JP2006251163A - Antireflection film, polarizing plate, and image display apparatus using the same - Google Patents

Antireflection film, polarizing plate, and image display apparatus using the same Download PDF

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Takato Suzuki
貴登 鈴木
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film having more favorable surface hardness even when the film thickness is decreased, and facilitating reduction of curls and low-cost manufacture, and to provide a high-quality polarizing plate and an image display apparatus equipped with the above antireflection film. <P>SOLUTION: The antireflection film comprises a cellulose ester film and at least a hard coat layer deposited on the film, wherein the cellulose ester film is formed by solvent casting film formation of a cellulose ester doped composition containing an ethylenically unsaturated monomer and/or an ethylenically unsaturated monomer having a functional group, and a photopolymerization initiator. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光学フィルム、どう反射防止フィルム、並びにそれを用いた偏光板および液晶表示装置に関する。   The present invention relates to an optical film, an antireflection film, a polarizing plate using the same, and a liquid crystal display device.

反射防止フィルムは、一般に、陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイパネル(PDP)や液晶表示装置(LCD)のような画像表示装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するディスプレイの最表面に配置されている。   Anti-reflection films generally prevent contrast degradation and image reflection due to reflection of external light in image display devices such as cathode ray tube display devices (CRT), plasma display panels (PDP), and liquid crystal display devices (LCD). In order to do this, it is placed on the outermost surface of the display that reduces the reflectivity using the principle of optical interference.

反射防止フィルムは外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために設置され、その原理としては光学鑑賞の原理を用いて反射率を低減するもの、フィルム表面に微細な凹凸を形成して外光を乱反射させて防眩効果を発揮するもの、上記二つの組み合わせによるもの等が挙げられる。反射防止フィルムは通常画像表示装置の最表面に設置されるため、反射防止フィルムは外部からの物理的な衝撃を受ける機会が多く、表面の強度は反射防止性能と並んで反射防止フィルムの最も重要な性能の一つである。   Anti-reflection film is installed to prevent contrast degradation and image reflection due to reflection of external light. Its principle is to reduce reflectivity using the principle of optical appreciation, and to form fine irregularities on the film surface. In addition, there are those that exhibit an anti-glare effect by irregularly reflecting external light, and combinations of the above two. Since the antireflection film is usually installed on the outermost surface of the image display device, the antireflection film often receives physical impact from the outside, and the strength of the surface is the most important of the antireflection film along with the antireflection performance. Is one of the important performances.

そのため、反射防止フィルムでは表面硬度を確保するためにハードコート層を設置することや、支持体フィルムの高硬度化等が行われている。ハードコート層はコストの観点からはなるべく薄くすることが好ましいが、表面硬度を向上させるためにはハードコート層を厚くする必要があり、ハードコート層を厚くするとハードコート層の硬化収縮により塗設後のフィルムのカールが顕著になり、ハンドリング性が悪化してしまう。
また、液晶表示装置用反射防止フィルムの支持体としては、トリアセチルセルロースが一般的に使用されているが、そのままでは表面強度が低く、特に低湿度の状態下では、非常に脆くなり裂け易い欠点があった。このため、これらを改良するために、ドープ中に重合可能なモノマーを添加し、剥離前にイオン化照射を行い製膜速度を向上させる技術(米国特許第3,738,924号明細書)、ドープ中に紫外線吸収性基を含む重合可能モノマーと光重合開始剤を添加し、流延工程で紫外線光照射して重合して製膜する技術(例えば、特開2002−20410号、同2002−47357号等)が知られている。しかしながらこれらの支持体でも、長期保存下での膜強度安定性、フイルムの着色等が十分でなかった。
また、液晶表示装置の更なる薄型化のために、反射防止フィルムを塗設する支持体はできるだけ薄い方が好ましいが、ベースの薄手化は反射防止フィルムの表面硬度の低下に繋がるため、支持体を薄手化することが困難であった。
米国特許第3,738,924号公報 特開2002−20410号公報 特開2002−47357号公報
Therefore, in the antireflection film, a hard coat layer is installed in order to ensure surface hardness, and the support film is increased in hardness. Although it is preferable to make the hard coat layer as thin as possible from the viewpoint of cost, it is necessary to increase the thickness of the hard coat layer in order to improve the surface hardness. The curl of the later film becomes remarkable, and the handleability deteriorates.
In addition, as a support for an antireflection film for liquid crystal display devices, triacetyl cellulose is generally used, but the surface strength is low as it is, and it is very brittle and easy to tear, especially under low humidity conditions. was there. Therefore, in order to improve these, a technique for adding a polymerizable monomer in the dope and performing ionization irradiation before peeling to improve the film forming speed (US Pat. No. 3,738,924), the dope A technique for forming a film by adding a polymerizable monomer containing a UV-absorbing group and a photopolymerization initiator and irradiating with UV light in a casting process to form a film (for example, JP-A Nos. 2002-20410 and 2002-47357) Etc.) are known. However, even with these supports, film strength stability under long-term storage, film coloring, and the like were not sufficient.
In order to further reduce the thickness of the liquid crystal display device, the support on which the antireflection film is coated is preferably as thin as possible. However, the thinning of the base leads to a decrease in the surface hardness of the antireflection film. It was difficult to reduce the thickness.
U.S. Pat. No. 3,738,924 JP 2002-20410 A JP 2002-47357 A

以上に述べたように、表面硬度を十分に確保しつつカールの問題を確保することや、表面硬度と薄膜化の両立された反射防止フィルムは提案されていないのが現状である。従って、本発明は、上記のごとき課題に対してなされたものであって、本発明の第一の目的は、表面を高硬度化したセルロースエステルフィルム上に反射防止フィルムを形成することで、表面硬度がより良好な反射防止フィルムを提供することである。また、本発明の第二の目的は、表面を高硬度化したセルロースエステルフィルム上に反射防止フィルムを形成することで、ハードコート層の膜厚を薄膜化し、カールの軽減や製膜コストの低減を図ることである。また、本発明の第三の目的は、表面を高硬度化し、かつ薄膜化したセルロースエステルフィルム上に反射防止フィルムを形成することで、従来の反射防止フィルムと同等の表面硬度を確保しつつ、反射防止フィルムの膜厚を低下することである。
また、本発明の別の目的は、上記の反射防止フィルムを具備した、高品位な偏光板及び画像表示装置を提供することにある。
As described above, there has been no proposal of an antireflection film that secures the problem of curling while ensuring a sufficient surface hardness, and has both surface hardness and thinning. Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and the first object of the present invention is to form an antireflection film on a cellulose ester film whose surface has been hardened, thereby forming a surface. An object of the present invention is to provide an antireflection film having a better hardness. In addition, the second object of the present invention is to form an antireflection film on a cellulose ester film whose surface is hardened, thereby reducing the thickness of the hard coat layer, reducing curl and reducing the cost of film formation. It is to plan. In addition, the third object of the present invention is to secure a surface hardness equivalent to that of a conventional antireflection film by forming an antireflection film on the cellulose ester film having a high hardness and a thin surface. It is to reduce the film thickness of the antireflection film.
Another object of the present invention is to provide a high-quality polarizing plate and an image display device provided with the antireflection film.

本発明者らは、上述の課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記構成とすることにより、前記課題を解決し目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、下記の構成により、前記目的を達成したものである。
(1)エチレン性不飽和モノマー及び/または官能基を有するエチレン性不飽和モノマー及び光重合開始剤を含有するセルロースエステルドープ組成物を溶液流延製膜することにより形成されるセルロースエステルフィルムの上に、少なくともハードコート層を積層してなることを特徴とする反射防止フィルム。
(2)上記セルロースエステルフィルムが、セルロースエステルと、上記エチレン性不飽和モノマー及び/または官能基を有するエチレン性不飽和モノマーが重合してなる架橋ポリマーとのセミIPN(半相互貫入型網目構造)型ポリマーアロイ構造となっていることを特徴とする項1に記載の反射防止フィルム。
(3)上記エチレン性不飽和モノマーがビニルエステルを主とするものであることを特徴とする項1または項2のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
(4)上記セルロースエステルドープ組成物が2つから3つのエチレン性不飽和基を有するエチレン性不飽和モノマーを含有することを特徴とする請求項1から項3のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
(5)上記官能基が紫外線吸収性基及び/または帯電防止性基であることを特徴とする項1から項4のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
(6)エポキシ基を有する化合物及び/またはエポキシ基と紫外線吸収性基を有する化合物及び光重合開始剤を含有するセルロースエステルドープ組成物を溶液流延製膜することにより形成されるセルロースエステルフィルムの上に、少なくともハードコート層を積層してなることを特徴とする反射防止フィルム。
(7)上記セルロースエステルフィルムが、セルロースエステルと、上記エポキシ基を有する化合物及び/またはエポキシ基と紫外線吸収性基を有する化合物が重合してなる架橋ポリマーとのセミIPN(半相互貫入型網目構造)型ポリマーアロイ構造となっていることを特徴とする項6に記載の反射防止フィルム。
(8)上記セルロースエステルドープ組成物に、微粒子を含有することを特徴とする項1から項7のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
(9)該微粒子が、表面にメチル基を有する酸化ケイ素を含有する化合物からなることを特徴とする項に記載の反射防止フィルム。
(10)ビニルエステル及びアクリル酸エステルから選ばれるエチレン性不飽和モノマー及び/または官能基を有するビニルエステル及びアクリル酸エステルから選ばれるモノマーを主とするエチレン性不飽和モノマーを重合したポリマーを含有するセルロースエステルドープ組成物を溶液流延製膜することにより形成されるセルロースエステルフィルムの上に、少なくともハードコート層を積層してなることを特徴とする反射防止フィルム。
(11)上記セルロースエステルフィルムが、セルロースエステルと、上記ビニルエステル及びアクリル酸エステルから選ばれるエチレン性不飽和モノマー及び/または官能基を有するビニルエステル及びアクリル酸エステルから選ばれるモノマーを主とするエチレン性不飽和モノマーを重合した架橋ポリマーとのセミIPN(半相互貫入型網目構造)型ポリマーアロイ構造となっていることを特徴とする項10に記載の反射防止フィルム。
(12)上記官能基が紫外線吸収性基及び/または帯電防止性基であることを特徴とする項10または11に記載の反射防止フィルム。
(13)上記セルロースエステルドープ組成物に、微粒子を含有することを特徴とする項10から12のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
(14)該微粒子が、表面にメチル基を有する酸化ケイ素を含有する化合物からなることを特徴とする項13に記載の反射防止フィルム。
(15)上記ハードコート層の膜厚が2μm以上6μm以下であることを特徴とする、項1から項14のいずれか一項記載の反射防止フィルム。
(16)上記セルロースエステルフィルムの膜厚が40μm以上80μm未満であることを特徴とする、項1から項15のいずれか一項記載の反射防止フィルム。
(17)上記ハードコート層が防眩性を持つことを特徴とする、項1から項16のいずれか一項記載の反射防止フィルム。
(18)上記ハードコート層の上に上記ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層を塗設することを特徴とする、項1から項17のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
(19)上記セルロースエステルフィルムが少なくとも基層と表層とを有する多層構造からなるセルロースエステルフィルムであって、表層にのみマット剤が添加されていることを特徴とする項1から18のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
(20)前記表層表面の中心線平均粗さが0.01μm〜5μmである項19に記載の反射防止フィルム。
(21)前記表層表面の中心線平均粗さが0.1μm〜1μmである項19または項20に記載の反射防止フィルム。
(22)マット剤として無機物粒子を用い、共流延法により無機物粒子を含む組成物を流延して表層を形成することで製造されたセルロースエステルフィルムを使用することを特徴とする、項19から項21のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
(23)マット剤として無機物粒子を用い、逐次流延法により無機物粒子を含む組成物を流延して表層を形成することで製造されたセルロースエステルフィルムを使用するっことを特徴とする、項19から項21のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。
(24)項1乃至9の何れか1項に記載のセルロースエステルドープ組成物を溶液流延製膜装置の無限移行する無端の金属支持体に流延してから乾燥装置でウェブの乾燥が終了するまでの間において、ウェブに紫外線を照射して作製されたセルロースエステルフィルムを使用することを特徴とする反射防止フィルム。
(25)セルロースエステルドープ組成物を無限移行する無端の金属支持体に流延してから剥離までの間で紫外線を照射することで作製されたセルロースエステルフィルムを使用することを特徴とする、項24に記載の反射防止フィルム。
(26)項10乃至14の何れか1項に記載のセルロースエステルドープ組成物を溶液流延製膜することにより作製されたセルロースエステルフィルムを使用することを特徴とする反射防止フィルム。
(27)項1乃至26に記載の反射防止フィルムを用いたことを特徴とする偏光板。
(28)偏光膜の一方の保護フィルムとして項1乃至26に記載の反射防止フィルムが用いられ、該偏光膜の他方の保護フィルムとして、該保護フィルムの厚み方向の位相差Rthが40nm〜−50nmであることを特徴とする偏光板。
(29)偏光膜の一方の保護フィルムとして項1乃至26に記載の反射防止フィルムが用いられ、該偏光膜の他方の保護フィルムとして光学異方性のある光学補償フィルムが用いられていることを特徴とする偏光板。
(30)項1乃至項26に記載の反射防止フィルム、または、項27乃至項29に記載の偏光板が配置されていることを特徴とする画像表示装置。
As a result of intensive studies to solve the above-described problems, the present inventors have found that the above-described problems can be solved and the object can be achieved, and the present invention has been completed.
That is, the present invention achieves the object by the following configuration.
(1) On a cellulose ester film formed by solution casting a cellulose ester dope composition containing an ethylenically unsaturated monomer and / or a functional group-containing ethylenically unsaturated monomer and a photopolymerization initiator And an antireflection film comprising at least a hard coat layer.
(2) Semi-IPN (semi-interpenetrating network structure) in which the cellulose ester film is a cellulose ester and a crosslinked polymer obtained by polymerizing the ethylenically unsaturated monomer and / or the ethylenically unsaturated monomer having a functional group. Item 2. The antireflection film according to Item 1, which has a type polymer alloy structure.
(3) The antireflection film as described in any one of (1) or (2), wherein the ethylenically unsaturated monomer is mainly a vinyl ester.
(4) The reflection according to any one of claims 1 to 3, wherein the cellulose ester dope composition contains an ethylenically unsaturated monomer having 2 to 3 ethylenically unsaturated groups. Prevention film.
(5) The antireflection film as described in any one of (1) to (4), wherein the functional group is an ultraviolet absorbing group and / or an antistatic group.
(6) A cellulose ester film formed by solution casting a cellulose ester dope composition containing a compound having an epoxy group and / or a compound having an epoxy group and an ultraviolet absorbing group and a photopolymerization initiator An antireflection film, comprising at least a hard coat layer laminated thereon.
(7) Semi-IPN (semi-interpenetrating network structure) in which the cellulose ester film is a cellulose ester and a crosslinked polymer obtained by polymerizing a compound having an epoxy group and / or a compound having an epoxy group and an ultraviolet absorbing group. Item 7. The antireflection film according to Item 6, which has a polymer alloy structure.
(8) The antireflection film as described in any one of Items 1 to 7, wherein the cellulose ester dope composition contains fine particles.
(9) The antireflection film as described in the item, wherein the fine particles comprise a compound containing silicon oxide having a methyl group on the surface.
(10) Contains a polymer obtained by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer mainly composed of an ethylenically unsaturated monomer selected from vinyl esters and acrylic acid esters and / or a monomer selected from vinyl esters having functional groups and acrylic acid esters. An antireflection film comprising: a cellulose ester film formed by solution casting a cellulose ester dope composition; and a hard coat layer laminated at least.
(11) The cellulose ester film is an ethylene mainly composed of a cellulose ester and an ethylenically unsaturated monomer selected from the vinyl ester and acrylate ester and / or a monomer selected from a vinyl ester having a functional group and an acrylate ester. Item 11. The antireflection film according to Item 10, which has a semi-IPN (semi-interpenetrating network structure) type polymer alloy structure with a crosslinked polymer obtained by polymerizing a polymerizable unsaturated monomer.
(12) The antireflection film as described in item 10 or 11, wherein the functional group is an ultraviolet absorbing group and / or an antistatic group.
(13) The antireflection film as described in any one of Items 10 to 12, wherein the cellulose ester dope composition contains fine particles.
(14) The antireflection film as described in (13), wherein the fine particles comprise a compound containing silicon oxide having a methyl group on the surface.
(15) The antireflection film as described in any one of Items 1 to 14, wherein the hard coat layer has a thickness of 2 μm or more and 6 μm or less.
(16) The antireflection film as described in any one of Items 1 to 15, wherein the film thickness of the cellulose ester film is 40 μm or more and less than 80 μm.
(17) The antireflection film as described in any one of Items 1 to 16, wherein the hard coat layer has an antiglare property.
(18) The antireflection film according to any one of Items 1 to 17, wherein a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the hard coat layer is coated on the hard coat layer. .
(19) The cellulose ester film is a cellulose ester film having a multilayer structure having at least a base layer and a surface layer, and a matting agent is added only to the surface layer. The antireflection film as described in 1.
(20) The antireflection film as described in Item 19, wherein the surface layer has a center line average roughness of 0.01 μm to 5 μm.
(21) The antireflection film according to item 19 or 20, wherein the surface layer has a center line average roughness of 0.1 μm to 1 μm.
(22) A cellulose ester film produced by using inorganic particles as a matting agent and casting a composition containing inorganic particles by a co-casting method to form a surface layer, Item 19 Item 22. The antireflection film according to any one of Items 21 to 21.
(23) Use of a cellulose ester film produced by casting inorganic particles as a matting agent and casting a composition containing inorganic particles by a sequential casting method to form a surface layer. Item 22. The antireflection film according to any one of Items 19 to 21.
(24) After the cellulose ester dope composition according to any one of Items 1 to 9 is cast onto an endless metal support that moves infinitely in a solution casting film forming apparatus, drying of the web is completed with a drying apparatus. In the meantime, a cellulose ester film produced by irradiating the web with ultraviolet rays is used.
(25) A cellulose ester film produced by irradiating with ultraviolet rays between casting and peeling to an endless metal support that infinitely transfers the cellulose ester dope composition, The antireflection film as described in 24.
(26) An antireflection film comprising a cellulose ester film produced by solution casting the cellulose ester dope composition according to any one of items 10 to 14.
(27) A polarizing plate using the antireflection film according to any one of items 1 to 26.
(28) The antireflection film of Item 1 to 26 is used as one protective film of the polarizing film, and the thickness direction retardation Rth of the protective film is 40 nm to −50 nm as the other protective film of the polarizing film. A polarizing plate characterized by the above.
(29) The antireflection film described in Items 1 to 26 is used as one protective film of the polarizing film, and an optical compensation film having optical anisotropy is used as the other protective film of the polarizing film. A characteristic polarizing plate.
(30) An image display device comprising the antireflection film according to item 1 to item 26 or the polarizing plate according to item 27 to item 29.

本発明の反射防止フィルムにより、表面硬度を十分に確保しつつカールの良化した反射防止フィルムおよび、表面硬度と薄膜化の両立された反射防止フィルムを提供することができた。更に、上記の反射防止フィルムを具備した、高品位な偏光板及び画像表示装置を提供することができた。   With the antireflection film of the present invention, it was possible to provide an antireflection film having improved curl while sufficiently securing the surface hardness, and an antireflection film having both surface hardness and thinning. Furthermore, it was possible to provide a high-quality polarizing plate and an image display device provided with the antireflection film.

以下、本発明について更に詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「(数値1)〜(数値2)」という記載は「(数値1)以上(数値2)以下」の意味を表す。また、本明細書において、「(メタ)アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「(メタ)アクリル酸」等も同様である。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail. In the present specification, when a numerical value represents a physical property value, a characteristic value, etc., the description “(numerical value 1) to (numerical value 2)” means “(numerical value 1) or more and (numerical value 2) or less”. . Moreover, in this specification, description with "(meth) acrylate" represents the meaning of "at least one of an acrylate and a methacrylate." The same applies to “(meth) acrylic acid” and the like.

[反射防止フィルムの層構成]
図1は、本発明に係る反射防止フィルムの層構成の1例を示す断面模式図である。
図1に反射防止フィルムの構成の1例を示す。該反射防止フィルムは、透明支持体(1)、ハードコート層(2)、中屈折率層(3)、高屈折率層(4)、そして低屈折率層(5)の順序の層構成を有する。
[Layer structure of antireflection film]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the antireflection film according to the present invention.
FIG. 1 shows an example of the structure of the antireflection film. The antireflection film has a layer structure in the order of a transparent support (1), a hard coat layer (2), a medium refractive index layer (3), a high refractive index layer (4), and a low refractive index layer (5). Have.

また、図2に示すように、透明支持体(1)上にハードコート層(2)を塗布した上に、屈折率層として低屈折率層(5)を積層すると、反射防止フィルムとして好適に用いることができる。   Further, as shown in FIG. 2, when a hard coat layer (2) is applied on a transparent support (1) and a low refractive index layer (5) is laminated as a refractive index layer, it is suitable as an antireflection film. Can be used.

更に、図3に示されるように、透明支持体(1)上にハードコート層(2)を塗布した上に、高屈折率層(4)、低屈折率層(5)を積層しても反射防止フィルムとして好適に用いることができる。   Furthermore, as shown in FIG. 3, the high refractive index layer (4) and the low refractive index layer (5) may be laminated on the transparent support (1) after the hard coat layer (2) is applied. It can be suitably used as an antireflection film.

ハードコート層(2)は防眩性を有していてもよい。防眩性は図4に示されるようなマット粒子の分散によるものでも、図5に示されるようなエンボス加工などの方法による表面の賦形によって形成されてもよい。   The hard coat layer (2) may have antiglare properties. The antiglare property may be formed by dispersion of matte particles as shown in FIG. 4, or may be formed by surface shaping by a method such as embossing as shown in FIG.

[各層の材料についての説明]
[基材フィルム(支持体)]
本発明の反射防止フィルムに用いる透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムの材料の例には、セルロースエステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタクチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン)、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。特に液晶表示装置や有機EL表示装置等に用いるために本発明の反射防止フィルムを偏光板の表面保護フィルムの片側として用いる場合にはトリアセチルセルロースが好ましく用いられる。トリアセチルセルロースフィルムとしては、TAC−TD80U(富士写真フイルム(株)製)等の公知のもの、公開技報番号2001−1745にて公開されたものが好ましく用いられる。更には、反射防止フィルム用の支持体フィルムとしては以下で説明する構成のセルロースアセテートフィルムとすることが最も好ましい。
[Explanation of materials for each layer]
[Base film (support)]
As the transparent support used for the antireflection film of the present invention, it is preferable to use a plastic film. Examples of plastic film materials include cellulose esters (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose), polyamides, polycarbonates, polyesters (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate). , Poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, polybutylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin (eg, Polypropylene, polyethylene, polymethylpentene), polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyetherimide, polymethylmethene Tacrylate and polyether ketone are included. In particular, when the antireflection film of the present invention is used as one side of a surface protective film of a polarizing plate for use in a liquid crystal display device, an organic EL display device or the like, triacetyl cellulose is preferably used. As the triacetyl cellulose film, a known film such as TAC-TD80U (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) or a film published in published technical report number 2001-1745 is preferably used. Further, the support film for the antireflection film is most preferably a cellulose acetate film having the structure described below.

本発明に係る溶液流延製膜方法によるセルロースエステルフィルムの製造方法を説明する。   The manufacturing method of the cellulose-ester film by the solution casting film forming method concerning this invention is demonstrated.

本発明に係るセルロースエステルはアシル基の置換度が2.5〜3.0のもので、アシル基がアセチル基、プロピオニル基及びブチリル基から選ばれる少なくとも一つのものである。具体的にはセルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレート等を挙げることが出来、本発明においては、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート及びセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレートが好ましい。アセチル基を含む場合は機械的性質を維持するために、アセチル基の置換度が1.4以上であることが好ましい。セルロースエステルはその原料となるセルロースは特に限定はなく、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを用いることが出来る。これらを混合して使用してもよい。ベルトやドラムからの剥離性が良い綿花リンターから合成されたセルロースエステルを多く使用した方が生産効率が高く好ましい。綿花リンターから合成されたセルロースエステルの比率が60質量%以上で、剥離性の効果が顕著になるため60質量%以上が好ましく、より好ましくは85質量%以上、更には、単独で使用することが最も好ましい。セルロースエステルの合成方法は、特に限定はないが、例えば、特開平10−45804号公報に記載の方法で合成することが出来る。アシル基の置換度の測定方法は、ASTM−D817−96により測定することが出来る。セルロースエステルの数平均分子量は、偏光板用保護フィルムとして好ましい機械的強度を得るためには、70000〜300000が好ましく、更に80000〜200000が好ましい。   The cellulose ester according to the present invention has an acyl group substitution degree of 2.5 to 3.0, and the acyl group is at least one selected from an acetyl group, a propionyl group, and a butyryl group. Specific examples include cellulose triacetate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate butyrate, etc. In the present invention, cellulose triacetate, cellulose Acetate propionate, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate butyrate are preferred. When an acetyl group is included, the substitution degree of the acetyl group is preferably 1.4 or more in order to maintain mechanical properties. Cellulose ester is not particularly limited as cellulose as a raw material, and cotton linter, wood pulp, kenaf and the like can be used. You may mix and use these. It is preferable to use a large amount of cellulose ester synthesized from a cotton linter that has good releasability from a belt or drum because of high production efficiency. The ratio of cellulose ester synthesized from cotton linter is 60% by mass or more, and since the effect of peelability becomes remarkable, 60% by mass or more is preferable, more preferably 85% by mass or more, and further, it can be used alone. Most preferred. The method for synthesizing the cellulose ester is not particularly limited. For example, the cellulose ester can be synthesized by the method described in JP-A-10-45804. The measuring method of the substitution degree of an acyl group can be measured by ASTM-D817-96. The number average molecular weight of the cellulose ester is preferably from 70,000 to 300,000, more preferably from 80,000 to 200,000, in order to obtain a preferable mechanical strength as a protective film for a polarizing plate.

本発明のセルロースエステルドープ中には従来から使用されている低分子の可塑剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤等を本質的に含まず、ポリマーを含有するセルロースエステルドープまたはウェブ中で光重合して形成するポリマーを含有するようなドープ組成物を製膜する。従って、本発明の特徴は、可塑剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤等がウェブからの析出や揮発は起こらないことである。しかし若干の量であれば、低分子の可塑剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤等を析出しない程度に補助的に添加してもかまわない。本発明において補助的に添加出来る低分子可塑剤としては、特に限定されないが、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤などを好ましく用いることが出来る。リン酸エステル系可塑剤として、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤として、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジベンジルフタレート、グリコレート系可塑剤として、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート等を好ましく用いることができる。これらの可塑剤は単独あるいは2種以上混合して用いることが出来る。また本発明において、補助的に添加出来る紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることが出来るが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。光に対しする安定性を有するベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましい。例えばチバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製のTINUVIN109(UV−1とする)、TINUVIN171、TINUVIN326、TINUVIN327、TINUVIN328等を好ましく用いることが出来るが、低分子の紫外線吸収剤は使用量によっては可塑剤同様に製膜中にウェブに析出したり、揮発する虞があるので、その添加量は3〜10質量%程度である。   The cellulose ester dope of the present invention is essentially free from low molecular weight plasticizers, UV absorbers, antistatic agents, etc. that are conventionally used, and is photopolymerized in a cellulose ester dope or web containing a polymer. A dope composition containing a polymer to be formed is formed. Therefore, a feature of the present invention is that the plasticizer, ultraviolet absorber, antistatic agent, etc. do not precipitate or volatilize from the web. However, if it is a slight amount, it may be supplementarily added to such an extent that a low-molecular plasticizer, ultraviolet absorber, antistatic agent, etc. are not precipitated. The low molecular plasticizer that can be supplementarily added in the present invention is not particularly limited, but a phosphate ester plasticizer, a phthalate ester plasticizer, a glycolate plasticizer, and the like can be preferably used. Phosphate ester plasticizers such as triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, etc., phthalate ester plasticizers such as diethyl phthalate, dimethoxy Ethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, butyl benzyl phthalate, dibenzyl phthalate, glycolate plasticizers such as butyl phthalyl butyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalate Ruethyl glycolate or the like can be preferably used. These plasticizers can be used alone or in admixture of two or more. In the present invention, the ultraviolet absorber that can be supplementarily added is not particularly limited, and examples thereof include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, and nickel complex salts. Although a compound etc. can be mentioned, A benzotriazole type compound with little coloring is preferable. Benzotriazole ultraviolet absorbers and benzophenone ultraviolet absorbers having stability against light are preferable, and benzotriazole ultraviolet absorbers with less unnecessary coloring are particularly preferable. For example, TINUVIN109 (UV-1), TINUVIN171, TINUVIN326, TINUVIN327, and TINUVIN328 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. can be preferably used, but low molecular weight UV absorbers are similar to plasticizers depending on the amount used. In addition, there is a possibility that it may be deposited on the web or volatilized during film formation, so the amount added is about 3 to 10% by mass.

本発明に係るセルロースエステルドープの調製方法は、セルロースエステルを溶解し得る有機溶媒(良溶媒)に溶解してドープを形成する。セルロースエステルのフレークに対する良溶媒を主とする有機溶媒に溶解釜中で該フレークを攪拌しながら溶解し、ドープを形成する。溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平9−95544号、同9−95557号または同9−95538号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平11−21379号公報に記載の如き高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることが出来る。溶解後ドープを濾材で濾過し、脱泡してポンプで次工程に送る。ドープ中のセルロースエステルの濃度は10〜35質量%が好ましい。   In the method for preparing a cellulose ester dope according to the present invention, a dope is formed by dissolving in an organic solvent (good solvent) that can dissolve the cellulose ester. The dough is formed by dissolving the flakes in an organic solvent mainly containing a good solvent for the flakes of cellulose ester in a dissolution vessel while stirring. For dissolution, a method carried out at normal pressure, a method carried out below the boiling point of the main solvent, a method carried out under pressure above the boiling point of the main solvent, JP-A-9-95544, 9-95557 or 9-95538 Various melting methods such as a method performed by a cooling dissolution method as described in JP-A No. 11-21379 and a method performed at a high pressure as described in JP-A No. 11-21379 can be used. After dissolution, the dope is filtered with a filter medium, defoamed, and sent to the next process with a pump. The concentration of the cellulose ester in the dope is preferably 10 to 35% by mass.

本発明において、ドープ組成物を形成する際に用いるセルロースエステルの良溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、ギ酸エチル、アセトン、シクロヘキサノン、アセト酢酸メチル、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン、塩化メチレン等を挙げることが出来る。中でも酢酸メチル、エチレンクロリドが好ましく使用し出来る。また、これらの有機溶媒に、メタノール、エタノール、ブタノール等の低級アルコールを併用すると、セルロースエステルの有機溶媒への溶解性が向上したりドープ粘度を低減出来るので好ましい。特に沸点が低く、毒性の少ないエタノールが好ましい。また上記のセルロースエステルを溶解し得る有機溶媒に、上記の低級アルコールやシクロヘキサンのセルロースエステルに対する貧溶媒を5〜30質量%混合して用いることによって金属支持体上に流延した後にドープ膜をゲル化(固化)することが出来、早く金属支持体から剥離出来、製膜速度を速めることが出来る。   In the present invention, good solvents for cellulose ester used in forming the dope composition include methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, ethyl formate, acetone, cyclohexanone, methyl acetoacetate, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1 , 4-dioxane, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2-propanol, 1,1,1,3,3 3-hexafluoro-2-methyl-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol, nitroethane And methylene chloride. Of these, methyl acetate and ethylene chloride can be preferably used. In addition, it is preferable to use a lower alcohol such as methanol, ethanol or butanol in combination with these organic solvents because the solubility of the cellulose ester in the organic solvent can be improved and the dope viscosity can be reduced. In particular, ethanol having a low boiling point and low toxicity is preferred. In addition, the dope film is gelled after casting on a metal support by using 5 to 30% by mass of a poor solvent for the cellulose ester of lower alcohol or cyclohexane in an organic solvent capable of dissolving the cellulose ester. (Solidify), can be peeled off from the metal support quickly, and the film forming speed can be increased.

本発明のセルロースエステルドープ組成物は、大きく分けて三つある。その一つは、エチレン性不飽和モノマー及び/または官能基を有するエチレン性不飽和モノマー及び光重合開始剤を含有するセルロースエステルドープ組成物である。二つ目は、エポキシ基を有する化合物及び/またはエポキシ基と官能基を有する化合物及び光重合開始剤を含有するセルロースエステルドープ組成物である。上記二つのドープ組成物を無限移行する無端の金属支持体上に流延し、その流延直後から乾燥終了までの間でウェブに紫外線照射により光重合させウェブ中にポリマーを形成させることの出来るドープ組成物である。他の一つのドープ組成物は、ビニルエステル及びアクリル酸エステルから選ばれるモノマーを主とするエチレン性不飽和モノマー及び/または官能基を有するビニルエステル及びアクリル酸エステルから選ばれるエチレン性不飽和モノマーを予め重合しておいたポリマーをセルロースエステルと共に有機溶媒に溶解したポリマーを含有しているセルロースエステルドープ組成物である。   There are roughly three cellulose ester dope compositions of the present invention. One of them is a cellulose ester dope composition containing an ethylenically unsaturated monomer and / or an ethylenically unsaturated monomer having a functional group and a photopolymerization initiator. The second is a cellulose ester dope composition containing a compound having an epoxy group and / or a compound having an epoxy group and a functional group and a photopolymerization initiator. The above two dope compositions can be cast on an endless metal support that moves indefinitely, and the web can be photopolymerized by ultraviolet irradiation immediately after casting until the end of drying to form a polymer in the web. It is a dope composition. Another dope composition comprises an ethylenically unsaturated monomer mainly composed of a monomer selected from vinyl esters and acrylate esters and / or an ethylenically unsaturated monomer selected from vinyl esters having a functional group and acrylate esters. It is a cellulose ester dope composition containing a polymer obtained by dissolving a previously polymerized polymer together with a cellulose ester in an organic solvent.

本発明のセルロースエステルドープ組成物に用いられるポリマー、またはウェブ中に光重合して形成するポリマーは、ウェブまたはフィルム中で、凝集したり、海島構造のような相分離状態とはなりにくく、元のセルロースエステルフィルムと同等またはそれ以上の機械的性質や光学的性質を有するようなものなら制限なく使用出来る。本発明のセルロースエステルフィルム中に含有されるポリマーのガラス転移点(以降Tgとする場合がある)は50℃以下のものが好ましい。また、本発明のセルロースエステルフィルム中に含有されるポリマーはセルロースエステルとかなり相溶性がよいもので、セルロースエステルフィルムに対して耐水性や耐透湿性等を発現させるものが好ましい。本発明に有用なポリマーは、数平均分子量が1000〜300000、好ましくは1500〜250000、より好ましくは2000〜100000であり、分子量の小さい方はブリードアウトしにくい程度の分子量範囲を持つのものが好ましい。   The polymer used in the cellulose ester dope composition of the present invention, or the polymer formed by photopolymerization in the web, is unlikely to aggregate in the web or film or to be in a phase separation state such as a sea-island structure. Any cellulose ester film having mechanical properties or optical properties equal to or higher than those of the cellulose ester film can be used without limitation. The glass transition point (hereinafter sometimes referred to as Tg) of the polymer contained in the cellulose ester film of the present invention is preferably 50 ° C. or lower. Moreover, the polymer contained in the cellulose ester film of the present invention is highly compatible with the cellulose ester, and is preferably one that exhibits water resistance, moisture permeability resistance, etc. with respect to the cellulose ester film. The polymer useful in the present invention has a number average molecular weight of 1,000 to 300,000, preferably 1500 to 250,000, more preferably 2000 to 100,000, and preferably has a molecular weight range in which the smaller molecular weight is less likely to bleed out. .

最初の本発明はセルロースエステルドープ組成物にエチレン性不飽和モノマー及び/または官能基を有するエチレン性不飽和モノマーと光重合開始剤を含有するものである。流延後ウェブ内でエチレン性不飽和モノマー及び/または官能基を有するエチレン性不飽和モノマーが光重合してポリマーを生成し、そのポリマーが出来上がったセルロースエステルフィルムに耐水性を付与することが出来る。本発明に有用な光重合ポリマーを形成するエチレン性不飽和モノマーとしては、例えば、ビニルエステル類として、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、バレリアン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、エナント酸ビニル、カプリル酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、安息香酸ビニル等、アクリル酸エステル類またはメタクリル酸エステル類(以降、アクリル酸エステル類またはメタクリル酸エステル類を、(メタ)アクリル酸エステル類のように略して記載することがある)として、メチル(メタ)アクリレート、エチルアクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、2−メチルブチル(メタ)アクリレート、3−メチルブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、3−メトキシプロピル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エチルブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、3−エトキシプロピル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ε−カプロラクトン(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェネチル(メタ)アクリレート、4−シアノブチル(メタ)アクリレート、2−シアノエチル(メタ)アクリレート等、ビニルエーテル類として、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル等、スチレン類として、スチレン、4−〔(2−ブトキシエトキシ)メチル〕スチレン、4−ブトキシメトキシスチレン、4−ブチルスチレン、4−デシルスチレン、4−(2−エトキシメチル)スチレン、4−(1−エチルヘキシルオキシメチル)スチレン、4−ヒドロキシメチルスチレン、4−ヘキシルスチレン、4−ノニルスチレン、4−オクチルオキシメチルスチレン、2−オクチルスチレン、4−オクチルスチレン、4−プロポキシメチルスチレン、マレイン酸類として、ジメチルマレイン酸、ジエチルマレイン酸、ジプロピルマレイン酸、ジブチルマレイン酸、ジシクロヘキシルマレイン酸、ジ−2−エチルヘキシルマレイン酸、ジノニルマレイン酸、ジベンジルマレイン酸等を挙げることが出来るが、これらに限定されない。   In the first invention, the cellulose ester dope composition contains an ethylenically unsaturated monomer and / or an ethylenically unsaturated monomer having a functional group and a photopolymerization initiator. After casting, an ethylenically unsaturated monomer and / or an ethylenically unsaturated monomer having a functional group is photopolymerized to form a polymer, and water resistance can be imparted to the cellulose ester film from which the polymer is formed. . Examples of the ethylenically unsaturated monomer forming the photopolymerizable polymer useful in the present invention include vinyl acetates, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl valerate, vinyl pivalate, caproic acid. Vinyl, vinyl enanthate, vinyl caprylate, vinyl caprate, vinyl laurate, vinyl myristate, vinyl palmitate, vinyl stearate, vinyl cyclohexanecarboxylate, vinyl sorbate, vinyl benzoate, acrylic esters or methacrylic acid As acid esters (hereinafter, acrylic acid esters or methacrylic acid esters may be abbreviated as (meth) acrylic acid esters), methyl (meth) acrylate, ethyl acrylate, n-butyl ( Meta) Relate, heptyl (meth) acrylate, 2-methylbutyl (meth) acrylate, 3-methylbutyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 3-methoxypropyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2- Ethoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethylbutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 3-ethoxypropyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) Acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, ε-caprolactone (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate As vinyl ethers such as acrylate, phenethyl (meth) acrylate, 4-cyanobutyl (meth) acrylate, 2-cyanoethyl (meth) acrylate, methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, etc. Examples of styrenes include styrene, 4-[(2-butoxyethoxy) methyl] styrene, 4-butoxymethoxystyrene, 4-butylstyrene, 4-decylstyrene, 4- (2-ethoxymethyl) styrene, 4- (1- Ethylhexyloxymethyl) styrene, 4-hydroxymethylstyrene, 4-hexylstyrene, 4-nonylstyrene, 4-octyloxymethylstyrene, 2-octylstyrene, 4-octyl Tylene, 4-propoxymethylstyrene, and maleic acids such as dimethylmaleic acid, diethylmaleic acid, dipropylmaleic acid, dibutylmaleic acid, dicyclohexylmaleic acid, di-2-ethylhexylmaleic acid, dinonylmaleic acid, dibenzylmaleic acid However, it is not limited to these.

上記モノマーの他にも、エチレン、プロピレン、ブタジエン、1−ブチレン、アクリロニトリル、N−ビニルピロリドン、無水マレイン酸、アクリル酸、上記以外のビニルモノマーとして、塩化ビニル、エチレン、プロピレン、(メタ)アクリロニトリル、N−ビニルピロリドン、(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等を10質量%以下で上記モノマーとコポリマーを形成してもよい。これらのモノマーのうち、そのホモポリマーのTgが50℃以下のものはセルロースエステルに対して可塑性を付与し得るが、それ以上のTgを有するホモポリマーを形成するモノマーの場合には、コポリマーのTgが50℃以下になるようにコモノマーを選択してコポリマーを形成させればよい。また、そのTg以下のモノマーでも任意の割合でコポリマーを形成するのが好ましい。   In addition to the above monomers, ethylene, propylene, butadiene, 1-butylene, acrylonitrile, N-vinylpyrrolidone, maleic anhydride, acrylic acid, vinyl monomers other than the above, vinyl chloride, ethylene, propylene, (meth) acrylonitrile, N-vinylpyrrolidone, (meth) acrylic acid, maleic anhydride, crotonic acid, itaconic acid and the like may be formed with the above monomer and copolymer at 10% by mass or less. Among these monomers, those having a Tg of the homopolymer of 50 ° C. or less can impart plasticity to the cellulose ester, but in the case of a monomer that forms a homopolymer having a Tg higher than that, the Tg of the copolymer The copolymer may be formed by selecting a comonomer so that the temperature is 50 ° C. or lower. Moreover, it is preferable to form a copolymer at an arbitrary ratio even with a monomer having a Tg or less.

ポリマーのTgは、種々な方法で測定出来るが、POLYMER HANDBOOK(THIRD EDITION)J.BRANDRUOP & E.H.IMMERGUT編集(JHON WILEY & SONS発行)のVI−209頁に掲載されているホモポリマーのTgにより知ることが出来、更にコポリマーのTgは、J.BRANDRUOPら編集、POLYMER HANDBOOK(1966)III−139〜179頁、(JHON WILEY & SONS発行)に記載の方法で求めたものである。コポリマーのTg(°Kで表される)は下記の式でも求められる。   The Tg of the polymer can be measured by various methods, but POLYMER HANDBOOK (THIRD EDITION) J. Mol. BRANDRUOP & E. H. It can be known from the Tg of homopolymers published on page VI-209 of IMMERGUT editing (issued by JHON WILEY & Sons). Edited by BRANDRUOP et al., POLYMER HANDBOOK (1966) pages III-139 to 179 (issued by JHON WILEY & SONS). The Tg (expressed in ° K) of the copolymer can also be determined by the following formula.

Tg(コポリマー)=v1Tg1+v2Tg2+……+vnTgn 式中、v1、v2……vnはコポリマー中の各モノマーの質量分率を表し、Tg1,Tg2……Tgnはコポリマー中の各モノマーのホモポリマーのTgを表す。 Tg (copolymer) = v 1 Tg 1 + v in 2 Tg 2 + ...... + v n Tg n -type, v 1, v 2 ...... v n represents the mass fraction of each monomer in the copolymer, Tg 1, Tg 2 ...... Tg n represents the Tg of the homopolymer of each monomer in the copolymer.

本発明においてより好ましいモノマーとしては、ビニルエステルであり、具体的には、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、バレリアン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、エナント酸ビニル、カプリル酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、ソルビン酸ビニルであり、また、その他メチルルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ジメチルマレイン酸、ジエチルマレイン酸、プロピルマレイン酸、ブチルマレイン酸も好ましいモノマーである。本発明の構成(8)でいうビニルエステル及びアクリル酸エステルから選ばれるエチレン性不飽和モノマーを主とするというのは、ビニルエステル及び/またはアクリル酸エステルが全体のエチレン性不飽和モノマー中40質量%以上を占めることで、50質量%以上が好ましく、より好ましくは60質量%以上、更に好ましくは70質量%以上である。ここでいうビニルエステルは上記の他、下記紫外線吸収性基あるいは下記帯電防止性基を有するビニルエステル及び/またはアクリル酸エステルも含む。   More preferable monomers in the present invention are vinyl esters, and specifically, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl valeric acid, vinyl pivalate, caproic acid. Vinyl, vinyl enanthate, vinyl caprylate, vinyl caprate, vinyl laurate, vinyl myristate, vinyl palmitate, vinyl stearate, vinyl cyclohexanecarboxylate, vinyl sorbate, and other methyl acrylate, ethyl acrylate Propyl acrylate, dimethylmaleic acid, diethylmaleic acid, propylmaleic acid and butylmaleic acid are also preferred monomers. The main reason for the ethylenically unsaturated monomer selected from the vinyl ester and the acrylate ester in the constitution (8) of the present invention is that the vinyl ester and / or the acrylate ester is 40 mass in the total ethylenically unsaturated monomer. % Is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more, and still more preferably 70% by mass or more. In addition to the above, the vinyl ester herein includes the following UV-absorbing group or vinyl ester and / or acrylate ester having the following antistatic group.

本発明に有用な官能基を有するエチレン性不飽和モノマーとしては、ポリマーの側鎖に紫外線吸収性基や帯電防止性基を有しているものが好ましい。コポリマーとしてTgが50℃以下になるような基であれば制限なく用いられる。官能基を有するエチレン性不飽和モノマーのエチレン性基としては、ビニル基、アクリロイル基またはメタクリロイル基で、これらは好ましく用いられる。   The ethylenically unsaturated monomer having a functional group useful in the present invention is preferably one having an ultraviolet absorbing group or an antistatic group in the side chain of the polymer. Any copolymer can be used as long as it has a Tg of 50 ° C. or lower. The ethylenic group of the ethylenically unsaturated monomer having a functional group is preferably a vinyl group, an acryloyl group or a methacryloyl group, and these are preferably used.

本発明に有用な紫外線吸収性基を有するエチレン性不飽和モノマーの紫外線吸収性基としては、ベンゾトリアゾール基、サリチル酸エステル基、ベンゾフェノン基、オキシベンゾフェノン基、シアノアクリレート基等を挙げることが出来、本発明においては何れも好ましく用いることが出来る。特に光反応性が少なく、且つ殆ど着色のないベンゾトリアゾール基を有するモノマーが好ましい。   Examples of the ultraviolet absorbing group of the ethylenically unsaturated monomer having an ultraviolet absorbing group useful in the present invention include a benzotriazole group, a salicylic acid ester group, a benzophenone group, an oxybenzophenone group, and a cyanoacrylate group. Any of them can be preferably used in the invention. In particular, a monomer having a benzotriazole group with little photoreactivity and almost no coloring is preferred.

下記に本発明に有用な紫外線吸収性基を有するエチレン性不飽和モノマーを例示する。 この他に、本発明において、特開平6−148430号公報に記載の紫外線吸収性ポリマーを構成する紫外線吸収性モノマーも好ましく用いることが出来る。   Examples of the ethylenically unsaturated monomer having an ultraviolet absorbing group useful in the present invention are shown below. In addition, in the present invention, an ultraviolet absorbing monomer constituting the ultraviolet absorbing polymer described in JP-A-6-148430 can also be preferably used.

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本発明において、紫外線吸収性基を有するエチレン性不飽和モノマーの市販品を用いてもよいし、合成をして得てもよい。市販品としては、例えば、上記UVM−1は、1−ヒドロオキシ−2−(2−ベンゾトリアゾール)−4−(2−メタクリロイルオキシエチル)ベンゼンであり、大塚化学社製の反応型紫外線吸収剤RUVA−93として市販されている。また、1−ヒドロオキシ−2−(2−ベンゾトリアゾール)−4−(2−アクリロイルオキシエチル)ベンゼンも同様に本発明で好ましく用いることが出来る。   In the present invention, a commercially available ethylenically unsaturated monomer having an ultraviolet absorbing group may be used, or may be obtained by synthesis. As a commercially available product, for example, the UVM-1 is 1-hydroxy-2- (2-benzotriazole) -4- (2-methacryloyloxyethyl) benzene, and a reactive ultraviolet absorber RUVA manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd. Commercially available as -93. Similarly, 1-hydroxy-2- (2-benzotriazole) -4- (2-acryloyloxyethyl) benzene can be preferably used in the present invention.

本発明に有用な紫外線吸収性基を有するエチレン性不飽和モノマーについて下記に合成例を示す。
合成例
(UVM−1の合成)トルエン800ml中に1−ヒドロオキシ−2−(2−ベンゾトリアゾール)−4−(2−ヒドロキシエチル)ベンゼン(化合物A)25.5g(0.1mol)とピリジン17ml(0.21mol)を加え、そこへトルエン10mlに溶かしたメタクロイルクロリド13ml(0.128mol)を約30分かけて滴下した。室温で約1時間撹拌後、反応液に水を加え酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで反応液を乾燥させた後、濾別して、減圧濃縮した。残査をメタノールとメチレンクロリドの混合溶媒から再結晶し、UVM−1を22.3gを得た。目的物の構造は1H−NMR及びIRで確認した。
Synthesis examples of ethylenically unsaturated monomers having an ultraviolet absorbing group useful in the present invention are shown below.
Synthesis Example (Synthesis of UVM-1) 15.5 Hydroxy-2- (2-benzotriazole) -4- (2-hydroxyethyl) benzene (Compound A) 25.5 g (0.1 mol) and 17 ml of pyridine in 800 ml of toluene (0.21 mol) was added, and 13 ml (0.128 mol) of methacryloyl chloride dissolved in 10 ml of toluene was added dropwise over about 30 minutes. After stirring at room temperature for about 1 hour, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extract was dried over anhydrous sodium sulfate, filtered, and concentrated under reduced pressure. The residue was recrystallized from a mixed solvent of methanol and methylene chloride to obtain 22.3 g of UVM-1. The structure of the target product was confirmed by 1 H-NMR and IR.

(UVM−6の合成)トルエン中に1−ヒドロオキシ−2−(2−ベンゾトリアゾール)−4−(2−ヒドロキシカルボニルエチル)ベンゼン(化合物B)28.3g(0.1mol)とジメチルホルムアミド0.2mlを加えた。次いでオキザリルクロリド13.0ml(0.15mol)を室温で滴下した。約1時間撹拌した後、減圧濃縮を行い、白色固体を得た。この白色固体をピリジン8.9ml(0.11mol)とテトラヒドロフラン200mlに溶解し、そこへテトラヒドロフラン50mlに溶解させた4−ヒドロキシ安息香酸ビニルエステル18.0g(0.11mol)を約30分かけて滴下した。約1時間ご撹拌した後、反応液に水を加え酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、濾別して、減圧濃縮を行いシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、UVM−6を21.8gを得た。目的物の構造は1H−NMR及びIRで確認した。 (Synthesis of UVM-6) 28.3 g (0.1 mol) of 1-hydroxy-2- (2-benzotriazole) -4- (2-hydroxycarbonylethyl) benzene (compound B) and dimethylformamide in toluene. 2 ml was added. Next, 13.0 ml (0.15 mol) of oxalyl chloride was added dropwise at room temperature. After stirring for about 1 hour, concentration under reduced pressure was performed to obtain a white solid. This white solid was dissolved in 8.9 ml (0.11 mol) of pyridine and 200 ml of tetrahydrofuran, and 18.0 g (0.11 mol) of 4-hydroxybenzoic acid vinyl ester dissolved in 50 ml of tetrahydrofuran was added dropwise over about 30 minutes. did. After stirring for about 1 hour, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The extract was dried over anhydrous sodium sulfate, filtered, concentrated under reduced pressure and purified by silica gel chromatography to obtain 21.8 g of UVM-6. The structure of the target product was confirmed by 1 H-NMR and IR.

本発明における光重合したポリマーを構成する紫外線吸収性基を有するモノマー単位の割合は、ポリマーのセルロースエステルとの相溶性、セルロースエステルフィルムの機械的性質または物理的性質が同等またはそれ以上の性質、あるいは十分な紫外線吸収性能を有するのであれば、如何なるものであってもよく(1〜100質量%の範囲でよく)、ホモポリマーでもコポリマーであってもよい。   The ratio of the monomer unit having an ultraviolet absorbing group constituting the photopolymerized polymer in the present invention is such that the compatibility of the polymer with the cellulose ester, the mechanical property or physical property of the cellulose ester film is equal to or higher than the property, Alternatively, any material may be used as long as it has sufficient ultraviolet absorption performance (it may be in the range of 1 to 100% by mass), and it may be a homopolymer or a copolymer.

本発明に有用な帯電防止性基を有するエチレン性不飽和モノマーの帯電防止性基としては、4級アンモニウム基、スルホン酸塩の基、ポリエチレンオキサイド基等を挙げることが出来るが、溶解性や帯電性能の観点から4級アンモニウム基が好ましい。   Examples of the antistatic group of the ethylenically unsaturated monomer having an antistatic group useful in the present invention include a quaternary ammonium group, a sulfonate group, and a polyethylene oxide group. A quaternary ammonium group is preferable from the viewpoint of performance.

下記に本発明に有用な帯電防止性基を有するエチレン性不飽和モノマーを例示する。   Examples of the ethylenically unsaturated monomer having an antistatic group useful in the present invention are shown below.

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下記に本発明に有用な帯電防止性基を有するエチレン性不飽和モノマーの合成例を例示する。
合成例
(ASM−1の合成)封管中にトルエン50mlと4−ビニルベンジリルクロリド14.2ml(0.1mol)とトリメチルアミン9.0ml(0.1mol)とt−ブチルカテコール1.7g(0.01mol)を入れ、約70℃で48時間加熱した。固体を濾過して取り出し、アセトンで洗浄し、ASM−1を12.1gを得た。目的物の構造は1H−NMR及びIRで確認した。
(ASM−2の合成)封管中にトルエン50mlとトリエチレンジアミン(DABCO)11.2g(0.1mol)とエチルクロリド7.2ml(0.1mol)を入れ、約70℃で72時間加熱した。固体を濾過し、エチルエーテルで洗浄し、N−エチルトリエチレンジアミン・モノアンモニウムクロリド(化合物C)を得た。エタノール50ml中に4−ビニルベンジルクロリド7.1ml(0.05mol)と化合物C10.6g(0.05mol)とt−ブチルカテコール0.9g(0.005mol)を加え、48時間加熱環流した。固体を濾過し、アセトンで洗浄し、ASM−2を7.3g得た。目的物構造は1H−NMR及びIRで確認した。
(ASM−4の合成)テトラヒドロフラン200ml中に2−クロロエタノール6.7ml(0.1mol)とピリジン8.9ml(0.2mol)を加え、そこへテトラヒドロフラン50mlに溶かしたメタクリルクロリド10.7ml(0.11mol)を約30分かけて滴下した。室温で約1時間撹拌した後、反応液に水を加え酢酸エチルで抽出した。濾別し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧濃縮を行い、2−クロロエチルメタクリレートを得た。一方、エタノール100mlにDABCO11.2g(0.1mol)とベンジルクロリド11.5ml(10.1mol)を加え24時間加熱環流した。固体を濾過し、アセトンで洗浄し、N−エチル−DABCO・モノアンモニウムクロリド(化合物D)を得た。エタノール中に化合物D11.9g(0.05mol)と2−クロロエチルメタクリレート7.4g(0.05mol)とt−ブチルカテコール0.9g(0.005mol)を加え、48時間加熱環流した。固体を濾過し、アセトンで洗浄し、ASM−4を10.5が得た。目的物の構造は1H−NMR及びIRで確認した。
The synthesis example of the ethylenically unsaturated monomer which has an antistatic group useful for this invention is illustrated below.
Synthesis Example (Synthesis of ASM-1) In a sealed tube, 50 ml of toluene, 14.2 ml (0.1 mol) of 4-vinylbenzylyl chloride, 9.0 ml (0.1 mol) of trimethylamine, and 1.7 g of t-butylcatechol (0 0.01 mol) and heated at about 70 ° C. for 48 hours. The solid was filtered off and washed with acetone to give 12.1 g of ASM-1. The structure of the target product was confirmed by 1 H-NMR and IR.
(Synthesis of ASM-2) 50 ml of toluene, 11.2 g (0.1 mol) of triethylenediamine (DABCO) and 7.2 ml (0.1 mol) of ethyl chloride were placed in a sealed tube and heated at about 70 ° C. for 72 hours. The solid was filtered and washed with ethyl ether to obtain N-ethyltriethylenediamine monoammonium chloride (Compound C). In 50 ml of ethanol, 7.1 ml (0.05 mol) of 4-vinylbenzyl chloride, 10.6 g (0.05 mol) of compound C and 0.9 g (0.005 mol) of t-butylcatechol were added and refluxed with heating for 48 hours. The solid was filtered and washed with acetone to obtain 7.3 g of ASM-2. The target structure was confirmed by 1 H-NMR and IR.
(Synthesis of ASM-4) 6.7 ml (0.1 mol) of 2-chloroethanol and 8.9 ml (0.2 mol) of pyridine were added to 200 ml of tetrahydrofuran, and 10.7 ml (0 of methacryl chloride dissolved in 50 ml of tetrahydrofuran was added thereto. .11 mol) was added dropwise over about 30 minutes. After stirring at room temperature for about 1 hour, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. After filtration and drying with anhydrous sodium sulfate, concentration under reduced pressure was performed to obtain 2-chloroethyl methacrylate. On the other hand, 11.2 g (0.1 mol) of DABCO and 11.5 ml (10.1 mol) of benzyl chloride were added to 100 ml of ethanol and refluxed for 24 hours. The solid was filtered and washed with acetone to obtain N-ethyl-DABCO.monoammonium chloride (Compound D). In ethanol, 11.9 g (0.05 mol) of compound D, 7.4 g (0.05 mol) of 2-chloroethyl methacrylate, and 0.9 g (0.005 mol) of t-butylcatechol were added and heated to reflux for 48 hours. The solid was filtered and washed with acetone to give ASM-4 as 10.5. The structure of the target product was confirmed by 1 H-NMR and IR.

本発明における光重合して得られるポリマーに対する帯電防止性基を有するエチレン性不飽和モノマーの割合は、セルロースエステルフィルムの吸水性、耐久性、可塑性、必要な帯電防止性等から40質量%以下でよく、好ましくは5〜30質量%である。   The ratio of the ethylenically unsaturated monomer having an antistatic group to the polymer obtained by photopolymerization in the present invention is 40% by mass or less from the water absorption, durability, plasticity, necessary antistatic properties, etc. of the cellulose ester film. It is preferably 5 to 30% by mass.

本発明に有用な光重合開始剤としては、エチレン性不飽和モノマーがウェブ中で光重合し得る開始剤であれば制限なく使用できるが、これらの光重合開始剤は公知のものを使用し得る。また光増感剤も使用出来る。具体的には、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン−n−プロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインシリルエーテル、メチルベンゾインホルメート、ベンジル、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、p−メチルベンゾフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、p−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、アセトフェノン、ミヒラーズケトン、α,α′−ジクロロ−4−フェノキシアセトフェノン、1−ヒドロキシ−1−シクロヘキシルアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、ジアセチル、エオシン、チオニン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノプロペン、ジクロロチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン、フェニルジスルフィド−2−ニトロソフルオレン、ブチロイン、アニソインエチルエーテル、ジ−t−ブチルパーオキシド、ベンゾイルチアゾリルスルフィド、α−アミロキシムエステル、アゾビスイソブチロニトリル、テトラメチルチウラムジスルフィド等を挙げることが出来る。本発明において、セルロースエステルドープ組成物中にエチレン性不飽和モノマーと共に光重合開始剤を混合するが、セルロースエステルに対してエチレン性不飽和モノマーを5〜30質量%、また光重合開始剤をエチレン性不飽和モノマーに対して1〜30質量%程度加えるのがよい。本発明においては、光重合性のエチレン性不飽和モノマーをセルロースエステルドープ組成物流延後、有機溶媒を多く含むウェブにおいても、またかなり乾燥が進んでいてもウェブ内で光重合を起こさせることが出来るが、金属支持体上で、紫外線を照射して重合させるのが好ましい。   The photopolymerization initiator useful in the present invention can be used without limitation as long as the ethylenically unsaturated monomer is an initiator that can be photopolymerized in the web, but known photopolymerization initiators can be used. . Photosensitizers can also be used. Specifically, benzoin methyl ether, benzoin-n-propyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin silyl ether, methyl benzoin formate, benzyl, benzophenone, hydroxybenzophenone, p-methylbenzophenone, α-hydroxyisobutylphenone, p -Isopropyl-α-hydroxyisobutylphenone, acetophenone, Michler's ketone, α, α'-dichloro-4-phenoxyacetophenone, 1-hydroxy-1-cyclohexylacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, diacetyl, eosin, thionine 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropene, dichlorothioxanthone, diisopropylthioxanthone, pheny Disulfide-2-nitrosofluorene, butyroin, anisoin ethyl ether, di-t-butyl peroxide, benzoylthiazolyl sulfide, α-amyloxime ester, azobisisobutyronitrile, tetramethylthiuram disulfide, etc. I can do it. In the present invention, a photopolymerization initiator is mixed with the ethylenically unsaturated monomer in the cellulose ester dope composition. The ethylenically unsaturated monomer is 5 to 30% by mass with respect to the cellulose ester, and the photopolymerization initiator is ethylene. It is good to add about 1-30 mass% with respect to a polyunsaturated monomer. In the present invention, after the photopolymerizable ethylenically unsaturated monomer is distributed in the cellulose ester dope composition, photopolymerization can be caused in the web containing a large amount of organic solvent or in the web even if the drying is considerably advanced. Although it is possible, it is preferable to polymerize by irradiating with ultraviolet rays on a metal support.

本発明のエチレン性不飽和モノマーと光重合開始剤を含有するセルロースエステルドープ組成物に二つのエチレン性不飽和基を有する架橋性モノマーを含有させることにより、光重合後、しなやかさと強靱性を兼ね備えたセルロースエステルフィルムを得ることが出来る。この二つのエチレン性不飽和基を有する架橋性モノマーとしては、ポリエステルジ(メタ)アクリレート、ポリウレタンジ(メタ)アクリレート等を挙げることが出来る。 市販品として、東亜合成社製のウレタンアクリレート(商品名、M−1310)があり、このものを好ましく用いることが出来る。以下にこれらの化合物を例示する。   By incorporating a crosslinkable monomer having two ethylenically unsaturated groups into the cellulose ester dope composition containing the ethylenically unsaturated monomer and the photopolymerization initiator of the present invention, it has both flexibility and toughness after photopolymerization. A cellulose ester film can be obtained. Examples of the crosslinkable monomer having two ethylenically unsaturated groups include polyester di (meth) acrylate and polyurethane di (meth) acrylate. A commercially available product is urethane acrylate (trade name, M-1310) manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., which can be preferably used. Examples of these compounds are given below.

Figure 2006251163
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これらのポリエステルまたはポリウレタンのジ(メタ)アクリレートは、数平均分子量として、6000〜100000、好ましくは1000〜80000のものである。ここでnは繰り返し単位の繰り返し数である。   These polyester or polyurethane di (meth) acrylates have a number average molecular weight of 6000 to 100,000, preferably 1000 to 80,000. Here, n is the number of repeating units.

第2の本発明は、セルロースエステルドープ組成物がエポキシ基を有する化合物及び光重合開始剤を含有するものである。上記の発明と同様に、これらのエポキシ基を有する化合物もウェブ内で光重合させることが出来、出来上がったフィルムに可塑性を付与することが出来る。エポキシ基を有する化合物としては、通常接着剤等に使用し得るものを使用することが出来る。本発明に有用なエポキシ基を有する化合物を例示すると、芳香族エポキシ化合物(多価フェノールのポリグリシジルエーテル)としては、水素添加ビスフェノールAまたはビスフェノールAとエピクロルヒドリンとの反応物のグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂(例えば、クレゾールノボラックポリグリシジルエーテル、フェノールノボラックポリグリシジルエーテル)、レゾールエポキシ樹脂、レゾルシノールジグリシジルエーテル等、脂肪族エポキシ樹脂としては、脂肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートのホモポリマー、コポリマーなどがあり、その代表例としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ノナプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ジグリセロールテトラグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールのポリグリシジルエーテル、脂環式エポキシ化合物、例えば、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3′,4′−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3′,4′−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのジグリシジルエーテル、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのトリグリシジルエーテル、ポリグリシジルアクリレート、ポリグリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレートと他のモノマーとの共重合物、ポリ−2−グリシジルオキシエチルアクリレート、ポリ−2−グリシジルオキシエチルメタクリレート、2−グリシジルオキシエチルアクリレート、2−グリシジルオキシエチルアクリレートまたは2−グリシジルオキシエチルメタクリレートと他のモノマーとの共重合物、ビス−2,2−ヒドロキシシクロヘキシルプロパンジグリシジルエーテル等を挙げることが出来、2種以上組み合わせて使用することが出来る。本発明においては、上記の化合物に限定せず、これらから類推される化合物も含むものである。   In the second present invention, the cellulose ester dope composition contains a compound having an epoxy group and a photopolymerization initiator. Similar to the above-described invention, these epoxy group-containing compounds can also be photopolymerized in the web, and plasticity can be imparted to the finished film. As the compound having an epoxy group, those which can be usually used for an adhesive or the like can be used. Examples of compounds having an epoxy group useful in the present invention include, as aromatic epoxy compounds (polyglycidyl ethers of polyhydric phenols), hydrogenated bisphenol A or glycidyl ethers of bisphenol A and epichlorohydrin, and epoxy novolac resins. (For example, cresol novolac polyglycidyl ether, phenol novolac polyglycidyl ether), resole epoxy resin, resorcinol diglycidyl ether, etc., as aliphatic epoxy resin, polyglycidyl ether of aliphatic polyhydric alcohol or its alkylene oxide adduct, fat There are polyglycidyl esters of group long-chain polybasic acids, homopolymers and copolymers of glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate. Lenglycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, dipropylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol glycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, Nonapropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, diglycerol triglycidyl ether, diglycerol tetraglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, pentaerythritol triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, Sorbitol polyglycidyl Ether, cycloaliphatic epoxy compounds such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3', 4 ' -Epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, vinylcyclohexene dioxide, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6- Methylcyclohexyl-3 ', 4'-epoxy-6-methylcyclohexanecarboxylate, methylenebis (3,4-epoxycyclohexane) dicyclopentadiene diepoxide, di (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether of ethylene glycol, ethylene Bis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), dicyclopentadiene diepoxide, diglycidyl ether of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, triglycidyl ether of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, polyglycidyl acrylate, Polyglycidyl methacrylate, glycidyl acrylate or copolymer of glycidyl methacrylate and other monomers, poly-2-glycidyloxyethyl acrylate, poly-2-glycidyloxyethyl methacrylate, 2-glycidyloxyethyl acrylate, 2-glycidyloxyethyl acrylate Or a copolymer of 2-glycidyloxyethyl methacrylate and another monomer, bis-2,2-hydroxycyclohexylpropane di It can be mentioned glycidyl ether, and the like, can be used in combination of two or more. In this invention, it is not limited to said compound, The compound estimated from these is also included.

また、本発明において、エポキシ基を分子内に2つ以上有するもの以外に、モノエポキサイドも所望の性能に応じて配合して使用することが出来る。   Further, in the present invention, in addition to those having two or more epoxy groups in the molecule, monoepoxides can be blended and used according to desired performance.

本発明における紫外線重合性のエポキシ基を有する化合物は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合により重合物、架橋構造物または網目構造物を形成する。ラジカル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため誘導期間がなく重合を速く行うことが出来る。   The compound having an ultraviolet-polymerizable epoxy group in the present invention forms a polymer, a crosslinked structure or a network structure not by radical polymerization but by cationic polymerization. Unlike radical polymerization, it is not affected by oxygen in the reaction system, so there is no induction period and the polymerization can be performed quickly.

本発明に有用なエポキシ基を有する化合物は、紫外線照射によりカチオン重合を開始する物質を放出する化合物が触媒になってイオン重合反応が進行する。紫外線照射によりカチオン重合を開始するものとしてはルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。   The compound having an epoxy group useful in the present invention undergoes an ionic polymerization reaction using a compound that releases a substance that initiates cationic polymerization upon irradiation with ultraviolet rays as a catalyst. A group of double salts of onium salts that release a Lewis acid is particularly preferred as the one that initiates cationic polymerization upon UV irradiation.

かかる代表的なものは下記一般式(I)で表される化合物である。
一般式(I)
〔(R1a(R2b(R3c(R4dZ〕+w〔MeXv+w−w ここで、式中、カチオンはオニウムであり、ZはS、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、ハロゲン(例えばI、Br、Cl)、またはN=N(ジアゾ)であり、R1 a、R2 b、R3 c、R4 dは同一であっても異なっていてもよい有機の基である。a、b、c、dはそれぞれ0〜3の整数であって、a+b+c+dはZの価数に等しい。Meはハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属(metalloid)であり、B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Co等である。Xはハロゲンであり、wはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、vはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
A typical example is a compound represented by the following general formula (I).
Formula (I)
[(R 1 ) a (R 2 ) b (R 3 ) c (R 4 ) d Z] + w [MeX v + w ] −w where cation is onium, Z is S, Se , Te, P, As, Sb, Bi, O, halogen (eg, I, Br, Cl), or N = N (diazo), and R 1 a , R 2 b , R 3 c , and R 4 d are the same Or an organic group that may be different. a, b, c, and d are each an integer of 0 to 3, and a + b + c + d is equal to the valence of Z. Me is a metal or metalloid which is a central atom of a halide complex, and B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co, etc. X is halogen, w is the net charge of the halogenated complex ion, and v is the number of halogen atoms in the halogenated complex ion.

上記一般式(I)の陰イオン〔MeXv+w−wの具体例としては、テトラフルオロボレート(BF4 )、ヘキサフルオロホスフェート(PF6 )、ヘキサフルオロアンチモネート(SbF6 )、ヘキサフルオロアルセネート(AsF6 )、ヘキサクロロアンチモネート(SbCl6 )等を挙げることが出来る。 Specific examples of the anion [MeX v + w ] -w of the general formula (I) include tetrafluoroborate (BF 4 ), hexafluorophosphate (PF 6 ), hexafluoroantimonate (SbF 6 ). , Hexafluoroarsenate (AsF 6 ), hexachloroantimonate (SbCl 6 ) and the like.

更に一般式MXn(OH)の陰イオンも用いることが出来る。また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン(ClO4 )、トリフルオロメチル亜硫酸イオン(CF3SO3 )、フルオロスルホン酸イオン(FSO3 )、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等を挙げることが出来る。 Furthermore, an anion of the general formula MX n (OH) can also be used. Other anions include perchlorate ion (ClO 4 ), trifluoromethyl sulfite ion (CF 3 SO 3 ), fluorosulfonate ion (FSO 3 ), toluenesulfonate ion, and trinitrobenzene acid anion. An ion etc. can be mentioned.

このようなオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが、特に有効であり、中でも特開昭50−151996号、同50−158680号公報等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭50−151997号、同52−30899号、同59−55420号、同55−125105号公報等に記載のVIA族芳香族オニウム塩、特開昭56−8428号、同56−149402号、同57−192429号公報等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭49−17040号公報等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第4,139,655号明細書等に記載のチオピリリウム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性ケイ素化合物系重合開始剤等を挙げることが出来る。上記カチオン重合開始剤と、前記ベンゾフェノン及びその誘導体、前記ベンゾイン及びその誘導体、前記チオキサントン及びその誘導体等の光増感剤を併用することが出来る。この増感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好ましい。   Among these onium salts, it is particularly effective to use an aromatic onium salt as a cationic polymerization initiator. Among them, aromatic haloniums described in JP-A-50-151996, JP-A-50-158680 and the like are particularly effective. Salt, VIA group aromatic onium salts described in JP-A-50-151997, 52-30899, 59-55420, 55-125105, JP-A-56-8428, 56- 149402, 57-192429, etc., oxosulfoxonium salts described in JP-B-49-17040, etc., aromatic diazonium salts described in US Pat. No. 4,139,655, etc. A thiopyrylium salt or the like is preferable. Moreover, an aluminum complex, a photodegradable silicon compound type | system | group polymerization initiator, etc. can be mentioned. The cationic polymerization initiator can be used in combination with a photosensitizer such as the benzophenone and derivatives thereof, the benzoin and derivatives thereof, and the thioxanthone and derivatives thereof. The sensitizer preferably has an absorption maximum from the near ultraviolet region to the visible light region.

本発明において、セルロースエステルドープ中にエポキシ基を有する化合物と共に光重合開始剤及び/または光増感剤を混合するが、セルロースエステルに対してエポキシ基を有する化合物が5〜30質量%、また光重合開始剤がエポキシ基を有する化合物に対して1〜30質量%、好ましくは1〜10質量%である。   In the present invention, a photopolymerization initiator and / or a photosensitizer is mixed together with a compound having an epoxy group in a cellulose ester dope. A polymerization initiator is 1-30 mass% with respect to the compound which has an epoxy group, Preferably it is 1-10 mass%.

本発明に有用なエポキシ基と紫外線吸収剤を有する化合物を光重合開始剤と混合してドープとしてもよいし、エポキシ基を有する化合物と共に混合してドープとしてもよい。   A compound having an epoxy group and an ultraviolet absorber useful in the present invention may be mixed with a photopolymerization initiator to form a dope, or may be mixed with a compound having an epoxy group to form a dope.

本発明に有用なエポキシ基と紫外線吸収性基を有する化合物の紫外線吸収性基としては、ベンゾトリアゾール基、サリチル酸エステル基、ベンゾフェノン基、オキシベンゾフェノン基、シアノアクリレート基等を挙げることが出来、本発明においては何れも好ましく用いることが出来る。特に光反応性が少なく、且つ殆ど着色のないベンゾトリアゾール基が好ましい。   Examples of the ultraviolet absorbing group of the compound having an epoxy group and an ultraviolet absorbing group useful in the present invention include a benzotriazole group, a salicylic acid ester group, a benzophenone group, an oxybenzophenone group, and a cyanoacrylate group. Any of them can be preferably used. In particular, a benzotriazole group having low photoreactivity and almost no coloring is preferred.

下記に本発明に有用なエポキシ基と紫外線吸収性基を有する化合物を例示する。   The compounds having an epoxy group and an ultraviolet absorbing group useful in the present invention are exemplified below.

Figure 2006251163
Figure 2006251163

本発明に係るエポキシ基と紫外線吸収性基を有する化合物を含有するセルロースエステルドープを溶液流延製膜過程において製膜し、紫外線照射したウェブからは、紫外線吸収剤が析出あるいは揮発することがないため生産性よく、品質にが優れた液晶画像表示装置用の偏光板用保護フィルムを得ることが出来る。また、このエポキシ基と紫外線吸収性基を有する化合物のポリマーが前記の如くセルロースエステルに対して耐水性を合わせ持つことがより好ましく、ポリマーのTgを50℃以下とすることが好ましい。   A cellulose ester dope containing a compound having an epoxy group and an ultraviolet absorbing group according to the present invention is formed in a solution casting film forming process, and an ultraviolet absorber is not deposited or volatilized from a web irradiated with ultraviolet rays. Therefore, it is possible to obtain a protective film for a polarizing plate for a liquid crystal image display device with good productivity and excellent quality. Further, the polymer of the compound having an epoxy group and an ultraviolet absorbing group preferably has water resistance with respect to the cellulose ester as described above, and the Tg of the polymer is preferably 50 ° C. or lower.

本発明における光重合したポリマーを構成する紫外線吸収性基を有する化合物単位の割合は、ポリマーのセルロースエステルとの相溶性、セルロースエステルフィルムの機械的性質または物理的性質が同等またはそれ以上の性質、あるいは十分な紫外線吸収性能を有するのであれば、如何なるものであってもよい(1〜100質量%の範囲でよい)。   The proportion of the compound unit having an ultraviolet absorbing group constituting the photopolymerized polymer in the present invention is such that the compatibility of the polymer with the cellulose ester, the mechanical property or physical property of the cellulose ester film is equal to or higher than the property, Or what kind of thing may be sufficient if it has sufficient ultraviolet-ray absorption performance (the range of 1-100 mass% may be sufficient).

本発明において、紫外線吸収性基を有しエポキシ基を有する化合物の合成例について下記に例示する。
合成例
(UVE−1の合成)トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル(化合物C)30.2g(0.1mol)、化合物A12.8g(0.05mol)及びテトラメチルアンモニウムクロリド0.24g(2.5mol)をトルエン50mlに溶かし、約2時間加熱環流を行った。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出を行った。この液を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた後、減圧濃縮を行い、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、UVE−1を得た。目的物の構造は1H−NMR及びIRで確認した。
In the present invention, a synthesis example of a compound having an ultraviolet absorbing group and an epoxy group is exemplified below.
Synthesis Example (Synthesis of UVE-1) 30.2 g (0.1 mol) of trimethylolpropane triglycidyl ether (Compound C), 12.8 g (0.05 mol) of Compound A and 0.24 g (2.5 mol) of tetramethylammonium chloride Was dissolved in 50 ml of toluene and heated to reflux for about 2 hours. Water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. This solution was dried over anhydrous sodium sulfate, concentrated under reduced pressure, and purified by silica gel chromatography to obtain UVE-1. The structure of the target product was confirmed by 1 H-NMR and IR.

本発明において、セルロースエステルドープ中にエポキシ基を有する化合物と共に光重合開始剤(場合によっては光増感剤も)を混合するが、セルロースエステルに対してエポキシ基を有する化合物が5〜30質量%、また光重合開始剤がエポキシ基を有する化合物に対して1〜30質量%、好ましくは1〜10質量%である。   In the present invention, a photopolymerization initiator (in some cases, a photosensitizer) is mixed with a compound having an epoxy group in the cellulose ester dope, but the compound having an epoxy group is 5 to 30% by mass with respect to the cellulose ester. The photopolymerization initiator is 1 to 30% by mass, preferably 1 to 10% by mass, based on the compound having an epoxy group.

ここで、本発明のセルロースエステルフィルムを溶液流延製膜装置により製膜する方法、特に製膜中に紫外線を照射する方法について説明する。   Here, a method for forming the cellulose ester film of the present invention with a solution casting film forming apparatus, particularly a method for irradiating ultraviolet rays during film formation will be described.

上記の如きエチレン性不飽和モノマーまたはエポキシ基を有する化合物を含有するセルロースエステルドープ組成物をダイから金属支持体表面にドープ膜として流延して、金属支持体上で有機溶媒を蒸発させてウェブ(流延以降をドープ膜をウェブという)とし、ウェブを金属支持体が流延から1周する前(残留溶媒量として30〜150質量%の時)で剥離する。金属支持体は、研磨された鏡面を有するステンレスベルトまたはドラムである。金属支持体上でのウェブの加熱は、ウェブの表面に熱風を与えたり、金属支持体裏面から気体伝熱また金属支持体の裏面からの液体伝熱によって行われる。また、金属支持体を20℃以下に冷却してドープ膜を固化してあまり乾燥させずに金属支持体から剥離する方法もある。   A cellulose ester dope composition containing an ethylenically unsaturated monomer or a compound having an epoxy group as described above is cast as a dope film from the die onto the surface of the metal support, and the organic solvent is evaporated on the metal support to form a web. (After casting, the dope film is referred to as a web), and the web is peeled before the metal support makes one round from the casting (when the residual solvent amount is 30 to 150% by mass). The metal support is a stainless steel belt or drum having a polished mirror surface. The web is heated on the metal support by applying hot air to the surface of the web, by gas heat transfer from the back surface of the metal support, or by liquid heat transfer from the back surface of the metal support. There is also a method in which the metal support is cooled to 20 ° C. or lower to solidify the dope film and peel off from the metal support without being dried too much.

なお、残留溶媒量は下記の式で表せる。
残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
ここで、Mはウェブの任意時点での質量、NはMを110℃で3時間乾燥させた時の質量である。
The residual solvent amount can be expressed by the following formula.
Residual solvent amount (% by mass) = {(MN) / N} × 100
Here, M is the mass of the web at any point, and N is the mass when M is dried at 110 ° C. for 3 hours.

ウェブを剥離後、千鳥状に配置したロールにウェブを通して搬送する乾燥機及び/またはウェブの両端をクリッピングして搬送する乾燥機でウェブを乾燥してセルロースエステルフィルムを作製する。乾燥装置内でのウェブの乾燥温度は80〜150℃で行うが、ウェブの収縮などからその時点での剥離残留溶媒量が少なくなるのに応じて高くするのがよい。加熱方法としては、熱風を吹き付ける方法、赤外線照射、加熱ロール接触、マイクロ波照射等を挙げることが出来、適宜使い分ければよい。剥離後にロール乾燥装置ばかりでなく、ウェブの両端を把持するテンター乾燥装置でウェブを幅方向を縮まないように保持するか、若干延伸してもよい。テンター乾燥装置としては、ピンテンター方式またはクリップテンター方式のいずれでもよく、液晶表示装置用のセルロースエステルフィルムとしては、テンター乾燥装置を使用して、0.5〜5%程度横方向に延伸するのが好ましい。本発明の光重合用の紫外線照射は、ドープを流延してから、ウェブの乾燥が終了するまでの間の任意の場所で行えばよく、特にウェブが金属支持体上にある時に照射することが好ましく、有機溶媒がウェブ中に適度に存在することにより分子の移動が容易で、重合がスムースに進行し易い。   After peeling off the web, the web is dried with a dryer that transports the web through rolls arranged in a staggered pattern and / or a dryer that transports the web by clipping both ends thereof to produce a cellulose ester film. The drying temperature of the web in the drying apparatus is 80 to 150 ° C., but it should be increased as the amount of residual solvent at that time decreases due to shrinkage of the web. Examples of the heating method include a method of blowing hot air, infrared irradiation, heating roll contact, microwave irradiation, and the like, which may be properly used. You may hold | maintain so that a width direction may not be shrunk | reduced with the tenter drying apparatus which hold | grips the both ends of a web after peeling, but may extend | stretch a little. As the tenter drying device, either a pin tenter method or a clip tenter method may be used, and as a cellulose ester film for a liquid crystal display device, a tenter drying device is used and stretched in the lateral direction by about 0.5 to 5%. preferable. The ultraviolet irradiation for photopolymerization according to the present invention may be performed at any place between casting the dope and completing the drying of the web, particularly when the web is on the metal support. It is preferable that when the organic solvent is appropriately present in the web, the movement of the molecule is easy, and the polymerization easily proceeds smoothly.

本発明に係るエチレン性不飽和モノマー及びエポキシ基を有する化合物を光重合させる紫外線照射源は低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、カーボンアーク、メタルハライドランプ、太陽光線等を挙げることが出来る。紫外線を照射による光重合は、空気または不活性気体中で行うことが出来るが、エチレン性不飽和モノマーを使用する場合には、空気中でもよいが、重合の誘導期を短くするために出来るだけ酸素濃度が少ない気体が好ましい。照射する紫外線の照射強度は0.1〜100mW/cm2程度が良く、照射量は100〜20000mJ/cm2程度が好ましい。 The ultraviolet irradiation source for photopolymerizing the ethylenically unsaturated monomer and the compound having an epoxy group according to the present invention is a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a xenon lamp, a carbon arc, a metal halide lamp, Sunlight etc. can be mentioned. Photopolymerization by irradiation with ultraviolet rays can be carried out in air or in an inert gas, but in the case of using an ethylenically unsaturated monomer, it may be in air, but oxygen can be used as much as possible to shorten the polymerization induction period. A gas with a low concentration is preferred. The irradiation intensity of the ultraviolet rays to be irradiated is preferably about 0.1 to 100 mW / cm 2 , and the irradiation amount is preferably about 100 to 20000 mJ / cm 2 .

次に、更なる他の本発明の予めエチレン性不飽和モノマーを重合して得たポリマーを含有するセルロースエステルドープ組成について述べる。   Next, a cellulose ester dope composition containing a polymer obtained by previously polymerizing an ethylenically unsaturated monomer according to another embodiment of the present invention will be described.

これらのポリマーを構成するエチレン性不飽和モノマーとしては、前記のエチレン性モノマーと同様なものを挙げることが出来る。これらのうち特にビニルエステルを主とするモノマーが好ましい。エチレン性不飽和モノマーとしては、前記と同様であるが、アクリルエステル、ビニルエステル、マレイン酸ジエステルを使用することが出来るが、特にはビニルエステルを主とするものが好ましい。ポリマーをセルロースエステルドープに添加混合する際、ポリマーがセルロースエステルドープ中に均一に混合することが出来、セルロースエステルフィルムとなった後においても相溶性がよく、相分離しにくいものが好ましい。これらのエチレン性不飽和モノマーの重合方法としては、通常のラジカル重合あるいはカチオン重合による溶液重合、塊状重合、懸濁重合、乳化重合等の方法で行うことが出来る。また重合後、何れの重合方法も一旦はポリマーを沈殿させて精製した後に溶液にしてドープに添加してもよいが、溶液重合の場合は、重合溶液をそのままドープに添加して用いることが出来る。ポリマーはセルロースエステルドープ組成物に使用する有機溶媒に溶解することが必要である。そのような有機溶媒としては、メチレンクロリド、エチレンクロリド、クロロホルム、酢酸メチル、ギ酸メチル、ギ酸エチル、フルオロアルコール等を挙げることが出来る。特にメチレンクロリド及び酢酸メチルが好ましい。   Examples of the ethylenically unsaturated monomer constituting these polymers include those similar to the aforementioned ethylenic monomer. Of these, monomers mainly composed of vinyl esters are preferred. As the ethylenically unsaturated monomer, the same as described above, acrylic ester, vinyl ester, and maleic acid diester can be used, and those mainly composed of vinyl ester are particularly preferable. When the polymer is added to and mixed with the cellulose ester dope, the polymer can be uniformly mixed in the cellulose ester dope and has good compatibility even after becoming a cellulose ester film, and is preferably difficult to phase separate. As a polymerization method of these ethylenically unsaturated monomers, it can be carried out by methods such as solution polymerization, bulk polymerization, suspension polymerization, emulsion polymerization, etc. by ordinary radical polymerization or cationic polymerization. In addition, after polymerization, any polymerization method may be added to the dope as a solution after precipitating and purifying the polymer, but in the case of solution polymerization, the polymerization solution can be added to the dope as it is. . The polymer must be dissolved in the organic solvent used in the cellulose ester dope composition. Examples of such an organic solvent include methylene chloride, ethylene chloride, chloroform, methyl acetate, methyl formate, ethyl formate, and fluoroalcohol. Particularly preferred are methylene chloride and methyl acetate.

本発明に有用なポリマーのラジカル重合開始剤としては、ベンゾイルペルオキシド、アセチルペルオキシド、t−ブチルヒドロキシペルオキシド、t−ブチルペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ジ−t−ブチルペルオキシド、ジクメンペルオキシド、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、過酸化水素、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム−と亜硫酸水素ナトリウム、ベンゾイルペルオキシド−硫酸第一鉄アンモニウム、過硫酸アンモニウム−メタ亜硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム−チオ硫酸ナトリウム等通常用いられる開始剤を用いることが出来る。 また、カチオン重合開始剤としては、BF3、AlCl3、TiCl4、SnCl2、SnCl4等のルイス酸と水、アルコール、カルボン酸、エーテル、ハロゲン化炭化水素等の不対電子を有する共触媒、硫酸、リン酸、トリクロル酢酸、トリフルオロ酢酸等のプロトン酸、あるいは、I2、BF3O(C252、AgClO4、(C653CCl等のカチオンを生成し易い物質を挙げることが出来る。 Polymeric radical polymerization initiators useful in the present invention include benzoyl peroxide, acetyl peroxide, t-butyl hydroxy peroxide, t-butyl peroxide, cumene hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, dicumene peroxide, azobisisobutyrate. Ronitrile, azobiscyclohexanecarbonitrile, hydrogen peroxide, potassium persulfate, ammonium persulfate, potassium persulfate and sodium bisulfite, benzoyl peroxide-ammonium ferrous sulfate, ammonium persulfate-sodium metasulfite, ammonium persulfate-thiosulfuric acid Commonly used initiators such as sodium can be used. In addition, as a cationic polymerization initiator, a cocatalyst having unpaired electrons such as Lewis acid such as BF 3 , AlCl 3 , TiCl 4 , SnCl 2 , SnCl 4 and water, alcohol, carboxylic acid, ether, halogenated hydrocarbon, etc. Protonic acid such as sulfuric acid, phosphoric acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, or cations such as I 2 , BF 3 O (C 2 H 5 ) 2 , AgClO 4 , (C 6 H 5 ) 3 CCl Mention easy substances.

溶液重合の場合の有機溶媒としては、連鎖移動を起こし難いものであれば何れも用いることが出来る。例えば、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1,3−ジオキソラン、酢酸メチル、酢酸エチル、メチレンクロリド等を挙げることが出来る。乳化重合の場合には、アニオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤何れも使用出来、またポリビニルアルコールのような水溶性ポリマー等も使用出来る。   Any organic solvent can be used as long as it does not easily cause chain transfer in the case of solution polymerization. For example, methanol, ethanol, acetone, methyl ethyl ketone, tetrahydrofuran, dioxane, 1,3-dioxolane, methyl acetate, ethyl acetate, methylene chloride and the like can be mentioned. In the case of emulsion polymerization, any of an anionic surfactant, nonionic surfactant, and cationic surfactant can be used, and a water-soluble polymer such as polyvinyl alcohol can also be used.

重合容器は耐圧性のもので、撹拌機、滴下ロート、窒素気流導入管等が付いているものがよい。重合条件は、窒素により空気を置換した系で行うのがよく、重合温度は重合様式により異なるが、ラジカル重合では−10〜100℃の範囲が適切である。カチオン重合では、重合反応が激しいため、極低温例えば−150〜−50℃で行うことが多い。   The polymerization vessel is pressure-resistant and preferably equipped with a stirrer, a dropping funnel, a nitrogen stream introduction pipe and the like. The polymerization conditions are preferably carried out in a system in which air is substituted with nitrogen, and the polymerization temperature varies depending on the polymerization mode, but in the radical polymerization, a range of −10 to 100 ° C. is appropriate. Cationic polymerization is often carried out at extremely low temperatures, for example, −150 to −50 ° C., because the polymerization reaction is intense.

下記に本発明に有用なポリマーを示すが、これらに限定されない。   The following are useful polymers for the present invention, but are not limited thereto.

Figure 2006251163
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ここで、x、y、zは1〜100の正の整数であり、x+y+z=100である。但しP−4〜8及びUVP−7のyは1〜50である。   Here, x, y, and z are positive integers of 1 to 100, and x + y + z = 100. However, y of P-4-8 and UVP-7 is 1-50.

本発明においては、上記の紫外線吸収性基を有するポリマー(UVP−1〜7)の他に特開平6−148430号公報に記載のものも本発明において好ましく用いられる。
(重合例)
(P−1の重合)酢酸ビニルモノマー36gとラウリン酸ビニルモノマー4gを100mlの三頭コルベンに入れ、真空ポンプにより、減圧にした後窒素置換を3回行った。窒素下脱水テトラヒドロフラン60mlに溶解し、加熱環流した。この溶液にα,α′アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)30mgのテトラヒドロフラン溶液を添加し、3時間加熱環流し重合を行った。反応溶液の溶媒を減圧留去した後、最小のテトラヒドロフランに溶解し、水で再沈殿した。析出物を濾取し、P−1を得た。P−1の各モノマー単位の質量比(酢酸ビニル/ラウリン酸ビニル)は90/10であった。またP−1の質量平均分子量をGPCにより測定した結果16800であった。
(UVP−1の重合)酢酸ビニルモノマー16g、ラウリン酸ビニルモノマー8g及び16gのUVM−1モノマーを100mlの三頭コルベンに入れ、真空ポンプにより、減圧にした後窒素置換を3回行った。窒素下脱水テトラヒドロフラン60mlに溶解し、加熱環流した。この溶液にAIBN30mgのテトラヒドロフラン溶液を添加し、3時間加熱環流し重合を行った。反応溶液の溶媒を減圧留去した後、最小のテトラヒドロフランに溶解し、水で再沈殿した。析出物を濾取し、UVP−1を得た。UVP−1のモノマー単位の質量比(x/y/z)は40/20/40であった。UVP−1の質量平均分子量をGPCにより測定した結果24400であった。
(ASP−1の重合)酢酸ビニルモノマー24g、16gのASM−1モノマーを100mlの三頭コルベンに入れ、真空ポンプにより、減圧にした後窒素置換を3回行った。窒素下脱水テトラヒドロフラン60mlに溶解し、加熱環流した。この溶液にAIBN30mgのテトラヒドロフラン溶液を添加し、3時間加熱環流し重合を行った。反応溶液の溶媒を減圧留去した後、最小のテトラヒドロフランに溶解し、水で再沈殿した。析出物を濾取し、ASP−1を得た。ASP−1のモノマー単位の質量比(x、y)は60/40であった。ASP−1の質量平均分子量をGPCにより測定した結果32000であった。
In the present invention, those described in JP-A-6-148430 are also preferably used in the present invention, in addition to the above-described polymers having UV-absorbing groups (UVP-1 to 7).
(Example of polymerization)
(Polymerization of P-1) 36 g of vinyl acetate monomer and 4 g of vinyl laurate monomer were placed in a 100 ml three-headed Kolben and reduced in pressure with a vacuum pump, and then purged with nitrogen three times. Dissolved in 60 ml of dehydrated tetrahydrofuran under nitrogen and heated to reflux. To this solution was added a solution of 30 mg of α, α 'azobisisobutyronitrile (AIBN) in tetrahydrofuran, and the mixture was heated to reflux for 3 hours for polymerization. The solvent of the reaction solution was distilled off under reduced pressure, then dissolved in a minimum amount of tetrahydrofuran and reprecipitated with water. The precipitate was collected by filtration to obtain P-1. The mass ratio of each monomer unit of P-1 (vinyl acetate / vinyl laurate) was 90/10. Moreover, it was 16800 as a result of measuring the mass mean molecular weight of P-1 by GPC.
(Polymerization of UVP-1) 16 g of vinyl acetate monomer, 8 g of vinyl laurate monomer, and 16 g of UVM-1 monomer were placed in 100 ml of three-headed Kolben, and the pressure was reduced by a vacuum pump, followed by nitrogen substitution three times. Dissolved in 60 ml of dehydrated tetrahydrofuran under nitrogen and heated to reflux. A solution of AIBN (30 mg) in tetrahydrofuran was added to this solution, and polymerization was carried out by heating under reflux for 3 hours. The solvent of the reaction solution was distilled off under reduced pressure, then dissolved in a minimum amount of tetrahydrofuran and reprecipitated with water. The precipitate was collected by filtration to obtain UVP-1. The mass ratio (x / y / z) of monomer units of UVP-1 was 40/20/40. It was 24400 as a result of measuring the mass mean molecular weight of UVP-1 by GPC.
(Polymerization of ASP-1) 24 g of vinyl acetate monomer and 16 g of ASM-1 monomer were put into a 100 ml three-headed Kolben, and the pressure was reduced by a vacuum pump, followed by nitrogen substitution three times. Dissolved in 60 ml of dehydrated tetrahydrofuran under nitrogen and heated to reflux. A solution of AIBN (30 mg) in tetrahydrofuran was added to this solution, and polymerization was carried out by heating under reflux for 3 hours. The solvent of the reaction solution was distilled off under reduced pressure, then dissolved in a minimum amount of tetrahydrofuran and reprecipitated with water. The precipitate was collected by filtration to obtain ASP-1. The mass ratio (x, y) of monomer units of ASP-1 was 60/40. It was 32000 as a result of measuring the mass mean molecular weight of ASP-1 by GPC.

本発明のセルロースエステルフィルムは、低分子可塑剤や紫外線吸収剤を実質的に含有しないため、製造中のウェブから析出または揮発するものがないので、ウェブを汚すこともなく、また液晶表示装置となった後、密閉された自動車内の高温多湿状態においてもほとんどフィルムから析出または揮発することもないので、理想的なフィルムといえる。   Since the cellulose ester film of the present invention does not substantially contain a low molecular plasticizer or an ultraviolet absorber, there is nothing that precipitates or volatilizes from the web during production, so that the web is not soiled, and the liquid crystal display device Then, the film is hardly deposited or volatilized even in a hot and humid state in a sealed automobile, so it can be said to be an ideal film.

高温多湿条件でフィルムから物質が析出や揮発することによる質量の変化を示す保留性は、ほとんど零であることが好ましいが、フィルム中に残留溶媒があるため、若干の質量の減少はやむを得ない。本発明における保留性は1.0%以下が良く、好ましくは0.5%以下、より好ましくは0.1%以下である。   The retentivity indicating the change in mass due to the deposition and volatilization of substances from the film under high-temperature and high-humidity conditions is preferably almost zero. However, since there is a residual solvent in the film, a slight decrease in mass is inevitable. The retention in the present invention is preferably 1.0% or less, preferably 0.5% or less, more preferably 0.1% or less.

また、高温多湿に対するセルロースエステルフィルムの寸法安定性も改良され、発明のポリマーを含有しないセルロースエステルフィルムより寸法変化率が小さくなっている。 本発明のセルロースエステルフィルムの寸法変化率は80℃、90%RHの高温高湿下、50時間の処理において、±1.0%以内であることが好ましく、より好ましくは±0.5%以内、更に好ましくは±0.4%以内であり、特に好ましくは±0.3%以内であることが特に好ましい。   Moreover, the dimensional stability of the cellulose ester film with respect to high temperature and humidity is also improved, and the dimensional change rate is smaller than the cellulose ester film not containing the polymer of the invention. The dimensional change rate of the cellulose ester film of the present invention is preferably within ± 1.0%, more preferably within ± 0.5% in a treatment for 50 hours under high temperature and high humidity of 80 ° C. and 90% RH. More preferably, it is within ± 0.4%, particularly preferably within ± 0.3%.

上記のような高温高湿の性質は、基本的には、それが全てではないが、吸水性に左右される場合が多い。本発明のポリマーを含有するセルロースエステルフィルムはそれらを含まないフィルムより吸水性が小さく優れた性質を有している。一般にセルロースエステルフィルムの吸水率は高湿下で約3質量%弱であるに対して、本発明のセルロースエステルフィルムは2質量%以下であることが特徴となっている。   The high temperature and high humidity properties as described above are basically not all, but often depend on water absorption. The cellulose ester film containing the polymer of the present invention has excellent properties such that the water absorption is smaller than the film not containing them. In general, the water absorption of the cellulose ester film is less than about 3% by mass under high humidity, whereas the cellulose ester film of the present invention is characterized by 2% by mass or less.

紫外線吸収基を有するポリマーを含有する本発明のセルロースエステルフィルムは、紫外線吸収性物質の減少がなく、有効に紫外線をカット出来る。また高温高湿下においても紫外線吸収性能の劣化のない。   The cellulose ester film of the present invention containing a polymer having an ultraviolet absorbing group can effectively cut ultraviolet rays without a decrease in ultraviolet absorbing material. Moreover, there is no deterioration of the ultraviolet absorption performance even under high temperature and high humidity.

また、本発明のセルロースエステルフィルムが帯電防止基を有するポリマーを含有することによって、製造中または取り扱い中におけるゴミなどの異物を吸着し難く、歩留まりのよいフィルムを提供出来る。   In addition, when the cellulose ester film of the present invention contains a polymer having an antistatic group, it is possible to provide a film with a high yield that hardly adsorbs foreign matters such as dust during production or handling.

本発明のセルロースエステルフィルムがポリマーを含有することによって、フィルムの厚さを増すことなくレターデーションが改良され、優れたレターデーションを示すこともわかった。   It was also found that when the cellulose ester film of the present invention contains a polymer, the retardation is improved without increasing the thickness of the film and an excellent retardation is exhibited.

更に、セルロースエステルフィルム製造過程において、従来の製造中における可塑剤のフィルムの厚み方向への移動が起因しているフィルムのカールも、本発明のポリマーを含有するセルロースエステルフィルムは、移動がないためカールも発現しにくく、良好な平面性を持つことが出来る。   Furthermore, in the cellulose ester film production process, the curl of the film caused by the movement of the plasticizer in the thickness direction of the film during the conventional production is not caused by the cellulose ester film containing the polymer of the present invention. Curling is also difficult to occur and good flatness can be obtained.

本発明のポリマーを含有するセルロースエステルフィルムは、上記の他、ポリマーを含有しない通常のセルロースエステルフィルムと物理的、機械的または化学的な性質が同等またはそれ以上の性質を有している。   In addition to the above, the cellulose ester film containing the polymer of the present invention has physical, mechanical or chemical properties equivalent to or higher than those of a normal cellulose ester film not containing a polymer.

本発明全てのセルロースエステルドープ組成物に、微粒子のマット剤を含有させることが好ましく、製膜した後の偏光板用保護フィルムとしてのセルロースエステルフィルムに、微粒子のマット剤が存在することによって、適度の滑りと耐擦り傷が付与させる。微粒子のマット剤はセルロースエステルドープ中に混合・分散して用いる。微粒子のマット剤としては、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を含有させることが好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを小さく出来るので好ましい。微粒子の2次粒子の平均粒径は0.01〜1.0μmの範囲で、その含有量はセルロースエステルに対して0.005〜0.3質量%が好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子には有機物、特にメチル基を有する化合物により表面処理されている場合が多いが、このようなものはフィルムのヘイズを低下出来るため本発明においては好ましい。表面処理で好ましい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン類(特にメトキシシラン)、シラザン、シロキサンなどがあげられる。微粒子の平均粒径が大きい方がマット効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れるため、好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は5〜50nmで、より好ましくは7〜14nmである。これらの微粒子はセルロースエステルフィルム中では、通常、凝集体として存在しセルロースエステルフィルム表面に0.01〜1.0μmの凹凸を生成させることが好ましい。二酸化ケイ素の微粒子としてはアエロジル(株)製のAEROSIL 200、200V、300、R972、R972V、R974、R202、R812,OX50、TT600等を挙げることが出来、好ましくはAEROSIL R972、R972V、R974、R202、R812である。これらのマット剤は2種以上併用してもよい。2種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することが出来る。この場合、平均粒径や材質の異なるマット剤、例えばAEROSIL200VとR972Vを質量比で0.1:99.9〜99.9〜0.1の範囲で使用出来る。   The cellulose ester dope composition of the present invention preferably contains a fine particle matting agent, and the cellulose ester film as a protective film for a polarizing plate after film formation has an appropriate amount due to the presence of the fine particle matting agent. Sliding and scratch-resistant. The fine particle matting agent is mixed and dispersed in the cellulose ester dope. Examples of the fine particle matting agent include inorganic substances such as silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, kaolin, talc, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, and calcium phosphate. It is preferable to contain fine particles and crosslinked polymer fine particles. Of these, silicon dioxide is preferable because it can reduce the haze of the film. The average particle size of the secondary particles of the fine particles is in the range of 0.01 to 1.0 μm, and the content is preferably 0.005 to 0.3% by mass with respect to the cellulose ester. In many cases, fine particles such as silicon dioxide are surface-treated with an organic substance, particularly a compound having a methyl group, but such a substance is preferable in the present invention because the haze of the film can be reduced. Preferred organic substances for the surface treatment include halosilanes, alkoxysilanes (particularly methoxysilane), silazane, siloxane and the like. The larger the average particle size of the fine particles, the greater the mat effect, and on the contrary, the smaller the average particle size, the better the transparency. Therefore, the average particle size of the preferred primary particles is 5 to 50 nm, more preferably 7 to 14 nm. It is. These fine particles are usually present as aggregates in the cellulose ester film, and it is preferable to form irregularities of 0.01 to 1.0 μm on the surface of the cellulose ester film. As the fine particles of silicon dioxide, AEROSIL 200, 200V, 300, R972, R972V, R974, R202, R812, OX50, TT600, etc. manufactured by Aerosil Co., can be mentioned, preferably AEROSIL R972, R972V, R974, R202, R812. Two or more of these matting agents may be used in combination. When using 2 or more types together, it can mix and use in arbitrary ratios. In this case, matting agents having different average particle sizes and materials, for example, AEROSIL 200V and R972V can be used in a mass ratio of 0.1: 99.9 to 99.9 to 0.1.

〈セミIPN型ポリマーアロイ〉
本発明の透明フィルムは、非架橋ポリマーである本発明に係るセルロースエステルと本発明に係る架橋ポリマーのセミIPN型ポリマーアロイからなることを特徴とする。
<Semi IPN type polymer alloy>
The transparent film of the present invention comprises a cellulose ester according to the present invention which is a non-crosslinked polymer and a semi-IPN type polymer alloy of the crosslinked polymer according to the present invention.

ここにおいて、IPNとは相互貫入網目構造のことであり、セミIPNとは一方が架橋ポリマー、他方が非架橋ポリマーの場合のIPNのことである。セミIPN型のポリマーアロイは、例えば、非架橋ポリマーを溶解した状態で、架橋ポリマー用のモノマーおよび/またはオリゴマーを架橋重合させる方法や、溶剤の存在または不存在下で架橋ポリマーをモノマーおよび/またはオリゴマーで膨潤させた状態でモノマーを非架橋重合させることにより形成することができる。ただし、本発明においては、架橋ポリマーと非架橋ポリマーが完全に相溶している必要はなく、相分離しているものも含む。架橋ポリマーと非架橋ポリマーが相分離している場合であっても、架橋ポリマーリッチ相と非架橋ポリマーリッチ相とは、それぞれセミIPN構造を取っている。しかしながら、本発明の透明フィルムは、粒子状に成形した架橋ポリマーと、非架橋ポリマーとをブレンドしたものではない。このことは、非架橋ポリマーを溶解する溶剤に本発明の透明フィルムを浸漬した時に、大部分の架橋ポリマーが粒子状に分散しないことにより確認できる。   Here, IPN is an interpenetrating network structure, and semi-IPN is an IPN in which one is a crosslinked polymer and the other is a non-crosslinked polymer. The semi-IPN type polymer alloy includes, for example, a method in which a monomer and / or oligomer for a crosslinked polymer is crosslinked and polymerized in a state in which a non-crosslinked polymer is dissolved, or a monomer and / or a crosslinked polymer in the presence or absence of a solvent. It can be formed by non-crosslinking polymerization of a monomer in a state swollen with an oligomer. However, in the present invention, it is not necessary that the crosslinked polymer and the non-crosslinked polymer are completely compatible with each other, and those in which the phases are separated are included. Even when the crosslinked polymer and the non-crosslinked polymer are phase-separated, each of the crosslinked polymer-rich phase and the non-crosslinked polymer-rich phase has a semi-IPN structure. However, the transparent film of the present invention is not a blend of a crosslinked polymer formed into particles and a non-crosslinked polymer. This can be confirmed by the fact that most of the crosslinked polymer is not dispersed in the form of particles when the transparent film of the present invention is immersed in a solvent that dissolves the non-crosslinked polymer.

上記セミIPN型ポリマーアロイからなる透明フィルムは、架橋ポリマーが有する高硬度、耐熱性等の物性と、非架橋ポリマーの柔軟性や光学特性を両立させることができる。
〈架橋ポリマー〉
本発明のセミIPN構造型ポリマーアロイに用いる架橋ポリマーとしては、特に限定はないが、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、架橋ビニルポリマー、ポリシアヌレートなどが挙げられるが、好ましくは透過率が高く、高耐熱性である架橋ビニルポリマーが用いられる。架橋ビニルポリマーは、重合性不飽和二重結合を有する低分子化合物を、加熱あるいはエネルギー線を照射して重合させることによって得られる。
The transparent film made of the semi-IPN type polymer alloy can achieve both physical properties such as high hardness and heat resistance of the crosslinked polymer, and flexibility and optical properties of the non-crosslinked polymer.
<Crosslinked polymer>
The cross-linked polymer used in the semi-IPN structure type polymer alloy of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include epoxy resins, phenol resins, melamine resins, cross-linked vinyl polymers, and polycyanurates. Is used, and a crosslinked vinyl polymer having high heat resistance is used. The crosslinked vinyl polymer can be obtained by polymerizing a low molecular compound having a polymerizable unsaturated double bond by heating or irradiation with energy rays.

本発明において低分子化合物とは、分子量が1000以下で、それ単体ではフィルムとして成膜できない化合物である。   In the present invention, the low molecular weight compound is a compound having a molecular weight of 1000 or less and cannot be formed as a film by itself.

本発明に用いられる重合性不飽和二重結合を有する低分子化合物しては、例えば、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、アクリル酸残基、メタクリル酸残基等の不飽和脂肪酸残基等を有する低分子化合物が挙げられる。   Examples of the low molecular weight compound having a polymerizable unsaturated double bond used in the present invention include alkenyl groups such as vinyl groups and allyl groups, unsaturated fatty acid residues such as acrylic acid residues and methacrylic acid residues, etc. And low molecular weight compounds.

本発明に用いられる重合性不飽和二重結合を有する低分子化合物しては特に限定はないが、重合前の混合段階でフィルムにヘイズを発生させたりブリードアウト、揮発せず相溶するように、セルロース誘導体と水素結合などによって相互作用可能である官能基を有していることが好ましい。   There is no particular limitation on the low molecular weight compound having a polymerizable unsaturated double bond used in the present invention, but it may be compatible without causing haze, bleeding out or volatilization in the film at the mixing stage before polymerization. It preferably has a functional group capable of interacting with a cellulose derivative by hydrogen bonding or the like.

このような官能基としては、水酸基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、カルボン酸残基、アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基、スルホン酸残基、ホスホニル基、ホスホン酸残基等が挙げられるが、好ましくはカルボニル基、エステル基、ホスホリル基である。   Examples of such functional groups include hydroxyl groups, ether groups, carbonyl groups, ester groups, carboxylic acid residues, amino groups, imino groups, amide groups, imide groups, cyano groups, nitro groups, sulfonyl groups, sulfonic acid residues, Examples thereof include a phosphonyl group and a phosphonic acid residue, and a carbonyl group, an ester group, and a phosphoryl group are preferable.

このような官能基を有し、かつ同時に重合性不飽和二重結合を有する官能基として、アクリル酸、メタクリル酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸の残基を有する低分子化合物が好ましく用いられる。   Examples of functional groups having such a functional group and simultaneously having a polymerizable unsaturated double bond include acrylic acid, methacrylic acid, undecylenic acid, oleic acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, and arachidonic acid. A low molecular weight compound having a saturated fatty acid residue is preferably used.

また、重合速度の速いものが好ましく、エネルギー線硬化可能なものが好ましいため、アクリル系および/またはメタクリル系〔これを(メタ)アクリル系と記述する。(メタ)アクリル基、(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイル等についても同様である〕の低分子化合物、即ち(メタ)アクリロイル基含有のものが好ましい。   Moreover, since a thing with a high superposition | polymerization rate is preferable and the thing which can be energy-beam curable is preferable, acrylic type and / or methacryl type [This is described as (meth) acrylic type. The same applies to (meth) acryl groups, (meth) acrylates, (meth) acryloyl, etc.)], ie, those containing (meth) acryloyl groups.

このような条件を満たし、また架橋ポリマーに耐熱性を付与できて本発明に好ましく用いられる重合性不飽和二重結合を複数有する低分子化合物として、(メタ)アクリル酸と多価のアルコールとのエステル類が挙げられる。   As a low molecular weight compound satisfying such conditions and imparting heat resistance to the crosslinked polymer and having a plurality of polymerizable unsaturated double bonds preferably used in the present invention, (meth) acrylic acid and polyhydric alcohol Examples include esters.

本発明に用いられる多価アルコールは次の一般式(2)で表される。
一般式(2)R1−(OH)n(ただし、R1はn価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性、及び/またはフェノール性水酸基を表す。)
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The polyhydric alcohol used in the present invention is represented by the following general formula (2).
General formula (2) R 1- (OH) n (where R 1 is an n-valent organic group, n is a positive integer of 2 or more, and the OH group represents an alcoholic and / or phenolic hydroxyl group)
Examples of preferred polyhydric alcohols include the following, but the present invention is not limited to these.

アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。   Adonitol, arabitol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3- Butanediol, 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane- Examples include 1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, trimethylolethane, xylitol and the like. In particular, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, sorbitol, trimethylolpropane, and xylitol are preferable.

多価アルコールエステルに用いられる不飽和カルボン酸は1種類でもよいし、2種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基は、全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。   The unsaturated carboxylic acid used in the polyhydric alcohol ester may be one type or a mixture of two or more types. Moreover, all the OH groups in the polyhydric alcohol may be esterified, or a part of the OH groups may be left as they are.

以下に、本発明に好ましく用いられる重合性不飽和二重結合を複数有する低分子化合物である多価アルコール不飽和カルボン酸エステルの具体的化合物を示す。   Below, the specific compound of the polyhydric alcohol unsaturated carboxylic acid ester which is a low molecular compound which has multiple polymerizable unsaturated double bonds preferably used for this invention is shown.

Figure 2006251163
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またこれら以外にも、重合性不飽和二重結合を複数有する低分子化合物として、以下に挙げるような化合物も好ましく用いることができる。   In addition to these, the following compounds can also be preferably used as the low molecular weight compound having a plurality of polymerizable unsaturated double bonds.

例えば、ジビニルスルホン、ジビニルベンゼン、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、ジアリルアミン、ジアリルスルフィド、ジアリルジスルフィド、ジアリルフタレート、トリアリールトリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン、N,N′−1,3−フェニレンジマレイミド、N,N′−1,4−フェニレンジマレイミド、(3−アクリロキシプロピル)トリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリフェニルシラン、(5−ビシクロヘプテニル)トリエトキシシラン、ボロンビニルジメチルシロキシド、ブテニルトリエトキシシラン、ジビニルジメチルシラン、ジビニルテトラメチルジシラン、1,3−ジアリルテトラメチルジシロキサン、1,3−ジビニル−1,3−ジフェニル−1,3−ジメチルジシロキサン、ヘキサビニルジシロキサン、メタクリロキシエトキシトリメチルシラン、メタクリロキシプロピルヘプタシクロペンチル−T8−シルセスキオキサン、オクタビニル−T8−シルセスキオキサン、メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリス(ビニルジメチルシロキシ)シラン、ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン、スチリルエチルトリメトキシシラン、テトラアリルシラン、テトラアリロキシシラン、テトラキス(2−メタクリロキシエトキシ)シラン、テトラキス(ビニルジメチルシロキシ)シラン、1,1,3,3−テトラビニルジメチルジシロキサン、テトラビニルシラン、1,3,5,7−テトラビニル−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン、トリビニルエトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、1−フェニル−1−トリメチルシロキシエチレン、2−トリメチルシロキシ−4−アリロキシジフェニルケトン、トリス(ビニルジメチルシロキシ)メチルシラン、トリビニルエトキシシラン、トリビニルメチルシラン、トリビニルシラン、1,3,5−トリビニル−1,3,5−トリメチルシクロトリシラザン、1,3,5−トリビニル−1,1,3,3,5,5−ペンタメチルトリシロキサン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリイソプロペノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アクリル酸アルミニウム、メタクリルオキシトリ−n−ブチルすず、テトラアリルすず、ホウ素ビニルジメチルシロキサイド、チタンアリルアセトアセテートトリイソプロポキサイド、チタンメタクリレートイソプロポキサイド、ジルコニウムジメタクリレートジブトキサイド、ジルコニウムメタクリルオキシエチルアセトアセテートトリ−n−プロポキサイド、銅(II)メタクリルオキシエチルアセトアセテート、エポキシ樹脂の(メタ)アクリル酸エステル、ポリエステル樹脂の(メタ)アクリル酸エステル、ポリエーテル樹脂の(メタ)アクリル酸エステル、ポリブタジエン樹脂の(メタ)アクリル酸エステル、分子末端に(メタ)アクリロイル基を有するポリウレタン樹脂等のオリゴマー、等を挙げることができる。   For example, divinylsulfone, divinylbenzene, 1,4-butanediol divinyl ether, diallylamine, diallyl sulfide, diallyl disulfide, diallyl phthalate, triaryltriazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, N, N '-1,3-phenylenedimaleimide, N, N'-1,4-phenylenedimaleimide, (3-acryloxypropyl) trimethoxysilane, allyltriethoxysilane, allyltriphenylsilane, (5-bicycloheptenyl) ) Triethoxysilane, boron vinyldimethylsiloxide, butenyltriethoxysilane, divinyldimethylsilane, divinyltetramethyldisilane, 1,3-diallyltetramethyldisiloxane, 1,3-divinyl-1,3-diphenyl-1, 3-Dimethyl Disiloxane, hexavinyldisiloxane, methacryloxyethoxytrimethylsilane, methacryloxypropylheptacyclopentyl-T8-silsesquioxane, octavinyl-T8-silsesquioxane, methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane , Methacryloxypropyltris (vinyldimethylsiloxy) silane, pentavinylpentamethylcyclopentasiloxane, styrylethyltrimethoxysilane, tetraallylsilane, tetraallyloxysilane, tetrakis (2-methacryloxyethoxy) silane, tetrakis (vinyldimethylsiloxy) Silane, 1,1,3,3-tetravinyldimethyldisiloxane, tetravinylsilane, 1,3,5,7-tetravinyl-1,3 5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, trivinylethoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane, 1-phenyl-1-trimethylsiloxyethylene, 2-trimethylsiloxy-4-allyloxydiphenyl ketone, tris (vinyldimethylsiloxy) methylsilane, Trivinylethoxysilane, trivinylmethylsilane, trivinylsilane, 1,3,5-trivinyl-1,3,5-trimethylcyclotrisilazane, 1,3,5-trivinyl-1,1,3,3,5, 5-pentamethyltrisiloxane, vinyltriacetoxysilane, vinyltriisopropenoxysilane, vinyltrimethoxysilane, aluminum acrylate, methacryloxytri-n-butyltin, tetraallyltin, boron vinyldimethylsiloxide, titanium Allyl acetoacetate triisopropoxide, titanium methacrylate isopropoxide, zirconium dimethacrylate dibutoxide, zirconium methacryloxyethyl acetoacetate tri-n-propoxide, copper (II) methacryloxyethyl acetoacetate, (meth) acrylic epoxy resin Oligomers such as acid esters, (meth) acrylic esters of polyester resins, (meth) acrylic esters of polyether resins, (meth) acrylic esters of polybutadiene resins, polyurethane resins having (meth) acryloyl groups at the molecular ends, Etc.

これらの重合性不飽和二重結合を有する低分子化合物は、単独あるいは2種以上混合して用いることができる。また、不飽和二重結合基を1つ有する低分子化合物を架橋ポリマーの構造中に含んでも良いが、架橋ポリマーの耐熱性を保つためには、架橋ポリマーの50質量%以上は、本発明に係る不飽和二重結合基を複数有する低分子化合物からなることが好ましい。   These low molecular compounds having a polymerizable unsaturated double bond can be used alone or in combination of two or more. In addition, a low molecular compound having one unsaturated double bond group may be included in the structure of the crosslinked polymer, but in order to maintain the heat resistance of the crosslinked polymer, 50% by mass or more of the crosslinked polymer is contained in the present invention. It is preferably composed of a low molecular compound having a plurality of such unsaturated double bond groups.

また透明フィルム中の本発明に係る架橋ポリマーの含有量としては、透明フィルムの全質量に対して、5〜50質量%が好ましい。該架橋ポリマーの添加量が5質量%より少ないと、架橋ポリマーの添加による耐熱性向上の効果が認められず、高温加熱時に流動しやすくなるため好ましくない。一方、50質量%を越えると、透明フィルムがもろくなってしまうため、好ましくない。   Moreover, as content of the crosslinked polymer which concerns on this invention in a transparent film, 5-50 mass% is preferable with respect to the total mass of a transparent film. If the amount of the crosslinked polymer added is less than 5% by mass, the effect of improving the heat resistance due to the addition of the crosslinked polymer is not recognized, and it tends to flow during high-temperature heating, which is not preferable. On the other hand, if it exceeds 50% by mass, the transparent film becomes brittle, which is not preferable.

更に、本発明のセルロースエステルフィルム中には、良好な平面性及びタッキング防止性を確保するために、以下のような構成を取ることが好ましい。
本発明のセルロースエステルフィルムは、少なくとも基層と表層とを有する多層構造からなっており、その表層のみにマット剤が添加されている。この表層は、基層の片側にのみ積層されていても、基層の両側に積層されていてもよい。すなわち、図6に示すように、基層1とその両面に積層された表層2とからなる三層の態様と、図7に示すように、基層1とその一方の面に積層された表層2とからなる二層の態様とがある。また、表層は、表面に位置する個所に積層されるもので、基層と表層との間に他の層を積層することもできる。
Furthermore, the cellulose ester film of the present invention preferably has the following configuration in order to ensure good flatness and anti-tacking properties.
The cellulose ester film of the present invention has a multilayer structure having at least a base layer and a surface layer, and a matting agent is added only to the surface layer. This surface layer may be laminated only on one side of the base layer, or may be laminated on both sides of the base layer. That is, as shown in FIG. 6, a three-layer mode comprising a base layer 1 and a surface layer 2 laminated on both sides thereof, and as shown in FIG. 7, a base layer 1 and a surface layer 2 laminated on one surface thereof, There are two-layer embodiments. The surface layer is laminated at a position located on the surface, and another layer can be laminated between the base layer and the surface layer.

このようなセルロースエステルフィルムにおいて、表層のみにマット剤が添加されており、基層にはマット剤が添加されていない。すなわち、表層にのみマット剤を添加することにより、セルロースエステルフィルムの表面の平面性及びタッキング防止性を確保するとともに、基層(中間に他の層を積層した場合は、その中間層も含む)にマット剤を添加しないことにより、セルロースエステルフィルム全体の透明性を確保している。   In such a cellulose ester film, a matting agent is added only to the surface layer, and no matting agent is added to the base layer. That is, by adding a matting agent only to the surface layer, it ensures the flatness and anti-tacking property of the surface of the cellulose ester film, and in the base layer (including the intermediate layer when other layers are laminated in the middle). By not adding a matting agent, the transparency of the entire cellulose ester film is secured.

本発明のセルロースエステルフィルムの表層に添加できるマット剤としては、SiO2、TiO2、BaSO4、CaCO3、タルク、カオリン等が例示される。また、無機化合物には、例えば、硫酸バリウム、マンガンコロイド、二酸化チタン、硫酸ストロンチウムバリウム、二酸化ケイ素などの無機物の微粉末があるが、さらに例えば湿式法やケイ酸のゲル化より得られる合成シリカ等の二酸化ケイ素やチタンスラッグと硫酸により生成する二酸化チタン(ルチル型やアナタース型)等が挙げられる。また、粒径の比較的大きい、例えば20μm以上の無機物から粉砕した後、分級(振動濾過、風力分級など)することによっても得られる。好ましい無機化合物のマット剤として、導電性を有する微粒子が挙げられる。具体的には、ZnO、TiO3、SnO2、Al23、In23、SiO2、MgO、BaO、MoO3の中から選ばれた少なくとも1種の結晶性の金属酸化物あるいはこれらの複合酸化物の微粒子がある。 Examples of the matting agent that can be added to the surface layer of the cellulose ester film of the present invention include SiO 2 , TiO 2 , BaSO 4 , CaCO 3 , talc, and kaolin. In addition, examples of inorganic compounds include fine powders of inorganic substances such as barium sulfate, manganese colloid, titanium dioxide, strontium barium sulfate, and silicon dioxide. Further, for example, synthetic silica obtained by wet method or gelation of silicic acid, etc. And titanium dioxide (rutile type or anatase type) produced by silicon dioxide or titanium slug and sulfuric acid. It can also be obtained by pulverizing from an inorganic substance having a relatively large particle size, for example, 20 μm or more, and then classifying (vibration filtration, wind classification, etc.). A preferred inorganic compound matting agent includes conductive fine particles. Specifically, at least one crystalline metal oxide selected from ZnO, TiO 3 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, and MoO 3 , or these There are fine composite oxide particles.

また、高分子化合物からなるマット剤としては、ポリテトラフルオロエチレン、セルロースアセテート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリエチレンカーボネート、澱粉等があり、これらの粉砕分級物もあげられる。また、懸濁重合法で合成した高分子化合物、スプレードライ法あるいは分散法等により球形にした高分子化合物、または無機化合物を用いることができる。また以下に述べるような単量体化合物の1種又は2種以上の重合体である高分子化合物を種々の手段によって粒子としたものであってもよい。   Further, examples of the matting agent made of a polymer compound include polytetrafluoroethylene, cellulose acetate, polystyrene, polymethyl methacrylate, polypropyl methacrylate, polymethyl acrylate, polyethylene carbonate, starch, and the like. . Further, a polymer compound synthesized by a suspension polymerization method, a polymer compound made spherical by a spray drying method or a dispersion method, or an inorganic compound can be used. Moreover, the polymer compound which is a polymer of one kind or two or more kinds of monomer compounds described below may be formed into particles by various means.

例えば、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、ビニルエステル類、スチレン類、オレフィン類が好ましく用いられる。また、特開昭62−14647号公報、同62−17744号公報、同62−17743号公報に記載されているようなフッ素原子あるいはシリコン原子を有する粒子を用いてもよい。これらの中で好ましく用いられる粒子組成としてポリスチレン、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリエチルアクリレート、ポリ(メチルメタクリレート/メタクリル酸=95/5)(モル比)、ポリ(スチレン/スチレンスルホン酸=95/5)(モル比)、ポリアクリロニトリル、ポリ(メチルメタクリレート/エチルアクリレート/メタクリル酸=50/40/10)、シリカなどを挙げることができる。   For example, acrylic acid esters, methacrylic acid esters, vinyl esters, styrenes, and olefins are preferably used. Moreover, you may use the particle | grains which have a fluorine atom or a silicon atom as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 62-14647, 62-17744, 62-177743. Among these, the particle composition preferably used is polystyrene, polymethyl (meth) acrylate, polyethyl acrylate, poly (methyl methacrylate / methacrylic acid = 95/5) (molar ratio), poly (styrene / styrenesulfonic acid = 95/5). ) (Molar ratio), polyacrylonitrile, poly (methyl methacrylate / ethyl acrylate / methacrylic acid = 50/40/10), silica and the like.

マット剤としては、以上のように種々の無機化合物及び高分子化合物を用いることができるが、メチレンクロライドを用いた分散薬では無機化合物が好ましく、特にシリカ(SiO2)は安価で入手し易いので好ましい。 As the matting agent, various inorganic compounds and polymer compounds can be used as described above, but inorganic compounds are preferable for the dispersant using methylene chloride, and silica (SiO 2 ) is particularly inexpensive and easily available. preferable.

マット剤の添加量は、5〜500mg/m2が好ましく、10〜100mg/m2がより好ましい。マット剤の添加量が5mg/m2未満であると、セルロースエステルフィルム表面の滑り性・タッキング防止性を確保することが困難になり、500mg/m2を越えると、透明性が悪くなる。 The addition amount of the matting agent is preferably 5~500mg / m 2, 10~100mg / m 2 is more preferable. When the addition amount of the matting agent is less than 5 mg / m 2 , it becomes difficult to ensure the slipperiness and tackiness prevention property of the cellulose ester film surface, and when it exceeds 500 mg / m 2 , the transparency is deteriorated.

セルロースエステルフィルムの表層の厚みは、0.0002mm〜0.02mmが好ましく、0.0005mm〜0.01mmがより好ましい。表層の厚みが0.0002mm未満であると、均一な層を形成することが困難である。また、表層の厚みが0.02mmを越えると、積層化の利点が損なわれる恐れがある。   The thickness of the surface layer of the cellulose ester film is preferably 0.0002 mm to 0.02 mm, and more preferably 0.0005 mm to 0.01 mm. If the thickness of the surface layer is less than 0.0002 mm, it is difficult to form a uniform layer. On the other hand, if the thickness of the surface layer exceeds 0.02 mm, the advantage of lamination may be impaired.

また、セルロースエステルフィルムの総厚みは、写真感光材料、光学材料等の用途によって適宜決定されるが、一般的に、0.02mm〜0.5mmの範囲に設定されている。   The total thickness of the cellulose ester film is appropriately determined depending on the use of the photographic material, the optical material, etc., but is generally set in the range of 0.02 mm to 0.5 mm.

本発明によるセルロースエステルフィルムの表層の中心線平均粗さは、0.01μm〜5μmであることが好ましく、中心線平均粗さが0.1μm〜1μmであることがより好ましい。表層の中心線平均粗さが0.01μm未満であると、フィルムにきしみが発生し、細かい傷が生じる。また、中心線平均粗さが5mを越えると、平面性が悪くなる。   The center line average roughness of the surface layer of the cellulose ester film according to the present invention is preferably 0.01 μm to 5 μm, and the center line average roughness is more preferably 0.1 μm to 1 μm. When the center line average roughness of the surface layer is less than 0.01 μm, the film is squeaked and fine scratches are generated. On the other hand, if the center line average roughness exceeds 5 m, the flatness is deteriorated.

セルロースエステルフィルムの製造は、一般に、セルロースエステル、可塑剤及び溶剤(表層の場合は、マット剤を含む)を使用する。このセルロースエステルとしては、セルロースの低級脂肪酸エステル(例:セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレートおよびセルロースアセテートプロピオネート)が代表的である。低級脂肪酸は、炭素原子数6以下の脂肪酸を意味する。セルロースアセテートには、セルローストリアセテート(TAC)やセルロースジアセテート(DAC)が含まれる。   In producing a cellulose ester film, a cellulose ester, a plasticizer and a solvent (including a matting agent in the case of a surface layer) are generally used. The cellulose ester is typically a lower fatty acid ester of cellulose (eg, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate and cellulose acetate propionate). Lower fatty acid means a fatty acid having 6 or less carbon atoms. Cellulose acetate includes cellulose triacetate (TAC) and cellulose diacetate (DAC).

代表的なリン酸エステル系可塑剤を下記式(Ia)および(Ib)で示す。   Typical phosphoric ester plasticizers are represented by the following formulas (Ia) and (Ib).

Figure 2006251163
Figure 2006251163

式(Ia)および(Ib)において、R1、R2、R3、R4、R5、R6およびR7は、それぞれ、アルキル基(シクロアルキル基を含む)、アリール基またはアラルキル基である。各基は置換基を有していてもよい。アルキル基の炭素原子数は1〜12であることが好ましい。アルキル基の例としては、メチル、エチル、ブチル、シクロヘキシルおよびオクチルを挙げることができる。アリール基の例としてはフェニルを挙げることができる。アラルキル基の例としてはベンジルを挙げることができる。上記置換基の例としては、アルキル基(例:メチル)、アリール基(例:フェニル)、アルコキシ基(例:メトキシ、ブトキシ)およびアリールオキシ基(例:フェノキシ)を挙げることができる。式(Ib)においては、R8は、 アルキレン基、アリーレン基、スルホニル基およびそれらの組み合わせから選ばれる2価の連結基である。nは1以上の整数であり、1〜10であることが好ましい。 In the formulas (Ia) and (Ib), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are each an alkyl group (including a cycloalkyl group), an aryl group or an aralkyl group. is there. Each group may have a substituent. The alkyl group preferably has 1 to 12 carbon atoms. Examples of alkyl groups include methyl, ethyl, butyl, cyclohexyl and octyl. An example of an aryl group is phenyl. An example of an aralkyl group is benzyl. Examples of the substituent include an alkyl group (eg, methyl), an aryl group (eg, phenyl), an alkoxy group (eg, methoxy, butoxy) and an aryloxy group (eg, phenoxy). In the formula (Ib), R 8 is a divalent linking group selected from an alkylene group, an arylene group, a sulfonyl group, and combinations thereof. n is an integer of 1 or more, and preferably 1 to 10.

可塑剤としては、リン酸エステル系可塑剤が好ましく、このリン酸エステル系可塑剤の例には、トリフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、トリエチルホスフェートおよびトリブチルホスフェートが含まれる。また、カルボン酸エステル系可塑剤が利用される場合もある。カルボン酸エステル系可塑剤の例には、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジエチルヘキシルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、グリセロールトリアセテート、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレートおよびトリアセチンが含まれる。またクエン酸エステルとしては、クエン酸アセチルトリエチル(OACTE)、クエン酸トリブチル(OACTB)等が、その他のカルボン酸エステルの例としては、オレイン酸ブチル(BO)、リノール酸メチルアセチル(MAL)、セバチン酸ジブチル(DBS)、種々のトリメリット酸エステル等がある。その他の低分子可塑剤の例としては、o−またはp−トルエンエチルスルフォンアミドを挙げることができる。   The plasticizer is preferably a phosphate plasticizer, and examples of the phosphate plasticizer include triphenyl phosphate, biphenyl diphenyl phosphate, tricresyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, triethyl phosphate and tributyl phosphate. It is. In addition, a carboxylic acid ester plasticizer may be used. Examples of carboxylate plasticizers include dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, diethyl hexyl phthalate, dimethoxyethyl phthalate, glycerol triacetate, butyl phthalyl butyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalate Ruethyl glycolate and triacetin are included. Examples of citrate esters include acetyl triethyl citrate (OACTE) and tributyl citrate (OACTB). Examples of other carboxylic acid esters include butyl oleate (BO), methylacetyl linoleate (MAL), and sebatin. Examples include dibutyl acid (DBS) and various trimellitic acid esters. Examples of other low molecular plasticizers include o- or p-tolueneethylsulfonamide.

可塑剤は一般に、セルロースエステルに対して5〜40質量%の範囲で使用する。セルロースエステルに対して10〜20質量%の量で使用することが好ましい。トリメリット酸やピロメリット酸のエステルを、リン酸エステル系可塑剤と併用してもよい。トリメリット酸やピロメリット酸のエステルは、リン酸エステル系可塑剤のブリードアウトを防止する作用がある。これらの酸のエステルについては、特開平5−5047号公報に記載されている。   Generally, the plasticizer is used in the range of 5 to 40% by mass with respect to the cellulose ester. It is preferable to use it in the quantity of 10-20 mass% with respect to a cellulose ester. Trimellitic acid or pyromellitic acid ester may be used in combination with a phosphate ester plasticizer. Trimellitic acid and pyromellitic acid esters have the effect of preventing bleed out of the phosphate ester plasticizer. The esters of these acids are described in JP-A-5-5047.

溶剤としては、低級脂肪族炭化水素の塩化物や低級脂肪族アルコールが一般に使用される。低級脂肪族炭化水素の塩化物の例としては、メチレンクロライドを挙げることができる。低級脂肪族アルコールの例には、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコールおよびn−ブタノールが含まれる。その他の溶剤の例としては、ハロゲン化炭化水素を実質的に含まない、アセトン、炭素原子数4から12までのケトンとしては例えばメチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノンが含まれ、炭素原子数3から12までのエステルとしては例えばギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル及び2−エトキシ−エチルアセテート等が含まれ、炭素原子数1から6までのアルコールとしては例えばメタノール、エタノール、プロパノール、イソ−プロパノール、1−ブタノール、t−ブタノール、2−メチル−2−ブタノール、2−メトキシエタノール及び2−ブトキシエタノール等が含まれ、炭素原子数が3から12までのエーテルとしては例えばジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトール等が含まれ、また炭素原子数が5から8までの環状炭化水素類としてはシクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン及びシクロオクタン等が含まれる。   As the solvent, a lower aliphatic hydrocarbon chloride or a lower aliphatic alcohol is generally used. An example of a lower aliphatic hydrocarbon chloride is methylene chloride. Examples of lower aliphatic alcohols include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol and n-butanol. Examples of other solvents are substantially free of halogenated hydrocarbons, acetone, and ketones having 4 to 12 carbon atoms include, for example, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone and methylcyclohexanone, carbon Examples of the ester having 3 to 12 atoms include ethyl formate, propyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, pentyl acetate and 2-ethoxy-ethyl acetate. Examples of alcohols from 1 to 6 include methanol, ethanol, propanol, iso-propanol, 1-butanol, t-butanol, 2-methyl-2-butanol, 2-methoxyethanol, 2-butoxyethanol and the like, and carbon atoms The number is 3 The ethers up to 12 include, for example, diisopropyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, tetrahydrofuran, anisole, phenetole and the like, and cyclic carbonization having 5 to 8 carbon atoms. Examples of hydrogens include cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, and cyclooctane.

以上のような溶剤の中で、メチレンクロライドが特に好ましい。メチレンクロライドに他の溶剤を混合して用いてもよい。ただし、メチレンクロライドの混合率は70質量%以上であることが好ましい。特に好ましい混合率は、メチレンクロライドが75〜93質量%、そして他の溶剤が7〜25質量%である。溶剤はセルロースエステルフィルムの形成において除去する。溶剤の残留量は一般に5質量%未満である。残留量は、1質量%未満であることが好ましく、0.5質量%未満であることがさらに好ましい。   Of these solvents, methylene chloride is particularly preferred. Other solvents may be mixed with methylene chloride. However, the mixing ratio of methylene chloride is preferably 70% by mass or more. Particularly preferred mixing ratios are 75 to 93% by mass for methylene chloride and 7 to 25% by mass for other solvents. The solvent is removed in the formation of the cellulose ester film. The residual amount of solvent is generally less than 5% by weight. The residual amount is preferably less than 1% by mass, and more preferably less than 0.5% by mass.

本発明のセルロースエステルフィルムには紫外線吸収剤を添加することができ、この紫外線吸収剤には、ベンゾフェノン系、サリチレート系およびベンゾトリアゾール系の化合物がある。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例には、2,2'−ジヒドロキシ−4,4'−ジメトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノンおよび2−ヒドロキシ−4−n−ドデシルオキシベンゾフェノンが含まれる。サリチレート系紫外線吸収剤の例としては、4−t−ブチルフェニルサリチレートが挙げられる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の例には、2−(ヒドロキシ−5−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2'−ヒドロキシ−5'−メチルフェニル)ベンゾトリアゾールおよび2−(2'−ヒドロキシ−3,5'−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾールが含まれる。その他の紫外線吸収剤の例としては、[2,2'−チオビス(4−t−オクチルフェノラート)]n−ブチルアミンニッケルIIを挙げることができる。紫外線吸収剤の使用量は、一般にセルロースエステルに対して0.1〜3.0質量%の範囲で使用される。   An ultraviolet absorber can be added to the cellulose ester film of the present invention, and examples of the ultraviolet absorber include benzophenone-based, salicylate-based, and benzotriazole-based compounds. Examples of the benzophenone-based ultraviolet absorber include 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone and 2-hydroxy-4-n-dodecyloxybenzophenone. An example of the salicylate-based ultraviolet absorber is 4-t-butylphenyl salicylate. Examples of benzotriazole ultraviolet absorbers include 2- (hydroxy-5-t-octylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole and 2- (2′-hydroxy). -3,5'-di-t-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole. Examples of other ultraviolet absorbers include [2,2′-thiobis (4-t-octylphenolate)] n-butylamine nickel II. The amount of the ultraviolet absorber used is generally in the range of 0.1 to 3.0% by mass relative to the cellulose ester.

マット剤、可塑剤、紫外線吸収剤等の添加方法は、あらかじめ溶解タンク内にてドープ中に混合しても、またドープ送液配管途中にて、オンラインで添加混合してもよい。   Matting agents, plasticizers, ultraviolet absorbers and the like may be added in advance in the dope in the dissolution tank, or may be added and mixed online in the middle of the dope feeding pipe.

本発明のセルロースエステルフィルムを製造するには、共流延法(重層同時流延)、逐次流延法、塗布法等の積層流延する方法を用いることができる。共流延法および逐次流延法により製造する場合には、先ず、各層用のドープを調製する。共流延法は、流延用支持体(バンドまたはドラム)の上に、各層(3層あるいはそれ以上でも良い)各々の流延用ドープを別のスリットなどから同時に押出す流延用ギーサからドープを押出して各層を同時に流延し、適当な時期に支持体から剥ぎ取り、乾燥させてフィルムを成形する流延法である。   In order to produce the cellulose ester film of the present invention, a lamination casting method such as a co-casting method (multi-layer simultaneous casting), a sequential casting method, or a coating method can be used. When manufacturing by the co-casting method and the sequential casting method, first, dope for each layer is prepared. The co-casting method is based on a casting giusa that extrudes each casting dope for each layer (or three or more layers) on a casting support (band or drum) simultaneously from another slit or the like. This is a casting method in which a dope is extruded and each layer is cast at the same time, peeled off from a support at an appropriate time, and dried to form a film.

逐次流延法は、流延用支持体の上に先ず第1層用の流延用ドープを流延用ギーサから押出して流延し、乾燥あるいは乾燥させることなく、その上に第2層用の流延用ドープを流延用ギーサから押出して流延し、以後、同様に第3層以降のドープを逐次流延・積層し、適当な時期に支持体から剥ぎ取り、乾燥させてフィルムを成形する流延法である。   In the sequential casting method, the casting dope for the first layer is first extruded from the casting gussa on the casting support and cast for the second layer without drying or drying. The dope for casting is extruded from the casting giusa, and thereafter, the dope of the third layer and thereafter is successively cast and laminated, peeled off from the support at an appropriate time, and dried to form a film. This is a casting method for molding.

塗布法は、一般的には、基層のフィルムを溶液製膜法により成形し、表層を形成するために塗布する塗布液を調製し、適当な塗布機を用いて、片面ずつまたは両面同時にフィルムに塗布液を塗布・乾燥して積層構造のフィルムを成形する方法である。   In general, the base layer film is formed by a solution casting method to prepare a coating solution to be applied to form a surface layer, and is applied to the film one side at a time or on both sides simultaneously using an appropriate coating machine. In this method, a coating film is applied and dried to form a film having a laminated structure.

以上のように、本発明のセルロースエステルフィルムを製造するには、共流延法、逐次流延法及び塗布法のどの方法を用いてもよい。しかし、一般的に、塗布法では塗布後の乾燥負荷が増大し、逐次流延法では工程が複雑になり、フィルムの平面性を維持することが困難であるが、共流延法では工程が単純で、生産性が高く、フィルムの平面性が比較的容易に得ることができるので、共流延法で製造することが好ましい。   As described above, any of the co-casting method, the sequential casting method, and the coating method may be used for producing the cellulose ester film of the present invention. However, in general, the drying load after coating increases in the coating method, and the process becomes complicated in the sequential casting method, and it is difficult to maintain the flatness of the film. Since it is simple, the productivity is high, and the flatness of the film can be obtained relatively easily, it is preferable to manufacture by a co-casting method.

本発明のセルロースエステルフィルムを製造する装置としては、表面が鏡面処理された流延バンドを用いた溶液製膜装置であっても、流延ドラムを用いた溶液製膜装置であってもよい。流延バンドを用いた溶液製膜装置を図8に、流延ドラムを用いた溶液製膜装置を図9に示す。   The apparatus for producing the cellulose ester film of the present invention may be a solution casting apparatus using a casting band whose surface is mirror-finished or a solution casting apparatus using a casting drum. A solution casting apparatus using a casting band is shown in FIG. 8, and a solution casting apparatus using a casting drum is shown in FIG.

図8に示すバンド式の溶液製膜装置において、11は攪拌機で、綿、可塑剤及び溶剤が投入されているものであり、この攪拌機11は、移送ポンプ12、濾過器13、ストックタンク14、流延送液ポンプ15、及びマット剤、染料、紫外線吸収剤(UV剤)等を添加するための添加剤注入ポンプ16を介して流延ダイ17に連結されている。流延ダイ7の下方には、流延バンド18が設けられるとともに、減圧チャンバー19が設けられている。   In the band-type solution casting apparatus shown in FIG. 8, 11 is a stirrer into which cotton, a plasticizer and a solvent are charged. This stirrer 11 includes a transfer pump 12, a filter 13, a stock tank 14, It is connected to a casting die 17 via a casting liquid pump 15 and an additive injection pump 16 for adding a matting agent, a dye, an ultraviolet absorber (UV agent) and the like. A casting band 18 and a decompression chamber 19 are provided below the casting die 7.

図9に示すドラム式の溶液製膜装置において、20は流延ドラムで、バンド式の溶液製膜装置における流延バンド18の代わりに設けられている。なお、攪拌機11、移送ポンプ12、濾過器13、ストックタンク14、流延送液ポンプ15、添加剤注入ポンプ16及び流延ダイ17は同一に構成されている。   In the drum type solution casting apparatus shown in FIG. 9, reference numeral 20 denotes a casting drum, which is provided in place of the casting band 18 in the band type solution casting apparatus. The stirrer 11, the transfer pump 12, the filter 13, the stock tank 14, the casting liquid pump 15, the additive injection pump 16, and the casting die 17 are configured identically.

上記流延ダイとしては、図10、図11及び図12に示すようなものを用いることができる。   As the casting die, those shown in FIGS. 10, 11 and 12 can be used.

図10は、単層のフィルムを製膜する際に用いる流延ダイで、逐次流延法に用いるものであり、この流延ダイ30は、1つのマニホールド31が形成されている。図11は、マルチマニホールド型の共流延ダイで、この共流延ダイ30は、3つのマニホールド32が形成され3層構成のフィルムを製膜できるものである。図12は、フィードブロック型の共流延ダイで、この共流延ダイ30は、マニホールド33が形成されるとともに、フィードブロック34が設けられ、フィードブロック34で合流させられて複数層(図12においては3層)になったドープを流延するものである。   FIG. 10 shows a casting die used for forming a single-layer film, which is used for the sequential casting method. The casting die 30 has a single manifold 31 formed therein. FIG. 11 shows a multi-manifold type co-casting die. The co-casting die 30 is formed with three manifolds 32 and can form a film having a three-layer structure. FIG. 12 shows a feed block type co-casting die. The co-casting die 30 is provided with a manifold 33 and a feed block 34, and is joined by the feed block 34 to form a plurality of layers (FIG. 12). In this case, the dope having three layers is cast.

なお、以上の流延ダイにおいては、コートハンガーダイを使用しているが、これに限定されるものでなく、Tダイ等他の形状のダイであってもよい。   In the above casting die, a coat hanger die is used, but the present invention is not limited to this, and a die having another shape such as a T die may be used.

更に、本発明のセルロースエステルフィルム中には、酸化防止剤を含有させることが好ましく、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘキサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレイト等を挙げることが出来る。特に2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕が好ましい。また例えば、N,N′−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。これらの化合物の添加量は、セルロースエステルに対して質量割合で1ppm〜1.0%が好ましく、10〜1000ppmが更に好ましい。   Further, the cellulose ester film of the present invention preferably contains an antioxidant. As the antioxidant, a hindered phenol compound is preferably used, and 2,6-di-t-butyl-p -Cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4) -Hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,4-bis- (n-octylthio) -6 -(4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino) -1,3,5-triazine, 2,2-thio-diethylenebis [3- (3 -Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 1,3,5-trimethyl-2,4,6 -Tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanurate and the like can be mentioned. In particular, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-t-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate] is preferred. Further, for example, hydrazine-based metal deactivators such as N, N′-bis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyl] hydrazine and tris (2,4-di-t A phosphorus-based processing stabilizer such as -butylphenyl) phosphite may be used in combination. The amount of these compounds added is preferably 1 ppm to 1.0%, more preferably 10 to 1000 ppm in terms of mass ratio with respect to the cellulose ester.

次に、ハードコート層について以下に説明する。
<ハードコート層>
ハードコート層はハードコート性を付与するための透光性樹脂、防眩性を付与するための透光性微粒子、および高屈折率化・架橋収縮防止・高強度化のための無機フィラー、反応を開始させるための開始剤、レベリング剤・チクソトロピー剤・耐電防止剤等の添加剤などから構成される。
Next, the hard coat layer will be described below.
<Hard coat layer>
The hard coat layer is a translucent resin for imparting hard coat properties, translucent fine particles for imparting antiglare properties, and an inorganic filler for increasing the refractive index, preventing cross-linking shrinkage, and increasing the strength, reaction It is composed of an initiator for initiating oxidization, additives such as a leveling agent, a thixotropic agent, and an antistatic agent.

<透光性微粒子>
透光性微粒子の平均粒径は0.5〜10μmが好ましく、より好ましくは2.0〜6.0μmである。平均粒径が0.5μm未満であると、光の散乱角度分布が広角にまで広がるため、ディスプレイの文字ボケを引き起こしたりするため、好ましくない。一方、10μmを超えると、ハードコート層の膜厚を厚くする必要が生じ、カールが大きくなる、素材コストが上昇してしまう、等の問題が生じる。
前記透光性微粒子の具体例としては、有機物粒子では例えばポリ((メタ)アクリレート)粒子、架橋ポリ((メタ)アクリレート)粒子、ポリスチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。無機物粒子では例えばシリカ粒子、アルミナ粒子、ジルコニア粒子、チタニア粒子、また中空や細孔を有する無機粒子が挙げられる。 なかでも架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ((メタ)アクリレート)粒子、架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性微粒子の屈折率にあわせて透光性樹脂の屈折率を調整することにより、本発明の内部ヘイズ、表面ヘイズ、中心線平均粗さを達成することができる。具体的には、後述するような本発明のハードコート層に好ましく用いられる3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分とした透光性樹脂(硬化後の屈折率が1.50〜1.53)とアクリル含率50〜100質量パーセントである架橋ポリ(メタ)アクリレート重合体からなる透光性微粒子の組合せが好ましく、特に前記透光性樹脂と架橋ポリ(スチレン−アクリル)共重合体からなる透光性微粒子(屈折率が1.48〜1.54)との組合せが好ましい。
<Translucent fine particles>
The average particle size of the translucent fine particles is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 2.0 to 6.0 μm. If the average particle size is less than 0.5 μm, the light scattering angle distribution spreads to a wide angle, which may cause blurring of characters on the display. On the other hand, when the thickness exceeds 10 μm, it is necessary to increase the thickness of the hard coat layer, which causes problems such as an increase in curling and an increase in material cost.
Specific examples of the translucent fine particles include organic particles such as poly ((meth) acrylate) particles, crosslinked poly ((meth) acrylate) particles, polystyrene particles, crosslinked polystyrene particles, crosslinked poly (acryl-styrene) particles, Preferred are resin particles such as melamine resin particles and benzoguanamine resin particles. Examples of the inorganic particles include silica particles, alumina particles, zirconia particles, titania particles, and inorganic particles having hollows and pores. Of these, cross-linked polystyrene particles, cross-linked poly ((meth) acrylate) particles, and cross-linked poly (acryl-styrene) particles are preferably used. By adjusting the refractive index of the light-sensitive resin, the internal haze, surface haze, and centerline average roughness of the present invention can be achieved. Specifically, a translucent resin (having a refractive index after curing of 1.50 to 1.1) mainly composed of a tri- or higher functional (meth) acrylate monomer preferably used in the hard coat layer of the present invention as described later. 53) and a combination of translucent fine particles composed of a crosslinked poly (meth) acrylate polymer having an acrylic content of 50 to 100 mass percent, particularly from the translucent resin and the crosslinked poly (styrene-acrylic) copolymer. A combination with translucent fine particles (with a refractive index of 1.48 to 1.54) is preferable.

また、粒子径の異なる2種以上の透光性微粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径の透光性微粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性微粒子で表面のザラツキ感を低減することが可能である。   Further, two or more kinds of translucent fine particles having different particle diameters may be used in combination. It is possible to impart an antiglare property with the light-transmitting fine particles having a larger particle diameter, and to reduce the roughness of the surface with the light-transmitting fine particles having a smaller particle diameter.

前記透光性微粒子は、形成されたハードコート層中に、ハードコート層全固形分中に3〜30質量%含有されるように配合される。より好ましくは5〜20質量%である。3質量%未満であると、防眩性が不足し、30質量%を超えると、画像ボケや表面の白濁やギラツキ等の問題が生じる。
また、透光性微粒子の密度は、好ましくは10〜1000mg/m2、より好ましくは100〜700mg/m2である。
The translucent fine particles are blended in the formed hard coat layer so as to be contained in an amount of 3 to 30% by mass in the total solid content of the hard coat layer. More preferably, it is 5-20 mass%. When it is less than 3% by mass, the antiglare property is insufficient, and when it exceeds 30% by mass, problems such as image blur, surface turbidity and glare occur.
Moreover, the density of the translucent fine particles is preferably 10 to 1000 mg / m 2 , more preferably 100 to 700 mg / m 2 .

本発明における透光性樹脂と透光性微粒子との屈折率は、1.45〜1.70であることが好ましく、より好ましくは1.48〜1.65である。屈折率を前記範囲とするには、透光性樹脂及び透光性微粒子の種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
また、本発明においては、透光性樹脂と透光性微粒子との屈折率の差(透光性微粒子の屈折率−透光性樹脂の屈折率)は、絶対値として好ましくは0.001〜0.030であり、より好ましくは0.001〜0.020、更に好ましくは0.001〜0.015である。この差が0.030を超えると、フィルム文字ボケ、暗室コントラストの低下、表面の白濁等の問題が生じる。
ここで、前記透光性樹脂の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。前記透光性微粒子の屈折率は、屈折率の異なる2種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性微粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。
In the present invention, the refractive index of the translucent resin and the translucent fine particles is preferably 1.45 to 1.70, more preferably 1.48 to 1.65. In order to set the refractive index within the above range, the kind and amount ratio of the light-transmitting resin and the light-transmitting fine particles may be appropriately selected. How to select can be easily known experimentally in advance.
In the present invention, the difference in refractive index between the translucent resin and the translucent fine particles (the refractive index of the translucent fine particles−the refractive index of the translucent resin) is preferably 0.001 to an absolute value. It is 0.030, More preferably, it is 0.001-0.020, More preferably, it is 0.001-0.015. If this difference exceeds 0.030, problems such as film character blur, a decrease in dark room contrast, and surface turbidity occur.
Here, the refractive index of the translucent resin can be quantitatively evaluated by directly measuring the refractive index with an Abbe refractometer or by measuring a spectral reflection spectrum or a spectral ellipsometry. The refractive index of the light-transmitting fine particles is obtained by measuring the turbidity by dispersing an equal amount of the light-transmitting fine particles in a solvent in which the refractive index is changed by changing the mixing ratio of two types of solvents having different refractive indexes. It is measured by measuring the refractive index of the solvent when the turbidity is minimized with an Abbe refractometer.

本発明に係る透光性微粒子の製造法は、懸濁重合法、乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、分散重合法、シード重合法等を挙げることができ、いずれの方法で製造されてもよい。これらの製造法は、例えば「高分子合成の実験法」(大津隆行、木下雅悦共著、化学同人社)130頁及び146頁から147頁の記載、「合成高分子」1巻、p.246〜290、同3巻、p.1〜108等に記載の方法、及び特許第2543503号明細書、同第3508304号明細書、同第2746275号明細書、同第3521560号明細書、同第3580320号明細書、特開平10−1561号公報、特開平7−2908号公報、特開平5−297506号公報、特開2002−145919号公報等に記載の方法を参考にすることができる。   Examples of the method for producing the light-transmitting fine particles according to the present invention include a suspension polymerization method, an emulsion polymerization method, a soap-free emulsion polymerization method, a dispersion polymerization method, a seed polymerization method, and the like. Good. These production methods are described in, for example, “Experimental Methods for Polymer Synthesis” (Takayuki Otsu and Masaaki Kinoshita, Chemical Dojinsha), pages 130 and 146 to 147, “Synthetic Polymers”, Vol. 246-290, 3rd volume, p. 1 to 108, etc., and Japanese Patent Nos. 2543503, 3508304, 2746275, 3521560, 3580320, and Japanese Patent Laid-Open No. 10-1561. Reference can be made to methods described in JP-A No. 7-2908, JP-A No. 5-297506, JP-A No. 2002-145919, and the like.

透光性微粒子の粒度分布はヘイズ値と拡散性の制御性、塗布面状の均質性から単分散性粒子が好ましい。例えば平均粒子径よりも20%以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の1%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1%以下であり、さらに好ましくは0.01%以下である。このような粒度分布を持つ粒子は、調製または合成反応後に、分級することも有力な手段であり、分級の回数を上げることやその程度を強くすることで、望ましい分布の粒子を得ることができる。
分級には風力分級法、遠心分級法、沈降分級法、濾過分級法、静電分級法等の方法を用いることが好ましい。
The particle size distribution of the translucent fine particles is preferably monodisperse particles in view of haze value and controllability of diffusibility, and uniformity of the coated surface. For example, when particles having a particle size of 20% or more than the average particle size are defined as coarse particles, the proportion of the coarse particles is preferably 1% or less of the total number of particles, more preferably 0.1% or less. Yes, more preferably 0.01% or less. Particles having such a particle size distribution are also effective means of classification after the preparation or synthesis reaction, and particles having a desired distribution can be obtained by increasing the number of classifications or increasing the degree of classification. .
It is preferable to use a method such as an air classification method, a centrifugal classification method, a sedimentation classification method, a filtration classification method, or an electrostatic classification method for classification.

ハードコート層の膜厚は、1〜10μmが好ましく、1.2〜8μmがより好ましい。 薄すぎるとハード性が不足し、厚すぎるとカールや脆性が悪化して加工適性が低下する場合があるので、前記範囲内とするのが好ましい。   1-10 micrometers is preferable and, as for the film thickness of a hard-coat layer, 1.2-8 micrometers is more preferable. If it is too thin, the hard property is insufficient, and if it is too thick, curling and brittleness may be deteriorated and workability may be lowered.

<透光性樹脂>
透光性樹脂は、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。
飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの(共)重合体が好ましい。
バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも1種の原子を含む高屈折率モノマーや、フルオレン骨格を分子内に有するモノマー等を選択することもできる。
<Translucent resin>
The translucent resin is preferably a binder polymer having a saturated hydrocarbon chain or a polyether chain as a main chain, and more preferably a binder polymer having a saturated hydrocarbon chain as a main chain. The binder polymer preferably has a crosslinked structure.
As the binder polymer having a saturated hydrocarbon chain as a main chain, a polymer of an ethylenically unsaturated monomer is preferable. As the binder polymer having a saturated hydrocarbon chain as the main chain and having a crosslinked structure, a (co) polymer of monomers having two or more ethylenically unsaturated groups is preferable.
In order to increase the refractive index of the binder polymer, the monomer structure has a high refractive index including at least one atom selected from an aromatic ring, a halogen atom other than fluorine, a sulfur atom, a phosphorus atom, and a nitrogen atom. It is also possible to select a monomer having a ratio, a monomer having a fluorene skeleton in the molecule, and the like.

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル〔例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート〕、前記のエステルのエチレンオキサイド変性体やカプロラクトン変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体〔例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン〕、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリルアミドが挙げられる。前記モノマーは2種以上併用してもよい。   Examples of the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid [for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di ( (Meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (Meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3- Chlorohexane tetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate], ethylene oxide-modified products and caprolactone-modified products of the above esters, vinylbenzene and its derivatives [eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2- Acryloyl ethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone], vinyl sulfone (eg, divinyl sulfone), acrylamide (eg, methylenebisacrylamide) and methacrylamide. Two or more of these monomers may be used in combination.

高屈折率モノマーの具体例としては、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート類、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、4−メタクリロキシフェニル−4'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも2種以上併用してもよい。   Specific examples of the high refractive index monomer include (meth) acrylates having a fluorene skeleton, bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinylnaphthalene, vinylphenyl sulfide, 4-methacryloxyphenyl-4′-methoxyphenylthioether, etc. Is mentioned. Two or more of these monomers may be used in combination.

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、前記ハードコート層は、上述のエチレン性不飽和モノマー等の透光性樹脂形成用のモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、透光性微粒子および必要に応じて後述するような無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化させることにより形成することができる。
Polymerization of the monomer having an ethylenically unsaturated group can be performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photo radical initiator or a thermal radical initiator.
Therefore, the hard coat layer is composed of a monomer for forming a translucent resin such as the above-mentioned ethylenically unsaturated monomer, a photo radical initiator or a thermal radical initiator, translucent fine particles, and an inorganic material as described later if necessary. It can be formed by preparing a coating liquid containing a filler and curing the coating liquid on a transparent support by a polymerization reaction by ionizing radiation or heat.

光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
アセトフェノン類の例には、2,2−ジメトキシアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシ−ジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシ−ジメチル−p−イソプロピルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン、4−フェノキシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノン、が含まれる。
ベンゾイン類の例には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。
ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4'−メチルジフェニルサルファイド、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノンおよびp−クロロベンゾフェノン、4,4'−ジメチルアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、3,3'、4、4'−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノンなどが含まれる。
ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
活性エステル類の例には1、2−オクタンジオン、1−[4−(フェニルチオ)−,2−(0−ベンゾイルオキシム)]、スルホン酸エステル類、環状活性エステル化合物などが含まれる。
オニウム塩類の例には、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩が挙げられる。
ボレート塩の例にはカチオン性色素とのイオンコンプレックス類が挙げられる。
活性ハロゲン類の例にはS−トリアジンやオキサチアゾール化合物が知られており、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−スチリルフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(3−Br−4−ジ(エチル酢酸エステル)アミノ)フェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−トリハロメチル−5−(p−メトキシフェニル)−1,3,4−オキサジアゾールが含まれる。
無機錯体の例にはビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウムが挙げられる。
クマリン類の例には3−ケトクマリンが挙げられる。
これらの開始剤は単独でも混合して用いても良い。
「最新UV硬化技術」,(株)技術情報協会,1991年,p.159にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製のイルガキュア(651,184,819、907、1870(CGI−403/Irg184=7/3混合開始剤、500,369,1173,2959,4265,4263など)、OXE01)等、日本化薬(株)製のKAYACURE(DETX−S,BP−100,BDMK,CTX,BMS,2−EAQ,ABQ,CPTX,EPD,ITX,QTX,BTC,MCAなど)、サートマー社製のEsacure(KIP100F,KB1,EB3,BP,X33,KT046,KT37,KIP150,TZT)等が好ましい例として挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーケトンおよびチオキサントン、などを挙げることができる。
更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を1種以上組み合わせて用いてもよい。
市販の光増感剤としては、日本化薬(株)製のKAYACURE(DMBI,EPA)などが挙げられる。
Photo radical polymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds , Fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, lophine dimers, onium salts, borate salts, active esters, active halogens, inorganic complexes, coumarins and the like.
Examples of acetophenones include 2,2-dimethoxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxy-dimethylphenylketone, 1-hydroxy-dimethyl-p-isopropylphenylketone, 1-hydroxy Cyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t- Butyl-dichloroacetophenone is included.
Examples of benzoins include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyl dimethyl ketal, benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether It is.
Examples of benzophenones include benzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone (Michler's ketone), 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone and the like are included.
Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
Examples of the active esters include 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio)-, 2- (0-benzoyloxime)], sulfonic acid esters, cyclic active ester compounds, and the like.
Examples of the onium salts include aromatic diazonium salts, aromatic iodonium salts, and aromatic sulfonium salts.
Examples of borate salts include ion complexes with cationic dyes.
Examples of active halogens include S-triazine and oxathiazole compounds, such as 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine and 2- (p-methoxyphenyl). ) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-styrylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (3-Br-4-di ( Ethyl acetate) amino) phenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-trihalomethyl-5- (p-methoxyphenyl) -1,3,4-oxadiazole.
An example of an inorganic complex is bis (η 5 -2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium.
Examples of coumarins include 3-ketocoumarin.
These initiators may be used alone or in combination.
“Latest UV Curing Technology”, Technical Information Association, 1991, p. Various examples are also described in 159 and are useful in the present invention.
Commercially available photocleavable photoradical polymerization initiators include Irgacure (651, 184, 819, 907, 1870 (CGI-403 / Irg184 = 7/3 mixed initiator, 500) manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc. , 369, 1173, 2959, 4265, 4263, etc.), OXE01), etc., Kayacure (DETX-S, BP-100, BDMK, CTX, BMS, 2-EAQ, ABQ, CPTX, EPD, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. , ITX, QTX, BTC, MCA, etc.), Esacure manufactured by Sartomer (KIP100F, KB1, EB3, BP, X33, KT046, KT37, KIP150, TZT) and the like are preferable examples.
It is preferable to use a photoinitiator in the range of 0.1-15 mass parts with respect to 100 mass parts of polyfunctional monomers, More preferably, it is the range of 1-10 mass parts.
In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone.
Further, one or more auxiliary agents such as an azide compound, a thiourea compound, and a mercapto compound may be used in combination.
Examples of commercially available photosensitizers include Kayacure (DMBI, EPA) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.

熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として2,2'−アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2'−アゾビス(プロピオニトリル)、1,1'−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。
As the thermal radical initiator, organic or inorganic peroxides, organic azo, diazo compounds, and the like can be used.
Specifically, benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, butyl hydroperoxide as organic peroxides, hydrogen peroxide, peroxides as inorganic peroxides. Diazo compounds such as ammonium sulfate, potassium persulfate and the like, 2,2′-azobis (isobutyronitrile), 2,2′-azobis (propionitrile), 1,1′-azobis (cyclohexanecarbonitrile), etc. And diazoaminobenzene, p-nitrobenzenediazonium and the like.

ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキシ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、透光性微粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して光拡散層を形成することができる。
The polymer having a polyether as the main chain is preferably a ring-opening polymer of a polyfunctional epoxy compound. The ring-opening polymerization of the polyfunctional epoxy compound can be performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photoacid generator or a thermal acid generator.
Therefore, a coating liquid containing a polyfunctional epoxy compound, a photoacid generator or a thermal acid generator, translucent fine particles and an inorganic filler is prepared, and the coating liquid is applied onto a transparent support and then polymerized by ionizing radiation or heat. It can be cured by reaction to form a light diffusion layer.

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
Instead of or in addition to a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a monomer having a crosslinkable functional group is used to introduce a crosslinkable functional group into the polymer, and by reaction of this crosslinkable functional group, A crosslinked structure may be introduced into the binder polymer.
Examples of the crosslinkable functional group include isocyanate group, epoxy group, aziridine group, oxazoline group, aldehyde group, carbonyl group, hydrazine group, carboxyl group, methylol group and active methylene group. Vinylsulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester and urethane, and metal alkoxide such as tetramethoxysilane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. That is, in the present invention, the crosslinkable functional group may not react immediately but may exhibit reactivity as a result of decomposition.
These binder polymers having a crosslinkable functional group can form a crosslinked structure by heating after coating.

ハードコート層には、層の屈折率を調整して内部散乱に起因するヘイズ値を低減するために、前記の透光性微粒子に加えて、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなり、平均粒径が0.2μm以下、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.06μm以下である無機フィラーを含有してもよい。これらの無機フィラーは、一般的に比重が有機物よりも高く、塗布組成物の密度を高くできるため、透光性微粒子の沈降速度を遅くする効果もある。
ハードコート層に用いられる無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーを用いる場合、その添加量は、ハードコート層の全質量の10〜90%であることが好ましく、より好ましくは20〜80%であり、特に好ましくは30〜75%である。
なお、このような無機フィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。
また、ハードコート層にオルガノシラン化合物を用いることができる。オルガノシラン化合物の添加量は、含有層(添加層)の全固形分の0.001〜50質量%が好ましく、0.01〜20質量%がより好ましく、0.05〜10質量%が更に好ましく、0.1〜5質量%が特に好ましい。
In addition to the above light-transmitting fine particles, silicon, titanium, zirconium, aluminum, indium, zinc, tin are used for the hard coat layer in order to adjust the refractive index of the layer and reduce the haze value due to internal scattering. And an inorganic filler comprising an oxide of at least one metal selected from antimony and having an average particle size of 0.2 μm or less, preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.06 μm or less. Good. Since these inorganic fillers generally have a specific gravity higher than that of organic substances and can increase the density of the coating composition, they also have the effect of slowing the sedimentation rate of the light-transmitting fine particles.
The surface of the inorganic filler used in the hard coat layer is preferably subjected to a silane coupling treatment or a titanium coupling treatment, and a surface treatment agent having a functional group capable of reacting with a binder species on the filler surface is preferably used.
When using these inorganic fillers, the addition amount is preferably 10 to 90% of the total mass of the hard coat layer, more preferably 20 to 80%, and particularly preferably 30 to 75%.
Such an inorganic filler does not scatter because its particle size is sufficiently smaller than the wavelength of light, and a dispersion in which the filler is dispersed in a binder polymer behaves as an optically uniform substance.
An organosilane compound can be used for the hard coat layer. The addition amount of the organosilane compound is preferably 0.001 to 50% by mass, more preferably 0.01 to 20% by mass, and still more preferably 0.05 to 10% by mass, based on the total solid content of the containing layer (addition layer). 0.1 to 5% by mass is particularly preferable.

<ハードコート層用レベリング剤>
以下、本発明に好ましく用いることができるフルオロ脂肪族基を含有する共重合体(以下、該共重合体を単に「フッ素系レベリング剤」と称することもある)について詳細に説明する。
<Leveling agent for hard coat layer>
Hereinafter, a copolymer containing a fluoroaliphatic group that can be preferably used in the present invention (hereinafter, the copolymer may be simply referred to as “fluorine leveling agent”) will be described in detail.

本発明のフッ素系レベリング剤は、下記一般式[1]、一般式[2]、一般式[3]または一般式[4]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーAに相当する繰り返し単位の少なくとも1種と、フルオロ脂肪族基を含有しない下記一般式[5]で表されるモノマーBに相当する繰り返し単位の少なくとも1種とを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体であることが好ましい。   The fluorine leveling agent of the present invention has a repeating unit corresponding to the fluoroaliphatic group-containing monomer A represented by the following general formula [1], general formula [2], general formula [3] or general formula [4]. A fluoroaliphatic group-containing copolymer containing at least one kind and at least one repeating unit corresponding to the monomer B represented by the following general formula [5] not containing a fluoroaliphatic group is preferable.

Figure 2006251163
Figure 2006251163

(一般式[1]において、R0は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Lは2価の連結基を表し、nは1以上18以下の整数を表す。) (In the general formula [1], R 0 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, L represents a divalent linking group, and n represents an integer of 1 to 18.)

Figure 2006251163
Figure 2006251163

(一般式[2]において、R1は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、Xは酸素原子、硫黄原子または−N(R2)−を表し、mは1以上6以下の整数、nは1以上18以下の整数を表す。ここで、R2は水素原子または置換基を有しても良い炭素数1〜8のアルキル基を表す。) (In General Formula [2], R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, X represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 2 ) —, m is an integer of 1-6, n Represents an integer of 1 to 18. Here, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent.

Figure 2006251163
Figure 2006251163

(一般式[3]において、R3は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、L2は2価の連結基を表し、nは1以上6以下の整数を表す。) (In the general formula [3], R 3 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, L 2 represents a divalent linking group, and n represents an integer of 1 to 6.)

Figure 2006251163
Figure 2006251163

(一般式[4]においてR4は水素原子またはメチル基を表し、Xは酸素原子、イオウ原子または−N(R2)−を表し、mは1以上6以下の整数、nは1以上6以下の整数を表す。水素原子または置換基を有しても良い炭素数1以上8以下のアルキル基を表す。) (In the general formula [4], R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 2 ) —, m is an integer of 1 to 6 and n is 1 to 6) Represents the following integer: represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent.

Figure 2006251163
Figure 2006251163

(一般式[5]において、R1は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、L1は2価の連結基を表し、Yは置換基を有しても良い炭素数1〜20の直鎖、分岐、または環状のアルキル基、置換基を有していても良い芳香族基を表す。) (In General Formula [5], R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, L 1 represents a divalent linking group, and Y represents a straight chain having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent. A chain, branched, or cyclic alkyl group or an aromatic group that may have a substituent.

一般式[1]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーについて説明する。
一般式[1]において、R0は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Lは2価の連結基を表し、酸素原子、イオウ原子、窒素原子を含む2価の連結基が好ましい。Lは酸素原子、窒素原子、イオウ原子のいずれかを含んでいる2価の連結基を表し、−COO−、−COO(R5)−、−COS−、−COS(R5)−、−CON(R6)−、−CON(R6)(R5)−等が好ましい。ここでR5は炭素数1以上8以下のアルキル基、R6は水素原子、炭素数1以上8以下のアルキル基を表す。nは1以上18以下の整数を表し、4〜12がより好ましく、6〜8が更に好ましく、6であることが最も好ましい。
また、該フッ素系レベリング剤中に一般式[1]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位が2種類以上構成単位として含まれていても良い。
The fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the general formula [1] will be described.
In the general formula [1], R 0 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group. L represents a divalent linking group, and a divalent linking group containing an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom is preferred. L represents a divalent linking group containing any one of an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom, and represents -COO-, -COO (R5)-, -COS-, -COS (R5)-, -CON ( R6)-, -CON (R6) (R5)-and the like are preferable. Here, R5 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, R6 represents a hydrogen atom, and an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. n represents an integer of 1 to 18, more preferably 4 to 12, still more preferably 6 to 8, and most preferably 6.
In addition, two or more kinds of polymerization units of the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the general formula [1] may be included in the fluorine-based leveling agent as structural units.

一般式[2]において、R1は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Xは酸素原子、イオウ原子または−N(R2)−を表し、酸素原子または−N(R2)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。R2は水素原子または炭素数1以上8以下のアルキル基を表し、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。mは1以上6以下の整数を表し、1〜3がより好ましく、1であることが更に好ましい。nは1以上18以下の整数を表し、4〜12がより好ましく、6〜8が更に好ましく、6であることが最も好ましい。
また、該フッ素系レベリング剤中に一般式[2]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位が2種類以上構成単位として含まれていても良い。
In the general formula [2], R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group. X represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 2 ) —, more preferably an oxygen atom or —N (R 2 ) —, and still more preferably an oxygen atom. R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and still more preferably a hydrogen atom or a methyl group. m represents an integer of 1 to 6, more preferably 1 to 3, and still more preferably 1. n represents an integer of 1 to 18, more preferably 4 to 12, still more preferably 6 to 8, and most preferably 6.
In addition, two or more kinds of polymerization units of the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the general formula [2] may be included in the fluorine-based leveling agent as structural units.

以下に一般式[1]又は[2]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されることはない。   Specific examples of the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the general formula [1] or [2] are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2006251163
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一般式[3]において、R3は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。L2は2価の連結器を表し、酸素原子、イオウ原子、窒素原子を含む2価の連結器が好ましい。L2は酸素原子、窒素原子、イオウ原子のいずれかを含んでいる2価の連結基を表し、−COO−、−COO(R5)−、−COS−、−COS(R5)−、−CON(R6)−、−CON(R6)(R5)−等が好ましい。ここでR5は炭素数1以上8以下のアルキル基、R6は水素原子、炭素数1以上8以下のアルキル基を表す。nは1以上6以下の整数を表し、4〜6がより好ましく、6が更に好ましい。
フルオロ脂肪族基含有共重合体中に一般式[3]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位が2種類以上構成単位として含まれていても良い。
In the general formula [3], R 3 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group. L 2 represents a divalent coupler, and a divalent coupler containing an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom is preferable. L 2 represents a divalent linking group containing any one of an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom, and —COO—, —COO (R5) —, —COS—, —COS (R5) —, —CON (R6)-, -CON (R6) (R5)-and the like are preferable. Here, R5 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, R6 represents a hydrogen atom, and an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. n represents an integer of 1 or more and 6 or less, more preferably 4 to 6, and still more preferably 6.
Two or more kinds of polymer units of the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the general formula [3] may be included as a structural unit in the fluoroaliphatic group-containing copolymer.

一般式[4]において、R4は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Xは酸素原子、イオウ原子または−N(R2)−を表し、酸素原子または−N(R2)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。R2は水素原子または炭素数1以上8以下のアルキル基を表し、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。mは1以上6以下の整数を表し、1〜3がより好ましく、1であることが更に好ましい。nは1以上6以下の整数を表し、4〜6がより好ましく、6が更に好ましい。フルオロ脂肪族基含有共重合体中に一般式[4]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位が2種類以上構成単位として含まれていても良い。 In the general formula [4], R 4 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group. X represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 2 ) —, more preferably an oxygen atom or —N (R 2 ) —, and still more preferably an oxygen atom. R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and still more preferably a hydrogen atom or a methyl group. m represents an integer of 1 to 6, more preferably 1 to 3, and still more preferably 1. n represents an integer of 1 or more and 6 or less, more preferably 4 to 6, and still more preferably 6. Two or more kinds of polymer units of the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the general formula [4] may be contained as a structural unit in the fluoroaliphatic group-containing copolymer.

一般式[3]または[4]で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーのより具体的なモノマーの例を以下に挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the example of the more specific monomer of the fluoro aliphatic group containing monomer represented by General formula [3] or [4] is given below, this invention is not limited to these.

Figure 2006251163
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尚、従来、好んで用いられてきた電解フッ素化法により製造されるフッ素系化学製品の一部は、生分解性が低く、生体蓄積性の高い物質であり、程度は軽微ではあるが、生殖毒性、発育毒性を有する事が懸念されている。本発明においても、フルオロ脂肪族基の末端に水素原子、また末端がフッ素原子でもフルオロアルキル鎖長がC6以下と短いフッ素系レベリング剤は、より環境安全性の高い物質であるということも産業上有利な点であるといえる。   In addition, some of the fluorinated chemical products produced by the electrolytic fluorination method that has been favorably used in the past are substances that have low biodegradability and high bioaccumulation. There is concern about toxicity and developmental toxicity. Also in the present invention, a fluorine leveling agent having a hydrogen atom at the end of the fluoroaliphatic group and a fluorine atom at the end and a short fluoroalkyl chain length of C6 or less is a more environmentally safe substance. It can be said that it is an advantage.

フルオロ脂肪族基を含有しない、一般式[5]で示されるモノマーBに相当する繰り返し単位について説明する。一般式[5]において、R1は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。L1は2価の連結基を表し、Yは置換基を有しても良い炭素数1〜20の直鎖、分岐、または環状のアルキル基、置換基を有していても良い芳香族基を表す。L1は酸素原子、窒素原子、イオウ原子のいずれかを含んでいる2価の連結基を表し、−COO−、−COO(R5)−、−COS−、−COS(R5)−、−CON(R6)−、−CON(R6)(R5)−等が好ましい。ここでR5は炭素数1以上8以下のアルキル基、R6は水素原子、炭素数1以上8以下のアルキル基を表す。 The repeating unit corresponding to the monomer B represented by the general formula [5] that does not contain a fluoroaliphatic group will be described. In the general formula [5], R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group. L 1 represents a divalent linking group, Y is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and an aromatic group which may have a substituent. Represents. L 1 represents a divalent linking group containing any of an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom, and represents —COO—, —COO (R5) —, —COS—, —COS (R5) —, —CON (R6)-, -CON (R6) (R5)-and the like are preferable. Here, R5 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, R6 represents a hydrogen atom, and an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.

本発明では、I/O値が1.0以上である、一般式[5]で示されるモノマーBに相当する繰り返し単位の量が、該フルオロ脂肪族基含有共重合体を構成する全重合単位に基づいて5質量%以下である事が好ましく、3質量%以下であることが更に好ましく、0質量%であることが最も好ましい。特に、一般式[5]で示されるモノマーに相当する繰り返し単位として、ポリ(オキシアルキレン)アクリレート及び/またはポリ(オキシアルキレン)メタクリレートを含まないことが好ましい。   In the present invention, the amount of repeating units corresponding to the monomer B represented by the general formula [5] having an I / O value of 1.0 or more is the total number of polymerized units constituting the fluoroaliphatic group-containing copolymer Is preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less, and most preferably 0% by mass. In particular, it is preferable not to include poly (oxyalkylene) acrylate and / or poly (oxyalkylene) methacrylate as a repeating unit corresponding to the monomer represented by the general formula [5].

本発明で述べる上記I/O値は、藤田穆“有機性:無機性値による有機概念”、甲田善生“有機概念図”三共出版(1984)等に記載の方法によって求めた「無機性(I)/有機性(O)」値である。I/O値は有機化合物のいろいろな物理化学的な性状を予測するための1手段として用いられる。有機性は炭素数の大小の比較で、無機性は炭素同数の炭化水素の沸点の比較で大小が得られる。例えば、(−CH2−)(実際はC)一個は有機性値20と決め、無機性は水酸基(−OH)が沸点へ及ぼす影響力から、その無機性値を100と決めたものである。この(−OH)の無機性値100を基準にして他の置換基(無機性基)の値を求めたものが“無機性基表”として示されている。この無機性基表に従い、各分子に対して得られた無機性値(I)と有機性値(O)の比I/Oを“I/O値”と定義している。I/O値が大きくなるにつれて親水性が増し、I/O値が小さくなるにつれて疎水性が強くなることを示している。 The above I / O value described in the present invention is determined by the method described in Satoshi Fujita “Organicity: Organic Concept by Inorganic Value”, Yoshio Koda “Organic Conceptual Diagram” Sankyo Publishing (1984) and the like. ) / Organic (O) ”value. The I / O value is used as a means for predicting various physicochemical properties of organic compounds. Organicity can be obtained by comparing the number of carbons, and inorganicity can be obtained by comparing the boiling points of hydrocarbons having the same number of carbons. For example, one (—CH 2 —) (actually C) is determined to have an organic value of 20, and the inorganic property is determined to have an inorganic value of 100 from the influence of hydroxyl groups (—OH) on the boiling point. What calculated | required the value of the other substituent (inorganic group) on the basis of the inorganic value 100 of this (-OH) is shown as "inorganic group table". According to this inorganic group table, the ratio I / O between the inorganic value (I) and the organic value (O) obtained for each molecule is defined as “I / O value”. It shows that the hydrophilicity increases as the I / O value increases, and the hydrophobicity increases as the I / O value decreases.

一般式[5]で示されるモノマーに相当する繰り返し単位として親水性の高いモノマーを含むフッ素系レベリング剤は上層塗布時の上層への溶出性が悪く、耐擦傷性が悪化する。一般式[5]で示されるモノマーに相当する繰り返し単位としてポリ(オキシアルキレン)アクリレート及び/またはポリ(オキシアルキレン)メタクリレートを使用すると特に耐擦傷性が悪化するため、これらのモノマーを含まないことが好ましい。そのため、一般式[5]で示されるモノマーに相当する繰り返し単位として疎水性のモノマーのみを採用することが好ましい。疎水性のモノマーとしては一般式[5]のYとして環状化合物を有するモノマーが好ましく、脂環式化合物あることがより好ましく、脂環式縮合環化合物であることが更に好ましい。ここで言う脂環式とは炭素原子が環状に結合した構造をもつ炭素環式化合物のうち、芳香族化合物に属さないものであり、また縮合環化合物とは環式構造をもつ有機化合物において、2個またはそれ以上の環が、2個またはそれ以上の原子を共有して結合しているものである(化学大辞典、共立出版(株))。   A fluorine-based leveling agent containing a highly hydrophilic monomer as a repeating unit corresponding to the monomer represented by the general formula [5] has poor elution to the upper layer when the upper layer is applied, and deteriorates scratch resistance. When poly (oxyalkylene) acrylate and / or poly (oxyalkylene) methacrylate is used as a repeating unit corresponding to the monomer represented by the general formula [5], the scratch resistance is particularly deteriorated. preferable. Therefore, it is preferable to employ only a hydrophobic monomer as a repeating unit corresponding to the monomer represented by the general formula [5]. The hydrophobic monomer is preferably a monomer having a cyclic compound as Y in the general formula [5], more preferably an alicyclic compound, and still more preferably an alicyclic condensed ring compound. The alicyclic as used herein is a compound that does not belong to an aromatic compound among carbocyclic compounds having a structure in which carbon atoms are cyclically bonded, and a condensed ring compound is an organic compound having a cyclic structure. Two or more rings are bonded by sharing two or more atoms (Chemical Dictionary, Kyoritsu Shuppan Co., Ltd.).

本発明の一般式[5]で表されるモノマーのより具体的なモノマーの例を以下に挙げるがこの限りではない。   Although the example of the more specific monomer of the monomer represented by General formula [5] of this invention is given below, it is not this limitation.

Figure 2006251163
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本発明で用いられるフッ素系レベリング剤の質量平均分子量は、5000〜50000が好ましく、8000〜30000がより好ましく、10000〜20000が更に好ましい。分子量が5000以下だと風ムラ防止能が不十分であり、また分子量が50000を超えると有機溶剤への溶解性・溶出性が低下してしまうため好ましくない。
ここで、質量平均分子量及び分子量は、TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(何れも東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したGPC分析装置により、溶媒THF、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量である。
5000-50000 is preferable, as for the mass average molecular weight of the fluorine-type leveling agent used by this invention, 8000-30000 is more preferable, and 10000-20000 is still more preferable. When the molecular weight is 5,000 or less, the ability to prevent wind unevenness is insufficient, and when the molecular weight exceeds 50,000, the solubility and elution in an organic solvent is lowered, which is not preferable.
Here, the mass average molecular weight and the molecular weight are converted to polystyrene by GTH analyzer using a column of TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, TSKgel G2000HxL (both trade names manufactured by Tosoh Co., Ltd.) by detection of solvent THF and differential refractometer. Is the molecular weight.

本発明のフッ素系レベリング剤は公知慣用の方法で製造することができる。例えば先にあげたフルオロ脂肪族基を有する(メタ)アクリレート、直鎖、分岐または環状のアルキル基を有する(メタ)アクリレート等の単量体を有機溶媒中、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより製造できる。もしくは場合によりその他の付加重合性不飽和化合物とを、添加して上記と同じ方法にて製造することができる。各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。   The fluorine-based leveling agent of the present invention can be produced by a known and conventional method. For example, the above-mentioned monomers such as (meth) acrylate having a fluoroaliphatic group and (meth) acrylate having a linear, branched or cyclic alkyl group are added to a general-purpose radical polymerization initiator in an organic solvent. Can be produced by polymerization. Alternatively, other addition-polymerizable unsaturated compounds can be added in some cases and produced in the same manner as described above. Depending on the polymerizability of each monomer, a dropping polymerization method in which a monomer and an initiator are added dropwise to a reaction vessel is also effective for obtaining a polymer having a uniform composition.

以下、本発明に用いることのできるフッ素系レベリング剤の具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお式中の数字は各モノマー成分の質量比率を示す。Mwは質量平均分子量を表す。   Hereinafter, examples of specific structures of the fluorine-based leveling agent that can be used in the present invention are shown, but the present invention is not limited thereto. In addition, the number in a formula shows the mass ratio of each monomer component. Mw represents a mass average molecular weight.

Figure 2006251163
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本発明で用いられるフッ素系ポリマーを構成するこれらの一般式[1]〜[4]で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーAの重合単位の量は、該フッ素系ポリマーを構成する全重合単位に基づいて、10質量%を超えることが好ましく、20〜90質量%であることがより好ましく、30〜80質量%であることが更に好ましい。   The amount of the polymer units of the fluoroaliphatic group-containing monomer A represented by the general formulas [1] to [4] constituting the fluoropolymer used in the present invention is the total polymer units constituting the fluoropolymer. Based on this, it is preferably more than 10% by mass, more preferably 20 to 90% by mass, and still more preferably 30 to 80% by mass.

塗布液に対する上記フッ素系レベリング剤の添加量は、0.001質量%〜1.0質量%であることが好ましく、より好ましくは0.01質量%〜0.2質量%である。
塗布液は、面状向上の点から、水の含率が30質量%以下であることが好ましく、より好ましくは10質量%以下である。
The amount of the fluorine-based leveling agent added to the coating solution is preferably 0.001% by mass to 1.0% by mass, and more preferably 0.01% by mass to 0.2% by mass.
The coating solution preferably has a water content of 30% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, from the viewpoint of improving the surface condition.

本発明の組成物は、用途に応じて、バインダー、無機フィラー、分散安定剤など、必要な成分を含有することができる。本発明の一種あるいは複数種の塗布組成物を支持体上に塗布することにより機能性層を一層以上形成し、例えば反射防止膜や偏光板とすることができる。   The composition of the present invention can contain necessary components such as a binder, an inorganic filler, and a dispersion stabilizer depending on applications. One or more functional layers can be formed by coating one or more coating compositions of the present invention on a support, for example, an antireflection film or a polarizing plate.

次に、前記低屈折率層について以下に説明する。
<低屈折率層>
本発明の反射防止フィルムにおける低屈折率層の屈折率は、1.30〜1.55であり、好ましくは1.35〜1.45の範囲である。
屈折率が1.30未満であると、反射防止性能は向上するが、膜の機械強度が低下し、1.55を超えると、反射防止性能が著しく悪化してしまう。
さらに、低屈折率層は下記数式(I)を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式(I)
(m/4)×0.7<n1×d1<(m/4)×1.3
式中、mは正の奇数であり、n1は低屈折率層の屈折率であり、そして、d1は低屈折率層の膜厚(nm)である。また、λは波長であり、500〜550nmの範囲の値である。
なお、前記数式(I)を満たすとは、前記波長の範囲において数式(I)を満たすm(正の奇数、通常1である)が存在することを意味している。
Next, the low refractive index layer will be described below.
<Low refractive index layer>
The refractive index of the low refractive index layer in the antireflection film of the present invention is 1.30 to 1.55, preferably 1.35 to 1.45.
When the refractive index is less than 1.30, the antireflection performance is improved, but the mechanical strength of the film is lowered, and when it exceeds 1.55, the antireflection performance is remarkably deteriorated.
Further, the low refractive index layer preferably satisfies the following formula (I) from the viewpoint of reducing the reflectance.
Formula (I)
(M / 4) × 0.7 <n1 × d1 <(m / 4) × 1.3
In the formula, m is a positive odd number, n1 is the refractive index of the low refractive index layer, and d1 is the film thickness (nm) of the low refractive index layer. Further, λ is a wavelength, which is a value in the range of 500 to 550 nm.
In addition, satisfy | filling said numerical formula (I) means that m (positive odd number, usually 1) which satisfy | fills numerical formula (I) exists in the said wavelength range.

低屈折率層としては、熱または電離放射線により架橋する含フッ素樹脂(以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ともいう)の架橋からなる低屈折率層(態様1)、ゾルゲル法による低屈折率層(態様2)、および粒子とバインダーポリマーを用い、粒子間または粒子内部に空隙を有する低屈折率層(態様3)等が用いられる。
熱または電離放射線により架橋する含フッ素樹脂(以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ともいう)の架橋からなる低屈折率層(態様1)を形成する素材について以下に説明する。
低屈折率層は、例えば含フッ素ポリマーを主成分とする硬化性組成物を塗布、乾燥、硬化して形成される硬化膜である。
<低屈折率層用含フッ素ポリマー>
前記含フッ素ポリマーは、硬化被膜にした場合の被膜の動摩擦係数が0.03〜0.20、水に対する接触角が90〜120°、純水の滑落角が70°以下であり、熱または電離放射線により架橋するポリマーであるのが、ロールフィルムをウェブ搬送しながら塗布、硬化する場合などにおいて生産性向上の点で好ましい。
また、本発明の反射防止フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなるので、剥離力は、500gf以下が好ましく、300gf以下がより好ましく、100gf以下が最も好ましい。 また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難いので、該表面硬度が、0.3GPa以上が好ましく、0.5GPa以上がより好ましい。
As the low refractive index layer, a low refractive index layer (embodiment 1) formed by crosslinking of a fluorine-containing resin that is crosslinked by heat or ionizing radiation (hereinafter also referred to as “fluorinated resin before crosslinking”), a low refractive index by a sol-gel method A layer (embodiment 2), and a low refractive index layer (embodiment 3) having voids between or inside the particles using the particles and the binder polymer are used.
A material for forming a low refractive index layer (embodiment 1) composed of a crosslink of a fluorine-containing resin that is crosslinked by heat or ionizing radiation (hereinafter also referred to as “fluorine-containing resin before crosslinking”) will be described below.
The low refractive index layer is a cured film formed, for example, by applying, drying and curing a curable composition containing a fluorine-containing polymer as a main component.
<Fluoropolymer for low refractive index layer>
The fluoropolymer has a cured film with a coefficient of dynamic friction of 0.03 to 0.20, a contact angle with water of 90 to 120 °, and a sliding angle of pure water of 70 ° or less, and heat or ionization. A polymer that is cross-linked by radiation is preferable in terms of improving productivity in the case of coating and curing a roll film while transporting the web.
In addition, when the antireflection film of the present invention is mounted on an image display device, the lower the peel strength from a commercially available adhesive tape, the easier it is to peel off after sticking a seal or memo, so the peel strength is preferably 500 gf or less, 300 gf or less is more preferable, and 100 gf or less is most preferable. Further, the higher the surface hardness measured with a microhardness meter, the harder it is to scratch. Therefore, the surface hardness is preferably 0.3 GPa or more, and more preferably 0.5 GPa or more.

低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーは、フッ素原子を35〜80質量%の範囲で含有し、且つ架橋性もしくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーであり、例えば、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物〔例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)トリエトキシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素共重合体の場合、主鎖は、炭素原子のみからなるのが好ましい。すなわち、主鎖骨格に酸素原子や窒素原子などを有しないのが好ましい。   The fluorine-containing polymer used for the low refractive index layer is a fluorine-containing polymer containing a fluorine atom in a range of 35 to 80% by mass and containing a crosslinkable or polymerizable functional group, for example, containing a perfluoroalkyl group In addition to hydrolysates and dehydration condensates of silane compounds [for example, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) triethoxysilane], fluorinated monomer units and crosslinking reactive units are used as constituent units. A fluorine-containing copolymer is mentioned. In the case of a fluorinated copolymer, the main chain preferably consists of only carbon atoms. That is, it is preferable that the main chain skeleton does not have an oxygen atom or a nitrogen atom.

前記含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。   Specific examples of the fluorine-containing monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, perfluorooctylethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3- Dioxoles, etc.), (meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) and M-2020 (manufactured by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, etc. However, perfluoroolefins are preferable, and hexafluoropropylene is particularly preferable from the viewpoint of refractive index, solubility, transparency, availability, and the like.

前記架橋反応性単位としては、グリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位;カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー〔例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等〕の重合によって得られる構成単位に高分子反応によって(メタ)アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位(例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる)が挙げられる。   Examples of the crosslinking reactive unit include a structural unit obtained by polymerization of a monomer having a self-crosslinking functional group in the molecule such as glycidyl (meth) acrylate and glycidyl vinyl ether; carboxyl group, hydroxy group, amino group, sulfo group A structural unit obtained by polymerization of a monomer having, for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, maleic acid, crotonic acid, etc. And a structural unit in which a crosslinkable reactive group such as a (meth) acryloyl group is introduced by a polymer reaction (for example, it can be introduced by a technique such as allowing acrylic acid chloride to act on a hydroxy group).

また、前記含フッ素モノマー単位及び前記架橋反応性単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から、適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合させて、他の重合単位を導入することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類〔エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等〕、アクリル酸エステル類〔アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル〕、メタクリル酸エステル類〔メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等〕、スチレン誘導体〔スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等〕、ビニルエーテル類〔メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等〕、ビニルエステル類〔酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等〕、アクリルアミド類〔N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等〕、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。   In addition to the fluorine-containing monomer unit and the cross-linking reactive unit, from the viewpoint of solubility in a solvent, film transparency, and the like, a monomer not containing a fluorine atom is appropriately copolymerized to introduce another polymerization unit. You can also There are no particular limitations on the monomer units that can be used in combination, such as olefins [ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.], acrylic esters [methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2 -Ethylhexyl], methacrylates (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyl toluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl) Vinyl ether, ethyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, etc.], vinyl esters [vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.], acrylamides [N-tertbutylacrylamide, N-silane] B hexyl acrylamide], methacrylamides, and acrylonitrile derivatives.

前記含フッ素ポリマーに対しては特開平10−25388号および特開平10−147739号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。   As described in JP-A-10-25388 and JP-A-10-147739, a curing agent may be appropriately used in combination with the fluoropolymer.

本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類とのランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基〔(メタ)アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等〕を有していることが好ましい。
これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の5〜70mol%を占めていることが好ましく、特に好ましくは30〜60mol%を占めていることである。
The fluorine-containing polymer particularly useful in the present invention is a random copolymer of perfluoroolefin and vinyl ethers or vinyl esters. In particular, it preferably has a group capable of undergoing crosslinking reaction alone (radical reactive group such as (meth) acryloyl group, ring-opening polymerizable group such as epoxy group and oxetanyl group).
These crosslinkable group-containing polymerized units preferably occupy 5 to 70 mol%, particularly preferably 30 to 60 mol% of the total polymerized units of the polymer.

本発明に用いられる低屈折率層用含フッ素ポリマーの好ましい形態として一般式1で表される共重合体が挙げられる。   A preferred form of the fluorine-containing polymer for the low refractive index layer used in the present invention is a copolymer represented by the general formula 1.

Figure 2006251163
Figure 2006251163

一般式1中、Lは炭素数1〜10の連結基を表し、より好ましくは炭素数1〜6の連結基であり、特に好ましくは2〜4の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、O、N及びSから選ばれるヘテロ原子を有していても良い。
好ましい例としては、*−(CH22−O−**, *−(CH22−NH−**, *−(CH24−O−**, *−(CH26−O−**, *−(CH22−O−(CH22−O−**, *−CONH−(CH23−O−**, *−CH2CH(OH)CH2−O−**, *−CH2CH2OCONH(CH23−O−**(* はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は(メタ)アクリロイル基側の連結部位を表す。)等が挙げられる。mは0または1を表わす。
In General Formula 1, L represents a linking group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a linking group having 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably a linking group having 2 to 4 carbon atoms, It may have a branched structure, may have a ring structure, or may have a heteroatom selected from O, N and S.
Preferred examples include * — (CH 2 ) 2 —O — **, * — (CH 2 ) 2 —NH — **, * — (CH 2 ) 4 —O — **, * — (CH 2 ). 6 -O - **, * - ( CH 2) 2 -O- (CH 2) 2 -O - **, * -CONH- (CH 2) 3 -O - **, * -CH 2 CH (OH ) CH 2 —O — **, * —CH 2 CH 2 OCONH (CH 2 ) 3 —O — ** (* represents the connecting site on the polymer main chain side, and ** represents the connecting on the (meth) acryloyl group side) Represents a part). m represents 0 or 1;

一般式1中、Xは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。   In general formula 1, X represents a hydrogen atom or a methyl group. From the viewpoint of curing reactivity, a hydrogen atom is more preferable.

一般式1中、Aは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのTg(皮膜硬度に寄与する)、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていても良い。   In the general formula 1, A represents a repeating unit derived from an arbitrary vinyl monomer, and is not particularly limited as long as it is a constituent component of a monomer copolymerizable with hexafluoropropylene. Tg (contributes to film hardness), solubility in solvents, transparency, slipperiness, dust / antifouling properties, etc., can be selected as appropriate, depending on the purpose, depending on the single or multiple vinyl monomers It may be configured.

好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の(メタ)アクリレート類、スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。   Preferred examples include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, glycidyl vinyl ether, vinyl ethers such as allyl vinyl ether, vinyl acetate, vinyl propionate, butyric acid. (Meth) such as vinyl esters such as vinyl, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl methacrylate, allyl (meth) acrylate, (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane Acrylates, styrene, styrene derivatives such as p-hydroxymethylstyrene, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid Can be mentioned unsaturated carboxylic acids and derivatives thereof, more preferably ether derivatives, vinyl ester derivatives, particularly preferably a vinyl ether derivative.

x、y、zはそれぞれの構成成分のモル%を表わし、30≦x≦60、5≦y≦70、0≦z≦65が好ましく、更に好ましくは、35≦x≦55、30≦y≦60、0≦z≦20の場合であり、特に好ましくは40≦x≦55、40≦y≦55、0≦z≦10の場合である。ただし、x+y+z=100である。
本発明に用いられる共重合体の特に好ましい形態として一般式2が挙げられる。
x, y, and z represent the mol% of each constituent component, and preferably 30 ≦ x ≦ 60, 5 ≦ y ≦ 70, and 0 ≦ z ≦ 65, and more preferably 35 ≦ x ≦ 55 and 30 ≦ y ≦. 60, 0 ≦ z ≦ 20, particularly preferably 40 ≦ x ≦ 55, 40 ≦ y ≦ 55, and 0 ≦ z ≦ 10. However, x + y + z = 100.
A particularly preferred form of the copolymer used in the present invention is General Formula 2.

Figure 2006251163
Figure 2006251163

一般式2においてXは一般式1と同じ意味を表わし、好ましい範囲も同じである。
nは2≦n≦10の整数を表わし、2≦n≦6であることが好ましく、2≦n≦4であることが特に好ましい。
Bは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を単位を表わし、単一組成であっても複数の組成によって構成されていても良い。例としては、前記一般式1におけるAの例として説明したものが当てはまる。
x、y、z1およびz2はそれぞれの繰返し単位のmol%を表わし、x及びyは、それぞれ30≦x≦60、5≦y≦70を満たすのが好ましく、更に好ましくは、35≦x≦55、30≦y≦60の場合であり、特に好ましくは40≦x≦55、40≦y≦55の場合である。z1及びz2については、0≦z1≦65、0≦z2≦65を満たすのが好ましく、更に好ましくは0≦z1≦30、0≦z2≦10であることが好ましく、0≦z1≦10、0≦z2≦5であることが特に好ましい。ただし、x+y+z1+z2=100である。
一般式1又は2で表わされる共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法により(メタ)アクリロイル基を導入することにより合成できる。この際用いられる再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。
一般式1又は2で表わされる共重合体の好ましい具体例としては、特開2004−45462号公報の[0035]〜[0047]に記載されたものを挙げることができ、該公報に記載の方法により合成することができる。
In General Formula 2, X represents the same meaning as in General Formula 1, and the preferred range is also the same.
n represents an integer of 2 ≦ n ≦ 10, preferably 2 ≦ n ≦ 6, and particularly preferably 2 ≦ n ≦ 4.
B represents a unit of a repeating unit derived from an arbitrary vinyl monomer, and may be composed of a single composition or a plurality of compositions. As an example, what was demonstrated as an example of A in the said General formula 1 is applicable.
x, y, z1 and z2 represent mol% of each repeating unit, and x and y preferably satisfy 30 ≦ x ≦ 60 and 5 ≦ y ≦ 70, respectively, more preferably 35 ≦ x ≦ 55. 30 ≦ y ≦ 60, particularly preferably 40 ≦ x ≦ 55 and 40 ≦ y ≦ 55. z1 and z2 preferably satisfy 0 ≦ z1 ≦ 65 and 0 ≦ z2 ≦ 65, more preferably 0 ≦ z1 ≦ 30 and 0 ≦ z2 ≦ 10, and 0 ≦ z1 ≦ 10, 0 It is particularly preferable that ≦ z2 ≦ 5. However, x + y + z1 + z2 = 100.
The copolymer represented by the general formula 1 or 2 is obtained, for example, by introducing a (meth) acryloyl group into a copolymer comprising a hexafluoropropylene component and a hydroxyalkyl vinyl ether component by any of the above-described methods. Can be synthesized. As the reprecipitation solvent used in this case, isopropanol, hexane, methanol and the like are preferable.
Preferable specific examples of the copolymer represented by the general formula 1 or 2 include those described in [0035] to [0047] of JP-A-2004-45462, and the method described in the publication Can be synthesized.

前記硬化性組成物は、(A)前記含フッ素ポリマー、(B)無機微粒子、(C)後述するオルガノシラン化合物を含有してなるのが好ましい。
<低屈折率層用無機微粒子>
無機微粒子の配合量は、1mg/m2〜100mg/m2が好ましく、より好ましくは5mg/m2〜80mg/m2、更に好ましくは10mg/m2〜60mg/m2である。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する場合があるので、上述の範囲内とするのが好ましい。
該無機微粒子は、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが望ましい。 例えば、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点で、シリカ微粒子が好ましい。
無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上100%以下が好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。即ち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、シリカ微粒子の粒径は30nm以上100nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上80nm以下、更に好ましくは、40nm以上60nm以下である。
前記無機微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する場合があるので、上述の範囲内とするのが好ましい。無機微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
ここで、無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
The curable composition preferably contains (A) the fluoropolymer, (B) inorganic fine particles, and (C) an organosilane compound described later.
<Inorganic fine particles for low refractive index layer>
The amount of the inorganic fine particles is preferably 1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 5mg / m 2 ~80mg / m 2 , more preferably from 10mg / m 2 ~60mg / m 2 . If the amount is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. It is preferable to be inside.
Since the inorganic fine particles are contained in the low refractive index layer, it is desirable that the inorganic fine particles have a low refractive index. Examples thereof include fine particles of magnesium fluoride and silica. In particular, silica fine particles are preferable in terms of refractive index, dispersion stability, and cost.
The average particle diameter of the inorganic fine particles is preferably 30% or more and 100% or less, more preferably 35% or more and 80% or less, and still more preferably 40% or more and 60% or less of the thickness of the low refractive index layer. That is, when the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle size of the silica fine particles is preferably 30 nm to 100 nm, more preferably 35 nm to 80 nm, and still more preferably 40 nm to 60 nm.
If the particle size of the inorganic fine particles is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. Therefore, it is preferable to be within the above range. The inorganic fine particles may be either crystalline or amorphous, and may be monodispersed particles or aggregated particles as long as a predetermined particle size is satisfied. The shape is most preferably a spherical diameter, but there is no problem even if the shape is indefinite.
Here, the average particle diameter of the inorganic fine particles is measured by a Coulter counter.

低屈折率層の屈折率上昇をより一層少なくするために、前記無機微粒子は、中空構造であるのが好ましく、また、無機微粒子の屈折率は1.17〜1.40、より好ましくは1.17〜1.35、さらに好ましくは1.17〜1.30である。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空構造の無機微粒子の場合に外殻の無機質のみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、下記数式(II)で表される空隙率xは
(数式II)
x=(4πa3/3)/(4πb3/3)×100
好ましくは10〜60%、さらに好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。
中空の無機微粒子の屈折率をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点からは屈折率1.17未満の低屈折率の粒子は成り立たない。
なお、無機微粒子の屈折率はアッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定を行い測定した。
In order to further reduce the increase in the refractive index of the low refractive index layer, the inorganic fine particles preferably have a hollow structure, and the refractive index of the inorganic fine particles is 1.17 to 1.40, more preferably 1. It is 17-1.35, More preferably, it is 1.17-1.30. Here, the refractive index represents the refractive index of the whole particle, and does not represent the refractive index of only the inorganic material of the outer shell in the case of hollow structure inorganic fine particles. At this time, when the radius of the cavity in the particle is a and the radius of the particle outer shell is b, the porosity x represented by the following formula (II) is (formula II)
x = (4πa 3/3) / (4πb 3/3) × 100
Preferably it is 10 to 60%, More preferably, it is 20 to 60%, Most preferably, it is 30 to 60%.
If the refractive index of the hollow inorganic fine particles is made lower and the porosity is increased, the thickness of the outer shell becomes thinner and the strength of the particles becomes weaker. From the viewpoint of scratch resistance, the refractive index is 1 Particles with a low refractive index of less than .17 do not hold.
The refractive index of the inorganic fine particles was measured with an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.).

また、平均粒径が低屈折率層の厚みの25%未満である無機微粒子(以下「小サイズ無機微粒子」と称す)の少なくとも1種を前記の好ましい範囲内の粒径の無機微粒子(以下「大サイズ無機微粒子」と称す)と併用してもよい。
小サイズ無機微粒子は、大サイズ無機微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ無機微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層が100nmの場合、1nm以上20nm以下が好ましく、5nm以上15nm以下が更に好ましく、10nm以上15nm以下が特に好ましい。このような無機微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。
上述のように前記無機微粒子としては、平均粒径が上述のように低屈折率層の厚みの30〜100%であり、中空構造からなり、屈折率が上述のように1.17〜1.40であるものが特に好ましく用いられる。
In addition, at least one kind of inorganic fine particles (hereinafter referred to as “small size inorganic fine particles”) having an average particle size of less than 25% of the thickness of the low refractive index layer is referred to as “inorganic fine particles (hereinafter referred to as“ small size inorganic fine particles ”). It may be used in combination with “large-size inorganic fine particles”.
Since the small-sized inorganic fine particles can be present in the gaps between the large-sized inorganic fine particles, they can contribute as a retaining agent for the large-sized inorganic fine particles.
When the low refractive index layer is 100 nm, the average particle size of the small-sized inorganic fine particles is preferably 1 nm to 20 nm, more preferably 5 nm to 15 nm, and particularly preferably 10 nm to 15 nm. Use of such inorganic fine particles is preferable in terms of raw material costs and a retaining agent effect.
As described above, the inorganic fine particles have an average particle diameter of 30 to 100% of the thickness of the low refractive index layer as described above, have a hollow structure, and have a refractive index of 1.17 to 1. What is 40 is used especially preferably.

無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。中でもカップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。
前記カップリング剤は、低屈折率層の無機微粒子の表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
無機微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
Inorganic fine particles are treated with physical surface treatment such as plasma discharge treatment or corona discharge treatment in order to stabilize dispersion in the dispersion or coating solution, or to improve the affinity and binding properties with the binder component. Further, chemical surface treatment with a surfactant, a coupling agent or the like may be performed. Of these, the use of a coupling agent is particularly preferred. As the coupling agent, an alkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. Of these, silane coupling treatment is particularly effective.
The coupling agent is used as a surface treatment agent for the inorganic fine particles of the low refractive index layer in advance for surface treatment prior to the preparation of the layer coating solution, and is further added as an additive during preparation of the layer coating solution. It is preferable to make it contain in a layer.
The inorganic fine particles are preferably dispersed in the medium in advance before the surface treatment in order to reduce the load of the surface treatment.

次に、(C)オルガノシラン化合物について説明する。
<低屈折率層用オルガノシラン化合物>
前記硬化性組成物には、オルガノシラン化合物の加水分解物および/またはその部分縮合物等(以下、得られた反応溶液を「ゾル成分」とも称する)を含有させることが、耐擦傷性の点で、特に反射防止能と耐擦傷性とを両立させる点で、好ましい。
このゾル成分は、前記硬化性組成物を塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成することにより低屈折率層のバインダーとして機能する。また、本発明においては、前記含フッ素ポリマーを有するので、活性光線の照射により3次元構造を有するバインダーが形成される。
前記オルガノシラン化合物は、下記一般式[A]で表されるものが好ましい。
一般式[A]
(R10m−Si(X)4−m
前記一般式[A]において、R10は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜6のものである。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Xは、水酸基または加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基(炭素数1〜5のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる)、ハロゲン原子(例えばCl、Br、I等)、及びR2COO(R2は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基が好ましい。例えばCH3COO、C25COO等が挙げられる)で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
mは1〜3の整数を表し、好ましくは1または2であり、特に好ましくは1である。
Next, (C) the organosilane compound will be described.
<Organosilane compound for low refractive index layer>
The curable composition contains a hydrolyzate of an organosilane compound and / or a partial condensate thereof (hereinafter, the obtained reaction solution is also referred to as a “sol component”). In particular, it is preferable in terms of achieving both the antireflection ability and the scratch resistance.
This sol component functions as a binder for the low refractive index layer by applying the curable composition and then condensing in a drying and heating process to form a cured product. Moreover, in this invention, since it has the said fluorine-containing polymer, the binder which has a three-dimensional structure is formed by irradiation of actinic light.
The organosilane compound is preferably represented by the following general formula [A].
Formula [A]
(R 10) m -Si (X ) 4-m
In the general formula [A], R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, hexyl, decyl, hexadecyl and the like. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 6 carbon atoms. Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl, and a phenyl group is preferable.
X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, for example, an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, such as a methoxy group or an ethoxy group), a halogen atom (for example, Cl, Br, I or the like). ), And R 2 COO (R 2 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, such as CH 3 COO, C 2 H 5 COO, etc.), preferably An alkoxy group, particularly preferably a methoxy group or an ethoxy group.
m represents an integer of 1 to 3, preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.

10あるいはXが複数存在するとき、複数のR10あるいはXはそれぞれ同じであっても
異なっていても良い。
10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素等)、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基(メチル、エチル、i−プロピル、プロピル、t−ブチル等)、アリール基(フェニル、ナフチル等)、芳香族ヘテロ環基(フリル、ピラゾリル、ピリジル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、i−プロポキシ、ヘキシルオキシ等)、アリールオキシ(フェノキシ等)、アルキルチオ基(メチルチオ、エチルチオ等)、アリールチオ基(フェニルチオ等)、アルケニル基(ビニル、1−プロペニル等)、アシルオキシ基(アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−メチル−N−オクチルカルバモイル等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等)等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
When R 10 or X there are a plurality, a plurality of R 10 or X groups may be different, even the same, respectively.
The substituent contained in R 10 is not particularly limited, but a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, etc.), hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, epoxy group, alkyl group (methyl, ethyl, i-propyl, propyl, t-butyl etc.), aryl groups (phenyl, naphthyl etc.), aromatic heterocyclic groups (furyl, pyrazolyl, pyridyl etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, i-propoxy, hexyloxy etc.), aryloxy (phenoxy etc.) ), Alkylthio groups (methylthio, ethylthio, etc.), arylthio groups (phenylthio, etc.), alkenyl groups (vinyl, 1-propenyl, etc.), acyloxy groups (acetoxy, acryloyloxy, methacryloyloxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (methoxycarbonyl, ethoxy) Carbonyl, etc.), aryloxy Carbonyl groups (phenoxycarbonyl, etc.), carbamoyl groups (carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-methyl-N-octylcarbamoyl, etc.), acylamino groups (acetylamino, benzoylamino, acrylicamino, methacrylamino) Etc.), and these substituents may be further substituted.

10が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。
前記一般式[A]で表されるオルガノシラン化合物の中でも、下記一般式[B]で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。
When there are a plurality of R 10 s , at least one is preferably a substituted alkyl group or a substituted aryl group.
Among the organosilane compounds represented by the general formula [A], an organosilane compound having a vinyl polymerizable substituent represented by the following general formula [B] is preferable.

一般式[B]

Figure 2006251163
General formula [B]
Figure 2006251163

前記一般式[B]において、R1は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、または塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Yは単結合もしくは *−COO−**, *−CONH−**又は *−O−**を表し、単結合、 *−COO−**および *−CONH−**が好ましく、単結合および *−COO−**が更に好ましく、 *−COO−**が特に好ましい。* は=C(R1)−に結合する位置を、**はLに結合する位置を表す。
In the general formula [B], R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, an alkoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom, or a chlorine atom. Examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group. A hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, a methoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom and a chlorine atom are preferred, a hydrogen atom, a methyl group, a methoxycarbonyl group, a fluorine atom and a chlorine atom are more preferred, and a hydrogen atom and a methyl group Is particularly preferred.
Y represents a single bond or * -COO-**, * -CONH-** or * -O-**, preferably a single bond, * -COO-** or * -CONH-**, * -COO-** is more preferable, and * -COO-** is particularly preferable. * Represents a position bonded to ═C (R 1 ) —, and ** represents a position bonded to L.

Lは2価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基(例えば、エーテル、エステル、アミドなど)を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。   L represents a divalent linking chain. Specifically, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted alkylene group having a linking group (for example, ether, ester, amide, etc.) inside, and a linking group inside. A substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, an alkylene group having a linking group therein is preferred, an unsubstituted alkylene group, an unsubstituted arylene group Further, an alkylene group having an ether or ester linking group inside is more preferable, an unsubstituted alkylene group, and an alkylene group having an ether or ester linking group inside is particularly preferable. Examples of the substituent include a halogen, a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, and an aryl group, and these substituents may be further substituted.

nは0または1を表す。Xが複数存在するとき、複数のXはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。nとして好ましくは0である。
10は一般式[A]と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Xは一般式[A]と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数1〜6のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数1〜3のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
n represents 0 or 1. When there are a plurality of Xs, the plurality of Xs may be the same or different. n is preferably 0.
R 10 has the same meaning as in formula [A], preferably a substituted or unsubstituted alkyl group or an unsubstituted aryl group, and more preferably an unsubstituted alkyl group or an unsubstituted aryl group.
X has the same meaning as in the general formula [A], preferably a halogen atom, a hydroxyl group or an unsubstituted alkoxy group, more preferably a chlorine atom, a hydroxyl group or an unsubstituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group or a carbon number of 1 -3 alkoxy groups are more preferred, and methoxy groups are particularly preferred.

一般式[A]、一般式[B]の化合物は2種類以上を併用しても良い。以下に一般式[A]、一般式[B]で表される化合物の具体例を示すが、限定されるものではない。   Two or more compounds of the general formula [A] and general formula [B] may be used in combination. Although the specific example of a compound represented by general formula [A] and general formula [B] is shown below, it is not limited.

Figure 2006251163
Figure 2006251163

Figure 2006251163
Figure 2006251163

これらのうち、(M−1)、(M−2)、および(M−5)が特に好ましい。   Of these, (M-1), (M-2), and (M-5) are particularly preferable.

そして、前記オルガノシラン化合物の加水分解物および/または部分縮合物は、一般に前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で処理して製造されるものである。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類;シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類;トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類;トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類;Zr、Ti又はAlなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられる。本発明においては、金属キレート化合物、無機酸類及び有機酸類の酸触媒を用いるのが好ましい。無機酸では塩酸、硫酸が好ましく、有機酸では、水中での酸解離定数(pKa値(25℃))が4.5以下のものが好ましく、更には、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が3.0以下の有機酸が好ましく、特に、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が好ましく、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が更に好ましく、具体的には、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましい。   The hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound is generally produced by treating the organosilane compound in the presence of a catalyst. Catalysts include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid; organic acids such as oxalic acid, acetic acid, formic acid, methanesulfonic acid and toluenesulfonic acid; inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonia; triethylamine, Examples thereof include organic bases such as pyridine; metal alkoxides such as triisopropoxyaluminum and tetrabutoxyzirconium; metal chelate compounds having a metal such as Zr, Ti or Al as a central metal. In the present invention, it is preferable to use a metal chelate compound, an acid catalyst of inorganic acids and organic acids. Inorganic acids are preferably hydrochloric acid and sulfuric acid, and organic acids are preferably those having an acid dissociation constant (pKa value (25 ° C.)) of 4.5 or less in water, and further, acid dissociation constants in hydrochloric acid, sulfuric acid and water. Is preferably an organic acid having an acid dissociation constant of 2.5 or less in hydrochloric acid, sulfuric acid or water, more preferably an organic acid having an acid dissociation constant of 2.5 or less in water. Specifically, methanesulfonic acid, oxalic acid, phthalic acid, and malonic acid are more preferable, and oxalic acid is particularly preferable.

金属キレート化合物としては、一般式R3OH(式中、R3は炭素数1〜10のアルキル基を示す)で表されるアルコールとR4COCH2COR5(式中、R4は炭素数1〜10のアルキル基、R5は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を示す)で表される化合物とを配位子とした、Zr、Ti、Alから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、2種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる 金属キレート化合物は、一般式Zr(OR3p1(R4COCHCOR5p2、Ti(OR3q1(R4COCHCOR5q2、およびAl(OR3r1(R4COCHCOR5r2で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物および/または部分縮合物の縮合反応を促進する作用をなす。
金属キレート化合物中のR3およびR4は、同一または異なってもよく炭素数1〜10のアルキル基、具体的にはエチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、フェニル基などである。また、R5は、前記と同様の炭素数1〜10のアルキル基のほか、炭素数1〜10のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のp1、p2、q1、q2、r1、およびr2は、それぞれp1+p2=4、q1+q2=4、r1+r2=3となる様に決定される整数を表す。
As the metal chelate compound, (wherein, R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) Formula R 3 OH alcohol and R 4 COCH 2 COR 5 (formula represented by, R 4 is the number of carbon atoms 1 to 10 alkyl groups, R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a compound represented by an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms), and is selected from Zr, Ti, and Al. Any metal having a central metal as the metal can be used without any particular limitation. Within this category, two or more metal chelate compounds may be used in combination. The metal chelate compound used in the present invention has the general formula Zr (OR 3 ) p1 (R 4 COCHCOR 5 ) p2 , Ti (OR 3 ) q1 (R 4 COCHCOR 5 ) q2 , and Al (OR 3 ) r1 (R 4 Those selected from the group of compounds represented by COCHCOR 5 ) r2 are preferred and serve to promote the condensation reaction of the hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound.
R 3 and R 4 in the metal chelate compound may be the same or different and each is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, specifically, an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, sec -Butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, phenyl group and the like. R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms as described above, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an i-propoxy group, and n-butoxy. Group, sec-butoxy group, t-butoxy group and the like. Moreover, p1, p2, q1, q2, r1, and r2 in the metal chelate compound represent integers determined so as to be p1 + p2 = 4, q1 + q2 = 4, and r1 + r2 = 3, respectively.

これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−n−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−n−ブトキシビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、n−ブトキシトリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(n−プロピルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(アセチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(エチルアセトアセテート)ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物;ジイソプロポキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセトン)チタニウムなどのチタニウムキレート化合物;ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、イソプロポキシビス(アセチルアセトナート)アルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(アセチルアセトナート)アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス(エチルアセトアセテート)アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−n−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトナート)チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、1種単独であるいは2種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
Specific examples of these metal chelate compounds include tri-n-butoxyethylacetoacetate zirconium, di-n-butoxybis (ethylacetoacetate) zirconium, n-butoxytris (ethylacetoacetate) zirconium, tetrakis (n-propylacetate). Zirconium chelate compounds such as acetate) zirconium, tetrakis (acetylacetoacetate) zirconium, tetrakis (ethylacetoacetate) zirconium; diisopropoxy bis (ethylacetoacetate) titanium, diisopropoxy bis (acetylacetate) titanium, diiso Titanium chelate compounds such as propoxy bis (acetylacetone) titanium; diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, diisopropyl Poxyacetylacetonate aluminum, isopropoxybis (ethylacetoacetate) aluminum, isopropoxybis (acetylacetonate) aluminum, tris (ethylacetoacetate) aluminum, tris (acetylacetonate) aluminum, monoacetylacetonate bis (ethyl) An aluminum chelate compound such as acetoacetate) aluminum.
Among these metal chelate compounds, tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, diisopropoxybis (acetylacetonate) titanium, diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, and tris (ethyl acetoacetate) aluminum are preferable. These metal chelate compounds can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Moreover, the partial hydrolyzate of these metal chelate compounds can also be used.

また、本発明においては、前記硬化性組成物に、更にβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物が添加されることが好ましい。以下にさらに説明する。   In the present invention, it is preferable that a β-diketone compound and / or a β-ketoester compound is further added to the curable composition. This will be further described below.

本発明で使用されるのは、一般式R4COCH2COR5で表されるβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物であり、本発明に用いられる硬化性組成物の安定性向上剤として作用するものである。ここで、R4は炭素数1〜10のアルキル基、R5は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を表す。すなわち、前記金属キレート化合物(ジルコニウム、チタニウムおよび/またはアルミニウム化合物)中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の加水分解物および/または部分縮合物の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。β−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物を構成するR4およびR5は、前記金属キレート化合物を構成するR4およびR5と同様である。 The β-diketone compound and / or β-ketoester compound represented by the general formula R 4 COCH 2 COR 5 is used in the present invention, and is used as a stability improver for the curable composition used in the present invention. It works. Here, R 4 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. That is, by coordinating with a metal atom in the metal chelate compound (zirconium, titanium and / or aluminum compound), the condensation reaction of the hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound by these metal chelate compounds is performed. It is considered that the promoting action is suppressed and the storage stability of the resulting composition is improved. R 4 and R 5 constituting the β- diketone compound and / or β- ketoester compound are the same as R 4 and R 5 constituting the metal chelate compound.

このβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−n−プロピル、アセト酢酸−i−プロピル、アセト酢酸−n−ブチル、アセト酢酸−sec−ブチル、アセト酢酸−t−ブチル、2,4−ヘキサン−ジオン、2,4−ヘプタン−ジオン、3,5−ヘプタン−ジオン、2,4−オクタン−ジオン、2,4−ノナン−ジオン、5−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物は、1種単独でまたは2種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物は、金属キレート化合物1モルに対し好ましくは2モル以上、より好ましくは3〜20モル用いられる。2モル未満では得られる組成物の保存安定性に劣るおそれがあり好ましいものではない。   Specific examples of the β-diketone compound and / or β-ketoester compound include acetylacetone, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, acetoacetate-n-propyl, acetoacetate-i-propyl, acetoacetate-n-butyl, acetoacetate. Acetic acid-sec-butyl, acetoacetic acid-t-butyl, 2,4-hexane-dione, 2,4-heptane-dione, 3,5-heptane-dione, 2,4-octane-dione, 2,4-nonane -Dione, 5-methyl-hexane-dione and the like can be mentioned. Of these, ethyl acetoacetate and acetylacetone are preferred, and acetylacetone is particularly preferred. These β-diketone compounds and / or β-ketoester compounds may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the β-diketone compound and / or β-ketoester compound is preferably used in an amount of 2 mol or more, more preferably 3 to 20 mol, per 1 mol of the metal chelate compound. If it is less than 2 mol, the storage stability of the resulting composition may be inferior, which is not preferable.

前記オルガノシラン化合物の配合量は、低屈折率層の全固形分の0.1〜50質量%が好ましく、0.5〜20質量%がより好ましく、1〜10質量%が最も好ましい。
前記オルガノシラン化合物は硬化性組成物(防眩層用、低屈折率層用等の塗布液)に直接添加してもよいが、前記オルガノシラン化合物をあらかじめ触媒の存在下に処理して前記オルガノシラン化合物の加水分解物および/または部分縮合物を調製し、得られた反応溶液(ゾル液)を用いて前記硬化性組成物を調整するのが好ましく、本発明においてはまず前記オルガノシラン化合物の加水分解物および/または部分縮合物および金属キレート化合物を含有する組成物を調製し、これにβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物を添加した液を防眩層もしくは低屈折率層の少なくとも1層の塗布液に含有せしめて塗設することが好ましい。
The compounding amount of the organosilane compound is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 20% by mass, and most preferably 1 to 10% by mass based on the total solid content of the low refractive index layer.
The organosilane compound may be added directly to the curable composition (coating solution for anti-glare layer, low refractive index layer, etc.), but the organosilane compound is treated in the presence of a catalyst in advance to prepare the organosilane compound. It is preferable to prepare a hydrolyzate and / or partial condensate of a silane compound and prepare the curable composition using the obtained reaction solution (sol solution). In the present invention, first, the organosilane compound A composition containing a hydrolyzate and / or a partial condensate and a metal chelate compound is prepared, and a liquid obtained by adding a β-diketone compound and / or a β-ketoester compound thereto is added to at least an antiglare layer or a low refractive index layer. It is preferable to coat it in a single layer coating solution.

低屈折率層における、含フッ素ポリマーに対するオルガノシランのゾル成分の使用量は、5〜100質量%が好ましく、5〜40質量%がより好ましく、8〜35質量%が更に好ましく、10〜30質量%が特に好ましい。使用量が少ないと本発明の効果が得にくく、使用量が多すぎると屈折率が増加したり、膜の形状・面状が悪化したりするので好ましくない。   5-100 mass% is preferable, the usage-amount of the sol component of the organosilane with respect to a fluorine-containing polymer in a low refractive index layer has more preferable 5-40 mass%, 8-35 mass% is still more preferable, 10-30 mass % Is particularly preferred. If the amount used is small, it is difficult to obtain the effect of the present invention, and if the amount used is too large, the refractive index increases or the shape / surface shape of the film deteriorates.

前記硬化性組成物には、上述した無機微粒子以外の無機フィラーを本発明の所望の効果を損なわない範囲の添加量で添加することもできる。無機フィラーの詳細については後述する。   An inorganic filler other than the above-described inorganic fine particles can be added to the curable composition in an addition amount within a range that does not impair the desired effect of the present invention. Details of the inorganic filler will be described later.

[低屈折率層用硬化性組成物に含有するその他の物質]
前記硬化性組成物は、前述の(A)含フッ素ポリマー、(B)無機微粒子及び(C)オルガノシラン化合物に、必要に応じて各種添加剤および後述するラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤を添加し、更にこれらを適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが一般的には0.01〜60質量%程度であり、好ましくは0.5〜50質量%、特に好ましくは1%〜20質量%程度である。
[Other substances contained in curable composition for low refractive index layer]
The curable composition comprises the above-mentioned (A) fluorine-containing polymer, (B) inorganic fine particles and (C) an organosilane compound, if necessary, various additives and a radical polymerization initiator and a cationic polymerization initiator described later. It is prepared by adding them and further dissolving them in a suitable solvent. At this time, the concentration of the solid content is appropriately selected according to the use, but is generally about 0.01 to 60% by mass, preferably 0.5 to 50% by mass, particularly preferably 1% to 20% by mass. %.

低屈折率層と直接接する下層との界面密着性等の観点からは、多官能(メタ)アクリレート化合物、多官能エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、アミノプラスト、多塩基酸またはその無水物等の硬化剤を少量添加することもできる。これらを添加する場合には低屈折率層皮膜の全固形分に対して30質量%以下の範囲とすることが好ましく、20質量%以下の範囲とすることがより好ましく、10質量%以下の範囲とすることが特に好ましい。   Curing agents such as polyfunctional (meth) acrylate compounds, polyfunctional epoxy compounds, polyisocyanate compounds, aminoplasts, polybasic acids or anhydrides thereof from the viewpoint of interfacial adhesion with the lower layer directly in contact with the low refractive index layer Can also be added in small amounts. When adding these, it is preferable to set it as the range of 30 mass% or less with respect to the total solid of a low-refractive-index layer film, It is more preferable to set it as the range of 20 mass% or less, The range of 10 mass% or less It is particularly preferable that

また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系化合物あるいはフッ素系化合物の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の0.01〜20質量%の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは0.05〜10質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは0.1〜5質量%の場合である。   In addition, for the purpose of imparting properties such as antifouling properties, water resistance, chemical resistance, and slipping properties, a known silicone compound or fluorine compound antifouling agent, slipping agent, and the like may be appropriately added. When these additives are added, it is preferably added in the range of 0.01 to 20% by mass of the total solid content of the low refractive index layer, more preferably in the range of 0.05 to 10% by mass. Particularly preferred is 0.1 to 5% by mass.

シリコーン系化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端および/または側鎖に置換基を有するものが挙げられる。 ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。分子量に特に制限はないが、10万以下であることが好ましく、5万以下であることが特に好ましく、3000〜30000であることが最も好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが18.0質量%以上であることが好ましく、25.0〜37.8質量%であることが特に好ましく、30.0〜37.0質量%であることが最も好ましい。好ましいシリコーン系化合物の例としては信越化学(株)製、X−22−174DX、X−22−2426、X−22−164B、X22−164C、X−22−170DX、X−22−176D、X−22−1821(以上商品名)やチッソ(株)製、FM−0725、FM−7725、FM−4421、FM−5521、FM6621、FM−1121やGelest製DMS−U22、RMS−033、RMS−083、UMS−182、DMS−H21、DMS−H31、HMS−301、FMS121、FMS123、FMS131、FMS141、FMS221(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。   Preferable examples of the silicone compound include those having a substituent at the terminal and / or side chain of a compound chain containing a plurality of dimethylsilyloxy units as repeating units. The compound chain containing dimethylsilyloxy as a repeating unit may contain a structural unit other than dimethylsilyloxy. The substituents may be the same or different, and a plurality of substituents are preferable. Examples of preferred substituents include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, fluoroalkyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group, amino group and the like. It is done. Although there is no restriction | limiting in particular in molecular weight, It is preferable that it is 100,000 or less, It is especially preferable that it is 50,000 or less, It is most preferable that it is 3000-30000. Although there is no restriction | limiting in particular in silicone atom content of a silicone type compound, it is preferable that it is 18.0 mass% or more, it is especially preferable that it is 25.0-37.8 mass%, and 30.0-37.0. Most preferably, it is mass%. Examples of preferred silicone compounds are X-22-174DX, X-22-2426, X-22-164B, X22-164C, X-22-170DX, X-22-176D, X, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. -22-1821 (named above), Chisso Corporation, FM-0725, FM-7725, FM-4421, FM-5521, FM6621, FM-1121, Gelest DMS-U22, RMS-033, RMS- 083, UMS-182, DMS-H21, DMS-H31, HMS-301, FMS121, FMS123, FMS131, FMS141, FMS221 (named above) but not limited thereto.

フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数1〜20であることが好ましく、より好ましくは1〜10であり、直鎖(例えば−CF2CF3,−CH2(CF24H,−CH2(CF28CF3,−CH2CH2(CF24H等)であっても、分岐構造(例えば−CH(CF32,−CH2CF(CF32,−CH(CH3)CF2CF3,−CH(CH3)(CF25CF2H等)であっても、脂環式構造(好ましくは5員環または6員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基等)であっても良く、エーテル結合を有していても良い(例えば−CH2OCH2CF2CF3,−CH2CH2OCH248H,−CH2CH2OCH2CH2817,−CH2CH2OCF2CF2OCF2CF2H等)。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
フッ素系化合物は、さらに低屈折率層皮膜との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが20質量%以上であることが好ましく、30〜70質量%であることが特に好ましく、40〜70質量%であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としてはダイキン化学工業(株)製、R−2020、M−2020、R−3833、M−3833(以上商品名)、大日本インキ(株)製、メガファックF−171、F−172、F−179A、ディフェンサMCF−300(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
As the fluorine compound, a compound having a fluoroalkyl group is preferable. The fluoroalkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and a straight chain (for example, —CF 2 CF 3 , —CH 2 (CF 2 ) 4 H, —CH 2 (CF 2 ) 8 CF 3 , —CH 2 CH 2 (CF 2 ) 4 H, etc.), even branched structures (eg, —CH (CF 3 ) 2 , —CH 2 CF (CF 3 ) 2 , —CH (CH 3 ) CF 2 CF 3 , —CH (CH 3 ) (CF 2 ) 5 CF 2 H, etc.), but alicyclic structures (preferably 5-membered or 6-membered rings such as perfluorocyclohexyl groups) , A perfluorocyclopentyl group or an alkyl group substituted with these, and may have an ether bond (for example, —CH 2 OCH 2 CF 2 CF 3 , —CH 2 CH 2 OCH 2 C). 4 F 8 H, —CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 C 8 F 17 , —CH 2 C H 2 OCF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 H, etc.). A plurality of the fluoroalkyl groups may be contained in the same molecule.
It is preferable that the fluorine-based compound further has a substituent that contributes to bond formation or compatibility with the low refractive index layer film. The substituents may be the same or different, and a plurality of substituents are preferable. Examples of preferred substituents include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group, amino group and the like. The fluorine-based compound may be a polymer or an oligomer with a compound not containing a fluorine atom, and the molecular weight is not particularly limited. Although there is no restriction | limiting in particular in fluorine atom content of a fluorine-type compound, It is preferable that it is 20 mass% or more, It is especially preferable that it is 30-70 mass%, It is most preferable that it is 40-70 mass%. Examples of preferred fluorine-based compounds include Daikin Chemical Industries, R-2020, M-2020, R-3833, M-3833 (named above), Dainippon Ink, Megafac F-171. , F-172, F-179A, Defender MCF-300 (trade name) and the like, but are not limited thereto.

防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤あるいはポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には低n層全固形分の0.01〜20質量%の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは0.05〜10質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは0.1〜5質量%の場合である。好ましい化合物の例としては大日本インキ(株)製、メガファックF−150(商品名)、東レダウコーニング(株)製、SH−3748(商品名)などが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。   For the purpose of imparting properties such as dust resistance and antistatic properties, a known cationic surfactant or a dustproof agent such as a polyoxyalkylene compound, an antistatic agent, or the like can be appropriately added. These dustproofing agent and antistatic agent may contain the structural unit as a part of the function in the above-mentioned silicone compound or fluorine compound. When these are added as additives, it is preferably added in the range of 0.01 to 20% by mass, more preferably in the range of 0.05 to 10% by mass of the total solid content of the low n layer. Particularly preferably 0.1 to 5% by mass. Examples of preferred compounds include, but are not limited to, Dainippon Ink Co., Ltd., MegaFace F-150 (trade name), Toray Dow Corning Co., Ltd., SH-3748 (trade name), and the like. Do not mean.

[低屈折率層用の溶剤]
本発明の低屈折率層を形成するための塗布組成物に用いられる溶剤としては、各成分を溶解または分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。乾燥負荷の観点からは、常圧、室温における沸点が100℃以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が100℃以上の溶剤を少量含有することが好ましい。
沸点が100℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン(沸点68.7℃)、ヘプタン(98.4℃)、シクロヘキサン(80.7℃)、ベンゼン(80.1℃)などの炭化水素類、ジクロロメタン(39.8℃)、クロロホルム(61.2℃)、四塩化炭素(76.8℃)、1,2−ジクロロエタン(83.5℃)、トリクロロエチレン(87.2℃)などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル(34.6℃)、ジイソプロピルエーテル(68.5℃)、ジプロピルエーテル (90.5℃)、テトラヒドロフラン(66℃)などのエーテル類、ギ酸エチル(54.2℃)、酢酸メチル(57.8℃)、酢酸エチル(77.1℃)、酢酸イソプロピル(89℃)などのエステル類、アセトン(56.1℃)、2−ブタノン(メチルエチルケトンと同じ、79.6℃)などのケトン類、メタノール(64.5℃)、エタノール(78.3℃)、2−プロパノール(82.4℃)、1−プロパノール(97.2℃)などのアルコール類、アセトニトリル(81.6℃)、プロピオニトリル(97.4℃)などのシアノ化合物類、二硫化炭素(46.2℃)などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では2−ブタノンが特に好ましい。
沸点が100℃を以上の溶剤としては、例えば、オクタン(125.7℃)、トルエン(110.6℃)、キシレン(138℃)、テトラクロロエチレン(121.2℃)、クロロベンゼン(131.7℃)、ジオキサン(101.3℃)、ジブチルエーテル(142.4℃)、酢酸イソブチル(118℃)、シクロヘキサノン(155.7℃)、2−メチル−4−ペンタノン(MIBKと同じ、115.9℃)、1−ブタノール(117.7℃)、N,N−ジメチルホルムアミド(153℃)、N,N−ジメチルアセトアミド(166℃)、ジメチルスルホキシド(189℃)などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、2−メチル−4−ペンタノンである。
[Solvent for low refractive index layer]
As a solvent used in the coating composition for forming the low refractive index layer of the present invention, it is possible to dissolve or disperse each component, to easily form a uniform surface in the coating process and the drying process, and liquid storage stability. Can be used, and various solvents selected from the viewpoints of having an appropriate saturated vapor pressure can be used. From the viewpoint of the drying load, it is preferable that a solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower at normal pressure and room temperature as a main component and a small amount of a solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher for adjusting the drying speed.
Examples of the solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower include hydrocarbons such as hexane (boiling point 68.7 ° C.), heptane (98.4 ° C.), cyclohexane (80.7 ° C.), benzene (80.1 ° C.), Halogenated carbonization such as dichloromethane (39.8 ° C), chloroform (61.2 ° C), carbon tetrachloride (76.8 ° C), 1,2-dichloroethane (83.5 ° C), trichloroethylene (87.2 ° C) Hydrogens, diethyl ether (34.6 ° C), diisopropyl ether (68.5 ° C), dipropyl ether (90.5 ° C), ethers such as tetrahydrofuran (66 ° C), ethyl formate (54.2 ° C), Esters such as methyl acetate (57.8 ° C.), ethyl acetate (77.1 ° C.), isopropyl acetate (89 ° C.), acetone (56.1 ° C.), 2-butanone (methyl ethyl) Ketones such as Luketone, 79.6 ° C, methanol (64.5 ° C), ethanol (78.3 ° C), 2-propanol (82.4 ° C), 1-propanol (97.2 ° C), etc. Alcohols, cyano compounds such as acetonitrile (81.6 ° C.), propionitrile (97.4 ° C.), carbon disulfide (46.2 ° C.), and the like. Of these, ketones and esters are preferable, and ketones are particularly preferable. Among the ketones, 2-butanone is particularly preferable.
Examples of the solvent having a boiling point of 100 ° C. or more include, for example, octane (125.7 ° C.), toluene (110.6 ° C.), xylene (138 ° C.), tetrachloroethylene (121.2 ° C.), and chlorobenzene (131.7 ° C.). , Dioxane (101.3 ° C), dibutyl ether (142.4 ° C), isobutyl acetate (118 ° C), cyclohexanone (155.7 ° C), 2-methyl-4-pentanone (same as MIBK, 115.9 ° C) 1-butanol (117.7 ° C.), N, N-dimethylformamide (153 ° C.), N, N-dimethylacetamide (166 ° C.), dimethyl sulfoxide (189 ° C.) and the like. Cyclohexanone and 2-methyl-4-pentanone are preferable.

ゾルゲル法による低屈折率層(態様2)について説明する。
低屈折率層用の素材として、各種ゾルゲル素材を用いることもできる。このようなゾルゲル素材としては、金属アルコレート(シラン、チタン、アルミニウム、ジルコニウム等のアルコレート)、オルガノアルコキシ金属化合物、およびその加水分解物を用いることができる。特に、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシランおよびその加水分解物が好ましい。これらの例としては、テトラアルコキシシラン(テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等)、アルキルトリアルコキシシラン(メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等)、アリールトリアルコキシシラン(フェニルトリメトキシシラン等)、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙げられる。また、各種の官能基を有するオルガノアルコキシシラン(ビニルトリアルコキシシラン、メチルビニルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジアルコキシシラン、β−(3,4−エポキジシクロヘキシル)エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等)、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラデシル)トリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等)を用いることも好ましい。特にフッ素含有のシラン化合物を用いることは、層の低屈折率化および撥水・撥油性付与の点で好ましい。
The low refractive index layer (Aspect 2) by the sol-gel method will be described.
Various sol-gel materials can also be used as the material for the low refractive index layer. As such a sol-gel material, metal alcoholates (alcohols such as silane, titanium, aluminum, and zirconium), organoalkoxy metal compounds, and hydrolysates thereof can be used. In particular, alkoxysilane, organoalkoxysilane and its hydrolyzate are preferable. Examples of these include tetraalkoxysilane (tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, etc.), alkyltrialkoxysilane (methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, etc.), aryltrialkoxysilane (phenyltrimethoxysilane, etc.), dialkyl. Examples thereof include dialkoxysilane and diaryl dialkoxysilane. In addition, organoalkoxysilanes having various functional groups (vinyl trialkoxysilane, methylvinyl dialkoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrialkoxysilane, γ-glycidyloxypropylmethyl dialkoxysilane, β- (3,4-epoxy) Dicyclohexyl) ethyltrialkoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrialkoxysilane, γ-aminopropyltrialkoxysilane, γ-mercaptopropyltrialkoxysilane, γ-chloropropyltrialkoxysilane, etc.), perfluoroalkyl group-containing silane compounds ( For example, it is also preferable to use (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetradecyl) triethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, etc.). In particular, the use of a fluorine-containing silane compound is preferable in terms of lowering the refractive index of the layer and imparting water and oil repellency.

低屈折率層として、無機もしくは有機の微粒子を用い、微粒子間または微粒子内のミクロボイドとして形成した層を用いることも好ましい。微粒子の平均粒径は、0.5〜200mmであることが好ましく、1〜100nmであることがより好ましく、3〜70nmであることがさらに好ましく、5〜40nmの範囲であることが最も好ましい。微粒子の粒径は、なるべく均一(単分散)であることが好ましい。   As the low refractive index layer, it is also preferable to use a layer formed by using inorganic or organic fine particles and forming microvoids between or within the fine particles. The average particle diameter of the fine particles is preferably from 0.5 to 200 mm, more preferably from 1 to 100 nm, further preferably from 3 to 70 nm, and most preferably from 5 to 40 nm. The particle diameter of the fine particles is preferably as uniform (monodispersed) as possible.

無機微粒子としては、非晶質であることが好ましい。無機微粒子は、金属の酸化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物からなることが好ましく、金属酸化物または金属ハロゲン化物からなることがさらに好ましく、金属酸化物または金属フッ化物からなることが最も好ましい。金属原子としては、Na、K、Mg、Ca、Ba、Al、Zn、Fe、Cu、Ti、Sn、In、W、Y、Sb、Mn、Ga、V、Nb、Ta、Ag、Si、B、Bi、Mo、Ce、Cd、Be、PbおよびNiが好ましく、Mg、Ca、BおよびSiがさらに好ましい。二種類の金属を含む無機化合物を用いてもよい。特に好ましい無機化合物は、二酸化ケイ素、すなわちシリカである。   The inorganic fine particles are preferably amorphous. The inorganic fine particles are preferably made of a metal oxide, nitride, sulfide or halide, more preferably a metal oxide or metal halide, and most preferably a metal oxide or metal fluoride. . As metal atoms, Na, K, Mg, Ca, Ba, Al, Zn, Fe, Cu, Ti, Sn, In, W, Y, Sb, Mn, Ga, V, Nb, Ta, Ag, Si, B Bi, Mo, Ce, Cd, Be, Pb and Ni are preferred, and Mg, Ca, B and Si are more preferred. An inorganic compound containing two kinds of metals may be used. A particularly preferred inorganic compound is silicon dioxide, ie silica.

無機微粒子内ミクロボイドは、例えば、粒子を形成するシリカの分子を架橋させることにより形成することができる。シリカの分子を架橋させると体積が縮小し、粒子が多孔質になる。ミクロボイドを有する(多孔質)無機微粒子は、ゾル−ゲル法(特開昭53−112732号、特公昭57−9051号の各公報記載)または析出法(APPLIED OPTICS、27、3356頁(1988)記載)により、分散物として直接合成することができる。
また、乾燥・沈澱法で得られた粉体を、機械的に粉砕して分散物を得ることもできる。 市販の多孔質無機微粒子(例えば、二酸化ケイ素ゾル)を用いてもよい。ミクロボイドを有する無機微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール)およびケトン(例、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)が好ましい。
The microvoids in the inorganic fine particles can be formed, for example, by cross-linking silica molecules forming the particles. Crosslinking silica molecules reduces the volume and makes the particles porous. (Porous) inorganic fine particles having microvoids are described in the sol-gel method (described in JP-A Nos. 53-112732 and 57-9051) or the precipitation method (APPLIED OPTICS, 27, page 3356 (1988)). ) Can be directly synthesized as a dispersion.
Further, the powder obtained by the drying / precipitation method can be mechanically pulverized to obtain a dispersion. Commercially available porous inorganic fine particles (for example, silicon dioxide sol) may be used. The inorganic fine particles having microvoids are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium in order to form a low refractive index layer. As the dispersion medium, water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropyl alcohol) and ketone (eg, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone) are preferable.

有機微粒子も、非晶質であることが好ましい。有機微粒子は、モノマーの重合反応(例えば乳化重合法)により合成されるポリマー微粒子であることが好ましい。有機微粒子のポリマーはフッ素原子を含むことが好ましい。ポリマー中のフッ素原子の割合は、35〜80質量%であることが好ましく、45〜75質量%であることがさらに好ましい。また、有機微粒子内に、例えば、粒子を形成するポリマーを架橋させ、体積を縮小させることによりミクロボイドを形成させることも好ましい。粒子を形成するポリマーを架橋させるためには、ポリマーを合成するためのモノマーの20モル%以上を多官能モノマーとすることが好ましい。多官能モノマーの割合は、30〜80モル%であることがさらに好ましく、35〜50モル%であることが最も好ましい。上記有機微粒子の合成に用いられるモノマーとしては、含フッ素ポリマーを合成するために用いるフッ素原子を含むモノマーの例として、フルオロオレフィン類(例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、アクリル酸またはメタクリル酸のフッ素化アルキルエステル類およびフッ素化ビニルエーテル類が挙げられる。フッ素原子を含むモノマーとフッ素原子を含まないモノマーとのコポリマーを用いてもよい。フッ素原子を含まないモノマーの例としては、オレフィン類(例、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン)、アクリル酸エステル類(例、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(例、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル)、スチレン類(例、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン)、ビニルエーテル類(例、メチルビニルエーテル)、ビニルエステル類(例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル)、アクリルアミド類(例、N−tert−ブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド)、メタクリルアミド類およびアクリルニトリル類が挙げられる。多官能モノマーの例としては、ジエン類(例、ブタジエン、ペンタジエン)、多価アルコールとアクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)、多価アルコールとメタクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジメタクリレート、1,2,4−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート)、ジビニル化合物(例、ジビニルシクロヘキサン、1,4−ジビニルベンゼン)、ジビニルスルホン、ビスアクリルアミド類(例、メチレンビスアクリルアミド)およびビスメタクリルアミド類が挙げられる。   The organic fine particles are also preferably amorphous. The organic fine particles are preferably polymer fine particles synthesized by polymerization reaction of monomers (for example, emulsion polymerization method). The organic fine particle polymer preferably contains a fluorine atom. The proportion of fluorine atoms in the polymer is preferably 35 to 80% by mass, and more preferably 45 to 75% by mass. It is also preferable to form microvoids in the organic fine particles by, for example, cross-linking the polymer forming the particles and reducing the volume. In order to crosslink the polymer forming the particles, it is preferable to use 20 mol% or more of the monomer for synthesizing the polymer as a polyfunctional monomer. The ratio of the polyfunctional monomer is more preferably 30 to 80 mol%, and most preferably 35 to 50 mol%. Examples of the monomer used for the synthesis of the organic fine particles include fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene) as examples of monomers containing fluorine atoms used to synthesize fluorine-containing polymers. , Perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole), fluorinated alkyl esters of acrylic acid or methacrylic acid, and fluorinated vinyl ethers. A copolymer of a monomer containing a fluorine atom and a monomer not containing a fluorine atom may be used. Examples of monomers that do not contain a fluorine atom include olefins (eg, ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride), acrylic esters (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate). , Methacrylate esters (eg, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate), styrenes (eg, styrene, vinyl toluene, α-methyl styrene), vinyl ethers (eg, methyl vinyl ether), vinyl esters ( Examples include vinyl acetate, vinyl propionate), acrylamides (eg, N-tert-butylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide), methacrylamides and acrylonitriles. Examples of polyfunctional monomers include dienes (eg, butadiene, pentadiene), esters of polyhydric alcohols and acrylic acid (eg, ethylene glycol diacrylate, 1,4-cyclohexane diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate), Esters of polyhydric alcohol and methacrylic acid (eg, ethylene glycol dimethacrylate, 1,2,4-cyclohexanetetramethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate), divinyl compounds (eg, divinylcyclohexane, 1,4-divinylbenzene), divinyl Examples include sulfones, bisacrylamides (eg, methylene bisacrylamide) and bismethacrylamides.

粒子間のミクロボイドは、微粒子を少なくとも2個以上積み重ねることにより形成することができる。なお、粒径が等しい(完全な単分散の)球状微粒子を最密充填すると、26体積%の空隙率の微粒子間ミクロボイドが形成される。粒径が等しい球状微粒子を単純立方充填すると、48体積%の空隙率の微粒子間ミクロボイドが形成される。実際の低屈折率層では、微粒子の粒径の分布や粒子内ミクロボイドが存在するため、空隙率は上記の理論値からかなり変動する。空隙率を増加させると、低屈折率層の屈折率が低下する。微粒子を積み重ねてミクロボイドを形成と、微粒子の粒径を調整することで、粒子間ミクロボイドの大きさも適度の(光を散乱せず、低屈折率層の強度に問題が生じない)値に容易に調節できる。さらに、微粒子の粒径を均一にすることで、粒子間ミクロボイドの大きさも均一である光学的に均一な低屈折率層を得ることができる。これにより、低屈折率層は微視的にはミクロボイド含有多孔質膜であるが、光学的あるいは巨視的には均一な膜にすることができる。粒子間ミクロボイドは、微粒子およびポリマーによって低屈折率層内で閉じていることが好ましい。閉じている空隙には、低屈折率層表面に開かれた開口と比較して、低屈折率層表面での光の散乱が少ないとの利点もある。   Microvoids between particles can be formed by stacking at least two fine particles. When spherical particles having the same particle diameter (completely monodispersed) are closely packed, microvoids between particles having a porosity of 26% by volume are formed. When spherical fine particles having the same particle diameter are simply filled with cubic particles, microvoids between fine particles having a porosity of 48% by volume are formed. In an actual low-refractive index layer, the particle size distribution of fine particles and intra-particle microvoids exist, so the porosity varies considerably from the above theoretical value. When the porosity is increased, the refractive index of the low refractive index layer is lowered. By stacking microparticles to form microvoids and adjusting the particle size of microparticles, the size of interparticle microvoids can be easily adjusted to an appropriate value (does not scatter light and cause problems in the strength of the low refractive index layer). Can be adjusted. Furthermore, by making the particle diameters of the fine particles uniform, it is possible to obtain an optically uniform low refractive index layer in which the size of the microvoids between particles is uniform. As a result, the low refractive index layer is microscopically a microvoided porous film, but can be optically or macroscopically uniform. The interparticle microvoids are preferably closed in the low refractive index layer by fine particles and a polymer. The closed air gap also has an advantage that light scattering on the surface of the low refractive index layer is less than that of an opening opened on the surface of the low refractive index layer.

ミクロボイドを形成することにより、低屈折率層の巨視的屈折率は、低屈折率層を構成する成分の屈折率の和よりも低い値になる。層の屈折率は、層の構成要素の体積当りの屈折率の和になる。微粒子やポリマーのような低屈折率層の構成成分の屈折率は1よりも大きな値であるのに対して、空気の屈折率は1.00である。そのため、ミクロボイドを形成することによって、屈折率が非常に低い低屈折率層を得ることができる。   By forming the microvoids, the macroscopic refractive index of the low refractive index layer becomes lower than the sum of the refractive indexes of the components constituting the low refractive index layer. The refractive index of the layer is the sum of the refractive indices per volume of the layer components. The refractive index of the constituent component of the low refractive index layer such as fine particles or polymer is larger than 1, whereas the refractive index of air is 1.00. Therefore, a low refractive index layer having a very low refractive index can be obtained by forming microvoids.

低屈折率層は、5〜50質量%の量のポリマーを含むことが好ましい。ポリマーは、微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。ポリマーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持できるように調整する。ポリマーの量は、低屈折率層の全量の10〜30質量%であることが好ましい。ポリマーで微粒子を接着するためには、(1)微粒子の表面処理剤にポリマーを結合させるか、(2)微粒子をコアとして、その周囲にポリマーシェルを形成するか、あるいは(3)微粒子間のバインダーとして、ポリマーを使用する、ことが好ましい。(1)の表面処理剤に結合させるポリマーは、(2)のシェルポリマーまたは(3)のバインダーポリマーであることが好ましい。(2)のポリマーは、低屈折率層の塗布液の調製前に、微粒子の周囲に重合反応により形成することが好ましい。(3)のポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に、重合反応により形成することが好ましい。上記 (1)〜(3)のうちの二つまたはすべてを組み合わせて実施することが好ましく、(1)と(3)の組み合わせ、または(1)〜(3)すべてを組み合わせで実施することが特に好ましい。(1)表面処理、(2)シェルおよび(3)バインダーについて、順次説明する。   The low refractive index layer preferably contains the polymer in an amount of 5 to 50% by mass. The polymer has a function of adhering fine particles and maintaining the structure of a low refractive index layer including voids. The amount of the polymer used is adjusted so that the strength of the low refractive index layer can be maintained without filling the voids. The amount of the polymer is preferably 10 to 30% by mass of the total amount of the low refractive index layer. In order to adhere the fine particles with the polymer, (1) the polymer is bonded to the surface treatment agent of the fine particles, (2) the fine particles are used as a core, and a polymer shell is formed around the fine particles. It is preferable to use a polymer as the binder. The polymer to be bonded to the surface treatment agent (1) is preferably the shell polymer (2) or the binder polymer (3). The polymer (2) is preferably formed around the fine particles by a polymerization reaction before preparing the coating solution for the low refractive index layer. The polymer (3) is preferably formed by adding a monomer to the coating solution for the low refractive index layer and performing a polymerization reaction simultaneously with or after the coating of the low refractive index layer. It is preferable to carry out by combining two or all of the above (1) to (3), and to carry out a combination of (1) and (3) or (1) to (3) in combination. Particularly preferred. (1) Surface treatment, (2) shell, and (3) binder will be described sequentially.

(1)表面処理
微粒子(特に無機微粒子)には、表面処理を実施して、ポリマーとの親和性を改善することが好ましい。表面処理は、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処理に分類できる。化学的表面処理のみ、または物理的表面処理と化学的表面処理の組み合わせで実施することが好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。微粒子が二酸化ケイ素からなる場合は、シランカップリング剤による表面処理が特に有効に実施できる。具体的なシランカップリング剤の例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシジルオキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポシシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシランおよびβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。
(1) Surface treatment It is preferable that the fine particles (particularly inorganic fine particles) are subjected to a surface treatment to improve the affinity with the polymer. The surface treatment can be classified into physical surface treatment such as plasma discharge treatment and corona discharge treatment, and chemical surface treatment using a coupling agent. It is preferable to carry out only chemical surface treatment or a combination of physical surface treatment and chemical surface treatment. As the coupling agent, an organoalkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. When the fine particles are made of silicon dioxide, surface treatment with a silane coupling agent can be carried out particularly effectively. Specific examples of the silane coupling agent include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane. Methoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltriacetoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxy Propyltriethoxysilane, γ- (β-glycidyloxyethoxy) propyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and β-cyanoethyltriethoxysilane are mentioned.

また、ケイ素に対して2置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシランおよびメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。   Examples of silane coupling agents having a disubstituted alkyl group with respect to silicon include dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, and γ-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane. Γ-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidyloxypropylphenyldiethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldi Ethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethyl Kishishiran, .gamma.-mercaptopropyl methyl diethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl dimethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl diethoxy silane, methyl vinyl dimethoxy silane, and methyl vinyl diethoxy silane.

これらのうち、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ケイ素に対して2置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシランおよびメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシランおよびγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。   Among these, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane having a double bond in the molecule Γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxy as those having a disubstituted alkyl group with respect to silicon Silane, methylvinyldimethoxysilane and methylvinyldiethoxysilane are preferred, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyl Oxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane are particularly preferred.

二種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリングを用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル(例、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸n−プロピル、オルトケイ酸i−プロピル、オルトケイ酸n−ブチル、オルトケイ酸sec−ブチル、オルトケイ酸t−ブチル)およびその加水分解物が挙げられる。カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物 に、カップリング剤を加え、室温から60℃までの温度で、数時間から10日間分散物を放置することにより実施できる。表面処理反応を促進するため、無機酸(例、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸)、有機酸(例、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸)、またはこれらの塩(例、金属塩、アンモニウム塩)を、分散物に添加してもよい。   Two or more coupling agents may be used in combination. In addition to the silane coupling agents shown above, other silane couplings may be used. Other silane coupling agents include alkyl esters of orthosilicate (eg, methyl orthosilicate, ethyl orthosilicate, n-propyl orthosilicate, i-propyl orthosilicate, n-butyl orthosilicate, sec-butyl orthosilicate, orthosilicate). Acid t-butyl) and hydrolysates thereof. The surface treatment with the coupling agent can be carried out by adding the coupling agent to the fine particle dispersion and leaving the dispersion at a temperature from room temperature to 60 ° C. for several hours to 10 days. In order to accelerate the surface treatment reaction, inorganic acids (eg, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, chromic acid, hypochlorous acid, boric acid, orthosilicic acid, phosphoric acid, carbonic acid), organic acids (eg, acetic acid, polyacrylic acid, Benzenesulfonic acid, phenol, polyglutamic acid), or salts thereof (eg, metal salts, ammonium salts) may be added to the dispersion.

(2)シェル
シェルを形成するポリマーは、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが好ましい。フッ素原子を主鎖または側鎖に含むポリマーが好ましく、フッ素原子を側鎖に含むポリマーがさらに好ましい。ポリアクリル酸エステルまたはポリメタクリル酸エステルが好ましく、フッ素置換アルコールとポリアクリル酸またはポリメタクリル酸とのエステルが最も好ましい。シェルポリマーの屈折率は、ポリマー中のフッ素原子の含有量の増加に伴い低下する。低屈折率層の屈折率を低下させるため、シェルポリマーは35〜80質量%のフッ素原子を含むことが好ましく、45〜75質量%のフッ素原子を含むことがさらに好ましい。フッ素原子を含むポリマーは、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの重合反応により合成することが好ましい。フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの例としては、フルオロオレフィン(例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキ ソール)、フッ素化ビニルエーテルおよびフッ素置換アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルが挙げられる。
(2) Shell The polymer forming the shell is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain. A polymer containing a fluorine atom in the main chain or side chain is preferred, and a polymer containing a fluorine atom in the side chain is more preferred. Polyacrylic acid esters or polymethacrylic acid esters are preferred, and esters of fluorine-substituted alcohols with polyacrylic acid or polymethacrylic acid are most preferred. The refractive index of the shell polymer decreases as the content of fluorine atoms in the polymer increases. In order to lower the refractive index of the low refractive index layer, the shell polymer preferably contains 35 to 80% by mass of fluorine atoms, and more preferably contains 45 to 75% by mass of fluorine atoms. The polymer containing a fluorine atom is preferably synthesized by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing a fluorine atom. Examples of ethylenically unsaturated monomers containing fluorine atoms include fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole) , Fluorinated vinyl ethers and esters of fluorine-substituted alcohols with acrylic acid or methacrylic acid.

シェルを形成するポリマーは、フッ素原子を含む繰り返し単位とフッ素原子を含まない繰り返し単位からなるコポリマーであってもよい。フッ素原子を含まない繰り返し単位は、フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの例としては、オレフィン(例、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン)、アクリル酸エステル(例、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル(例、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート)、スチレンおよびその誘導体(例、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン)、ビニルエーテル(例、メチルビニルエーテル)、ビニルエステル(例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル)、アクリルアミド(例、N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド)、メタクリルアミドおよびアクリロニトリルが挙げられる。   The polymer forming the shell may be a copolymer composed of a repeating unit containing a fluorine atom and a repeating unit not containing a fluorine atom. The repeating unit containing no fluorine atom is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing no fluorine atom. Examples of ethylenically unsaturated monomers that do not contain fluorine atoms include olefins (eg, ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride), acrylic esters (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2- Ethylhexyl), methacrylic acid esters (eg, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate), styrene and its derivatives (eg, styrene, divinylbenzene, vinyltoluene, α-methylstyrene), vinyl ether ( Examples, methyl vinyl ether), vinyl esters (eg, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate), acrylamide (eg, N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide), methacrylamide and Acrylonitrile and the like.

後述する(3)のバインダーポリマーを併用する場合は、シェルポリマーに架橋性官能基を導入して、シェルポリマーとバインダーポリマーとを架橋により化学的に結合させてもよい。シェルポリマーは、結晶性を有していてもよい。シェルポリマーのガラス転移温度(Tg)が低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、低屈折率層内のミクロボイドの維持が容易である。ただし、Tgが低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、微粒子が融着せず、低屈折率層が連続層として形成されない(その結果、強度が低下する)場合がある。その場合は、後述する(3)のバインダーポリマーを併用し、バインダーポリマーにより低屈折率層を連続層として形成することが望ましい。微粒子の周囲にポリマーシェルを形成して、コアシェル微粒子が得られる。コアシェル微粒子中に無機微粒子からなるコアが5〜90体積%含まれていることが好ましく、15〜80体積%含まれていることがさらに好ましい。二種類以上のコアシェル微粒子を併用してもよい。また、シェルのない無機微粒子とコアシェル粒子とを併用してもよい。   When the binder polymer (3) described later is used in combination, a crosslinkable functional group may be introduced into the shell polymer to chemically bond the shell polymer and the binder polymer by crosslinking. The shell polymer may have crystallinity. When the glass transition temperature (Tg) of the shell polymer is higher than the temperature at the time of forming the low refractive index layer, it is easy to maintain microvoids in the low refractive index layer. However, if Tg is higher than the temperature at which the low refractive index layer is formed, the fine particles are not fused, and the low refractive index layer may not be formed as a continuous layer (resulting in a decrease in strength). In that case, it is desirable to use a binder polymer (3) described later in combination, and form the low refractive index layer as a continuous layer with the binder polymer. By forming a polymer shell around the fine particles, core-shell fine particles are obtained. The core-shell fine particles preferably contain 5 to 90% by volume of a core composed of inorganic fine particles, and more preferably 15 to 80% by volume. Two or more kinds of core-shell fine particles may be used in combination. Further, inorganic fine particles having no shell and core-shell particles may be used in combination.

(3)バインダー
バインダーポリマーは、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。バインダーポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例としては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニルベンゼンおよびその誘導体(例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリルアミドが挙げられる。ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。
(3) Binder The binder polymer is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as the main chain, and more preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain. The binder polymer is preferably crosslinked. The polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. In order to obtain a crosslinked binder polymer, it is preferable to use a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups. Examples of monomers having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohols and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate, pentaerythritol). Tetra (meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate , Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene and its derivatives Examples include 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinyl sulfone (eg, divinyl sulfone), acrylamide (eg, methylenebisacrylamide) and methacrylamide. Can be mentioned. The polymer having a polyether as the main chain is preferably synthesized by a ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound.

二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例としては、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が挙げられる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明において架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。バインダーポリマーの重合反応および架橋反応に使用する重合開始剤は、熱重合開始剤や、光重合開始剤が用いられるが、光重合開始剤の方がより好ましい。光重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例としては、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メ チル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノンおよび2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンが挙げられる。ベンゾイン類の例としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが挙げられる。ベンゾフェノン類の例としては、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノンおよびp−クロロベンゾフェノンが挙げられる。ホスフィンオキシド 類の例としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが挙げられる。
Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinked structure may be introduced into the binder polymer by the reaction of a crosslinkable group.
Examples of crosslinkable functional groups include isocyanate groups, epoxy groups, aziridine groups, oxazoline groups, aldehyde groups, carbonyl groups, hydrazine groups, carboxyl groups, methylol groups, and active methylene groups. Vinylsulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester and urethane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. In the present invention, the cross-linking group is not limited to the above compound, and may be one showing reactivity as a result of decomposition of the functional group. As the polymerization initiator used for the polymerization reaction and the crosslinking reaction of the binder polymer, a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator is used, and a photopolymerization initiator is more preferable. Examples of photopolymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds , Fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2-Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone. Examples of benzoins include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. Examples of benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.

バインダーポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に重合反応(必要ならばさらに架橋反応)により形成することが好ましい。低屈折率層の塗布液に、少量のポリマー(例、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂)を添加してもよい。   The binder polymer is preferably formed by adding a monomer to the coating solution for the low refractive index layer, and at the same time as or after coating the low refractive index layer, by a polymerization reaction (if necessary, a crosslinking reaction). Even if a small amount of polymer (eg, polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, alkyd resin) is added to the coating solution for the low refractive index layer Good.

[塗布法式]
本発明の反射防止フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。次に、各層を形成するための塗布液を、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やダイコート法により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥するが、グラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。更に、特開2003−200097、特開2003−211052等に記載されている、構成を工夫したダイを使用して塗布を行うことが最も好ましい。その後、乾燥工程に於いて溶剤を取り除かれる。乾燥工程としては、塗布直後に乾燥ゾーンを設け、乾燥ゾーン内の環境を制御することで乾燥速度を制御する乾燥工程を設置することが好ましく、特開2001−170547、特開平9−73016、特開2003−93954、特開2003−106767に記載されているような、塗布液中の溶媒を精密に除去させる乾燥装置を配置する乾燥工程を設置することがより好ましい。
その後光照射あるいは加熱して、各層を形成するためのモノマーを重合して硬化する。 これにより各層が形成される。
例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより10mJ/cm2〜1000mJ/cm2の照射量の紫外線を照射して各層を硬化するのが好ましい。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて50〜100%の分布が好ましく、80〜100%の分布がより好ましい。更に表面硬化を促進する為に窒素ガス等をパージして酸素濃度を低下する必要がある際には、酸素濃度0.01%〜5%が好ましく、幅方向の分布は酸素濃度で2%以下が好ましい。
[Application method]
The antireflection film of the present invention can be formed by the following method, but is not limited to this method.
First, a coating solution containing components for forming each layer is prepared. Next, a coating solution for forming each layer is applied on the transparent support by a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method or a die coating method, Although heated and dried, the gravure coating method, the wire bar coating method, and the die coating method are more preferable, and the die coating method is particularly preferable. Further, it is most preferable to perform coating using a die having a devised structure as described in JP-A-2003-200097, JP-A-2003-211052, and the like. Thereafter, the solvent is removed in the drying step. As the drying process, it is preferable to provide a drying zone immediately after coating and to set a drying process for controlling the drying speed by controlling the environment in the drying zone. It is more preferable to install a drying process in which a drying apparatus for precisely removing the solvent in the coating liquid is provided, as described in Kai 2003-93954 and JP-A 2003-106767.
Thereafter, the monomer for forming each layer is polymerized and cured by light irradiation or heating. Thereby, each layer is formed.
For example, if the coating film is UV curable, it is to cure each layer by irradiating an irradiation amount of ultraviolet rays of 10mJ / cm 2 ~1000mJ / cm 2 by an ultraviolet lamp preferred. At that time, the irradiation distribution in the width direction of the web is preferably 50 to 100%, more preferably 80 to 100%, including both ends with respect to the central maximum irradiation. Further, when it is necessary to purge nitrogen gas or the like to lower the oxygen concentration in order to promote surface hardening, the oxygen concentration is preferably 0.01% to 5%, and the distribution in the width direction is 2% or less in terms of oxygen concentration. Is preferred.

また、防眩層の硬化率(100−残存官能基含率)が100%未満のある値となった場合、その上に本発明の低屈折率層を設けて電離放射線および/または熱により低屈折率層を硬化した際に下層の防眩層の硬化率が低屈折率層を設ける前よりも高くなると、防眩層と低屈折率層との間の密着性が改良され、好ましい。   Further, when the curing rate (100-residual functional group content) of the antiglare layer becomes a certain value of less than 100%, the low refractive index layer of the present invention is provided on the antiglare layer to reduce the amount by ionizing radiation and / or heat. When the refractive index layer is cured, if the curing rate of the lower antiglare layer is higher than before the low refractive index layer is provided, the adhesion between the antiglare layer and the low refractive index layer is improved, which is preferable.

前記のようにして製造された本発明の反射防止フィルムは、公知の粘着剤を付けて各種公知のディスプレー材料の表面フィルムとして用いたり、これを用いて偏光板を作成することにより液晶表示装置に用いることができる。この場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。本発明の反射防止フィルムは、偏光板における偏光膜を両面から挟む2枚の保護フィルムのうち少なくとも1枚に用いることが好ましい。
本発明の反射防止フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の反射防止フィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐擦傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。
The antireflection film of the present invention produced as described above can be used as a surface film of various known display materials with a known pressure-sensitive adhesive, or used for a liquid crystal display device by creating a polarizing plate using this. Can be used. In this case, it arrange | positions on the outermost surface of a display by providing an adhesive layer on one side. The antireflection film of the present invention is preferably used for at least one of the two protective films sandwiching the polarizing film in the polarizing plate from both sides.
Since the antireflection film of the present invention also serves as a protective film, the production cost of the polarizing plate can be reduced. Further, by using the antireflection film of the present invention as the outermost layer, reflection of external light and the like can be prevented, and a polarizing plate having excellent scratch resistance, antifouling property and the like can be obtained.

本発明の反射防止フィルムを2枚の偏光膜の表面保護フィルムの内の一方として用いて偏光板を作成する際には、前記の反射防止フィルムを、反射防止構造を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。   When producing a polarizing plate using the antireflection film of the present invention as one of the surface protective films of two polarizing films, the antireflection film is on the side opposite to the side having the antireflection structure. It is preferable to improve the adhesion on the adhesive surface by hydrophilizing the surface of the transparent support, that is, the surface to be bonded to the polarizing film.

[鹸化処理]
(1)アルカリ液に浸漬する法
アルカリ液の中に光散乱フィルムや反射防止フィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は0.5〜3mol/Lであり、特に好ましくは1〜2mol/Lである。好ましいアルカリ液の液温は30〜75℃、特に好ましくは40〜60℃である。
前記の鹸化条件の組合せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、光散乱フィルムや反射防止フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
[Saponification]
(1) Method of immersing in alkaline solution This is a method of saponifying all surfaces that are reactive with alkali on the entire surface of the film by immersing a light scattering film or antireflection film in an alkaline solution under appropriate conditions. Since no special equipment is required, it is preferable from the viewpoint of cost. The alkaline liquid is preferably a sodium hydroxide aqueous solution. A preferred concentration is 0.5 to 3 mol / L, particularly preferably 1 to 2 mol / L. The liquid temperature of a preferable alkali liquid is 30-75 degreeC, Most preferably, it is 40-60 degreeC.
The combination of the saponification conditions is preferably a combination of relatively mild conditions, but can be set according to the material and configuration of the light scattering film and the antireflection film, and the target contact angle.
After being immersed in the alkaline solution, it is preferable to sufficiently wash with water or neutralize the alkaline component by immersing in a dilute acid so that the alkaline component does not remain in the film.

鹸化処理することにより、透明支持体の防眩層や反射防止層を有する表面と反対の表面が親水化される。 偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、防眩層や低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に防眩層や低屈折率層を有する表面から内部までアルカリによるダメージを受ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる各層の受けるダメージの指標として、反対側の表面の透明支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に透明支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは10度〜50度、より好ましくは30度〜50度、さらに好ましくは40度〜50度となる。50度以上では、偏光膜との接着性に問題が生じる為、好ましくない。一方、10度未満では、反射防止膜の受けるダメージが大きすぎる為、物理強度を損ない、好ましくない。
By saponification treatment, the surface of the transparent support opposite to the surface having the antiglare layer or antireflection layer is hydrophilized. The protective film for polarizing plate is used by adhering the hydrophilic surface of the transparent support to the polarizing film.
The hydrophilized surface is effective for improving the adhesiveness with the adhesive layer mainly composed of polyvinyl alcohol.
In the saponification treatment, the lower the contact angle to water on the surface of the transparent support opposite to the side having the antiglare layer or the low refractive index layer, the better from the viewpoint of adhesiveness to the polarizing film. At the same time, since it is damaged by alkali from the surface having the antiglare layer and the low refractive index layer to the inside, it is important to set the necessary minimum reaction conditions. When the contact angle to water of the transparent support on the opposite surface is used as an index of damage to each layer due to alkali, particularly when the transparent support is triacetylcellulose, preferably 10 to 50 degrees, more preferably Is 30 to 50 degrees, more preferably 40 to 50 degrees. If it is 50 degrees or more, there is a problem in the adhesion to the polarizing film, which is not preferable. On the other hand, if it is less than 10 degrees, the damage received by the antireflection film is too large, and physical strength is impaired, which is not preferable.

(2)アルカリ液を塗布する方法
上述の浸漬法における各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を防眩層や反射防止膜を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等に接触させる、などによって行われることも含む。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では(1)の浸漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば、蒸着膜やゾル−ゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。
(2) Method of applying alkaline solution As a means of avoiding damage to each film in the above immersion method, the alkaline solution is applied only to the surface opposite to the surface having the antiglare layer or antireflection film under appropriate conditions. An alkaline solution coating method of heating, washing with water and drying is preferably used. The application in this case means that an alkaline solution or the like is brought into contact only with the surface to be saponified, and in addition to the application, spraying, contact with a belt containing the solution, or the like may be performed. Including. By adopting these methods, a separate facility and process for applying an alkaline solution are required, which is inferior to the immersion method (1) from the viewpoint of cost. On the other hand, since the alkali solution contacts only the surface to be saponified, the opposite surface can have a layer using a material that is weak against the alkali solution. For example, vapor deposition films and sol-gel films have various effects such as corrosion, dissolution, and peeling due to alkali solution, so it is not desirable to use the immersion method. Is possible.

前記(1)、(2)のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に行うことができるため、前述の光散乱フィルムや反射防止フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行っても良い。さらに、同様に巻き出した支持体からなる偏光板との張り合わせ工程もあわせて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率良く偏光板を作成することができる。   In any of the saponification methods (1) and (2), since each layer can be formed after being unwound from a roll-shaped support, in addition to the light scattering film and antireflection film manufacturing steps described above, A series of operations may be performed. Furthermore, the polarizing plate can be produced more efficiently than the same operation with a single wafer by continuously performing the pasting step with the polarizing plate made of the unwound support.

(3)防眩層や反射防止層をラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
前記(2)と同様に、防眩層および/または低屈折率層がアルカリ液に対する耐性が不足している場合に、最終層まで形成した後に該最終層を形成した面にラミネートフィルムを貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで最終層を形成した面とは反対側のトリアセチルセルロース面だけを親水化し、然る後にラミネートフィルムを剥離することができる。この方法でも、防眩層、低屈折率層へのダメージなしに偏光板保護フィルムとして必要なだけの親水化処理をトリアセチルセルロースフィルムの最終層を形成した面とは反対の面だけに施すことができる。前記(2)の方法と比較して、ラミネートフィルムが廃棄物として発生する半面、特別なアルカリ液を塗布する装置が不要である利点がある。
(3) Method of protecting and saponifying an antiglare layer and an antireflection layer with a laminate film As in the case of (2), when the antiglare layer and / or the low refractive index layer is insufficient in resistance to an alkaline solution. Then, after forming the final layer, the laminate film is bonded to the surface on which the final layer is formed and then immersed in an alkaline solution to hydrophilize only the side of the triacetyl cellulose opposite to the surface on which the final layer has been formed. After being laminated, the laminate film can be peeled off. Even in this method, only the surface opposite to the surface on which the final layer of the triacetyl cellulose film is formed is subjected to the hydrophilization treatment necessary for the polarizing plate protective film without damaging the antiglare layer and the low refractive index layer. Can do. Compared with the method (2), the laminate film is generated as waste, but there is an advantage that a device for applying a special alkaline solution is unnecessary.

(4)防眩層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
防眩層まではアルカリ液に対する耐性があるが、低屈折率層がアルカリ液に対する耐性不足である場合には、防眩層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然る後に防眩層上に低屈折率層を形成することもできる。製造工程が煩雑になるが、特に低屈折率層がフッ素含有ゾル−ゲル膜等、親水基を有する場合には防眩層と低屈折率層との層間密着性が向上する利点がある。
(4) Method of immersing in alkaline solution after forming up to antiglare layer Up to antiglare layer is resistant to alkaline solution, but when low refractive index layer is insufficiently resistant to alkaline solution, after forming up to antiglare layer It is also possible to soak both surfaces in an alkali solution to hydrophilize both surfaces, and then form a low refractive index layer on the antiglare layer. Although the manufacturing process becomes complicated, there is an advantage that the interlayer adhesion between the antiglare layer and the low refractive index layer is improved particularly when the low refractive index layer has a hydrophilic group such as a fluorine-containing sol-gel film.

(5)予め鹸化済のトリアセチルセルロースフィルムに防眩層や反射防止層を形成する方法
トリアセチルセルロースフィルムを予めアルカリ液に浸漬するなどして鹸化し、何れか一方の面に直接または他の層を介して防眩層、低屈折率層を形成してもよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、防眩層または他の層と鹸化により親水化されたトリアセチルセルロース面との層間密着性が悪化することがある。そのような場合には、鹸化後、防眩層または他の層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処理をすることで親水化面を除去してから防眩層または他の層を形成することで対処できる。また、防眩層または他の層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。
(5) Method of forming an antiglare layer or an antireflection layer on a previously saponified triacetyl cellulose film Saponification is performed by immersing a triacetyl cellulose film in an alkaline solution in advance, either directly or on the other side. An antiglare layer and a low refractive index layer may be formed through the layers. In the case of saponification by dipping in an alkaline solution, interlayer adhesion between the antiglare layer or other layers and the triacetyl cellulose surface hydrophilized by saponification may deteriorate. In such a case, after saponification, only the surface on which the antiglare layer or other layer is formed is treated with corona discharge, glow discharge, etc. to remove the hydrophilic surface, and then the antiglare layer or other layer is removed. It can be dealt with by forming. Further, when the antiglare layer or other layer has a hydrophilic group, the interlayer adhesion may be good.

以下に、本発明の光散乱フィルムまたは反射防止フィルムを用いた偏光板及び該偏光板を用いた液晶表示装置について説明する。
[偏光板]
本発明の好ましい偏光板は、偏光膜の保護フィルム(偏光板用保護フィルム)の少なくとも一方として、本発明の光散乱フィルムまたは反射防止フィルムを有する。偏光板用保護フィルムは、前記のように、防眩層や反射防止層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が10度〜50度の範囲にあることが好ましい。
本発明の光散乱フィルムや反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、耐光性に優れた光散乱機能、あるいは反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
また、本発明の光散乱フィルムや反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、後述する光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、さらに、液晶表示装置の明室での視認性やコントラストを改良し、上下左右の視野角が非常に広げることができる偏光板を作製できる。
Below, the polarizing plate using the light-scattering film or antireflection film of this invention and the liquid crystal display device using this polarizing plate are demonstrated.
[Polarizer]
The preferable polarizing plate of this invention has the light-scattering film or antireflection film of this invention as at least one of the protective film (protective film for polarizing plates) of a polarizing film. As described above, the polarizing plate protective film has a water contact angle of 10 degrees on the surface of the transparent support opposite to the side having the antiglare layer or antireflection layer, that is, the surface to be bonded to the polarizing film. It is preferably in the range of ˜50 degrees.
By using the light scattering film or antireflection film of the present invention as a protective film for a polarizing plate, a light scattering function excellent in physical strength, light resistance, or a polarizing plate having an antireflection function can be produced, and a significant cost reduction, The display device can be thinned.
In addition, a polarizing plate is produced using the light scattering film or antireflection film of the present invention as one of the protective films for polarizing plates and an optical compensation film having optical anisotropy described later as the other protective film of the polarizing film. This further improves the visibility and contrast in the bright room of the liquid crystal display device, and makes it possible to produce a polarizing plate that can greatly widen the vertical and horizontal viewing angles.

[光学補償層]
偏光板には光学補償層(位相差層)を設けることにより、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償層としては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学異方性を有する層を有し、該ディスコティック化合物と透明支持体とのなす角度が透明支持体からの距離に伴って変化していることを特徴とする光学補償層が好ましい。
該角度は該ディスコティック化合物からなる光学異方性層の透明支持体面側からの距離の増加とともに増加していることが好ましい。
光学補償層を偏光膜の保護フィルムとして用いる場合、偏光膜と貼り合わせる側の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記の鹸化処理に従って実施することが好ましい。
[Optical compensation layer]
By providing the polarizing plate with an optical compensation layer (retardation layer), the viewing angle characteristics of the liquid crystal display screen can be improved.
As the optical compensation layer, a known layer can be used. However, in terms of widening the viewing angle, the optical compensation layer has a layer having optical anisotropy made of a compound having a discotic structural unit, and is transparent to the discotic compound. An optical compensation layer characterized in that the angle formed with the support varies with the distance from the transparent support.
The angle preferably increases as the distance from the transparent support surface side of the optically anisotropic layer made of the discotic compound increases.
When the optical compensation layer is used as a protective film for a polarizing film, the surface on the side to be bonded to the polarizing film is preferably saponified, and is preferably performed according to the saponifying process.

[偏光膜]
偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に1.1〜20.0倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が3%以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、20〜70゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に45°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
[Polarizing film]
As the polarizing film, a known polarizing film or a polarizing film cut out from a long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction may be used. A long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction is produced by the following method.
That is, a polarizing film stretched by applying tension while holding both ends of a continuously supplied polymer film by a holding means, stretched at least 1.1 to 20.0 times in the film width direction, The progress of the film is such that the difference between the moving speeds in the longitudinal direction of the holding device is within 3%, and the angle formed by the film moving direction at the exit of the step of holding both ends of the film and the substantial stretching direction of the film is inclined by 20 to 70 °. The film can be produced by a stretching method in which the direction is bent while holding both ends of the film. In particular, those inclined by 45 ° are preferably used from the viewpoint of productivity.

ポリマーフィルムの延伸方法については、特開2002−86554号公報の段落0020〜0030に詳しい記載がある。   The method for stretching the polymer film is described in detail in paragraphs 0020 to 0030 of JP-A-2002-86554.

<液晶表示装置>
本発明の防眩性反射防止フィルムは、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような画像表示装置に適用することができる。本発明の反射防止フィルムは透明支持体を有しているので、透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して用いられる。
<Liquid crystal display device>
The antiglare antireflection film of the present invention can be applied to an image display device such as a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), or a cathode ray tube display device (CRT). it can. Since the antireflection film of the present invention has a transparent support, the transparent support side is adhered to the image display surface of the image display device.

本発明の光散乱フィルムや反射防止フィルムは、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック(TN)、スーパーツイステットネマチック(STN)、バーティカルアライメント(VA)、インプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル(OCB)等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。特に、大型液晶テレビ等の用途として、VA、IPS、OCB等で好ましく用いることができ、中小の精細度の低い表示装置用途であれば、TN、STN等にも好ましく用いることができる。大型液晶テレビ等の用途としては、表示画面の対角が20インチ以上であり、精細度がXGA以下(縦横比3:4の表示装置において1024×768以下)であるものに対して、特に好ましく用いることができる。本発明の防眩性反射防止フィルムは、実質的に内部ヘイズがないため、20インチで精細度がXGA(縦横比3:4の表示装置において1024×768)を超えるものに対してはギラツキが許容レベルを超える為、ギラツキを重視する場合には好ましくない。また、ギラツキの程度は画素の大きさと表面の防眩フィルムの表面凹凸形状との関係で発生するものであるため、表示装置の大きさが30インチになれば精細度がUXGA(縦横比3:4の表示装置において1600×1200)以下、40インチならば精細度がQXGA(縦横比3:4の表示装置において2048×1536)以下まで好ましくもちいることができる。   When the light scattering film and antireflection film of the present invention are used as one side of the surface protective film of the polarizing film, twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching ( It can be preferably used for a transmissive, reflective, or transflective liquid crystal display device of a mode such as IPS) or optically compensatory bend cell (OCB). In particular, it can be preferably used for VA, IPS, OCB, etc., for applications such as large liquid crystal televisions, and can also be preferably used for TN, STN, etc., if it is used for display devices with small and medium definition. For applications such as large liquid crystal televisions, it is particularly preferable for a display screen having a diagonal of 20 inches or more and a definition of XGA or less (1024 × 768 or less in a display device having an aspect ratio of 3: 4). Can be used. Since the antiglare antireflection film of the present invention has substantially no internal haze, it has a glare for a 20-inch screen with a definition exceeding XGA (1024 × 768 in a display device having an aspect ratio of 3: 4). Since it exceeds the permissible level, it is not preferred when emphasizing glare. Further, since the degree of glare occurs due to the relationship between the size of the pixel and the surface unevenness of the antiglare film on the surface, the definition becomes UXGA (aspect ratio 3 :) when the size of the display device is 30 inches. If it is 40 inches, the definition can be preferably used up to QXGA (2048 × 1536 in a display device with an aspect ratio of 3: 4) or less.

VAモードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2−176625号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した(MVAモードの)液晶セル(SID97、Digest of tech. Papers(予稿集)28(1997)845記載)、(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル(日本液晶討論会の予稿集58〜59(1998)記載)および(4)SURVAIVALモードの液晶セル(LCDインターナショナル98で発表)が含まれる。   The VA mode liquid crystal cell includes (1) a narrowly defined VA mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied, and substantially horizontally when a voltage is applied (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 2-). 176625 (in Japanese Patent Publication No. 176625), and (2) a liquid crystal cell (SID97, Digest of tech. Papers (Proceedings) 28 (1997) 845 in which the VA mode is converted into a multi-domain (for MVA mode) in order to enlarge the viewing angle. ), (3) A liquid crystal cell in a mode (n-ASM mode) in which rod-like liquid crystalline molecules are substantially vertically aligned when no voltage is applied and twisted multi-domain alignment is applied when a voltage is applied (Preliminary collections 58-59 of the Japan Liquid Crystal Society) (1998)) and (4) SURVAVAL mode liquid crystal cells (announced at LCD International 98).

OCBモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に(対称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許4583825号、同5410422号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。   The OCB mode liquid crystal cell is a liquid crystal display device using a bend alignment mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned in a substantially opposite direction (symmetrically) between the upper part and the lower part of the liquid crystal cell. It is disclosed in the specifications of Japanese Patent Nos. 45882525 and 5410422. Since the rod-like liquid crystal molecules are symmetrically aligned at the upper and lower portions of the liquid crystal cell, the bend alignment mode liquid crystal cell has a self-optical compensation function. Therefore, this liquid crystal mode is also called an OCB (Optically Compensatory Bend) liquid crystal mode. The bend alignment mode liquid crystal display device has an advantage of high response speed.

ECBモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向しており、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。例えば「EL、PDP、LCDディスプレイ」東レリサーチセンター発行(2001)などに記載されている。   In an ECB mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystal molecules are substantially horizontally aligned when no voltage is applied, and is most frequently used as a color TFT liquid crystal display device, and is described in many documents. For example, it is described in “EL, PDP, LCD display” published by Toray Research Center (2001).

以下に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these.

[セルロースエステルドープ組成物A]
アセチル置換度2.88のセルローストリアセテート(数平均分子量150000) 100質量部
酢酸ビニル 5質量部
ラウリン酸ビニル 5質量部
ベンゾイン 1質量部
AEROSIL R972V 0.1質量部
メチレンクロリド 475質量部
エタノール 25質量部
[セルロースエステルドープ組成物B]
アセチル置換度2.88のセルローストリアセテート(数平均分子量150000) 100質量部
メチルアクリレート 5質量部
酪酸ビニル 2質量部
ASM−2 3質量部
ベンゾイン 1質量部
AEROSIL R972V 0.1質量部
メチレンクロリド 475質量部
エタノール 25質量部
[セルロースエステルドープ組成物C]
アセチル置換度2.88のセルローストリアセテート(数平均分子量150000) 100質量部
酢酸ビニル 4質量部
ステアリン酸ビニル 3質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 3質量部
ジエトキシベンゾフェノン 1質量部
AEROSIL R972V 0.1質量部
メチレンクロリド 475質量部
エタノール 25質量部
〔セルロースエステルドープ組成物D〕
アセチル置換度2.88のセルローストリアセテート(数平均分子量150000) 100質量部
酢酸ビニル 4質量部
ステアリン酸ビニル 3質量部
UVM−1 3質量部
M−1310(ウレタンアクリレート、東亜合成社製) 1質量部
メチルアクリレート 0.5質量部
ジエトキシベンゾフェノン 1質量部
AEROSIL R972V 0.1質量部
メチレンクロリド 475質量部
エタノール 25質量部
[Cellulose ester dope composition A]
Cellulose triacetate having a degree of acetyl substitution of 2.88 (number average molecular weight 150,000) 100 parts by weight vinyl acetate 5 parts by weight vinyl laurate 5 parts by weight benzoin 1 part by weight AEROSIL R972V 0.1 part by weight methylene chloride 475 parts by weight ethanol 25 parts by weight [ Cellulose ester dope composition B]
Cellulose triacetate with a degree of acetyl substitution of 2.88 (number average molecular weight 150,000) 100 parts by weight methyl acrylate 5 parts by weight vinyl butyrate 2 parts by weight ASM-2 3 parts by weight benzoin 1 part by weight AEROSIL R972V 0.1 part by weight methylene chloride 475 parts by weight Ethanol 25 parts by mass [cellulose ester dope composition C]
Cellulose triacetate with a degree of acetyl substitution of 2.88 (number average molecular weight 150,000) 100 parts by weight vinyl acetate 4 parts by weight vinyl stearate 3 parts by weight dipentaerythritol hexaacrylate 3 parts by weight diethoxybenzophenone 1 part by weight AEROSIL R972V 0.1 part by weight Methylene chloride 475 parts by mass Ethanol 25 parts by mass [cellulose ester dope composition D]
Cellulose triacetate with a degree of acetyl substitution of 2.88 (number average molecular weight 150,000) 100 parts by weight Vinyl acetate 4 parts by weight Vinyl stearate 3 parts by weight UVM-1 3 parts by weight M-1310 (urethane acrylate, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 1 part by weight Methyl acrylate 0.5 parts by weight Diethoxybenzophenone 1 part by weight AEROSIL R972V 0.1 part by weight Methylene chloride 475 parts by weight Ethanol 25 parts by weight

(製膜)上記A〜Dのセルロースエステルドープ組成物を下記のように調製した。各々を加圧密閉容器に投入し、45℃に加温して容器内圧力を1.2気圧とし、撹拌しながらセルロースエステルを完全に溶解させドープ組成物(以降ドープとする)を得た。ドープ温度を35℃まで下げて一晩静置し、このドープを安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過した後、更に一晩静置し脱泡した。次いで日本精線(株)製のファインメットNM(絶対濾過精度100μm)、ファインポアNF(絶対濾過精度50μm、15μm、5μmの順に順次濾過精度を上げて使用)を使用して濾過圧力1.0×106Paで濾過し製膜に供した。濾過して得られた35℃のドープを用いてハンガータイプのダイから22℃の無限移行する無端のステンレスベルト上に流延して製膜した。ステンレスベルト上でウェブに、40℃の風を当てながら、8個の2kWの高圧水銀灯を15cm離れた距離から照射し、光重合を起こさせウェブ中にポリマーを生成させた。この高圧水銀灯には、反射板及び冷却装置が付いている。ステンレスベルト上でのウェブの任意の位置の全照射量を300mj/cm2とした。全てのウェブについて、残留溶媒量25質量%でウェブを剥離後、3本のロールを通した後、特開昭62−115035号公報に記載されているようなピンクリップでウェブの両端を把持するテンター乾燥装置にウェブを導入して90〜115℃で乾燥し、次にロール乾燥装置で110〜130℃で乾燥し、乾燥されたウェブを残留溶媒量を0.2質量%で巻き取り、膜厚80μmのセルロースエステルフィルム1〜4を得た。また、同様にして上記Aのセルロースエステルドープ組成物より膜厚60μmのセルロースエステルフィルム5、膜厚40μmのセルロースエステルフィルム6、膜厚30μmのセルロースエステルフィルム7を作製した。 (Film Formation) The cellulose ester dope compositions A to D were prepared as follows. Each was put into a pressure sealed container, heated to 45 ° C., the pressure in the container was 1.2 atm, and the cellulose ester was completely dissolved while stirring to obtain a dope composition (hereinafter referred to as “dope”). The dope temperature was lowered to 35 ° C. and allowed to stand overnight, and this dope was added to Azumi filter paper No. 1 manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd. After filtration using 244, the mixture was further allowed to stand overnight for defoaming. Next, a filtration pressure of 1.0 using Finemet NM (absolute filtration accuracy 100 μm) and Finepore NF (absolute filtration accuracy 50 μm, 15 μm, 5 μm in order of absolute filtration accuracy) manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. It filtered by * 10 < 6 > Pa and used for film forming. Using a dope at 35 ° C. obtained by filtration, the film was cast from a hanger type die onto an endless stainless belt having an infinite transition at 22 ° C. to form a film. While applying a wind of 40 ° C. to the web on a stainless steel belt, eight 2 kW high-pressure mercury lamps were irradiated from a distance of 15 cm to cause photopolymerization to produce a polymer in the web. This high-pressure mercury lamp has a reflector and a cooling device. The total irradiation amount at an arbitrary position of the web on the stainless steel belt was set to 300 mj / cm 2 . For all webs, the web was peeled off with a residual solvent amount of 25% by mass, passed through three rolls, and then gripped at both ends of the web with pin clips as described in JP-A-62-115035. The web is introduced into a tenter dryer and dried at 90 to 115 ° C., then dried at 110 to 130 ° C. with a roll dryer, and the dried web is wound up with a residual solvent amount of 0.2% by mass to form a film. Cellulose ester films 1 to 4 having a thickness of 80 μm were obtained. Similarly, a cellulose ester film 5 having a thickness of 60 μm, a cellulose ester film 6 having a thickness of 40 μm, and a cellulose ester film 7 having a thickness of 30 μm were prepared from the cellulose ester dope composition of A above.

セルロースエステルフィルム8の作製
基層ドープとして上記Aのセルロースエステルドープ組成物を使用し、更に表層ドープとして以下の処方のドープ組成物を共流延し、乾燥後のそれぞれの厚みを0.06mm(基層)および0.01(表層)mmとした。100℃の熱風にて残留溶剤量が10質量%になるまで乾燥し、その後140℃の熱風にて10分間乾燥させ、セルロースエステルフィルム8を作製した。
〔表層ドープ組成物〕
アセチル置換度2.88のセルローストリアセテート(数平均分子量150000) 17.0質量部
メチレンクロリド 90.0質量部
エタノール 10.0質量部
トリフェニルホスフェート 0.51質量部
SiO2 0.085質量部
Preparation of Cellulose Ester Film 8 The cellulose ester dope composition of A above is used as a base layer dope, and a dope composition of the following formulation is co-cast as a surface layer dope, and each thickness after drying is 0.06 mm (base layer) ) And 0.01 (surface layer) mm. The cellulose ester film 8 was produced by drying with hot air at 100 ° C. until the residual solvent amount reached 10% by mass and then drying with hot air at 140 ° C. for 10 minutes.
[Surface dope composition]
Cellulose triacetate having a degree of acetyl substitution of 2.88 (number average molecular weight 150000) 17.0 parts by mass Methylene chloride 90.0 parts by mass Ethanol 10.0 parts by mass Triphenyl phosphate 0.51 parts by mass
0.085 parts by mass of SiO 2

セルロースエステルフィルム9の作製
セルロースエステルフィルム8と同様の基層及び表層ドープを使用して基層ドープと表層ドープを逐次流延し、乾燥後のそれぞれの厚みを0.06mm(基層)および0.01mm(表層)とした。100℃の熱風にて残留溶剤量が10質量%になるまで乾燥し、その後140℃の熱風にて10分間乾燥させ、セルロースエステルフィルム9を作製した。
Production of Cellulose Ester Film 9 The base layer dope and the surface layer dope were successively cast using the same base layer and surface layer dope as the cellulose ester film 8, and the respective thicknesses after drying were 0.06 mm (base layer) and 0.01 mm ( Surface layer). The cellulose ester film 9 was produced by drying with hot air at 100 ° C. until the residual solvent amount reached 10% by mass, and then drying with hot air at 140 ° C. for 10 minutes.

(ハードコート層用塗布液Aの調製)
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)25.4gをメチルイソブチルケトン46.3gで希釈した。更に、重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)を1.3g添加し、混合攪拌した。続いてフッ素系レベリング剤(P−1)0.04g、シランカップリング剤(KBM−5103、信越化学工業(株)製)を5.2g、分子量40,000のセルロースアセテートブチレート(CAB−531−1、イーストマンケミカル(株)製)0.50gを加えてエアーディスパーにて120分間攪拌して溶質を完全に溶解した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は1.520であった。
最後に、この溶液にポリトロン分散機にて10000rpmで20分間分散した平均粒径3.5μmの架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子(共重合組成比=50/50、屈折率1.536)の30%メチルイソブチルケトン分散液を21.0g加えた後にエアーディスパーにて10分間攪拌した。
前記混合液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層用塗布液Aを調製した。
(Preparation of coating liquid A for hard coat layer)
25.4 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was diluted with 46.3 g of methyl isobutyl ketone. Furthermore, 1.3 g of a polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was added and mixed and stirred. Subsequently, 0.04 g of fluorine leveling agent (P-1), 5.2 g of silane coupling agent (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), cellulose acetate butyrate (CAB-531) having a molecular weight of 40,000. −1, Eastman Chemical Co., Ltd.) 0.50 g was added and stirred for 120 minutes with an air disper to completely dissolve the solute. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet rays was 1.520.
Finally, 30 of crosslinked poly (acryl-styrene) particles having an average particle diameter of 3.5 μm (copolymerization composition ratio = 50/50, refractive index 1.536) dispersed in this solution for 20 minutes at 10,000 rpm with a Polytron disperser. After adding 21.0 g of% methyl isobutyl ketone dispersion, the mixture was stirred with an air disper for 10 minutes.
The mixed solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare a coating solution A for hard coat layer.

ハードコート層用塗布液Bの調製
デソライトZ7404(ジルコニア微粒子含有ハードコート組成液:JSR(株)製)を100質量部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)を31質量部、フッ素系レベリング剤(P−1)0.08g、KBM−5103(シランカップリング剤:信越化学工業(株)製)を10質量部、KE−P150(1.5μmシリカ粒子:日本触媒(株)製)を8.9質量部、MXS−300(3μm架橋PMMA粒子:綜研化学(株)製)を3.4質量部、MEKを29質量部、MIBK13質量部をミキシングタンクに投入し、撹拌した後、孔径30μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用塗布液Bを調製した。
Preparation of coating liquid B for hard coat layer A mixture of 100 parts by mass of Desolite Z7404 (hard coat composition liquid containing zirconia fine particles: manufactured by JSR Corporation), dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku) 31 parts by mass), fluorine leveling agent (P-1) 0.08 g, KBM-5103 (silane coupling agent: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 10 parts by mass, KE-P150 (1) 8.9 parts by mass of 0.5 μm silica particles (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), 3.4 parts by mass of MXS-300 (3 μm crosslinked PMMA particles: manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.), 29 parts by mass of MEK, and 13 parts by mass of MIBK The mixture was put into a mixing tank and stirred, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare coating liquid B for hard coat layer. It was.

ハードコート層用塗布液Cの調製
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)を90質量部、重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)を3.0g、フッ素系レベリング剤(P−1)0.08g、KBM−5103(シランカップリング剤:信越化学工業(株)製)を10質量部、MEKを35質量部、MIBK55質量部をミキシングタンクに投入し、撹拌した後、孔径30μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用塗布液Cを調製した。
Preparation of coating solution C for hard coat layer 90 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.), polymerization initiator (Irgacure 184, Ciba Specialty Chemicals) 3.0 g, fluorine leveling agent (P-1) 0.08 g, KBM-5103 (silane coupling agent: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 10 parts by mass, MEK 35 parts by mass Then, 55 parts by mass of MIBK was put into a mixing tank and stirred, and then filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 30 μm to prepare a coating liquid C for hard coat layer.

(低屈折率層)   (Low refractive index layer)

(パーフルオロオレフィン共重合体(1)の合成)

Figure 2006251163
(Synthesis of perfluoroolefin copolymer (1))
Figure 2006251163

内容量100mlのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル40ml、ヒドロキシエチルビニルエーテル14.7gおよび過酸化ジラウロイル0.55gを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン(HFP)25gをオートクレーブ中に導入して65℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が65℃に達した時点の圧力は0.53Mpa(5.4kg/cm2)であった。該温度を保持し8時間反応を続け、圧力が0.31MPa(3.2kg/cm2)に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから2回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー28gを得た。次に該ポリマーの20gをN,N−ジメチルアセトアミド100mlに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド11.4gを滴下した後、室温で10時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体(1)を19g得た。得られたポリマーの屈折率は1.421であった。 Into a stainless steel autoclave with a stirrer of 100 ml, 40 ml of ethyl acetate, 14.7 g of hydroxyethyl vinyl ether and 0.55 g of dilauroyl peroxide were charged, and the inside of the system was deaerated and replaced with nitrogen gas. Further, 25 g of hexafluoropropylene (HFP) was introduced into the autoclave and the temperature was raised to 65 ° C. The pressure when the temperature in the autoclave reached 65 ° C. was 0.53 Mpa (5.4 kg / cm 2 ). The reaction was continued for 8 hours while maintaining the temperature, and when the pressure reached 0.31 MPa (3.2 kg / cm 2 ), the heating was stopped and the mixture was allowed to cool. When the internal temperature dropped to room temperature, unreacted monomers were driven out, the autoclave was opened, and the reaction solution was taken out. The obtained reaction solution was poured into a large excess of hexane, and the polymer was precipitated by removing the solvent by decantation. Further, this polymer was dissolved in a small amount of ethyl acetate and reprecipitated twice from hexane to completely remove the residual monomer. After drying, 28 g of polymer was obtained. Next, 20 g of the polymer was dissolved in 100 ml of N, N-dimethylacetamide, and 11.4 g of acrylic acid chloride was added dropwise under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 10 hours. Ethyl acetate was added to the reaction solution, washed with water, the organic layer was extracted and concentrated, and the resulting polymer was reprecipitated with hexane to obtain 19 g of perfluoroolefin copolymer (1). The resulting polymer had a refractive index of 1.421.

(ゾル液の調製)
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業(株)製)100部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3部を加え混合したのち、イオン交換水30部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は1600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
(Preparation of sol solution)
A stirrer, a reactor equipped with a reflux condenser, 120 parts of methyl ethyl ketone, 100 parts of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added and mixed. Thereafter, 30 parts of ion-exchanged water was added and reacted at 60 ° C. for 4 hours, and then cooled to room temperature to obtain sol solution a. The mass average molecular weight was 1600, and among the components higher than the oligomer component, the component having a molecular weight of 1000 to 20000 was 100%. Further, from the gas chromatography analysis, the raw material acryloyloxypropyltrimethoxysilane did not remain at all.

(低屈折率層用塗布液Aの調整)
ポリシロキサンおよび水酸基を含有する屈折率1.44の熱架橋性含フッ素ポリマー(JTA113、固形分濃度6%、JSR(株)製)13g、コロイダルシリカ分散液MEK−ST−L(商品名、平均粒径45nm、固形分濃度30%、日産化学(株)製)1.3g、前記ゾル液0.6g、およびメチルエチルケトン5g、シクロヘキサノン0.6gを添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液Aを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.45であった。
(Adjustment of coating solution A for low refractive index layer)
Thermally crosslinkable fluorine-containing polymer having a refractive index of 1.44 containing polysiloxane and hydroxyl group (JTA113, solid content concentration 6%, manufactured by JSR Corporation) 13 g, colloidal silica dispersion MEK-ST-L (trade name, average) Particle size 45 nm, solid content concentration 30%, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) 1.3 g, sol solution 0.6 g, methyl ethyl ketone 5 g, cyclohexanone 0.6 g were added, and after stirring, a polypropylene filter having a pore size of 1 μm Filtration was performed to prepare a low refractive index layer coating solution A. The refractive index of the layer formed with this coating solution was 1.45.

(低屈折率層用塗布液Bの調整)
(分散液Aの調製)
中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20質量%、シリカ粒子の屈折率1.31、特開2002−79616の調製例4に準じサイズを変更して作成)500gに、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)30g、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.5g加え混合した後に、イオン交換水を9gを加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8gを添加した。この分散液500gにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力20kPaで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し20質量%にしたときの粘度は25℃で5mPa・sであった。得られた分散液Agのイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、1.5%であった。
(Adjustment of coating liquid B for low refractive index layer)
(Preparation of dispersion A)
Hollow silica fine particle sol (Isopropyl alcohol silica sol, average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20% by mass, silica particle refractive index 1.31, prepared by changing the size according to Preparation Example 4 of JP-A-2002-79616 ) After adding 30 g of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 1.5 g of diisopropoxyaluminum ethyl acetate to 500 g, 9 g of ion-exchanged water was added. After reacting at 60 ° C. for 8 hours, the mixture was cooled to room temperature, and 1.8 g of acetylacetone was added. While adding cyclohexanone to 500 g of this dispersion so that the silica content was almost constant, solvent substitution was performed by distillation under reduced pressure at a pressure of 20 kPa. There was no generation of foreign matter in the dispersion, and the viscosity when the solid content concentration was adjusted to 20% by mass with cyclohexanone was 5 mPa · s at 25 ° C. When the residual amount of isopropyl alcohol in the obtained dispersion Ag was analyzed by gas chromatography, it was 1.5%.

(塗布液Bの調製)
オプスターJTA113(熱架橋性含フッ素含シリコーンポリマー組成液(固形分6%):JSR(株)製)783.3質量部(固形分として47.0質量部)に対して、分散液A−1を195質量部(シリカ+表面処理剤固形分として39.0質量部)、コロイダルシリカ分散物(シリカ、MEK−STの粒子径違い品、平均粒径45nm、固形分濃度30%、日産化学(株)製)30.0質量部(固形分として9.0質量部)、ゾル液a17.2質量部(固形分として5.0質量部)を添加した。塗布液全体の固形分濃度が6質量%になり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が10対90になるようにシクロヘキサン、メチルエチルケトンで希釈して低屈折率用塗布液Bを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.39であった。
(Preparation of coating solution B)
Dispersion A-1 with respect to 783.3 parts by mass (47.0 parts by mass as a solid content) of OPSTAR JTA113 (thermally crosslinkable fluorine-containing silicone polymer composition liquid (solid content 6%): manufactured by JSR Corporation) 195 parts by mass (silica + 39.0 parts by mass as surface treatment agent solids), colloidal silica dispersion (silica, MEK-ST particle size difference, average particle size 45 nm, solid content concentration 30%, Nissan Chemical ( 30.0 parts by mass (9.0 parts by mass as solids) and 17.2 parts by mass of sol liquid a (5.0 parts by mass as solids) were added. A coating solution B for low refractive index was prepared by diluting with cyclohexane and methyl ethyl ketone so that the solid content concentration of the entire coating solution was 6% by mass and the ratio of cyclohexane and methyl ethyl ketone was 10:90. The refractive index of the layer formed with this coating solution was 1.39.

(低屈折率層用塗布液Cの調製)
パーフルオロオレフィン共重合体(1)15.2g、中空シリカゾル(屈折率1.31、平均粒径60nm、固形分濃度20%)2.1g、反応性シリコーンX−22−164B(商品名;信越化学工業社製)0.3g、ゾル液a 7.3g、光重合開始剤(イルガキュア907(商品名)、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.76g、メチルエチルケトン301g、シクロヘキサノン9.0gを添加、攪拌の後、孔径5μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Cを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.40であった。
(Preparation of coating solution C for low refractive index layer)
Perfluoroolefin copolymer (1) 15.2 g, hollow silica sol (refractive index 1.31, average particle size 60 nm, solid content 20%) 2.1 g, reactive silicone X-22-164B (trade name; Shin-Etsu) Chemical Industry Co., Ltd.) 0.3 g, sol solution a 7.3 g, photopolymerization initiator (Irgacure 907 (trade name), Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.76 g, methyl ethyl ketone 301 g, cyclohexanone 9.0 g After the addition and stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 5 μm to prepare a coating solution C for a low refractive index layer. The refractive index of the layer formed by this coating solution was 1.40.

[実施例1]
(1)ハードコート層の塗設
上記セルロースエステルフィルム1を特開2003−211052に記載の装置構成および下記の塗布条件で示されるダイコート法によってハードコート層用塗布液Aを塗布し、30℃で15秒間、90℃で20秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量90mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ6μmの防眩性を有するハードコート層を形成し、巻き取った。
[Example 1]
(1) Coating of hard coat layer The cellulose ester film 1 was coated with the coating liquid A for hard coat layer by the die coating method shown in the apparatus configuration described in JP2003-211052 and the following coating conditions, and at 30 ° C. After drying for 20 seconds at 90 ° C. for 15 seconds, and further applying with UV irradiation with an irradiation amount of 90 mJ / cm 2 using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (made by Eye Graphics Co., Ltd.) under a nitrogen purge. The layer was cured to form a 6 μm thick anti-glare hard coat layer and wound up.

基本条件:スロットダイ13は、上流側リップランド長IUPが0.5mm、下流側リップランド長ILOが50μmで,スロット16の開口部のウェブ走行方向における長さが150μm、スロット16の長さが50mmのものを使用した。上流側リップランド18aとウェブWの隙間を、下流側リップランド18bとウェブWの隙間よりも50μm長くし(以下、オーバーバイト長さ50μmと称する)、下流側リップランド18bとウェブWとの隙間GL を50μmに設定した。また、減圧チャンバー40のサイドプレート40bとウェブWとの隙間GS 、及びバックプレート40aとウェブWとの隙間GB はともに200μmとした。それぞれの塗布液の液物性に合わせて、防眩層:防眩層用塗布液A、Cの場合:塗布速度=20m/分、ウエット塗布量=17.5ml/m2で、防眩層用塗布液Bの場合:塗布速度=40m/分、ウエット塗布量=17.5ml/m2で、低屈折率層:塗布速度=40m/分、ウエット塗布量=5.0ml/m2で塗布を行った。なお、塗布幅:1300mm、有効幅:1280mmとした。 Basic conditions: The slot die 13 has an upstream lip land length I UP of 0.5 mm, a downstream lip land length I LO of 50 μm, a length of the opening of the slot 16 in the web running direction of 150 μm, and the length of the slot 16 The one with a length of 50 mm was used. The gap between the upstream lip land 18a and the web W is 50 μm longer than the gap between the downstream lip land 18b and the web W (hereinafter referred to as an overbite length of 50 μm), and the gap between the downstream lip land 18b and the web W GL was set to 50 μm. Further, the gap G B between the gap G S, and the back plate 40a and the web W between the side plate 40b and the web W in the vacuum chamber 40 were both 200 [mu] m. In accordance with the liquid physical properties of each coating solution, in the case of anti-glare layer: anti-glare layer coating solutions A and C: coating speed = 20 m / min, wet coating amount = 17.5 ml / m 2 , for anti-glare layer In the case of coating solution B: coating speed = 40 m / min, wet coating amount = 17.5 ml / m 2 , low refractive index layer: coating speed = 40 m / min, wet coating amount = 5.0 ml / m 2 went. The application width was 1300 mm and the effective width was 1280 mm.

(2)低屈折率層の塗設
上記防眩層用塗布液Aを塗布してハードコート層を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、前記低屈折率層用塗布液Aを上記の基本条件で塗布し、120℃で150秒乾燥の後、更に140℃で8分乾燥させてから窒素パージにより酸素濃度0.1%の雰囲気下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量300mJ/cm2の紫外線を照射し、厚さ100nmの低屈折率層を形成し、巻き取った。
このようにして実施例1の反射防止フィルムを作製した。同様にして、表1に示す条件にて反射防止フィルムを作製した。
実施例21
実施例1と同様の処方において、塗布方式をマイクログラビア塗布方式に変更する以外は同様の条件で反射防止フィルムを作製した。作製された反射防止フィルムは、実施例1の反射防止フィルムと同様の良好な性能を示した。マイクログラビア塗布方式の詳細については、特開平2−119977に則って行った。
(2) Coating of low refractive index layer The triacetyl cellulose film coated with the antiglare layer coating liquid A and coated with a hard coat layer is unwound again, and the low refractive index layer coating liquid A is used as described above. After being dried at 120 ° C. for 150 seconds and further dried at 140 ° C. for 8 minutes, a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) under an atmosphere with an oxygen concentration of 0.1% by nitrogen purge. Ltd.) was used to an irradiation dose of 300 mJ / cm 2, to form a low refractive index layer having a thickness of 100 nm, was wound.
Thus, the antireflection film of Example 1 was produced. Similarly, an antireflection film was produced under the conditions shown in Table 1.
Example 21
An antireflection film was produced under the same conditions as in Example 1, except that the coating method was changed to a microgravure coating method. The produced antireflection film exhibited good performance similar to that of the antireflection film of Example 1. The details of the microgravure coating method were performed in accordance with JP-A-2-119777.

作製した反射防止フィルムに対して、以下の評価を実施した。
・鉛筆硬度評価
耐傷性の指標としてJIS K5400に記載の鉛筆硬度評価を行った。反射防止膜を温度25℃、湿度60%RHで2時間調湿した後、JIS S6006に規定する3Hの試験用鉛筆を用いて、1kgの荷重にて
n=5の評価において傷が全く認められない :○
n=5の評価において傷が1または2つ :△
n=5の評価において傷が3つ以上 :×
更に、4Hの試験用鉛筆でもn=5の評価において傷が全く認められない場合、◎とした。
The following evaluation was implemented with respect to the produced antireflection film.
Pencil hardness evaluation Pencil hardness evaluation described in JIS K5400 was performed as an index of scratch resistance. After conditioning the antireflection film at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH for 2 hours, using a 3H test pencil specified in JIS S6006, scratches were recognized at the evaluation of n = 5 with a load of 1 kg. No : ○
In evaluation of n = 5, 1 or 2 scratches:
In evaluation of n = 5, 3 or more scratches: ×
Furthermore, even if a 4H test pencil showed no scratches in the evaluation of n = 5, it was evaluated as “◎”.

・カールの評価
ハードコートフィルムのカールの測定を、JIS K7619−1988の「写真フィルムのカールの測定法」中の方法Aのカール測定用型板を用いて行った。測定条件は25℃、相対湿度60%、調湿時間10時間である。ここで、カールがプラスとはフィルムのハードコート層塗設側が湾曲の内側になるカールを言い、マイナスとは塗設側が湾曲の外側になるカールをいう。また、カールは以下の数式Bで表される。
(数式B) カール=1/R Rは曲率半径(m)
上記の所定時間調湿した後のカール量により、以下のようにランク付けされる。
マイナス5〜プラス5:◎
マイナス10〜マイナス5、プラス5〜プラス10:○
マイナス15〜マイナス10、プラス10〜プラス15:△
マイナス15以下、プラス15以上:×
Curl Evaluation The curl of the hard coat film was measured using the curl measurement template of Method A in “Measurement Method of Curling of Photographic Film” of JIS K7619-1988. The measurement conditions are 25 ° C., relative humidity 60%, and humidity control time 10 hours. Here, “curl plus” means a curl where the hard coat layer coating side of the film is inside the curve, and “minus” means a curl where the coating side is outside the curve. Further, the curl is expressed by the following formula B.
(Formula B) Curl = 1 / R R is the radius of curvature (m)
According to the curl amount after adjusting the humidity for the predetermined time, the ranking is as follows.
Minus 5 to Plus 5: ◎
Minus 10 to minus 5, plus 5 to plus 10: ○
Minus 15 to minus 10, plus 10 to plus 15: △
Minus 15 or less, plus 15 or more: ×

Figure 2006251163
Figure 2006251163

表1を見ると明らかなように、本発明の反射防止フィルムは、良好な表面硬度を示すことが分かる。また、セルロースエステルフィルムの膜厚が薄くなっても表面硬度を確保することができるので、反射防止フィルムの薄膜化が可能である。更に、ハードコート層の膜厚を薄くしても表面硬度を確保することができるため、ハードコート層のコスト削減、カールの良化を図ることが可能となる。   As is apparent from Table 1, it can be seen that the antireflection film of the present invention exhibits good surface hardness. Further, since the surface hardness can be secured even when the film thickness of the cellulose ester film is reduced, the antireflection film can be made thinner. Furthermore, since the surface hardness can be ensured even if the thickness of the hard coat layer is reduced, the cost of the hard coat layer can be reduced and the curl can be improved.

実施例1〜20で得られた反射防止フィルムを、2.0規定、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬してフィルムの裏面のトリアセチルセルロース面を鹸化処理し、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士写真フイルム(株)製)を同条件で鹸化処理したフィルムとでポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作成した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作成した。このようにして作成した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型TN液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置(偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友3M(株)製のD−BEFをバックライトと液晶セルとの間に有する)の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、更に表示面内の均一性が確保された表示品位の非常に高い表示装置が得られた。   The antireflective films obtained in Examples 1 to 20 were immersed in a 2.0 normal, 55 ° C. NaOH aqueous solution for 2 minutes to saponify the triacetyl cellulose surface on the back side of the film. Polarized by adhering and protecting both sides of a polarizer prepared by adsorbing iodine to polyvinyl alcohol with a film obtained by saponifying an acetylcellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) under the same conditions and stretching. A board was created. The thus-prepared polarizing plate is a liquid crystal display device of a notebook computer equipped with a transmission type TN liquid crystal display device (Sumitomo 3M Co., Ltd., which is a polarization separation film having a polarization selection layer) so that the antireflection film side is the outermost surface. When D-BEF made of D-BEF is replaced with a polarizing plate on the viewing side), display quality with very little background reflection and uniformity in the display surface is ensured. A very high display device was obtained.

本発明の反射防止フィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically preferable embodiment of the antireflection film of this invention. 本発明の反射防止フィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically preferable embodiment of the antireflection film of this invention. 本発明の反射防止フィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically preferable embodiment of the antireflection film of this invention. 本発明の反射防止フィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically preferable embodiment of the antireflection film of this invention. 本発明の反射防止フィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically preferable embodiment of the antireflection film of this invention. 本発明で使用するセルロースエステルフィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically preferable embodiment of the cellulose-ester film used by this invention. 本発明で使用するセルロースエステルフィルムの好ましい実施形態を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically preferable embodiment of the cellulose-ester film used by this invention. 本発明で使用するセルロースエステルフィルムの流延バンドを用いた溶液製膜装置を示す。The solution casting apparatus using the casting band of the cellulose ester film used by this invention is shown. 本発明で使用するセルロースエステルフィルムの流延ドラムを用いた溶液製膜装置を示す。The solution casting apparatus using the casting drum of the cellulose ester film used by this invention is shown. 溶液製膜装置の流延ダイの一例を示す。An example of the casting die of a solution casting apparatus is shown. 溶液製膜装置の流延ダイの一例を示す。An example of the casting die of a solution casting apparatus is shown. 溶液製膜装置の流延ダイの一例を示す。An example of the casting die of a solution casting apparatus is shown.

符号の説明Explanation of symbols

(1)透明支持体
(2)ハードコート層
(3)中屈折率層
(4)高屈折率層
(5)低屈折率層
1 基層
2 表層
11 攪拌機
12 移送ポンプ
13 濾過器
14 ストックタンク
15 流延送液ポンプ
16 添加剤注入ポンプ
17 流延ダイ
18 流延バンド
19 減圧チャンバー
20 流延ドラム
30 ダイ
31、32、33 マニホールド
34 フィードブロック
(1) Transparent support (2) Hard coat layer (3) Medium refractive index layer (4) High refractive index layer (5) Low refractive index layer 1 Base layer 2 Surface layer 11 Stirrer 12 Transfer pump 13 Filter 14 Stock tank 15 Flow Casting liquid pump 16 Additive injection pump 17 Casting die 18 Casting band 19 Depressurization chamber 20 Casting drum 30 Dies 31, 32, 33 Manifold 34 Feed block

Claims (30)

エチレン性不飽和モノマー及び/または官能基を有するエチレン性不飽和モノマー及び光重合開始剤を含有するセルロースエステルドープ組成物を溶液流延製膜することにより形成されるセルロースエステルフィルムの上に、少なくともハードコート層を積層してなることを特徴とする反射防止フィルム。   On a cellulose ester film formed by solution casting a cellulose ester dope composition containing an ethylenically unsaturated monomer and / or a functional group-containing ethylenically unsaturated monomer and a photopolymerization initiator, at least An antireflection film comprising a hard coat layer. 上記セルロースエステルフィルムが、セルロースエステルと、上記エチレン性不飽和モノマー及び/または官能基を有するエチレン性不飽和モノマーが重合してなる架橋ポリマーとのセミIPN(半相互貫入型網目構造)型ポリマーアロイ構造となっていることを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルム。   The cellulose ester film is a semi-IPN (semi-interpenetrating network structure) type polymer alloy comprising a cellulose ester and a crosslinked polymer obtained by polymerizing the ethylenically unsaturated monomer and / or the ethylenically unsaturated monomer having a functional group. The antireflection film according to claim 1, which has a structure. 上記エチレン性不飽和モノマーがビニルエステルを主とするものであることを特徴とする請求項1または請求項2のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。   The antireflective film according to claim 1, wherein the ethylenically unsaturated monomer is mainly a vinyl ester. 上記セルロースエステルドープ組成物が2つから3つのエチレン性不飽和基を有するエチレン性不飽和モノマーを含有することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to any one of claims 1 to 3, wherein the cellulose ester dope composition contains an ethylenically unsaturated monomer having 2 to 3 ethylenically unsaturated groups. . 上記官能基が紫外線吸収性基及び/または帯電防止性基であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to any one of claims 1 to 4, wherein the functional group is an ultraviolet absorbing group and / or an antistatic group. エポキシ基を有する化合物及び/またはエポキシ基と紫外線吸収性基を有する化合物及び光重合開始剤を含有するセルロースエステルドープ組成物を溶液流延製膜することにより形成されるセルロースエステルフィルムの上に、少なくともハードコート層を積層してなることを特徴とする反射防止フィルム。   On a cellulose ester film formed by solution casting a cellulose ester dope composition containing a compound having an epoxy group and / or a compound having an epoxy group and an ultraviolet absorbing group and a photopolymerization initiator, An antireflection film, comprising at least a hard coat layer. 上記セルロースエステルフィルムが、セルロースエステルと、上記エポキシ基を有する化合物及び/またはエポキシ基と紫外線吸収性基を有する化合物が重合してなる架橋ポリマーとのセミIPN(半相互貫入型網目構造)型ポリマーアロイ構造となっていることを特徴とする請求項6に記載の反射防止フィルム。   Semi-IPN (semi-interpenetrating network) type polymer in which the cellulose ester film is a cellulose ester and a crosslinked polymer obtained by polymerizing a compound having an epoxy group and / or a compound having an epoxy group and an ultraviolet absorbing group The antireflection film according to claim 6, which has an alloy structure. 上記セルロースエステルドープ組成物に、微粒子を含有することを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to any one of claims 1 to 7, wherein the cellulose ester dope composition contains fine particles. 該微粒子が、表面にメチル基を有する酸化ケイ素を含有する化合物からなることを特徴とする請求項8に記載の反射防止フィルム。   9. The antireflection film according to claim 8, wherein the fine particles are composed of a compound containing silicon oxide having a methyl group on the surface. ビニルエステル及びアクリル酸エステルから選ばれるエチレン性不飽和モノマー及び/または官能基を有するビニルエステル及びアクリル酸エステルから選ばれるモノマーを主とするエチレン性不飽和モノマーを重合したポリマーを含有するセルロースエステルドープ組成物を溶液流延製膜することにより形成されるセルロースエステルフィルムの上に、少なくともハードコート層を積層してなることを特徴とする反射防止フィルム。   Cellulose ester dope containing a polymer obtained by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer mainly composed of a monomer selected from vinyl ester and acrylic acid ester having a functional group and / or an ethylenically unsaturated monomer selected from vinyl ester and acrylic acid ester An antireflection film comprising a cellulose ester film formed by solution casting of a composition and at least a hard coat layer. 上記セルロースエステルフィルムが、セルロースエステルと、上記ビニルエステル及びアクリル酸エステルから選ばれるエチレン性不飽和モノマー及び/または官能基を有するビニルエステル及びアクリル酸エステルから選ばれるモノマーを主とするエチレン性不飽和モノマーを重合した架橋ポリマーとのセミIPN(半相互貫入型網目構造)型ポリマーアロイ構造となっていることを特徴とする請求項10に記載の反射防止フィルム。   The cellulose ester film is an ethylenically unsaturated monomer mainly composed of a cellulose ester and an ethylenically unsaturated monomer selected from the above vinyl esters and acrylic esters and / or a vinyl ester having a functional group and an acrylic ester. The antireflection film according to claim 10, which has a semi-IPN (semi-interpenetrating network structure) type polymer alloy structure with a crosslinked polymer obtained by polymerizing monomers. 上記官能基が紫外線吸収性基及び/または帯電防止性基であることを特徴とする請求項10または11に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 10 or 11, wherein the functional group is an ultraviolet absorbing group and / or an antistatic group. 上記セルロースエステルドープ組成物に、微粒子を含有することを特徴とする請求項10から12のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to any one of claims 10 to 12, wherein the cellulose ester dope composition contains fine particles. 該微粒子が、表面にメチル基を有する酸化ケイ素を含有する化合物からなることを特徴とする請求項13に記載の反射防止フィルム。   14. The antireflection film according to claim 13, wherein the fine particles are made of a compound containing silicon oxide having a methyl group on the surface. 上記ハードコート層の膜厚が2μm以上6μm以下であることを特徴とする、請求項1から請求項14のいずれか一項記載の反射防止フィルム。   The film thickness of the said hard-coat layer is 2 micrometers or more and 6 micrometers or less, The antireflection film as described in any one of Claims 1-14 characterized by the above-mentioned. 上記セルロースエステルフィルムの膜厚が40μm以上80μm未満であることを特徴とする、請求項1から請求項15のいずれか一項記載の反射防止フィルム。   The film thickness of the said cellulose-ester film is 40 micrometers or more and less than 80 micrometers, The antireflection film as described in any one of Claims 1-15 characterized by the above-mentioned. 上記ハードコート層が防眩性を持つことを特徴とする、請求項1から請求項16のいずれか一項記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to any one of claims 1 to 16, wherein the hard coat layer has an antiglare property. 上記ハードコート層の上に上記ハードコート層よりも屈折率の低い低屈折率層を塗設することを特徴とする、請求項1から請求項17のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to any one of claims 1 to 17, wherein a low refractive index layer having a lower refractive index than that of the hard coat layer is coated on the hard coat layer. 上記セルロースエステルフィルムが少なくとも基層と表層とを有する多層構造からなるセルロースエステルフィルムであって、表層にのみマット剤が添加されていることを特徴とする請求項1から18のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。   The cellulose ester film is a cellulose ester film having a multilayer structure having at least a base layer and a surface layer, and a matting agent is added only to the surface layer. Antireflection film. 前記表層表面の中心線平均粗さが0.01μm〜5μmである請求項19に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 19, wherein the surface layer has a center line average roughness of 0.01 μm to 5 μm. 前記表層表面の中心線平均粗さが0.1μm〜1μmである請求項19または請求項20に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 19 or 20, wherein the surface layer has a center line average roughness of 0.1 µm to 1 µm. マット剤として無機物粒子を用い、共流延法により無機物粒子を含む組成物を流延して表層を形成することで製造されたセルロースエステルフィルムを使用することを特徴とする、請求項19から請求項21のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。   The cellulose ester film produced by using inorganic particles as a matting agent and casting a composition containing inorganic particles by a co-casting method to form a surface layer is used. Item 22. The antireflection film according to any one of Items 21. マット剤として無機物粒子を用い、逐次流延法により無機物粒子を含む組成物を流延して表層を形成することで製造されたセルロースエステルフィルムを使用するっことを特徴とする、請求項19から請求項21のいずれか一項に記載の反射防止フィルム。   The cellulose ester film manufactured by using inorganic particles as a matting agent and casting a composition containing inorganic particles by a sequential casting method to form a surface layer is used. The antireflection film according to claim 21. 請求項1乃至9の何れか1項に記載のセルロースエステルドープ組成物を溶液流延製膜装置の無限移行する無端の金属支持体に流延してから乾燥装置でウェブの乾燥が終了するまでの間において、ウェブに紫外線を照射して作製されたセルロースエステルフィルムを使用することを特徴とする反射防止フィルム。   The cellulose ester dope composition according to any one of claims 1 to 9 is cast on an endless metal support that moves infinitely in a solution casting film forming apparatus, and then the drying of the web is completed by a drying apparatus. An antireflective film characterized by using a cellulose ester film produced by irradiating a web with ultraviolet rays. セルロースエステルドープ組成物を無限移行する無端の金属支持体に流延してから剥離までの間で紫外線を照射することで作製されたセルロースエステルフィルムを使用することを特徴とする、請求項24に記載の反射防止フィルム   The cellulose ester film produced by irradiating with ultraviolet rays between casting and peeling to an endless metal support that moves infinitely the cellulose ester dope composition is used according to claim 24. The antireflection film described 請求項10乃至14の何れか1項に記載のセルロースエステルドープ組成物を溶液流延製膜することにより作製されたセルロースエステルフィルムを使用することを特徴とする反射防止フィルム。   An antireflection film comprising a cellulose ester film produced by solution casting the cellulose ester dope composition according to any one of claims 10 to 14. 請求項1乃至26に記載の反射防止フィルムを用いたことを特徴とする偏光板。   A polarizing plate comprising the antireflection film according to claim 1. 偏光膜の一方の保護フィルムとして請求項1乃至26に記載の反射防止フィルムが用いられ、該偏光膜の他方の保護フィルムとして、該保護フィルムの厚み方向の位相差Rthが40nm〜−50nmであることを特徴とする偏光板。   27. The antireflection film according to claim 1 to 26 is used as one protective film of the polarizing film, and the thickness direction retardation Rth of the protective film is 40 nm to −50 nm as the other protective film of the polarizing film. A polarizing plate characterized by that. 偏光膜の一方の保護フィルムとして請求項1乃至26に記載の反射防止フィルムが用いられ、該偏光膜の他方の保護フィルムとして光学異方性のある光学補償フィルムが用いられていることを特徴とする偏光板。   The antireflection film according to claim 1 to 26 is used as one protective film of the polarizing film, and an optical compensation film having optical anisotropy is used as the other protective film of the polarizing film. Polarizing plate. 請求項1乃至請求項26に記載の反射防止フィルム、または、請求項27乃至請求項29に記載の偏光板が配置されていることを特徴とする画像表示装置。   An image display device comprising the antireflection film according to claim 1 or the polarizing plate according to claim 27 to 29.
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