JP2005316101A - Protection film for polarizing plate, polarizing plate with reflection preventing function and optical product - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、透明樹脂からなる基材フィルムに低屈折率層が積層されてなる偏光板保護フィルム、反射防止機能付偏光板及びこの偏光板を備える光学製品に関する。 The present invention relates to a polarizing plate protective film in which a low refractive index layer is laminated on a base film made of a transparent resin, a polarizing plate with an antireflection function, and an optical product including the polarizing plate.
近年、液晶ディスプレイ等のディスプレイにおいては、画面への外部光の映りこみ、反射、ギラツキ等を極力抑え、画面を見易くする(視認性の向上)ために、透明基板(基材フィルム)上に低屈折率層を形成した反射防止フィルムを使用することが行われている。 In recent years, in displays such as liquid crystal displays, it has been reduced on a transparent substrate (base film) in order to minimize external image reflection, reflection, glare, etc. on the screen and make the screen easier to see (improving visibility). An antireflection film having a refractive index layer is used.
従来、低屈折率層に用いる低屈折率材料としては、MgF2、SiO2等の無機材料;フッ素樹脂等の有機材料;等が知られている。高い反射防止性能を得るためには、低屈折率層が積層される層と低屈折率層との反射率の極小値を小さくすることができるように、これら2層の屈折率の差を大きくするのが好ましい。 Conventionally, as a low refractive index material used for a low refractive index layer, inorganic materials such as MgF 2 and SiO 2 ; organic materials such as a fluororesin; and the like are known. In order to obtain high antireflection performance, the difference in refractive index between these two layers is increased so that the minimum value of the reflectance between the layer on which the low refractive index layer is laminated and the low refractive index layer can be reduced. It is preferable to do this.
しかしながら、従来用いられている低屈折率材料は基材フィルムとの屈折率の差が小さいものであるため、優れた反射防止性能を得るためには、基材フィルム表面に、より高い屈折率を有する高屈折率層と低屈折率層とを積層させた多層膜を形成する必要があり、製造コスト面で問題があった。 However, since the low refractive index material used in the past has a small difference in refractive index from the base film, in order to obtain excellent antireflection performance, a higher refractive index is applied to the base film surface. It is necessary to form a multilayer film in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are stacked, and there is a problem in terms of manufacturing cost.
この問題を解決すべく、中空シリカ系微粒子を用いて空隙率を増加させ、低い屈折率を有する低屈折率層を形成する方法がいくつか提案されている。例えば、特許文献1には、中空シリカ系微粒子をマトリクス形成材料中に分散させて得られるコーティング剤組成物を塗布して乾燥することによって低屈折率の透明被膜を形成する方法が開示されている。この方法によれば、高屈折率層と低屈折率層を積層しなくとも、高い反射防止性能を得ることができる。 In order to solve this problem, several methods for forming a low refractive index layer having a low refractive index by increasing the porosity using hollow silica-based fine particles have been proposed. For example, Patent Document 1 discloses a method for forming a transparent film having a low refractive index by applying and drying a coating agent composition obtained by dispersing hollow silica-based fine particles in a matrix-forming material. . According to this method, high antireflection performance can be obtained without stacking the high refractive index layer and the low refractive index layer.
しかしながら、得られるマトリクスの強度が弱く、凝集力に乏しいといった理由から、液晶表示装置等の偏光板保護フィルムとして求められる機械的強度が不十分な場合があり、問題となっていた。近年は、携帯電話等屋外で用いられるものが多く、より優れた機械的強度が求められている。 However, since the strength of the obtained matrix is weak and the cohesive force is poor, the mechanical strength required as a polarizing plate protective film for liquid crystal display devices and the like may be insufficient, which has been a problem. In recent years, there are many things used outdoors, such as a mobile telephone, and the more excellent mechanical strength is calculated | required.
一方、特許文献2には、機械的強度に優れる単層の低屈折率層を基材フィルムに積層した反射防止膜が提案されている。しかしながら、この反射防止膜は、単層で機械的強度に優れるものの、反射防止層の屈折率が高いため充分な反射防止性能が得られないものであった。 On the other hand, Patent Document 2 proposes an antireflection film in which a single layer low refractive index layer having excellent mechanical strength is laminated on a base film. However, although this antireflection film is a single layer and excellent in mechanical strength, a sufficient antireflection performance cannot be obtained due to the high refractive index of the antireflection layer.
本発明は、かかる従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、優れた反射防止性能を有し、機械的強度に優れ、かつ、効率よく低コストで生産可能な偏光板保護フィルム、この反射防止フィルムを用いる反射防止機能付偏光板、及び該反射防止機能付偏光板を備える光学製品を提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the state of the prior art, and has a superior antireflection performance, excellent mechanical strength, and a polarizing plate protective film that can be produced efficiently and at low cost. It is an object to provide a polarizing plate with an antireflection function using an antireflection film and an optical product including the polarizing plate with an antireflection function.
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、透明樹脂からなる基材フィルムに、一定範囲の低屈折率を有し、スチールウール試験前後の反射率の変動が50%以下である低屈折率層を積層することによって、反射防止性能および機械的強度に優れた偏光板保護フィルムを効率よく低コストで得られることを見出した。また、この反射防止フィルムに偏光板を積層すると、反射防止性能および機械的強度に優れた反射防止機能付偏光板が得られることを見出し、本発明を完成するに到った。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have a base film made of a transparent resin having a certain range of low refractive index, and a fluctuation in reflectance before and after the steel wool test is 50% or less. It has been found that a polarizing plate protective film excellent in antireflection performance and mechanical strength can be obtained efficiently and at low cost by laminating a low refractive index layer. Moreover, when a polarizing plate was laminated | stacked on this antireflection film, it discovered that the polarizing plate with an antireflection function excellent in antireflection performance and mechanical strength was obtained, and came to complete this invention.
かくして本発明の第1によれば、透明樹脂からなる基材フィルムの片面に、直接又はその他の層を介して低屈折率層が積層されてなる偏光板保護フィルムであって、前記低屈折率層が、その屈折率が1.25〜1.36であり、かつ、スチールウール試験後の反射率の変動が50%以内のものであることを特徴とする偏光板保護フィルムが提供される。 Thus, according to the first aspect of the present invention, there is provided a polarizing plate protective film in which a low refractive index layer is laminated directly or via another layer on one side of a base film made of a transparent resin, the low refractive index A polarizing plate protective film is provided, wherein the layer has a refractive index of 1.25 to 1.36, and a change in reflectance after a steel wool test is within 50%.
本発明の偏光板保護フィルムにおいては、前記低屈折率層が、無機化合物の中空微粒子を含んでなることが好ましい。
本発明の偏光板保護フィルムにおいては、前記透明樹脂が、脂環式構造含有重合体樹脂、セルロース系樹脂又はポリエステル系樹脂の少なくとも一種であることが好ましい。
In the polarizing plate protective film of the present invention, it is preferable that the low refractive index layer comprises hollow fine particles of an inorganic compound.
In the polarizing plate protective film of the present invention, the transparent resin is preferably at least one of an alicyclic structure-containing polymer resin, a cellulose resin, or a polyester resin.
本発明の第2によれば、本発明の偏光板保護フィルムの基材フィルムの低屈折率層が設けられていない側の一面に、偏光板が積層されてなることを特徴とする反射防止機能付偏光板が提供される。
本発明の第3によれば、本発明の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする光学製品が提供される。
According to a second aspect of the present invention, the antireflection function is characterized in that the polarizing plate is laminated on one surface of the base film of the polarizing plate protective film of the present invention where the low refractive index layer is not provided. An attached polarizing plate is provided.
According to a third aspect of the present invention, there is provided an optical product comprising the polarizing plate with an antireflection function of the present invention.
本発明によれば、透明性、機械的強度、反射防止性能に優れた偏光板保護フィルムを効率よく低コストで得ることができる。
本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の偏光板保護フィルムを用いるものであり、反射防止性能等に優れ、低コストで形成することができる。
本発明の光学製品は、本発明の反射防止機能付偏光板を備えるものであるので、反射防止性能、視認性等に優れ、低コストで製造することができる。
According to the present invention, a polarizing plate protective film excellent in transparency, mechanical strength, and antireflection performance can be obtained efficiently and at low cost.
The polarizing plate with an antireflection function of the present invention uses the polarizing plate protective film of the present invention, and is excellent in antireflection performance and can be formed at low cost.
Since the optical product of the present invention comprises the polarizing plate with an antireflection function of the present invention, it is excellent in antireflection performance, visibility, etc., and can be produced at low cost.
以下、本発明を、1)偏光板保護フィルム、2)反射防止機能付偏光板、3)光学製品に項分けして説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in terms of 1) a polarizing plate protective film, 2) a polarizing plate with an antireflection function, and 3) an optical product.
1)偏光板保護フィルム
本発明の偏光板保護フィルムは、透明樹脂からなる基材フィルムの片面に、直接又はその他の層を介して低屈折率層が積層されてなる偏光板保護フィルムであって、前記低屈折率層が、その屈折率が1.25〜1.36であり、かつ、スチールウール試験後の反射率の変動が50%以内のものであることを特徴とする。
1) Polarizing plate protective film The polarizing plate protective film of the present invention is a polarizing plate protective film in which a low refractive index layer is laminated directly or via another layer on one side of a base film made of a transparent resin. The low-refractive index layer has a refractive index of 1.25 to 1.36, and a change in reflectance after a steel wool test is within 50%.
本発明に用いる基材フィルムは、透明性に優れる合成樹脂(透明樹脂)からなるものであれば特に制限されないが、1mm厚で全光線透過率が80%以上の合成樹脂からなるものが好ましい。基材フィルムを構成する透明樹脂としては、例えば、脂環式構造含有重合体樹脂、ポリエステル系重合体樹脂、セルロース系重合体樹脂、ポリカーボネート系重合体樹脂、ポリスルホン系重合体樹脂、ポリエーテルスルホン系重合体樹脂、ポリスチレン系重合体樹脂、ポリオレフィン系重合体樹脂、ポリビニルアルコール系重合体樹脂、ポリ塩化ビニル系重合体樹脂、ポリメタクリレート系重合体樹脂等が挙げられる。
これらの透明樹脂は、一種単独でも、二種以上を混合して用いてもよい。
Although the base film used for this invention will not be restrict | limited especially if it consists of a synthetic resin (transparent resin) which is excellent in transparency, what consists of a synthetic resin whose total light transmittance is 80% or more by 1 mm thickness is preferable. Examples of the transparent resin constituting the base film include, for example, alicyclic structure-containing polymer resins, polyester polymer resins, cellulose polymer resins, polycarbonate polymer resins, polysulfone polymer resins, and polyether sulfone resins. Examples thereof include polymer resins, polystyrene polymer resins, polyolefin polymer resins, polyvinyl alcohol polymer resins, polyvinyl chloride polymer resins, and polymethacrylate polymer resins.
These transparent resins may be used alone or in combination of two or more.
これらの中でも、複屈折が小さいことから、脂環式構造含有重合体樹脂、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース系重合体樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系重合体樹脂;が好ましく、透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性等の観点から、脂環式構造含有重合体樹脂、トリアセチルセルロース及びポリエチレンテレフタレートがより好ましく、脂環式構造含有重合体樹脂が特に好ましい。 Among these, since the birefringence is small, cellulose polymer resins such as alicyclic structure-containing polymer resin, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate butyrate; polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc. From the viewpoint of transparency, low hygroscopicity, dimensional stability, light weight, etc., alicyclic structure-containing polymer resin, triacetyl cellulose and polyethylene terephthalate are more preferable, and alicyclic Structure-containing polymer resins are particularly preferred.
脂環式構造含有重合体樹脂は、重合体樹脂の繰り返し単位中に脂環式構造を有するものであり、主鎖中に脂環式構造を有する重合体樹脂及び側鎖に脂環式構造を有する重合体樹脂のいずれも用いることができる。 The alicyclic structure-containing polymer resin has an alicyclic structure in the repeating unit of the polymer resin, and the polymer resin having an alicyclic structure in the main chain and an alicyclic structure in the side chain. Any polymer resin can be used.
脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造等が挙げられるが、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。脂環式構造を構成する炭素数に特に制限はないが、通常4〜30個、好ましくは5〜20個、より好ましくは5〜15個である。脂環式構造を構成する炭素原子数がこの範囲にあると、耐熱性及び柔軟性に優れた基材フィルムを得ることができる。 Examples of the alicyclic structure include a cycloalkane structure and a cycloalkene structure, and a cycloalkane structure is preferable from the viewpoint of thermal stability. Although there is no restriction | limiting in particular in carbon number which comprises an alicyclic structure, Usually, 4-30 pieces, Preferably it is 5-20 pieces, More preferably, it is 5-15 pieces. When the number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is in this range, a base film excellent in heat resistance and flexibility can be obtained.
脂環式構造含有重合体樹脂中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択されればよいが、通常50重量%以上、好ましくは70重量%以上、より好ましくは90重量%以上である。脂環式構造を有する繰り返し単位が過度に少ないと耐熱性が低下し好ましくない。なお、脂環式構造含有重合体樹脂における脂環式構造を有する繰り返し単位以外の繰り返し単位は、使用目的に応じて適宜選択される。 The proportion of the repeating unit having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer resin may be appropriately selected according to the purpose of use, but is usually 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, more preferably. Is 90% by weight or more. If the number of repeating units having an alicyclic structure is too small, the heat resistance is undesirably lowered. In addition, repeating units other than the repeating unit which has an alicyclic structure in an alicyclic structure containing polymer resin are suitably selected according to the intended purpose.
脂環式構造含有重合体樹脂の具体例としては、(i)ノルボルネン系重合体、(ii)単環の環状オレフィン系重合体、(iii)環状共役ジエン系重合体、(iv)ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物等が挙げられる。これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン系重合体が好ましい。 Specific examples of the alicyclic structure-containing polymer resin include (i) a norbornene polymer, (ii) a monocyclic olefin polymer, (iii) a cyclic conjugated diene polymer, and (iv) a vinyl alicyclic ring. Formula hydrocarbon polymers, hydrides thereof and the like. Among these, norbornene-based polymers are preferable from the viewpoints of transparency and moldability.
ノルボルネン系重合体としては、具体的には、ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体、及びそれらの水素化物、ノルボルネン系単量体の付加重合体、ノルボルネン系単量体と共重合可能なその他の単量体との付加共重合体等が挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネン系単量体の開環(共)重合体水素化物が特に好ましい。 Specific examples of the norbornene-based polymer include ring-opening polymers of norbornene-based monomers, ring-opening copolymers of norbornene-based monomers and other monomers capable of ring-opening copolymerization, and those Hydrides of the above, addition polymers of norbornene monomers, addition copolymers with other monomers copolymerizable with norbornene monomers, and the like. Among these, from the viewpoint of transparency, a ring-opening (co) polymer hydride of a norbornene monomer is particularly preferable.
ノルボルネン系単量体としては、例えば、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3,7−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、7,8−ベンゾトリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、及びこれらの化合物の誘導体(例えば、環に置換基を有するもの)等を挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基等を挙げることができる。また、これらの置換基は、同一又は相異なって複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン系単量体は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the norbornene-based monomer include bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (common name: norbornene), tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] deca-3,7-diene. (Common name: dicyclopentadiene), 7,8-benzotricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene (common name: methanotetrahydrofluorene), tetracyclo [4.4.0. 1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene (common name: tetracyclododecene), derivatives of these compounds (for example, those having a substituent in the ring), and the like. Here, examples of the substituent include an alkyl group, an alkylene group, an alkoxycarbonyl group, and a carboxyl group. In addition, these substituents may be the same or different and a plurality may be bonded to the ring. Norbornene monomers can be used alone or in combination of two or more.
ノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等のモノ環状オレフィン類及びその誘導体;シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン等の環状共役ジエン及びその誘導体;等が挙げられる。 Other monomers capable of ring-opening copolymerization with norbornene monomers include, for example, monocyclic olefins such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene and derivatives thereof; cyclic conjugated dienes such as cyclohexadiene and cycloheptadiene; Derivatives thereof; and the like.
ノルボルネン系単量体の開環重合体及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との開環共重合体は、単量体を開環重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。
開環重合触媒としては、通常使用される公知のものを使用できる。
Ring-opening polymers of norbornene monomers and ring-opening copolymers of norbornene monomers and other monomers copolymerizable therewith are polymerized in the presence of a ring-opening polymerization catalyst. Can be obtained.
As the ring-opening polymerization catalyst, a commonly used known catalyst can be used.
ノルボルネン系単量体と付加共重合可能なその他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン等の炭素数2〜20のα−オレフィン及びこれらの誘導体;シクロブテン、シクロペンテン等のシクロオレフィン及びこれらの誘導体;1,4−ヘキサジエン等の非共役ジエン等が挙げられる。これらの単量体は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中では、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。 Examples of other monomers that can be addition-copolymerized with norbornene-based monomers include, for example, α-olefins having 2 to 20 carbon atoms such as ethylene and propylene, and derivatives thereof; cycloolefins such as cyclobutene and cyclopentene, and these Derivatives; non-conjugated dienes such as 1,4-hexadiene and the like. These monomers can be used alone or in combination of two or more. In these, an alpha olefin is preferable and ethylene is more preferable.
ノルボルネン系単量体の付加重合体及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、単量体を付加重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。付加重合触媒としては、通常使用される公知のものを使用できる。 Norbornene monomer addition polymers and addition copolymers of norbornene monomers and other monomers copolymerizable therewith are obtained by polymerizing the monomers in the presence of an addition polymerization catalyst. Can be obtained. As the addition polymerization catalyst, a commonly used known catalyst can be used.
ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体とこれと開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体、ノルボルネン系単量体の付加重合体、及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との付加重合体の水素化物は、公知の水素化触媒を添加し、炭素−炭素不飽和結合を好ましくは90%以上水素化することによって得ることができる。 Ring-opening polymer of norbornene monomer, ring-opening copolymer of norbornene monomer and other monomer capable of ring-opening copolymerization, addition polymer of norbornene monomer, and norbornene Addition of a known hydrogenation catalyst to the hydride of an addition polymer of a system monomer and another monomer copolymerizable therewith, preferably hydrogenates a carbon-carbon unsaturated bond by 90% or more. Can be obtained.
単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の付加重合体を挙げることができる。
また、環状共役ジエン系重合体としては、例えば、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系単量体を1,2−付加重合又は1,4−付加重合した重合体を挙げることができる。
Examples of the monocyclic olefin-based polymer include addition polymers such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene.
Examples of the cyclic conjugated diene polymer include polymers obtained by 1,2-addition polymerization or 1,4-addition polymerization of cyclic conjugated diene monomers such as cyclopentadiene and cyclohexadiene.
ビニル脂環式炭化水素重合体は、ビニルシクロアルカン又はビニルシクロアルケン由来の繰り返し単位を有する重合体である。ビニル脂環式炭化水素重合体としては、例えば、ビニルシクロヘキサン等のビニルシクロアルカン、ビニルシクロヘキセン等のビニルシクロアルケン等のビニル脂環式炭化水素化合物の重合体及びその水素化物;スチレン、α−メチルスチレン等のビニル芳香族炭化水素化合物の重合体の芳香環部分の水素化物等が挙げられる。 The vinyl alicyclic hydrocarbon polymer is a polymer having a repeating unit derived from vinylcycloalkane or vinylcycloalkene. Examples of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer include polymers of vinyl alicyclic hydrocarbon compounds such as vinyl cycloalkanes such as vinyl cyclohexane, vinyl cycloalkenes such as vinyl cyclohexene, and hydrides thereof; styrene, α-methyl Examples thereof include hydrides of aromatic ring portions of polymers of vinyl aromatic hydrocarbon compounds such as styrene.
また、ビニル脂環式炭化水素重合体は、ビニル脂環式炭化水素化合物やビニル芳香族炭化水素化合物と、これらの単量体と共重合可能な他の単量体とのランダム共重合体、ブロック共重合体等の共重合体及びその水素化物であってもよい。ブロック共重合としては、ジブロック、トリブロック、又はそれ以上のマルチブロックや傾斜ブロック共重合等が挙げられるが、特に制限はない。 The vinyl alicyclic hydrocarbon polymer is a random copolymer of a vinyl alicyclic hydrocarbon compound or a vinyl aromatic hydrocarbon compound and another monomer copolymerizable with these monomers, It may be a copolymer such as a block copolymer and a hydride thereof. Examples of the block copolymerization include diblock, triblock, or more multiblock and gradient block copolymerization, but are not particularly limited.
透明樹脂の分子量は、溶媒としてシクロヘキサン(重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン)を用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量が、通常10,000〜300,000、好ましくは15,000〜250,000、より好ましくは20,000〜200,000の範囲であるときに、基材フィルムの機械的強度及び成形加工性とが高度にバランスされ好適である。 The molecular weight of the transparent resin is usually 10,000 to 300 in terms of polyisoprene or polystyrene equivalent weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography using cyclohexane as a solvent (toluene if the polymer resin does not dissolve). 5,000, preferably 15,000-250,000, more preferably 20,000-200,000, the mechanical strength and moldability of the base film are highly balanced and suitable. .
前記透明樹脂のガラス転移温度は、使用目的に応じて適宜選択されればよいが、好ましくは80℃以上、より好ましくは100〜250℃の範囲である。ガラス転移温度がこのような範囲にある透明樹脂からなる基材フィルムは、高温・高湿度下での使用における変形や応力が生じることがなく耐久性に優れる。 Although the glass transition temperature of the said transparent resin should just be selected suitably according to a use purpose, Preferably it is 80 degreeC or more, More preferably, it is the range of 100-250 degreeC. A base film made of a transparent resin having a glass transition temperature in such a range is excellent in durability without causing deformation or stress in use under high temperature and high humidity.
前記透明樹脂の分子量分布(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))は特に制限されないが、通常1.0〜10.0、好ましくは1.0〜6.0、より好ましくは1.1〜4.0の範囲である。このような範囲に分子量分布を調整することによって、基材フィルムの機械的強度と成形加工性が良好にバランスする。 The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the transparent resin is not particularly limited, but is usually 1.0 to 10.0, preferably 1.0 to 6.0, more preferably 1. .1 to 4.0. By adjusting the molecular weight distribution in such a range, the mechanical strength and molding processability of the base film are well balanced.
本発明に用いる基材フィルムは、上記透明樹脂材料を公知の成形方法によりフィルム状に成形することにより得ることができる。 The base film used in the present invention can be obtained by molding the transparent resin material into a film by a known molding method.
透明樹脂材料をフィルム状に成形する方法としては、溶液キャスティング法又は、溶融押出成形法が挙げられる。なかでも、フィルム中の揮発性成分の含有量や厚さむらを少なくできる点から、溶融押出成形法が好ましい。さらに溶融押出成形法としては、Tダイ等のダイスを用いる方法やインフレーション法等が挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でTダイを用いる方法が好ましい。 Examples of a method for forming the transparent resin material into a film include a solution casting method and a melt extrusion method. Among these, the melt extrusion molding method is preferable because the content of volatile components in the film and the thickness unevenness can be reduced. Further, examples of the melt extrusion method include a method using a die such as a T die, an inflation method, and the like, but a method using a T die is preferable in terms of excellent productivity and thickness accuracy.
フィルムを成形する方法として、Tダイを用いる方法を採用する場合、Tダイを有する押出機における透明樹脂の溶融温度は、透明樹脂のガラス転移温度よりも80〜180℃高い温度にすることが好ましく、100〜150℃高い温度にすることがより好ましい。押出機での溶融温度が過度に低いと透明樹脂の流動性が不足するおそれがあり、逆に溶融温度が過度に高いと樹脂が劣化する可能性がある。 When adopting a method using a T die as a method for forming a film, the melting temperature of the transparent resin in the extruder having the T die is preferably 80 to 180 ° C. higher than the glass transition temperature of the transparent resin. More preferably, the temperature is higher by 100 to 150 ° C. If the melting temperature in the extruder is excessively low, the fluidity of the transparent resin may be insufficient. Conversely, if the melting temperature is excessively high, the resin may be deteriorated.
さらに、フィルム状に成形する前に、用いる透明樹脂を予備乾燥しておくことが好ましい。予備乾燥は、例えば原料をペレット等の形態にして、熱風乾燥機等を用いて行われる。乾燥温度は100℃以上が好ましく、乾燥時間は2時間以上が好ましい。予備乾燥を行うことにより、フィルム中の揮発性成分量を低減させることができ、さらに押出す透明樹脂の発泡を防ぐことができる。 Furthermore, it is preferable to pre-dry the transparent resin to be used before forming into a film. The preliminary drying is performed using, for example, a hot air dryer or the like in the form of pellets or the like. The drying temperature is preferably 100 ° C. or more, and the drying time is preferably 2 hours or more. By performing preliminary drying, it is possible to reduce the amount of volatile components in the film and to prevent foaming of the transparent resin to be extruded.
本発明に用いる基材フィルムは、その飽和吸水率が0.05%未満であるものが好ましい。飽和吸水率が0.05%未満であるものを使用することにより、低屈折率層を形成する際において、水分が放出されて品質が劣化したり、生産性が低下することがない。また、長期間の使用により、吸湿により基材フィルムが伸縮して、低屈折率層が基材フィルムから剥離することがない。
基材フィルムの飽和吸水率は、JIS K7209に準拠して測定することができる。
The base film used in the present invention preferably has a saturated water absorption of less than 0.05%. By using a material having a saturated water absorption rate of less than 0.05%, when a low refractive index layer is formed, moisture is not released and the quality is not deteriorated and productivity is not lowered. In addition, the base film does not expand and contract due to moisture absorption due to long-term use, and the low refractive index layer does not peel from the base film.
The saturated water absorption rate of the base film can be measured according to JIS K7209.
また基材フィルムとしては、片面又は両面に表面改質処理を施したものを使用することができる。表面改質処理を行うことにより、低屈折率層や後述するその他の層との密着性を向上させることができる。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理等が挙げられる。 Moreover, as a base film, what gave the surface modification process to the single side | surface or both surfaces can be used. By performing the surface modification treatment, adhesion to the low refractive index layer and other layers described later can be improved. Examples of the surface modification treatment include energy beam irradiation treatment and chemical treatment.
エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸等の酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後充分に水で洗浄すればよい。浸漬した状態で振盪すると効果的であるが、長期間処理すると表面が溶解したり、透明性が低下したりするといった問題があり、用いる薬品の反応性、濃度等に応じて、処理時間等を調整する必要がある。 Examples of the energy ray irradiation treatment include corona discharge treatment, plasma treatment, electron beam irradiation treatment, ultraviolet ray irradiation treatment, and the like. From the viewpoint of treatment efficiency, corona discharge treatment and plasma treatment are preferred, and corona discharge treatment is particularly preferred. The chemical treatment may be performed by immersing in an aqueous oxidizing agent solution such as potassium dichromate solution or concentrated sulfuric acid and then thoroughly washing with water. It is effective to shake in the immersed state, but there is a problem that the surface dissolves or transparency decreases when treated for a long period of time, depending on the reactivity, concentration, etc. of the chemical used, the treatment time etc. It needs to be adjusted.
基材フィルムの厚みは、通常10〜1000μmであるが、透明性および機械的強度の観点から、好ましくは30〜300μm、より好ましくは40〜200μmである。 Although the thickness of a base film is 10-1000 micrometers normally, from a viewpoint of transparency and mechanical strength, Preferably it is 30-300 micrometers, More preferably, it is 40-200 micrometers.
本発明の偏光板保護フィルムにおいては、基材フィルムと低屈折率層との間にその他の層を介在させることが好ましい。その他の層としては、ハードコート層やプライマー層が挙げられる。 In the polarizing plate protective film of the present invention, it is preferable to interpose another layer between the base film and the low refractive index layer. Examples of the other layers include a hard coat layer and a primer layer.
ハードコート層は、基材フィルムの表面硬度、耐繰り返し疲労性及び機械的強度を補強する目的で形成される。ハードコート層の形成材料としては、JIS K5400に規定される鉛筆硬度試験で、「2H」以上の硬度を示すものであれば特に制限されない。例えば、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系等の有機系ハードコート材料;二酸化ケイ素等の無機系ハードコート材料;等が挙げられる。なかでも、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、多官能アクリレート系ハードコート材料の使用が好ましい。 The hard coat layer is formed for the purpose of reinforcing the surface hardness, repeated fatigue resistance and mechanical strength of the base film. The material for forming the hard coat layer is not particularly limited as long as it shows a hardness of “2H” or higher in the pencil hardness test specified in JIS K5400. Examples thereof include organic hard coat materials such as organic silicone, melamine, epoxy, and acrylic; inorganic hard coat materials such as silicon dioxide; and the like. Of these, the use of a polyfunctional acrylate hard coat material is preferred from the viewpoint of good adhesion and excellent productivity.
ハードコート層の形成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層形成用塗工液を公知の塗工方法により基材フィルム上に塗工して、紫外線を照射し硬化させて形成する方法が挙げられる。ハードコート層の厚みは特に限定されないが、通常0.5〜30μm、好ましくは3〜15μmである。 The method for forming the hard coat layer is not particularly limited. For example, there is a method in which a hard coat layer forming coating solution is applied onto a substrate film by a known coating method, and is irradiated with ultraviolet rays and cured. Can be mentioned. Although the thickness of a hard-coat layer is not specifically limited, Usually, 0.5-30 micrometers, Preferably it is 3-15 micrometers.
プライマー層は、基材フィルムと低屈折率層との接着性の付与及び向上を目的として形成される。プライマー層を構成する材料としては、例えば、ポリエステルウレタン系樹脂、ポリエーテルウレタン系樹脂、ポリイソシアネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ゴム、環化ゴム、これらの重合体に極性基を導入した変性物等が挙げられる。これらの中で、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂の変性物及び環化ゴムの変性物を好適に用いることができる。 The primer layer is formed for the purpose of imparting and improving the adhesion between the base film and the low refractive index layer. Examples of the material constituting the primer layer include polyester urethane resins, polyether urethane resins, polyisocyanate resins, polyolefin resins, resins having a hydrocarbon skeleton in the main chain, polyamide resins, acrylic resins, and polyester resins. Examples thereof include resins, vinyl chloride / vinyl acetate copolymers, chlorinated rubber, cyclized rubber, and modified products obtained by introducing polar groups into these polymers. Among these, a modified product of a resin having a hydrocarbon skeleton in the main chain and a modified product of a cyclized rubber can be suitably used.
主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂としては、ポリブタジエン骨格又は少なくともその一部に水素添加したポリブタジエン骨格を有する樹脂が挙げられ、具体的には、ポリブタジエン樹脂、水添ポリブタジエン樹脂、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体(SBS共重合体)、その水素添加物(SEBS共重合体)等が挙げられる。なかでも、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物の変性物を好適に用いることができる。 Examples of the resin having a hydrocarbon skeleton in the main chain include a polybutadiene skeleton or a resin having a polybutadiene skeleton hydrogenated to at least a part thereof, specifically, a polybutadiene resin, a hydrogenated polybutadiene resin, a styrene / butadiene / styrene. Examples thereof include a block copolymer (SBS copolymer), a hydrogenated product thereof (SEBS copolymer), and the like. Among these, a modified product of a hydrogenated product of a styrene / butadiene / styrene block copolymer can be suitably used.
重合体の変性物を得るために用いる極性基を導入するための化合物としては、カルボン酸又はその誘導体が好ましい。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマール酸等の不飽和カルボン酸;塩化マレイル、マレイミド、無水マレイン酸、無水シトラコン酸等の不飽和カルボン酸のハロゲン化物、アミド、イミド、無水物、エステル等の誘導体;等が挙げられる。これらの中でも、不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物による変性物は、密着性に優れるので、好適に用いることができる。不飽和カルボン酸又はその無水物の中では、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸がより好ましく、マレイン酸、無水マレイン酸が特に好ましい。これらの不飽和カルボン酸等は、2種以上を混合して用い、変性することもできる。 As a compound for introducing a polar group used for obtaining a modified product of a polymer, a carboxylic acid or a derivative thereof is preferable. For example, unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid and fumaric acid; halides, amides, imides, anhydrides and esters of unsaturated carboxylic acids such as maleyl chloride, maleimide, maleic anhydride and citraconic anhydride And the like; and the like. Among these, a modified product with an unsaturated carboxylic acid or an unsaturated carboxylic acid anhydride is excellent in adhesion, and thus can be suitably used. Among the unsaturated carboxylic acids or anhydrides thereof, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, and maleic anhydride are more preferable, and maleic acid and maleic anhydride are particularly preferable. These unsaturated carboxylic acids and the like can be modified by mixing two or more kinds.
プライマー層の形成方法は特に制限されず、例えば、プライマー層形成用塗工液を公知の塗工方法により、基材フィルム上に塗工して形成する方法が挙げられる。プライマー層の厚みは特に制限されないが、通常0.01〜5μm、好ましくは0.1〜2μmである。 The method for forming the primer layer is not particularly limited, and examples thereof include a method in which a primer layer forming coating solution is applied on a base film by a known coating method. The thickness of the primer layer is not particularly limited, but is usually 0.01 to 5 μm, preferably 0.1 to 2 μm.
また、前記基材フィルム、ハードコート層およびプライマー層を構成する樹脂材料には、所望により各種配合剤を添加することができる。配合剤としては、熱可塑性樹脂材料で通常用いられるものであれば格別な制限はなく、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン酸系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等の酸化防止剤;ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、金属錯体系紫外線吸収剤等の紫外線吸収剤;ヒンダードアミン系光安定剤等の光安定剤;染料や顔料等着色剤;脂肪族アルコールのエステル、多価アルコールのエステル、脂肪酸アミド、無機粒子等滑剤;トリエステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸−塩基酸エステル系可塑剤、オキシ酸エステル系可塑剤等の可塑剤;多価アルコールの脂肪酸エステル等の帯電防止剤;等が挙げられる。 Moreover, various compounding agents can be added to the resin materials constituting the base film, hard coat layer and primer layer as desired. The compounding agent is not particularly limited as long as it is usually used in thermoplastic resin materials. For example, antioxidants such as phenolic antioxidants, phosphoric acid antioxidants, sulfur antioxidants; UV absorbers such as triazole UV absorbers, benzoate UV absorbers, benzophenone UV absorbers, acrylate UV absorbers, metal complex UV absorbers; light stabilizers such as hindered amine light stabilizers; dyes and pigments Colorants such as: Aliphatic alcohol esters, polyhydric alcohol esters, fatty acid amides, inorganic particles, etc. Lubricants: triester plasticizers, phthalic acid ester plasticizers, fatty acid-basic acid ester plasticizers, oxyacid esters Plasticizers such as plasticizers; antistatic agents such as fatty acid esters of polyhydric alcohols; and the like.
本発明の偏光板保護フィルムの低屈折率層は、屈折率が1.25〜1.36、好ましくは1.25〜1.33であり、かつ、スチールウール試験後の反射率の変動が50%以内、好ましくは30%以内であることを特徴とする。 The low refractive index layer of the polarizing plate protective film of the present invention has a refractive index of 1.25 to 1.36, preferably 1.25 to 1.33, and a change in reflectance after the steel wool test is 50. % Or less, preferably 30% or less.
低屈折率層の屈折率が1.25未満では、低屈折率層の強度が弱く、偏光板保護フィルムとして求められる所望の機械的強度が得られない一方、1.36を越えると、所望の反射防止効果が得られなくなるおそれがある。
屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメータを用いて測定して求めることができる。
When the refractive index of the low refractive index layer is less than 1.25, the strength of the low refractive index layer is weak and the desired mechanical strength required as a polarizing plate protective film cannot be obtained. The antireflection effect may not be obtained.
The refractive index can be obtained by measuring using, for example, a known spectroscopic ellipsometer.
スチールウール試験後の反射率の変動とは、スチールウールに0.05MPaの荷重をかけた状態で偏光板保護フィルムの表面を10回擦る試験を行う前と後で測定した反射率の変化の割合をいい、スチールウール試験前の反射率をRb、スチールウール試験後の反射率をRaとすると、次式により求めることができる。
The change in reflectance after the steel wool test is the ratio of the change in reflectance measured before and after the test of rubbing the surface of the polarizing plate
反射率は、例えば、公知の分光光度計を用い、所定の入射角における反射スペクトルを測定し、波長550nmにおける反射率として求めることができる。低屈折率層の反射率は、好ましくは0.5%以下、より好ましくは0.3%以下である。反射率の変動が小さいものは、機械的強度に優れるということができる。 The reflectance can be obtained as a reflectance at a wavelength of 550 nm by measuring a reflection spectrum at a predetermined incident angle using, for example, a known spectrophotometer. The reflectance of the low refractive index layer is preferably 0.5% or less, more preferably 0.3% or less. It can be said that a material having a small variation in reflectance is excellent in mechanical strength.
さらに、本発明に用いる低屈折率層は無機化合物の中空微粒子を含んでなるのが好ましい。無機化合物の中空微粒子としては、外殻の内部に空洞が形成された無機中空微粒子であれば特に制約はないが、シリカ系中空微粒子が好ましい。 Furthermore, the low refractive index layer used in the present invention preferably comprises hollow fine particles of an inorganic compound. The inorganic compound hollow fine particles are not particularly limited as long as they are inorganic hollow fine particles in which cavities are formed inside the outer shell, but silica-based hollow fine particles are preferable.
無機化合物としては、無機酸化物が一般的である。無機酸化物としては、SiO2、Al2O3、B2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、Ce2O3、P2O5、Sb2O3、MoO3、ZnO2、WO3等の1種又は2種以上を挙げることができる。2種以上の無機酸化物として、TiO2−Al2O3、TiO2−ZrO2、In2O3−SnO2、Sb2O3−SnO2を例示することができる。これらは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。 As the inorganic compound, an inorganic oxide is common. As the inorganic oxide, SiO 2, Al 2 O 3 , B 2 O 3, TiO 2, ZrO 2, SnO 2, Ce 2 O 3, P 2 O 5, Sb 2 O 3, MoO 3, ZnO 2, WO One or two or more of 3 or the like can be mentioned. Examples of the two or more inorganic oxides include TiO 2 —Al 2 O 3 , TiO 2 —ZrO 2 , In 2 O 3 —SnO 2 , and Sb 2 O 3 —SnO 2 . These can be used alone or in combination of two or more.
無機中空微粒子としては、(A)無機酸化物単一層、(B)種類の異なる無機酸化物からなる複合酸化物又は混合酸化物の単一層、及び(C)上記(A)と(B)との二重層を包含するものを用いることができる。 As the inorganic hollow fine particles, (A) an inorganic oxide single layer, (B) a single layer of a composite oxide or mixed oxide composed of different types of inorganic oxides, and (C) the above (A) and (B) The thing including the double layer of this can be used.
外殻は細孔を有する多孔質なものであってもよく、あるいは細孔が閉塞されて空洞が外殻の外側に対して密封されているものであってもよい。
外殻は、内側の第1無機酸化物被覆層及び外側の第2無機酸化物被覆層からなる複数の無機酸化物被覆層であることが好ましい。外側に第2無機酸化物被覆層を設けることにより、外殻の細孔を閉塞させて外殻を緻密化したり、さらには、内部の空洞を密封した無機中空微粒子を得ることができる。
The outer shell may be porous with pores, or the pores may be closed and the cavity sealed with respect to the outside of the outer shell.
The outer shell is preferably a plurality of inorganic oxide coating layers comprising an inner first inorganic oxide coating layer and an outer second inorganic oxide coating layer. By providing the second inorganic oxide coating layer on the outer side, the fine pores of the outer shell are closed to make the outer shell dense, and furthermore, the inorganic hollow fine particles in which the inner cavity is sealed can be obtained.
外殻の厚みは1〜50nm、特に5〜20nmの範囲であるのが好ましい。外殻の厚みが1nm未満であると、無機中空微粒子が所定の粒子形状を保持していない場合がある。逆に、外殻の厚みが50nmを超えると、無機中空微粒子中の空洞が小さく、その結果、空洞の割合が減少して屈折率の低下が不十分であるおそれがある。更に、外殻の厚みは、無機中空微粒子の平均粒子径の1/50〜1/5の範囲にあることが好ましい。 The thickness of the outer shell is preferably in the range of 1 to 50 nm, particularly 5 to 20 nm. If the thickness of the outer shell is less than 1 nm, the inorganic hollow fine particles may not maintain a predetermined particle shape. On the other hand, when the thickness of the outer shell exceeds 50 nm, the cavities in the inorganic hollow fine particles are small, and as a result, the ratio of the cavities may be reduced and the refractive index may not be sufficiently lowered. Furthermore, the thickness of the outer shell is preferably in the range of 1/50 to 1/5 of the average particle diameter of the inorganic hollow fine particles.
上述のように第1無機酸化物被覆層および第2無機酸化物被覆層を外殻として設ける場合、これらの層の厚みの合計が、上記1〜50nmの範囲となるようにすればよく、特に、緻密化された外殻には、第2無機酸化物被覆層の厚みは20〜40nmの範囲が好適である。 When the first inorganic oxide coating layer and the second inorganic oxide coating layer are provided as outer shells as described above, the total thickness of these layers may be in the range of 1 to 50 nm. For the densified outer shell, the thickness of the second inorganic oxide coating layer is preferably in the range of 20 to 40 nm.
また、空洞には無機中空微粒子を調製するときに使用した溶媒及び/又は乾燥時に浸入する気体が存在してもよいし、後述する空洞を形成するための前駆体物質が空洞に残存していてもよい。 The cavity may contain the solvent used when preparing the inorganic hollow fine particles and / or a gas that enters during drying, and a precursor material for forming the cavity described later remains in the cavity. Also good.
前駆体物質は、外殻によって包囲された核粒子から核粒子の構成成分の一部を除去した後に残存する多孔質物質である。核粒子には、種類の異なる無機酸化物からなる多孔質の複合酸化物粒子を用いる。前駆体物質は、外殻に付着してわずかに残存していることもあるし、空洞内の大部分を占めることもある。 The precursor material is a porous material that remains after removing some of the constituent components of the core particles from the core particles surrounded by the outer shell. As the core particles, porous composite oxide particles made of different types of inorganic oxides are used. The precursor material may remain slightly attached to the outer shell or may occupy most of the interior of the cavity.
なお、この多孔質物質の細孔内にも上記溶媒あるいは気体が存在してもよい。このときの核粒子の構成成分の除去量が多くなると空洞の容積が増大し、屈折率の低い無機中空微粒子が得られ、この無機中空微粒子を配合して得られる透明被膜は低屈折率で反射防止性能に優れる。 The solvent or gas may be present in the pores of the porous material. When the removal amount of the constituent components of the core particles at this time increases, the volume of the cavity increases, and inorganic hollow fine particles having a low refractive index are obtained. The transparent coating obtained by blending these inorganic hollow fine particles reflects with a low refractive index. Excellent prevention performance.
無機中空微粒子の平均粒子径は特に制限されないが、5〜2000nmの範囲が好ましく、20〜100nmがより好ましい。5nmよりも小さいと、中空によって低屈折率になる効果が小さく、逆に2000nmよりも大きいと、透明性が極端に悪くなり、拡散反射による寄与が大きくなってしまう。ここで、平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。 The average particle diameter of the inorganic hollow fine particles is not particularly limited, but is preferably in the range of 5 to 2000 nm, and more preferably 20 to 100 nm. If it is smaller than 5 nm, the effect of lowering the refractive index due to hollowness is small. Conversely, if it is larger than 2000 nm, the transparency is extremely deteriorated, and the contribution due to diffuse reflection increases. Here, the average particle diameter is a number average particle diameter by observation with a transmission electron microscope.
上述のような無機中空微粒子の製造方法は、例えば、特開2001−233611号公報に詳細に記載されており、本発明に使用できる無機中空微粒子は、そこに記載された方法に基づいて製造することができ、また一般に市販されている無機中空微粒子を用いることもできる。 The method for producing inorganic hollow fine particles as described above is described in detail in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-233611, and the inorganic hollow fine particles that can be used in the present invention are produced based on the method described therein. In addition, commercially available inorganic hollow fine particles can also be used.
無機化合物の中空微粒子の配合量は、特に制限されないが、低屈折率層全体に対して、10〜30重量%であるのが好ましい。配合量がこの範囲であるときに、低屈折率性と機械的強度を兼ね備えた偏光板保護フィルムを得ることができる。 The blending amount of the hollow fine particles of the inorganic compound is not particularly limited, but is preferably 10 to 30% by weight with respect to the entire low refractive index layer. When the blending amount is within this range, a polarizing plate protective film having both low refractive index properties and mechanical strength can be obtained.
前記無機化合物の中空微粒子は、分散液の形で用いることもできる。分散液に用いる有機溶媒の種類は、特に限定されるものではないが、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体;ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体;ジアセトンアルコール;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;等が挙げられる。
これらの有機溶媒は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。
The hollow fine particles of the inorganic compound can also be used in the form of a dispersion. The type of the organic solvent used in the dispersion is not particularly limited. For example, lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol; ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, acetic acid Ethylene glycol derivatives such as ethylene glycol monoethyl ether; diethylene glycol derivatives such as diethylene glycol and diethylene glycol monobutyl ether; diacetone alcohol; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane; And esters such as ethyl and butyl acetate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone;
These organic solvents can be used alone or in combination of two or more.
低屈折率層は、無機化合物の中空微粒子を含んでなる組成物(以下、「低屈折率層形成用組成物」ということがある。)を、基材フィルム又は基材フィルム上に積層されたその他の層の表面上に塗工し、必要に応じて乾燥・加熱処理を施すことにより形成することができる。形成される低屈折率層が、上記のような屈折率及び反射率変動を有するものになるためには、低屈折率層形成用組成物として、金属酸化物複合体を含有してなるものが好ましい。 The low refractive index layer was formed by laminating a composition containing hollow inorganic fine particles (hereinafter sometimes referred to as “low refractive index layer forming composition”) on a base film or a base film. It can be formed by coating on the surface of other layers and subjecting to drying / heating treatment as necessary. In order for the low refractive index layer to be formed to have the above-described refractive index and reflectance fluctuation, the low refractive index layer-forming composition contains a metal oxide composite. preferable.
前記金属酸化物複合体としては、下記(a)〜(c)からなる群から選ばれる1種以上の化合物から形成されたものであって、分子中に、−(O−M)m−O−(式中、Mは金属原子又は半金属原子を表し、mは自然数を表す。)結合を有するものがより好ましい。 The metal oxide complex is formed from one or more compounds selected from the group consisting of the following (a) to (c), and has — (OM) m —O in the molecule. -(In formula, M represents a metal atom or a metalloid atom, m represents a natural number.) What has a bond is more preferable.
(a)式(1):MXnで表される化合物。
(b)前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の部分加水分解生成物。
(c)前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の完全加水分解生成物。
(A) A compound represented by formula (1): MX n .
(B) At least one partial hydrolysis product of the compound represented by the formula (1).
(C) At least one complete hydrolysis product of the compound represented by the formula (1).
前記(a)の式(1)で表される化合物において、式(1)中、Mは金属原子又は半金属原子を表す。
金属原子又は半金属原子としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属;マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム等のアルカリ土類金属;ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム等の周期律表第3B族元素;ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛等の周期律表第4B族元素;リン、砒素、アンチモン等の周期律表第5B族元素;スカンジウム、チタン、バナジウム、鉄、ニッケル、銅、亜鉛、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、タングステン等の遷移金属元素;ランタン、セリウム、ネオジム等のランタノイド;等が挙げられる。これらの中でも、周期律表第3B族元素、周期律表第4B族元素、遷移金属元素が好ましく、アルミニウム、ケイ素、チタン、ジルコニウムがより好ましく、ケイ素(Si)がさらに好ましい。
In the compound represented by the formula (1) of the above (a), in the formula (1), M represents a metal atom or a metalloid atom.
Examples of the metal atom or metalloid atom include alkali metals such as lithium, sodium and potassium; alkaline earth metals such as magnesium, calcium, barium and strontium; periodic table 3B of boron, aluminum, gallium, indium and thallium Element; Group 4B element of periodic table such as silicon, germanium, tin, lead; Group 5B element of periodic table such as phosphorus, arsenic, antimony; scandium, titanium, vanadium, iron, nickel, copper, zinc, yttrium, Transition metal elements such as zirconium, niobium, tantalum, and tungsten; lanthanoids such as lanthanum, cerium, and neodymium; and the like. Among these, a periodic table group 3B element, a periodic table group 4B element, and a transition metal element are preferable, aluminum, silicon, titanium, and zirconium are more preferable, and silicon (Si) is further preferable.
Xは、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;置換基を有していてもよい一価の炭化水素基;酸素原子;酢酸根、硝酸根等の有機酸根;アセチルアセトナート等のβ−ジケトナート基;硝酸根、硫酸根等の無機酸根;メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基等のアルコキシ基;または水酸基を表す。
また、nは前記M(金属原子又は半金属原子)の原子価を表す。nが2以上のとき、Xは同一であっても相異なっていてもよい。
X is a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom; a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent; an oxygen atom; an organic acid radical such as an acetate radical or a nitrate radical; a β-diketonate such as acetylacetonate A group; an inorganic acid group such as a nitrate group or a sulfate group; an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group or an n-butoxy group; or a hydroxyl group.
N represents the valence of M (metal atom or metalloid atom). When n is 2 or more, X may be the same or different.
これらの中でも、前記式(1)で表される化合物としては、式(2):RwSiY4−w(式中、Rは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、wは0〜2の整数を表し、wが2のとき、Rは同一であっても相異なっていてもよい。Yは加水分解性基を表し、Yは同一であっても相異なっていてもよい。)で表されるケイ素化合物が特に好ましい。 Among these, as the compound represented by the formula (1), the formula (2): R w SiY 4-w (wherein R represents a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent). And w represents an integer of 0 to 2, and when w is 2, R may be the same or different, Y represents a hydrolyzable group, and Y may be the same or different. A silicon compound represented by formula (1) may be particularly preferable.
置換基を有していてもよい一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;フェニル基、4−メチルフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等の置換基を有していてもよいアリール基;ビニル基、アリル基等のアルケニル基;ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基等のアラルキル基;クロロメチル基、γ−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロアルキル基;γ−メタクリロキシプロピル基等のアルケニルカルボニルオキシアルキル基;γ−グリシドキシプロピル基、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル基等のエポキシ基を有するアルキル基;γ−メルカプトプロピル基等のメルカプト基を有するアルキル基;3−アミノプロピル基等のアミノ基を有するアルキル基;等を例示することができる。これらの中でも、合成の容易性、入手容易性から、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基が好ましい。 Examples of the monovalent hydrocarbon group which may have a substituent include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group; a cyclopentyl group, A cycloalkyl group such as a cyclohexyl group; an aryl group optionally having a substituent such as a phenyl group, a 4-methylphenyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group; an alkenyl group such as a vinyl group and an allyl group; Aralkyl groups such as benzyl group, phenethyl group and 3-phenylpropyl group; Haloalkyl groups such as chloromethyl group, γ-chloropropyl group and 3,3,3-trifluoropropyl group; Alkenyl such as γ-methacryloxypropyl group Carbonyloxyalkyl group; an epoxy group having an epoxy group such as γ-glycidoxypropyl group or 3,4-epoxycyclohexylethyl group It can be exemplified, and the like; alkyl groups having an amino group such as 3-aminopropyl group; an alkyl group having a mercapto group such as γ- mercaptopropyl group; kill group. Among these, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and a phenyl group are preferable because of easy synthesis and availability.
Yは加水分解性基を表す。ここで、加水分解性基は、所望により酸または塩基触媒の存在下に加水分解して、−(O−Si)m−O−結合を生じせしめる基をいう。 Y represents a hydrolyzable group. Here, the hydrolyzable group refers to a group that is hydrolyzed in the presence of an acid or a base catalyst as desired to form a — (O—Si) m —O— bond.
加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基;アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアシルオキシ基;オキシム基(−O−N=C−R’(R”))、エノキシ基(−O−C(R’)=C(R”)R''')、アミノ基、アミノキシ基(−O−N(R’)R”)、アミド基(−N(R’)−C(=O)−R”)等が挙げられる。これらの基において、R’、R”、R'''は、それぞれ独立して水素原子又は一価の炭化水素基を表す。これらの中でも、Yとしては、入手容易性等からアルコキシ基が好ましい。 Specific examples of the hydrolyzable group include alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and propoxy group; acyloxy groups such as acetoxy group and propionyloxy group; oxime group (—O—N═C—R ′ (R ″)) ), Enoxy group (—O—C (R ′) ═C (R ″) R ′ ″), amino group, aminoxy group (—O—N (R ′) R ″), amide group (—N (R ') -C (= O) -R ") and the like. In these groups, R ′, R ″, and R ′ ″ each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group. Among these, Y is preferably an alkoxy group from the standpoint of availability. .
前記式(2)で表されるケイ素化合物としては、式(2)中、wが0〜2の整数であるケイ素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等が挙げられる。これらの中でも、入手の容易さからアルコキシシラン類がより好ましい。 The silicon compound represented by the formula (2) is preferably a silicon compound in which w is an integer of 0 to 2 in the formula (2). Specific examples thereof include alkoxysilanes, acetoxysilanes, oxime silanes, enoxysilanes, aminosilanes, aminoxysilanes, amidosilanes and the like. Among these, alkoxysilanes are more preferable because of their availability.
前記式(2)中、wが0であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、wが1であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。また、wが2であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。 In the formula (2), examples of the tetraalkoxysilane in which w is 0 include tetramethoxysilane and tetraethoxysilane. Examples of the organotrialkoxysilane in which w is 1 include methyltrimethoxysilane and methyltriethoxy. Examples include silane, methyltriisopropoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, and the like. Examples of the diorganodialkoxysilane in which w is 2 include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and methylphenyldimethoxysilane.
前記式(1)で表される化合物の分子量は特に制限されないが、40〜300であるのが好ましく、100〜200であるのがより好ましい。 The molecular weight of the compound represented by the formula (1) is not particularly limited, but is preferably 40 to 300, and more preferably 100 to 200.
前記(b)の式(1)で表される化合物の少なくとも1種の部分加水分解生成物(以下、「化合物(3)」という。)、および(c)の式(1)で表される化合物の少なくとも1種の完全加水分解生成物(以下、「化合物(4)」という。)は、前記式(1)で表される化合物の1種またはそれ以上を、全部又は部分的に加水分解、縮合させることによって得ることができる。 At least one partial hydrolysis product (hereinafter referred to as “compound (3)”) of the compound represented by formula (1) of (b), and represented by formula (1) of (c). At least one complete hydrolysis product of the compound (hereinafter referred to as “compound (4)”) is obtained by fully or partially hydrolyzing one or more of the compounds represented by the formula (1). Can be obtained by condensation.
化合物(3)および化合物(4)は、例えば、M(Or)4(Mは前記と同じ意味を表し、rは1価の炭化水素基を表す。)で表される金属テトラアルコキシドを、モル比[H2O]/[Or]が1.0以上、例えば1.0〜5.0、好ましくは1.0〜3.0となる量の水の存在下、加水分解して得ることができる。
加水分解は、5〜100℃の温度で、2〜100時間、全容を撹拌することにより行うことができる。
Compound (3) and Compound (4) include, for example, a metal tetraalkoxide represented by M (Or) 4 (M represents the same meaning as described above, and r represents a monovalent hydrocarbon group). It can be obtained by hydrolysis in the presence of water in an amount such that the ratio [H 2 O] / [Or] is 1.0 or more, for example 1.0 to 5.0, preferably 1.0 to 3.0. it can.
Hydrolysis can be performed by stirring the whole volume at a temperature of 5 to 100 ° C. for 2 to 100 hours.
前記式(1)で表される化合物を加水分解する場合、必要に応じて触媒を使用してよい。使用する触媒としては、特に限定されるものではないが、得られる部分加水分解物及び/あるいは加水分解物が2次元架橋構造になりやすく、その縮合化合物が多孔質化しやすい点、および加水分解に要する時間を短縮する点から、酸触媒が好ましい。 When hydrolyzing the compound represented by the formula (1), a catalyst may be used as necessary. The catalyst to be used is not particularly limited, but the obtained partial hydrolyzate and / or hydrolyzate is likely to have a two-dimensional cross-linked structure, and the condensed compound is easily made porous. From the viewpoint of shortening the time required, an acid catalyst is preferred.
用いる酸触媒としては、特に限定されないが、例えば、酢酸、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタール酸、グリコール酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュウ酸等の有機酸;塩酸、硝酸、ハロゲン化シラン等の無機酸;酸性コロイダルシリカ、酸化チタニアゾル等の酸性ゾル状フィラー;を挙げることができる。これらの酸触媒は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。 The acid catalyst to be used is not particularly limited. For example, acetic acid, chloroacetic acid, citric acid, benzoic acid, dimethylmalonic acid, formic acid, propionic acid, glutaric acid, glycolic acid, maleic acid, malonic acid, toluenesulfonic acid, Organic acids such as acids; inorganic acids such as hydrochloric acid, nitric acid, and halogenated silane; acidic sol-like fillers such as acidic colloidal silica and oxidized titania sol; These acid catalysts can be used alone or in combination of two or more.
また、前記酸触媒の代わりに、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の水酸化物の水溶液、アンモニア水、アミン類の水溶液等の塩基触媒を用いてもよい。 Instead of the acid catalyst, a base catalyst such as an aqueous solution of an alkali metal or alkaline earth metal hydroxide such as sodium hydroxide or calcium hydroxide, an aqueous ammonia or an aqueous solution of amines may be used.
化合物(3)および化合物(4)の分子量は特に制限されないが、通常、その重量平均分子量が200〜5000の範囲である。 The molecular weights of the compound (3) and the compound (4) are not particularly limited, but usually the weight average molecular weight is in the range of 200 to 5,000.
前記低屈折率層形成用組成物は、基材フィルム又はその他の層に塗布して塗膜を形成すること、また、マトリクス形成材料の少なくとも部分的な加水分解が起こるのが好ましい場合があることから、水または水と他の有機溶剤との混合物を含むのが好ましい。 The composition for forming a low refractive index layer may be preferably applied to a base film or other layer to form a coating film, and it may be preferable that at least partial hydrolysis of the matrix forming material occurs. From the above, it is preferable to include water or a mixture of water and another organic solvent.
用いる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体;ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体;ジアセトンアルコール;およびこれらの2種以上からなる組み合わせ;等の親水性有機溶剤が挙げられる。 Examples of the organic solvent to be used include lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol and isobutanol; ethylene glycol derivatives such as ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; diethylene glycol, And hydrophilic organic solvents such as diethylene glycol derivatives such as diethylene glycol monobutyl ether; diacetone alcohol; and combinations of two or more thereof.
また、前記親水性有機溶剤と併用して、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;メチルエチルケトオキシム等のオキシム類;およびこれらの2種以上からなる組み合わせ;等を使用することができる。 In combination with the hydrophilic organic solvent, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; methyl ethyl ketone and methyl Ketones such as isobutyl ketone; oximes such as methyl ethyl ketoxime; and combinations of two or more of these; and the like can be used.
前記低屈折率層形成用組成物は、上記(a)および(b)の化合物を含む場合、硬化触媒を含むのが好ましい。これによって、低屈折率層形成用組成物を基材フィルム表面に塗布して塗膜を形成して乾燥する際に、縮合反応が促進されて被膜中の架橋密度が高くなり、被膜の耐水性及び耐アルカリ性を向上させることができる効果を得ることができる。 When the composition for forming a low refractive index layer contains the compounds (a) and (b), it preferably contains a curing catalyst. As a result, when the composition for forming a low refractive index layer is applied to the surface of the base film to form a coating film and dried, the condensation reaction is promoted to increase the crosslinking density in the coating film, and the water resistance of the coating film And the effect which can improve alkali resistance can be acquired.
用いる硬化触媒としては、Tiキレート化合物、Zrキレート化合物等の金属キレート化合物;有機酸等が挙げられる。 Examples of the curing catalyst to be used include metal chelate compounds such as Ti chelate compounds and Zr chelate compounds; organic acids and the like.
前記低屈折率層形成用組成物は、公知のシランカップリング剤を更に含んでいてもよい。シランカップリング剤を含むことによって、前記低屈折率層形成用組成物を用いて基材フィルム上に低屈折率層を形成する場合、基材フィルムと低屈折率層との間の密着性が向上する場合がある。 The composition for forming a low refractive index layer may further contain a known silane coupling agent. When a low refractive index layer is formed on a base film using the composition for forming a low refractive index layer by including a silane coupling agent, the adhesion between the base film and the low refractive index layer is improved. May improve.
基材フィルム上に低屈折率層形成用組成物を塗工する方法は特に制限されず、公知の塗工法を採用することができる。塗工法としては、ワイヤバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法等が挙げられる。 The method for coating the composition for forming a low refractive index layer on the base film is not particularly limited, and a known coating method can be employed. Examples of the coating method include a wire bar coating method, a dip method, a spray method, a spin coating method, and a roll coating method.
低屈折率層形成用組成物の塗膜を得た後は、乾燥し、必要に応じて加熱焼成することにより、低屈折率層を形成することができる。必要に応じて行われる加熱の温度は、通常50〜200℃、好ましくは80〜150℃である。
得られる低屈折率層の厚みは、通常10〜1000nm、好ましくは50〜500nmである。
After obtaining the coating film of the composition for forming a low refractive index layer, the low refractive index layer can be formed by drying and heating and firing as necessary. The temperature of the heating performed as necessary is usually 50 to 200 ° C, preferably 80 to 150 ° C.
The thickness of the obtained low refractive index layer is usually 10 to 1000 nm, preferably 50 to 500 nm.
本発明の偏光板保護フィルムは、低屈折率層を保護し、かつ、防汚性能を高めるために、低屈折率層上に防汚層をさらに形成することができる。 The polarizing plate protective film of the present invention can further form an antifouling layer on the low refractive index layer in order to protect the low refractive index layer and enhance the antifouling performance.
防汚層の形成材料としては、低屈折率層の機能が阻害されず、防汚層としての要求性能が満たされる限り特に制限はない。通常、疎水基を有する化合物を好ましく使用できる。具体的な例としてはパーフルオロアルキルシラン化合物、パーフルオロポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用することができる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法;化学的気相成長法;湿式低屈折率層形成法;等を用いることができる。 防汚層の厚みは特に制限はないが、通常20nm以下が好ましく、1〜10nmであるのがより好ましい。 The material for forming the antifouling layer is not particularly limited as long as the function of the low refractive index layer is not inhibited and the required performance as the antifouling layer is satisfied. Usually, a compound having a hydrophobic group can be preferably used. As specific examples, a perfluoroalkylsilane compound, a perfluoropolyethersilane compound, or a fluorine-containing silicone compound can be used. As a method for forming the antifouling layer, for example, physical vapor deposition methods such as vapor deposition and sputtering; chemical vapor deposition methods; wet low refractive index layer forming methods; . The thickness of the antifouling layer is not particularly limited, but is usually preferably 20 nm or less, and more preferably 1 to 10 nm.
本発明の偏光板保護フィルムの層構成例を図1に示す。図1に示す偏光板保護フィルム20は、基材フィルム10上に形成されたハードコート層12を介して中空微粒子14aを含有する低屈折率層14が積層された構造を有している。本発明の偏光板保護フィルムは図1に示すものに限定されず、少なくとも基材フィルム上に低屈折率層を有するものであればよい。
The layer structural example of the polarizing plate protective film of this invention is shown in FIG. A polarizing plate
本発明の偏光板保護フィルムは、前記スチールウール試験後であっても、目視観察において、フィルム表面には全く傷が認められず、優れた機械的強度を有している。 Even after the steel wool test, the polarizing plate protective film of the present invention has excellent mechanical strength with no scratches observed on the film surface by visual observation.
本発明の偏光板保護フィルムは、例えば、携帯電話、デジタル情報端末、ポケットベル(登録商標)、ナビゲーション、車載用液晶ディスプレイ、液晶モニター、調光パネル、OA機器用ディスプレイ、AV機器用ディスプレイ等の各種液晶表示素子やエレクトロルミネッセンス表示素子あるいはタッチパネル等の偏光板の保護フィルムとして有用である。 The polarizing plate protective film of the present invention is, for example, a mobile phone, a digital information terminal, a pager (registered trademark), navigation, a liquid crystal display for vehicle use, a liquid crystal monitor, a light control panel, a display for OA equipment, a display for AV equipment, etc. It is useful as a protective film for polarizing plates such as various liquid crystal display elements, electroluminescence display elements, and touch panels.
2)反射防止機能付偏光板
本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の偏光板保護フィルムの基材フィルムの低屈折率層が設けられていない側の一面に、偏光板が積層されてなることを特徴とする。
2) Polarizing plate with antireflection function In the polarizing plate with antireflection function of the present invention, a polarizing plate is laminated on one side of the base film of the polarizing plate protective film of the present invention where the low refractive index layer is not provided. It is characterized by.
偏光板としては、偏光板としての機能を有するものであれば、特に限定はされない。例えば、ポリビニルアルコール(PVA)系やポリエン系の偏光板が挙げられる。 The polarizing plate is not particularly limited as long as it has a function as a polarizing plate. For example, a polyvinyl alcohol (PVA) -based or polyene-based polarizing plate can be used.
偏光板の製造方法は特に限定されない。PVA系の偏光板を製造する方法としては、PVA系フィルムにヨウ素イオンを吸着させた後に一軸に延伸する方法、PVA系フィルムを一軸に延伸した後にヨウ素イオンを吸着させる方法、PVA系フィルムへのヨウ素イオン吸着と一軸延伸とを同時に行う方法、PVA系フィルムを二色性染料で染色した後に一軸に延伸する方法、PVA系フィルムを一軸に延伸した後に二色性染料で吸着する方法、PVA系フィルムへの二色性染料での染色と一軸延伸とを同時に行う方法が挙げられる。また、ポリエン系の偏光板を製造する方法としては、PVA系フィルムを一軸に延伸した後に脱水触媒存在下で加熱・脱水する方法、ポリ塩化ビニル系フィルムを一軸に延伸した後に脱塩酸触媒存在下で加熱・脱水する方法等の公知の方法が挙げられる。 The manufacturing method of a polarizing plate is not specifically limited. As a method of manufacturing a PVA-based polarizing plate, a method of stretching uniaxially after iodine ions are adsorbed on a PVA-based film, a method of adsorbing iodine ions after stretching a uniaxially stretched PVA-based film, A method of simultaneously performing iodine ion adsorption and uniaxial stretching, a method of stretching a uniaxial film after dyeing a PVA film with a dichroic dye, a method of stretching a uniaxial film and then adsorbing with a dichroic dye, a PVA system The method of performing simultaneously dyeing | staining with a dichroic dye and uniaxial stretching to a film is mentioned. In addition, as a method for producing a polyene-based polarizing plate, a method of heating and dehydrating in the presence of a dehydration catalyst after stretching a PVA-based film uniaxially, and in the presence of a dehydrochlorination catalyst after stretching a polyvinyl chloride-based film uniaxially. And publicly known methods such as heating and dehydrating.
偏光板保護フィルムと偏光板との積層は、接着剤や粘着剤等の適宜な接着手段を用いて貼り合わせることができる。接着剤又は粘着剤としては、例えば、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性や透明性等の観点から、アクリル系のものの使用が好ましい。 Lamination | stacking with a polarizing plate protective film and a polarizing plate can be bonded together using appropriate adhesion means, such as an adhesive agent and an adhesive. Examples of the adhesive or pressure-sensitive adhesive include acrylic, silicone, polyester, polyurethane, polyether, rubber, and the like. Among these, from the viewpoint of heat resistance and transparency, it is preferable to use an acrylic material.
本発明の反射防止機能付偏光板においては、偏光板の本発明の偏光板保護フィルムが積層されていない方の面に、接着剤又は粘着剤層を介して、保護フィルムが積層されていてもよい。保護フィルムとしては、光学異方性が低い材料からなるものが好ましい。光学異方性が低い材料としては、特に制限されず、例えばトリアセチルセルロース等のセルロースエステルや脂環式構造含有重合体等が挙げられるが、透明性、低複屈折性、寸法安定性等に優れる点から脂環式構造含有重合体が好ましい。脂環式構造含有重合体としては、前記基材フィルムの説明部分で記載したものと同様のものが挙げられる。接着剤又は粘着剤としては、偏光板保護フィルムと偏光板との積層に用いる接着剤又は粘着剤と同様のものが挙げられる。 In the polarizing plate with an antireflection function of the present invention, a protective film may be laminated via an adhesive or an adhesive layer on the surface of the polarizing plate on which the polarizing plate protective film of the present invention is not laminated. Good. As a protective film, what consists of material with low optical anisotropy is preferable. The material having low optical anisotropy is not particularly limited, and examples thereof include cellulose esters such as triacetyl cellulose and alicyclic structure-containing polymers. However, transparency, low birefringence, dimensional stability, etc. From the viewpoint of superiority, an alicyclic structure-containing polymer is preferred. Examples of the alicyclic structure-containing polymer include those described in the explanation part of the base film. Examples of the adhesive or pressure-sensitive adhesive include those similar to the adhesive or pressure-sensitive adhesive used for laminating the polarizing plate protective film and the polarizing plate.
本発明の反射防止機能付偏光板の層構成例を図2に示す。図2に示す反射防止機能付偏光板30は、本発明の偏光板保護フィルム20の低屈折率層14が設けられていない面側に、接着剤又は粘着剤層16を介して、偏光板18が積層され、さらに偏光板18の他の面側には、接着剤又は粘着剤層16を介して、保護フィルム10aが積層された構造を有している。
An example of the layer structure of the polarizing plate with antireflection function of the present invention is shown in FIG. The
本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の偏光板保護フィルムを用いているので、機械的強度に優れる偏光板となっている。 Since the polarizing plate with an antireflection function of the present invention uses the polarizing plate protective film of the present invention, the polarizing plate has excellent mechanical strength.
3)光学製品
本発明の光学製品は、本発明の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする。本発明の光学製品の好ましい具体例としては、液晶表示装置、タッチパネル、エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマパネル表示装置等が挙げられる。
3) Optical product The optical product of the present invention includes the polarizing plate with an antireflection function of the present invention. Preferable specific examples of the optical product of the present invention include a liquid crystal display device, a touch panel, an electroluminescence display device, a plasma panel display device and the like.
本発明の反射防止機能付偏光板を備える光学製品の一例として、本発明の反射防止機能付偏光板を備える液晶表示装置の層構成例を図3に示す。図3に示す液晶表示装置は、下から順に、偏光板40、位相差板50、液晶セル60、及び本発明の反射防止機能付偏光板30からなる。反射防止機能付偏光板30は、液晶セル60上に、図示を省略する接着剤又は粘着剤層を介して、偏光板面と貼り合わせて形成されている。液晶セル60は、例えば図4に示すように、透明電極70を備えた電極基板80の2枚をそれぞれ透明電極70が対向する状態で所定の間隔をあけて配置するとともに、その間隙に液晶90を封入することにより作製される。図4中、100はシールである。
As an example of an optical product including the polarizing plate with antireflection function of the present invention, FIG. 3 shows a layer configuration example of a liquid crystal display device including the polarizing plate with antireflection function of the present invention. The liquid crystal display device shown in FIG. 3 includes a polarizing plate 40, a
液晶90の液晶モードは特に限定されない。液晶モードとしては、TN(Twisted Nematic)型、STN(Super Twisted Nematic)型、HAN(Hybrid Alignment Nematic)型、VA(Vertical Alignment)型、MVA(Multiple Vertical Alignment)型、IPS(In Plane Switching)型、OCB(Optical Compensated Bend)型等が挙げられる。
The liquid crystal mode of the
また、図4に示す液晶表示装置は、印加電圧が低い時に明表示、高い時に暗表示であるノーマリーホワイトモードでも、印加電圧が低い時に暗表示、高い時に明表示であるノーマリーブラックモードでも用いることができる。 In addition, the liquid crystal display device shown in FIG. 4 has a normally white mode that is bright when the applied voltage is low, a dark display when the applied voltage is high, a dark display when the applied voltage is low, and a normally black mode that is bright when the applied voltage is high. Can be used.
本発明の光学製品は、視認性に優れるものである。すなわち、表示パネルを暗表示にして、前正面より目視で観察した際、過度に輝度が高い点や面が現われて見難かったり、不快感を抱いたり(グレア)、映りこみが見られることがない。この優れた視認性は、前記スチールウール試験を行った後においても変わらない。 The optical product of the present invention is excellent in visibility. In other words, when the display panel is darkly displayed and visually observed from the front, a point or surface with excessively high brightness may appear and it may be difficult to see, have discomfort (glare), or may be reflected. Absent. This excellent visibility does not change even after the steel wool test.
次に、実施例により本発明を更に詳細に説明する。本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
実施例及び比較例中の試験及び評価は以下の方法で行った。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The present invention is not limited to the following examples.
The test and evaluation in an Example and a comparative example were performed with the following method.
屈折率
高速分光エリプソメトリ(型番号:M−2000U、J.A.Woollam社製)を用い、測定波長400−1000nm、入射角度をそれぞれ55、60、65度で測定し、これらの測定値から算出した。
Using a refractive index high-speed spectroscopic ellipsometry (model number: M-2000U, manufactured by JA Woollam), a measurement wavelength of 400-1000 nm and an incident angle of 55, 60, and 65 degrees were measured, respectively. Calculated.
耐擦傷性
スチールウール#0000に荷重0.05MPaをかけた状態で表面を10往復させ、試験後の表面状態を目視で観測した。
○:傷が認められない。
△:わずかに傷が見られる。
×:傷が認められる。
The surface was reciprocated 10 times in a state where a load of 0.05 MPa was applied to the scratch-resistant steel wool # 0000, and the surface state after the test was visually observed.
○: Scratches are not recognized.
Δ: Slight scratches are observed.
X: Scratches are observed.
反射率と反射率変動
分光光度計(紫外可視近赤外分光光度計V−570、日本分光社製)を用い、入射角5度にて反射スペクトルを測定し、波長550nmにおける反射率を求めた。
反射率変動は下記式で求めた。Rbはスチールウール試験前の反射率、Raは試験後の反射率を表す。
Reflectance and reflectance fluctuation spectrophotometer (UV-visible near-infrared spectrophotometer V-570, manufactured by JASCO Corporation) was used to measure the reflection spectrum at an incident angle of 5 degrees, and the reflectance at a wavelength of 550 nm was determined. .
The reflectance fluctuation was obtained by the following formula. R b represents the reflectance before the steel wool test, and R a represents the reflectance after the test.
視認性
液晶表示素子を暗表示にして前正面より基材を目視で観察し、以下の三段階で評価した。グレアとは視野内で過度に輝度が高い点や面が見えることによっておきる不快感や見にくさのことをいう。
○:グレアや映りこみが見られない。
△:グレアや映りこみがすこし見られる。
×:グレアや映りこみが見られる。
The visibility liquid crystal display element was darkly displayed and the substrate was visually observed from the front side, and evaluated in the following three stages. Glare refers to discomfort and difficulty in seeing when a point or surface with excessively high brightness is visible in the field of view.
○: No glare or reflection is seen.
Δ: Some glare and reflection are seen.
X: Glare and reflection are seen.
(製造例1)基材フィルムの作製
ノルボルネン系重合体(商品名:ZEONOR 1420R、日本ゼオン社製、ガラス転移温度:Tg136℃、飽和吸水率:0.01重量%未満)のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて110℃で4時間乾燥した。そしてこのペレットを、リーフディスク形状のポリマーフィルター(ろ過精度30μm)を設置したダイリップの先端部にクロムめっきを施した平均表面高さRa=0.05μmのリップ幅650mmのコートハンガータイプのTダイを有する短軸押出機を用いて、260℃で溶融押出しして600mm幅の長尺基材フィルム1Aを得た。得られた長尺基材フィルムの揮発成分の含有量は0.01重量%以下、飽和吸水量は0.01重量%以下であった。また、この基材フィルムの膜厚は40μmであった。
(Production Example 1) Production of base film Pellets of norbornene-based polymer (trade name: ZEONOR 1420R, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., glass transition temperature: Tg 136 ° C., saturated water absorption: less than 0.01% by weight), air It dried for 4 hours at 110 degreeC using the distribute | circulated hot air dryer. The pellets were then coated with a coat hanger type T die with a lip width of 650 mm with an average surface height Ra = 0.05 μm and a chrome plated tip of the die lip on which a leaf disk-shaped polymer filter (
(製造例2)ハードコート剤の調製
6官能ウレタンアクリレートオリゴマー(商品名:NK オリゴ U−6HA、新中村化学社製)30部、ブチルアクリレート40部、イソボロニルメタクリレート(商品名:NK エステル 1B、新中村化学社製)30部、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン10部をホモジナイザーで混合して紫外線硬化性樹脂組成物からなるハードコート剤を調製した。
(Production Example 2) Preparation of hard coat agent Hexafunctional urethane acrylate oligomer (trade name: NK Oligo U-6HA, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 30 parts, butyl acrylate 40 parts, isobornyl methacrylate (trade name: NK Ester 1B (Manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 30 parts and 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-
(製造例3)プライマー溶液の調製
無水マレイン酸変性スチレン・ブタジェン・スチレンブロック共重合体の水素添加物(商品名:タフテックM1913、旭化成社製、メルトインデックス値は200℃、5kg荷重で1.0g/10分、スチレンブロック含量30重量%、水素添加率80%以上、無水マレイン酸付加量2%)2部を、キシレン8部とメチルイソブチルケトン40部の混合溶媒に溶解し、孔径1μmのポリテトラフルオロエチレン製のフィルターを濾過して、完全な溶液のみをプライマー溶液として調製した。
(Production Example 3) Preparation of primer solution Hydrogenated maleic anhydride-modified styrene / butadiene / styrene block copolymer (trade name: Tuftec M1913, manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., melt index value: 200 g, 1.0 g at 5 kg load) / 10 minutes,
(製造例4)低屈折率層形成用塗布液の調製
テトラメトキシシランのオリゴマー(商品名:メチルシリケート51、コルコート社製)と、メタノール、水、0.01Nの塩酸水溶液を質量比21:36:2:2で混合し、これを25℃の高温槽中で2時間撹拌して、重量平均分子量を850に調製し、シリコーンレジンを得た。
次に中空シリカ微粒子として中空シリカイソプロパノール分散ゾル(触媒化成工業社製、固形分20重量%、平均一次粒子径約35nm、外殻厚み約8nm)を前記シリコーンレジンに加え、中空シリカ微粒子/シリコーンレジン(縮合化合物換算)が固形分基準で重量比が8:2となるように配合し、その後、全固形分が1%になるようにメタノールで希釈し、低屈折率層形成用塗布液Aを調製した。
(Production Example 4) Preparation of coating solution for forming low refractive index layer Tetramethoxysilane oligomer (trade name: methyl silicate 51, manufactured by Colcoat Co., Ltd.), methanol, water, and 0.01N hydrochloric acid aqueous solution were used in a mass ratio of 21:36. : 2: 2 and the mixture was stirred for 2 hours in a high-temperature bath at 25 ° C. to adjust the weight average molecular weight to 850 to obtain a silicone resin.
Next, a hollow silica isopropanol dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.,
(製造例5)シリコンアルコキシド溶液Aの調製
テトラメトキシシランのオリゴマー(商品名:メチルシリケート51、コルコート社製)と、メタノールを質量比で47:71で混合してA液を調製した。また、水、アンモニア水(28重量%)、メタノールを重量比で60:1.2:97.2で混合してB液を調製した。そしてA液とB液を16:17の比で混合してシリコンアルコキシド溶液Aを調製した。
Production Example 5 Preparation of Silicon Alkoxide Solution A Solution A was prepared by mixing tetramethoxysilane oligomer (trade name: methyl silicate 51, manufactured by Colcoat Co.) with methanol at a mass ratio of 47:71. In addition, liquid B was prepared by mixing water, aqueous ammonia (28 wt%), and methanol in a weight ratio of 60: 1.2: 97.2. And A liquid and B liquid were mixed by ratio of 16:17, and the silicon alkoxide solution A was prepared.
(製造例6)シリコンアルコキシド溶液Bの調製
製造例5においてテトラメトキシシランのオリゴマーと、メタノールを質量比で47:78となるように配合した以外は、製造例4と同様にしてシリコンアルコキシドB液を調製した。
(Production Example 6) Preparation of silicon alkoxide solution B Silicon alkoxide solution B was prepared in the same manner as in Production Example 4 except that tetramethoxysilane oligomer and methanol were blended in a mass ratio of 47:78 in Production Example 5. Was prepared.
実施例1
製造例1で得られた基材フィルムの両面に、高周波発信機(コロナジェネレータHV05−2、Tamtec社製)を用いて、出力電圧100%、出力250Wで、直径1.2mmのワイヤー電極で、電極長240mm、ワーク電極間1.5mmの条件で3秒間コロナ放電処理を行い、表面張力が0.072N/mになるように表面改質して表面改質済み基材フィルムを得た。
製造例3で得られたプライマー溶液を、表面改質済み基材フィルムの片面に、乾燥後のプライマー層の膜厚が0.5μmになるように、ダイコーターを用いて塗布し、80℃の乾燥炉の中で5分間乾燥させて、プライマー層を有する基材フィルムを得た。
プライマー層を有する基材フィルムのプライマー層を有する方の面に、製造例2で得たハードコート剤を硬化後のハードコート層の膜厚が5μmになるように、ダイコーターを用いて連続的に塗布した。次いで80℃で5分間乾燥させた後、紫外線照射(積算光量300mJ/cm2)を行い、ハードコート剤を硬化させ、ハードコート層積層フィルムを得、ロール状に巻き取った。このハードコート層の厚さは5μmであった。
Example 1
Using a high frequency transmitter (corona generator HV05-2, manufactured by Tamtec) on both sides of the base film obtained in Production Example 1, with a wire electrode having a diameter of 1.2 mm at an output voltage of 100%, an output of 250 W, A corona discharge treatment was performed for 3 seconds under the conditions of an electrode length of 240 mm and a work electrode distance of 1.5 mm, and surface modification was performed so that the surface tension was 0.072 N / m, thereby obtaining a surface-modified base film.
The primer solution obtained in Production Example 3 was applied to one side of the surface-modified base film using a die coater so that the thickness of the primer layer after drying was 0.5 μm, It was dried in a drying furnace for 5 minutes to obtain a base film having a primer layer.
Continuously using a die coater so that the film thickness of the hard coat layer after curing the hard coat agent obtained in Production Example 2 is 5 μm on the side of the base film having the primer layer having the primer layer. It was applied to. Subsequently, after drying at 80 degreeC for 5 minute (s), ultraviolet irradiation (integrated light quantity 300mJ / cm < 2 >) was performed, the hard-coat agent was hardened, the hard-coat layer laminated | multilayer film was obtained, and it wound up in roll shape. The thickness of this hard coat layer was 5 μm.
製造例4で得られた低屈折率層形成用塗布液Aを1時間放置した後に、ハードコート層積層フィルムの上にワイヤーバーコーターによって塗布して厚さ約100nmの塗膜を形成し、さらに1時間放置して乾燥した後に、被膜を120℃で10分間酸素雰囲気下で熱処理し、低屈折率層が形成された積層フィルム2Aを得た。 After leaving the coating liquid A for forming a low refractive index layer obtained in Production Example 4 for 1 hour, it is coated on the hard coat layer laminated film with a wire bar coater to form a coating film having a thickness of about 100 nm. After being left to dry for 1 hour, the film was heat-treated at 120 ° C. for 10 minutes in an oxygen atmosphere to obtain a laminated film 2A on which a low refractive index layer was formed.
実施例2
基材フィルムとして厚さ40μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(商品名:KC4UX2M、コニカミノルタ社製)を用いた他は実施例1と同様にして反射防止層が形成された積層フィルム2Bを得た。
Example 2
A laminated film 2B having an antireflection layer formed in the same manner as in Example 1 except that a 40 μm thick triacetylcellulose (TAC) film (trade name: KC4UX2M, manufactured by Konica Minolta) was used as the base film. It was.
実施例3
基材フィルムとして厚さ38μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(商品名:ルミラーT60#38、東レ社製)を用いた他は実施例1と同様にして反射防止層が形成された積層フィルム2Cを得た。
Example 3
A laminated film 2C having an antireflection layer formed in the same manner as in Example 1 except that a polyethylene terephthalate (PET) film (trade name: Lumirror T60 # 38, manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 38 μm was used as the base film. Obtained.
比較例1
製造例5で得られたシリコンアルコキシド溶液を、混合開始後1分経過した後で、スピンコーターによりハードコート積層フィルム1D上に滴下し、低屈折率層を形成した。スピンコーターの回転室はメタノール雰囲気になるようにしてあり、回転数は700rpmで10秒行った。低屈折率層形成の後、1分15秒放置してシリコンアルコキシドがゲル化した薄膜を得た。
このゲル状薄膜を5分間、水と28%アンモニア水とメタノールを質量比で162:4:640で混合した組成の養生溶液中に浸漬し、室温で一昼夜養生した。さらにこの薄膜をヘキサメチルジシラザンの10%イソプロパノール溶液中に浸漬し、疎水化処理を行った。
次に、この疎水化処理したゲル状化合物をイソプロパノール中へ浸漬することにより洗浄し、高圧容器に入れ、液化炭酸ガスで満たし、80℃、16MPa、2時間の条件で超臨界乾燥することによって、表面に膜厚100nmのシリカエアロゲル薄膜が形成された積層フィルム2Dを得た。
Comparative Example 1
The silicon alkoxide solution obtained in Production Example 5 was dropped on the hard coat laminated film 1D with a spin coater after 1 minute from the start of mixing to form a low refractive index layer. The rotation chamber of the spin coater was in a methanol atmosphere, and the rotation speed was 700 rpm for 10 seconds. After forming the low refractive index layer, it was left for 1 minute and 15 seconds to obtain a thin film in which silicon alkoxide was gelled.
This gel-like thin film was immersed in a curing solution having a composition in which water, 28% aqueous ammonia, and methanol were mixed at a mass ratio of 162: 4: 640 for 5 minutes, and then cured at room temperature all day and night. Furthermore, this thin film was immersed in a 10% isopropanol solution of hexamethyldisilazane to perform a hydrophobic treatment.
Next, this hydrophobized gel compound is washed by immersing it in isopropanol, placed in a high-pressure vessel, filled with liquefied carbon dioxide gas, and supercritically dried at 80 ° C., 16 MPa for 2 hours, A laminated film 2D having a silica airgel thin film with a thickness of 100 nm formed on the surface was obtained.
比較例2
低屈折率層を形成する際に製造例6で得られたシリコンアルコキシド溶液Bを用いる他は比較例1と同様にして積層フィルム2Eを得た。
Comparative Example 2
A laminated film 2E was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the silicon alkoxide solution B obtained in Production Example 6 was used when forming the low refractive index layer.
上記で得た実施例1〜3、及び比較例1,2の積層フィルム2A〜2Eを使用して、低屈折率層の屈折率、反射率、反射率変動、耐擦傷性を測定又は評価した。結果を第1表にまとめた。 Using the laminated films 2A to 2E of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 obtained above, the refractive index, reflectance, reflectance fluctuation, and scratch resistance of the low refractive index layer were measured or evaluated. . The results are summarized in Table 1.
第1表より、実施例1〜3の積層フィルム2A〜2Cは、低屈折率層の屈折率が1.25〜1.36の範囲にあり、かつ反射率変動が50%以内である。
実施例1〜3の積層フィルム2A〜2Cは、反射率が小さく、反射防止機能を有する光学フィルムとして有用であり、スチールウール試験後の目視観察において表面に傷が全く認められず、機械的強度に優れている。
From Table 1, as for laminated film 2A-2C of Examples 1-3, the refractive index of a low refractive index layer exists in the range of 1.25-1.36, and a reflectance fluctuation | variation is less than 50%.
The laminated films 2A to 2C of Examples 1 to 3 have a low reflectance and are useful as an optical film having an antireflection function. No scratches are observed on the surface in visual observation after the steel wool test, and the mechanical strength is not observed. Is excellent.
実施例4〜6、比較例3,4
(1)反射防止機能付偏光板の製造
重合度2400、厚さ75μmのポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素とヨウ化カリウム配合の40℃の染色浴に浸漬して染色処理を行った後、ホウ酸とヨウ化カリウムを添加した60℃の酸性浴中で総延伸倍率が5.3倍となるように延伸処理と架橋処理を行った。水洗処理した後、40℃で乾燥して、厚さ28μmの偏光板を得た。
Examples 4 to 6, Comparative Examples 3 and 4
(1) Production of polarizing plate with antireflection function A polyvinyl alcohol film having a degree of polymerization of 2400 and a thickness of 75 μm is immersed in a 40 ° C. dyeing bath containing iodine and potassium iodide, followed by dyeing treatment, Stretching and crosslinking were performed in an acidic bath at 60 ° C. to which potassium iodide was added so that the total stretch ratio was 5.3 times. After washing with water, it was dried at 40 ° C. to obtain a polarizing plate having a thickness of 28 μm.
実施例1〜3及び比較例1,2で得た積層フィルム2A〜2Eの基材フィルム面側に、アクリル系接着剤(商品名:DP−8005クリア、住友スリーエム社製)を介して、上記偏光板を貼り合わせ、さらに偏光板に、アクリル系接着剤を介して、表面改質した基材フィルムを貼り合わせて、図2に示すものと同様の層構成を有する反射防止機能付偏光板3A〜3Eを作製した。 On the base film surface side of the laminated films 2A to 2E obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2, via the acrylic adhesive (trade name: DP-8005 clear, manufactured by Sumitomo 3M), the above A polarizing plate is attached, and further, a surface-modified substrate film is attached to the polarizing plate via an acrylic adhesive, and the polarizing plate 3A with an antireflection function has the same layer configuration as that shown in FIG. ˜3E was made.
(2)液晶表示素子の作製
プラスチックセル基板を使用した液晶表示セル(3インチ、プラスチック基板の厚さ400μm)を準備し、これのフロント側と、上記で得た反射防止機能付偏光板3A〜3Eの偏光板側とをそれぞれ貼り合わせた。また、もう1枚の偏光板を用意し、これをリア用として、液晶表示セルの反対面に貼り合わせて、液晶表示素子4A〜4Eをそれぞれ作製した。
得られた液晶表示素子4A〜4Eについて、スチールウール試験前後の視認性を評価した。評価結果を第2表に示す。
(2) Production of liquid crystal display element A liquid crystal display cell (3 inches, thickness of the plastic substrate 400 μm) using a plastic cell substrate is prepared, and the front side of the liquid crystal display cell and the polarizing plate 3A with antireflection function obtained above. The 3E polarizing plate side was bonded to each other. Further, another polarizing plate was prepared, and this was used for the rear, and was bonded to the opposite surface of the liquid crystal display cell, thereby producing liquid crystal display elements 4A to 4E.
About the obtained liquid crystal display elements 4A to 4E, the visibility before and after the steel wool test was evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.
実施例4〜6で得られた液晶表示素子4A〜4Cは、比較例7,8で得られた液晶表示素子4D,4Eと異なり、スチールウール試験後であっても、グレアや映りこみが全く見られなかった。 Unlike the liquid crystal display elements 4D and 4E obtained in Comparative Examples 7 and 8, the liquid crystal display elements 4A to 4C obtained in Examples 4 to 6 have no glare or reflection even after the steel wool test. I couldn't see it.
10…基材フィルム、10a…保護フィルム、12…ハードコート層、14…低屈折率層、14a…無機中空微粒子、16…接着剤層、18…偏光膜、20…偏光板保護フィルム、30…反射防止機能付偏光板、40…偏光板、50…位相差板、60…液晶セル、70…透明電極、80…電極基板、90…液晶、100…シール
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