JPWO2005064367A1 - Polarizing plate protective film, polarizing plate with antireflection function and optical product - Google Patents

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Abstract

本発明は、基材フィルムと、該基材フィルム上に、式(1):MXn(Mは金属原子又は半金属原子を表し、Xはアルコキシル基等を表し、nはMの原子価を表す。)で表される化合物、又は前記式(1)で表される化合物の部分若しくは完全加水分解生成物から形成された、分子中に、−(O−M)m−O−(式中、Mは前記と同じ意味を表し、mは自然数を表す。)結合を有する金属酸化物複合体と無機微粒子とを含有し、屈折率が1.25〜1.37の層である、低屈折率層とを有する偏光板保護フィルム、この偏光板保護フィルムを用いる反射防止機能付偏光板、並びにこの反射防止機能付偏光板を備える光学製品である。本発明によれば、反射防止効果を有する低屈折率層を有し、偏光板の保護フィルムとして十分な耐擦傷性を有し、かつ、偏光板との貼り合わせの際におけるフィルムの反りが少ない偏光板保護フィルム、反射防止機能付偏光板及び光学製品が提供される。In the present invention, a base film and a formula (1): MXn (M represents a metal atom or a semimetal atom, X represents an alkoxyl group, etc., and n represents a valence of M on the base film. ), Or a part of the compound represented by the formula (1) or a completely hydrolyzed product, in the molecule,-(OM) m-O- (wherein M represents the same meaning as described above, and m represents a natural number.) A low refractive index containing a metal oxide composite having a bond and inorganic fine particles and having a refractive index of 1.25 to 1.37. A polarizing plate protective film having a layer, a polarizing plate with an antireflection function using the polarizing plate protective film, and an optical product including the polarizing plate with an antireflection function. According to the present invention, it has a low refractive index layer having an antireflection effect, has sufficient scratch resistance as a protective film for a polarizing plate, and has little warping of the film when bonded to the polarizing plate. A polarizing plate protective film, a polarizing plate with an antireflection function, and an optical product are provided.

Description

本発明は、偏光板保護フィルム、反射防止機能付偏光板、およびこの反射防止機能付偏光板を備える光学製品に関する。   The present invention relates to a polarizing plate protective film, a polarizing plate with an antireflection function, and an optical product including the polarizing plate with an antireflection function.

近年、液晶ディスプレイ等のディスプレイにおいては、表面反射による視認性の低下を防ぐために、透明基板(基材フィルム)上に低屈折率材料を用いて低屈折率層を形成する方法が知られている。   In recent years, in a display such as a liquid crystal display, a method of forming a low refractive index layer using a low refractive index material on a transparent substrate (base film) is known in order to prevent a decrease in visibility due to surface reflection. .

従来の低屈折率材料としては、MgF、SiO等の無機材料;パーフルオロ樹脂等の有機材料;等が知られている。高い反射防止性能を得るためには、高屈折率を有する層(高屈折率層)と低屈折率層との屈折率の差が大きいほど反射率の極小値が小さくなるため好ましいとされている。しかしながら、基材フィルムと低屈折率材料との屈折率の差が小さいため、基材フィルム表面に、より高い屈折率材料からなる層と低屈折率層とを積層させた多層膜を形成する必要があった。As conventional low refractive index materials, inorganic materials such as MgF 2 and SiO 2 ; organic materials such as perfluororesin; and the like are known. In order to obtain high antireflection performance, it is preferable that the difference between the refractive index of the layer having a high refractive index (high refractive index layer) and the low refractive index layer is larger because the minimum value of the reflectance is smaller. . However, since the difference in refractive index between the base film and the low refractive index material is small, it is necessary to form a multilayer film in which a layer made of a higher refractive index material and a low refractive index layer are laminated on the base film surface. was there.

ところで、近年、低い屈折率を有する中空シリカ系微粒子を用いて低屈折率層を形成する方法がいくつか提案されている。例えば、特開2001−233611号公報には、中空シリカ系微粒子をマトリクス形成材料中に分散させて得られるコーティング材組成物を塗布して乾燥することによって低屈折率の透明被膜を形成する方法が開示されている。また、特開2003−201443号公報には、中空シリカ系微粒子をマトリクス形成材料中に分散させて得られるコーティング材組成物を塗布して乾燥することによって、低屈折率で、多孔質のマトリクスが形成された透明被膜を形成する方法が開示されている。これらの方法によれば、高屈折率層と低屈折率層を積層しなくとも、高い反射防止性能を得ることができる。   In recent years, several methods for forming a low refractive index layer using hollow silica-based fine particles having a low refractive index have been proposed. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-233611 discloses a method of forming a transparent film having a low refractive index by applying and drying a coating material composition obtained by dispersing hollow silica-based fine particles in a matrix-forming material. It is disclosed. JP-A-2003-201443 discloses a porous matrix having a low refractive index by applying and drying a coating material composition obtained by dispersing hollow silica-based fine particles in a matrix-forming material. A method for forming the formed transparent coating is disclosed. According to these methods, high antireflection performance can be obtained without laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer.

しかしながら、上記文献に記載された方法は、中空シリカ系微粒子を含有するマトリクスを形成するものであるが、得られるマトリクスの強度が弱く、凝集力に乏しいといった理由から、液晶表示装置等の偏光板保護フィルムとして求められる耐擦傷性が不十分な場合があり、問題となっていた。また、偏光板と貼り合わせて液晶表示装置に組み込む場合には高い寸法安定性が要求されるが、反り(変形)を生じる場合があった。   However, although the method described in the above document forms a matrix containing hollow silica-based fine particles, the polarizing plate of a liquid crystal display device or the like is used because the strength of the obtained matrix is weak and the cohesive force is poor. In some cases, the scratch resistance required as a protective film is insufficient, which is a problem. Moreover, when it is bonded to a polarizing plate and incorporated in a liquid crystal display device, high dimensional stability is required, but warpage (deformation) may occur.

本発明は上記した従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、反射防止層として有効な低屈折率層を有し、かつ、偏光板の保護フィルムとして十分な耐擦傷性を有し、かつ、偏光板との貼り合わせの際に問題となるフィルムの反り(変形)が少ない偏光板保護フィルム、および反射防止機能付偏光板を提供することを課題とする。また本発明は、本発明の反射防止機能付偏光板を用いる光学製品を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above-described prior art, has a low refractive index layer effective as an antireflection layer, has sufficient scratch resistance as a protective film for a polarizing plate, and It is an object of the present invention to provide a polarizing plate protective film with less warping (deformation) of a film that causes a problem when bonded to a polarizing plate, and a polarizing plate with an antireflection function. Moreover, this invention makes it a subject to provide the optical product using the polarizing plate with an antireflection function of this invention.

本発明者らは、上記課題の解決を図るべく鋭意研究した結果、透明な基材フィルム上に、特定の金属化合物または該金属化合物の全部若しくは部分加水分解生成物から形成された金属酸化物複合体と無機微粒子とを有し、屈折率を一定範囲に調整した低屈折率層を有する偏光板保護フィルムは、優れた反射防止機能と耐擦傷性とを有することを見出した。また、基材フィルムとして、脂環式構造含有重合体樹脂からなるものを使用する場合には、偏光板との貼り合わせの際に問題となるフィルムの反り(変形)が少ない偏光板保護フィルムが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive research aimed at solving the above-mentioned problems, the present inventors have found that a specific metal compound or a metal oxide composite formed from all or a partial hydrolysis product of the metal compound on a transparent substrate film It has been found that a polarizing plate protective film having a body and inorganic fine particles and having a low refractive index layer in which the refractive index is adjusted within a certain range has an excellent antireflection function and scratch resistance. Moreover, when using what consists of alicyclic structure containing polymer resin as a base film, the polarizing plate protective film with few curvature (deformation) of the film which becomes a problem at the time of bonding with a polarizing plate. As a result, the present invention was completed.

かくして本発明の第1によれば、下記(1)〜(8)の偏光板保護フィルムが提供される。
(1)基材フィルムと、該基材フィルム上に形成された低屈折率層とを有する偏光板保護フィルムであって、
前記低屈折率層が、式(1):MX(式中、Mは金属原子又は半金属原子を表し、Xはハロゲン原子、置換基を有していてもよい一価の炭化水素基、酸素原子、有機酸根、β−ジケトナート基、無機酸根、アルコキシル基または水酸基を表し、nはMの原子価を表す。nが2以上のとき、Xは同一でも相異なっていてもよい。)で表される化合物、前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の部分加水分解生成物、および前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の完全加水分解生成物からなる群から選ばれる1種以上から形成された、分子中に、−(O−M)−O−(式中、Mは前記と同じ意味を表し、mは自然数を表す。)結合を有する金属酸化物複合体と、無機微粒子とを含有し、屈折率が1.25〜1.37の層であることを特徴とする偏光板保護フィルム。
(2)前記無機微粒子が、無機化合物の中空微粒子であることを特徴とする(1)の偏光板保護フィルム。
Thus, according to the first aspect of the present invention, the following polarizing plate protective films (1) to (8) are provided.
(1) A polarizing plate protective film having a base film and a low refractive index layer formed on the base film,
The low refractive index layer has the formula (1): MX n (wherein M represents a metal atom or a metalloid atom, X represents a halogen atom, a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent, An oxygen atom, an organic acid group, a β-diketonate group, an inorganic acid group, an alkoxyl group or a hydroxyl group, and n represents a valence of M. When n is 2 or more, X may be the same or different. A group consisting of at least one partial hydrolysis product of the compound represented by the formula (1) and at least one complete hydrolysis product of the compound represented by the formula (1) A metal oxide having a bond of-(OM) m -O- (wherein M represents the same meaning as described above and m represents a natural number) formed in one or more types selected from Containing a composite material and inorganic fine particles and having a refractive index of 1.25 to 1.37 Polarizing plate protective film characterized in that there.
(2) The polarizing plate protective film according to (1), wherein the inorganic fine particles are hollow fine particles of an inorganic compound.

(3)前記MがSiであることを特徴とする(1)または(2)の偏光板保護フィルム。
(4)前記基材フィルムと低屈折率層との間に、ハードコート層が介在していることを特徴とする(1)〜(3)いずれかの偏光板保護フィルム。
(3) The polarizing plate protective film according to (1) or (2), wherein M is Si.
(4) The polarizing plate protective film according to any one of (1) to (3), wherein a hard coat layer is interposed between the base film and the low refractive index layer.

(5)前記ハードコート層が、活性エネルギー線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂を含有するものであることを特徴とする(4)の偏光板保護フィルム。
(6)前記ハードコート層の屈折率が、1.53以上であることを特徴とする(4)の偏光板保護フィルム。
(7)前記ハードコート層が、さらに導電性微粒子を含有するものである(4)の偏光板保護フィルム。
(8)前記基材フィルムが、脂環式構造含有重合体樹脂からなるものであることを特徴とする(1)〜(7)いずれかの偏光板保護フィルム。
(5) The polarizing plate protective film according to (4), wherein the hard coat layer contains an active energy ray-curable resin or a thermosetting resin.
(6) The polarizing plate protective film according to (4), wherein the refractive index of the hard coat layer is 1.53 or more.
(7) The polarizing plate protective film according to (4), wherein the hard coat layer further contains conductive fine particles.
(8) The polarizing plate protective film according to any one of (1) to (7), wherein the base film is made of an alicyclic structure-containing polymer resin.

本発明の第2によれば、下記(9)の反射防止機能付偏光板が提供される。
(9)本発明の偏光板保護フィルムを偏光板の保護フィルムの内、視認側に用いたことを特徴とする反射防止機能付偏光板。
本発明の第3によれば、下記(10)の光学製品が提供される。
(10)本発明の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする光学製品。
According to the second aspect of the present invention, there is provided the following polarizing plate with antireflection function (9).
(9) A polarizing plate with an antireflection function, wherein the polarizing plate protective film of the present invention is used on the viewing side of the protective film of the polarizing plate.
According to the third aspect of the present invention, the following optical product (10) is provided.
(10) An optical product comprising the polarizing plate with an antireflection function of the present invention.

基材フィルムを構成する合成樹脂の反り率を測定する方法を示す図である。It is a figure which shows the method of measuring the curvature rate of the synthetic resin which comprises a base film. 本発明の偏光板保護フィルムの層構成断面図である。It is layer structure sectional drawing of the polarizing plate protective film of this invention. 本発明の反射防止機能付偏光板の層構成断面図である。It is layer structure sectional drawing of the polarizing plate with an antireflection function of this invention. 本発明の反射防止機能付偏光板を液晶表示セルに貼り合せた層構成断面図である。It is layer structure sectional drawing which bonded the polarizing plate with an antireflection function of this invention to the liquid crystal display cell. 図4に示す液晶表示セルの層構成断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of the layer structure of the liquid crystal display cell shown in FIG. 4.

以下、本発明を、1)偏光板保護フィルム、2)反射防止機能付偏光板、及び3)光学製品に項分けして詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail by dividing it into 1) a polarizing plate protective film, 2) a polarizing plate with an antireflection function, and 3) an optical product.

1)偏光板保護フィルム
本発明の偏光板保護フィルムは、基材フィルムと、該基材フィルム上に形成された低屈折率層とを有する。
1) Polarizing plate protective film The polarizing plate protective film of the present invention has a base film and a low refractive index layer formed on the base film.

(基材フィルム)
本発明に用いる基材フィルムは、透明性に優れる合成樹脂からなるものであれば特に制限されないが、1mm厚で全光線透過率が80%以上の合成樹脂からなるものが好ましい。基材フィルムを構成する合成樹脂としては、例えば、脂環式構造含有重合体樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスチレン樹脂、鎖状ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸セルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリメタクリレート樹脂等が挙げられる。
(Base film)
Although the base film used for this invention will not be restrict | limited especially if it consists of a synthetic resin excellent in transparency, what consists of a synthetic resin whose thickness of 1 mm and a total light transmittance is 80% or more is preferable. Examples of the synthetic resin constituting the base film include an alicyclic structure-containing polymer resin, polycarbonate resin, polyester resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polystyrene resin, chain polyolefin resin, polyvinyl alcohol resin, and cellulose acetate. Resins, polyvinyl chloride resins, polymethacrylate resins and the like can be mentioned.

これらの中でも、複屈折が小さい点から、脂環式構造含有重合体樹脂、またはトリアセチルセルロース等の酢酸セルロース樹脂が好ましく、透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性等の観点から、脂環式構造含有重合体樹脂の1種又は2種以上の使用が特に好ましい。   Among these, from the viewpoint of low birefringence, an alicyclic structure-containing polymer resin or a cellulose acetate resin such as triacetyl cellulose is preferable, from the viewpoint of transparency, low hygroscopicity, dimensional stability, light weight, etc. The use of one or more of the alicyclic structure-containing polymer resins is particularly preferred.

脂環式構造含有重合体樹脂は、重合体樹脂の繰り返し単位中に脂環式構造を有するものであり、主鎖中に脂環式構造を有する重合体樹脂及び側鎖に脂環式構造を有する重合体樹脂のいずれも用いることができる。   The alicyclic structure-containing polymer resin has an alicyclic structure in the repeating unit of the polymer resin, and the polymer resin having an alicyclic structure in the main chain and an alicyclic structure in the side chain. Any polymer resin can be used.

脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造等が挙げられるが、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。脂環式構造を構成する炭素数に特に制限はないが、通常4〜30個、好ましくは5〜20個、より好ましくは5〜15個である。脂環式構造を構成する炭素原子数がこの範囲にあると、耐熱性及び柔軟性に優れた基材フィルムを得ることができる。   Examples of the alicyclic structure include a cycloalkane structure and a cycloalkene structure, and a cycloalkane structure is preferable from the viewpoint of thermal stability. Although there is no restriction | limiting in particular in carbon number which comprises an alicyclic structure, Usually, 4-30 pieces, Preferably it is 5-20 pieces, More preferably, it is 5-15 pieces. When the number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is in this range, a base film excellent in heat resistance and flexibility can be obtained.

脂環式構造含有重合体樹脂中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択すればよいが、通常50重量%以上、好ましくは70重量%以上、より好ましくは90重量%以上である。脂環式構造を有する繰り返し単位が過度に少ないと耐熱性が低下し好ましくない。なお、脂環式構造含有重合体樹脂における脂環式構造を有する繰り返し単位以外の繰り返し単位は、使用目的に応じて適宜選択される。   The proportion of the repeating unit having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer resin may be appropriately selected according to the purpose of use, but is usually 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, more preferably 90% by weight or more. If the number of repeating units having an alicyclic structure is too small, the heat resistance is undesirably lowered. In addition, repeating units other than the repeating unit which has an alicyclic structure in an alicyclic structure containing polymer resin are suitably selected according to the intended purpose.

脂環式構造含有重合体樹脂の具体例としては、(i)ノルボルネン系重合体、(ii)単環の環状オレフィン系重合体、(iii)環状共役ジエン系重合体、(iv)ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物等が挙げられる。これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン系重合体が好ましい。   Specific examples of the alicyclic structure-containing polymer resin include (i) a norbornene polymer, (ii) a monocyclic olefin polymer, (iii) a cyclic conjugated diene polymer, and (iv) a vinyl alicyclic ring. Formula hydrocarbon polymers, hydrides thereof and the like. Among these, norbornene-based polymers are preferable from the viewpoints of transparency and moldability.

ノルボルネン系重合体としては、具体的には、ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体、及びそれらの水素化物、ノルボルネン系単量体の付加重合体、ノルボルネン系単量体と共重合可能なその他の単量体との付加共重合体等が挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネン系単量体の開環(共)重合体水素化物が特に好ましい。   Specific examples of the norbornene-based polymer include ring-opening polymers of norbornene-based monomers, ring-opening copolymers of norbornene-based monomers and other monomers capable of ring-opening copolymerization, and those Hydrides of the above, addition polymers of norbornene monomers, addition copolymers with other monomers copolymerizable with norbornene monomers, and the like. Among these, from the viewpoint of transparency, a ring-opening (co) polymer hydride of a norbornene monomer is particularly preferable.

ノルボルネン系単量体としては、例えば、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3,7−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、7,8−ベンゾトリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、及びこれらの化合物の誘導体(例えば、環に置換基を有するもの)等を挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基等を挙げることができる。また、これらの置換基は、同一又は相異なって複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン系単量体は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。Examples of the norbornene-based monomer include bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (common name: norbornene), tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] deca-3,7-diene. (Common name: dicyclopentadiene), 7,8-benzotricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene (common name: methanotetrahydrofluorene), tetracyclo [4.4.0. 1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene (common name: tetracyclododecene), derivatives of these compounds (for example, those having a substituent in the ring), and the like. Here, examples of the substituent include an alkyl group, an alkylene group, an alkoxycarbonyl group, and a carboxyl group. In addition, these substituents may be the same or different and a plurality may be bonded to the ring. Norbornene monomers can be used alone or in combination of two or more.

ノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等のモノ環状オレフィン類及びその誘導体;シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン等の環状共役ジエン及びその誘導体;等が挙げられる。   Other monomers capable of ring-opening copolymerization with norbornene monomers include, for example, monocyclic olefins such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene and derivatives thereof; cyclic conjugated dienes such as cyclohexadiene and cycloheptadiene; Derivatives thereof; and the like.

ノルボルネン系単量体の開環重合体及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との開環共重合体は、単量体を開環重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。
開環重合触媒としては、通常使用される公知のものを使用できる。
Ring-opening polymers of norbornene monomers and ring-opening copolymers of norbornene monomers and other monomers copolymerizable therewith are polymerized in the presence of a ring-opening polymerization catalyst. Can be obtained.
As the ring-opening polymerization catalyst, a commonly used known catalyst can be used.

ノルボルネン系単量体と付加共重合可能なその他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン等の炭素数2〜20のα−オレフィン及びこれらの誘導体;シクロブテン、シクロペンテン等のシクロオレフィン及びこれらの誘導体;1,4−ヘキサジエン等の非共役ジエン等が挙げられる。これらの単量体は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中では、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。   Examples of other monomers that can be addition-copolymerized with norbornene-based monomers include, for example, α-olefins having 2 to 20 carbon atoms such as ethylene and propylene, and derivatives thereof; cycloolefins such as cyclobutene and cyclopentene, and these Derivatives; non-conjugated dienes such as 1,4-hexadiene and the like. These monomers can be used alone or in combination of two or more. In these, an alpha olefin is preferable and ethylene is more preferable.

ノルボルネン系単量体の付加重合体及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、単量体を付加重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。付加重合触媒としては、通常使用される公知のものを使用できる。   Norbornene monomer addition polymers and addition copolymers of norbornene monomers and other monomers copolymerizable therewith are obtained by polymerizing the monomers in the presence of an addition polymerization catalyst. Obtainable. As the addition polymerization catalyst, a commonly used known catalyst can be used.

ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体とこれと開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体、ノルボルネン系単量体の付加重合体、及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との付加重合体の水素化物は、公知の水素化触媒を添加し、炭素−炭素不飽和結合を好ましくは90%以上水素化することによって得ることができる。   Ring-opening polymer of norbornene monomer, ring-opening copolymer of norbornene monomer and other monomer capable of ring-opening copolymerization, addition polymer of norbornene monomer, and norbornene Addition of a known hydrogenation catalyst to the hydride of an addition polymer of a system monomer and another monomer copolymerizable therewith, preferably hydrogenates a carbon-carbon unsaturated bond by 90% or more. Can be obtained.

単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の付加重合体を挙げることができる。
また、環状共役ジエン系重合体としては、例えば、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系単量体を1,2−付加重合又は1,4−付加重合した重合体を挙げることができる。
Examples of the monocyclic olefin-based polymer include addition polymers such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene.
Examples of the cyclic conjugated diene polymer include polymers obtained by 1,2-addition polymerization or 1,4-addition polymerization of cyclic conjugated diene monomers such as cyclopentadiene and cyclohexadiene.

ビニル脂環式炭化水素重合体は、ビニルシクロアルカン又はビニルシクロアルケン由来の繰り返し単位を有する重合体である。ビニル脂環式炭化水素重合体としては、例えば、ビニルシクロヘキサン等のビニルシクロアルカン、ビニルシクロヘキセン等のビニルシクロアルケン等のビニル脂環式炭化水素化合物の重合体及びその水素化物;スチレン、α−メチルスチレン等のビニル芳香族炭化水素化合物の重合体の芳香環部分の水素化物等が挙げられる。   The vinyl alicyclic hydrocarbon polymer is a polymer having a repeating unit derived from vinylcycloalkane or vinylcycloalkene. Examples of the vinyl alicyclic hydrocarbon polymer include polymers of vinyl alicyclic hydrocarbon compounds such as vinyl cycloalkanes such as vinyl cyclohexane, vinyl cycloalkenes such as vinyl cyclohexene, and hydrides thereof; styrene, α-methyl Examples thereof include hydrides of aromatic ring portions of polymers of vinyl aromatic hydrocarbon compounds such as styrene.

また、ビニル脂環式炭化水素重合体は、ビニル脂環式炭化水素化合物やビニル芳香族炭化水素化合物と、これらの単量体と共重合可能な他の単量体とのランダム共重合体、ブロック共重合体等の共重合体の水素化物であってもよい。ブロック共重合としては、ジブロック、トリブロック、又はそれ以上のマルチブロックや傾斜ブロック共重合等が挙げられるが、特に制限はない。   The vinyl alicyclic hydrocarbon polymer is a random copolymer of a vinyl alicyclic hydrocarbon compound or a vinyl aromatic hydrocarbon compound and another monomer copolymerizable with these monomers, It may be a hydride of a copolymer such as a block copolymer. Examples of the block copolymerization include diblock, triblock, or more multiblock and gradient block copolymerization, but are not particularly limited.

合成樹脂の分子量は、溶媒としてシクロヘキサン(重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン)を用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量が、通常10,000〜300,000、好ましくは15,000〜250,000、より好ましくは20,000〜200,000の範囲であるときに、基材フィルムの機械的強度及び成形加工性とが高度にバランスされ好適である。   The molecular weight of the synthetic resin is usually from 10,000 to 300 in terms of weight average molecular weight in terms of polyisoprene or polystyrene measured by gel permeation chromatography using cyclohexane (toluene if the polymer resin does not dissolve) as a solvent. 5,000, preferably 15,000-250,000, more preferably 20,000-200,000, the mechanical strength and moldability of the base film are highly balanced and suitable. .

前記合成樹脂のガラス転移温度は、使用目的に応じて適宜選択すればよいが、好ましくは80℃以上、より好ましくは100〜250℃の範囲である。ガラス転移温度がこのような範囲にある合成樹脂からなる基材フィルムは、高温・高湿度下での使用における変形や応力が生じることがなく耐久性に優れる。   The glass transition temperature of the synthetic resin may be appropriately selected according to the purpose of use, but is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 to 250 ° C. A base film made of a synthetic resin having a glass transition temperature in such a range is excellent in durability without being deformed or stressed when used under high temperature and high humidity.

前記合成樹脂の分子量分布(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))は特に制限されないが、通常1〜10、好ましくは1〜6、より好ましくは1.1〜4の範囲である。このような範囲に分子量分布を調整することによって、基材フィルムの機械的強度と成形加工性が良好にバランスする。   The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the synthetic resin is not particularly limited, but is usually in the range of 1 to 10, preferably 1 to 6, and more preferably 1.1 to 4. . By adjusting the molecular weight distribution in such a range, the mechanical strength and molding processability of the base film are well balanced.

本発明に用いる基材フィルムは、上記合成樹脂を公知の成形方法によりフィルム状に成形することにより得ることができる。
合成樹脂をフィルム状に成形する方法としては、溶液キャスティング法又は、溶融押出成形法が挙げられる。なかでも、フィルム中の揮発性成分の含有量や厚みむらを少なくできる点から、溶融押出成形法が好ましい。さらに溶融押出成形法としては、Tダイ等のダイスを用いる方法やインフレーション法等が挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でTダイを用いる方法が好ましい。
The base film used in the present invention can be obtained by molding the above synthetic resin into a film by a known molding method.
Examples of the method for molding the synthetic resin into a film include a solution casting method and a melt extrusion molding method. Among these, the melt extrusion molding method is preferable because the content of volatile components in the film and the thickness unevenness can be reduced. Further, examples of the melt extrusion method include a method using a die such as a T die, an inflation method, and the like, but a method using a T die is preferable in terms of excellent productivity and thickness accuracy.

フィルムを成形する方法として、Tダイを用いる方法を採用する場合、Tダイを有する押出機における合成樹脂の溶融温度は、合成樹脂のガラス転移温度よりも80〜180℃高い温度にすることが好ましく、100〜150℃高い温度にすることがより好ましい。押出機での溶融温度が過度に低いと合成樹脂の流動性が不足するおそれがあり、逆に溶融温度が過度に高いと樹脂が劣化する可能性がある。さらに、フィルム状に成形する前に、用いる合成樹脂を予備乾燥しておくことが好ましい。予備乾燥は、例えば原料をペレット等の形態にして、熱風乾燥機等を用いて行われる。乾燥温度は100℃以上が好ましく、乾燥時間は2時間以上が好ましい。予備乾燥を行うことにより、フィルム中の揮発性成分量を低減させることができ、さらに押出す合成樹脂の発泡を防ぐことができる。   When adopting a method using a T die as a method for forming a film, the melting temperature of the synthetic resin in the extruder having the T die is preferably 80 to 180 ° C. higher than the glass transition temperature of the synthetic resin. More preferably, the temperature is higher by 100 to 150 ° C. If the melting temperature in the extruder is excessively low, the fluidity of the synthetic resin may be insufficient. Conversely, if the melting temperature is excessively high, the resin may be deteriorated. Furthermore, it is preferable to pre-dry the synthetic resin to be used before forming into a film. The preliminary drying is performed using, for example, a hot air dryer or the like in the form of pellets or the like. The drying temperature is preferably 100 ° C. or more, and the drying time is preferably 2 hours or more. By performing preliminary drying, the amount of volatile components in the film can be reduced, and foaming of the extruded synthetic resin can be prevented.

基材フィルムは、その飽和吸水率が0.05重量%以下であるものが好ましく、0.01重量%以下であるものがさらに好ましく、0.007重量%以下であるものが特に好ましい。飽和吸水率が前記範囲にあるものを用いることにより、低屈折率層との密着性が高くなり、長期間の使用においても低屈折率層の剥離が生じなくなる。   The substrate film preferably has a saturated water absorption of 0.05% by weight or less, more preferably 0.01% by weight or less, and particularly preferably 0.007% by weight or less. By using a material having a saturated water absorption rate within the above range, the adhesiveness with the low refractive index layer is increased, and the low refractive index layer is not peeled even after long-term use.

また基材フィルムとしては、片面又は両面に表面改質処理を施したものを使用することができる。表面改質処理を行うことにより、低屈折率層や後述するその他の層との密着性を向上させることができる。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理等が挙げられる。   Moreover, as a base film, what gave the surface modification process to the single side | surface or both surfaces can be used. By performing the surface modification treatment, adhesion to the low refractive index layer and other layers described later can be improved. Examples of the surface modification treatment include energy beam irradiation treatment and chemical treatment.

エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸等の酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後充分に水で洗浄すればよい。浸漬した状態で振盪すると効果的であるが、長期間処理すると表面が溶解したり、透明性が低下したりするといった問題があり、用いる薬品の反応性、濃度等に応じて、処理時間等を調整する必要がある。   Examples of the energy ray irradiation treatment include corona discharge treatment, plasma treatment, electron beam irradiation treatment, ultraviolet ray irradiation treatment, and the like. From the viewpoint of treatment efficiency, corona discharge treatment and plasma treatment are preferred, and corona discharge treatment is particularly preferred. The chemical treatment may be performed by immersing in an aqueous oxidizing agent solution such as potassium dichromate solution or concentrated sulfuric acid and then thoroughly washing with water. It is effective to shake in the immersed state, but there is a problem that the surface dissolves or transparency decreases when treated for a long period of time, depending on the reactivity, concentration, etc. of the chemical used, the treatment time etc. It needs to be adjusted.

基材フィルムの厚みは、通常10〜1000μmであるが、透明性および機械的強度の観点から、好ましくは30〜300μm、より好ましくは40〜200μmである。   Although the thickness of a base film is 10-1000 micrometers normally, from a viewpoint of transparency and mechanical strength, Preferably it is 30-300 micrometers, More preferably, it is 40-200 micrometers.

本発明の偏光板保護フィルムにおいては、基材フィルムと低屈折率層との間にその他の層を介在させることができる。その他の層としては、ハードコート層やプライマー層が挙げられるが、ハードコート層を介在させることが好ましい。ハードコート層を介在させることにより、より表面硬度の優れた偏光板保護フィルムを得ることができる。   In the polarizing plate protective film of the present invention, other layers can be interposed between the base film and the low refractive index layer. Examples of other layers include a hard coat layer and a primer layer, but it is preferable to interpose a hard coat layer. By interposing the hard coat layer, it is possible to obtain a polarizing plate protective film having more excellent surface hardness.

ハードコート層は、基材フィルムの表面硬度、耐繰り返し疲労性及び耐擦傷性を補強する目的で形成される。ハードコート層の形成材料としては、JIS K5600−5−4に規定される鉛筆硬度試験で、「HB」以上の硬度を示すものであれば特に制限されないが、生産性、接着性、透明性及び機械的強度に優れる観点から、熱硬化型樹脂又は活性エネルギー線硬化型樹脂を含有することが好ましく、活性エネルギー線硬化型樹脂を含有することがより好ましい。   The hard coat layer is formed for the purpose of reinforcing the surface hardness, repeated fatigue resistance and scratch resistance of the base film. The material for forming the hard coat layer is not particularly limited as long as it shows a hardness of “HB” or higher in the pencil hardness test specified in JIS K5600-5-4, but productivity, adhesiveness, transparency and From the viewpoint of excellent mechanical strength, it is preferable to contain a thermosetting resin or an active energy ray curable resin, and more preferably an active energy ray curable resin.

前記熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられ、なかでも、表面硬度、耐繰り返し疲労性及び耐擦傷性に優れる観点から、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサン樹脂が好ましい。
また、これらの樹脂に必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えて使用することができる。
Examples of the thermosetting resin include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation resin, silicone resin, poly Examples thereof include siloxane resins. Among these, melamine resins, epoxy resins, silicone resins, and polysiloxane resins are preferable from the viewpoint of excellent surface hardness, resistance to repeated fatigue, and scratch resistance.
Further, these resins can be used by adding a curing agent such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, a viscosity modifier and the like, if necessary.

活性エネルギー線硬化型樹脂は、分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマーが、エネルギー線の照射により硬化してなる樹脂である。活性エネルギー線は、電磁波又は荷電粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子を有するものを指し、通常は紫外線又は電子線を用いる。   The active energy ray-curable resin is a resin obtained by curing a prepolymer, an oligomer and / or a monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in a molecule by irradiation with energy rays. An active energy ray refers to an electromagnetic wave or a charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing or crosslinking molecules, and usually an ultraviolet ray or an electron beam is used.

前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類;ポリエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリレート類、もしくはカチオン重合型エポキシ化合物が挙げられる。   Examples of prepolymers and oligomers having a polymerizable unsaturated bond or epoxy group in the molecule include unsaturated polyesters such as a condensation product of unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol; polyester methacrylate, polyether methacrylate, polyol methacrylate And methacrylates such as melamine methacrylate, polyester acrylates, epoxy acrylates, urethane acrylates, polyether acrylates, polyol acrylates, acrylates such as melamine acrylates, and cationic polymerization type epoxy compounds.

前記分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有するモノマーの例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル等のアクリル酸エステル類;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル等のメタクリル酸エステル類;アクリル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル、アクリル酸−2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル、アクリル酸−2−(N,N−ジベンジルアミノ)メチル等の不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類;アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド類;エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクレリート等の多官能性アクリレート類;トリメチロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等の、分子中に2個以上のチオール基を有するポリチオール類;等が挙げられる。本発明においては、これら分子中に重合性不飽和結合またはエポキシ基を有する、プレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマーを一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in the molecule include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene; methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, methoxy acrylate Acrylic acid esters such as ethyl; methacrylic acid esters such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate; acrylic acid-2- (N, N-diethylamino) ethyl, acrylic acid-2- (N, N- Unsaturated substituted amino alcohol esters such as dimethylamino) ethyl and acrylic acid-2- (N, N-dibenzylamino) methyl; unsaturated carboxylic acid amides such as acrylamide and methacrylamide; ethylene glycol diacrylate, Propylene glycol diacrylate, neo Multifunctional acrylates such as n-glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, etc .; trimethylolpropane trithio And polythiols having two or more thiol groups in the molecule, such as glycolate, trimethylolpropane trithiopropylate, and pentaerythritol tetrathioglycolate. In the present invention, prepolymers, oligomers and / or monomers having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in these molecules can be used singly or in combination of two or more.

本発明の偏光板保護フィルムにおいては、ハードコート層は前記活性エネルギー線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂に加えて、導電性微粒子を含有してなるのが好ましい。活性エネルギー線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂に導電性微粒子を含有させることにより、帯電防止膜としての機能を有すると同時に、機械的強度に優れ、高屈折率のハードコート層を形成することができる。   In the polarizing plate protective film of the present invention, the hard coat layer preferably contains conductive fine particles in addition to the active energy ray-curable resin or thermosetting resin. By containing conductive fine particles in the active energy ray-curable resin or thermosetting resin, it has a function as an antistatic film, and at the same time, it has excellent mechanical strength and can form a high refractive index hard coat layer. it can.

導電性微粒子は、導電性を有する微粒子であれば特に制約はないが、透明性に優れることから、金属酸化物の微粒子が好ましい。   The conductive fine particles are not particularly limited as long as they are conductive fine particles, but metal oxide fine particles are preferable because of excellent transparency.

導電性の金属酸化物としては、例えば、五酸化アンチモン、リンがドープされた酸化スズ(PTO)、酸化スズ、アンチモンがドープされた酸化スズ(ATO)、フッ素がドープされた酸化スズ(FTO)、スズがドープされた酸化インジウム(ITO)、亜鉛がドープされた酸化インジウム(IZO)、アルミニウムがドープされた酸化亜鉛(AZO)、酸化亜鉛/酸化アルミニウム、アンチモン酸亜鉛等が挙げられる。これらの金属酸化物は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、透明性に優れること等から、五酸化アンチモン及び/又はリンがドープされた酸化スズの使用が好ましい。   Examples of the conductive metal oxide include antimony pentoxide, tin oxide (PTO) doped with phosphorus, tin oxide, tin oxide doped with antimony (ATO), and tin oxide doped with fluorine (FTO). Indium oxide doped with tin (ITO), indium oxide doped with zinc (IZO), zinc oxide doped with aluminum (AZO), zinc oxide / aluminum oxide, zinc antimonate and the like. These metal oxides can be used alone or in combination of two or more. Among these, the use of tin oxide doped with antimony pentoxide and / or phosphorus is preferable because of its excellent transparency.

また本発明においては、導電性の金属酸化物微粒子として、導電性を持たない金属酸化物微粒子に、導電性金属酸化物を被覆することによって、導電性を付与したものを使用することもできる。例えば、屈折率は高いが導電性を有しない酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム等の微粒子の表面に、前記導電性金属酸化物を被覆して導電性を付与して用いることができる。   Moreover, in this invention, what provided electroconductivity by coat | covering a conductive metal oxide to the metal oxide fine particle which does not have electroconductivity as a conductive metal oxide fine particle can also be used. For example, the surface of fine particles of titanium oxide, zirconium oxide, cerium oxide or the like having a high refractive index but no conductivity can be used by coating the conductive metal oxide to impart conductivity.

金属酸化物微粒子のBET平均粒子径は、ハードコート層の透明性を低下させないために、通常200nm以下、好ましくは50nm以下である。200nmより大きいとヘイズ(濁り度)が大きくなる。粒子径は、走査型電子顕微鏡(SEM)等により得られる二次電子放出のイメージ写真の目視により、又は動的光散乱法、静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により計測することができる。   The BET average particle diameter of the metal oxide fine particles is usually 200 nm or less, preferably 50 nm or less, so as not to lower the transparency of the hard coat layer. When it is larger than 200 nm, haze (turbidity) increases. The particle diameter should be measured by visual observation of secondary electron emission image photographs obtained by a scanning electron microscope (SEM) or by a particle size distribution meter using a dynamic light scattering method, a static light scattering method, or the like. Can do.

ハードコード層は、ハードコート層を構成するための塗工液を塗工し、硬化、乾燥することにより得られる。
ハードコート層を構成するための塗工液は、熱硬化性樹脂、又は活性エネルギー線硬化型樹脂を構成するための分子中に重合性不飽和結合若しくはエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマーと、導電性微粒子や添加剤とを適当な有機溶剤に溶解又は分散させることにより調製することができる。
The hard cord layer is obtained by applying a coating liquid for constituting the hard coat layer, curing and drying.
The coating liquid for constituting the hard coat layer is a thermosetting resin or a prepolymer, oligomer and / or having a polymerizable unsaturated bond or epoxy group in the molecule for constituting the active energy ray curable resin. It can be prepared by dissolving or dispersing the monomer, conductive fine particles and additives in a suitable organic solvent.

用いる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール等のアルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジアセトングリコール等のグリコール類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;メチルエチルケトオキシム等のオキシム類;エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等のセルソルブ類;及びこれらの2種以上からなる組み合わせ;等が挙げられる。   Examples of the organic solvent used include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol and n-butanol; glycols such as ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol, diethylene glycol monobutyl ether and diacetone glycol Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; methyl ethyl ketoxime and the like Examples include oximes; cell solves such as ethyl cell solve and butyl cell solve; and combinations of two or more thereof.

前記塗工液中のプレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマーの含有量は、特に制限されないが、優れた塗布適性が得られることから、前記プレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマーを5重量%〜95重量%含有するものが好ましい。   The content of the prepolymer, oligomer and / or monomer in the coating liquid is not particularly limited, but since excellent coating suitability is obtained, the prepolymer, oligomer and / or monomer is 5% by weight to 95% by weight. % Content is preferred.

ハードコート層に導電性微粒子が含まれる場合において、前記塗工液中の導電性微粒子の含有量は、特に制限されないが、好ましくは前記塗工液中の30体積%以上、より好ましくは40体積%〜70体積%である。導電性微粒子の配合量が30体積%未満であると、得られる偏光板保護フィルムの帯電防止性が不良となる。   In the case where conductive fine particles are contained in the hard coat layer, the content of the conductive fine particles in the coating liquid is not particularly limited, but is preferably 30% by volume or more, more preferably 40% in the coating liquid. % To 70% by volume. When the blending amount of the conductive fine particles is less than 30% by volume, the antistatic property of the obtained polarizing plate protective film becomes poor.

また、ハードコート層の硬化が紫外線照射により行われるときは、塗工液に光重合開始剤や光重合促進剤を添加する。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のラジカル重合性開始剤;芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等のカチオン重合性開始剤;等が挙げられる。これらは一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。光重合開始剤の添加量は、ハードコート層を形成するための分子中に重合性不飽和結合又はエポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー及び/又はモノマー100重量部に対し、通常、0.1〜10重量部である。また、この塗工液中に光増感剤としてn−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。   Moreover, when hardening of a hard-coat layer is performed by ultraviolet irradiation, a photoinitiator and a photoinitiator are added to a coating liquid. As photopolymerization initiators, radical polymerization initiators such as acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether; aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, metallocene compounds, benzoin sulfonic acids Cationic polymerizable initiators such as esters; These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The addition amount of the photopolymerization initiator is usually 0.1 to 100 parts by weight of the prepolymer, oligomer and / or monomer having a polymerizable unsaturated bond or epoxy group in the molecule for forming the hard coat layer. 10 parts by weight. Further, n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine and the like can be mixed and used as a photosensitizer in the coating solution.

前記塗工液には、有機反応性ケイ素化合物をさらに添加することもできる。用いる有機反応性ケイ素化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン等の、式:RSi(OR’)(式中、Rは水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基を表し、R’は炭素数1〜10のアルキル基を表す。m、nはそれぞれ独立して、m+n=4の関係を満たす正の整数である。)で表せる有機ケイ素化合物;An organic reactive silicon compound can be further added to the coating solution. Examples of the organic reactive silicon compound used include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, Such as methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane, dimethylbutoxysilane, methyldimethoxysilane, methyldiethoxysilane , Formula: R m Si (OR ′) n (wherein, R represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R ′ represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Independently, m . N = a positive integer satisfying 4 relationship) organic silicon compounds represented by;

γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン等のシランカップリング剤;   γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane , Γ-methacryloxypropylmethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxy Silane coupling agents such as ethoxy) silane;

片末端ビニル基置換ポリシラン、両末端ビニル基置換ポリシラン、片末端ビニル基置換ポリシロキサン、両末端ビニル基置換ポリシロキサン、又はこれらの化合物を反応させて得られるビニル基置換ポリシラン、もしくはビニル基置換ポリシロキサン等の活性エネルギー線硬化性ケイ素化合物;3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の(メタ)アクリロキシシラン化合物等のその他の有機ケイ素化合物;等が挙げられる。   One-end vinyl group-substituted polysilane, both-end vinyl group-substituted polysilane, one-end vinyl group-substituted polysiloxane, both-end vinyl group-substituted polysiloxane, vinyl group-substituted polysilane obtained by reacting these compounds, or vinyl group-substituted poly Active energy ray-curable silicon compounds such as siloxane; other organosilicon compounds such as (meth) acryloxysilane compounds such as 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane And the like.

前記塗工液には、塗膜の均一性や密着性向上等を目的として、レベリング剤や分散剤を適宜添加することができる。用いるレベリング剤としては、シリコーンオイル、フッ素化ポリオレフィン、ポリアクリル酸エステル等の表面張力を低下させる化合物が挙げられ、分散剤としては、界面活性剤、シランカップリング剤等が挙げられる。   A leveling agent and a dispersant can be appropriately added to the coating solution for the purpose of improving the uniformity and adhesion of the coating film. Examples of the leveling agent to be used include compounds that lower the surface tension such as silicone oil, fluorinated polyolefin, and polyacrylic ester, and examples of the dispersing agent include surfactants and silane coupling agents.

前記塗工液には、防眩性を付与する目的で、防眩性を付与する粒子を添加してもよい。防眩性を付与する粒子としては、防眩層の表面に凸凹が形成されれば特に限定されない。また、防眩層の表面に有効に凸凹を形成するために平均粒径が0.5〜10μmであることが好ましく、1〜7μmであることがより好ましい。   For the purpose of imparting antiglare properties, particles that impart antiglare properties may be added to the coating solution. The particles imparting antiglare properties are not particularly limited as long as irregularities are formed on the surface of the antiglare layer. In order to effectively form irregularities on the surface of the antiglare layer, the average particle size is preferably 0.5 to 10 μm, and more preferably 1 to 7 μm.

ハードコート層の形成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層を形成するための塗工液を公知の塗工方法により基材フィルム上に塗工して、乾燥し、加熱又は活性エネルギー線を照射して硬化させる方法が挙げられる。
加熱温度及び加熱時間、活性エネルギー線の照射強度及び照射時間等は、特に限定されず、ハードコート層を構成する材料の種類に応じて硬化条件を適宜設定すればよい。
ハードコート層の厚みは、通常0.5〜30μm、好ましくは1〜10μmである。ハードコート層の厚みが0.5μmより薄いと層の硬度、機械的強度が不良となり、一方30μmより厚いと塗布する際に厚みムラが生じ易くなり、加工性が悪くなるおそれがある。
The method for forming the hard coat layer is not particularly limited. For example, a coating liquid for forming the hard coat layer is applied onto the substrate film by a known coating method, dried, heated, or activated energy rays. And a method of curing by irradiation.
The heating temperature and heating time, the irradiation intensity of the active energy ray, the irradiation time, and the like are not particularly limited, and the curing conditions may be appropriately set according to the type of material constituting the hard coat layer.
The thickness of the hard coat layer is usually 0.5 to 30 μm, preferably 1 to 10 μm. If the thickness of the hard coat layer is less than 0.5 μm, the hardness and mechanical strength of the layer will be poor. On the other hand, if it is more than 30 μm, unevenness in thickness tends to occur when applied, and workability may be deteriorated.

ハードコート層の屈折率は、好ましくは1.53以上、より好ましくは1.55以上である。ハードコート層の屈折率がこの範囲であることにより、外光の反射を抑制し、映り込みを防止することができる。屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメータを用いて測定して求めることができる。
また、ハードコート層が帯電防止機能を有していることが好ましい。具体的には、ハードコート層の表面抵抗値が、好ましくは1.0×1010Ω/□以下、より好ましくは5.0×10Ω/□以下である。
なお、表面抵抗値は、抵抗率計を用いて測定することができる。
The refractive index of the hard coat layer is preferably 1.53 or more, more preferably 1.55 or more. When the refractive index of the hard coat layer is within this range, reflection of external light can be suppressed and reflection can be prevented. The refractive index can be obtained by measuring using, for example, a known spectroscopic ellipsometer.
The hard coat layer preferably has an antistatic function. Specifically, the surface resistance value of the hard coat layer is preferably 1.0 × 10 10 Ω / □ or less, more preferably 5.0 × 10 9 Ω / □ or less.
The surface resistance value can be measured using a resistivity meter.

プライマー層は、基材フィルムと、ハードコート層若しくは低屈折率層との接着性の付与及び向上を目的として形成される。プライマー層を構成する材料としては、例えば、ポリエステルウレタン樹脂、ポリエーテルウレタン樹脂、ポリイソシアネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ゴム、環化ゴム、これらの重合体に極性基を導入した変性物等が挙げられる。これらの中で、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂の変性物及び環化ゴムの変性物を好適に用いることができる。   The primer layer is formed for the purpose of imparting and improving adhesion between the base film and the hard coat layer or the low refractive index layer. Examples of the material constituting the primer layer include polyester urethane resin, polyether urethane resin, polyisocyanate resin, polyolefin resin, resin having a hydrocarbon skeleton in the main chain, polyamide resin, acrylic resin, polyester resin, vinyl chloride / acetic acid Examples thereof include vinyl copolymers, chlorinated rubbers, cyclized rubbers, and modified products obtained by introducing polar groups into these polymers. Among these, a modified product of a resin having a hydrocarbon skeleton in the main chain and a modified product of a cyclized rubber can be suitably used.

主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂としては、ポリブタジエン骨格又は少なくともその一部に水素添加したポリブタジエン骨格を有する樹脂が挙げられ、具体的には、ポリブタジエン樹脂、水添ポリブタジエン樹脂、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体(SBS共重合体)、その水素添加物(SEBS共重合体)等が挙げられる。なかでも、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物の変性物を好適に用いることができる。   Examples of the resin having a hydrocarbon skeleton in the main chain include a polybutadiene skeleton or a resin having a polybutadiene skeleton hydrogenated to at least a part thereof, specifically, a polybutadiene resin, a hydrogenated polybutadiene resin, a styrene / butadiene / styrene. Examples thereof include a block copolymer (SBS copolymer), a hydrogenated product thereof (SEBS copolymer), and the like. Among these, a modified product of a hydrogenated product of a styrene / butadiene / styrene block copolymer can be suitably used.

重合体の変性物を得るために用いる極性基を導入するための化合物としては、カルボン酸又はその誘導体が好ましい。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマール酸等の不飽和カルボン酸;塩化マレイル、マレイミド、無水マレイン酸、無水シトラコン酸等の不飽和カルボン酸のハロゲン化物、アミド、イミド、無水物、エステル等の誘導体;等が挙げられる。これらの中でも、不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物による変性物は、密着性に優れるので、好適に用いることができる。不飽和カルボン酸又はその無水物の中では、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸がより好ましく、マレイン酸、無水マレイン酸が特に好ましい。これらの不飽和カルボン酸等は、2種以上を混合して用い、変性することもできる。   As a compound for introducing a polar group used for obtaining a modified product of a polymer, a carboxylic acid or a derivative thereof is preferable. For example, unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid and fumaric acid; halides, amides, imides, anhydrides and esters of unsaturated carboxylic acids such as maleyl chloride, maleimide, maleic anhydride and citraconic anhydride And the like; and the like. Among these, a modified product with an unsaturated carboxylic acid or an unsaturated carboxylic acid anhydride is excellent in adhesion, and thus can be suitably used. Among the unsaturated carboxylic acids or anhydrides thereof, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, and maleic anhydride are more preferable, and maleic acid and maleic anhydride are particularly preferable. These unsaturated carboxylic acids and the like can be modified by mixing two or more kinds.

プライマー層の形成方法は特に制限されず、例えば、プライマー層形成用塗工液を公知の塗工方法により、基材フィルム上に塗工して形成する方法が挙げられる。プライマー層の厚みは特に制限されないが、通常0.01〜5μm、好ましくは0.1〜2μmである。   The method for forming the primer layer is not particularly limited, and examples thereof include a method in which a primer layer forming coating solution is applied on a base film by a known coating method. The thickness of the primer layer is not particularly limited, but is usually 0.01 to 5 μm, preferably 0.1 to 2 μm.

また、前記基材フィルム、ハードコート層およびプライマー層を構成する樹脂材料には、所望により各種配合剤を添加することができる。配合剤としては、熱可塑性樹脂材料で通常用いられるものであれば格別な制限はなく、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン酸系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等の酸化防止剤;ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、金属錯体系紫外線吸収剤等の紫外線吸収剤;ヒンダードアミン系光安定剤等の光安定剤;染料や顔料等着色剤;脂肪族アルコールのエステル、多価アルコールのエステル、脂肪酸アミド、無機粒子等滑剤;トリエステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸−塩基酸エステル系可塑剤、オキシ酸エステル系可塑剤等の可塑剤;多価アルコールの脂肪酸エステル等の帯電防止剤;等が挙げられる。   Moreover, various compounding agents can be added to the resin materials constituting the base film, hard coat layer and primer layer as desired. The compounding agent is not particularly limited as long as it is usually used in thermoplastic resin materials. For example, antioxidants such as phenolic antioxidants, phosphoric acid antioxidants, sulfur antioxidants; UV absorbers such as triazole UV absorbers, benzoate UV absorbers, benzophenone UV absorbers, acrylate UV absorbers, metal complex UV absorbers; light stabilizers such as hindered amine light stabilizers; dyes and pigments Colorants such as: Aliphatic alcohol esters, polyhydric alcohol esters, fatty acid amides, inorganic particles, etc. Lubricants: triester plasticizers, phthalic acid ester plasticizers, fatty acid-basic acid ester plasticizers, oxyacid esters Plasticizers such as plasticizers; antistatic agents such as fatty acid esters of polyhydric alcohols; and the like.

(低屈折率層)
本発明の偏光板保護フィルムの低屈折率層は、特定の金属酸化物複合体と無機微粒子とを含有し、屈折率が1.25〜1.37であることを特徴とする。
(Low refractive index layer)
The low refractive index layer of the polarizing plate protective film of the present invention contains a specific metal oxide composite and inorganic fine particles, and has a refractive index of 1.25 to 1.37.

前記金属酸化物複合体は、下記(a)〜(c)からなる群から選ばれる1種以上の化合物から形成されたものであって、分子中に、−(O−M)−O−(式中、Mは前記と同じ意味を表し、mは自然数を表す。)結合を有するものである。The metal oxide complex is formed from one or more compounds selected from the group consisting of the following (a) to (c), and includes — (OM) m —O— in the molecule. (In the formula, M represents the same meaning as described above, and m represents a natural number.) It has a bond.

(a)式(1):MXで表される化合物。
(b)前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の部分加水分解生成物。
(c)前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の完全加水分解生成物。
(A) A compound represented by formula (1): MX n .
(B) At least one partial hydrolysis product of the compound represented by the formula (1).
(C) At least one complete hydrolysis product of the compound represented by the formula (1).

前記(a)の式(1)で表される化合物において、式(1)中、Mは金属原子又は半金属原子を表す。
金属原子又は半金属原子としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属;マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム等のアルカリ土類金属;ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム等の周期律表第3B族元素;ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛等の周期律表第4B族元素;リン、砒素、アンチモン等の周期律表第5B族元素;スカンジウム、チタン、バナジウム、鉄、ニッケル、銅、亜鉛、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、タングステン等の遷移金属元素;ランタン、セリウム、ネオジム等のランタノイド;等が挙げられる。これらの中でも、周期律表第3B族元素、周期律表第4B族元素、遷移金属元素が好ましく、アルミニウム、ケイ素、チタン、ジルコニウムがより好ましく、ケイ素(Si)がさらに好ましい。
In the compound represented by the formula (1) of the above (a), in the formula (1), M represents a metal atom or a metalloid atom.
Examples of the metal atom or metalloid atom include alkali metals such as lithium, sodium and potassium; alkaline earth metals such as magnesium, calcium, barium and strontium; periodic table 3B of boron, aluminum, gallium, indium and thallium Element; Group 4B element of periodic table such as silicon, germanium, tin, lead; Group 5B element of periodic table such as phosphorus, arsenic, antimony; scandium, titanium, vanadium, iron, nickel, copper, zinc, yttrium, Transition metal elements such as zirconium, niobium, tantalum, and tungsten; lanthanoids such as lanthanum, cerium, and neodymium; and the like. Among these, a periodic table group 3B element, a periodic table group 4B element, and a transition metal element are preferable, aluminum, silicon, titanium, and zirconium are more preferable, and silicon (Si) is further preferable.

Xは、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;置換基を有していてもよい一価の炭化水素基;酸素原子;酢酸根、硝酸根等の有機酸根;アセチルアセトナート等のβ−ジケトナート基;硝酸根、硫酸根等の無機酸根;メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基等のアルコキシル基;または水酸基を表す。
また、nは前記M(金属原子又は半金属原子)の原子価を表す。nが2以上のとき、Xは同一であっても相異なっていてもよい。
X is a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom; a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent; an oxygen atom; an organic acid radical such as an acetate radical or a nitrate radical; a β-diketonate such as acetylacetonate A group; an inorganic acid group such as a nitrate group or a sulfate group; an alkoxyl group such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group or an n-butoxy group; or a hydroxyl group.
N represents the valence of M (metal atom or metalloid atom). When n is 2 or more, X may be the same or different.

これらの中でも、前記式(1)で表される化合物としては、式(2):RSiY4−a〔式中、Rは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、aは0〜2の整数を表し、aが2のとき、Rは同一であっても相異なっていてもよい。Yは加水分解性基を表し、Yは同一であっても相異なっていてもよい。〕で表されるケイ素化合物が特に好ましい。Among these, as the compound represented by the formula (1), the formula (2): R a SiY 4-a [wherein R represents a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent] And a represents an integer of 0 to 2, and when a is 2, R may be the same or different. Y represents a hydrolyzable group, and Y may be the same or different. A silicon compound represented by the formula

置換基を有していてもよい一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;フェニル基、4−メチルフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等の置換基を有していてもよいアリール基;ビニル基、アリル基等のアルケニル基;ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基等のアラルキル基;クロロメチル基、γ−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等のハロアルキル基;γ−メタクリロキシプロピル基等のアルケニルカルボニルオキシアルキル基;γ−グリシドキシプロピル基、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル基等のエポキシ基を有するアルキル基;γ−メルカプトプロピル基等のメルカプト基を有するアルキル基;3−アミノプロピル基等のアミノ基を有するアルキル基;トリフルオロメチル基等のパーフルオロアルキル基等を例示することができる。これらの中でも、合成の容易性、入手可能性から、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基、パーフルオロアルキル基が好ましく、防汚性に優れる点からパーフルオロアルキル基が好ましい。   Examples of the monovalent hydrocarbon group which may have a substituent include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group; a cyclopentyl group, A cycloalkyl group such as a cyclohexyl group; an aryl group optionally having a substituent such as a phenyl group, a 4-methylphenyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group; an alkenyl group such as a vinyl group and an allyl group; Aralkyl groups such as benzyl group, phenethyl group and 3-phenylpropyl group; Haloalkyl groups such as chloromethyl group, γ-chloropropyl group and 3,3,3-trifluoropropyl group; Alkenyl such as γ-methacryloxypropyl group Carbonyloxyalkyl group; an epoxy group having an epoxy group such as γ-glycidoxypropyl group or 3,4-epoxycyclohexylethyl group It can be exemplified a perfluoroalkyl group such as trifluoromethyl group; an alkyl group having an amino group such as 3-aminopropyl group; an alkyl group having a mercapto group such as γ- mercaptopropyl group; kill group. Among these, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, and a perfluoroalkyl group are preferable from the viewpoint of ease of synthesis and availability, and a perfluoroalkyl group is preferable from the viewpoint of excellent antifouling properties.

Yは加水分解性基を表す。ここで、加水分解性基は、所望により酸または塩基触媒の存在下に加水分解して、−(O−Si)−O−結合を生じせしめる基をいう。Y represents a hydrolyzable group. Here, the hydrolyzable group refers to a group that is hydrolyzed in the presence of an acid or a base catalyst as desired to form a — (O—Si) m —O— bond.

加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシル基;アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアシルオキシ基;オキシム基(−O−N=C−R’(R”))、エノキシ基(−O−C(R’)=C(R”)R''')、アミノ基、アミノキシ基(−O−N(R’)R”)、アミド基(−N(R’)−C(=O)−R”)等が挙げられる。これらの基において、R’、R”、R'''は、それぞれ独立して水素原子又は一価の炭化水素基を表す。これらの中でも、Yとしては、入手容易性等からアルコキシル基が好ましい。   Specific examples of the hydrolyzable group include alkoxyl groups such as methoxy group, ethoxy group and propoxy group; acyloxy groups such as acetoxy group and propionyloxy group; oxime group (—O—N═C—R ′ (R ″)) ), Enoxy group (—O—C (R ′) ═C (R ″) R ′ ″), amino group, aminoxy group (—O—N (R ′) R ″), amide group (—N (R ') -C (= O) -R ") and the like. In these groups, R ′, R ″ and R ′ ″ each independently represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group. Among these, Y is preferably an alkoxyl group from the standpoint of availability. .

前記式(2)で表されるケイ素化合物としては、式(2)中、aが0〜2の整数であるケイ素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等が挙げられる。これらの中でも、入手の容易さからアルコキシシラン類がより好ましい。   The silicon compound represented by the formula (2) is preferably a silicon compound in which a is an integer of 0 to 2 in the formula (2). Specific examples thereof include alkoxysilanes, acetoxysilanes, oxime silanes, enoxysilanes, aminosilanes, aminoxysilanes, amidosilanes and the like. Among these, alkoxysilanes are more preferable because of their availability.

前記式(2)中、aが0であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、aが1であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。また、aが2であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。   In the formula (2), examples of the tetraalkoxysilane in which a is 0 include tetramethoxysilane and tetraethoxysilane. Examples of the organotrialkoxysilane in which a is 1 include methyltrimethoxysilane and methyltriethoxy. Examples include silane, methyltriisopropoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, and the like. Examples of the diorganodialkoxysilane in which a is 2 include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, and methylphenyldimethoxysilane.

前記式(1)で表される化合物の分子量は特に制限されないが、40〜300であるのが好ましく、100〜200であるのがより好ましい。   The molecular weight of the compound represented by the formula (1) is not particularly limited, but is preferably 40 to 300, and more preferably 100 to 200.

前記(b)の式(1)で表される化合物の少なくとも1種の部分加水分解生成物(以下、「化合物(3)」という。)、および(c)の式(1)で表される化合物の少なくとも1種の完全加水分解生成物(以下、「化合物(4)」という。)は、前記式(1)で表される化合物の1種またはそれ以上を、全部又は部分的に加水分解、縮合させることによって得ることができる。   At least one partial hydrolysis product (hereinafter referred to as “compound (3)”) of the compound represented by formula (1) of (b), and represented by formula (1) of (c). At least one complete hydrolysis product of the compound (hereinafter referred to as “compound (4)”) is obtained by fully or partially hydrolyzing one or more of the compounds represented by the formula (1). Can be obtained by condensation.

化合物(3)および化合物(4)は、例えば、M(Or)(Mは前記と同じ意味を表し、rは1価の炭化水素基を表す。)で表される金属テトラアルコキシドを、モル比[HO]/[Or]が1以上、例えば1〜5、好ましくは1〜3となる量の水の存在下、加水分解して得ることができる。
加水分解は、5〜100℃の温度で、2〜100時間、全容を撹拌することにより行うことができる。
Compound (3) and compound (4) are, for example, a metal tetraalkoxide represented by M (Or) 4 (M represents the same meaning as described above, and r represents a monovalent hydrocarbon group). The ratio [H 2 O] / [Or] can be obtained by hydrolysis in the presence of water in an amount of 1 or more, for example, 1 to 5, preferably 1 to 3.
Hydrolysis can be performed by stirring the whole volume at a temperature of 5 to 100 ° C. for 2 to 100 hours.

前記式(1)で表される化合物を加水分解する場合、必要に応じて触媒を使用してよい。使用する触媒としては、特に限定されるものではないが、得られる部分加水分解物及び/あるいは加水分解物が2次元架橋構造になりやすく、その縮合化合物が多孔質化しやすい点、および加水分解に要する時間を短縮する点から、酸触媒が好ましい。   When hydrolyzing the compound represented by the formula (1), a catalyst may be used as necessary. The catalyst to be used is not particularly limited, but the obtained partial hydrolyzate and / or hydrolyzate is likely to have a two-dimensional cross-linked structure, and the condensed compound is easily made porous. From the viewpoint of shortening the time required, an acid catalyst is preferred.

用いる酸触媒としては、特に限定されないが、例えば、酢酸、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタール酸、グリコール酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュウ酸等の有機酸;塩酸、硝酸、ハロゲン化シラン等の無機酸;酸性コロイダルシリカ、酸化チタニアゾル等の酸性ゾル状フィラー;を挙げることができる。これらの酸触媒は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。   The acid catalyst to be used is not particularly limited. For example, acetic acid, chloroacetic acid, citric acid, benzoic acid, dimethylmalonic acid, formic acid, propionic acid, glutaric acid, glycolic acid, maleic acid, malonic acid, toluenesulfonic acid, Organic acids such as acids; inorganic acids such as hydrochloric acid, nitric acid, and halogenated silane; acidic sol-like fillers such as acidic colloidal silica and oxidized titania sol; These acid catalysts can be used alone or in combination of two or more.

また、前記酸触媒の代わりに、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の水酸化物の水溶液、アンモニア水、アミン類の水溶液等の塩基触媒を用いてもよい。   Instead of the acid catalyst, a base catalyst such as an aqueous solution of an alkali metal or alkaline earth metal hydroxide such as sodium hydroxide or calcium hydroxide, an aqueous ammonia or an aqueous solution of amines may be used.

化合物(3)および化合物(4)の分子量は特に制限されないが、通常、その重量平均分子量が200〜5000の範囲である。   The molecular weights of the compound (3) and the compound (4) are not particularly limited, but usually the weight average molecular weight is in the range of 200 to 5,000.

(無機微粒子)
本発明に用いる無機微粒子は無機化合物の微粒子であれば、特に制限されないが、外殻の内部に空洞が形成された無機中空微粒子が好ましく、シリカ系中空微粒子の使用が特に好ましい。
(Inorganic fine particles)
The inorganic fine particles used in the present invention are not particularly limited as long as they are inorganic compound fine particles. However, inorganic hollow fine particles in which cavities are formed inside the outer shell are preferable, and use of silica-based hollow fine particles is particularly preferable.

無機化合物としては、無機酸化物が一般的である。無機酸化物としては、SiO、Al、B、TiO、ZrO、SnO、Ce、P、Sb、MoO、ZnO、WO等の1種又は2種以上を挙げることができる。2種以上の無機酸化物として、TiO−Al、TiO−ZrO、In−SnO、Sb−SnOを例示することができる。これらは1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。As the inorganic compound, an inorganic oxide is common. As the inorganic oxide, SiO 2, Al 2 O 3 , B 2 O 3, TiO 2, ZrO 2, SnO 2, Ce 2 O 3, P 2 O 5, Sb 2 O 3, MoO 3, ZnO 2, WO One or two or more of 3 or the like can be mentioned. Examples of the two or more inorganic oxides include TiO 2 —Al 2 O 3 , TiO 2 —ZrO 2 , In 2 O 3 —SnO 2 , and Sb 2 O 3 —SnO 2 . These can be used alone or in combination of two or more.

無機中空微粒子としては、(A)無機酸化物単一層、(B)種類の異なる無機酸化物からなる複合酸化物の単一層、及び(C)上記(A)と(B)との二重層を包含するものを用いることができる。   As the inorganic hollow fine particles, (A) an inorganic oxide single layer, (B) a single layer of a composite oxide composed of different kinds of inorganic oxides, and (C) a double layer of (A) and (B) above What is included can be used.

中空微粒子の外殻は細孔を有する多孔質なものであってもよく、あるいは細孔が閉塞されて空洞が外殻の外側に対して密封されているものであってもよい。
外殻は、内側の第1無機酸化物被覆層及び外側の第2無機酸化物被覆層からなる複数の無機酸化物被覆層であることが好ましい。外側に第2無機酸化物被覆層を設けることにより、外殻の細孔を閉塞させて外殻を緻密化したり、さらには、内部の空洞を密封した無機中空微粒子を得ることができる。
特に第2無機酸化物被覆層の形成に含フッ素有機珪素化合物を用いる場合は、フッ素原子を含む被覆層が形成されるために、得られる粒子はより低屈折率となるとともに、有機溶媒への分散性もよく、さらに低屈折率層の防汚性付与にも効果があり好ましい。
The outer shell of the hollow fine particles may be porous having pores, or may be one in which the pores are closed and the cavity is sealed against the outside of the outer shell.
The outer shell is preferably a plurality of inorganic oxide coating layers comprising an inner first inorganic oxide coating layer and an outer second inorganic oxide coating layer. By providing the second inorganic oxide coating layer on the outer side, the fine pores of the outer shell are closed to make the outer shell dense, and furthermore, the inorganic hollow fine particles in which the inner cavity is sealed can be obtained.
In particular, when a fluorine-containing organosilicon compound is used for forming the second inorganic oxide coating layer, the coating layer containing fluorine atoms is formed, so that the resulting particles have a lower refractive index and are reduced to an organic solvent. The dispersibility is good, and further, it is effective for imparting antifouling property to the low refractive index layer, which is preferable.

このような含フッ素有機珪素化合物の具体例としては、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Specific examples of such fluorine-containing organosilicon compounds include 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, heptadecafluorodecylmethyldimethoxysilane, hepta. Examples include decafluorodecyltrichlorosilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, and 3,3,3-trifluoropropyltriethoxysilane.

外殻の厚みは1〜50nm、特に5〜20nmの範囲であるのが好ましい。外殻の厚みが1nm未満であると、無機中空微粒子が所定の粒子形状を保持していない場合がある。逆に、外殻の厚みが50nmを超えると、無機中空微粒子中の空洞が小さく、その結果、空洞の割合が減少して屈折率の低下が不十分であるおそれがある。更に、外殻の厚みは、無機中空微粒子の平均粒子径の1/50〜1/5の範囲にあることが好ましい。   The thickness of the outer shell is preferably in the range of 1 to 50 nm, particularly 5 to 20 nm. If the thickness of the outer shell is less than 1 nm, the inorganic hollow fine particles may not maintain a predetermined particle shape. On the other hand, when the thickness of the outer shell exceeds 50 nm, the cavities in the inorganic hollow fine particles are small, and as a result, the ratio of the cavities may be reduced and the refractive index may not be sufficiently lowered. Furthermore, the thickness of the outer shell is preferably in the range of 1/50 to 1/5 of the average particle diameter of the inorganic hollow fine particles.

上述のように第1無機酸化物被覆層および第2無機酸化物被覆層を外殻として設ける場合、これらの層の厚みの合計が、上記1〜50nmの範囲となるようにすればよく、特に、緻密化された外殻には、第2無機酸化物被覆層の厚みは20〜40nmの範囲が好適である。   When the first inorganic oxide coating layer and the second inorganic oxide coating layer are provided as outer shells as described above, the total thickness of these layers may be in the range of 1 to 50 nm. For the densified outer shell, the thickness of the second inorganic oxide coating layer is preferably in the range of 20 to 40 nm.

また、空洞には無機中空微粒子を調製するときに使用した溶媒及び/又は乾燥時に浸入する気体が存在してもよいし、後述する空洞を形成するための前駆体物質が空洞に残存していてもよい。   The cavity may contain the solvent used when preparing the inorganic hollow fine particles and / or a gas that enters during drying, and a precursor material for forming the cavity described later remains in the cavity. Also good.

前駆体物質は、外殻によって包囲された核粒子から核粒子の構成成分の一部を除去した後に残存する多孔質物質である。核粒子には、種類の異なる無機酸化物からなる多孔質の複合酸化物粒子を用いる。前駆体物質は、外殻に付着してわずかに残存していることもあるし、空洞内の大部分を占めることもある。   The precursor material is a porous material that remains after removing some of the constituent components of the core particles from the core particles surrounded by the outer shell. As the core particles, porous composite oxide particles made of different types of inorganic oxides are used. The precursor material may remain slightly attached to the outer shell or may occupy most of the interior of the cavity.

なお、この多孔質物質の細孔内にも上記溶媒あるいは気体が存在してもよい。このときの核粒子の構成成分の除去量が多くなると空洞の容積が増大し、屈折率の低い無機中空微粒子が得られ、この無機中空微粒子を配合して得られる透明被膜は低屈折率で反射防止性能に優れる。   The solvent or gas may be present in the pores of the porous material. When the removal amount of the constituent components of the core particles at this time increases, the volume of the cavity increases, and inorganic hollow fine particles having a low refractive index are obtained. The transparent coating obtained by blending these inorganic hollow fine particles reflects with a low refractive index. Excellent prevention performance.

無機中空微粒子の平均粒子径は特に制限されないが、5〜2000nmの範囲が好ましく、20〜100nmがより好ましい。5nmよりも小さいと、中空によって低屈折率になる効果が小さく、逆に2000nmよりも大きいと、透明性が極端に悪くなり、拡散反射による寄与が大きくなってしまう。ここで、平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。   The average particle diameter of the inorganic hollow fine particles is not particularly limited, but is preferably in the range of 5 to 2000 nm, and more preferably 20 to 100 nm. If it is smaller than 5 nm, the effect of lowering the refractive index due to hollowness is small. Conversely, if it is larger than 2000 nm, the transparency is extremely deteriorated, and the contribution due to diffuse reflection increases. Here, the average particle diameter is a number average particle diameter by observation with a transmission electron microscope.

上述のような無機中空微粒子の製造方法は、例えば、特開2001−233611号公報に詳細に記載されており、本発明に使用できる無機中空微粒子は、そこに記載された方法に基づいて製造することができ、また一般に市販されている無機中空微粒子を用いることもできる。   The method for producing inorganic hollow fine particles as described above is described in detail in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-233611, and the inorganic hollow fine particles that can be used in the present invention are produced based on the method described therein. In addition, commercially available inorganic hollow fine particles can also be used.

無機微粒子の配合量は、特に制限されないが、低屈折率層全体に対して、10〜30重量%であるのが好ましい。無機微粒子の配合量がこの範囲であるときに、低屈折率性と耐擦傷性を兼ね備えた偏光板保護フィルムを得ることができる。   The blending amount of the inorganic fine particles is not particularly limited, but is preferably 10 to 30% by weight with respect to the entire low refractive index layer. When the blending amount of the inorganic fine particles is within this range, a polarizing plate protective film having both low refractive index properties and scratch resistance can be obtained.

前記無機微粒子は、分散液の形で用いることもできる。分散液に用いる有機溶媒の種類は、特に限定されるものではないが、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール(IPA)、n−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体;ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体;ジアセトンアルコール;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;等が挙げられる。
これらの有機溶媒は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。
The inorganic fine particles can also be used in the form of a dispersion. The type of the organic solvent used in the dispersion is not particularly limited. For example, lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol (IPA), n-butanol, isobutanol; ethylene glycol, ethylene glycol mono Ethylene glycol derivatives such as butyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; diethylene glycol derivatives such as diethylene glycol and diethylene glycol monobutyl ether; diacetone alcohol; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; aliphatic carbons such as n-hexane and n-heptane Hydrogen; Esters such as ethyl acetate and butyl acetate; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone;
These organic solvents can be used alone or in combination of two or more.

低屈折率層は、前記(a)〜(c)からなる群から選ばれる金属酸化物複合体、および無機微粒子の少なくとも一種を含有してなる組成物(以下、「コーティング用組成物」ということがある。)を、基材フィルム上に塗工し、必要に応じて乾燥・加熱処理を施すことにより形成することができる。   The low refractive index layer is a composition containing a metal oxide composite selected from the group consisting of the above (a) to (c) and at least one kind of inorganic fine particles (hereinafter referred to as “coating composition”). Can be formed on the base film and, if necessary, dried and heat-treated.

前記コーティング用組成物は、基材フィルム表面に塗布して塗膜を形成すること、また、マトリクス形成材料の少なくとも部分的な加水分解が起こるのが好ましい場合があることから、水または水と他の有機溶剤との混合物を含むのが好ましい。   The coating composition may be applied to the surface of the base film to form a coating film, and it may be preferable that at least partial hydrolysis of the matrix-forming material occurs. It is preferable to contain a mixture with an organic solvent.

用いる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール(IPA)、n−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体;ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体;ジアセトンアルコール;およびこれらの2種以上からなる組み合わせ;等の親水性有機溶剤が挙げられる。   Examples of the organic solvent to be used include lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol (IPA), n-butanol, and isobutanol; ethylene glycol derivatives such as ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, and ethylene glycol monoethyl ether acetate. And hydrophilic organic solvents such as diethylene glycol derivatives such as diethylene glycol and diethylene glycol monobutyl ether; diacetone alcohol; and combinations of two or more thereof.

また、前記親水性有機溶剤と併用して、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;メチルエチルケトオキシム等のオキシム類;およびこれらの2種以上からなる組み合わせ;等を使用することができる。   In combination with the hydrophilic organic solvent, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; methyl ethyl ketone and methyl Ketones such as isobutyl ketone; oximes such as methyl ethyl ketoxime; and combinations of two or more of these; and the like can be used.

前記コーティング用組成物は、上記(a)および(b)の化合物を含む場合、硬化触媒を含むのが好ましい。これによって、コーティング用組成物を基材フィルム表面に塗布して塗膜を形成して乾燥する際に、縮合反応が促進されて被膜中の架橋密度が高くなり、被膜の耐水性及び耐アルカリ性を向上させることができる効果を得ることができる。   When the coating composition contains the compounds (a) and (b), it preferably contains a curing catalyst. As a result, when the coating composition is applied to the surface of the substrate film to form a coating film and dried, the condensation reaction is promoted to increase the crosslinking density in the coating film, thereby improving the water resistance and alkali resistance of the coating film. The effect which can be improved can be acquired.

用いる硬化触媒としては、Tiキレート化合物、Zrキレート化合物等の金属キレート化合物;有機酸等が挙げられる。   Examples of the curing catalyst to be used include metal chelate compounds such as Ti chelate compounds and Zr chelate compounds; organic acids and the like.

前記コーティング用組成物は、公知のシランカップリング剤を更に含んでいてもよい。シランカップリング剤を含むことによって、前記コーティング用組成物を用いて基材フィルム上に低屈折率層を形成する場合、基材フィルムと低屈折率層との間の密着性が向上する場合がある。   The coating composition may further contain a known silane coupling agent. When the low refractive index layer is formed on the base film using the coating composition by including the silane coupling agent, the adhesion between the base film and the low refractive index layer may be improved. is there.

基材フィルム上にコーティング用組成物を塗工する方法は特に制限されず、公知の塗工法を採用することができる。塗工法としては、ワイヤバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法等が挙げられる。   A method for coating the coating composition on the base film is not particularly limited, and a known coating method can be employed. Examples of the coating method include a wire bar coating method, a dip method, a spray method, a spin coating method, and a roll coating method.

コーティング用組成物を塗工するときの温度は、通常10〜40℃、好ましくは20〜30℃であり、相対湿度は、通常10〜80%、好ましくは40〜70%である。   The temperature at which the coating composition is applied is usually 10 to 40 ° C., preferably 20 to 30 ° C., and the relative humidity is usually 10 to 80%, preferably 40 to 70%.

コーティング用組成物を塗工することにより塗工層を得、その後、該塗工層を乾燥する場合は、乾燥温度20〜130℃、相対湿度0〜80%の条件で乾燥することが好ましく、該塗工層中に残留する溶剤量が5重量%になるまで乾燥温度20〜80℃、相対湿度0〜80%の条件で乾燥し、次いで塗工層中に残留する溶剤量が5重量%未満になったら乾燥温度80〜130℃、相対湿度0〜20%の条件で乾燥することがより好ましい。
得られる低屈折率層の厚みは、通常10〜1000nm、好ましくは50〜500nmである。
When a coating layer is obtained by coating the coating composition, and then the coating layer is dried, it is preferably dried under conditions of a drying temperature of 20 to 130 ° C. and a relative humidity of 0 to 80%. Drying is performed at a drying temperature of 20 to 80 ° C. and a relative humidity of 0 to 80% until the amount of solvent remaining in the coating layer reaches 5% by weight, and then the amount of solvent remaining in the coating layer is 5% by weight. If it becomes less than it, it is more preferable to dry on conditions with a drying temperature of 80-130 degreeC, and a relative humidity of 0-20%.
The thickness of the obtained low refractive index layer is usually 10 to 1000 nm, preferably 50 to 500 nm.

低屈折率層の屈折率は、1.25〜1.37であり、好ましくは1.25〜1.36、特に好ましくは1.25〜1.35である。
低屈折率層の屈折率が1.25未満では、低屈折率層の強度が弱く、偏光板保護フィルムとして求められる所望の耐擦傷性が得られなくなるおそれがある。一方、1.37を越えると、所望の反射防止効果が得られなくなるおそれがある。
屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメータを用いて測定して求めることができる。
The refractive index of the low refractive index layer is 1.25 to 1.37, preferably 1.25 to 1.36, particularly preferably 1.25 to 1.35.
When the refractive index of the low refractive index layer is less than 1.25, the strength of the low refractive index layer is weak, and the desired scratch resistance required as a polarizing plate protective film may not be obtained. On the other hand, if it exceeds 1.37, the desired antireflection effect may not be obtained.
The refractive index can be obtained by measuring using, for example, a known spectroscopic ellipsometer.

また、該低屈折率層の反射率は、通常0.5%以下、好ましくは0.3%である。反射率は、例えば、公知の分光光度計を用い、所定の入射角における反射スペクトルを測定し、波長550nmにおける反射率として求めることができる。   Further, the reflectance of the low refractive index layer is usually 0.5% or less, preferably 0.3%. The reflectance can be obtained as a reflectance at a wavelength of 550 nm by measuring a reflection spectrum at a predetermined incident angle using, for example, a known spectrophotometer.

本発明の偏光板保護フィルムは、低屈折率層を保護し、かつ、防汚性能を高めるために、低屈折率層上に防汚層をさらに形成することができる。   The polarizing plate protective film of the present invention can further form an antifouling layer on the low refractive index layer in order to protect the low refractive index layer and enhance the antifouling performance.

防汚層の形成材料としては、低屈折率層の機能が阻害されず、防汚層としての要求性能が満たされる限り特に制限はない。通常、疎水基を有する化合物を好ましく使用できる。具体的な例としてはパーフルオロアルキルシラン化合物、パーフルオロポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用することができる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法;CVD等の化学的気相成長法;湿式コーティング法;等を用いることができる。 防汚層の厚みは特に制限はないが、通常20nm以下が好ましく、1〜10nmであるのがより好ましい。   The material for forming the antifouling layer is not particularly limited as long as the function of the low refractive index layer is not inhibited and the required performance as the antifouling layer is satisfied. Usually, a compound having a hydrophobic group can be preferably used. As specific examples, a perfluoroalkylsilane compound, a perfluoropolyethersilane compound, or a fluorine-containing silicone compound can be used. As the method for forming the antifouling layer, for example, a physical vapor deposition method such as vapor deposition or sputtering; a chemical vapor deposition method such as CVD; a wet coating method; The thickness of the antifouling layer is not particularly limited, but is usually preferably 20 nm or less, and more preferably 1 to 10 nm.

本発明の偏光板保護フィルムは、平均厚み50μm、大きさ100mm×100mmのフィルムに成形し、60℃、湿度95%の雰囲気下に500時間放置したときの反り率が1%以下であるのが好ましい。このような偏光板保護フィルムを使用する場合には、高湿度・高温下に長時間放置した場合であっても、反り率が1%以下と小さいものとなるので、基材フィルムと低屈折率層との密着性、及び他のフィルムと貼り合わせるときの加工性に優れる。   The polarizing plate protective film of the present invention is formed into a film having an average thickness of 50 μm and a size of 100 mm × 100 mm, and has a warpage rate of 1% or less when left in an atmosphere of 60 ° C. and humidity of 95% for 500 hours. preferable. When such a polarizing plate protective film is used, even if it is left for a long time under high humidity and high temperature, the warping rate is as small as 1% or less, so the base film and the low refractive index Excellent adhesion to layers and processability when bonded to other films.

反り率は、具体的には次のようにして求めることができる。先ず、本発明の偏光板保護フィルム1を、平均厚み50μm、大きさ100mm×100mmの大きさに切断する。次に、これを、60℃、湿度95%の雰囲気下に500時間放置する。次いで、図1に示すように、試験後の偏光板保護フィルム1を水平な定盤2上に静置し、定盤面と定盤面から最も遠い部分の下側までの距離h(nm)をノギスで測定し、その距離の偏光板保護フィルムの長さ(100mm)に対する割合を反り率(%)として求める。すなわち、反り率(%)は、式:反り率(%)=h/100×100で求めることができる。なお、偏光板保護フィルム1を60℃、湿度95%の雰囲気下に500時間放置した場合、凸状に変形する場合と凹状に変形する場合があるが、いずれの場合にも、図1に示すように、試験後の偏光板保護フィルム1を下側が凸の状態になるように水平な定盤2上に置いて、距離(h)を測定する。   Specifically, the warpage rate can be obtained as follows. First, the polarizing plate protective film 1 of the present invention is cut into an average thickness of 50 μm and a size of 100 mm × 100 mm. Next, this is left in an atmosphere of 60 ° C. and 95% humidity for 500 hours. Next, as shown in FIG. 1, the polarizing plate protective film 1 after the test is allowed to stand on the horizontal surface plate 2, and the distance h (nm) from the surface plate surface to the lower side of the portion farthest from the surface plate surface is vernier caliper. And the ratio of the distance to the length (100 mm) of the polarizing plate protective film is obtained as the warpage rate (%). That is, the warpage rate (%) can be obtained by the formula: warpage rate (%) = h / 100 × 100. In addition, when the polarizing plate protective film 1 is left in an atmosphere of 60 ° C. and a humidity of 95% for 500 hours, it may be deformed into a convex shape or a concave shape. Thus, the polarizing plate protective film 1 after the test is placed on the horizontal surface plate 2 so that the lower side is convex, and the distance (h) is measured.

また、本発明の偏光板保護フィルムは、耐擦傷性に優れており、特に耐擦傷性が要求される液晶表示装置の偏光板保護フィルムとして有用である。
本発明の偏光板保護フィルムは、スチールウールに0.025MPaの荷重をかけた状態で偏光板保護フィルムの表面を10回擦る試験(スチールウール試験)後であっても、目視観察において、フィルム表面には全く傷が認められない。
Further, the polarizing plate protective film of the present invention is excellent in scratch resistance, and is particularly useful as a polarizing plate protective film for liquid crystal display devices that require scratch resistance.
The polarizing plate protective film of the present invention is a film surface in visual observation even after a test (steel wool test) in which the surface of the polarizing plate protective film is rubbed 10 times with a load of 0.025 MPa applied to steel wool. There are no scratches.

本発明の偏光板保護フィルムは、前記スチールウール試験前後の全光線透過率の変化は極めて小さい。ここで、全光線透過率の変化率(%)=(試験前後の全光線透過率の変化量)/(試験前の全光線透過率)×100で定義すると、本発明の偏光板保護フィルムの全光線透過率の変化率は1%以下であるのが好ましい。   In the polarizing plate protective film of the present invention, the change in the total light transmittance before and after the steel wool test is extremely small. Here, change rate of total light transmittance (%) = (change amount of total light transmittance before and after test) / (total light transmittance before test) × 100. The change rate of the total light transmittance is preferably 1% or less.

また、本発明の偏光板保護フィルムは、前記スチールウール試験前後のヘイズ値の変化は極めて小さい。ここで、ヘイズの変化率(%)=(試験前後のヘイズの変化量)/(試験前のヘイズ)×100で定義すると、本発明の偏光板保護フィルムのヘイズの変化率は15%以下であるのが好ましい。   In the polarizing plate protective film of the present invention, the change in haze value before and after the steel wool test is extremely small. Here, haze change rate (%) = (haze change amount before and after test) / (haze before test) × 100, the haze change rate of the polarizing plate protective film of the present invention is 15% or less. Preferably there is.

本発明の偏光板保護フィルムの層構成例を図2に示す。図2に示す偏光板保護フィルム20は、基材フィルム10上に形成されたハードコート層12を有し、該ハードコート層12上に中空微粒子14aを含有する低屈折率層14が積層された構造を有している。本発明の偏光板保護フィルムは図2に示すものに限定されず、少なくとも基材フィルム上に低屈折率層を有するものであればよい。例えば、基材フィルム上に直接低屈折率層が形成された構成のものであってもよい。   The layer structural example of the polarizing plate protective film of this invention is shown in FIG. A polarizing plate protective film 20 shown in FIG. 2 has a hard coat layer 12 formed on a base film 10, and a low refractive index layer 14 containing hollow fine particles 14 a is laminated on the hard coat layer 12. It has a structure. The polarizing plate protective film of this invention is not limited to what is shown in FIG. 2, What is necessary is just to have a low refractive index layer at least on a base film. For example, the thing of the structure by which the low-refractive-index layer was directly formed on the base film may be sufficient.

本発明の偏光板保護フィルムは、例えば、携帯電話、デジタル情報端末、ポケットベル(登録商標)、ナビゲーション、車載用液晶ディスプレイ、液晶モニター、調光パネル、OA機器用ディスプレイ、AV機器用ディスプレイ等の各種液晶表示素子;タッチパネル等の偏光板の保護フィルムとして有用である。   The polarizing plate protective film of the present invention is, for example, a mobile phone, a digital information terminal, a pager (registered trademark), navigation, a liquid crystal display for vehicle use, a liquid crystal monitor, a light control panel, a display for OA equipment, a display for AV equipment, etc. Various liquid crystal display elements; useful as protective films for polarizing plates such as touch panels.

3)反射防止機能付偏光板
本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の偏光板保護フィルムを偏光板の保護フィルムの内、視認側に用いたことを特徴とする。
3) Polarizing plate with antireflection function The polarizing plate with antireflection function of the present invention is characterized in that the polarizing plate protective film of the present invention is used on the viewing side of the protective film of the polarizing plate.

偏光板としては、偏光板としての機能を有するものであれば、特に限定はされない。例えば、ポリビニルアルコール(PVA)系やポリエン系の偏光板が挙げられる。   The polarizing plate is not particularly limited as long as it has a function as a polarizing plate. For example, a polyvinyl alcohol (PVA) -based or polyene-based polarizing plate can be used.

偏光板の製造方法は特に限定されない。PVA系の偏光板を製造する方法としては、PVA系フィルムにヨウ素イオンを吸着させた後に一軸に延伸する方法、PVA系フィルムを一軸に延伸した後にヨウ素イオンを吸着させる方法、PVA系フィルムへのヨウ素イオン吸着と一軸延伸とを同時に行う方法、PVA系フィルムを二色性染料で染色した後に一軸に延伸する方法、PVA系フィルムを一軸に延伸した後に二色性染料で吸着する方法、PVA系フィルムへの二色性染料での染色と一軸延伸とを同時に行う方法が挙げられる。また、ポリエン系の偏光板を製造する方法としては、PVA系フィルムを一軸に延伸した後に脱水触媒存在下で加熱・脱水する方法、ポリ塩化ビニル系フィルムを一軸に延伸した後に脱塩酸触媒存在下で加熱・脱水する方法等の公知の方法が挙げられる。   The manufacturing method of a polarizing plate is not specifically limited. As a method of manufacturing a PVA-based polarizing plate, a method of stretching uniaxially after iodine ions are adsorbed on a PVA-based film, a method of adsorbing iodine ions after stretching a uniaxially stretched PVA-based film, A method of simultaneously performing iodine ion adsorption and uniaxial stretching, a method of stretching a uniaxial film after dyeing a PVA film with a dichroic dye, a method of stretching a uniaxial film and then adsorbing with a dichroic dye, a PVA system The method of performing simultaneously dyeing | staining with a dichroic dye and uniaxial stretching to a film is mentioned. In addition, as a method for producing a polyene-based polarizing plate, a method of heating and dehydrating in the presence of a dehydration catalyst after stretching a PVA-based film uniaxially, and in the presence of a dehydrochlorination catalyst after stretching a polyvinyl chloride-based film uniaxially. And publicly known methods such as heating and dehydrating.

本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の偏光板保護フィルムの基材フィルムの低屈折率層が設けられていない側の一面に、偏光板を積層することにより製造することができる。   The polarizing plate with an antireflection function of the present invention can be produced by laminating a polarizing plate on one surface of the base film of the polarizing plate protective film of the present invention where the low refractive index layer is not provided.

偏光板保護フィルムと偏光板との積層は、接着剤や粘着剤等の適宜な接着手段を用いて貼り合わせることができる。接着剤又は粘着剤としては、例えば、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性や透明性等の観点から、アクリル系のものの使用が好ましい。   Lamination | stacking with a polarizing plate protective film and a polarizing plate can be bonded together using appropriate adhesion means, such as an adhesive agent and an adhesive. Examples of the adhesive or pressure-sensitive adhesive include acrylic, silicone, polyester, polyurethane, polyether, rubber, and the like. Among these, from the viewpoint of heat resistance and transparency, it is preferable to use an acrylic material.

本発明の反射防止機能付偏光板においては、偏光板の本発明の偏光板保護フィルムが積層されていない方の面に、接着剤又は粘着剤層を介して、保護フィルムが積層されていてもよい。保護フィルムとしては、光学異方性が低い材料からなるものが好ましい。光学異方性が低い材料としては、特に制限されず、例えばトリアセチルセルロース等のセルロースエステルや脂環式構造含有重合体樹脂等が挙げられるが、透明性、低複屈折性、寸法安定性等に優れる点から脂環式構造含有重合体樹脂が好ましい。脂環式構造含有重合体樹脂としては、前記基材フィルムの説明部分で記載したものと同様のものが挙げられる。接着剤又は粘着剤としては、偏光板保護フィルムと偏光板との積層に用いる接着剤又は粘着剤と同様のものが挙げられる。   In the polarizing plate with an antireflection function of the present invention, a protective film may be laminated via an adhesive or an adhesive layer on the surface of the polarizing plate on which the polarizing plate protective film of the present invention is not laminated. Good. As a protective film, what consists of material with low optical anisotropy is preferable. The material having low optical anisotropy is not particularly limited, and examples thereof include cellulose esters such as triacetyl cellulose and alicyclic structure-containing polymer resins. However, transparency, low birefringence, dimensional stability, etc. From the standpoint of superiority, an alicyclic structure-containing polymer resin is preferred. Examples of the alicyclic structure-containing polymer resin include those described in the explanation part of the base film. Examples of the adhesive or pressure-sensitive adhesive include those similar to the adhesive or pressure-sensitive adhesive used for laminating the polarizing plate protective film and the polarizing plate.

本発明の反射防止機能付偏光板の層構成断面図を図3に示す。図3に示す反射防止機能付偏光板30は、本発明の偏光板保護フィルム20の低屈折率層14が設けられていない面側に、接着剤又は粘着剤層16を介して、偏光板18が積層され、さらに偏光板18の視認側となる面側には、接着剤又は粘着剤層16を介して、保護フィルム10aが積層された構造を有している。   FIG. 3 shows a sectional view of the layer structure of the polarizing plate with antireflection function of the present invention. The polarizing plate 30 with an antireflection function shown in FIG. 3 has a polarizing plate 18 on the surface side of the polarizing plate protective film 20 of the present invention on which the low refractive index layer 14 is not provided, with an adhesive or pressure-sensitive adhesive layer 16 interposed therebetween. Is further laminated, and the protective film 10a is laminated on the surface side that is the viewing side of the polarizing plate 18 with an adhesive or pressure-sensitive adhesive layer 16 interposed therebetween.

本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の偏光板保護フィルムを用いているので、高温・高湿度の環境下に長時間置かれた場合であっても、全体に反りや変形、歪み等が生じ難い構造の偏光板となっている。また、層間密着性に優れており、高温、高湿度下に長時間置かれた場合であっても、層間剥離等が起こることがない。   Since the polarizing plate with an antireflection function of the present invention uses the polarizing plate protective film of the present invention, even when it is placed in a high temperature / high humidity environment for a long time, it is warped, deformed or distorted as a whole. Thus, the polarizing plate has a structure in which, for example, it is difficult to occur. Moreover, it is excellent in interlayer adhesion, and even when it is left for a long time under high temperature and high humidity, delamination does not occur.

4)光学製品
本発明の光学製品は、本発明の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする。本発明の光学製品の好ましい具体例としては、液晶表示装置、タッチパネル等が挙げられる。
4) Optical product The optical product of the present invention includes the polarizing plate with an antireflection function of the present invention. Preferable specific examples of the optical product of the present invention include a liquid crystal display device and a touch panel.

本発明の反射防止機能付偏光板を備える光学製品の一例として、本発明の反射防止機能付偏光板を備える液晶表示装置の層構成例を図4に示す。図4に示す液晶表示装置は、下から順に、偏光板40、位相差板50、液晶セル60、及び本発明の反射防止機能付偏光板30からなる。反射防止機能付偏光板30は、液晶セル60上に、図示を省略する接着剤又は粘着剤層を介して、偏光板面と貼り合わせて形成されている。液晶セル60は、例えば図5に示すように、透明電極70を備えた電極基板80の2枚をそれぞれ透明電極70が対向する状態で所定の間隔をあけて配置するとともに、その間隙に液晶90を封入することにより作製される。図5中、100はシールである。   As an example of an optical product including the polarizing plate with antireflection function of the present invention, FIG. 4 shows a layer configuration example of a liquid crystal display device including the polarizing plate with antireflection function of the present invention. The liquid crystal display device shown in FIG. 4 includes a polarizing plate 40, a retardation plate 50, a liquid crystal cell 60, and the polarizing plate 30 with an antireflection function of the present invention in order from the bottom. The polarizing plate 30 with an antireflection function is formed on the liquid crystal cell 60 by being bonded to the polarizing plate surface via an adhesive or pressure-sensitive adhesive layer (not shown). In the liquid crystal cell 60, for example, as shown in FIG. 5, two electrode substrates 80 each having a transparent electrode 70 are arranged at a predetermined interval with the transparent electrodes 70 facing each other, and a liquid crystal 90 is disposed in the gap. It is produced by enclosing. In FIG. 5, 100 is a seal.

液晶90の液晶モードは特に限定されない。液晶モードとしては、例えば、TN(Twisted Nematic)型、STN(Super Twisted Nematic)型、IPS(In−Plane Switching)型、VA(Vertical Alignment)型、MVA(Multi−Domain Vertical Alignment)型、HAN(Hybrid Aligned Nematic)型、OCB(Optical Compensated Bend)型等が挙げられる。   The liquid crystal mode of the liquid crystal 90 is not particularly limited. As the liquid crystal mode, for example, a TN (twisted nematic) type, an STN (super twisted nematic) type, an IPS (in-plane switching) type, a VA (vertical alignment) type, an MVA (multi-domain angry type) Examples include a Hybrid Aligned Nematic type and an OCB (Optical Compensated Bend) type.

また、図4に示す液晶表示装置は、印加電圧が低い時に明表示、高い時に暗表示であるノーマリーホワイトモードでも、印加電圧が低い時に暗表示、高い時に明表示であるノーマリーブラックモードでも用いることができる。   In addition, the liquid crystal display device shown in FIG. 4 has a normally white mode that is bright when the applied voltage is low, a dark display when the applied voltage is high, a dark display when the applied voltage is low, and a normally black mode that is bright when the applied voltage is high. Can be used.

本発明の光学製品は、高温・高湿度下での使用における変形や応力が生じることがなく耐久性に優れる本発明の反射防止機能付偏光板を備える。従って、高温・高湿度下で長時間にわたって使用する場合であっても、表示パネル端部の色抜けや、表示パネル面内の色相のバラツキ等がないものである。   The optical product of the present invention includes the polarizing plate with an antireflection function of the present invention that is excellent in durability without causing deformation or stress in use under high temperature and high humidity. Therefore, even when used for a long time under high temperature and high humidity, there is no color loss at the end of the display panel, hue variation within the display panel surface, or the like.

次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples. The present invention is not limited to the following examples.

(1)屈折率
高速分光エリプソメーター(J.A.Woollam社製、M−2000U)を用いて、測定波長245〜1000nm、入射角55度、60度及び65度で測定し、その測定値をもとに算出した。
(1) Refractive index Using a high-speed spectroscopic ellipsometer (manufactured by JA Woollam, M-2000U), measurement is performed at a measurement wavelength of 245 to 1000 nm, incident angles of 55 degrees, 60 degrees, and 65 degrees. Based on calculations.

(2)反射率
分光高度計(日本分光(株)製、紫外可視近赤外分光光度計 V−570)を用い、入射角5度にて反射スペクトルを測定し、波長550nmにおける反射率を求めた。
(2) Reflectance Using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, UV-visible near-infrared spectrophotometer V-570), the reflection spectrum was measured at an incident angle of 5 degrees, and the reflectance at a wavelength of 550 nm was determined. .

(3)耐擦傷性
スチールウール試験
スチールウール#0000に荷重0.025MPaをかけた状態で偏光板保護フィルムの表面を10回擦る操作を行った(以下、これを「スチール試験」という。)。そして以下の(i)および(ii)の評価を行った。
(i)スチール試験後のフィルムの外観
スチール試験後のフィルムの表面の傷つき具合を目視観察し、以下の評価基準で評価した。
◎:傷は認められない。
○:注意深く見るとわずかに弱い傷が見える。
×:傷が認められる。
(3) Scratch resistance Steel wool test An operation of rubbing the surface of the polarizing plate protective film 10 times in a state where a load of 0.025 MPa was applied to steel wool # 0000 (hereinafter referred to as "steel test") was performed. The following (i) and (ii) were evaluated.
(I) Appearance of film after steel test The degree of damage on the surface of the film after the steel test was visually observed and evaluated according to the following evaluation criteria.
(Double-circle): A crack is not recognized.
○: Slightly weak scratches can be seen when looking carefully.
X: Scratches are observed.

(ii)スチール試験前後の全光線透過率及びへイズの変化(ASTM D1003準拠)
日本電色工業(株)製「濁度計 NDH−300A」を用いて、ASTM D1003を準拠して行った。サンプル数5個について行った。
(Ii) Change in total light transmittance and haze before and after steel test (according to ASTM D1003)
Using “Durbidity Meter NDH-300A” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., it was performed according to ASTM D1003. This was carried out for 5 samples.

(4)偏光板保護フィルムの反り率(変形)
図1に示すように、100mm×100mmの試験片を60℃、95RH%で500時間放置した後に、下に凸の状態になる向きに水平な定盤上に置き、定盤面と定盤面から最も遠い部分の下側までの距離h(mm)をノギスで測定し、その距離のサンプルの長さに対する割合を反り率(%)とした。すなわち、反り率(%)=h/100×100となる。その際、成膜側に凸の反りの場合、反り率をプラス値とし、成膜側に凹の反りの場合、反り率をマイナス値として表した。
(4) Warpage rate (deformation) of polarizing plate protective film
As shown in FIG. 1, after leaving a test piece of 100 mm × 100 mm at 60 ° C. and 95 RH% for 500 hours, place the test piece on a horizontal surface plate in a direction in which it protrudes downward. The distance h (mm) to the lower side of the far part was measured with a caliper, and the ratio of the distance to the length of the sample was defined as the warpage rate (%). That is, the warpage rate (%) = h / 100 × 100. At that time, in the case of a convex warp on the film forming side, the warping rate was expressed as a positive value, and in the case of a concave warp on the film forming side, the warping rate was expressed as a negative value.

ノルボルネン系重合体(ノルボルネン系単量体の開環共重合体の水素化物、日本ゼオン(株)製、商品名:ZEONOR 1430、ガラス転移温度(Tg)=145℃)100重量部に対して、0.2重量部のフェノール系老化防止剤ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−ターシャリーブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕とを混合し、二軸混練機で混練し、ストランド(棒状の溶融樹脂)をストランドカッターを通してペレット(粒状)状の成形材料を得た。   For 100 parts by weight of norbornene-based polymer (hydrogenated ring-opening copolymer of norbornene-based monomer, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., trade name: ZEONOR 1430, glass transition temperature (Tg) = 145 ° C.), 0.2 parts by weight of a phenolic antioxidant pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-tertiarybutyl-4-hydroxyphenyl) propionate] was mixed and kneaded in a twin-screw kneader, A strand (rod-shaped molten resin) was passed through a strand cutter to obtain a pellet (granular) shaped molding material.

上記で得たペレットを、空気を流通させた熱風乾燥機を用いて110℃で、4時間乾燥した。そしてこのペレットを、リーフディスク形状のポリマーフィルター(ろ過精度30μm)を設置した65mmφのスクリューを備えた樹脂溶融混練機を有するTダイ式フィルム溶融押出し成形機を使用し、内面に表面粗さRa=0.15μmのクロムメッキを施した350mm幅のT型ダイスを用いて溶融樹脂温度260℃及びダイス温度260℃で押出し、押出されたシート状のノルボルネン系重合体を、第1冷却ドラム(直径250mm、温度:135℃、周速度R:10.05m/分)に密着させ、次いで第2冷却ドラム(直径250mm、温度:125℃、周速度R:10.05m/分)、次いで第3冷却ドラム(直径250mm、温度:100℃、周速度R:9.98m/分)に順次密着させて移送し、長さ300m、膜厚40μmの基材フィルム1Aを押出成形した。得られた長尺の基材フィルム1Aは、ロール状に巻き取った。また、この基材フィルム1Aの揮発性成分の含有量は0.01重量%以下、飽和吸水率は0.01重量%以下であった。The pellets obtained above were dried at 110 ° C. for 4 hours using a hot air dryer in which air was circulated. The pellets were then used in a T-die film melt extrusion machine having a resin melt kneader equipped with a 65 mmφ screw equipped with a leaf disk-shaped polymer filter (filtration accuracy 30 μm), and the surface roughness Ra = The sheet-shaped norbornene-based polymer was extruded using a 350 mm wide T-shaped die having a chromium plating of 0.15 μm at a molten resin temperature of 260 ° C. and a die temperature of 260 ° C. , Temperature: 135 ° C., circumferential speed R 1 : 10.05 m / min), then second cooling drum (diameter 250 mm, temperature: 125 ° C., circumferential speed R 2 : 10.05 m / min), then third cooling drum (diameter 250 mm, temperature: 100 ° C., circumferential speed R 3: 9.98m / min) were sequentially close contact with transported, length 300 meters, film The substrate film 1A of 40μm was extruded. The obtained long base film 1A was wound up in a roll shape. Moreover, content of the volatile component of this base film 1A was 0.01 weight% or less, and the saturated water absorption was 0.01 weight% or less.

(ハードコート剤1の調製)
6官能ウレタンアクリレートオリゴマー(新中村化学(株)製、商品名「NKオリゴ U−6HA」)30部、ブチルアクリレート40部、イソボロニルメタクリレート(新中村化学(株)製、商品名「NKエステル IB」)30部、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン10部をホモジナイザーで混合して紫外線硬化性樹脂組成物からなるハードコート剤1を調製した。
(Preparation of hard coat agent 1)
Hexafunctional urethane acrylate oligomer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name “NK Oligo U-6HA”) 30 parts, butyl acrylate 40 parts, isobornyl methacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name “NK ester” IB ") 30 parts and 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one 10 parts were mixed with a homogenizer to prepare a hard coat agent 1 comprising an ultraviolet curable resin composition.

(ハードコート剤2の調製)
五酸化アンチモンの変性アルコールゾル(固形分濃度30重量%、触媒化成社製)100重量部に、紫外線硬化型ウレタンアクリレート(日本合成化学社製、商品名「紫光UV7000B」)10重量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティケミカルズ社製、商品名「イルガキュアー184」0.4重量部を混合し、紫外線硬化型のハードコート剤2を調製した。
(Preparation of hard coating agent 2)
Antimony pentoxide modified alcohol sol (solid content 30% by weight, manufactured by Catalytic Chemical Co., Ltd.) 100 parts by weight, UV curable urethane acrylate (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name “purple light UV7000B”), 10 parts by weight, photopolymerization An initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name “Irgacure 184” 0.4 parts by weight was mixed to prepare an ultraviolet curable hard coat agent 2.

(製造例1)ハードコート層積層フィルム2Aの製造
上記で得た基材フィルム1Aの両面に、高周波発信機(コレナジェネレーター HV05−2、Tamec社製)を用いて、出力電圧100%、出力250Wで、直径1.2mmのワイヤー電極で、電極長240mm、ワーク電極間1.5mmの条件で3秒間コロナ放電処理を行い、表面張力が0.072N/mとなるように表面改質した。この上に前記ハードコート剤1を、硬化後のハードコート層の膜厚が5μmとなるように、ダイコーターを用いて連続的に塗布した。次いで、80℃で5分間乾燥させた後、紫外線照射(積算光量300mJ/cm)を行い、ハードコート剤を硬化させ、ハードコート層積層フィルム2Aを得た。
(Manufacture example 1) Manufacture of hard-coat layer laminated | multilayer film 2A On both surfaces of the base film 1A obtained above, using a high frequency transmitter (Corena generator HV05-2, the product of Tamec), output voltage 100%, output Corona discharge treatment was performed for 3 seconds under the conditions of 250 W, a wire electrode having a diameter of 1.2 mm, an electrode length of 240 mm, and a work electrode distance of 1.5 mm, and the surface was modified so that the surface tension was 0.072 N / m. The hard coat agent 1 was continuously applied thereon using a die coater so that the thickness of the hard coat layer after curing was 5 μm. Subsequently, after drying at 80 degreeC for 5 minute (s), ultraviolet irradiation (integrated light quantity 300mJ / cm < 2 >) was performed, the hard-coat agent was hardened, and hard-coat layer laminated film 2A was obtained.

(製造例2)ハードコート層積層フィルム2Bの製造
厚さ40μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(基材フィルム1B、コニカ・ミノルタ(株)製、KC4UX2M,Tg=120℃、飽和吸水率=4.5重量%、揮発成分の含有量=6.0重量%)を用いたほかは製造例1と同様にして、ハードコート層積層フィルム2Bを得た。
(Production Example 2) Production of hard coat layer laminated film 2B Triacetyl cellulose (TAC) film having a thickness of 40 μm (base film 1B, manufactured by Konica Minolta, KC4UX2M, Tg = 120 ° C., saturated water absorption = 4 Hard coat layer laminated film 2B was obtained in the same manner as in Production Example 1, except that 0.5 wt% and volatile component content = 6.0 wt% were used.

(製造例3)ハードコート層積層フィルム2Cの製造
厚さ40μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(基材フィルム1C、東レ(株)製、ルミラーT60)を用いたほかは、製造例1と同様にして、ハ−ドコート層積層フィルム2Cを得た。
(Production Example 3) Production of hard coat layer laminated film 2C In the same manner as in Production Example 1, except that a polyethylene terephthalate film (base film 1C, manufactured by Toray Industries, Inc., Lumirror T60) having a thickness of 40 μm was used. -Coated layer laminated film 2C was obtained.

(製造例4)コーティング用組成物1の調製
テトタメトキシシランのオリゴマー(コルコート(株)製、メチルシリケート51)と、メタノール、水、0.01Nの塩酸水溶液を質量比21:36:2:2で混合し、これを25℃の高湿槽中で2時間撹拌して、重量平均分子量を850に調整したシリコーンレジンを得た。次に、中空シリカ微粒子として中空シリカイソプロパノール分散ゾル(触媒化成(株)製、固形分20重量%、平均一次粒子径約35nm、外殻厚み約8nm)を前記シリコーンレジンに加え、中空シリカ微粒子/シリコーンレジン(縮合化合物換算)が固形分基準で重量比が7:3となるように配合し、その後、全固形分が1重量%となるようにメタノールで希釈し、コーティング用組成物1を得た。
Production Example 4 Preparation of Coating Composition 1 A mass ratio of 21: 36: 2: 2 of an oligomer of tetotamethoxysilane (manufactured by Colcoat Co., Ltd., methyl silicate 51), methanol, water, and 0.01N hydrochloric acid aqueous solution. The mixture was stirred for 2 hours in a high-humidity bath at 25 ° C. to obtain a silicone resin having a weight average molecular weight adjusted to 850. Next, hollow silica isopropanol dispersion sol (manufactured by Catalyst Kasei Co., Ltd., solid content 20% by weight, average primary particle diameter of about 35 nm, outer shell thickness of about 8 nm) is added to the silicone resin as hollow silica fine particles, A silicone resin (condensed compound equivalent) is blended so that the weight ratio is 7: 3 based on the solid content, and then diluted with methanol so that the total solid content is 1% by weight, to obtain a coating composition 1 It was.

(製造例5)コーティング用組成物2の調製
中空シリカ微粒子/シリコーンレジン(縮合化合物換算)が固形分基準で重量比が8:2となるように配合し、更に、外殻の内部に空洞が形成されていないシリカ微粒子としてシリカメタノール(日産化学工業(株)製、PMA−ST、平均粒子径10〜20nm)を用い、これをコーティング用組成物の全固形分に対してSiO換算固形分で5%添加するようにしたほかは、コーティング用組成物1の調製と同様にしてコーティング用組成物2を調製した。
(Production Example 5) Preparation of Coating Composition 2 Hollow silica fine particles / silicone resin (condensation compound equivalent) were blended so that the weight ratio was 8: 2 on a solid content basis, and there was a cavity inside the outer shell. Silica methanol (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., PMA-ST, average particle diameter of 10 to 20 nm) is used as the silica fine particles that are not formed, and this is used as the solid content in terms of SiO 2 with respect to the total solid content of the coating composition The coating composition 2 was prepared in the same manner as the coating composition 1 except that 5% was added.

(製造例6)シリコンアルコキシド溶液1の調製
テトラメトキシシランのオリゴマー(コルコート(株)製、メチルシリケート51)と、メタノールを質量比で47:71で混合してA液を調製した。また、水、アンモニア水(28重量%)、メタノールを重量比で60:1.2:97.2で混合してB液を調製した。そして、A液とB液を16:17の比で混合してシリコンアルコキシド溶液1を調製した。
(Production Example 6) Preparation of Silicon Alkoxide Solution 1 Liquid A was prepared by mixing tetramethoxysilane oligomer (manufactured by Colcoat Co., Ltd., methyl silicate 51) and methanol at a mass ratio of 47:71. In addition, liquid B was prepared by mixing water, aqueous ammonia (28 wt%), and methanol in a weight ratio of 60: 1.2: 97.2. And A liquid and B liquid were mixed by ratio of 16:17, and the silicon alkoxide solution 1 was prepared.

(製造例7)シリコンアルコキシド溶液2の調製
A液を調製する際、テトラメトキシシランのオリゴマーとメタノールを重量比47:79で混合するほかは、製造例6と同様にしてシリコンアルコキシド溶液2を調製した。
(Production Example 7) Preparation of Silicon Alkoxide Solution 2 Silicone alkoxide solution 2 was prepared in the same manner as in Production Example 6 except that when liquid A was prepared, an oligomer of tetramethoxysilane and methanol were mixed at a weight ratio of 47:79. did.

(実施例1)
製造例4で得られたコーティング用組成物1を、調製後1時間放置した後、この組成物1を、ハードコート層積層フィルム2A上にワイヤバーコーターによって塗工して厚さ約100nmの塗膜を形成し、さらに1時間放置して乾燥した後に、被膜を120℃で10分間空気中で熱処理して、硬化被膜が形成された偏光板保護フィルム3Aを得た。
Example 1
The coating composition 1 obtained in Production Example 4 was allowed to stand for 1 hour after preparation, and then the composition 1 was applied onto the hard coat layer laminated film 2A with a wire bar coater to give a coating having a thickness of about 100 nm. After forming a film and allowing it to stand for 1 hour to dry, the film was heat-treated in air at 120 ° C. for 10 minutes to obtain a polarizing plate protective film 3A on which a cured film was formed.

(実施例2)
製造例5で得られたコーティング用組成物2を用いたほかは実施例1と同様にして、硬化被膜が形成された偏光板保護フィルム3Bを得た。
(Example 2)
A polarizing plate protective film 3B on which a cured film was formed was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating composition 2 obtained in Production Example 5 was used.

(実施例3)
製造例2のハードコート積層フィルム2Bを用いたほかは実施例2と同様にして、硬化被膜が形成された偏光板保護フィルム3Cを得た。
(Example 3)
A polarizing plate protective film 3C on which a cured film was formed was obtained in the same manner as in Example 2 except that the hard coat laminated film 2B of Production Example 2 was used.

(実施例4)
製造例3のハードコート積層フィルム2Cを用いたほかは実施例2と同様にして、硬化被膜が形成された偏光板保護フィルム3Dを得た。
(実施例5)
ハードコート剤1の代わりにハードコート剤2を用いたほかは、実施例1と同様にして、硬化被膜が形成された偏光板保護フィルム3Eを得た。
(Example 4)
A polarizing plate protective film 3D on which a cured film was formed was obtained in the same manner as in Example 2 except that the hard coat laminated film 2C of Production Example 3 was used.
(Example 5)
A polarizing plate protective film 3E on which a cured film was formed was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hard coating agent 2 was used instead of the hard coating agent 1.

(比較例1)
製造例6で得られたシリコンアルコキシド溶液1を、混合開始後1分経過した時点で、製造例2のハードコート層積層フィルム2B上に滴下し、スピンコーティングした。スピンコーターの回転室はメタノール雰囲気になるようにしてあり、回転は700rpmで10秒行った。コーティングの後、1分15秒放置してシリコンアルコキシドがゲル化した薄膜を得た。
このゲル状薄膜を5分間、水と28%アンモニア水とメタノールを質量比で162:4:640で混合した組成の養生溶液中に浸漬し、室温で一昼夜養生した。さらにこの薄膜をヘキサメチルジシラザンの10%イソプロパノール溶液中に浸漬し、疎水化処理を行った。
次に、この疎水化処理したゲル状化合物をイソプロパノール中に浸漬することにより洗浄し、高圧容器に入れ、液化炭酸ガスで満たし、80℃、16MPa、2時間の条件で超臨界乾燥することによって、表面に膜厚100nmのシリカエアロゲル薄膜が形成された偏光板保護フィルム3Fを得た。
(Comparative Example 1)
The silicon alkoxide solution 1 obtained in Production Example 6 was dropped on the hard coat layer laminated film 2B of Production Example 2 after 1 minute from the start of mixing and spin-coated. The rotation chamber of the spin coater was in a methanol atmosphere, and rotation was performed at 700 rpm for 10 seconds. After coating, the film was left for 1 minute and 15 seconds to obtain a thin film in which silicon alkoxide was gelled.
This gel-like thin film was immersed in a curing solution having a composition in which water, 28% aqueous ammonia, and methanol were mixed at a mass ratio of 162: 4: 640 for 5 minutes, and then cured at room temperature all day and night. Furthermore, this thin film was immersed in a 10% isopropanol solution of hexamethyldisilazane to perform a hydrophobic treatment.
Next, this hydrophobized gel compound is washed by immersing it in isopropanol, placed in a high-pressure vessel, filled with liquefied carbon dioxide gas, and supercritically dried at 80 ° C., 16 MPa for 2 hours, A polarizing plate protective film 3F having a silica airgel thin film with a thickness of 100 nm formed on the surface was obtained.

(比較例2)
低屈折率層を形成する際に、製造例7で得られたシリコンアルコキシド溶液2を用いるほかは比較例1と同様にして偏光板保護フィルム3Gを得た。
(Comparative Example 2)
A polarizing plate protective film 3G was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the silicon alkoxide solution 2 obtained in Production Example 7 was used when forming the low refractive index layer.

上記で得た実施例1〜5の偏光板保護フィルム3A〜3E、及び比較例1,2の偏光板保護フィルム3F,3Gを使用して、低屈折率層、及びハードコート層の屈折率、反射率、スチール試験後のフィルムの外観、スチールウール試験前後における全光線透過率およびヘイズ、並びに反り率(%)を測定した。偏光板保護フィルム3A〜3Gについての測定結果を第1表にまとめた。   Using the polarizing plate protective films 3A to 3E of Examples 1 to 5 obtained above and the polarizing plate protective films 3F and 3G of Comparative Examples 1 and 2, the refractive index of the low refractive index layer and the hard coat layer, The reflectance, the appearance of the film after the steel test, the total light transmittance and haze before and after the steel wool test, and the warpage rate (%) were measured. The measurement results for the polarizing plate protective films 3A to 3G are summarized in Table 1.

Figure 2005064367
Figure 2005064367

第1表より、実施例1〜5の偏光板保護フィルム3A〜3Eは低屈折率層の屈折率が低く、反射率も小さいものであり、反射防止機能を有する光学フィルムとして有用であることが示唆される。
実施例1〜5の偏光板保護フィルム3A〜3Eは、スチールウール試験後の目視観察において表面に傷が全く認められず、スチールウール試験前後における全光線透過率およびヘイズ値の変化が小さいものであって、耐擦傷性に優れている。
また実施例1〜5の偏光板保護フィルム3A〜3Eは、フィルムの反り率も小さいものである。
From Table 1, the polarizing plate protective films 3A to 3E of Examples 1 to 5 have a low refractive index of the low refractive index layer and a low reflectance, and are useful as an optical film having an antireflection function. It is suggested.
In the polarizing plate protective films 3A to 3E of Examples 1 to 5, no scratches were observed on the surface by visual observation after the steel wool test, and the changes in the total light transmittance and the haze value before and after the steel wool test were small. And excellent in scratch resistance.
Moreover, the polarizing plate protective films 3A-3E of Examples 1-5 also have a small curvature rate of a film.

一方,比較例1の偏光板保護フィルム3Fは低屈折率層の屈折率が低く、反射率も小さいものであるが、スチールウール試験後において、ヘイズ値が大きくなっており、耐擦傷性に劣る。
また、比較例2の偏光板保護フィルム3Gは、スチールウール試験前後における全光線透過率およびヘイズ値の変化が小さく、耐擦傷性に優れているものの、低屈折率層の屈折率および反射率が大きく、反射防止機能に劣る。
On the other hand, the polarizing plate protective film 3F of Comparative Example 1 has a low refractive index and a low reflectance, but has a high haze value after the steel wool test and is inferior in scratch resistance. .
In addition, the polarizing plate protective film 3G of Comparative Example 2 has small changes in the total light transmittance and haze value before and after the steel wool test and excellent scratch resistance, but the refractive index and reflectance of the low refractive index layer are low. Large and inferior in antireflection function.

(実施例6〜10、比較例3,4)液晶表示素子の作製
(1)反射防止機能付偏光板の製造
重合度2400、厚さ75μmのポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素とヨウ化カリウム配合の40℃の染色浴に浸漬して染色処理を行った後、ホウ酸とヨウ化カリウムを添加した60℃の酸性浴中で総延伸倍率が5.3倍となるように延伸処理と架橋処理を行った。水洗処理した後、40℃で乾燥して、厚さ28μmの偏光板を得た。
(Examples 6 to 10, Comparative Examples 3 and 4) Production of liquid crystal display element (1) Production of polarizing plate with antireflection function Polyvinyl alcohol film having a polymerization degree of 2400 and a thickness of 75 μm was mixed with iodine and potassium iodide. After dipping in a dye bath at ℃ and dyeing treatment, in the acid bath at 60 ℃ with boric acid and potassium iodide added, stretch treatment and crosslinking treatment are performed so that the total draw ratio is 5.3 times. It was. After washing with water, it was dried at 40 ° C. to obtain a polarizing plate having a thickness of 28 μm.

実施例1で得た偏光板保護フィルム3Aの基材フィルム1A面側に、アクリル系接着剤(住友スリーエム社製、「DP−8005クリア」)を介して、上記偏光板を貼り合わせ、また偏光板のもう片方の面側に、アクリル系接着剤を介して、表面改質した基材フィルム1Aを貼り合わせて、図3に示すものと同様の層構成を有する反射防止機能付偏光板4Aを作製した。また、偏光板保護フィルム3B〜3Gを用いて同様の操作を行って、反射防止機能付偏光板4B〜4Gをそれぞれ得た。   The polarizing plate is bonded to the base film 1A surface side of the polarizing plate protective film 3A obtained in Example 1 via an acrylic adhesive (manufactured by Sumitomo 3M, "DP-8005 clear"), and polarized. A polarizing plate 4A with an antireflection function having the same layer structure as that shown in FIG. 3 is bonded to the other surface side of the plate with a surface-modified base film 1A via an acrylic adhesive. Produced. Moreover, the same operation was performed using polarizing plate protective film 3B-3G, and polarizing plate 4B-4G with an antireflection function was obtained, respectively.

(2)液晶表示素子の作製
プラスチックセル基板を使用した液晶表示セル(3インチ、プラスチック基板の厚さ400μm)を準備し、これのフロント側と、上記で得た反射防止機能付偏光板4A〜4Gの偏光板側とを貼り合わせた。また、もう1枚の偏光板を用意し、これをリア用として、液晶表示セルの反対面に貼り合わせて、液晶表示素子をそれぞれ作製した。この液晶表示素子を60℃、95%RHの環境下で500時間放置した後、照度33,000ルックス(Lux)のバックライトの上に置き、液晶セルのパネル端部の色抜けや、パネル面内の色相のばらつきを目視観察した。パネル端部付近での光漏れがなく、均一な黒表示が得られた場合を○、パネル端部付近で多少の光漏れが見られた場合を△、パネル端部から離れたところ(パネル面内)でも光漏れが見られ、色相のばらつきが見られた場合を×として評価した。評価結果を第2表に示す。
(2) Production of liquid crystal display element A liquid crystal display cell (3 inches, thickness of the plastic substrate 400 μm) using a plastic cell substrate is prepared, and the front side of the liquid crystal display cell and the polarizing plate 4A to 4 with antireflection function obtained above. The 4G polarizing plate side was bonded. Further, another polarizing plate was prepared, and this was used for the rear, and was bonded to the opposite surface of the liquid crystal display cell, thereby producing liquid crystal display elements. This liquid crystal display element is left in an environment of 60 ° C. and 95% RH for 500 hours and then placed on a backlight having an illuminance of 33,000 lux. The hue variation was visually observed. ○ when there is no light leakage near the edge of the panel and a uniform black display is obtained, △ when there is some light leakage near the edge of the panel, and when away from the panel edge (panel surface (Inside), light leakage was observed and hue variation was evaluated as x. The evaluation results are shown in Table 2.

Figure 2005064367
Figure 2005064367

第2表から、実施例6〜10の液晶表示素子は、高温・高湿度の環境下に長時間置かれた場合であっても、表示性能の低下が認められない。一方、比較例3,4の液晶表示素子は、高温・高湿度の環境下に長時間置かれた後にあっては、表示性能の低下が認められる。   From Table 2, the display performance of the liquid crystal display elements of Examples 6 to 10 is not deteriorated even when placed in a high temperature and high humidity environment for a long time. On the other hand, the liquid crystal display elements of Comparative Examples 3 and 4 show a decrease in display performance after being placed in a high temperature and high humidity environment for a long time.

本発明の偏光板保護フィルムは、反射防止層として有効な低屈折率層を有し、かつ、偏光板の保護フィルムとして十分な耐擦傷性を有している。また、偏光板との貼り合わせの際に問題となるフィルムの反り(変形)が少ないフィルムである。
本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の保護フィルムを偏光膜の保護フィルムの少なくとも一方に用いているので、優れた反射防止機能と耐擦傷性を兼ね備えている。また、保護フィルムと偏光板との貼り合わせの際に問題となる反り(変形)が少ないものである。
本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の偏光板保護フィルムを用いているので、高温・高湿度の環境下に長時間置かれた場合であっても、全体に反りや変形、歪み等が生じ難い構造の偏光板となっている。
The polarizing plate protective film of the present invention has a low refractive index layer that is effective as an antireflection layer, and has sufficient scratch resistance as a protective film for a polarizing plate. Moreover, it is a film with little warp (deformation) of a film which becomes a problem at the time of bonding with a polarizing plate.
Since the polarizing plate with antireflection function of the present invention uses the protective film of the present invention as at least one of the protective films of the polarizing film, it has both an excellent antireflection function and scratch resistance. Further, there is little warpage (deformation) that becomes a problem when the protective film and the polarizing plate are bonded together.
Since the polarizing plate with an antireflection function of the present invention uses the polarizing plate protective film of the present invention, even when it is placed in a high temperature / high humidity environment for a long time, it is warped, deformed or distorted as a whole. Thus, the polarizing plate has a structure in which, for example, it is difficult to occur.

Claims (10)

基材フィルムと、該基材フィルム上に形成された低屈折率層とを有する偏光板保護フィルムであって、
前記低屈折率層が、式(1):MX(式中、Mは金属原子又は半金属原子を表し、Xはハロゲン原子、置換基を有していてもよい一価の炭化水素基、酸素原子、有機酸根、β−ジケトナート基、無機酸根、アルコキシル基または水酸基を表し、nはMの原子価を表す。nが2以上のとき、Xは同一でも相異なっていてもよい。)で表される化合物、前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の部分加水分解生成物、および前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の完全加水分解生成物からなる群から選ばれる1種以上から形成された、分子中に、−(O−M)−O−(式中、Mは前記と同じ意味を表し、mは自然数を表す。)結合を有する金属酸化物複合体と、無機微粒子とを含有し、屈折率が1.25〜1.37の層であることを特徴とする偏光板保護フィルム。
A polarizing plate protective film having a base film and a low refractive index layer formed on the base film,
The low refractive index layer has the formula (1): MX n (wherein M represents a metal atom or a metalloid atom, X represents a halogen atom, a monovalent hydrocarbon group which may have a substituent, An oxygen atom, an organic acid group, a β-diketonate group, an inorganic acid group, an alkoxyl group or a hydroxyl group, and n represents a valence of M. When n is 2 or more, X may be the same or different. A group consisting of at least one partial hydrolysis product of the compound represented by the formula (1) and at least one complete hydrolysis product of the compound represented by the formula (1) A metal oxide having a bond of-(OM) m -O- (wherein M represents the same meaning as described above and m represents a natural number) formed in one or more types selected from Containing a composite material and inorganic fine particles and having a refractive index of 1.25 to 1.37 Polarizing plate protective film characterized in that there.
前記無機微粒子が、無機化合物の中空微粒子であることを特徴とする請求項1に記載の偏光板保護フィルム。   The polarizing plate protective film according to claim 1, wherein the inorganic fine particles are hollow fine particles of an inorganic compound. 前記MがSiであることを特徴とする請求項1または2に記載の偏光板保護フィルム。   The polarizing plate protective film according to claim 1, wherein the M is Si. 前記基材フィルムと低屈折率層との間に、ハードコート層が介在していることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の偏光板保護フィルム。   The polarizing plate protective film according to claim 1, wherein a hard coat layer is interposed between the base film and the low refractive index layer. 前記ハードコート層が、活性エネルギー線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂を含有するものであることを特徴とする請求項4に記載の偏光板保護フィルム。   The polarizing plate protective film according to claim 4, wherein the hard coat layer contains an active energy ray-curable resin or a thermosetting resin. 前記ハードコート層の屈折率が、1.53以上であることを特徴とする請求項4に記載の偏光板保護フィルム。   The polarizing plate protective film according to claim 4, wherein a refractive index of the hard coat layer is 1.53 or more. 前記ハードコート層が、さらに導電性微粒子を含有するものである請求項4に記載の偏光板保護フィルム。   The polarizing plate protective film according to claim 4, wherein the hard coat layer further contains conductive fine particles. 前記基材フィルムが、脂環式構造含有重合体樹脂からなるものであることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の偏光板保護フィルム。   The said base film consists of alicyclic structure containing polymer resin, The polarizing plate protective film in any one of Claims 1-7 characterized by the above-mentioned. 請求項1〜7のいずれかに記載の偏光板保護フィルムを偏光板の保護フィルムの内、視認側に用いたことを特徴とする反射防止機能付偏光板。   A polarizing plate with an antireflection function, wherein the polarizing plate protective film according to claim 1 is used on the viewing side of the protective film of the polarizing plate. 請求項9に記載の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする光学製品。
An optical product comprising the polarizing plate with an antireflection function according to claim 9.
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