JP2021165765A - Low refractive index member, transfer sheet, coating composition used for the same, and laminate using low refractive index member - Google Patents

Low refractive index member, transfer sheet, coating composition used for the same, and laminate using low refractive index member Download PDF

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圭太 塚本
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智洋 小川
Tomohiro Ogawa
洋幸 森兼
Hiroyuki Morikane
隆伸 唯木
Takanobu Tadaki
芳成 松田
Yoshinari Matsuda
誠司 篠原
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Abstract

To provide a low refractive index member which has a thick low-refractive index layer, and yet offers good visibility by suppressing whitening and is capable of minimizing cracks and maintaining an anti-reflective property.SOLUTION: A low-refractive index member provided herein comprises a low-refractive index layer provided on a base material, the low-refractive index layer having a thickness in a range of 0.5-5.0 μm and containing hollow particles and a binder resin, where the hollow particles have an average particle diameter in a range of 60-140 nm. The low-refractive index member contains a cured product of a composition containing a silicone-based compound as the binder resin.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、低屈折部材、転写シート、これらに用いるコーティング組成物、及び低屈折部材を用いた積層体に関する。 The present invention relates to a low refraction member, a transfer sheet, a coating composition used for these, and a laminate using the low refraction member.

液晶表示装置等の画像表示装置、ショーケース等の各種物品の表面には、外光の反射を抑制するために低屈折部材が配置される場合がある。 A low refraction member may be arranged on the surface of an image display device such as a liquid crystal display device or various articles such as a showcase in order to suppress reflection of external light.

低屈折部材は、屈折率の低い層(低屈折率層)を表面に備えることで、低屈折率層の表面自体での反射を低くしつつ、さらに、低屈折率層の表面で反射する光と、低屈折率層の下層の表面で反射する光との干渉により、反射率を低くするように設計されている。
このため、低屈折部材の低屈折率層の厚みは、可視光線の波長域の1/4程度(100nm前後)に設計されている(例えば特許文献1)。
The low-refractive index member is provided with a layer having a low refractive index (low-refractive index layer) on the surface to reduce the reflection on the surface of the low-refractive index layer itself, and further, the light reflected on the surface of the low-refractive index layer. It is designed to reduce the refractive index by interfering with the light reflected on the surface of the lower layer of the low refractive index layer.
Therefore, the thickness of the low refractive index layer of the low refractive index member is designed to be about 1/4 (around 100 nm) of the wavelength range of visible light (for example, Patent Document 1).

特開2016−177186号公報(段落0045)JP-A-2016-177186 (paragraph 0045)

特許文献1のように低屈折率層は100nm前後の薄膜であるため、低屈折率層が擦過により僅かに傷ついた場合でも低屈折率層が部分的に完全に消失し、反射防止効果が部分的に失われるという問題がある。特に、低屈折率層の屈折率を下げるために中空粒子を用いた場合、低屈折率層の耐擦傷性が低下しやすくなるため、前記問題が顕著になりやすい。 Since the low refractive index layer is a thin film of about 100 nm as in Patent Document 1, even if the low refractive index layer is slightly damaged by scratching, the low refractive index layer partially disappears and the antireflection effect is partially exhibited. There is a problem of being lost. In particular, when hollow particles are used to lower the refractive index of the low refractive index layer, the scratch resistance of the low refractive index layer tends to decrease, so that the problem tends to become remarkable.

前記問題を解消するために、低屈折率層を、スパッタリング法や真空蒸着法等のドライプロセスにより形成する手段が考えられる。しかし、ドライプロセスは設備が大掛かりとなり、コストが大幅に上昇するという問題がある。
また、前記問題を解消するために、ウェット法で形成する低屈折率層のバインダー樹脂として電離放射線硬化性樹脂組成物を用い、低屈折率層の架橋密度を高くする手段も考えられる。しかし、電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて低屈折率層の架橋密度を高くした場合、低屈折部材にカールを生じる場合があり、さらには、架橋時の低屈折率層の体積収縮により、低屈折率層の表面の平滑性が失われ、表面拡散による白化を生じる場合がある。
In order to solve the above problem, a means for forming the low refractive index layer by a dry process such as a sputtering method or a vacuum vapor deposition method can be considered. However, the dry process has a problem that the equipment becomes large and the cost rises significantly.
Further, in order to solve the above problem, a means for increasing the crosslink density of the low refractive index layer by using an ionizing radiation curable resin composition as the binder resin of the low refractive index layer formed by the wet method can be considered. However, when the cross-linking density of the low-refractive index layer is increased by using the ionizing radiation curable resin composition, the low-refractive index member may be curled, and further, due to the volume shrinkage of the low-refractive index layer at the time of cross-linking, The smoothness of the surface of the low refractive index layer may be lost, resulting in whitening due to surface diffusion.

上記課題を解決すべく、本発明者らは、低屈折率層が擦過により僅かに削られたとしても反射防止性を維持し得るように、低屈折率層の厚みを可視光線の波長域の1/4よりも大幅に厚くすることを検討した。しかし、低屈折率層の厚みを単純に厚くした場合、ヘイズが上昇して低屈折率層が白化して視認性が悪化したり、低屈折率層の形成過程や低屈折部材の取り扱い時に低屈折率層にクラックが発生するケースが頻発した。
そこで、本発明者らはさらに鋭意検討し、低屈折率層の膜厚が厚いにも関わらず、白化を抑制して視認性が良好であるとともにクラックを抑制し、さらには反射防止性を維持し得る低屈折部材を完成するに至った。
In order to solve the above problems, the present inventors set the thickness of the low refractive index layer in the wavelength range of visible light so that the antireflection property can be maintained even if the low refractive index layer is slightly scraped by scratching. We considered making it much thicker than 1/4. However, if the thickness of the low refractive index layer is simply increased, the haze increases and the low refractive index layer becomes white and the visibility deteriorates, or it is low during the process of forming the low refractive index layer and when handling the low refractive index member. There were frequent cases where cracks occurred in the refractive index layer.
Therefore, the present inventors have further studied, and despite the thick film thickness of the low refractive index layer, whitening is suppressed, visibility is good, cracks are suppressed, and antireflection is maintained. We have completed a possible low-refractive index member.

本発明は、以下の[1]〜[5]を提供する。
[1]基材上に低屈折率層を有する低屈折部材であって、前記低屈折率層は、厚みが0.5〜5.0μmであり、かつ、中空粒子及びバインダー樹脂を含み、前記中空粒子は平均粒子径が60〜140nmであり、前記バインダー樹脂として、シリコーン系化合物を含む組成物の硬化物を含む、低屈折部材。
[2]基材上に転写層を有する転写シートであって、前記転写層の前記基材側は低屈折率層であり、前記低屈折率層は、厚みが0.5〜5.0μmであり、かつ、中空粒子及びバインダー樹脂を含み、前記中空粒子は平均粒子径が60〜140nmであり、前記バインダー樹脂として、シリコーン系化合物を含む組成物の硬化物を含む、転写シート。
[3]平均粒子径が60〜140nmの中空粒子と、バインダー樹脂成分としてのシリコーン系化合物とを含む、上記[1]に記載の低屈折部材の低屈折率層形成用のコーティング組成物。
[4]平均粒子径が60〜140nmの中空粒子と、バインダー樹脂成分としてのシリコーン系化合物とを含む、上記[2]に記載の転写シートの低屈折率層形成用のコーティング組成物。
[5]上記[1]に記載の低屈折部材の低屈折率層上に蒸着膜を有してなる、積層体。
The present invention provides the following [1] to [5].
[1] A low-refractive index member having a low-refractive index layer on a base material, the low-refractive index layer having a thickness of 0.5 to 5.0 μm and containing hollow particles and a binder resin. Hollow particles have an average particle diameter of 60 to 140 nm, and are low-refractive index members containing a cured product of a composition containing a silicone-based compound as the binder resin.
[2] A transfer sheet having a transfer layer on a base material, the base material side of the transfer layer is a low refractive index layer, and the low refractive index layer has a thickness of 0.5 to 5.0 μm. A transfer sheet containing hollow particles and a binder resin, the hollow particles having an average particle diameter of 60 to 140 nm, and containing a cured product of a composition containing a silicone-based compound as the binder resin.
[3] The coating composition for forming a low refractive index layer of a low refractive index member according to the above [1], which contains hollow particles having an average particle diameter of 60 to 140 nm and a silicone compound as a binder resin component.
[4] The coating composition for forming a low refractive index layer of the transfer sheet according to the above [2], which contains hollow particles having an average particle diameter of 60 to 140 nm and a silicone compound as a binder resin component.
[5] A laminated body having a vapor-deposited film on the low-refractive index layer of the low-refractive index member according to the above [1].

本発明によれば、膜厚が厚いにも関わらず、白化を抑制して視認性が良好であり、かつ反射防止性を維持し得る低屈折部材、転写シート及びこれらに用いるコーティング組成物を提供することができる。また、本発明によれば、該低屈折部材を用いた積層体を提供することができる。 According to the present invention, there are provided a low refraction member, a transfer sheet, and a coating composition used for these, which can suppress whitening, have good visibility, and maintain antireflection even though the film thickness is thick. can do. Further, according to the present invention, it is possible to provide a laminated body using the low refraction member.

[低屈折部材]
本発明の低屈折部材は、基材上に低屈折率層を有してなり、前記低屈折率層は、厚みが0.5〜5.0μmであり、かつ、中空粒子及びバインダー樹脂を含み、前記中空粒子は平均粒子径が60〜140nmであり、前記バインダー樹脂として、シリコーン系化合物を含む組成物の硬化物を含むものである。
[Low refraction member]
The low-refractive index member of the present invention has a low-refractive index layer on a base material, and the low-refractive index layer has a thickness of 0.5 to 5.0 μm and contains hollow particles and a binder resin. The hollow particles have an average particle diameter of 60 to 140 nm, and the binder resin contains a cured product of a composition containing a silicone-based compound.

<基材>
基材は、低屈折率層を形成する際の支持体となるものである。
基材は光透過性を有するものが好適であり、具体的には、JIS K7361−1:1997に準拠する全光線透過率が50%以上であるものが好ましく、80%以上であるものがより好ましく、90%以上であるものがさらに好ましい。
<Base material>
The base material serves as a support for forming the low refractive index layer.
The base material preferably has light transmittance, specifically, a base material having a total light transmittance of 50% or more, more preferably 80% or more, in accordance with JIS K7361-1: 1997. It is preferable, and more preferably 90% or more.

基材は、プラスチック及びガラス等が挙げられる。
ガラスはプラスチックよりも硬く、低屈折率層の耐擦傷性を良好にしやすい点で好ましい。
Examples of the base material include plastic and glass.
Glass is preferable to plastic because it is harder and tends to improve the scratch resistance of the low refractive index layer.

プラスチック基材は、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体等のビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸エチル等のアクリル系樹脂、ポリスチレン等のスチレン系樹脂、ナイロン6又はナイロン66等のポリアミド系樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリカーボネート等の樹脂、ポリイミド系樹脂の1種又は2種以上から形成することができる。
ガラスは、無アルカリガラス、窒化ガラス、ソーダ石灰ガラス、ホウ珪酸塩ガラス及び鉛ガラス等が挙げられる。
The plastic base material is a polyolefin resin such as polyethylene and polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, ethylene / vinyl acetate copolymer, vinyl resin such as ethylene / vinyl alcohol copolymer, polyethylene terephthalate, and polyethylene. Polyester resins such as naphthalate and polybutylene terephthalate, acrylic resins such as methyl poly (meth) acrylate and ethyl poly (meth) acrylate, styrene resins such as polystyrene, polyamide resins such as nylon 6 or nylon 66. It can be formed from one or more of a cellulose-based resin such as triacetyl cellulose, a resin such as polycarbonate, and a polyimide-based resin.
Examples of the glass include non-alkali glass, nitrided glass, soda-lime glass, borosilicate glass, lead glass and the like.

基材の厚みは特に限定されないが、プラスチック基材の場合、取り扱い性の観点から、10〜500μmであることが好ましく、20〜400μmであることがより好ましく、50〜300μmであることがさらに好ましい。なお、プラスチック基材は厚み500μmを超える板状のものであってもよい。
また、ガラスの場合、取り扱い性、強度及び軽量化の観点から、0.03〜5.0mmであることが好ましく、0.1〜3.0mmであることがより好ましく、0.3〜2.0mmであることがさらに好ましい。
The thickness of the base material is not particularly limited, but in the case of a plastic base material, it is preferably 10 to 500 μm, more preferably 20 to 400 μm, and further preferably 50 to 300 μm from the viewpoint of handleability. .. The plastic base material may be a plate-like material having a thickness of more than 500 μm.
Further, in the case of glass, from the viewpoint of handleability, strength and weight reduction, it is preferably 0.03 to 5.0 mm, more preferably 0.1 to 3.0 mm, and 0.3 to 2. It is more preferably 0 mm.

なお、基材は、平板状のものに限られず、曲面等を有する三次元形状であってもよい。また、基材は無色に限られず、有色のものでもよい。 The base material is not limited to a flat plate shape, and may have a three-dimensional shape having a curved surface or the like. Further, the base material is not limited to colorless and may be colored.

<低屈折率層>
低屈折率層は、基材の少なくとも一方の面に形成される。また、低屈折率層は低屈折部材の基材とは反対側の最表面に位置することが好ましい。
<Low refractive index layer>
The low index of refraction layer is formed on at least one surface of the substrate. Further, the low refractive index layer is preferably located on the outermost surface on the side opposite to the base material of the low refractive index member.

本発明の低屈折部材は、低屈折率層は厚みが0.5〜5.0μmであることを要する。低屈折率層の厚みが0.5μm未満の場合、低屈折率層が擦過により僅かに傷ついた場合でも、擦過箇所の反射防止性が消失してしまい、視認性を良好にすることができない。また、低屈折率層の厚みが5.0μmを超える場合、中空粒子の絶対量が増加するため、内部拡散により低屈折率層が白化し、視認性を良好にすることができず、さらには、低屈折率層の形成過程(硬化収縮)や、低屈折部材の取り扱い時に低屈折率層にクラックが生じてしまう。 In the low refractive index member of the present invention, the low refractive index layer needs to have a thickness of 0.5 to 5.0 μm. When the thickness of the low refractive index layer is less than 0.5 μm, even if the low refractive index layer is slightly damaged by scratching, the antireflection property of the scratched portion is lost, and visibility cannot be improved. Further, when the thickness of the low refractive index layer exceeds 5.0 μm, the absolute amount of hollow particles increases, so that the low refractive index layer is whitened due to internal diffusion, and visibility cannot be improved. , The low refractive index layer is cracked during the formation process (curing shrinkage) of the low refractive index layer and when the low refractive index member is handled.

さらに、本発明の低屈折部材は、低屈折率層が中空粒子及びバインダー樹脂を含み、中空粒子は平均粒子径が60〜140nmであることを要する。
中空粒子の平均粒子径が60nm未満の場合、屈折率の低い空気の割合が減少するため低屈折率層の屈折率を十分に下げることができず、反射防止性が低下してしまう。また、中空粒子の平均粒子径が140nmを超える場合、中空粒子の拡散が強くなり、低屈折率層が白化し、視認性を良好にすることができない。
Further, in the low refractive index member of the present invention, the low refractive index layer contains hollow particles and a binder resin, and the hollow particles are required to have an average particle diameter of 60 to 140 nm.
When the average particle size of the hollow particles is less than 60 nm, the proportion of air having a low refractive index decreases, so that the refractive index of the low refractive index layer cannot be sufficiently lowered, and the antireflection property is lowered. Further, when the average particle size of the hollow particles exceeds 140 nm, the diffusion of the hollow particles becomes strong, the low refractive index layer becomes white, and the visibility cannot be improved.

さらに、本発明の低屈折部材は、低屈折率層のバインダー樹脂として、シリコーン系化合物を含む組成物の硬化物を含むことを要する。
バインダー樹脂として、シリコーン系化合物を含む組成物の硬化物を含まない場合、低屈折率層の屈折率を十分に下げることができず、反射防止性が低下してしまう。
Further, the low-refractive index member of the present invention is required to contain a cured product of a composition containing a silicone-based compound as a binder resin for a low-refractive index layer.
When the binder resin does not contain a cured product of the composition containing a silicone compound, the refractive index of the low refractive index layer cannot be sufficiently lowered, and the antireflection property is lowered.

以上のように、本発明の低屈折部材は、低屈折率層の厚みを0.5〜5.0μm、中空粒子の平均粒子径を60〜140nmとして、かつ、バインダー樹脂として、シリコーン系化合物を含む組成物の硬化物を含むことによって、膜厚が厚いにも関わらず、白化を抑制して視認性が良好であり、かつ反射防止性を維持することを可能としている。 As described above, in the low refractive index member of the present invention, the thickness of the low refractive index layer is 0.5 to 5.0 μm, the average particle diameter of the hollow particles is 60 to 140 nm, and the binder resin is a silicone compound. By including the cured product of the composition containing the mixture, it is possible to suppress whitening, have good visibility, and maintain antireflection property even though the film thickness is thick.

<<中空粒子>>
中空粒子とは、外殻層を有し、当該外殻層に囲まれた粒子内部が空洞であり、粒子内部に空気を含む粒子をいう。
中空粒子の外殻層は、無機物であっても有機物であってもよく、例えば、金属、金属酸化物、樹脂、シリカ等からなるものが挙げられる。なかでも外殻層がシリカである中空シリカ粒子であることが好ましい。中空粒子として中空シリカ粒子を用いることにより、シリコーン系化合物を含む組成物の硬化物を含むバインダー樹脂と、中空粒子の外殻との親和性が高くなり、かつ屈折率差が小さくなることで、内部ヘイズを低くしやすくできる。
外殻層がシリカである場合、当該シリカは結晶性、ゾル状、ゲル状のいずれの状態であってもよい。
中空粒子の形状は、真球状、回転楕円体状及び球体に近似できる多面体形状等の略球状、鎖状、針状、板状、片状、棒状、繊維状等のいずれであってもよい。なかでも、真球状及び略球状であることが好ましく、回転楕円体状又は真球状であることがより好ましい。
<< Hollow particles >>
Hollow particles refer to particles having an outer shell layer, the inside of the particles surrounded by the outer shell layer is hollow, and the inside of the particles contains air.
The outer shell layer of the hollow particles may be an inorganic substance or an organic substance, and examples thereof include those made of metal, metal oxide, resin, silica and the like. Of these, hollow silica particles in which the outer shell layer is silica are preferable. By using the hollow silica particles as the hollow particles, the affinity between the binder resin containing the cured product of the composition containing the silicone compound and the outer shell of the hollow particles is increased, and the difference in refractive index is reduced. The internal haze can be easily lowered.
When the outer shell layer is silica, the silica may be in a crystalline, sol-like, or gel-like state.
The shape of the hollow particles may be a substantially spherical shape such as a true sphere, a spheroid shape, or a polyhedral shape that can be approximated to a sphere, a chain shape, a needle shape, a plate shape, a piece shape, a rod shape, a fibrous shape, or the like. Among them, it is preferably a true sphere and a substantially spherical shape, and more preferably a spheroid or a true sphere.

中空粒子は、上述したように、平均粒子径が60〜140nmであることを要する。中空粒子の平均粒子径は、65〜120nmであることが好ましく、67〜110nmであることがより好ましく、70〜100nmであることがさらに好ましく、70〜90nmであることがよりさらに好ましい。 As described above, the hollow particles are required to have an average particle size of 60 to 140 nm. The average particle size of the hollow particles is preferably 65 to 120 nm, more preferably 67 to 110 nm, further preferably 70 to 100 nm, and even more preferably 70 to 90 nm.

中空粒子の平均粒子径は、以下の(1)〜(3)の作業により算出できる。
(1)低屈折部材の断面をTEM又はSTEMで撮像する。TEM又はSTEMの加速電圧は10kv〜30kV、倍率は5万〜30万倍とすることが好ましい。
(2)観察画像から任意の10個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な2本の直線で挟んだとき、該2本の直線間距離が最大となるような2本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
(3)同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を5回行って、合計50個分の数平均から得られる値を平均粒子径とする。
The average particle size of the hollow particles can be calculated by the following operations (1) to (3).
(1) The cross section of the low refraction member is imaged by TEM or STEM. The acceleration voltage of TEM or STEM is preferably 10 kv to 30 kV, and the magnification is preferably 50,000 to 300,000 times.
(2) Arbitrary 10 particles are extracted from the observation image, and the particle size of each particle is calculated. The particle size is measured as the distance between two straight lines in a combination of the two straight lines so that the distance between the two straight lines is maximized when the cross section of the particle is sandwiched between two arbitrary parallel straight lines.
(3) The same operation is performed 5 times on the observation image on another screen of the same sample, and the value obtained from the number average of a total of 50 particles is defined as the average particle size.

中空粒子は表面処理されたものが好ましい。
中空粒子の表面処理としては、シランカップリング剤を用いた表面処理がより好ましく、この中で、(メタ)アクリロイル基又はエポキシ基を有するシランカップリング剤を用いた表面処理を行うことが好ましい。
中空粒子にシランカップリング剤による表面処理を施すことにより、中空粒子とバインダー樹脂との親和性が向上し、中空粒子の分散が均一となり、中空粒子の凝集が生じにくくなるため、低屈折率層の透明性の低下を抑制しやすくできる。
The hollow particles are preferably surface-treated.
As the surface treatment of the hollow particles, a surface treatment using a silane coupling agent is more preferable, and among these, a surface treatment using a silane coupling agent having a (meth) acryloyl group or an epoxy group is preferable.
By surface-treating the hollow particles with a silane coupling agent, the affinity between the hollow particles and the binder resin is improved, the dispersion of the hollow particles becomes uniform, and the agglomeration of the hollow particles is less likely to occur. It is possible to easily suppress the decrease in transparency of the particles.

シランカップリング剤としては、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、トリス−(トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、1,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン及びビニルトリエトキシシラン等が挙げられる。 Examples of the silane coupling agent include 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, and 3-acryloxypropyltri. Methoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3 -Glysidoxypropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane , 3-Aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, Tris- (trimethoxysilylpropyl) isocia Nurate, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanuppropyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, Phenyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, 1,6-bis (trimethoxysilyl) hexane , Trifluoropropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane and the like.

中空粒子の含有量は、バインダー樹脂100質量部に対して100〜300質量部であることが好ましく、150〜250質量部であることがより好ましく、180〜220質量部であることがさらに好ましい。
中空粒子の含有量を100質量部以上とすることにより、低屈折率層の屈折率を十分に下げ、反射防止性を良好にしやすくできる。また、中空粒子の含有量を300質量部以下とすることにより、耐擦傷性を維持しつつ、内部拡散の上昇によって低屈折率層が白化することを抑制し、視認性の低下を抑制しやすくできる。
The content of the hollow particles is preferably 100 to 300 parts by mass, more preferably 150 to 250 parts by mass, and further preferably 180 to 220 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin.
By setting the content of the hollow particles to 100 parts by mass or more, the refractive index of the low refractive index layer can be sufficiently lowered and the antireflection property can be easily improved. Further, by setting the content of the hollow particles to 300 parts by mass or less, it is possible to suppress whitening of the low refractive index layer due to an increase in internal diffusion while maintaining scratch resistance, and it is easy to suppress a decrease in visibility. can.

<<バインダー樹脂>>
本発明の低屈折部材は、上述したように、低屈折率層のバインダー樹脂として、シリコーン系化合物を含む組成物の硬化物を含むことを要する。シリコーン系化合物は、分子内にシロキサン結合(Si−O−Si)を有する化合物である。
バインダー樹脂は、シリコーン系化合物を含む組成物の硬化物以外の樹脂を含有してもよいが、バインダー樹脂の全量に対するシリコーン系化合物を含む組成物の硬化物の割合が50質量%以上であることが好ましく、70質量%以上であることがより好ましく、90質量%以上であることがさらに好ましく、100質量%であることがよりさらに好ましい。
シリコーン系化合物は、例えば、後述する反応性官能基の架橋反応、アルコキシ基の脱アルコール縮合反応、シラノール基の脱水縮合等により硬化させることができる。
<< Binder resin >>
As described above, the low-refractive index member of the present invention needs to contain a cured product of a composition containing a silicone-based compound as a binder resin for a low-refractive index layer. The silicone-based compound is a compound having a siloxane bond (Si—O—Si) in the molecule.
The binder resin may contain a resin other than the cured product of the composition containing the silicone-based compound, but the ratio of the cured product of the composition containing the silicone-based compound to the total amount of the binder resin is 50% by mass or more. Is more preferable, 70% by mass or more is more preferable, 90% by mass or more is further preferable, and 100% by mass or more is further preferable.
The silicone-based compound can be cured by, for example, a cross-linking reaction of a reactive functional group described later, a dealcohol condensation reaction of an alkoxy group, a dehydration condensation of a silanol group, or the like.

シリコーン系化合物は、置換基として反応性官能基を有する置換炭化水素基がケイ素原子に直結してなるものが好ましい。該反応性官能基としては、エポキシ基、メルカプト基、(メタ)アクリル基、アミノ基、ビニル基及びイソシアネート基が挙げられる。
以下、置換基として反応性官能基を有する置換炭化水素基がケイ素原子に直結してなるシリコーン系化合物のことを「反応性官能基含有シリコーン化合物」と称する場合がある。
The silicone-based compound is preferably one in which a substituted hydrocarbon group having a reactive functional group as a substituent is directly bonded to a silicon atom. Examples of the reactive functional group include an epoxy group, a mercapto group, a (meth) acrylic group, an amino group, a vinyl group and an isocyanate group.
Hereinafter, a silicone-based compound in which a substituted hydrocarbon group having a reactive functional group as a substituent is directly bonded to a silicon atom may be referred to as a “reactive functional group-containing silicone compound”.

中空粒子がシランカップリング剤で表面処理されたものである場合、反応性官能基含有シリコーン化合物を用いることで、内部ヘイズを下げ、低屈折率層の膜厚が厚いにも関わらず白化を抑制して視認性を良好にしやすくできる。この理由は、反応性官能基含有シリコーン化合物を用いることで、シリコーン系化合物の反応性官能基を有する側(有機成分がリッチな側)が、中空粒子に付着したシランカップリング剤の反応性官能基に向きやすくなることで、屈折率差が減少するためと考えられる。
反応性官能基含有シリコーン化合物の反応性基は、中空粒子とバインダー樹脂との界面剥離の抑制、低屈折率層の表面凹凸を抑制する観点から、重合収縮の小さいカチオン反応性の反応性基であることが好ましく、ガラスやシリカとの接着性に優れるエポキシ基であることがより好ましい。低屈折率層の表面凹凸を抑制することは、低屈折率層の白化の抑制及び低屈折率の耐擦傷性の向上につながるとともに、低屈折率層上に蒸着膜をムラなくきれに形成しやすくし得る点で好ましい。
When the hollow particles are surface-treated with a silane coupling agent, the internal haze is lowered by using a silicone compound containing a reactive functional group, and whitening is suppressed even though the film thickness of the low refractive index layer is thick. This makes it easier to improve visibility. The reason for this is that by using the reactive functional group-containing silicone compound, the side of the silicone compound having the reactive functional group (the side rich in the organic component) is the reactive functional of the silane coupling agent attached to the hollow particles. It is considered that the difference in refractive index is reduced by making it easier to face the group.
The reactive group of the reactive functional group-containing silicone compound is a cationically reactive reactive group having a small polymerization shrinkage from the viewpoint of suppressing the interfacial peeling between the hollow particles and the binder resin and suppressing the surface unevenness of the low refractive index layer. It is preferably present, and more preferably an epoxy group having excellent adhesion to glass or silica. Suppressing the surface irregularities of the low refractive index layer leads to suppression of whitening of the low refractive index layer and improvement of scratch resistance of the low refractive index, and also forms a vapor-deposited film evenly on the low refractive index layer. It is preferable because it can be facilitated.

反応性官能基含有シリコーン化合物は、反応性官能基当量が200〜900g/molであることが好ましく、220〜600g/molであることがより好ましく、250〜400g/molであることがさらに好ましい。
反応性官能基当量を900g/mol以下とすることにより、反応性官能基の量が十分なものとなり、上記効果(良好な視認性)を得やすくできる。また、反応性官能基当量を200g/mol以上とすることにより、反応性官能基の自己架橋による収縮を抑制し、中空粒子とバインダー樹脂との界面剥離及び低屈折率層の表面の凹凸化を抑制しやすくできる。
The reactive functional group-containing silicone compound preferably has a reactive functional group equivalent of 200 to 900 g / mol, more preferably 220 to 600 g / mol, and even more preferably 250 to 400 g / mol.
By setting the reactive functional group equivalent to 900 g / mol or less, the amount of the reactive functional group becomes sufficient, and the above effect (good visibility) can be easily obtained. Further, by setting the equivalent of the reactive functional groups to 200 g / mol or more, shrinkage due to self-crosslinking of the reactive functional groups is suppressed, and the interface between the hollow particles and the binder resin is peeled off and the surface of the low refractive index layer is made uneven. It can be easily suppressed.

反応性官能基含有シリコーン化合物は、下記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物の1種以上の加水分解物、下記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物の1種以上の加水分解重縮合物、下記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物の1種以上と下記一般式(2)で表される有機ケイ素化合物の1種以上との加水分解重縮合物等が挙げられる。これらの中でも、下記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物の1種以上の加水分解重縮合物及び下記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物の1種以上と下記一般式(2)で表される有機ケイ素化合物の1種以上との加水分解重縮合物は、蒸着膜形成時の熱でも揮発しにくいため、蒸着膜との密着性を良好にしやすい点で好ましい。以下、本明細書において、有機ケイ素化合物の1種以上の加水分解重縮合物のことを「オリゴマー型シリコーン系化合物」と称する場合がある。 The reactive functional group-containing silicone compound is one or more hydrolysates of an organosilicon compound represented by the following general formula (1), and one or more hydrophiles of an organosilicon compound represented by the following general formula (1). Degraded polycondensates, hydrolyzed polycondensates of one or more organosilicon compounds represented by the following general formula (1) and one or more organosilicon compounds represented by the following general formula (2), and the like. Be done. Among these, one or more hydrolyzed polycondensates of the organosilicon compound represented by the following general formula (1), one or more of the organosilicon compounds represented by the following general formula (1), and the following general formula ( The hydrolyzed polycondensate with one or more of the organosilicon compounds represented by 2) is preferable because it is difficult to volatilize even with heat during formation of the vapor-deposited film, and therefore it is easy to improve the adhesion to the vapor-deposited film. Hereinafter, in the present specification, one or more hydrolyzed polycondensates of organosilicon compounds may be referred to as “oligomeric silicone compounds”.

−SiX4−n (1)
[式(1)中、nは1〜3の整数である。また、式(1)中、Rは置換基として反応性官能基を有する炭素数1〜10の置換炭化水素基であり、nが2〜3の時、Rは互いに同一であっても異なっていてもよい。また、式(1)中、Xは炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン又は水素であり、nが1〜2の時、Xは互いに同一であっても異なっていてもよい。]
−SiX4−n (2)
[式(2)中、nは1〜3の整数である。また、式(2)中、Rは反応性官能基を有さない炭素数1〜10の非置換又は置換炭化水素基であり、nが2〜3の時、Rは互いに同一であっても異なっていてもよい。また、式(2)中、Xは炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン又は水素であり、nが1〜2の時、Xは互いに同一であっても異なっていてもよい。]
R n −SiX 4-n (1)
[In equation (1), n is an integer of 1-3. Further, in the formula (1), R is a substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms having a reactive functional group as a substituent, and when n is 2 to 3, R is different even if they are the same as each other. You may. Further, in the formula (1), X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a silanol group, a halogen or hydrogen, and when n is 1 to 2, X may be the same as or different from each other. ]
R 2 n −SiX 4-n (2)
[In equation (2), n is an integer of 1-3. Further, in the formula (2), R 2 is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms having no reactive functional group, and when n is 2 to 3, R 2 is the same as each other. May be different. Further, in the formula (2), X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a silanol group, a halogen or hydrogen, and when n is 1 to 2, X may be the same as or different from each other. ]

上記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物としては、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、
γ−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロオキシメチルトリエキシシラン、γ−(メタ)アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ−(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン及びN−β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
上記一般式(2)で表される有機ケイ素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラオクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、パーフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン及びパーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
Examples of the organosilicon compound represented by the general formula (1) include β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltrimethoxysilane, and γ-glycidoxymethyltrioxysilane. , Gamma-glycidoxyethyl trimethoxysilane,
γ-glycidoxyethyl triethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- (β-glycidoxyethoxy) propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltrioxysilane, γ- (meth) acrylooxyethyl Trimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxyethyl triethoxysilane, γ- (meth) acrylooxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylo Oxypropyltriethoxysilane, γ- (meth) acrylooxypropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane and N-β (aminoethyl) γ -Aminopropyltrimethoxysilane and the like can be mentioned.
Examples of the organic silicon compound represented by the general formula (2) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, and diphenyldimethoxysilane. , Methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, butyltrimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilaoctyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, Butyltriethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxy Examples thereof include silane, perfluorooctylethyltrimethoxysilane and perfluorooctylethyltriethoxysilane.

また、シリコーン系化合物としては、上記一般式(2)で表される有機ケイ素化合物の1種以上の加水分解重縮合物も好ましい。上記一般式(2)で表される有機ケイ素化合物の1種以上の加水分解重縮合物は、硬化収縮による低屈折率層表面の凹凸化を抑制することができ、さらには、蒸着膜形成時の熱でも揮発しにくいため、蒸着膜との密着性を良好にしやすい点で好ましい。 Further, as the silicone compound, one or more hydrolyzed polycondensates of the organosilicon compound represented by the above general formula (2) are also preferable. One or more hydrolyzed polycondensates of the organic silicon compound represented by the above general formula (2) can suppress the unevenness of the surface of the low refractive index layer due to curing shrinkage, and further, at the time of forming a thin-film deposition film. It is preferable because it is difficult to volatilize even with the heat of the above, and it is easy to improve the adhesion with the vapor deposition film.

また、シリコーン系化合物は、アルコキシ基を有するものが好ましい。また、該アルコキシ基はケイ素原子に直結してなるものが好ましい。
アルコキシ基を有するシリコーン系化合物を用いることで、基材がガラスの場合に、基材と低屈折率層との接着性を良好にすることができ、耐擦傷性をより良好にすることができる。また、アルコキシ基を有するシリコーン系化合物を用いることで、後述する積層体の構成(低屈折率層上に蒸着膜を有する構成)とした際に、低屈折率層と蒸着膜と接着性を良好にすることができる。
Further, the silicone compound preferably has an alkoxy group. Further, it is preferable that the alkoxy group is directly linked to a silicon atom.
By using a silicone compound having an alkoxy group, when the base material is glass, the adhesiveness between the base material and the low refractive index layer can be improved, and the scratch resistance can be further improved. .. Further, by using a silicone-based compound having an alkoxy group, the adhesiveness between the low refractive index layer and the vapor deposition film is good when the structure of the laminate described later (the structure having the vapor deposition film on the low refractive index layer) is adopted. Can be.

アルコキシ基を有するシリコーン系化合物中のアルコキシ基の量は、5〜60質量%であることが好ましく、10〜50質量%であることがより好ましく、15〜45質量%であることがさらに好ましい。
アルコキシ基の量を5質量%以上とすることにより、無機物(例えば、基材としてのガラス、あるいは、低屈折率層上に形成する蒸着膜)との接着性を良好にしやすくすることができ、アルコキシ基の量を60質量%以下とすることにより、アルコキシ基の脱アルコール反応による低屈折率層の収縮を抑制し、中空粒子とバインダー樹脂との界面剥離及び低屈折率層の表面の凹凸化を抑制しやすくできる。
The amount of the alkoxy group in the silicone compound having an alkoxy group is preferably 5 to 60% by mass, more preferably 10 to 50% by mass, and further preferably 15 to 45% by mass.
By setting the amount of the alkoxy group to 5% by mass or more, it is possible to easily improve the adhesiveness with an inorganic substance (for example, glass as a base material or a vapor-deposited film formed on a low refractive index layer). By setting the amount of the alkoxy group to 60% by mass or less, the shrinkage of the low refractive index layer due to the dealcoholization reaction of the alkoxy group is suppressed, the interface between the hollow particles and the binder resin is peeled off, and the surface of the low refractive index layer is made uneven. Can be easily suppressed.

シリコーン系化合物を含む組成物は、必要に応じて硬化触媒を含有していてもよい。
例えば、反応性官能基含有シリコーン化合物の反応性官能基がエポキシ基の場合、シリコーン系化合物を含む組成物中には、硬化触媒としてアミン系触媒、酸性触媒及び塩基性触媒から選ばれる1種以上を含むことが好ましい。
また、シリコーン化合物系化合物のアルコキシ基と、ガラス等の無機物との反応を促進するため、シリコーン系化合物を含む組成物は、酸性触媒、塩基性触媒及びアミン系触媒から選ばれる1種以上の触媒を含むことが好ましい。
The composition containing the silicone-based compound may contain a curing catalyst, if necessary.
For example, when the reactive functional group of the reactive functional group-containing silicone compound is an epoxy group, one or more selected from amine-based catalysts, acidic catalysts and basic catalysts as the curing catalyst in the composition containing the silicone-based compound. Is preferably included.
Further, in order to promote the reaction between the alkoxy group of the silicone compound-based compound and an inorganic substance such as glass, the composition containing the silicone-based compound is one or more catalysts selected from acidic catalysts, basic catalysts and amine-based catalysts. Is preferably included.

<<厚み>>
本発明の低屈折部材は、上述したように、低屈折率層の厚みが0.5〜5.0μmであることを要する。
低屈折率層の厚みは、0.7〜4.0μmであることが好ましく、0.8〜3.5μmであることがより好ましく、1.0〜3.0μmであることがさらに好ましい。
本明細書において、低屈折率層の厚みは10箇所の測定値の平均値として算出できる。なお、厚みのバラツキは、平均厚みに対して±15%以内であることが好ましく、±10%以内であることがより好ましく、±7%以内であることがさらに好ましく、5%以内であることがよりさらに好ましい。
低屈折率層の厚みは、例えば、顕微分光膜厚計により測定することができる。
<< Thickness >>
As described above, the low-refractive index member of the present invention requires the low-refractive index layer to have a thickness of 0.5 to 5.0 μm.
The thickness of the low refractive index layer is preferably 0.7 to 4.0 μm, more preferably 0.8 to 3.5 μm, and even more preferably 1.0 to 3.0 μm.
In the present specification, the thickness of the low refractive index layer can be calculated as an average value of measured values at 10 points. The variation in thickness is preferably within ± 15%, more preferably within ± 10%, further preferably within ± 7%, and within 5% with respect to the average thickness. Is even more preferable.
The thickness of the low refractive index layer can be measured by, for example, a microspectroscopy.

<<屈折率>>
低屈折率層の屈折率は1.30以下であることが好ましく、1.27以下であることがより好ましい。低屈折率層の屈折率を1.30以下とすることにより、低屈折率層表面の反射率が高くなることを抑制し、視認性を良好にしやすくできる。低屈折率層の屈折率の下限は1.10程度である。
なお、本明細書において、屈折率は、波長589.3nmにおける屈折率をいうものとする。
低屈折率層の屈折率は、例えば、顕微分光膜厚計により算出することができる。
<< Refractive index >>
The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.30 or less, more preferably 1.27 or less. By setting the refractive index of the low refractive index layer to 1.30 or less, it is possible to suppress the increase in the reflectance of the surface of the low refractive index layer and facilitate the improvement of visibility. The lower limit of the refractive index of the low refractive index layer is about 1.10.
In the present specification, the refractive index refers to the refractive index at a wavelength of 589.3 nm.
The refractive index of the low refractive index layer can be calculated by, for example, a microspectroscopy.

低屈折率層は、帯電防止剤、酸化防止剤、界面活性剤、分散剤及び紫外線吸収剤等の添加剤を含有してもよい。 The low refractive index layer may contain additives such as antistatic agents, antioxidants, surfactants, dispersants and UV absorbers.

低屈折率層は、例えば、低屈折率層を構成する各成分を含む低屈折率層形成用塗布液を基材上に塗布、乾燥、硬化するウェット法、及び、ウェット法により基材上に形成した低屈折率層を転写する転写法等により形成することができる。 The low-refractive index layer is, for example, a wet method in which a coating liquid for forming a low-refractive index layer containing each component constituting the low-refractive index layer is applied onto the base material, dried and cured, and a wet method is used on the base material. It can be formed by a transfer method or the like that transfers the formed low refractive index layer.

<その他の層>
本発明の低屈折部材は、基材と低屈折率層との間にその他の層を有していてもよい。
その他の層としては、例えば、低屈折率層の耐擦傷性を向上するためのハードコート層、基材と低屈折率層との接着性を向上するための接着剤層、帯電防止層等が挙げられる。
<Other layers>
The low-refractive index member of the present invention may have another layer between the base material and the low-refractive index layer.
Other layers include, for example, a hard coat layer for improving the scratch resistance of the low refractive index layer, an adhesive layer for improving the adhesiveness between the base material and the low refractive index layer, an antistatic layer, and the like. Can be mentioned.

<光学特性>
本発明の低屈折部材は、低屈折率層側から測定した拡散光線反射率RSCEが下記の範囲であることが好ましい。
SCEは、積分球を用いてサンプル表面にあらゆる方向から光を与え、正反射方向に相当するライトトラップを開放して測定される、ライトトラップから抜ける反射光以外の反射光を測定し、該測定値から算出される反射率である。低屈折率層は表面が平滑に近く、正反射光に比べて拡散反射光の割合は小さい。このため、全反射光から正反射光を除いたRSCEは、ごく少ない成分である拡散反射光を表し、かつ、低屈折率層内部の拡散反射の量を示すのに適したパラメータであるといえる。
代表的なRSCEの測定装置は、JIS Z8722:2009の幾何条件cに準拠した構成となっている。より具体的には、代表的なRSCEの測定装置は、積分球分光光度計の光源としてD65を用い、受光器の位置はサンプルの法線に対して+8度であり、ライトトラップの位置はサンプルの法線に対して−8度であり、視野角は2度又は10度である。RSCEの測定装置としては、コニカミノルタ株式会社製の商品名CM−2600dが挙げられる。本明細書では、視野角を2度としている。
<Optical characteristics>
Low refractive member of the present invention is preferably diffuse light reflectance R SCE measured from the low refractive index layer side is in the range below.
RSCE uses an integrating sphere to apply light to the sample surface from all directions, opens the light trap corresponding to the normal reflection direction, and measures the reflected light other than the reflected light passing through the light trap. It is the reflectance calculated from the measured value. The surface of the low refractive index layer is almost smooth, and the proportion of diffusely reflected light is smaller than that of specularly reflected light. Therefore, RSCE, which is obtained by removing the positively reflected light from the total reflected light, is a parameter suitable for showing the diffuse reflected light which is a very small component and showing the amount of diffuse reflection inside the low refraction layer. I can say.
Measuring device of a typical R SCE is, JIS Z8722: has a configuration conforming to the geometric-condition c 2009. More specifically, a typical RSCE measuring device uses D65 as the light source of the integrating sphere spectrophotometer, the position of the receiver is +8 degrees with respect to the normal of the sample, and the position of the light trap is. It is -8 degrees to the normal of the sample and the viewing angle is 2 degrees or 10 degrees. As a measurement apparatus of R SCE include the trade name CM-2600d manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.. In this specification, the viewing angle is set to 2 degrees.

拡散光線反射率RSCEは1.5%以下であることが好ましく、1.0%以下であることがより好ましく、0.5%以下であることがさらに好ましい。
SCEを1.5%以下とすることにより、低屈折率層内部の拡散反射の量が減少し、白化を抑制することができる。なお、RSCEの下限は0.01%程度である。
The diffuse ray reflectance RSCE is preferably 1.5% or less, more preferably 1.0% or less, and further preferably 0.5% or less.
By setting the RSCE to 1.5% or less, the amount of diffuse reflection inside the low refractive index layer can be reduced, and whitening can be suppressed. The lower limit of R SCE is about 0.01%.

なお、低屈折部材が全体として光透過性を有する場合、低屈折部材の背面反射の影響を排除するため、低屈折部材の低屈折率層を有する側の面とは反対側の面に、黒色着剤層及び背面フィルムを積層したサンプルを作成し、該サンプルの低屈折率層側からRSCEを測定することが好ましい。後述する視感反射率Y値の測定も同様である。
サンプルの黒色粘着剤層は、全光線透過率が1%以下のものが好ましい。また、低屈折部材の低屈折率層を有する側の面とは反対側の面の屈折率(例えば基材の屈折率)と、黒色粘着剤層のバインダー樹脂の屈折率との差(Δn)は、0.10以内とすることが好ましい。
When the low-refractive index member has light transmission as a whole, in order to eliminate the influence of the back reflection of the low-refractive index member, the surface of the low-refractive index member opposite to the surface having the low refractive index layer is black. create a sample obtained by laminating Chakuzaiso and back films, it is preferable to measure the R SCE a low refractive index layer side of the sample. The same applies to the measurement of the visual reflectance Y value, which will be described later.
The black pressure-sensitive adhesive layer of the sample preferably has a total light transmittance of 1% or less. Further, the difference (Δn) between the refractive index of the surface of the low refractive index member opposite to the surface having the low refractive index layer (for example, the refractive index of the base material) and the refractive index of the binder resin of the black pressure-sensitive adhesive layer. Is preferably within 0.10.

本明細書においてRSCE、ヘイズ、全光線透過率及び視感反射率Y値は、10箇所の測定値の平均値とする。 In the present specification, RSCE , haze, total light transmittance and visual reflectance Y value are average values of 10 measured values.

本発明の低屈折部材は、JIS K7136:2000に準拠するヘイズが1.0%以下であることが好ましく、0.5%以下であることがより好ましく、0.2%以下であることがさらに好ましい。ヘイズを1.0%以下とすることにより、低屈折率層の白化を抑制し、視認性を良好にしやすくできる。 The low refraction member of the present invention preferably has a haze according to JIS K7136: 2000 of 1.0% or less, more preferably 0.5% or less, and further preferably 0.2% or less. preferable. By setting the haze to 1.0% or less, whitening of the low refractive index layer can be suppressed and visibility can be easily improved.

本発明の低屈折部材は、JIS K7361−1:1997の全光線透過率が50.0%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。 In the low refraction member of the present invention, the total light transmittance of JIS K7361-1: 1997 is preferably 50.0% or more, more preferably 80% or more, still more preferably 90% or more. ..

本発明の低屈折部材は、低屈折率層を有する側から光入射角5度で測定した視感反射率Y値が3.0%以下であることが好ましく、2.0%以下であることがより好ましい。本明細書において、視感反射率Y値とは、CIE1931標準表色系の視感反射率Y値のことをいう。視感反射率Y値は、分光光度計(例えば、島津製作所社製、商品名「UV−3600plus」)を用いて算出することができる。 The low-refractive index member of the present invention preferably has a visual reflectance Y value of 3.0% or less, preferably 2.0% or less, measured at a light incident angle of 5 degrees from the side having the low refractive index layer. Is more preferable. In the present specification, the visual reflectance Y value refers to the visual reflectance Y value of the CIE 1931 standard color system. The visual reflectance Y value can be calculated using a spectrophotometer (for example, manufactured by Shimadzu Corporation, trade name "UV-3600plus").

[転写シート]
本発明の転写シートは、基材上に転写層を有してなり、前記転写層の前記基材側は低屈折率層であり、前記低屈折率層は、厚みが0.5〜5.0μmであり、かつ、中空粒子及びバインダー樹脂を含み、前記中空粒子は平均粒子径が60〜140nmであり、前記バインダー樹脂として、前記バインダー樹脂として、シリコーン系化合物を含む組成物の硬化物を含むものである。
[Transfer sheet]
The transfer sheet of the present invention has a transfer layer on a base material, the base material side of the transfer layer is a low refractive index layer, and the low refractive index layer has a thickness of 0.5 to 5. It is 0 μm and contains hollow particles and a binder resin. The hollow particles have an average particle diameter of 60 to 140 nm, and as the binder resin, the binder resin contains a cured product of a composition containing a silicone-based compound. It is a waste.

<基材>
転写シートの基材は、転写シートの製造時及び転写時の作業性等の観点から、プラスチックフィルムが好ましい。
転写シートの基材としてのプラスチックフィルムは、低屈折部材の基材として例示したプラスチックフィルムと同様のものを用いることができる。プラスチックフィルムの厚みは、取り扱い性の観点から、10〜500μmであることが好ましく、20〜400μmであることがより好ましく、50〜300μmであることがさらに好ましい。
転写シートの基材表面は、基材から転写層を剥離しやすくするために、離型処理されたものであってもよい。
<Base material>
The base material of the transfer sheet is preferably a plastic film from the viewpoint of workability during manufacturing and transfer of the transfer sheet.
As the plastic film as the base material of the transfer sheet, the same plastic film as that exemplified as the base material of the low refraction member can be used. From the viewpoint of handleability, the thickness of the plastic film is preferably 10 to 500 μm, more preferably 20 to 400 μm, and even more preferably 50 to 300 μm.
The surface of the base material of the transfer sheet may be mold-released in order to facilitate the peeling of the transfer layer from the base material.

基材の低屈折率層を形成する側の面は、転写後に転写層の表面に露出した低屈折率層の表面凹凸を抑制するため、Ra、Rz及びRpが下記範囲であることが好ましい。Ra、Rz及びRpの詳細(測定方法等)に関しては後述する。
Ra:2.5nm以下
Rz:25nm以下
Rp:12nm以下
Ra, Rz and Rp are preferably in the following ranges on the surface of the base material on the side where the low refractive index layer is formed, in order to suppress surface irregularities of the low refractive index layer exposed on the surface of the transfer layer after transfer. Details of Ra, Rz and Rp (measurement method, etc.) will be described later.
Ra: 2.5 nm or less Rz: 25 nm or less Rp: 12 nm or less

Raは2.0nm以下であることがより好ましく、1.5nm以下であることがさらに好ましく、1.2nm以下であることがよりさらに好ましい。なお、Raの下限は0.3nm程度である。
Rzは20nm以下であることがより好ましく、15nm以下であることがさらに好ましく、10nm以下であることがよりさらに好ましい。なお、Rzの下限は3nm程度である。
Rpは10nm以下であることがより好ましく、8nm以下であることがさらに好ましく、6m以下であることがよりさらに好ましい。なお、Rpの下限は2nm程度である。
Ra is more preferably 2.0 nm or less, further preferably 1.5 nm or less, and even more preferably 1.2 nm or less. The lower limit of Ra is about 0.3 nm.
Rz is more preferably 20 nm or less, further preferably 15 nm or less, and even more preferably 10 nm or less. The lower limit of Rz is about 3 nm.
Rp is more preferably 10 nm or less, further preferably 8 nm or less, and even more preferably 6 m or less. The lower limit of Rp is about 2 nm.

<転写層>
転写層は少なくとも低屈折率層を有する。また、転写層の基材側は低屈折率層から構成されるものとする。
転写層を構成する低屈折率層は、厚みが0.5〜5.0μmであり、かつ、中空粒子及びバインダー樹脂を含み、前記中空粒子は平均粒子径が60〜140nmであり、前記バインダー樹脂として、シリコーン系化合物を含む組成物の硬化物を含むものである。
転写層を構成する低屈折率層及び該低屈折率層に含まれる中空粒子及びバインダー樹脂の実施形態及び好適な実施形態は、上述した本発明の低屈折部材の低屈折率層及び該低屈折率層に含まれる中空粒子及びバインダー樹脂の実施形態及び好適な実施形態と同様である。但し、上述した本発明の低屈折部材の低屈折率層の表面形状(低屈折率層の基材とは反対側の表面形状)は、本発明の転写シートにおいては、低屈折率層の基材側の面の形状(転写後に露出する面の形状)に相当する。
<Transfer layer>
The transfer layer has at least a low refractive index layer. Further, the base material side of the transfer layer shall be composed of a low refractive index layer.
The low refractive index layer constituting the transfer layer has a thickness of 0.5 to 5.0 μm and contains hollow particles and a binder resin, and the hollow particles have an average particle diameter of 60 to 140 nm and the binder resin. As a result, it contains a cured product of a composition containing a silicone-based compound.
Embodiments and suitable embodiments of the low refractive index layer constituting the transfer layer and the hollow particles and the binder resin contained in the low refractive index layer are the low refractive index layer of the low refractive index member of the present invention described above and the low refractive index. The same applies to the embodiments and preferred embodiments of the hollow particles and the binder resin contained in the index layer. However, the surface shape of the low refractive index layer of the low refractive index member of the present invention described above (the surface shape on the side opposite to the base material of the low refractive index layer) is the basis of the low refractive index layer in the transfer sheet of the present invention. It corresponds to the shape of the surface on the material side (the shape of the surface exposed after transfer).

転写層は、低屈折率層を基準として基材とは反対側にその他の層を有していてもよい。その他の層としては、例えば、低屈折率層の耐擦傷性を向上するためのハードコート層、被着体と転写層との接着性を向上するための接着剤層、帯電防止層等が挙げられる。特に、被着体との接着性を良好にするため、転写層は、基材とは反対側の表面に接着剤層を有することが好ましい。
転写層は、例えば、下記(1)〜(3)のような積層構成をとることができる。下記(3)の場合、低屈折率層のバインダー樹脂として、接着性を有する樹脂を含むようにすればよい。なお、下記(1)〜(3)において、左側に位置する層ほど基材に近いことを意味し、「/」は層の界面を意味する。
(1)低屈折率層/接着剤層
(2)低屈折率層/ハードコート層/接着剤層
(3)低屈折率層
The transfer layer may have another layer on the side opposite to the base material with respect to the low refractive index layer. Examples of other layers include a hard coat layer for improving the scratch resistance of the low refractive index layer, an adhesive layer for improving the adhesiveness between the adherend and the transfer layer, an antistatic layer, and the like. Be done. In particular, in order to improve the adhesiveness with the adherend, the transfer layer preferably has an adhesive layer on the surface opposite to the base material.
The transfer layer can have a laminated structure as shown in (1) to (3) below, for example. In the case of (3) below, the binder resin of the low refractive index layer may contain a resin having adhesiveness. In the following (1) to (3), the layer located on the left side means that the layer is closer to the base material, and "/" means the interface between the layers.
(1) Low refractive index layer / adhesive layer (2) Low refractive index layer / hard coat layer / adhesive layer (3) Low refractive index layer

転写層の接着剤層は、被着体の素材に適した感熱性又は感圧性の樹脂を使用することが好ましい。例えば、被着体の材質がアクリル系樹脂の場合は、アクリル系樹脂を用いることが好ましい。また、被着体の材質がポリフェニレンオキサイド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂の場合は、これらの樹脂と親和性のあるアクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂などを使用することが好ましい。さらに、被着体の材質がポリプロピレン樹脂の場合は、塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、環化ゴム、クマロンインデン樹脂を使用することが好ましい。さらに、被着体の材質がガラスの場合は、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂及びポリエチレン系樹脂を使用することが好ましい。また、被着体の材質がガラスの場合は、シランカップリング剤で表面処理されたガラスを用いれば、様々な接着剤との接着性を良好にすることができる。
また、接着剤層は、いわゆる透明光学粘着層(OCA)であってもよい。透明光学粘着層は、光学特性、耐光性、耐候性、耐熱性及び透明性の観点からアクリル系樹脂が用いられる。
接着剤層の厚みは、0.1〜50μmであることが好ましく、0.5〜30μmであることがより好ましい。
As the adhesive layer of the transfer layer, it is preferable to use a heat-sensitive or pressure-sensitive resin suitable for the material of the adherend. For example, when the material of the adherend is an acrylic resin, it is preferable to use an acrylic resin. When the material of the adherend is polyphenylene oxide / polystyrene resin, polycarbonate resin, styrene resin, acrylic resin, polystyrene resin, polyamide resin, etc., which have an affinity for these resins, should be used. Is preferable. Further, when the material of the adherend is polypropylene resin, it is preferable to use chlorinated polyolefin resin, chlorinated ethylene-vinyl acetate copolymer resin, cyclized rubber, and kumaron inden resin. Further, when the material of the adherend is glass, it is preferable to use an ethylene-vinyl acetate copolymer resin and a polyethylene-based resin. When the material of the adherend is glass, the adhesiveness with various adhesives can be improved by using glass surface-treated with a silane coupling agent.
Further, the adhesive layer may be a so-called transparent optical adhesive layer (OCA). As the transparent optical adhesive layer, an acrylic resin is used from the viewpoint of optical properties, light resistance, weather resistance, heat resistance and transparency.
The thickness of the adhesive layer is preferably 0.1 to 50 μm, more preferably 0.5 to 30 μm.

転写層のハードコート層は、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、耐擦傷性をより良くする観点から、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましい。 The hard coat layer of the transfer layer preferably contains a cured product of a curable resin composition such as a thermosetting resin composition or an ionizing radiation curable resin composition, and from the viewpoint of improving scratch resistance, ionizing radiation It is more preferable to include a cured product of the curable resin composition.

熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。 The thermosetting resin composition is a composition containing at least a thermosetting resin, and is a resin composition that is cured by heating. Examples of the thermosetting resin include acrylic resin, urethane resin, phenol resin, urea melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, and silicone resin. In the thermosetting resin composition, a curing agent is added to these curable resins as needed.

電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物(以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう)を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を2つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を2つ以上有する、多官能性(メタ)アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性(メタ)アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線(UV)又は電子線(EB)が用いられるが、その他、X線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味し、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味する。
The ionizing radiation curable resin composition is a composition containing a compound having an ionizing radiation curable functional group (hereinafter, also referred to as “ionizing radiation curable compound”). Examples of the ionizing radiation curable functional group include an ethylenically unsaturated group such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group and an allyl group, and an epoxy group and an oxetanyl group. As the ionizing radiation curable compound, a compound having an ethylenically unsaturated bond group is preferable, a compound having two or more ethylenically unsaturated bond groups is more preferable, and a compound having two or more ethylenically unsaturated bond groups is particularly preferable. Polyfunctional (meth) acrylate compounds are more preferred. As the polyfunctional (meth) acrylate compound, either a monomer or an oligomer can be used.
The ionizing radiation means an electromagnetic wave or a charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing or cross-linking a molecule, and usually, an ultraviolet ray (UV) or an electron beam (EB) is used. Electromagnetic waves such as X-rays and γ-rays, and charged particle beams such as α-rays and ion-rays can also be used.
In the present specification, (meth) acrylate means acrylate or methacrylate, (meth) acrylic acid means acrylic acid or methacrylic acid, and (meth) acryloyl group means acryloyl group or methacryloyl group. means.

ハードコート層の厚みは、0.1〜100μmであることが好ましく、0.5〜50μmであることがより好ましく、1〜30μmであることがさらに好ましい。ハードコート層の厚みが上記範囲とすることにより、耐擦傷性を良好にしつつ、転写時に転写層にクラックが発生することを抑制しやすくできる。なお、ガラス代替のような高硬度が必要な場合には、ハードコート層の厚みは、10〜30μmが好ましい。 The thickness of the hard coat layer is preferably 0.1 to 100 μm, more preferably 0.5 to 50 μm, and even more preferably 1 to 30 μm. By setting the thickness of the hard coat layer within the above range, it is possible to improve scratch resistance and easily suppress the occurrence of cracks in the transfer layer during transfer. When high hardness such as glass substitute is required, the thickness of the hard coat layer is preferably 10 to 30 μm.

基材と転写層との間には、転写層の剥離性を良好にするため、離型層を有していてもよい。離型層は、例えば、シリコーン系離型剤、フッ素系離型剤等の汎用の離型剤から形成することができる。 A release layer may be provided between the base material and the transfer layer in order to improve the peelability of the transfer layer. The release layer can be formed from a general-purpose release agent such as a silicone-based release agent or a fluorine-based release agent.

<<転写層を構成する低屈折率層の基材側の表面形状>>
上述したように、転写層の基材側は低屈折率層から構成される。そして、低屈折率層の基材側の表面形状(低屈折率層の基材とは反対側の表面形状)は、算術平均粗さRa、最大高さRz及び粗さ曲線の最大高さRpから選ばれる一以上が下記範囲を満たすことが好ましく、二以上が下記範囲を満たすことがより好ましく、三つ全てが下記範囲を満たすことがさらに好ましい。
被着体上に転写層を転写してなる積層体の表面には低屈折率層が位置する。したがって、Ra、Rz及びRpが下記範囲を満たすことにより、該積層体の表面(低屈折率層の表面)を爪等で擦過した際に、爪等が凹凸にひっかかることにより傷が生じることを抑制でき、耐擦傷性を良好にしやすくできる。また、Ra、Rz及びRpが下記範囲を満たすことにより、該積層体の表面(低屈折率層の表面)を指等で触れた際に、皮脂等が凹凸内に入り込むことによって屈折率が変化し、反射防止性が低下することを抑制できる。
Ra:2.5nm以下
Rz:25nm以下
Rp:12nm以下
<< Surface shape of the low refractive index layer constituting the transfer layer on the substrate side >>
As described above, the substrate side of the transfer layer is composed of a low refractive index layer. The surface shape of the low refractive index layer on the base material side (the surface shape on the side opposite to the base material of the low refractive index layer) is the arithmetic mean roughness Ra, the maximum height Rz, and the maximum height Rp of the roughness curve. It is preferable that one or more selected from the following satisfies the following range, more preferably two or more satisfy the following range, and further preferably all three satisfy the following range.
A low refractive index layer is located on the surface of the laminate formed by transferring the transfer layer onto the adherend. Therefore, when Ra, Rz and Rp satisfy the following ranges, when the surface of the laminated body (the surface of the low refractive index layer) is rubbed with a nail or the like, the nail or the like gets caught in the unevenness and scratches occur. It can be suppressed and the scratch resistance can be easily improved. Further, when Ra, Rz and Rp satisfy the following ranges, when the surface of the laminated body (the surface of the low refractive index layer) is touched with a finger or the like, sebum or the like enters the unevenness and the refractive index changes. However, it is possible to suppress the decrease in antireflection property.
Ra: 2.5 nm or less Rz: 25 nm or less Rp: 12 nm or less

Raは2.0nm以下であることがより好ましく、1.5nm以下であることがさらに好ましく、1.2nm以下であることがよりさらに好ましい。なお、Raは、ごく小さな傷が視認されることを抑制するため、0.3nm以上であることが好ましい。
Rzは20nm以下であることがより好ましく、15nm以下であることがさらに好ましく、10nm以下であることがよりさらに好ましい。なお、Rzは、ごく小さな傷が視認されることを抑制するため、3nm以上であることが好ましい。
Rpは10nm以下であることがより好ましく、8nm以下であることがさらに好ましく、6m以下であることがよりさらに好ましい。なお、Rpは、ごく小さな傷が視認されることを抑制するため、2nm以上であることが好ましい。
Ra is more preferably 2.0 nm or less, further preferably 1.5 nm or less, and even more preferably 1.2 nm or less. Ra is preferably 0.3 nm or more in order to prevent tiny scratches from being visually recognized.
Rz is more preferably 20 nm or less, further preferably 15 nm or less, and even more preferably 10 nm or less. The Rz is preferably 3 nm or more in order to prevent the appearance of very small scratches.
Rp is more preferably 10 nm or less, further preferably 8 nm or less, and even more preferably 6 m or less. The Rp is preferably 2 nm or more in order to prevent the appearance of very small scratches.

Ra、RzおよびRpの定義はJIS B0601:2001に従うものとする。Ra、Rz及びRpは、原子間力顕微鏡(商品名「WET−9100」、島津製作所製)を用いて、以下のように算出するものとする。具体的には、まず、平坦な円形の金属板を複数用意し、それぞれの金属板に、日新EM株式会社製のカーボン両面テープを貼り付け、該テープを介して、金属板と、被着体上に転写層を転写してなる積層体の被着体側とを貼り合わせた測定用サンプルを作製する。そして、金属板、テープ及び該積層体の接着を確実なものとするために、測定用サンプルをデシケーターの中で一晩放置する。一晩放置後、測定用サンプルを原子間力顕微鏡(商品名「WET−9400」、島津製作所製)の測定台の上に磁石で固定し、タッピングモードにて、測定エリア5μm角で、原子間力顕微鏡により表面形状を観察する。そして、観察したデータから原子間力顕微鏡に内蔵されている面解析ソフトを用いて、Ra、Rz、Rpを算出する。なお、面解析時における縦のスケールは20nmとする。観察時の雰囲気は、温度23℃±5℃、湿度40〜65%で行い、カンチレバーとしてはNanoWorld社製のNCHR−20を使用する。また、観察に際しては、1つのサンプルに対して、異物や傷のない箇所からランダムに10箇所を選び、10箇所の表面形状を観察する。そして、得られた10点のデータ全てにおいて、原子間力顕微鏡に内蔵の面解析ソフトを用いてRa、Rz、Rpを算出し、10点の算術平均値をそれぞれのサンプルのRa、Rz、Rpとする。 The definitions of Ra, Rz and Rp shall be in accordance with JIS B0601: 2001. Ra, Rz and Rp shall be calculated as follows using an atomic force microscope (trade name "WET-9100", manufactured by Shimadzu Corporation). Specifically, first, a plurality of flat circular metal plates are prepared, a carbon double-sided tape manufactured by Nissin EM Co., Ltd. is attached to each metal plate, and the metal plate and the adherend are attached via the tape. A measurement sample is prepared by bonding the transfer layer to the adherend side of the laminated body formed by transferring the transfer layer onto the body. The measurement sample is then left overnight in a desiccator to ensure adhesion of the metal plate, tape and the laminate. After leaving overnight, the measurement sample was fixed on the measuring table of an atomic force microscope (trade name "WET-9400", manufactured by Shimadzu Corporation) with a magnet, and in the tapping mode, the measurement area was 5 μm square, and the space between atoms. Observe the surface shape with a force microscope. Then, Ra, Rz, and Rp are calculated from the observed data using the surface analysis software built in the atomic force microscope. The vertical scale at the time of surface analysis is 20 nm. The atmosphere at the time of observation is 23 ° C. ± 5 ° C. and a humidity of 40 to 65%, and NCHR-20 manufactured by NanoWorld is used as the cantilever. In addition, when observing, 10 places are randomly selected from the places where there are no foreign substances or scratches on one sample, and the surface shapes of the 10 places are observed. Then, Ra, Rz, and Rp are calculated from all the obtained 10-point data using the surface analysis software built into the atomic force microscope, and the arithmetic mean values of the 10 points are calculated as Ra, Rz, and Rp of each sample. And.

また、Ra、Rz、Rpを用いて低屈折率層の基材側の表面形状を規定したのは、以下の理由からである。
Raは、低屈折率層の表面に存在する山と谷の高さの平均値を見るために用いられており、Rzは、低屈折率層の表面の山高さの最大値と谷深さの最大値の和を見るために用いられており、Rpは、低屈折率層の表面の山高さの最大値を見るために用いられている。ここで、Raは低屈折率層の表面に存在する山と谷の高さの平均値を見ているため、大まかな低屈折率層の表面形状は分かるものの、大きな山や谷があったとしても平均化されてしまい、その存在を見落としてしまう可能性がある。また、Rpは、低屈折率層の表面の山高さの最大値を見ているため、RaとRpの2つのパラメータを用いた場合には、大きな谷があったとしても、その存在を見落としてしまう可能性があり、さらにRzは、低屈折率層の表面の山高さの最大値と谷深さの最大値の和を見ていため、RaとRzの2つのパラメータを用いた場合には、山が高いのか谷が深いのか把握できない可能性がある。このため、均一かつ平坦な面形状を有するか否かをより正確に判断するためには、Raの1つのパラメータ、RaとRpの2つのパラメータ、またはRaとRzの2つのパラメータでは足らず、Ra、RzおよびRpの3つのパラメータが必要とする。このため、本発明においては、低屈折率層の表面形状をRa、RzおよびRpの3つのパラメータを用いて規定している。
Further, Ra, Rz, and Rp are used to define the surface shape of the low refractive index layer on the substrate side for the following reasons.
Ra is used to see the average height of peaks and valleys on the surface of the low index of refraction layer, and Rz is the maximum value of peak height and valley depth of the surface of the low index of refraction layer. It is used to see the sum of the maximum values, and Rp is used to see the maximum value of the peak height on the surface of the low index of refraction layer. Here, since Ra looks at the average value of the heights of the peaks and valleys existing on the surface of the low refractive index layer, although the rough surface shape of the low refractive index layer can be known, it is assumed that there are large peaks and valleys. Is also averaged, and its existence may be overlooked. Further, since Rp looks at the maximum value of the mountain height on the surface of the low refractive index layer, when two parameters of Ra and Rp are used, even if there is a large valley, its existence is overlooked. Furthermore, since Rz looks at the sum of the maximum value of the peak height and the maximum value of the valley depth on the surface of the low refractive index layer, when two parameters of Ra and Rz are used, it may be lost. It may not be possible to tell whether the mountains are high or the valleys are deep. Therefore, in order to more accurately determine whether or not the surface shape is uniform and flat, one parameter of Ra, two parameters of Ra and Rp, or two parameters of Ra and Rz are not sufficient, and Ra , Rz and Rp are required. Therefore, in the present invention, the surface shape of the low refractive index layer is defined by using three parameters of Ra, Rz and Rp.

Ra、RzおよびRpを上記範囲とするためには、低屈折率層の基材側の表面には、実質的に中空粒子が存在しない領域を有することが好ましい。言い換えると、低屈折率層の基材側の表面には、実質的にバインダー樹脂のみが存在する領域を有することが好ましい。
中空粒子は比重が軽いため、中空粒子及びバインダー樹脂成分を含む塗布液を転写シートの基材上に塗布し、低屈折率層を形成することにより、塗膜の表面に中空粒子が浮かび上がり、低屈折率層の基材側の表面に、中空粒子が疎でバインダー樹脂が密の領域を形成しやすくできる。
低屈折率層の基材側の表面に、実質的にバインダー樹脂のみが存在する領域を有することにより、被着体上に転写層を転写してなる積層体の表面凹凸が減少し、耐擦傷性を良好にすることができるとともに、凹凸内に汚れが入り込みに難くなるため、防汚性も良好にし得る。
In order to set Ra, Rz and Rp in the above range, it is preferable that the surface of the low refractive index layer on the substrate side has a region in which hollow particles are substantially not present. In other words, it is preferable that the surface of the low refractive index layer on the substrate side has a region in which substantially only the binder resin exists.
Since the hollow particles have a light specific gravity, the hollow particles and the binder resin component are applied onto the base material of the transfer sheet to form a low refractive index layer, so that the hollow particles emerge on the surface of the coating film. It is possible to easily form a region where hollow particles are sparse and the binder resin is dense on the surface of the low refractive index layer on the substrate side.
By having a region on the surface of the low refractive index layer on the substrate side where only the binder resin is substantially present, the surface unevenness of the laminate formed by transferring the transfer layer onto the adherend is reduced, and scratch resistance is reduced. In addition to being able to improve the property, it is also possible to improve the antifouling property because it is difficult for dirt to enter the unevenness.

低屈折層の基材側の表面に実質的にバインダーのみが存在する領域は、以下の(I)〜(III)の作業により算出できる。
(I)転写シートの断面をTEM又はSTEMで撮像する。TEM又はSTEMの加速電圧は10kv〜30kV、倍率は5万〜30万倍とすることが好ましい。
(II)観察画像から、基材側に近い任意の10個の粒子を抽出し、個々の粒子の最も基材に近い点から、基材までの直線距離を算出する。
(III)同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を5回行って、合計50個分の数平均から得られる値を低屈折層の基材側の表面に実質的にバインダーのみが存在する領域とする。
The region in which only the binder is substantially present on the surface of the low refraction layer on the substrate side can be calculated by the following operations (I) to (III).
(I) The cross section of the transfer sheet is imaged by TEM or STEM. The acceleration voltage of TEM or STEM is preferably 10 kv to 30 kV, and the magnification is preferably 50,000 to 300,000 times.
(II) Arbitrary 10 particles close to the base material side are extracted from the observation image, and the linear distance from the point closest to the base material of each particle to the base material is calculated.
(III) Perform the same operation 5 times on the observation image on another screen of the same sample, and obtain the value obtained from the number average of a total of 50 pieces on the surface of the low refraction layer on the substrate side, substantially only the binder exists. Area to be used.

低屈折率層の基材側の表面の実質的にバインダー樹脂のみが存在する領域は、低屈折率層の表面から1nm以上であることが好ましく、2nm以上であることがより好ましい。該領域は反射防止性の維持の観点から、20nm以下であることが好ましく、15nm以下であることがより好ましい。
なお、実質的にバインダー樹脂のみが存在する領域とは、転写シートの垂直断面をSTEMにより撮像した写真の低屈折率層の幅方向の500nmにおいて、低屈折率層の基材側の表面にバインダー樹脂のみが存在する領域をいうものとする。
また、低屈折率層の基材側の全表面のうち、実質的にバインダー樹脂のみが存在する領域は60%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、80%以上であることがさらに好ましく、90%以上であることがよりさらに好ましい。
The region of substantially only the binder resin on the surface of the low refractive index layer on the substrate side is preferably 1 nm or more, more preferably 2 nm or more from the surface of the low refractive index layer. From the viewpoint of maintaining antireflection, the region is preferably 20 nm or less, and more preferably 15 nm or less.
It should be noted that the region in which only the binder resin is substantially present is the binder on the surface of the low refractive index layer on the substrate side at 500 nm in the width direction of the low refractive index layer in the photograph in which the vertical cross section of the transfer sheet is imaged by STEM. It refers to the region where only the resin exists.
Further, of the entire surface of the low refractive index layer on the substrate side, the region in which only the binder resin is substantially present is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, and more preferably 80% or more. It is more preferably 90% or more, and even more preferably 90% or more.

<被着体>
転写層を転写する被着体の材質は特に限定されず、各種プラスチックの他、ガラス、陶磁器、金属及び木材等が挙げられる。また、被着体の厚みも特に限定されず、ミクロンレベル等の薄いものでも、板状等の厚いものでも構わない。また、被着体の形状も特に限定されず、平面状のものであってもよいし、立体形状であってもよい。
<Subject>
The material of the adherend that transfers the transfer layer is not particularly limited, and examples thereof include various plastics, glass, ceramics, metal, and wood. Further, the thickness of the adherend is not particularly limited, and may be a thin one such as a micron level or a thick one such as a plate. Further, the shape of the adherend is not particularly limited, and may be a flat shape or a three-dimensional shape.

[コーティング組成物A]
本発明のコーティング組成物Aは、平均粒子径が60〜140nmの中空粒子と、バインダー樹脂成分としてのシリコーン系化合物とを含む、上述した本発明の低屈折部材の低屈折率層形成用のコーティング組成物である。
[Coating Composition A]
The coating composition A of the present invention contains hollow particles having an average particle diameter of 60 to 140 nm and a silicone-based compound as a binder resin component, and is a coating for forming a low refractive index layer of the low refractive index member of the present invention described above. It is a composition.

[コーティング組成物B]
本発明のコーティング組成物Bは、平均粒子径が60〜140nmの中空粒子と、バインダー樹脂成分としてのシリコーン系化合物とを含む、上述した本発明の転写シートの低屈折率層形成用のコーティング組成物である。
[Coating Composition B]
The coating composition B of the present invention contains hollow particles having an average particle diameter of 60 to 140 nm and a silicone-based compound as a binder resin component, and is a coating composition for forming a low refractive index layer of the transfer sheet of the present invention described above. It is a thing.

コーティング組成物A及びBに含まれる中空粒子及びバインダー樹脂成分の実施形態及び好適な実施形態は、上述した本発明の低屈折部材の低屈折率層に含まれる中空粒子及びバインダー樹脂成分の実施形態及び好適な実施形態と同様である。 The embodiments and preferred embodiments of the hollow particles and the binder resin component contained in the coating compositions A and B are the above-described embodiments of the hollow particles and the binder resin component contained in the low refractive index layer of the low refractive index member of the present invention. And similar to preferred embodiments.

コーティング組成物A及びBは、溶剤を含むことが好ましい。
溶剤は、例えば、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エーテル類(ジオキサン、テトラヒドロフラン等)、脂肪族炭化水素類(ヘキサン等)、脂環式炭化水素類(シクロヘキサン等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、ハロゲン化炭素類(ジクロロメタン、ジクロロエタン等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等)、アルコール類(ブタノール、シクロヘキサノール等)、セロソルブ類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等)、セロソルブアセテート類、スルホキシド類(ジメチルスルホキシド等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等)等が例示でき、これらの混合物であってもよい。
コーティング組成物A及びB中の溶剤の含有量は、コーティング組成物の全量に対して、60〜95質量%であることが好ましく、70〜90質量%であることがより好ましい。溶剤の含有量を60質量%以上とすることにより、コーティング組成物の高粘度化を抑制して塗工時の作業性を良好にしやすくでき、95質量%以下とすることにより、乾燥ムラを抑制しやすくできる。
The coating compositions A and B preferably contain a solvent.
Solvents include, for example, ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), ethers (dioxane, tetrahydrofuran, etc.), aliphatic hydrocarbons (hexane, etc.), alicyclic hydrocarbons (cyclohexane, etc.), Aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), carbon halides (dichloromethane, dichloroethane, etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, etc.), alcohols (butanol, cyclohexanol, etc.), cellosolves (butanol, cyclohexanol, etc.) Methyl cellosolve, ethyl cellosolve, etc.), cellosolve acetates, sulfoxides (dimethylsulfoxide, etc.), amides (dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.) and the like can be exemplified, and a mixture thereof may be used.
The content of the solvent in the coating compositions A and B is preferably 60 to 95% by mass, more preferably 70 to 90% by mass, based on the total amount of the coating composition. By setting the solvent content to 60% by mass or more, it is possible to suppress the increase in viscosity of the coating composition and improve the workability at the time of coating, and by setting it to 95% by mass or less, drying unevenness is suppressed. It can be done easily.

また、コーティング組成物A及びBは、界面活性剤、分散剤、帯電防止剤、酸化防止剤及び紫外線吸収剤等の添加剤を含有してもよい。 Further, the coating compositions A and B may contain additives such as a surfactant, a dispersant, an antistatic agent, an antioxidant and an ultraviolet absorber.

コーティング組成物A及びBは、例えば、基材上に塗布し、プリベイク(乾燥)し、さらに熱硬化することにより、低屈折率層とすることができる。
プリベイク(乾燥)の際は、温度は60〜150℃が好ましく、より好ましくは80〜120℃であり、時間は40〜200秒が好ましく、より好ましくは50〜150秒である。
熱硬化の際は、温度は150〜260℃が好ましく、より好ましくは170〜250℃であり、時間は5〜45分が好ましく、より好ましくは15〜35分である。
コーティング組成物A及びBの乾燥条件及び熱硬化条件を上記範囲とすることにより、コーティング組成物A及びBの急速な乾燥、及び/又は、バインダー樹脂の急速な硬化を抑制し、低屈折率層の表面が凹凸化することを抑制しやすくできる。
The coating compositions A and B can be formed into a low refractive index layer by, for example, being applied onto a substrate, prebaked (dried), and further thermoset.
At the time of prebaking (drying), the temperature is preferably 60 to 150 ° C., more preferably 80 to 120 ° C., and the time is preferably 40 to 200 seconds, more preferably 50 to 150 seconds.
At the time of thermosetting, the temperature is preferably 150 to 260 ° C., more preferably 170 to 250 ° C., and the time is preferably 5 to 45 minutes, more preferably 15 to 35 minutes.
By setting the drying conditions and thermosetting conditions of the coating compositions A and B within the above ranges, rapid drying of the coating compositions A and B and / or rapid curing of the binder resin can be suppressed, and a low refractive index layer can be suppressed. It is possible to easily prevent the surface of the surface from becoming uneven.

[積層体]
本発明の積層体は、上述した本発明の低屈折部材の低屈折率層上に蒸着膜を有してなるものである。
[Laminate]
The laminate of the present invention has a vapor-deposited film on the low-refractive index layer of the low-refractive index member of the present invention described above.

蒸着膜は、ケイ素(Si)、ホウ素(B)、アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、カリウム(K)、スズ(Sn)、ナトリウム(Na)、ホウ素(B)、チタン(Ti)、鉛(Pb)、ジルコニウム(Zr)、イットリウム(Y)、インジウム(In)、アンチモン(Sb)等の無機物、これらの酸化物、これらの窒化物の一種以上を原料として、真空蒸着やスパッタリング、イオンプレーティング等の物理蒸着(PVD)法、プラズマ化学気相成長や熱化学気相成長、光化学気相成長等の化学蒸着(CVD)法等により形成することができる。
蒸着膜の厚みは通常5〜500nm程度である。
The vapor deposition film is silicon (Si), boron (B), aluminum (Al), magnesium (Mg), calcium (Ca), potassium (K), tin (Sn), sodium (Na), boron (B), titanium. Vacuum vapor deposition using inorganic substances such as (Ti), lead (Pb), zirconium (Zr), yttrium (Y), indium (In), antimony (Sb), these oxides, and one or more of these nitrides as raw materials. It can be formed by a physical vapor deposition (PVD) method such as sputtering, ion plating, or a chemical vapor deposition (CVD) method such as plasma chemical vapor deposition, thermochemical vapor deposition, or photochemical vapor deposition.
The thickness of the thin-film deposition film is usually about 5 to 500 nm.

蒸着膜の下層に位置する低屈折率層の表面形状は、凹凸が少ないことが好ましい。低屈折率層の表面形状の凹凸を少なくすることにより、蒸着膜をムラなくきれいに形成しやすくできる。低屈折層の表面形状の凹凸を少なくするためには、低屈折率層のバインダー樹脂として収縮の少ない成分を用いたり、低屈折率層を転写で形成したりすることが好ましい。 The surface shape of the low refractive index layer located under the vapor-deposited film preferably has few irregularities. By reducing the unevenness of the surface shape of the low refractive index layer, it is possible to easily form the vapor-deposited film evenly and neatly. In order to reduce the unevenness of the surface shape of the low refractive index layer, it is preferable to use a component having less shrinkage as the binder resin of the low refractive index layer, or to form the low refractive index layer by transfer.

また、蒸着膜の下層に位置する低屈折率層は、シリコーン系化合物を含む組成物の硬化物として、アルコキシ基を有するシリコーン系化合物を含む組成物の硬化物を含むことが好ましい。当該構成とすることで、低屈折率層と蒸着膜との密着性を良好にしやすくできる。 Further, the low refractive index layer located under the vapor-deposited film preferably contains a cured product of the composition containing a silicone-based compound having an alkoxy group as a cured product of the composition containing the silicone-based compound. With this configuration, it is possible to easily improve the adhesion between the low refractive index layer and the vapor-deposited film.

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。なお、本発明は、実施例に記載の形態に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to the embodiments described in the examples.

1.評価、測定
実施例及び比較例で得られた低屈折部材について以下の測定及び評価を行った。結果を表1に示す。なお、以下の測定及び評価で使用した低屈折部材及びサンプル等の大きさは一例であり、これに何ら限定されない。例えば、下記1−1の耐擦傷性の測定では、低屈折部材は10cm角のものを使用しているが、これよりサイズを小さくしてもよい。
各測定及び評価時の雰囲気は、温度は23℃±5℃、湿度40〜65%とした。また、各測定及び評価の開始前に、前記雰囲気に低屈折部材(又は低屈折部材から作成したサンプル)を30分以上晒した。
1. 1. Evaluation and Measurement The following measurements and evaluations were performed on the low refraction members obtained in Examples and Comparative Examples. The results are shown in Table 1. The sizes of the low refraction member and the sample used in the following measurements and evaluations are examples, and are not limited thereto. For example, in the measurement of scratch resistance of 1-1 below, a low refraction member of 10 cm square is used, but the size may be smaller than this.
The atmosphere at the time of each measurement and evaluation was a temperature of 23 ° C. ± 5 ° C. and a humidity of 40 to 65%. Further, before the start of each measurement and evaluation, the low refraction member (or a sample prepared from the low refraction member) was exposed to the atmosphere for 30 minutes or more.

1−1.耐擦傷性
10cm角の低屈折部材を使用し、低屈折率層の表面を、#0000のスチールウールを押し当て、荷重50g/cmで10往復擦った後、サンプルの裏面に黒色板を配置し、蛍光灯の照明下で、反射防止性を目視で評価した。擦過箇所と非擦過箇所との反射防止性が区別できないものを「A」、擦過箇所と非擦過箇所との反射防止性が区別できたものを「C」とした。
1-1. Scratch resistance Using a 10 cm square low refractive index member, press # 0000 steel wool against the surface of the low refractive index layer, rub it 10 times with a load of 50 g / cm 2 , and then place a black plate on the back surface of the sample. Then, the antireflection property was visually evaluated under the illumination of a fluorescent lamp. The one in which the antireflection property of the scratched portion and the non-abrased portion could not be distinguished was designated as "A", and the one in which the antireflection property of the scraped portion and the non-scraped portion could be distinguished was designated as "C".

1−2.クラック
10cm角の低屈折部材を使用し、低屈折部材の背面に黒色板を配置し、蛍光灯の照明下で、低屈折率層にクラックが生じているか否かを目視で評価した。クラックが確認できないものを「A」、微細なクラックが確認できたものを「C」とした。
1-2. A low refraction member having a crack of 10 cm square was used, a black plate was placed on the back surface of the low refraction member, and it was visually evaluated whether or not a crack was generated in the low refractive index layer under the illumination of a fluorescent lamp. Those in which no cracks could be confirmed were designated as "A", and those in which fine cracks could be confirmed were designated as "C".

1−3.屈折率
10cm角の低屈折部材を用い、顕微分光膜厚計(大塚電子社製、商品名「OPTM−A1」)により、低屈折率層の屈折率を算出した。屈折率1.30以下のものは反射防止性が良好であり、合格レベルである。
1-3. The refractive index of the low refractive index layer was calculated using a microspectroscopy film thickness meter (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., trade name "OPTM-A1") using a low refractive index member having a refractive index of 10 cm square. Those having a refractive index of 1.30 or less have good antireflection properties and are at a passing level.

1−4.低屈折率層の厚み
10cm角の低屈折部材を使用し、顕微分光膜厚計(大塚電子社製、商品名「OPTM−A1」)により、低屈折率層の厚み(μm)を算出した。欠陥のないことを確認した上で10箇所の厚みを測定し、10箇所の平均値を各実施例及び比較例の低屈折率層の厚みとした。
1-4. Thickness of low refractive index layer Using a low refractive index member of 10 cm square, the thickness (μm) of the low refractive index layer was calculated by a microspectroscopy (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., trade name “OPTM-A1”). After confirming that there were no defects, the thickness at 10 points was measured, and the average value at 10 points was taken as the thickness of the low refractive index layer of each Example and Comparative Example.

1−5.接着性
10cm角の低屈折部材を使用し、基材(ガラス)と低屈折率層との接着力を、JIS K5600−5−6:1999のクロスカット法による付着性試験により評価した。接着力の分類番号を表1に示す。なお、分類番号は下記の0〜5の6種類である。
<分類番号>
0:カットの縁が完全に滑らかで、どの格子の目にもはがれがない。
1:カットの交差点における塗膜の小さなはがれ。クロスカット部分で影響を受けるのは、明確に5%を上回ることはない。
2:塗膜がカットの縁に沿って、及び/又は交差点においてはがれている。クロスカット部分で影響を受けるのは明確に5%を超えるが15%を上回ることはない。
3:塗膜がカットの縁に沿って、部分的又は全面的に大はがれを生じており、及び/又は目のいろいろな部分が、部分的又は全面的にはがれている。クロスカット部分で影響を受けるのは、明確に15%を超えるが35%を上回ることはない。
4:塗膜がカットの縁に沿って、部分的又は全面的に大はがれを生じており、及び/又は数か所の目が部分的又は全面的にはがれている。クロスカット部分で影響を受けるのは、明確に65%を上回ることはない。
5:分類4でも分類できないはがれ程度のいずれか。
1-5. Adhesiveness Using a 10 cm square low refractive index member, the adhesive strength between the base material (glass) and the low refractive index layer was evaluated by an adhesiveness test by the cross-cut method of JIS K5600-5-6: 1999. The classification numbers of adhesive strength are shown in Table 1. The classification numbers are the following 6 types from 0 to 5.
<Category number>
0: The edges of the cut are perfectly smooth and there is no peeling in the eyes of any grid.
1: Small peeling of the coating film at the intersection of the cuts. The cross-cut portion is clearly not affected by more than 5%.
2: The coating film is peeled off along the edge of the cut and / or at the intersection. The cross-cut area is clearly affected by more than 5% but not more than 15%.
3: The coating film is partially or wholly peeled off along the edges of the cut, and / or various parts of the eye are partially or wholly peeled off. The cross-cut area is clearly affected by more than 15% but not more than 35%.
4: The coating film is partially or wholly peeled off along the edge of the cut, and / or some eyes are partially or wholly peeled off. The cross-cut portion is clearly not affected by more than 65%.
5: Any degree of peeling that cannot be classified even in classification 4.

1−6.ヘイズ
JIS K7136:2000に準拠して、低屈折部材のヘイズ(%)を測定した。光入射面は基材側とした。10cm角の低屈折部材を使用し、サンプルの傷や欠陥のない箇所からランダムで10箇所選び、10箇所の算術平均値を、各実施例及び比較例の低屈折部材のヘイズ(%)とした。
1-6. Haze The haze (%) of the low refraction member was measured according to JIS K7136: 2000. The light incident surface was on the base material side. Using a 10 cm square low refraction member, 10 places were randomly selected from the places where there were no scratches or defects in the sample, and the arithmetic mean value of the 10 places was taken as the haze (%) of the low refraction member of each example and comparative example. ..

1−7.全光線透過率
JIS K7361−1:1997に準拠して、低屈折部材の全光線透過率(%)を測定した。光入射面は基材側とした。10cm角の低屈折部材を使用し、サンプルの傷や欠陥のない箇所からランダムで10箇所選び、10箇所の算術平均値を、各実施例及び比較例の低屈折部材の全光線透過率(%)とした。
1-7. Total light transmittance The total light transmittance (%) of the low refraction member was measured according to JIS K7361-1: 1997. The light incident surface was on the base material side. Using a 10 cm square low refraction member, randomly select 10 places from the parts without scratches or defects of the sample, and calculate the arithmetic mean value of 10 places as the total light transmittance (%) of the low refraction member of each example and comparative example. ).

1−8.拡散光線反射率RSCE
巴川製作所製の商品名「くっきりミエール」の離型フィルムを剥がし、露出した黒色粘着剤層を実施例及び比較例の10cm角の低屈折部材のガラス基材側の面に貼り合わせ、低屈折部材のガラス基材側の面に、黒色粘着剤層(全光線透過率1%以下)及びプラスチックフィルムが積層されたサンプルを作製した。
積分球分光光度計(コニカミノルタ株式会社製、商品名:CM−2600d)を用い、該サンプルの低屈折率層側の面から、該サンプルの拡散光線反射率(RSCE)(%)を測定した。サンプルの傷や欠陥のない箇所からランダムで10箇所選び、10箇所の算術平均値を、各実施例及び比較例の低屈折部材の拡散光線反射率RSCE(%)とした。
なお、積分球分光光度計の光源はD65、受光器の位置はサンプルの法線に対して+8度であり、ライトトラップの位置はサンプルの法線に対して−8度であり、視野角は2度とした。
1-8. Diffuse light reflectance R SCE
The release film of the brand name "Clear Mierre" manufactured by Tomagawa Seisakusho was peeled off, and the exposed black adhesive layer was attached to the glass substrate side surface of the 10 cm square low refraction member of Examples and Comparative Examples. A sample was prepared in which a black adhesive layer (total light transmittance of 1% or less) and a plastic film were laminated on the surface of the glass substrate side.
Integrating sphere spectrophotometer (Konica Minolta Co., Ltd., trade name: CM-2600d) used, measured from the surface of the low refractive index layer side of the sample, diffuse light reflectance of the sample (R SCE) (%) bottom. Ten places were randomly selected from the places where there were no scratches or defects in the sample, and the arithmetic mean value of the ten places was taken as the diffused light reflectance R SCE (%) of the low refraction member of each Example and Comparative Example.
The light source of the integrating sphere spectrophotometer is D65, the position of the receiver is +8 degrees with respect to the normal of the sample, the position of the light trap is -8 degrees with respect to the normal of the sample, and the viewing angle is. It was twice.

2.低屈折部材の作製
[実施例1]
10cm角、厚み0.7mmのガラス基材(コーニング社製の無アルカリガラス、商品名「EAGLE XG」)上に、下記処方の低屈折率層形成用塗布液をスピンコーター(MS−B150(ミカサ(株)製)で塗布し、100℃で120秒間プリベーク(乾燥)し、塗布膜を得た。この塗布膜をオーブン中で200℃で20分間加熱し、シリコーン系化合物を含む組成物を硬化させ、厚み1.0μmの低屈折率層を形成し、実施例1の低屈折部材を得た。なお、上記ガラス基材を、JISK7136:2000に準拠して、測定実施したところ、ヘイズ0.1%であった。また、拡散光線反射率(RSCE)は、0.04%であった。
<低屈折率層形成用塗布液>
・中空粒子:20質量部
(メタクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理してなる平均粒子径75nmの中空シリカ粒子)
・バインダー樹脂成分:10質量部
(置換基としてエポキシ基を有する置換炭化水素基、及びアルコキシ基がケイ素原子に直結してなるオリゴマー型シリコーン系化合物、エポキシ当量:350g/mol、アルコキシ基量:42質量%、信越化学工業社製の品番「X−41−1059A」、有効成分100%)
・界面活性剤:0.21質量部
(DIC社製の商品名「F−554」、有効成分100%)
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:120部
2. Fabrication of low refraction member [Example 1]
A spin coater (MS-B150 (Mikasa)) is coated with a coating liquid for forming a low refractive index layer according to the following formulation on a 10 cm square, 0.7 mm thick glass substrate (non-alkali glass manufactured by Corning Inc., trade name "EAGLE XG"). It was coated with (manufactured by Co., Ltd.) and prebaked (dried) at 100 ° C. for 120 seconds to obtain a coating film. The coating film was heated at 200 ° C. for 20 minutes in an oven to cure the composition containing a silicone-based compound. A low refractive index layer having a thickness of 1.0 μm was formed to obtain a low refractive index member of Example 1. The glass substrate was measured and measured in accordance with JIS K7136: 2000. It was 1%, and the diffused light reflectance ( RSCE ) was 0.04%.
<Coating liquid for forming a low refractive index layer>
-Hollow particles: 20 parts by mass (hollow silica particles having an average particle diameter of 75 nm formed by surface treatment with a silane coupling agent having a methacryloyl group)
Binder resin component: 10 parts by mass (substituted hydrocarbon group having an epoxy group as a substituent, oligomer-type silicone compound in which an alkoxy group is directly linked to a silicon atom, epoxy equivalent: 350 g / mol, alkoxy group amount: 42 Mass%, product number "X-41-1059A" manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd., 100% active ingredient)
-Surfactant: 0.21 parts by mass (trade name "F-554" manufactured by DIC Corporation, 100% active ingredient)
-Propylene glycol monomethyl ether acetate: 120 parts

[実施例2]
低屈折率層の厚みを3.0μmに変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例2の低屈折部材を得た。
[Example 2]
A low-refractive index member of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the low-refractive index layer was changed to 3.0 μm.

[実施例3]
低屈折率層形成用塗布液の中空粒子の含有量を10質量部に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例3の低屈折部材を得た。
[Example 3]
A low-refractive index member of Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the content of hollow particles in the coating liquid for forming a low refractive index layer was changed to 10 parts by mass.

[実施例4]
低屈折率層形成用塗布液の中空粒子を、シランカップリング剤で表面処理してなる平均粒子径60nmの中空シリカ粒子に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例4の低屈折部材を得た。
[Example 4]
The low particles of Example 4 are the same as in Example 1 except that the hollow particles of the coating liquid for forming a low refractive index layer are changed to hollow silica particles having an average particle diameter of 60 nm, which are surface-treated with a silane coupling agent. A refracting member was obtained.

[実施例5]
低屈折率層形成用塗布液の中空粒子を、シランカップリング剤で表面処理してなる平均粒子径100nmの中空シリカ粒子に変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例5の低屈折部材を得た。
[Example 5]
The low particles of Example 5 are the same as in Example 1 except that the hollow particles of the coating liquid for forming a low refractive index layer are changed to hollow silica particles having an average particle diameter of 100 nm, which are surface-treated with a silane coupling agent. A refracting member was obtained.

[比較例1]
低屈折率層の厚みを0.2μmに変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例1の低屈折部材を得た。
[Comparative Example 1]
A low-refractive index member of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the low-refractive index layer was changed to 0.2 μm.

[比較例2]
低屈折率層の厚みを5.5μmに変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例2の低屈折部材を得た。
[Comparative Example 2]
A low-refractive index member of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the low-refractive index layer was changed to 5.5 μm.

[比較例3]
低屈折率層形成用塗布液の中空粒子を、シランカップリング剤で表面処理してなる平均粒子径50nmの中空シリカ粒子に変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例3の低屈折部材を得た。
[Comparative Example 3]
Similar to Example 1, low in Comparative Example 3 except that the hollow particles of the coating liquid for forming a low refractive index layer were changed to hollow silica particles having an average particle diameter of 50 nm, which were surface-treated with a silane coupling agent. A refracting member was obtained.

[比較例4]
低屈折率層形成用塗布液の中空粒子を、シランカップリング剤で表面処理してなる平均粒子径150nmの中空シリカ粒子に変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例4の低屈折部材を得た。
[Comparative Example 4]
Similar to Example 1, low in Comparative Example 4 except that the hollow particles of the coating liquid for forming a low refractive index layer were changed to hollow silica particles having an average particle diameter of 150 nm, which were surface-treated with a silane coupling agent. A refracting member was obtained.

[比較例5]
低屈折率層形成用塗布液のバインダー樹脂成分を、非シリコーン系のエポキシ樹脂(ダイセル社製の品番「EHPE3150」、固形分100%)に変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例5の低屈折部材を得た。
[Comparative Example 5]
Comparison was performed in the same manner as in Example 1 except that the binder resin component of the coating liquid for forming a low refractive index layer was changed to a non-silicone epoxy resin (product number "EHPE3150" manufactured by Daicel, 100% solid content). The low refractive index member of Example 5 was obtained.

[比較例6]
低屈折率層形成用塗布液の中空粒子をシランカップリング剤で表面処理してなる平均粒子径50nmの中空シリカ粒子に変更し、さらに、低屈折率層形成用塗布液の中空粒子の含有量を40質量部に変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例6の低屈折部材を得た。
[Comparative Example 6]
The hollow particles of the coating liquid for forming a low refractive index layer are changed to hollow silica particles having an average particle diameter of 50 nm formed by surface treatment with a silane coupling agent, and the content of the hollow particles of the coating liquid for forming a low refractive index layer is further changed. The low-refractive index member of Comparative Example 6 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount was changed to 40 parts by mass.

Figure 2021165765
Figure 2021165765

表1の結果から明らかなように、実施例1〜5の低屈折部材は、低屈折率層の膜厚が厚いにも関わらず、ヘイズ及びRSCEが小さく、白化が抑制され視認性が良好であることが確認できる。また、実施例1〜5の低屈折部材は、低屈折率層の厚みが厚すぎないことからクラックを抑制し得るものであることが確認できる。また、実施例1〜5の低屈折部材は、低屈折率層の屈折率が1.30以下であり、表面反射が抑制され、反射防止性を有するものであることが確認できる。さらに、実施例1〜5の低屈折部材は、擦過箇所と非擦過箇所との反射防止性が区別できず、擦過後の反射防止性能に優れることが確認できる。 As apparent from the results in Table 1, the low refractive member of Example 1-5, despite the thickness of the low refractive index layer is thick, haze and R SCE is small, whitening is suppressed good visibility It can be confirmed that. Further, it can be confirmed that the low-refractive index members of Examples 1 to 5 can suppress cracks because the thickness of the low-refractive index layer is not too thick. Further, it can be confirmed that the low-refractive index members of Examples 1 to 5 have a refractive index of 1.30 or less in the low-refractive index layer, suppress surface reflection, and have antireflection property. Further, it can be confirmed that the low refraction members of Examples 1 to 5 cannot distinguish the antireflection property between the scratched portion and the non-abrased portion, and are excellent in the antireflection performance after rubbing.

3.転写シートの作製
[実施例6]
離型シートとして、A4サイズ、厚さ50μmのポリイミドフィルムを準備した。該ポリイミドフィルムの一方の面に、実施例1と同様にして厚み1.0μmの低屈折率層を形成した。
次いで、低屈折率層上に、下記のハードコート用塗布液を乾燥後の厚みが5μmとなるように、塗布、乾燥、紫外線照射(照射量50mJ/cm)して、ハードコート層を形成した。次いで、ハードコート層上に、下記のアンカーコート層用塗布液を乾燥後の厚みが2μmとなるように、塗布、乾燥して、アンカーコート層を形成した。次いで、アンカーコート層上に、下記の接着剤層用塗布液を乾燥後の厚みが2μmとなるように、塗布、乾燥して、感熱性を有する接着剤層を形成し、実施例6の転写シートを得た。
3. 3. Preparation of Transfer Sheet [Example 6]
As a release sheet, an A4 size polyimide film having a thickness of 50 μm was prepared. A low refractive index layer having a thickness of 1.0 μm was formed on one surface of the polyimide film in the same manner as in Example 1.
Next, on the low refractive index layer, the following coating liquid for hard coating is applied, dried, and irradiated with ultraviolet rays (irradiation amount 50 mJ / cm 2 ) so that the thickness after drying becomes 5 μm to form a hard coat layer. bottom. Next, the following coating liquid for an anchor coat layer was applied onto the hard coat layer so that the thickness after drying was 2 μm, and dried to form an anchor coat layer. Next, the following coating liquid for an adhesive layer is applied and dried on the anchor coat layer so that the thickness after drying is 2 μm to form a heat-sensitive adhesive layer, and the transfer of Example 6 is performed. I got a sheet.

<ハードコート層用塗布液>
・紫外線硬化型アクリルアクリレート、シリカ粒子及び光重合開始剤を含有する組成物(DNPファインケミカル社製、商品名:KYKコート剤(82L)):100質量部
・ヘキサンメチレンジイソシアネート(日本ポリウレタン工業社製、商品名:コロネート2203):2質量部
・希釈溶剤(メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン):適量
<Coating liquid for hard coat layer>
-Composition containing UV curable acrylic acrylate, silica particles and photopolymerization initiator (manufactured by DNP Fine Chemical Co., Ltd., trade name: KYK coating agent (82L)): 100 parts by mass-Hexamethylene diisocyanate (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., Product name: Coronate 2203): 2 parts by mass-Diluting solvent (methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone): Appropriate amount

<アンカーコート層用塗布液>
・アクリルポリオール(大成ファインケミカル(株)製、商品名:アクリット6RH084T):100質量部
・ヘキサンメチレンジイソシアネート(日本ポリウレタン工業社製、商品名:コロネート2203):10質量部
・希釈溶剤(メチルエチルケトン、トルエン):適量
<Coating liquid for anchor coat layer>
-Acrylic polyol (manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., trade name: Acryt 6RH084T): 100 parts by mass-Hexamethylene diisocyanate (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., trade name: Coronate 2203): 10 parts by mass-Diluting solvent (methyl ethyl ketone, toluene) : Appropriate amount

<接着剤層用塗布液>
・塩化ビニル酢酸ビニル共重合体(商品名「ST−P Aワニス」、DNPファインケミカル社製、固形分30%):100質量部
・希釈溶剤(メチルエチルケトン、トルエン):適量
<Coating liquid for adhesive layer>
-Vinyl chloride vinyl acetate copolymer (trade name "ST-PA varnish", manufactured by DNP Fine Chemical Co., Ltd., solid content 30%): 100 parts by mass-Diluting solvent (methyl ethyl ketone, toluene): Appropriate amount

4.被着体への樹脂層の転写
被着体として、10cm角、厚み2.0mmの透明アクリル板(クラレ社製、商品名「パラグラスP 001 クリア」)を準備した。
被着体上に、感熱性を有する接着剤層側が被着体側を向くようにして、実施例6の転写シートを、15cm角程度にカットして、前記透明アクリル板の全面が覆われるように配置し、転写シートのロール転写開始側の片側1片をテープで固定した後、ロール式ホットスタンプ機(ナビタス社製、商品名「RH−300」)を用いて、ロール温度220〜240℃、ロール速度20mm/sの条件で被着体と転写層とを密着させた。次いで、離型シート(ポリイミドフィルム)を剥離し、被着体上に転写層を形成した。
次いで、紫外線照射(照射量800mJ/cm)して、ハードコート層の硬化を促進させ、低屈折部材を得た。
4. Transfer of resin layer to adherend A transparent acrylic plate (manufactured by Kuraray Co., Ltd., trade name "Paragrass P001 Clear") having a size of 10 cm square and a thickness of 2.0 mm was prepared as the adherend.
The transfer sheet of Example 6 is cut into a size of about 15 cm square so that the heat-sensitive adhesive layer side faces the adherend side on the adherend so that the entire surface of the transparent acrylic plate is covered. After arranging and fixing one piece of the transfer sheet on the roll transfer start side with tape, the roll temperature is 220 to 240 ° C. using a roll type hot stamping machine (manufactured by Navitas, trade name "RH-300"). The adherend and the transfer layer were brought into close contact with each other under the condition of a roll speed of 20 mm / s. Next, the release sheet (polyimide film) was peeled off to form a transfer layer on the adherend.
Next, ultraviolet irradiation (irradiation amount 800 mJ / cm 2 ) was performed to accelerate the curing of the hard coat layer, and a low refraction member was obtained.

実施例6の転写シートを用いて得られた低屈折部材は、低屈折率層の膜厚が厚いにも関わらず、白化が抑制され視認性が良好なものであった。また、実施例6の転写シートを用いて得られた低屈折部材は、低屈折率層の厚みが厚すぎないことからクラックを抑制し得るものであった。また、実施例6の転写シートを用いて得られた低屈折部材は、表面反射が抑制され、十分な反射防止性を有する物であった。さらに、実施例6の転写シートを用いて得られた低屈折部材は、被着体(透明アクリル板)と低屈折率層との間に柔らかい接着剤層を有するにも関わらず、擦過箇所と非擦過箇所との反射防止性が区別できない程度に耐擦傷性に優れるものであった。 In the low-refractive-index member obtained by using the transfer sheet of Example 6, whitening was suppressed and visibility was good despite the thick film thickness of the low-refractive index layer. Further, in the low-refractive index member obtained by using the transfer sheet of Example 6, cracks could be suppressed because the thickness of the low-refractive index layer was not too thick. Further, the low-refraction member obtained by using the transfer sheet of Example 6 was a member having suppressed surface reflection and sufficient antireflection property. Further, the low-refractive-index member obtained by using the transfer sheet of Example 6 has a scratched portion even though it has a soft adhesive layer between the adherend (transparent acrylic plate) and the low-refractive index layer. The scratch resistance was so excellent that the antireflection property could not be distinguished from the non-scratched part.

Claims (10)

基材上に低屈折率層を有する低屈折部材であって、前記低屈折率層は、厚みが0.5〜5.0μmであり、かつ、中空粒子及びバインダー樹脂を含み、前記中空粒子は平均粒子径が60〜140nmであり、前記バインダー樹脂として、シリコーン系化合物を含む組成物の硬化物を含む、低屈折部材。 A low-refractive index member having a low-refractive index layer on a base material, the low-refractive index layer having a thickness of 0.5 to 5.0 μm and containing hollow particles and a binder resin. A low-refractive index member having an average particle size of 60 to 140 nm and containing a cured product of a composition containing a silicone-based compound as the binder resin. 前記バインダー樹脂100質量部に対して前記中空粒子を100〜300質量部含む、請求項1に記載の低屈折部材。 The low refraction member according to claim 1, wherein the hollow particles are contained in an amount of 100 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin. 前記シリコーン系化合物が、置換基として反応性官能基を有する置換炭化水素基がケイ素原子に直結してなるものである、請求項1又は2に記載の低屈折部材。 The low-refractive-index member according to claim 1 or 2, wherein the silicone-based compound is formed by directly linking a substituted hydrocarbon group having a reactive functional group as a substituent to a silicon atom. 前記低屈折部材の低屈折率層側から測定した拡散光線反射率RSCEが1.5%以下である、請求項1〜3の何れか1項に記載の低屈折部材。 The diffusion light reflectance R SCE measured from the low refractive index layer side of the low refractive member is not more than 1.5%, the low refractive member according to any one of claims 1 to 3. JISK7136:2000に準拠するヘイズが1.0%以下である、請求項1〜4の何れか1項に記載の低屈折部材。 The low refraction member according to any one of claims 1 to 4, wherein the haze according to JIS K7136: 2000 is 1.0% or less. 前記低屈折率層の屈折率が1.30以下である、請求項1〜5の何れか1項に記載の低屈折部材。 The low-refractive index member according to any one of claims 1 to 5, wherein the low refractive index layer has a refractive index of 1.30 or less. 基材上に転写層を有する転写シートであって、前記転写層の前記基材側は低屈折率層であり、前記低屈折率層は、厚みが0.5〜5.0μmであり、かつ、中空粒子及びバインダー樹脂を含み、前記中空粒子は平均粒子径が60〜140nmであり、前記バインダー樹脂として、シリコーン系化合物を含む組成物の硬化物を含む、転写シート。 A transfer sheet having a transfer layer on a base material, the base material side of the transfer layer is a low refractive index layer, and the low refractive index layer has a thickness of 0.5 to 5.0 μm and , A transfer sheet containing hollow particles and a binder resin, the hollow particles having an average particle diameter of 60 to 140 nm, and containing a cured product of a composition containing a silicone-based compound as the binder resin. 平均粒子径が60〜140nmの中空粒子と、バインダー樹脂成分としてのシリコーン系化合物とを含む、請求項1〜6の何れか1項に記載の低屈折部材の低屈折率層形成用のコーティング組成物。 The coating composition for forming a low refractive index layer of the low refractive index member according to any one of claims 1 to 6, which contains hollow particles having an average particle diameter of 60 to 140 nm and a silicone compound as a binder resin component. thing. 平均粒子径が60〜140nmの中空粒子と、バインダー樹脂成分としてのシリコーン系化合物とを含む、請求項7に記載の転写シートの低屈折率層形成用のコーティング組成物。 The coating composition for forming a low refractive index layer of a transfer sheet according to claim 7, which contains hollow particles having an average particle diameter of 60 to 140 nm and a silicone compound as a binder resin component. 請求項1〜6の何れか1項に記載の低屈折部材の低屈折率層上に蒸着膜を有してなる、積層体。 A laminated body having a vapor-deposited film on the low-refractive index layer of the low-refractive index member according to any one of claims 1 to 6.
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