende |
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