JP2021133680A - Transfer sheet and laminate, method for manufacturing laminate, and image display device - Google Patents

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慶祐 小山
Keisuke Oyama
慶祐 小山
健太郎 秋山
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健太郎 秋山
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Abstract

To provide a transfer sheet and a laminate which can keep texture of an adherend good, have high surface hardness of a laminate, and can suppress occurrence of scratches.MEANS FOR SOLVING THE PROBLEM: A transfer sheet has a transfer layer on a peeling base material A, in which the transfer layer has an antireflection layer, a hard coat layer and an adhesive layer in this order form the side of the peeling base material A, and the adhesive layer contains a thermoplastic resin and an ionizing radiation curable resin composition.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、転写シート及び積層体、積層体の製造方法、画像表示装置に関する。 The present invention relates to a transfer sheet and a laminate, a method for manufacturing the laminate, and an image display device.

任意の被着体の表面に、反射防止性、防眩性、防汚性等の所定の機能を付与することが求められる場合がある。また、被着体がガラスの場合、表面に所定の機能を付与した後でも、ガラスが持つ、手で触れた際に感じる硬さや冷たさ等の質感、いわゆるコールドタッチが得られることが求められる。このような場合、例えば、被着体の表面に機能性塗料をスプレー等で直接塗装することによって、被着体の表面に所定の機能を付与する方法がある。 It may be required to impart predetermined functions such as antireflection, antiglare, and antifouling properties to the surface of an arbitrary adherend. Further, when the adherend is glass, it is required that the texture such as hardness and coldness that the glass has when touched by hand, that is, so-called cold touch, can be obtained even after the surface is given a predetermined function. .. In such a case, for example, there is a method of imparting a predetermined function to the surface of the adherend by directly applying a functional paint to the surface of the adherend by spraying or the like.

しかし、被着体の表面に機能性塗料を直接塗装する場合、塗装ムラにより機能にムラが生じる問題がある。 However, when the functional paint is directly applied to the surface of the adherend, there is a problem that the function becomes uneven due to the uneven coating.

上記の直接塗装の問題を解消するものとして、支持体上に機能層を有する機能性フィルムと、被着体とを一体化することによって、被着体の表面に所定の機能を付与された成形体が提案されている。例えば、特許文献1には、熱可塑性透明基材フィルムの一面に、ハードコート層と、高屈折率層と、低屈折率層とが、この順に積層されてなるインサート成型用耐指紋性反射防止フィルムを表面に備える樹脂成形体が提案されている。 In order to solve the above-mentioned problem of direct coating, a functional film having a functional layer on a support and an adherend are integrated to give a predetermined function to the surface of the adherend. The body is proposed. For example, Patent Document 1 states that a hard coat layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are laminated in this order on one surface of a thermoplastic transparent base film to prevent fingerprint resistance for insert molding. A resin molded body having a film on the surface has been proposed.

特開2016−020049号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-020049 特開2003−103680号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-103680

しかし、特許文献1に開示された樹脂成形体は、反射防止性は良好であるものの、被着体上に熱可塑性透明基材フィルム等の比較的膜厚の厚い層が存在するため、被着体が持つ質感を成形体表面に反映できず、コールドタッチを得ることができなった。 However, although the resin molded product disclosed in Patent Document 1 has good antireflection property, it is adhered because a relatively thick layer such as a thermoplastic transparent base film is present on the adherend. The texture of the body could not be reflected on the surface of the molded product, and a cold touch could not be obtained.

被着体の質感を損なわないためには、特許文献2のような反射防止用転写フィルムを用いる手段が考えられる。 In order not to impair the texture of the adherend, a means using an antireflection transfer film as in Patent Document 2 can be considered.

しかし、特許文献2のような反射防止用転写フィルムを用いて反射防止層を被着体に転写してなる積層体は、反射防止層に傷が生じ、生じた傷が目立つという問題が多発した。 However, in the laminated body obtained by transferring the antireflection layer to the adherend using the antireflection transfer film as in Patent Document 2, there are many problems that the antireflection layer is scratched and the generated scratches are conspicuous. ..

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、被着体がもつ質感を良好に保ち、さらに、積層体の表面硬度が高く、傷の発生を抑止し得る、転写シート及び積層体を提供することを課題とする。また、本発明は、当該積層体の製造方法を提供することを課題とする。また、本発明は、当該積層体を有する画像表示装置を提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and the transfer sheet and the laminate which can maintain a good texture of the adherend, have a high surface hardness of the laminate, and can suppress the occurrence of scratches. The challenge is to provide the body. Another object of the present invention is to provide a method for producing the laminated body. Another object of the present invention is to provide an image display device having the laminated body.

本発明者は、鋭意研究した結果、転写フィルムを用いて転写層を被着体に転写してなる積層体の傷は、接着層の硬度が低い場合に生じやすいこと、及び、転写層が反射防止層を有する場合には生じた傷が目立ちやすくなることを見出した。そしてさらに研究した結果、転写層として反射防止層を有してなる転写シートの接着層が、熱可塑性樹脂及び電離放射線硬化性樹脂を含むことにより、上記課題を解決するに至った。 As a result of diligent research, the present inventor has found that scratches on the laminate formed by transferring the transfer layer to the adherend using the transfer film are likely to occur when the hardness of the adhesive layer is low, and the transfer layer is reflected. It has been found that when the protective layer is provided, the scratches generated become more noticeable. As a result of further research, the above-mentioned problems have been solved by including the thermoplastic resin and the ionizing radiation curable resin in the adhesive layer of the transfer sheet having the antireflection layer as the transfer layer.

すなわち、本発明は下記[1]〜[7]を提供する。
[1]剥離基材A上に転写層を有する転写シートであって、前記転写層は、剥離基材A側から、反射防止層、ハードコート層及び接着層をこの順に有し、前記接着層が熱可塑性樹脂及び電離放射線硬化性樹脂組成物を含む、転写シート。
[2]前記接着層の熱可塑性樹脂の質量Mと電離放射線硬化性樹脂組成物の質量Mとの質量比M/Mが、0.10以上1.30以下である、[1]に記載の転写シート。
[3]ガラス基材上に、接着層、ハードコート層及び反射防止層をこの順に含み、前記接着層が熱可塑性樹脂及び電離放射線硬化性樹脂組成物を含む、積層体。
[4]前記接着層の熱硬化性樹脂の質量Mと電離放射線硬化性樹脂組成物の質量Mとの質量比M/Mが、0.10以上1.30以下である、[3]に記載の積層体。
[5]前記ガラス基材と前記接着層との間において、格子パターンの各方向でのカット数が11個、カットの間隔が1mmの条件で、JIS K 5600−5−6:1999に規定されるクロスカット法により実施された密着性の評価結果が、前記格子パターンで剥がれの確認できるクロスカット部分が5%未満である、[3]又は[4]に記載の積層体。
[6]下記(1)〜(4)の工程を有する積層体の製造方法。
(1)ガラス基材上に、[1]又は[2]に記載の転写シートを、前記転写シートの前記接着層側の面を接して重ね合わせる工程。
(2)前記転写シートの前記剥離基材A側から加熱及び加圧し、ガラス基材と前記転写シートの前記接着層を密着させる工程。
(3)密着させたガラス基材と前記転写シートから、前記転写シートの前記剥離基材Aを剥離し除去する工程。
(4)転写層の反射防止層側から、電離放射線を照射し、転写層の硬化を進行させる工程。
[7]表示素子上に、[3]〜[5]のいずれか1項に記載の積層体を有する、画像表示装置。
That is, the present invention provides the following [1] to [7].
[1] A transfer sheet having a transfer layer on the release base material A, wherein the transfer layer has an antireflection layer, a hard coat layer, and an adhesive layer in this order from the release base material A side, and the adhesive layer. Is a transfer sheet containing a thermoplastic resin and an ionizing radiation curable resin composition.
[2] The mass ratio M B / M A of the mass M B of the mass M A and the ionizing radiation curable resin composition of the thermoplastic resin of the adhesive layer is 0.10 or more 1.30 or less, [1 ] The transfer sheet described in.
[3] A laminate in which an adhesive layer, a hard coat layer, and an antireflection layer are contained in this order on a glass substrate, and the adhesive layer contains a thermoplastic resin and an ionizing radiation curable resin composition.
[4] The mass ratio M B / M A of the mass M B of the mass M A and the ionizing radiation curable resin composition of the thermosetting resin of the adhesive layer is 0.10 or more 1.30 or less, [ 3].
[5] JIS K 5600-5-6: 1999 under the condition that the number of cuts in each direction of the lattice pattern is 11 and the cut interval is 1 mm between the glass base material and the adhesive layer. The laminate according to [3] or [4], wherein the evaluation result of the adhesiveness carried out by the cross-cut method shows that the cross-cut portion where peeling can be confirmed in the lattice pattern is less than 5%.
[6] A method for producing a laminate having the following steps (1) to (4).
(1) A step of superimposing the transfer sheet according to [1] or [2] on a glass base material in contact with the surface of the transfer sheet on the adhesive layer side.
(2) A step of heating and pressurizing from the peeling base material A side of the transfer sheet to bring the glass base material and the adhesive layer of the transfer sheet into close contact with each other.
(3) A step of peeling and removing the peeling base material A of the transfer sheet from the glass base material and the transfer sheet that are in close contact with each other.
(4) A step of irradiating ionizing radiation from the antireflection layer side of the transfer layer to promote curing of the transfer layer.
[7] An image display device having the laminate according to any one of [3] to [5] on the display element.

本発明によれば、被着体がもつ質感を良好に保ち、さらに、積層体の表面硬度が高く、傷の発生を抑止し得る、転写シート、積層体及び画像表示装置を提供することができる。また、本発明によれば、当該積層体を簡易に製造することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a transfer sheet, a laminate, and an image display device that can maintain a good texture of an adherend, have a high surface hardness of the laminate, and can suppress the occurrence of scratches. .. Further, according to the present invention, the laminated body can be easily manufactured.

本発明の転写シートの一実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the transfer sheet of this invention. 本発明の積層体の一実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the laminated body of this invention.

[転写シート]
本発明の転写シートは、剥離基材A上に転写層を有する転写シートであって、前記転写層は、剥離基材A側から、反射防止層、ハードコート層及び接着層をこの順に有し、前記接着層が電離放射線硬化性樹脂組成物及び熱可塑性樹脂を含むことを特徴としている。
[Transfer sheet]
The transfer sheet of the present invention is a transfer sheet having a transfer layer on the release base material A, and the transfer layer has an antireflection layer, a hard coat layer and an adhesive layer in this order from the release base material A side. The adhesive layer is characterized by containing an ionizing radiation curable resin composition and a thermoplastic resin.

本発明の転写シートの接着層に含まれる電離放射性樹脂組成物とは、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物、及び電離放射線硬化性樹脂組成物の未硬化物を含むものをいう。
本発明の転写シートの接着層に含まれる電離放射線硬化性樹脂組成物において、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は、50質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましく、90質量%以上がさらに好ましい。
The ionizing radioactive resin composition contained in the adhesive layer of the transfer sheet of the present invention refers to a cured product of the ionizing radiation curable resin composition and an uncured product of the ionizing radiation curable resin composition.
In the ionizing radiation curable resin composition contained in the adhesive layer of the transfer sheet of the present invention, the ratio of the cured product of the ionizing radiation curable resin composition is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and 90% by mass or more. More preferably by mass% or more.

上記特徴を有することにより、本発明の転写シートを用いた積層体は、被着体がもつ質感を良好に保ち、さらに、積層体の表面硬度が高く、傷の発生を抑止できる被着体となる。 By having the above characteristics, the laminate using the transfer sheet of the present invention maintains a good texture of the adherend, and further, the surface hardness of the laminate is high, and the laminate can suppress the occurrence of scratches. Become.

図1は、本発明の転写シートの一実施形態を示す断面図である。図1の転写シート1は、剥離基材A10上に転写層100を有し、転写層100は剥離基材A10に接する側から順に、反射防止層20、ハードコート層30、及び接着層40を有している。
図1の転写シート1は、図示はしないが、転写シート1を構成する各層の密着性を向上させるために、層と層との間に、アンカー層を有してもよい。また、図示はしないが、図1の転写シート1は、接着層の剥離基材Aとは反対の面に、さらに剥離基材Bを有してもよい。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of the transfer sheet of the present invention. The transfer sheet 1 of FIG. 1 has a transfer layer 100 on the release base material A10, and the transfer layer 100 has an antireflection layer 20, a hard coat layer 30, and an adhesive layer 40 in this order from the side in contact with the release base material A10. Have.
Although not shown, the transfer sheet 1 of FIG. 1 may have an anchor layer between the layers in order to improve the adhesion of each layer constituting the transfer sheet 1. Further, although not shown, the transfer sheet 1 of FIG. 1 may further have a release base material B on a surface opposite to the release base material A of the adhesive layer.

[剥離基材A]
剥離基材Aは、転写シートを構成する層において、転写層と剥離可能に積層された層である。
剥離基材Aは、転写工程での加工性を向上させるため、転写層と剥離可能に積層でき、かつ耐熱性を有するプラスチックフィルムが好ましい。
剥離基材Aとして用いるプラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン6又はナイロン66等のポリアミド系樹脂、ポリイミド樹脂、オレフィン樹脂等が挙げられ、この中ではポリエステル樹脂を用いることが好ましく、ポリエチレンテレフタレートを用いることが特に好ましい。
[Release base material A]
The release base material A is a layer that is releasably laminated with the transfer layer in the layer constituting the transfer sheet.
The release base material A is preferably a plastic film that can be peelably laminated with the transfer layer and has heat resistance in order to improve processability in the transfer step.
Examples of the plastic film used as the release base material A include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polybutylene terephthalate, polyamide resins such as nylon 6 or nylon 66, polyimide resins, and olefin resins. It is preferable to use polyester resin, and it is particularly preferable to use polyethylene terephthalate.

剥離基材Aに用いられるプラスチックフィルムは、加工性を向上させるため、JIS C 2318:1997の5.3.4(寸法変化)に準拠して測定した、100℃、30分の加熱収縮率が±1.5%以内が好ましく、±1.0%以内がより好ましく、±0.5%以内がさらに好ましい。プラスチックフィルムの加熱収縮率は、全ての方向において前記範囲であることが好ましい。
プラスチックフィルムの加熱収縮率が上記範囲であることで、転写層を被着体に転写する工程で、加熱した際に、剥離基材Aの変形を抑制しやすくでき、転写層(特に、無機膜の反射防止層)にクラックが生じることを防ぎやすくなる。
尚、加熱収縮率は、JIS C 2318:1997の5.3.4(寸法変化)に準拠して試験片に印を設け、加熱前の印の間隔(A)及び、100℃、30分で加熱処理後の印の間隔(B)を測定し、下記の式により求められる。
熱収縮率(%)=(A−B)/A×100
The plastic film used for the release base material A has a heat shrinkage rate of 100 ° C. for 30 minutes measured in accordance with JIS C 2318: 1997 5.3.4 (dimensional change) in order to improve workability. It is preferably within ± 1.5%, more preferably within ± 1.0%, and even more preferably within ± 0.5%. The heat shrinkage rate of the plastic film is preferably in the above range in all directions.
When the heat shrinkage rate of the plastic film is within the above range, it is possible to easily suppress the deformation of the release base material A when heated in the step of transferring the transfer layer to the adherend, and the transfer layer (particularly, the inorganic film) can be easily suppressed. It becomes easier to prevent cracks from occurring in the antireflection layer).
The heat shrinkage rate is determined by marking the test piece in accordance with JIS C 2318: 1997 5.3.4 (dimensional change), and at the mark interval (A) before heating and at 100 ° C. for 30 minutes. The mark interval (B) after the heat treatment is measured and calculated by the following formula.
Heat shrinkage rate (%) = (AB) / A × 100

剥離基材Aの厚みは特に限定されないが、取り扱い性を向上させるため、10μm以上200μm以下であることが好ましく、20μm以上150μm以下であることがより好ましく、30μm以上100μm以下であることがさらに好ましい。 The thickness of the release base material A is not particularly limited, but in order to improve handleability, it is preferably 10 μm or more and 200 μm or less, more preferably 20 μm or more and 150 μm or less, and further preferably 30 μm or more and 100 μm or less. ..

剥離基材Aは、転写工程を経て、剥離基材Aを転写層から剥離するまでに、剥離基材Aが転写層から剥がれない必要があるため、転写層と接する面に粘着層を有することが好ましい。粘着層は転写層と剥離可能に積層できれば特に制限されることはなく、公知の粘着剤を用いることができる。 The peeling base material A needs to have an adhesive layer on the surface in contact with the transfer layer because the peeling base material A needs not to be peeled off from the transfer layer before the peeling base material A is peeled off from the transfer layer through the transfer step. Is preferable. The adhesive layer is not particularly limited as long as it can be detachably laminated with the transfer layer, and a known adhesive can be used.

剥離基材Aの粘着層を構成する粘着剤としては、アクリル系、ウレタン系、シリコーン系、ゴム系等の粘着剤を適宜選択して用いることができる。粘着剤は、耐熱性を良好にするため、アクリル系又はシリコーン系が好ましい。 As the pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer of the release base material A, an acrylic-based, urethane-based, silicone-based, rubber-based, or other pressure-sensitive adhesive can be appropriately selected and used. The pressure-sensitive adhesive is preferably an acrylic type or a silicone type in order to improve heat resistance.

剥離基材Aの粘着層の厚みは特に制限されないが、転写層との剥離性及び密着性のバランスを向上させるため、1μm以上30μm以下が好ましく、3μm以上20μm以下がより好ましく、5μm以上15μm以下がさらに好ましい。 The thickness of the adhesive layer of the release base material A is not particularly limited, but in order to improve the balance between the peelability and the adhesiveness with the transfer layer, it is preferably 1 μm or more and 30 μm or less, more preferably 3 μm or more and 20 μm or less, and 5 μm or more and 15 μm or less. Is even more preferable.

剥離基材Aと転写層との間の剥離強度は、100mN/25mm以上600mN/25mm以下が好ましく、120mN/25mm以上500mN/25mm以下がより好ましく、140mN/25mm以上400mN/25mm以下がさらに好ましい。
剥離基材Aと転写層との間の剥離強度を100mN/25mm以上とすることで、剥離基材Aを転写層から剥離するまでに、意図せず剥離基材Aが剥がれることを防ぎやすくなる。また、剥離基材Aと転写層との間の剥離強度を400mN/25mm以下とすることで、転写層から剥離基材Aを剥離する際、転写層及び粘着層が、凝集破壊及び界面剥離を抑止しやすくなる。
The peel strength between the release base material A and the transfer layer is preferably 100 mN / 25 mm or more and 600 mN / 25 mm or less, more preferably 120 mN / 25 mm or more and 500 mN / 25 mm or less, and further preferably 140 mN / 25 mm or more and 400 mN / 25 mm or less.
By setting the peel strength between the peeling base material A and the transfer layer to 100 mN / 25 mm or more, it becomes easy to prevent the peeling base material A from being unintentionally peeled off before the peeling base material A is peeled off from the transfer layer. .. Further, by setting the peel strength between the release base material A and the transfer layer to 400 mN / 25 mm or less, when the release base material A is peeled from the transfer layer, the transfer layer and the adhesive layer undergo cohesive failure and interfacial peeling. It becomes easier to deter.

本明細書において、剥離強度は、JIS Z 0237:2009の180度剥離試験に準拠して測定できる。尚、剥離強度を測定する雰囲気は、23℃、湿度40%以上65%以下とすることが好ましい。また、剥離強度を測定する前に、サンプルを前記雰囲気に30分馴染ませることが好ましい。測定は、1サンプルにつき3回実施し、その平均値を剥離強度とする。 In the present specification, the peel strength can be measured according to the 180 degree peel test of JIS Z 0237: 2009. The atmosphere for measuring the peel strength is preferably 23 ° C. and a humidity of 40% or more and 65% or less. Further, it is preferable to allow the sample to acclimatize to the atmosphere for 30 minutes before measuring the peel strength. The measurement is carried out three times per sample, and the average value is taken as the peel strength.

[転写層]
転写層は、被着体に転写される層であり、被着体の表面に所定の機能を付与する役割を有する。
本発明の転写シートの転写層は、少なくとも反射防止層、ハードコート層、及び接着層をこの順に含む。
[Transfer layer]
The transfer layer is a layer that is transferred to the adherend, and has a role of imparting a predetermined function to the surface of the adherend.
The transfer layer of the transfer sheet of the present invention includes at least an antireflection layer, a hard coat layer, and an adhesive layer in this order.

転写層は、さらに他の機能層を有してもよい。他の機能層としては、防眩層、防汚層、応力緩和層、帯電防止層、ガスバリア層、防曇層及び透明導電層等が挙げられる。 The transfer layer may further have another functional layer. Examples of other functional layers include an antiglare layer, an antifouling layer, a stress relaxation layer, an antistatic layer, a gas barrier layer, an antifog layer, a transparent conductive layer and the like.

また、転写層に含まれる反射防止層、ハードコート層、接着層及び他の機能層は、前述した機能の二つ以上が複合したものであってもよい。 Further, the antireflection layer, the hard coat layer, the adhesive layer and the other functional layer included in the transfer layer may be a composite of two or more of the above-mentioned functions.

転写層は、転写層を構成する層の層間の密着性を向上させるために、転写層を構成する層と層との間に、さらにアンカー層等を有してもよい。 The transfer layer may further have an anchor layer or the like between the layers constituting the transfer layer in order to improve the adhesion between the layers constituting the transfer layer.

転写層の総厚みは、3μm以上30μm以下が好ましく、5μm以上21μm以下がより好ましく、7μm以上15μm以下がさらに好ましい。転写層の総厚みが3μm以上であることで、接着層、ハードコート層及び反射防止層の、所定の厚みを確保できる。転写層の総厚みを30μm以下とすることで、転写層を転写後の積層体において、手で触れた際の、被着体の質感を維持しやすくできる。 The total thickness of the transfer layer is preferably 3 μm or more and 30 μm or less, more preferably 5 μm or more and 21 μm or less, and further preferably 7 μm or more and 15 μm or less. When the total thickness of the transfer layer is 3 μm or more, a predetermined thickness of the adhesive layer, the hard coat layer and the antireflection layer can be secured. By setting the total thickness of the transfer layer to 30 μm or less, it is possible to easily maintain the texture of the adherend when the transfer layer is touched by hand in the laminated body after transfer.

(反射防止層)
反射防止層は、転写シートの転写層を構成する層において、被着体表面に、反射防止機能を付与する機能を有する。
(Anti-reflective layer)
The antireflection layer has a function of imparting an antireflection function to the surface of the adherend in the layer constituting the transfer layer of the transfer sheet.

反射防止層は、少なくとも1層以上の低屈折率層を含む。反射防止層に低屈折率層を含むことで、本発明の転写シートは、積層体の表面に反射防止機能を付与できる。 The antireflection layer includes at least one or more low refractive index layers. By including the low refractive index layer in the antireflection layer, the transfer sheet of the present invention can impart an antireflection function to the surface of the laminated body.

反射防止層は、更に高屈折率層を1層以上含むことが好ましい。反射防止層が高屈折率層を含む場合は、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されていることが好ましい。低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層されていることにより、反射防止効果がより高まる。
尚、低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層する際、反射防止層の中で、低屈折率層を転写シートの剥離基材Aに最も近くなる側に配置することが好ましい。低屈折率層を剥離基材Aに最も近くなる側に配置することで、積層体を形成時、低屈折率層を積層体の最表面に形成できるため、積層体表面と空気との屈折率差を小さくでき、積層体の反射防止効果が高まりやすくなる。
The antireflection layer preferably further contains one or more high refractive index layers. When the antireflection layer includes a high refractive index layer, it is preferable that the low refractive index layer and the high refractive index layer are alternately laminated. By alternately stacking the low refractive index layer and the high refractive index layer, the antireflection effect is further enhanced.
When the low refractive index layer and the high refractive index layer are alternately laminated, it is preferable to arrange the low refractive index layer on the side closest to the peeling base material A of the transfer sheet in the antireflection layer. By arranging the low refractive index layer on the side closest to the release base material A, the low refractive index layer can be formed on the outermost surface of the laminated body at the time of forming the laminated body, so that the refractive index between the surface of the laminated body and air The difference can be reduced, and the antireflection effect of the laminated body can be easily enhanced.

反射防止層は1層以上の低屈折率層と、1層以上の高屈折率層からなる計2層以上であることが好ましく、2層以上の低屈折率層と、2層以上の高屈折率層からなる計4層以上であることがより好ましく、3層の低屈折率層と、2層の高屈折率層とからなる計5層であることが特に好ましい。
反射防止層を後述の塗布等のウェット法により形成する場合、反射防止層は、1層の低屈折率層からなる単層、又は、1層の低屈折率層と1層の高屈折率層からなる計2層で、構成されていることが好ましい。また、反射防止層を後述のスパッタリング等のドライ法で形成する場合、3層の低屈折率層と、2層の高屈折率層とからなる計5層であることが好ましい。
反射防止層を1層以上の低屈折率層と1層以上の高屈折率層からなる多層にすることで、反射防止効果がより高まる。
The antireflection layer is preferably a total of two or more layers consisting of one or more low refractive index layers and one or more high refractive index layers, and is preferably two or more low refractive index layers and two or more high refractive index layers. A total of four or more layers composed of rate layers is more preferable, and a total of five layers including three low refractive index layers and two high refractive index layers is particularly preferable.
When the antireflection layer is formed by a wet method such as coating described later, the antireflection layer is a single layer composed of one low refractive index layer, or one low refractive index layer and one high refractive index layer. It is preferably composed of a total of two layers. Further, when the antireflection layer is formed by a dry method such as sputtering described later, it is preferable that the antireflection layer is a total of five layers including three low refractive index layers and two high refractive index layers.
By forming the antireflection layer into a multi-layer composed of one or more low refractive index layers and one or more high refractive index layers, the antireflection effect is further enhanced.

反射防止層の総厚みは、反射防止層の層数により異なるため一概にはいえないが、50nm以上720nm以下が好ましく、70nm以上600nm以下がより好ましく、80nm以上520nm以下がさらに好ましく、100nm以上300nm以下が特に好ましい。
反射防止層の総厚みを上記範囲にすることで、積層体の表面に、反射防止機能を好適に付与できる。
The total thickness of the antireflection layer varies depending on the number of layers of the antireflection layer and cannot be unequivocally determined. The following are particularly preferred.
By setting the total thickness of the antireflection layer in the above range, the antireflection function can be suitably imparted to the surface of the laminated body.

―低屈折率層―
低屈折率層の屈折率は、1.10以上1.48以下が好ましく、1.20以上1.45以下がより好ましく、1.26以上1.40以下がより好ましく、1.28以上1.38以下がより好ましく、1.30以上1.32以下がより好ましい。
また、低屈折率層の厚みは、8nm以上120nm以下が好ましく、15nm以上110nm以下がより好ましく、20nm以上105nm以下がより好ましい。
-Low refractive index layer-
The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.10 or more and 1.48 or less, more preferably 1.20 or more and 1.45 or less, more preferably 1.26 or more and 1.40 or less, and 1.28 or more and 1. 38 or less is more preferable, and 1.30 or more and 1.32 or less are more preferable.
The thickness of the low refractive index layer is preferably 8 nm or more and 120 nm or less, more preferably 15 nm or more and 110 nm or less, and more preferably 20 nm or more and 105 nm or less.

低屈折率層を形成する手法としては、ウェット法とドライ法とに大別できる。ウェット法としては、金属アルコキシド等を用いてゾルゲル法により形成する手法、フッ素樹脂のような低屈折率の樹脂を塗工して形成する手法、樹脂組成物に低屈折率粒子を含有させた低屈折率層形成用塗布液を塗工して形成する手法が挙げられる。ドライ法としては、後述する低屈折率粒子の中から所望の屈折率を有する粒子を選び、物理気相成長法又は化学気相成長法、スパッタリングにより形成する手法が挙げられる。
ウェット法は、生産効率、斜め反射色相の抑制、及び耐薬品性の点で、ドライ法よりも優れている。本発明においては、ウェット法の中でも、密着性、耐水性及び耐擦傷性を向上させ、また、低屈折率化をするために、バインダー樹脂組成物に低屈折率粒子を含有させた低屈折率層形成用塗布液により形成することが好ましい。低屈折率層のバインダー樹脂組成物としては、例えば硬化性樹脂組成物を用いることができ、後述する接着層で例示する電離放射線硬化性樹脂組成物を用いることが好ましい。
The method for forming the low refractive index layer can be roughly divided into a wet method and a dry method. As the wet method, a method of forming by a sol-gel method using a metal alkoxide or the like, a method of forming by coating a resin having a low refractive index such as a fluororesin, or a low refractive index particles contained in a resin composition. A method of forming by applying a coating liquid for forming a refractive index layer can be mentioned. Examples of the dry method include a method of selecting particles having a desired refractive index from low refractive index particles, which will be described later, and forming them by a physical vapor deposition method, a chemical vapor deposition method, or sputtering.
The wet method is superior to the dry method in terms of production efficiency, suppression of obliquely reflected hue, and chemical resistance. In the present invention, even in the wet method, a low refractive index in which low refractive index particles are contained in a binder resin composition in order to improve adhesion, water resistance and scratch resistance, and to reduce the refractive index. It is preferably formed with a layer-forming coating liquid. As the binder resin composition of the low refractive index layer, for example, a curable resin composition can be used, and it is preferable to use the ionizing radiation curable resin composition exemplified by the adhesive layer described later.

低屈折率層は、低屈折率層の屈折率を低くし、上記屈折率の範囲とするために、中空粒子を含むことが好ましい。また、積層体の表面硬度を高くし、耐擦傷性を向上させるために、非中空粒子を含むことが好ましい。
中空粒子及び非中空粒子の材質は、シリカ及びフッ化マグネシウムなどの無機化合物、有機化合物のいずれであっても良いが、低屈折率化し、また、強度を向上させるために、シリカが好ましい。以下、中空シリカ粒子及び非中空シリカ粒子中心に説明する。
The low refractive index layer preferably contains hollow particles in order to lower the refractive index of the low refractive index layer and bring it within the above refractive index range. Further, in order to increase the surface hardness of the laminate and improve the scratch resistance, it is preferable to contain non-hollow particles.
The material of the hollow particles and the non-hollow particles may be any of an inorganic compound such as silica and magnesium fluoride, and an organic compound, but silica is preferable in order to lower the refractive index and improve the strength. Hereinafter, the center of hollow silica particles and non-hollow silica particles will be described.

中空シリカ粒子とは、シリカからなる外殻層を有し、当該外殻層に囲まれた粒子内部が空洞であり、該空洞内部に空気を含む粒子をいう。中空シリカ粒子は、空気を含むことにより、シリカ本来の屈折率に比べて気体の占有率に比例して屈折率が低下する粒子である。非中空シリカ粒子とは、中空シリカ粒子のように内部が空洞となっていない粒子である。非中空シリカ粒子は、例えば中実のシリカ粒子である。
中空シリカ粒子及び非中空シリカ粒子の形状は、特に限定はなく、真球状、回転楕円体状、及び、球体に近似できる多面体形状等の略球状などであってもよい。なかでも、耐擦傷性を考慮すると、真球状、回転楕円体状または略球状であることが好ましい。
Hollow silica particles refer to particles having an outer shell layer made of silica, the inside of the particles surrounded by the outer shell layer is a cavity, and the inside of the cavity contains air. Hollow silica particles are particles whose refractive index decreases in proportion to the gas occupancy rate as compared with the original refractive index of silica due to the inclusion of air. Non-hollow silica particles are particles that are not hollow inside, such as hollow silica particles. The non-hollow silica particles are, for example, solid silica particles.
The shapes of the hollow silica particles and the non-hollow silica particles are not particularly limited, and may be a spherical shape, a spheroidal shape, or a substantially spherical shape such as a polyhedral shape that can be approximated to a sphere. Among them, in consideration of scratch resistance, it is preferably a true sphere, a spheroid, or a substantially sphere.

中空シリカ粒子は、内部に空気を含むことから、低屈折率層全体の屈折率を低下させる役割を果たす。空気の比率を高めた粒子径の大きい中空シリカ粒子を用いることにより、低屈折率層の屈折率をより低下できる。一方で、中空シリカ粒子は、機械的強度に劣る傾向がある。特に、空気の比率を高めた粒子径の大きい中空シリカ粒子を用いた場合、低屈折率層の耐擦傷性を低下させやすい傾向がある。
非中空シリカ粒子は、バインダー樹脂中に分散することにより、低屈折率層の耐擦傷性を向上させる役割を果たす。
Since the hollow silica particles contain air inside, they play a role of lowering the refractive index of the entire low refractive index layer. By using hollow silica particles having a large particle size with an increased proportion of air, the refractive index of the low refractive index layer can be further reduced. On the other hand, hollow silica particles tend to be inferior in mechanical strength. In particular, when hollow silica particles having a large particle size with an increased proportion of air are used, the scratch resistance of the low refractive index layer tends to be lowered.
The non-hollow silica particles play a role of improving the scratch resistance of the low refractive index layer by dispersing in the binder resin.

中空シリカ粒子及び非中空シリカ粒子を高濃度でバインダー樹脂中に含有させつつ、粒子を樹脂内で膜厚方向に均一に分散させるには、中空シリカ粒子の間が近接し、更に、中空シリカ粒子の間に非中空粒子が入り込めるように、中空シリカ粒子の平均粒子径及び非中空シリカ粒子の平均粒子径を設定することが好ましい。具体的に、中空シリカ粒子の平均粒子径に対する非中空シリカ粒子の平均粒子径の比(非中空シリカ粒子の平均粒子径/中空シリカ粒子の平均粒子径)は、0.29以下であることが好ましく、0.20以下であることがより好ましい。また、該平均粒子径の比は、0.05以上であることが好ましい。光学的特性および機械的強度を考慮すると、中空シリカ粒子の平均粒子径は、30nm以上100nm以下であることが好ましく、50nm以上80nm以下であることがより好ましい。また、非中空シリカ粒子の凝集を防止しつつ分散性を考慮すると、非中空シリカ粒子の平均粒子径は、5nm以上20nm以下であることが好ましく、10nm以上15nm以下であることがより好ましい。 In order to contain the hollow silica particles and the non-hollow silica particles in the binder resin at a high concentration and uniformly disperse the particles in the resin in the film thickness direction, the hollow silica particles are close to each other, and the hollow silica particles are further arranged. It is preferable to set the average particle size of the hollow silica particles and the average particle size of the non-hollow silica particles so that the non-hollow particles can be inserted between the two. Specifically, the ratio of the average particle size of the non-hollow silica particles to the average particle size of the hollow silica particles (average particle size of the non-hollow silica particles / average particle size of the hollow silica particles) is 0.29 or less. It is preferably 0.20 or less, and more preferably 0.20 or less. Moreover, the ratio of the average particle diameter is preferably 0.05 or more. Considering the optical characteristics and the mechanical strength, the average particle size of the hollow silica particles is preferably 30 nm or more and 100 nm or less, and more preferably 50 nm or more and 80 nm or less. Further, considering the dispersibility while preventing the agglomeration of the non-hollow silica particles, the average particle size of the non-hollow silica particles is preferably 5 nm or more and 20 nm or less, and more preferably 10 nm or more and 15 nm or less.

中空シリカ粒子及び非中空シリカ粒子は、表面がシランカップリング剤で被覆されていることが好ましい。(メタ)アクリロイル基又はエポキシ基を有するシランカップリング剤を用いることがより好ましい。
シリカ粒子にシランカップリング剤による表面処理を施すことにより、シリカ粒子とバインダー樹脂との親和性が向上し、シリカ粒子の凝集が生じにくくなる。このため、シリカ粒子の分散が均一となりやすい。
The surfaces of the hollow silica particles and the non-hollow silica particles are preferably coated with a silane coupling agent. It is more preferable to use a silane coupling agent having a (meth) acryloyl group or an epoxy group.
By subjecting the silica particles to a surface treatment with a silane coupling agent, the affinity between the silica particles and the binder resin is improved, and the aggregation of the silica particles is less likely to occur. Therefore, the dispersion of silica particles tends to be uniform.

シランカップリング剤としては、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、トリス−(トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、1,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン及びビニルトリエトキシシラン等が挙げられる。特に、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、及び、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシランから選ばれる1種以上を用いることが好ましい。 Examples of the silane coupling agent include 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, and 3-acryloxypropyltri. Methoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3 -Glysidoxypropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane , 3-Aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, Tris- (trimethoxysilylpropyl) isocia Nurate, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanuppropyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, Phenyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, 1,6-bis (trimethoxysilyl) hexane , Trifluoropropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane and the like. In particular, one or more selected from 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, and 3-methacryloxypropyltriethoxysilane may be used. preferable.

中空シリカ粒子の含有量が多くなるほど、バインダー樹脂中の中空シリカ粒子の充填率が高くなり、低屈折率層の屈折率が低下する。このため、中空シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂100質量部に対して100質量部以上であることが好ましく、150質量部以上であることがより好ましい。
一方で、バインダー樹脂に対する中空シリカ粒子の含有量が多すぎると、バインダー樹脂から露出する中空シリカ粒子が増加する上、粒子間を結合するバインダー樹脂が少なくなる。このため、中空シリカ粒子が損傷したり、脱落したりしやすくなって、低屈折率層の耐擦傷性等の機械的強度が低下する傾向がある。また、中空シリカ粒子の含有量が多すぎると、転写適性が損なわれる傾向がある。このため、中空シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂100質量部に対して300質量部以下であることが好ましく、200質量部以下であることがより好ましい。
As the content of the hollow silica particles increases, the filling rate of the hollow silica particles in the binder resin increases, and the refractive index of the low refractive index layer decreases. Therefore, the content of the hollow silica particles is preferably 100 parts by mass or more, and more preferably 150 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the binder resin.
On the other hand, if the content of the hollow silica particles with respect to the binder resin is too large, the number of hollow silica particles exposed from the binder resin increases and the amount of the binder resin bonded between the particles decreases. For this reason, the hollow silica particles tend to be easily damaged or fall off, and the mechanical strength such as scratch resistance of the low refractive index layer tends to decrease. Further, if the content of the hollow silica particles is too large, the transferability tends to be impaired. Therefore, the content of the hollow silica particles is preferably 300 parts by mass or less, and more preferably 200 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the binder resin.

非中空シリカ粒子の含有量が少ないと、低屈折率層の表面に非中空シリカ粒子が存在していても硬度上昇に影響を及ぼさないことがある。また、非中空シリカ粒子を多量に含有すると、バインダー樹脂の重合による収縮ムラの影響を小さくし、樹脂硬化後に低屈折率層表面に発生する凹凸を小さくできる。このため、非中空シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂100質量部に対して90質量部以上であることが好ましく、100質量部以上であることがより好ましい。
一方で、非中空シリカ粒子の含有量が多すぎると、非中空シリカが凝集しやすくなり、バインダー樹脂の収縮ムラが生じ、表面の凹凸が大きくなる。また、非中空シリカ粒子の含有量が多すぎると、転写適性が損なわれる傾向がある。このため、非中空シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂100質量部に対して200質量部以下であることが好ましく、150質量部以下であることがより好ましい。
If the content of the non-hollow silica particles is low, even if the non-hollow silica particles are present on the surface of the low refractive index layer, they may not affect the increase in hardness. Further, when a large amount of non-hollow silica particles are contained, the influence of shrinkage unevenness due to the polymerization of the binder resin can be reduced, and the unevenness generated on the surface of the low refractive index layer after the resin is cured can be reduced. Therefore, the content of the non-hollow silica particles is preferably 90 parts by mass or more, and more preferably 100 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the binder resin.
On the other hand, if the content of the non-hollow silica particles is too large, the non-hollow silica tends to aggregate, causing uneven shrinkage of the binder resin and increasing surface irregularities. Further, if the content of the non-hollow silica particles is too large, the transferability tends to be impaired. Therefore, the content of the non-hollow silica particles is preferably 200 parts by mass or less, and more preferably 150 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the binder resin.

低屈折率層のバインダー樹脂組成物は、硬化性樹脂組成物を含むことが好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物を含むことがより好ましい。低屈折率層のバインダー樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性樹脂組成物は、例えば、後述する接着層で例示した電離放射線硬化性樹脂組成物を用いることができる。 The binder resin composition of the low refractive index layer preferably contains a curable resin composition, and more preferably contains an ionizing radiation curable resin composition. As the ionizing radiation curable resin composition contained in the binder resin composition of the low refractive index layer, for example, the ionizing radiation curable resin composition exemplified in the adhesive layer described later can be used.

低屈折率層中には、防汚性及び表面平滑性を向上させるために、レベリング剤を含むことが好ましい。
レベリング剤は、フッ素系及びシリコーン系が挙げられるが、フッ素系が好ましい。フッ素系レベリング剤を含むことにより、低屈折率層表面をより平滑にできる。更に、低屈折率層表面の滑り性及び防汚性(指紋拭き取り性、純水及びヘキサデカンに対する大きな接触角)を良好にできる。
The low refractive index layer preferably contains a leveling agent in order to improve antifouling property and surface smoothness.
Examples of the leveling agent include fluorine-based and silicone-based, but fluorine-based agents are preferable. By including a fluorine-based leveling agent, the surface of the low refractive index layer can be made smoother. Further, the slipperiness and antifouling property (fingerprint wiping property, large contact angle with pure water and hexadecane) of the surface of the low refractive index layer can be improved.

レベリング剤の含有量は、低屈折率層に含まれる硬化性樹脂100質量部に対して、0.15質量部以上35.0質量部以下であることが好ましく、0.20質量部以上30.0質量部以下であることがより好ましく、0.25質量部以上25.0質量部以下であることがさらに好ましい。レベリング剤の含有量を0.15質量部以上とすることによって、ハードコート層の表面を平滑にしやすくなり、滑り性及び防汚性を良好にできる。また、レベリング剤の含有量を35.0質量部以下とすることによって、低屈折率層の硬度の低下を抑制できる。 The content of the leveling agent is preferably 0.15 parts by mass or more and 35.0 parts by mass or less, and 0.20 parts by mass or more and 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable resin contained in the low refractive index layer. It is more preferably 0 parts by mass or less, and further preferably 0.25 parts by mass or more and 25.0 parts by mass or less. By setting the content of the leveling agent to 0.15 parts by mass or more, the surface of the hard coat layer can be easily smoothed, and the slipperiness and antifouling property can be improved. Further, by setting the content of the leveling agent to 35.0 parts by mass or less, it is possible to suppress a decrease in the hardness of the low refractive index layer.

―高屈折率層―
高屈折率層の屈折率は、1.53以上2.50以下が好ましく、1.54以上2.40以下がより好ましく、1.55以上2.30以下がさらに好ましく、1.56以上2.25以下が特に好ましい。
また、高屈折率層の厚みは、200nm以下が好ましく、10nm以上180nm以下がより好ましく、20nm以上150nm以下がさらに好ましい。
-High refractive index layer-
The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.53 or more and 2.50 or less, more preferably 1.54 or more and 2.40 or less, further preferably 1.55 or more and 2.30 or less, and 1.56 or more and 2. 25 or less is particularly preferable.
The thickness of the high refractive index layer is preferably 200 nm or less, more preferably 10 nm or more and 180 nm or less, and further preferably 20 nm or more and 150 nm or less.

高屈折率層を形成する手法としては、ウェット法とドライ法に大別できる。ウェット法としては、金属アルコキシド等を用いてゾルゲル法により形成する手法、高屈折率の樹脂を塗工して形成する手法、樹脂組成物に高屈折率粒子を含有させた高屈折率層形成用塗布液を塗工して形成する手法が挙げられる。ドライ法としては、後述する高屈折率粒子の中から所望の屈折率を有する粒子を選び、物理気相成長法又は化学気相成長法、スパッタリングにより形成する手法が挙げられる。ウェット法は、生産効率、斜め反射色相の抑制、及び耐薬品性の点で、ドライ法よりも優れている。本発明においては、ウェット法の中でも、密着性、耐水性及び耐擦傷性を向上させ、また、高屈折率化させるために、バインダー樹脂組成物に高屈折率粒子を含有させた高屈折率層形成用塗布液により形成することが好ましい。高屈折率層のバインダー樹脂組成物としては、例えば硬化性樹脂組成物を用いることができ、後述する接着層で例示する電離放射線硬化性樹脂組成物を用いることが好ましい。 The method for forming the high refractive index layer can be roughly divided into a wet method and a dry method. As the wet method, a method of forming by a sol-gel method using a metal alkoxide or the like, a method of forming by coating a resin having a high refractive index, and a method for forming a high refractive index layer in which high refractive index particles are contained in a resin composition. A method of forming by applying a coating liquid can be mentioned. Examples of the dry method include a method of selecting particles having a desired refractive index from the high-refractive index particles described later, and forming them by a physical vapor deposition method, a chemical vapor deposition method, or sputtering. The wet method is superior to the dry method in terms of production efficiency, suppression of obliquely reflected hue, and chemical resistance. In the present invention, among the wet methods, a high refractive index layer in which a binder resin composition contains high refractive index particles in order to improve adhesion, water resistance and scratch resistance, and to increase the refractive index. It is preferably formed with a coating liquid for forming. As the binder resin composition of the high refractive index layer, for example, a curable resin composition can be used, and it is preferable to use the ionizing radiation curable resin composition exemplified by the adhesive layer described later.

高屈折率層を形成する無機化合物としては、五酸化アンチモン(1.79)、酸化亜鉛(1.90)、酸化チタン(2.3以上2.7以下)、酸化セリウム(1.95)、スズドープ酸化インジウム(1.95以上2.00以下)、アンチモンドープ酸化スズ(1.75以上1.85以下)、酸化イットリウム(1.87)、酸化ジルコニウム(2.10)及び五酸化ニオブ(2.33)等が挙げられる。なお、括弧内の数値は屈折率を意味する。 Examples of the inorganic compound forming the high refractive index layer include antimony pentoxide (1.79), zinc oxide (1.90), titanium oxide (2.3 or more and 2.7 or less), cerium oxide (1.95), and the like. Tin-doped indium oxide (1.95 or more and 2.00 or less), antimony-doped tin oxide (1.75 or more and 1.85 or less), yttrium oxide (1.87), zirconium oxide (2.10) and niobium pentoxide (2) .33) and the like. The numerical value in parentheses means the refractive index.

高屈折率粒子の平均粒子径は、2nm以上が好ましく、5nm以上がより好ましく、10nm以上がさらに好ましい。また、高屈折率粒子の平均粒子径は、白化抑制しやすくし、また、透明性を向上させるために、200nm以下が好ましく、100nm以下がより好ましく、80nm以下がより好ましく、60nm以下がより好ましく、30nm以下がより好ましい。高屈折率粒子の平均粒子径が小さいほど透明性が良好であり、特に、60nm以下とすることによって、透明性を極めて良好にできる。 The average particle size of the high-refractive index particles is preferably 2 nm or more, more preferably 5 nm or more, and even more preferably 10 nm or more. The average particle size of the high-refractive index particles is preferably 200 nm or less, more preferably 100 nm or less, more preferably 80 nm or less, and more preferably 60 nm or less in order to easily suppress whitening and improve transparency. , 30 nm or less is more preferable. The smaller the average particle size of the high-refractive index particles, the better the transparency. In particular, when the average particle size is 60 nm or less, the transparency can be extremely improved.

尚、本発明において、反射防止層及び後述のハードコート層中の粒子の平均粒子径は、溶液中の該粒子を動的光散乱方法で測定し、粒子径分布を体積の累積分布で表したときの50%粒子径(d50:メジアン径)であり、Microtrac粒度分析計(日機装株式会社製)を用いて測定できる。後述する微粒子の平均粒子径も同様の手法で測定できる。 In the present invention, the average particle size of the particles in the antireflection layer and the hard coat layer described later is measured by measuring the particles in the solution by a dynamic light scattering method, and the particle size distribution is represented by the cumulative distribution of volumes. The particle size is 50% (d50: median size), and can be measured using a Microtrac particle size analyzer (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.). The average particle size of the fine particles described later can be measured by the same method.

(接着層)
接着層は、転写シートの転写層を構成する層において、被着体と接する層であり、例えば被着体との密着性を向上させるために形成される。
(Adhesive layer)
The adhesive layer is a layer that is in contact with the adherend in the layer constituting the transfer layer of the transfer sheet, and is formed, for example, to improve the adhesion to the adherend.

本発明において、接着層は、電離放射線硬化性樹脂組成物及び熱可塑性樹脂を含むことを要する。接着層に熱可塑性樹脂が含まれないと、接着層とガラス等の被着体との密着性が低下し、積層体表面に所定の機能が付与されない。また、接着層に電離放射線硬化性樹脂組成物が含まれないと、転写層の硬度が低くなり、積層体の表面硬度を高くできない。 In the present invention, the adhesive layer is required to contain an ionizing radiation curable resin composition and a thermoplastic resin. If the adhesive layer does not contain a thermoplastic resin, the adhesiveness between the adhesive layer and the adherend such as glass is lowered, and a predetermined function is not imparted to the surface of the laminate. Further, if the adhesive layer does not contain the ionizing radiation curable resin composition, the hardness of the transfer layer becomes low, and the surface hardness of the laminated body cannot be increased.

接着層の電離放射線硬化性樹脂組成物は、未硬化物を含んでいてもよいが、硬化物が主成分であることが好ましい。接着層に含まれる前記電離放射線硬化性樹脂組成物において、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は、50質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましく、90質量%以上がさらに好ましい。 The ionizing radiation curable resin composition of the adhesive layer may contain an uncured product, but it is preferable that the cured product is the main component. In the ionizing radiation curable resin composition contained in the adhesive layer, the ratio of the cured product of the ionizing radiation curable resin composition is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and further 90% by mass or more. preferable.

前記接着層に含まれる、熱可塑性樹脂の質量Mと電離放射線硬化性樹脂組成物の質量Mとの質量比M/Mは、0.10以上であることが好ましく、0.15以上であることがより好ましく、0.20以上であることがさらに好ましく、0.40以上であることが特に好ましい。M/Mが0.10以上であることで、接着層の硬度を高くできるため、被着体の硬度が接着層によって損なわれず、積層体の表面硬度に反映させやすくなる。そのため、特に被着体がガラス等の硬い素材の場合、積層体の表面硬度を高くでき、積層体表面に傷が生じることを防止できる。
また、質量比M/Mは、1.30以下であることが好ましく、1.20以下であることがより好ましく、1.00以下であることがさらに好ましく、0.80以下であることが特に好ましい。M/Mが1.30以下であることで、接着層に熱可塑性樹脂を多く含むことができるため、転写層を被着体へ熱転写する際の加工性を向上できる。また、電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させた際の硬化収縮を抑制できるため、接着層の歪みを低減できる。そのため、接着層と転写層を構成する他の層と層間強度を向上でき、擦れ等により転写層が層間剥離することを抑止しやすくできる。さらに、接着層の歪みによる、接着層と被着体との密着性の低下を防止できるため、被着体から転写層が剥離し脱落することを抑止できる。
Wherein contained in the adhesive layer, the mass ratio M B / M A of the mass M B of the mass M A and the ionizing radiation curable resin composition of the thermoplastic resin is preferably 0.10 or more, 0.15 The above is more preferable, 0.20 or more is further preferable, and 0.40 or more is particularly preferable. M B / M A that is 0.10 or more, it is possible to increase the hardness of the adhesive layer, the hardness of the adherend is not impaired by the adhesive layer, it tends to reflect the surface hardness of the laminate. Therefore, particularly when the adherend is a hard material such as glass, the surface hardness of the laminated body can be increased, and scratches on the surface of the laminated body can be prevented.
Further it, the mass ratio M B / M A, preferably 1.30 or less, more preferably 1.20 or less, further preferably 1.00 or less, 0.80 or less Is particularly preferable. By M B / M A is 1.30 or less, it is possible to include a large amount of thermoplastic resin in the adhesive layer, can improve the workability at the time of thermal transfer of the transfer layer to the adherend. Further, since the curing shrinkage when the ionizing radiation curable resin composition is cured can be suppressed, the distortion of the adhesive layer can be reduced. Therefore, the interlayer strength between the adhesive layer and other layers constituting the transfer layer can be improved, and it is possible to easily prevent the transfer layer from being delaminated due to rubbing or the like. Further, since it is possible to prevent the adhesion between the adhesive layer and the adherend from being lowered due to the distortion of the adhesive layer, it is possible to prevent the transfer layer from peeling off from the adherend.

接着層は、ガラス基材等の被着体上に転写シートを配置する際のリワーク性を向上させるために、タックを有さないことが好ましい。
本明細書では、JIS Z 0237:2009の傾斜式ボールタック試験において、「ボールナンバー:No.1」及び「傾斜角:20°」の条件で、測定部内にボールが5秒以上停止しない接着層を、「タックを有さない接着層」であるとみなす。尚、試験時の温度及び相対湿度の条件は、JIS Z 0237:2009の規定の一般条件(温度:23±1℃、相対湿度:50±5%)である。
The adhesive layer preferably has no tack in order to improve reworkability when the transfer sheet is placed on an adherend such as a glass base material.
In the present specification, in the tilted ball tack test of JIS Z 0237: 2009, an adhesive layer in which the ball does not stop in the measuring section for 5 seconds or more under the conditions of "ball number: No. 1" and "tilt angle: 20 °". Is regarded as an "adhesive layer without tack". The temperature and relative humidity conditions at the time of the test are the general conditions specified in JIS Z 0237: 2009 (temperature: 23 ± 1 ° C., relative humidity: 50 ± 5%).

本発明の接着層に含まれる、熱可塑性樹脂としては、透明な樹脂であり、加熱によって粘着性を示す熱可塑性樹脂が好ましく、例えば、ポリビニルブチラール(PVB)、エチレン―酢酸ビニル共重合体(EVA)、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエステルウレタン、アクリル、オレフィン等を挙げることができる。これらの中で、接着層とガラス基材等の被着体との密着性を向上させるために、ポリビニルブチラール、エチレン―酢酸ビニル共重合体及びポリエステルウレタンから選ばれる1種を用いることが好ましく、ポリビニルブチラール又はポリエステルウレタンを用いることがさらに好ましい。
前記熱可塑性樹脂にポリビニルブチラールを用いる場合、ポリビニルブチラールのガラス転移温度は、55℃以上90℃以下が好ましく、60℃以上80℃以下がより好ましい。
ガラス転移温度が55℃以上であることで、接着層の硬度が低くなり難くなり、積層体の表面硬度を高くしやすくなる。
また、ガラス転移温度が90℃以下であることで、熱転写による加工性を向上でき、かつ、接着層と被着体との密着性を向上できるため、転写層が被着体から脱落することを抑制しやすくなる。
尚、ガラス転移温度は、DSC(示差走査熱量測定)による熱量変化の測定(DSC法)に基き求めることができる。
As the thermoplastic resin contained in the adhesive layer of the present invention, a thermoplastic resin which is a transparent resin and exhibits adhesiveness by heating is preferable. For example, polyvinyl butyral (PVB) and ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) are preferable. ), Polyester, polyurethane, polyester urethane, acrylic, olefin and the like. Among these, in order to improve the adhesion between the adhesive layer and the adherend such as a glass base material, it is preferable to use one selected from polyvinyl butyral, ethylene-vinyl acetate copolymer and polyester urethane. It is more preferable to use polyvinyl butyral or polyester urethane.
When polyvinyl butyral is used as the thermoplastic resin, the glass transition temperature of polyvinyl butyral is preferably 55 ° C. or higher and 90 ° C. or lower, more preferably 60 ° C. or higher and 80 ° C. or lower.
When the glass transition temperature is 55 ° C. or higher, the hardness of the adhesive layer is less likely to be lowered, and the surface hardness of the laminated body is likely to be increased.
Further, when the glass transition temperature is 90 ° C. or lower, the processability by thermal transfer can be improved and the adhesion between the adhesive layer and the adherend can be improved, so that the transfer layer can be prevented from falling off from the adherend. It becomes easier to suppress.
The glass transition temperature can be determined based on the measurement of the change in calorific value (DSC method) by DSC (differential scanning calorimetry).

前記熱可塑性樹脂にエチレン―酢酸ビニル共重合体を用いる場合、JIS K 6924−1:1997に規定される酢酸ビニル含有率が、25%以上50%以下が好ましく、30%以上45%以下がより好ましい。酢酸ビニル含有率が25%以上あることで、接着層内に極性基を多く含むことができるため、接着層とガラス等の被着体との密着性を高くでき、転写層が被着体から脱落することを抑制しやすくなる。また、酢酸ビニル含有率が50%以下であることで、接着層の硬度が低くなり難くなり、積層体の表面硬度を高くしやすくなる。 When an ethylene-vinyl acetate copolymer is used as the thermoplastic resin, the vinyl acetate content defined in JIS K 6924-1: 1997 is preferably 25% or more and 50% or less, and more preferably 30% or more and 45% or less. preferable. When the vinyl acetate content is 25% or more, a large amount of polar groups can be contained in the adhesive layer, so that the adhesion between the adhesive layer and the adherend such as glass can be improved, and the transfer layer can be separated from the adherend. It becomes easier to prevent it from falling off. Further, when the vinyl acetate content is 50% or less, the hardness of the adhesive layer is less likely to be lowered, and the surface hardness of the laminated body is easily increased.

前記熱可塑性樹脂にポリエステルウレタンを用いる場合、ポリエステルウレタンのガラス転移温度は、55℃以上90℃以下が好ましく、60℃以上80℃以下がより好ましい。
ガラス転移温度が55℃以上であることで、接着層の硬度が低くなり難くなり、積層体の表面硬度を高くしやすくなる。また、ガラス転移温度が90℃以下であることで、熱転写による加工性を向上でき、かつ、接着層と被着体との密着性を高くできるため、転写層が被着体から脱落することを抑制しやすくなる。
また、前記ポリエステルウレタンの重量平均分子量は、15,000以上45,000以下が好ましく、25,000以上35,000以下であることがより好ましい。
重量平均分子量が15,000以上であることで、接着層と被着体との密着性を向上しやすくできる。また、重量平均分子量が35,000以下であることで、接着剤形成用の塗工液の粘度を適正な範囲にできるため、均一な接着層を形成でき、外観の良好な転写シート及び積層体を得ることができる。
なお、本明細書における重量平均分子量は、GPC分析によって測定され、かつ標準ポリスチレンで換算された平均分子量である。
When polyester urethane is used as the thermoplastic resin, the glass transition temperature of the polyester urethane is preferably 55 ° C. or higher and 90 ° C. or lower, and more preferably 60 ° C. or higher and 80 ° C. or lower.
When the glass transition temperature is 55 ° C. or higher, the hardness of the adhesive layer is less likely to be lowered, and the surface hardness of the laminated body is likely to be increased. Further, when the glass transition temperature is 90 ° C. or lower, the processability by thermal transfer can be improved and the adhesion between the adhesive layer and the adherend can be improved, so that the transfer layer can be prevented from falling off from the adherend. It becomes easier to suppress.
The weight average molecular weight of the polyester urethane is preferably 15,000 or more and 45,000 or less, and more preferably 25,000 or more and 35,000 or less.
When the weight average molecular weight is 15,000 or more, the adhesion between the adhesive layer and the adherend can be easily improved. Further, when the weight average molecular weight is 35,000 or less, the viscosity of the coating liquid for forming the adhesive can be in an appropriate range, so that a uniform adhesive layer can be formed, and the transfer sheet and the laminate having a good appearance can be formed. Can be obtained.
The weight average molecular weight in the present specification is an average molecular weight measured by GPC analysis and converted into standard polystyrene.

電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物(以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう)を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、(メタ)アクロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、オキセタニル基等が挙げられる。
接着層の電離放射線硬化性樹脂組成物に含まれる電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましい。また、転写シートを製造する過程で転写層が傷つくことを抑制するために、電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を2つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を2つ以上有する、多官能性(メタ)アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性(メタ)アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
The ionizing radiation curable resin composition is a composition containing a compound having an ionizing radiation curable functional group (hereinafter, also referred to as “ionizing radiation curable compound”). Examples of the ionizing radiation curable functional group include an ethylenically unsaturated group such as a (meth) acroyl group, a vinyl group and an allyl group, and an oxetanyl group.
As the ionizing radiation curable compound contained in the ionizing radiation curable resin composition of the adhesive layer, a compound having an ethylenically unsaturated bond group is preferable. Further, in order to prevent the transfer layer from being damaged in the process of producing the transfer sheet, as the ionizing radiation curable compound, a compound having two or more ethylenically unsaturated bonding groups is more preferable, and among them, the ethylenically unsaturated compound is preferable. A polyfunctional (meth) acrylate compound having two or more binding groups is more preferable. As the polyfunctional (meth) acrylate compound, either a monomer or an oligomer can be used.

尚、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線(UV)又は電子線(EB)が用いられるが、その他、X線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
接着層に含まれる前記電離放射線硬化性樹脂組成物は、電子線硬化性樹脂組成物又は、紫外線硬化性樹脂組成物が好ましく、紫外線硬化性樹脂組成物がさらに好ましい。
接着層に紫外線硬化性樹脂組成物を用いることで、接着層と接する層も紫外線硬化性樹脂組成物を含む場合、各々の層に含まれる紫外線硬化性樹脂組成物同士を化学的に結合させることができるため、接着層と接着層と接する層との層間強度を向上できる。そのため、転写層で層間剥離を生じ難くでき、積層体表面の耐擦傷性を高めやすくなる。さらに、転写層の各層同士の密着性が高まることで、転写層全体が一体となり、生じた傷が目立ちにくくなる。
The ionizing radiation means an electromagnetic wave or a charged particle beam having an energy quantum capable of polymerizing or cross-linking a molecule, and usually, an ultraviolet ray (UV) or an electron beam (EB) is used. Electromagnetic waves such as X-rays and γ-rays, and charged particle beams such as α-rays and ion-rays can also be used.
The ionizing radiation curable resin composition contained in the adhesive layer is preferably an electron beam curable resin composition or an ultraviolet curable resin composition, and more preferably an ultraviolet curable resin composition.
By using an ultraviolet curable resin composition for the adhesive layer, when the layer in contact with the adhesive layer also contains the ultraviolet curable resin composition, the ultraviolet curable resin compositions contained in each layer are chemically bonded to each other. Therefore, the interlayer strength between the adhesive layer and the layer in contact with the adhesive layer can be improved. Therefore, delamination can be less likely to occur in the transfer layer, and the scratch resistance of the surface of the laminate can be easily improved. Further, by increasing the adhesion between the respective layers of the transfer layer, the entire transfer layer is integrated, and the generated scratches become less noticeable.

多官能性(メタ)アクリレート系化合物のうち、2官能(メタ)アクリレート系モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールAテトラプロポキシジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
3官能以上の(メタ)アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
また、上記(メタ)アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用できる。
Among the polyfunctional (meth) acrylate-based compounds, the bifunctional (meth) acrylate-based monomers include ethylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol A tetraethoxydiacrylate, bisphenol A tetrapropoxydiacrylate, and 1,6-hexane. Examples thereof include diol diacrylate.
Examples of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate-based monomer include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and di. Examples thereof include pentaerythritol tetra (meth) acrylate and isocyanuric acid-modified tri (meth) acrylate.
Further, the (meth) acrylate-based monomer may be one in which a part of the molecular skeleton is modified, and is modified with ethylene oxide, propylene oxide, caprolactone, isocyanuric acid, alkyl, cyclic alkyl, aromatic, bisphenol and the like. Can also be used.

また、多官能性(メタ)アクリレート系オリゴマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
ウレタン(メタ)アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ(メタ)アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ(メタ)アクリレートは、3官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレート、2官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレート、及び2官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と(メタ)アクリル酸とを反応させて得られる(メタ)アクリレートである。
上記電離放射線硬化性樹脂は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the polyfunctional (meth) acrylate-based oligomer include acrylate-based polymers such as urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, and polyether (meth) acrylate.
Urethane (meth) acrylate is obtained, for example, by reacting a polyhydric alcohol or an organic diisocyanate with a hydroxy (meth) acrylate.
Further, the preferable epoxy (meth) acrylate is a (meth) acrylate obtained by reacting a (meth) acrylic acid with a trifunctional or higher functional aromatic epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin or the like, and a bifunctional epoxy resin. (Meta) acrylate obtained by reacting the above aromatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic epoxy resin, etc. with polybasic acid and (meth) acrylic acid, and bifunctional or higher functional aromatic epoxy resin, It is a (meth) acrylate obtained by reacting an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin or the like with phenols and (meth) acrylic acid.
The ionizing radiation curable resin may be used alone or in combination of two or more.

また、上記で例示された電離放射線硬化性樹脂組成物のうち、(メタ)アクリレート系化合物は、架橋による収縮ムラを抑制して表面の平滑性を高めるために、分子骨格の一部を変性しているものでも良い。例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用できる。
特に、上記(メタ)アクリレート系化合物は、接着層の耐湿熱性を向上させるために、トリス(2−アクロキシエチル)イソシアヌレート、ε―カプロラクトン変性トリス―(2−アクロキシエチル)イソシアヌレート等、イソシアヌル酸変性されている(イソシアヌレート構造を有する)ものが好ましい。骨格内にイソシアヌレート構造を有する(メタ)アクリレートとしては、さらにカプロラクトン変性されているものが特に好ましい。骨格内にイソシアヌレート構造を有する(メタ)アクリレートが、さらにカプロラクトン変性されていることにより、より接着層の歪を緩和しやすくなる。そのため、積層体を製品の一部として用いた際、気温及び湿度の変化に伴って生じる接着層の歪を、より緩和できるため、接着層と被着体との密着性が低下し難くなり、経時によって、被着体から転写層が剥離し脱落することを抑止しやすくなる。
Further, among the ionizing radiation curable resin compositions exemplified above, the (meth) acrylate-based compound modifies a part of the molecular skeleton in order to suppress shrinkage unevenness due to cross-linking and enhance surface smoothness. It may be the one that is. For example, those modified with ethylene oxide, propylene oxide, caprolactone, isocyanuric acid, alkyl, cyclic alkyl, aromatic, bisphenol and the like can also be used.
In particular, the above (meth) acrylate-based compound may be prepared with tris (2-acroxyethyl) isocyanurate, ε-caprolactone-modified tris- (2-acroxyethyl) isocyanurate, etc. in order to improve the moist heat resistance of the adhesive layer. Those modified with isocyanuric acid (having an isocyanurate structure) are preferable. As the (meth) acrylate having an isocyanurate structure in the skeleton, those further modified with caprolactone are particularly preferable. Since the (meth) acrylate having an isocyanurate structure in the skeleton is further caprolactone-modified, it becomes easier to alleviate the strain of the adhesive layer. Therefore, when the laminated body is used as a part of the product, the distortion of the adhesive layer caused by changes in temperature and humidity can be further relaxed, so that the adhesion between the adhesive layer and the adherend is less likely to decrease. With the passage of time, it becomes easy to prevent the transfer layer from peeling off from the adherend and falling off.

接着層に含まれる電離放射線硬化性樹脂組成物が紫外線硬化性樹脂組成物の場合、光重合開始剤を含む。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等から選ばれる1種以上が挙げられる。
尚、接着層と接する層が紫外線硬化性樹脂組成物を含む場合、接着層に含まれる光重合開始剤は、転写層を構成する他の層に含まれる光重合開始剤と、異なる光重合開始剤としてもよく、又は同一の光重合開始剤としてもよい。
When the ionizing radiation curable resin composition contained in the adhesive layer is an ultraviolet curable resin composition, it contains a photopolymerization initiator.
Examples of the photopolymerization initiator include one or more selected from acetophenone, benzophenone, α-hydroxyalkylphenone, Michler ketone, benzoin, benzyl dimethyl ketal, benzoyl benzoate, α-acyl oxime ester, thioxanthones and the like.
When the layer in contact with the adhesive layer contains an ultraviolet curable resin composition, the photopolymerization initiator contained in the adhesive layer initiates photopolymerization different from that of the photopolymerization initiator contained in other layers constituting the transfer layer. It may be an agent, or it may be the same photopolymerization initiator.

接着層と接する層が紫外線硬化性樹脂組成物を含む場合、接着層に含まれる光重合開始剤を、接着層と接する層に含まれる光重合開始剤と異なる光重合開始剤とすることで、転写層の形成工程及び積層体の形成工程の中での、紫外線硬化性樹脂組成物の硬化するタイミング及び硬化の程度を制御しやすくなるため、各層の歪を小さくでき、層間の強度を高くしやすくなり、転写層の層間剥離を抑止しやすくなる。 When the layer in contact with the adhesive layer contains an ultraviolet curable resin composition, the photopolymerization initiator contained in the adhesive layer is different from the photopolymerization initiator contained in the layer in contact with the adhesive layer. Since it becomes easy to control the curing timing and the degree of curing of the ultraviolet curable resin composition in the process of forming the transfer layer and the process of forming the laminate, the strain of each layer can be reduced and the strength between the layers can be increased. This makes it easier to prevent delamination of the transfer layer.

また、接着層と接する層が紫外線硬化性樹脂組成物を含む場合、接着層に含まれる光重合開始剤を、接着層と接する層に含まれる光重合開始剤と同一の光重合開始剤とすることで、接着層と接着層に接する層とが化学的に結合されやすくなり、より層間強度を高くなりやすくなる。そのため、転写層で層間剥離を生じ難くでき、積層体表面の耐擦傷性を高めやすくなる。さらに、各層同士の密着性が高まることで、転写層全体が一体となり、生じた傷が目立ちにくくなる。 When the layer in contact with the adhesive layer contains an ultraviolet curable resin composition, the photopolymerization initiator contained in the adhesive layer is the same photopolymerization initiator as the photopolymerization initiator contained in the layer in contact with the adhesive layer. As a result, the adhesive layer and the layer in contact with the adhesive layer are likely to be chemically bonded, and the interlayer strength is likely to be increased. Therefore, delamination can be less likely to occur in the transfer layer, and the scratch resistance of the surface of the laminate can be easily improved. Further, by increasing the adhesion between the layers, the entire transfer layer is integrated, and the scratches generated are less noticeable.

接着層に含まれる電離放射線硬化性樹脂組成物が紫外線硬化性樹脂組成物の場合、光重合開始剤の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物100質量部に対して1質量部以上であることが好ましく、2質量部以上であることがより好ましく、3質量部以上であることがさらに好ましい。
紫外線硬化性樹脂組成物100質量部に対して光重合開始剤を1質量部以上とすることによって、接着層を形成時、接着層の表面付近に光重合開始剤を残存させやすくなり、接着層に接する層の紫外線硬化性樹脂組成物とが化学的に結合させやすくできる。
尚、光重合開始剤の含有量が過剰になると、上述の効果の向上が見られない一方で樹脂層の物性が低下するため、樹脂層形成用インキ中の光重合開始剤の含有量は、紫外線硬化性樹脂組成物100質量部に対して10質量部以下であることが好ましい。
When the ionizing radiation curable resin composition contained in the adhesive layer is an ultraviolet curable resin composition, the content of the photopolymerization initiator shall be 1 part by mass or more with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet curable resin composition. Is preferable, and it is more preferably 2 parts by mass or more, and further preferably 3 parts by mass or more.
By adding 1 part by mass or more of the photopolymerization initiator to 100 parts by mass of the ultraviolet curable resin composition, it becomes easy for the photopolymerization initiator to remain near the surface of the adhesive layer when the adhesive layer is formed, and the adhesive layer is formed. The layer in contact with the UV curable resin composition can be easily chemically bonded.
If the content of the photopolymerization initiator is excessive, the above-mentioned effect is not improved, but the physical properties of the resin layer are deteriorated. Therefore, the content of the photopolymerization initiator in the resin layer forming ink is determined. It is preferably 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet curable resin composition.

接着層に含まれる電離放射線硬化性樹脂組成物が紫外線硬化性樹脂組成物の場合、さらに光重合促進剤を含むことが好ましい。
光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる1種以上が挙げられる。
When the ionizing radiation curable resin composition contained in the adhesive layer is an ultraviolet curable resin composition, it is preferable to further contain a photopolymerization accelerator.
The photopolymerization accelerator can reduce the polymerization inhibition by air at the time of curing and accelerate the curing rate, and is selected from, for example, p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester and the like. One or more types can be mentioned.

尚、本発明の接着剤層は、本発明の効果を損なわない限り、種々の添加剤を含有させてもよく、例えば、酸化防止剤、顔料、シランカップリング剤、光安定剤、紫外線吸収剤等を配合できる。 The adhesive layer of the present invention may contain various additives as long as the effects of the present invention are not impaired. For example, an antioxidant, a pigment, a silane coupling agent, a light stabilizer, and an ultraviolet absorber. Etc. can be blended.

(ハードコート層)
ハードコート層は、転写シートの転写層を構成する層において、例えば転写層に所定の表面硬度及び耐擦傷性を持たせるために形成される。
(Hard coat layer)
The hard coat layer is formed in the layer constituting the transfer layer of the transfer sheet, for example, in order to give the transfer layer a predetermined surface hardness and scratch resistance.

ハードコート層は、転写層に所定の表面硬度を持たせるために、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物を含むことが好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物を含むことがより好ましい。
ここで硬化性樹脂組成物とは、硬化性樹脂組成物の硬化物、及び硬化性樹脂組成物の未硬化物を含むものをいう。ハードコート層の硬化性樹脂組成物に含まれる、硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は、50質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましく、90質量%以上がさらに好ましい。
The hard coat layer preferably contains a curable resin composition such as a thermosetting resin composition or an ionizing radiation curable resin composition in order to give the transfer layer a predetermined surface hardness, and is preferably an ionizing radiation curable resin. More preferably, it contains a composition.
Here, the curable resin composition refers to a cured product of the curable resin composition and an uncured product of the curable resin composition. The ratio of the cured product of the curable resin composition contained in the curable resin composition of the hard coat layer is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, still more preferably 90% by mass or more.

熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
尚、ハードコート層の硬化性樹脂組成物が熱硬化性樹脂組成物を含む場合、熱硬化性樹脂組成物中に含まれる、熱硬化性樹脂組成物の硬化物の好適な割合は、前述のハードコート層の硬化性樹脂組成物に含まれる、硬化性樹脂組成物の硬化物の好適な割合と同様である。
The thermosetting resin composition is a composition containing at least a thermosetting resin, and is a resin composition that is cured by heating. Examples of the thermosetting resin include acrylic resin, urethane resin, phenol resin, urea melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, and silicone resin. In the thermosetting resin composition, a curing agent is added to these curable resins as needed.
When the curable resin composition of the hard coat layer contains the thermosetting resin composition, the preferable ratio of the cured product of the thermosetting resin composition contained in the thermosetting resin composition is described above. This is the same as the preferable ratio of the cured product of the curable resin composition contained in the curable resin composition of the hard coat layer.

ハードコート層に含まれる電離放射線硬化性樹脂組成物は、例えば、前述の接着層で例示した電離放射線硬化性樹脂組成物を用いることができる。
尚、ハードコート層の硬化性樹脂組成物が電離放射線硬化性樹脂組成物を含む場合、電離放射線硬化性樹脂組成物中に含まれる、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物の好適な割合は、前述のハードコート層の硬化性樹脂組成物に含まれる硬化物の好適な割合と同様である。
As the ionizing radiation curable resin composition contained in the hard coat layer, for example, the ionizing radiation curable resin composition exemplified in the above-mentioned adhesive layer can be used.
When the curable resin composition of the hard coat layer contains the ionizing radiation curable resin composition, the preferable ratio of the cured product of the ionizing radiation curable resin composition contained in the ionizing radiation curable resin composition is , The same as the preferable ratio of the cured product contained in the curable resin composition of the hard coat layer described above.

ハードコート層中には、転写層に防眩性を付与するために、さらに粒子を含有させても良い。 The hard coat layer may further contain particles in order to impart antiglare properties to the transfer layer.

ハードコート層に防眩性を付与させる場合、粒子は、有機粒子及び無機粒子の何れも用いることができる。有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル−スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン、フッ素系樹脂及びポリエステル系樹脂等からなる粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、アルミナ、アンチモン、ジルコニア及びチタニア等からなる粒子が挙げられる。 When imparting antiglare property to the hard coat layer, either organic particles or inorganic particles can be used as the particles. Examples of the organic particles include particles composed of polymethylmethacrylate, polyacrylic-styrene copolymer, melamine resin, polycarbonate, polystyrene, polyvinyl chloride, benzoguanamine-melamine-formaldehyde condensate, silicone, fluororesin, polyester resin and the like. Can be mentioned. Examples of the inorganic particles include particles made of silica, alumina, antimony, zirconia, titania and the like.

ハードコート層中の粒子の平均粒子径は、ハードコート層の厚みにより異なるため一概には言えないが、1.0μm以上10.0μm以下が好ましく、2.0μm以上8.0μm以下であることがより好ましく、3.0μm以上6.0μm以下であることがさらに好ましい。 The average particle size of the particles in the hard coat layer varies depending on the thickness of the hard coat layer and cannot be unequivocally determined, but is preferably 1.0 μm or more and 10.0 μm or less, and is preferably 2.0 μm or more and 8.0 μm or less. More preferably, it is 3.0 μm or more and 6.0 μm or less.

ハードコート層中の粒子の含有量は、目的とする防眩性の程度により異なるため一概にはいえないが、樹脂成分100質量部に対して、1質量部以上100質量部以下であることが好ましく、5質量部以上50質量部以下であることがより好ましく、10質量部以上30質量部以下であることがさらに好ましい。 The content of particles in the hard coat layer varies depending on the desired degree of antiglare, so it cannot be said unconditionally, but it may be 1 part by mass or more and 100 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin component. It is preferably 5 parts by mass or more and 50 parts by mass or less, and more preferably 10 parts by mass or more and 30 parts by mass or less.

尚、ハードコート層は、転写層の表面硬度を向上させたり、帯電防止性を付与したり、屈折率を制御したり、硬化性樹脂組成物の硬化によるハードコート層の収縮を調整したりするために、平均粒子径500nm未満の微粒子を含有してもよい。
転写層の表面硬度を向上させる場合、前記微粒子は、シリカ、アルミナ、アンチモン、ジルコニア及びチタニア等の無機酸化物が好ましい。
The hard coat layer improves the surface hardness of the transfer layer, imparts antistatic properties, controls the refractive index, and adjusts the shrinkage of the hard coat layer due to curing of the curable resin composition. Therefore, fine particles having an average particle diameter of less than 500 nm may be contained.
When improving the surface hardness of the transfer layer, the fine particles are preferably inorganic oxides such as silica, alumina, antimony, zirconia and titania.

ハードコート層中には、表面平滑性を向上させるために、さらにレベリング剤を含むことが好ましい。レベリング剤としては、フッ素系及びシリコーン系が挙げられる。 It is preferable that the hard coat layer further contains a leveling agent in order to improve the surface smoothness. Examples of the leveling agent include fluorine-based and silicone-based.

レベリング剤の含有量は、ハードコート層に含まれる硬化性樹脂100質量部に対して、0.15質量部以上2.5質量部以下であることが好ましく、0.20質量部以上2.0質量部以下であることがより好ましく、0.25質量部以上1.0質量部以下であることがさらに好ましい。レベリング剤の含有量を0.15質量部以上とすることによって、ハードコート層の表面を平滑にしやすくなる。また、レベリング剤の含有量を2.5質量部以下とすることによって、ハードコート層と反射防止層の密着性が向上する。 The content of the leveling agent is preferably 0.15 parts by mass or more and 2.5 parts by mass or less, and 0.20 parts by mass or more and 2.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable resin contained in the hard coat layer. It is more preferably parts by mass or less, and further preferably 0.25 parts by mass or more and 1.0 parts by mass or less. By setting the content of the leveling agent to 0.15 parts by mass or more, the surface of the hard coat layer can be easily smoothed. Further, by setting the content of the leveling agent to 2.5 parts by mass or less, the adhesion between the hard coat layer and the antireflection layer is improved.

ハードコート層の形成方法としては、公知の各種方法、例えば、ロールコート、グラビアコート、エアナイフコート、コンマコート、ダイコート等が用いられ、生産性の面から、グラビアコート、ロールコートが好ましく用いられる。 As a method for forming the hard coat layer, various known methods such as roll coat, gravure coat, air knife coat, comma coat, die coat and the like are used, and gravure coat and roll coat are preferably used from the viewpoint of productivity.

ハードコート層の厚みは、1μm以上が好ましく、2μm以上がより好ましく、3μm以上がさらに好ましい。ハードコート層が1μm以上であることで、転写層を転写した積層体の表面硬度を高くできる。また、ハードコート層の厚みは、10μm以下が好ましく、7μm以下がより好ましく、5μm以下がさらに好ましい。ハードコート層の厚みを10μm以下とすることで、転写層が必要以上に厚くならず、転写層を積層体へ転写する際に、転写層にクラックが生じ難くできる。 The thickness of the hard coat layer is preferably 1 μm or more, more preferably 2 μm or more, and even more preferably 3 μm or more. When the hard coat layer is 1 μm or more, the surface hardness of the laminate to which the transfer layer is transferred can be increased. The thickness of the hard coat layer is preferably 10 μm or less, more preferably 7 μm or less, and even more preferably 5 μm or less. By setting the thickness of the hard coat layer to 10 μm or less, the transfer layer does not become thicker than necessary, and cracks are less likely to occur in the transfer layer when the transfer layer is transferred to the laminate.

(アンカー層)
アンカー層は、転写層の層間の密着性を向上させるために、転写層の層と層との間に形成されることが好ましい。アンカー層を有することによって、転写シート製造時や転写層の転写工程の際に生じる、各層の歪みを、他の層に伝搬することを防ぎ、転写層の歪みやクラックが生じることを防ぎやすくなる。例えば、アンカー層が存在するこによって、接着層が加熱により軟化した際の歪みがアンカー層により緩和され、当該歪みが他の層(特に反射防止層)へ伝搬が抑制され、他の層(特に反射防止層)にクラックが生じることを抑制しやすくできる。
また、アンカー層は、ハードコート層と接着層の間に形成されることが特に好ましい。
(Anchor layer)
The anchor layer is preferably formed between the layers of the transfer layer in order to improve the adhesion between the layers of the transfer layer. By having the anchor layer, it is possible to prevent the strain of each layer, which occurs during the production of the transfer sheet or the transfer process of the transfer layer, from propagating to other layers, and it becomes easy to prevent the strain and cracks of the transfer layer from occurring. .. For example, due to the presence of the anchor layer, the strain when the adhesive layer is softened by heating is relaxed by the anchor layer, the strain is suppressed from propagating to other layers (particularly the antireflection layer), and the other layers (especially the antireflection layer) are suppressed. It is possible to easily suppress the occurrence of cracks in the antireflection layer).
Further, it is particularly preferable that the anchor layer is formed between the hard coat layer and the adhesive layer.

アンカー層は、転写層の層間の密着性を向上させるために、電離放射線硬化性樹脂組成物又は熱硬化性樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物を含むことが好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物を含むことが、より好ましい。
ここで硬化性樹脂組成物とは、硬化性樹脂組成物の硬化物、及び硬化性樹脂組成物の未硬化物を含むものをいう。アンカー層の硬化性樹脂組成物に含まれる、硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は、50質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましく、90質量%以上がさらに好ましい。
The anchor layer preferably contains a curable resin composition such as an ionizing radiation curable resin composition or a thermosetting resin composition in order to improve the adhesion between the layers of the transfer layer, and the ionizing radiation curable resin composition. It is more preferable to include a substance.
Here, the curable resin composition refers to a cured product of the curable resin composition and an uncured product of the curable resin composition. The ratio of the cured product of the curable resin composition contained in the curable resin composition of the anchor layer is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, still more preferably 90% by mass or more.

アンカー層に含まれる熱硬化性樹脂組成物は、例えば前述のハードコート層で例示した熱硬化性樹脂組成物を用いることができる。尚、アンカー層の硬化性樹脂組成物が熱硬化性樹脂組成物を含む場合、熱硬化性樹脂組成物中に含まれる、熱硬化性樹脂組成物の硬化物の好適な割合は、前述のアンカー層の硬化性樹脂組成物に含まれる、硬化性樹脂組成物の硬化物の好適な割合と同様である。
また、アンカー層に含まれる電離放射線硬化性樹脂組成物は、例えば、前述の接着層で例示した電離放射線硬化性樹脂組成物を用いることができる。尚、アンカー層の硬化性樹脂組成物が電離放射線硬化性樹脂組成物を含む場合、電離放射線硬化性樹脂組成物中に含まれる、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物の好適な割合は、前述のアンカー層の硬化性樹脂組成物に含まれる、硬化性樹脂組成物の硬化物の好適な割合と同様である。
As the thermosetting resin composition contained in the anchor layer, for example, the thermosetting resin composition exemplified in the above-mentioned hard coat layer can be used. When the curable resin composition of the anchor layer contains the thermosetting resin composition, the preferable ratio of the cured product of the thermosetting resin composition contained in the thermosetting resin composition is the above-mentioned anchor. It is the same as the preferable ratio of the cured product of the curable resin composition contained in the curable resin composition of the layer.
Further, as the ionizing radiation curable resin composition contained in the anchor layer, for example, the ionizing radiation curable resin composition exemplified in the above-mentioned adhesive layer can be used. When the curable resin composition of the anchor layer contains the ionizing radiation curable resin composition, the preferable ratio of the cured product of the ionizing radiation curable resin composition contained in the ionizing radiation curable resin composition is It is the same as the preferable ratio of the cured product of the curable resin composition contained in the curable resin composition of the anchor layer described above.

アンカー層の厚みは、1μm以上が好ましく、2μm以上がより好ましく、3μm以上がさらに好ましい。アンカー層の厚みを1μm以上とすることによって、アンカー層とアンカー層と接する層との密着性を高くしやすくなり、さらに、転写シート製造時や転写層の転写工程の際に生じる、各層の歪みを、他の層に伝搬することを防ぎ、転写層に歪みやクラックが生じることを防ぎやすくなる。
また、アンカー層の厚みは、10μm以下が好ましく、7μm以下がより好ましく、5μm以下がさらに好ましい。アンカー層の厚みを10μm以下とすることによって、積層体を形成後、手で触った際の被着体の質感を生かしやすくなり、また、特に被着体がガラスの場合は、ガラスの硬度を積層体表面に反映させやすくなり、表面硬度を高くしやすくなる。また、アンカー層の厚みを10μm以下とすることによって、転写層の転写工程時に、剥離基材A側から印加した熱が接着層に伝搬することを阻害し難くなり、接着層を効率よく加熱できるため、過加熱による転写層のクラックを抑制しやすくなる。
The thickness of the anchor layer is preferably 1 μm or more, more preferably 2 μm or more, and even more preferably 3 μm or more. By setting the thickness of the anchor layer to 1 μm or more, it becomes easy to improve the adhesion between the anchor layer and the layer in contact with the anchor layer, and further, the distortion of each layer that occurs during the production of the transfer sheet or the transfer process of the transfer layer. Is prevented from propagating to other layers, and it becomes easy to prevent distortion and cracks from occurring in the transfer layer.
The thickness of the anchor layer is preferably 10 μm or less, more preferably 7 μm or less, and even more preferably 5 μm or less. By setting the thickness of the anchor layer to 10 μm or less, it becomes easier to utilize the texture of the adherend when the laminate is formed and then touched by hand, and especially when the adherend is glass, the hardness of the glass is increased. It is easy to reflect on the surface of the laminate, and it is easy to increase the surface hardness. Further, by setting the thickness of the anchor layer to 10 μm or less, it becomes difficult to prevent the heat applied from the release base material A side from propagating to the adhesive layer during the transfer step of the transfer layer, and the adhesive layer can be heated efficiently. Therefore, it becomes easy to suppress cracks in the transfer layer due to overheating.

アンカー層がハードコート層と接着層との間に形成される場合、アンカー層の厚み(T)と接着層の厚み(T)との比T/Tは、0.3以上であることが好ましく、0.5以上がより好ましく、0.7以上がさらに好ましい。T/Tが0.3以上であることにより、転写工程で加熱した際、加熱により軟化した接着層のゆがみが、他の層(特に反射防止層)へ伝搬し難くなり、他の層(特に反射防止層)にクラックが生じ難くなる。
また、T/Tの上限は5.0以下が好ましく、3.0以下がより好ましく、2.0以下がさらに好ましい。T/Tが5.0以下であることにより、転写層の転写工程時に、剥離基材A側から印加した熱が接着層に伝搬することを阻害し難くなり、接着層を効率よく加熱できるため、過加熱による転写層のクラックを抑制しやすくなる。
If the anchor layer is formed between the hard coat layer and the adhesive layer, the ratio T A / T B of the thickness of the anchor layer and the (T A) and the thickness of the adhesive layer (T B) is 0.3 or more It is preferably 0.5 or more, more preferably 0.7 or more. By T A / T B is 0.3 or more, when heated in the transfer process, distortion of the adhesive layer softened by heating, hardly propagated to other layers (particularly antireflective layer), another layer (Especially the antireflection layer) is less likely to crack.
The upper limit is preferably 5.0 or less of the T A / T B, more preferably 3.0 or less, more preferably 2.0 or less. By T A / T B is 5.0 or less, during the transfer step of the transfer layer, heat applied from the release substrate A side becomes difficult to inhibit the propagating in the adhesive layer, the adhesive layer efficiently heated Therefore, it becomes easy to suppress cracks in the transfer layer due to overheating.

アンカー層がハードコート層と接着層との間に形成される場合、アンカー層の厚み(T)とハードコート層の厚み(T)との比T/Tは、0.3以上であることが好ましく、0.5以上がより好ましく、0.7以上がさらに好ましい。T/Tが0.3以上であることにより、ハードコート層を硬化させた際に生じる硬化収縮の影響が接着層に伝搬し難くなり、接着層に歪み又は皺等が生じることを防ぎやすくなることで、後述する剥離基材Bと接着層との密着強度が低下し、意図せず剥離することを防ぎやすくできる。
また、T/Tの上限は5.0以下が好ましく、3.0以下がより好ましく、2.0以下がさらに好ましい。T/Tが5.0以下であることにより、転写層の転写工程時に、剥離基材A側から印加した熱が接着層に伝搬することを阻害し難くなり、接着層を効率よく加熱できるため、過加熱による転写層の歪みやクラックを抑制しやすくなる。
If the anchor layer is formed between the hard coat layer and the adhesive layer, the ratio T A / T C of the thickness (T C) of the thickness of the anchor layer and the (T A) Hard coat layer 0.3 Is more preferable, 0.5 or more is more preferable, and 0.7 or more is further preferable. By T A / T C is 0.3 or more, the influence of the curing shrinkage that occurs upon curing the hard coat layer is not easily propagated to the adhesive layer, prevents distortion or wrinkles occur in the adhesive layer By making it easier, the adhesive strength between the peeling base material B and the adhesive layer, which will be described later, is lowered, and it is possible to easily prevent unintentional peeling.
The upper limit of T A / T C is preferably 5.0 or less, more preferably 3.0 or less, more preferably 2.0 or less. By T A / T C is 5.0 or less, during the transfer step of the transfer layer, heat applied from the release substrate A side becomes difficult to inhibit the propagating in the adhesive layer, the adhesive layer efficiently heated Therefore, it becomes easy to suppress distortion and cracks in the transfer layer due to overheating.

(転写層の表面形状)
本発明の転写シートにおいて転写層の剥離基材A側の表面形状は、略平滑であることが好ましい。具体的には、反射防止層の剥離基材A側の表面形状は、カットオフ値0.25mmにおけるJIS B 0601:1994の算術平均粗さRaが0.04μm以下であることが好ましい。反射防止層の剥離基材A側の表面形状が略平滑であることで、手で触れた際の被着体の質感を生かしやすくなる。
(Surface shape of transfer layer)
In the transfer sheet of the present invention, the surface shape of the transfer layer on the release base material A side is preferably substantially smooth. Specifically, the surface shape of the antireflection layer on the peeling base material A side is preferably such that the arithmetic average roughness Ra of JIS B 0601: 1994 at a cutoff value of 0.25 mm is 0.04 μm or less. Since the surface shape of the antireflection layer on the peeling base material A side is substantially smooth, it becomes easy to utilize the texture of the adherend when touched by hand.

転写層の剥離基材A側の表面のRaは、例えば、100mm×100mmにカットした転写シートから、厚み0.7mmのガラス基材(AGC社製、商品名「Dragontrail」)に、転写層を後述の実施例に方法に準拠して転写した評価用サンプルを作製し、該サンプルを水平面に置き、JIS B 0601:1994準拠し、下記の測定条件で測定できる。
<Raの測定条件>
・基準長さ(粗さ曲線のカットオフ値λc):0.25mm
・評価長さ(基準長さ(カットオフ値λc)×5):1.25mm
・触針の送り速さ:0.1mm/s
・縦倍率:100000倍
・横倍率:50倍
・スキッド:用いない(測定面に接触なし)
・カットオフフィルタ種類:ガウシャン
・JISモード:JIS1994
Ra on the surface of the transfer base A side of the release base material is, for example, a transfer layer cut from a transfer sheet cut to 100 mm × 100 mm onto a glass base material (manufactured by AGC, trade name “Dragonrail”) having a thickness of 0.7 mm. An evaluation sample transferred according to the method to the examples described later is prepared, the sample is placed on a horizontal plane, JIS B 0601: 1994 is compliant, and the measurement can be performed under the following measurement conditions.
<Measurement conditions for Ra>
-Reference length (cutoff value of roughness curve λc): 0.25 mm
-Evaluation length (reference length (cutoff value λc) x 5): 1.25 mm
・ Feeding speed of stylus: 0.1 mm / s
・ Vertical magnification: 100,000 times ・ Horizontal magnification: 50 times ・ Skid: Not used (no contact with the measurement surface)
-Cut-off filter type: Gaussian-JIS mode: JIS1994

[剥離基材B]
転写シートは、取り扱い性を向上させるために、接着層の剥離基材Aとは反対側の面に、剥離基材Bを有してもよい。
[Peeling base material B]
The transfer sheet may have the release base material B on the surface of the adhesive layer opposite to the release base material A in order to improve the handleability.

剥離基材Aと転写層との剥離強度をP1、剥離基材Bと接着層との間の剥離強度をP2と定義した際に、P2<P1であることを要する。P2<P1であることにより、剥離基材Aよりも先に剥離基材Bを剥離できる。
剥離強度P1と剥離強度P2との差(P1−P2)は転写前に剥離基材Bのみを剥離しやすくするために、15mN/25mm以上であることが好ましく、40mN/25mm以上であることがより好ましく、100mN/25mm以上であることがさらに好ましい。尚、該差が大き過ぎると、転写後に剥離基材Aを剥離しにくくなる場合があることから、該差は450mN/25mm以下であることが好ましく、更には350mN/25mm以下であることが好ましい。
When the peel strength between the peeling base material A and the transfer layer is defined as P1 and the peeling strength between the peeling base material B and the adhesive layer is defined as P2, P2 <P1 is required. When P2 <P1, the peeling base material B can be peeled off before the peeling base material A.
The difference (P1-P2) between the peel strength P1 and the peel strength P2 is preferably 15 mN / 25 mm or more, preferably 40 mN / 25 mm or more, in order to facilitate peeling of only the peel base material B before transfer. More preferably, it is 100 mN / 25 mm or more. If the difference is too large, it may be difficult to peel off the peeling base material A after transfer. Therefore, the difference is preferably 450 mN / 25 mm or less, and more preferably 350 mN / 25 mm or less. ..

剥離基材Bと接着層との間の剥離強度は、10mN/25mm以上であることが好ましく、20mN/25mm以上であることがより好ましく、30mN/25mm以上であることがさらに好ましい。剥離強度が10mN/25mm以上であることにより、剥離基材Bが接着層から、意図しないタイミングで剥離することを防ぐことができる。また、剥離基材Bと接着層との間の剥離強度は、90mN/mm以下であることが好ましく、80mN/mm以下であることがより好ましく、70mN/mm以下であることがさらに好ましい。剥離強度が90mN/mm以下であることで、剥離基材Bを剥離して除去する際に、上述の剥離基材Aが剥がれることを抑止し、剥離基材Bのみを剥離しやすくなる。 The peel strength between the peeling base material B and the adhesive layer is preferably 10 mN / 25 mm or more, more preferably 20 mN / 25 mm or more, and further preferably 30 mN / 25 mm or more. When the peel strength is 10 mN / 25 mm or more, it is possible to prevent the peel base material B from peeling from the adhesive layer at an unintended timing. The peel strength between the peeling base material B and the adhesive layer is preferably 90 mN / mm or less, more preferably 80 mN / mm or less, and further preferably 70 mN / mm or less. When the peeling strength is 90 mN / mm or less, when the peeling base material B is peeled off and removed, the above-mentioned peeling base material A is suppressed from being peeled off, and only the peeling base material B can be easily peeled off.

剥離基材Bは、転写層と剥離可能であれば特に制限されることなく、プラスチックフィルムが好適に用いられる。
剥離基材Bとして用いるプラスチックフィルムとしては、剥離基材Aのプラスチックフィルムで例示したものと同様のものを用いることができる。
剥離基材Bは、例示したプラスチックフィルムの中でも、取り扱い性を向上させるために、ポリエステルを用いることが好ましい。
The release base material B is not particularly limited as long as it can be separated from the transfer layer, and a plastic film is preferably used.
As the plastic film used as the peeling base material B, the same ones as those exemplified in the plastic film of the peeling base material A can be used.
Among the illustrated plastic films, polyester is preferably used as the release base material B in order to improve handleability.

剥離基材Bの厚みは特に限定されないが、取り扱い性を向上させるために、10μm以上200μm以下であることが好ましく、20μm以上150μm以下であることがより好ましく、30μm以上100μm以下であることがさらに好ましい。 The thickness of the release base material B is not particularly limited, but in order to improve handleability, it is preferably 10 μm or more and 200 μm or less, more preferably 20 μm or more and 150 μm or less, and further preferably 30 μm or more and 100 μm or less. preferable.

転写シートを構成する各層の厚みは、例えば、走査型電子顕微鏡(SEM)、透過型電子顕微鏡(TEM)又は走査透過型電子顕微鏡(STEM)を用いて撮影した断面の画像から20箇所の厚みを測定し、20箇所の値の平均値から算出できる。測定する膜厚がμmオーダーの場合、SEMを用いることが好ましく、nmオーダーの場合、TEM又はSTEMを用いることが好ましい。SEMの場合、加速電圧は1kV以上10kV以下、倍率は1000倍以上7000倍以下とすることが好ましく、TEM又はSTEMの場合、加速電圧は10kV以上30kV以下、倍率は5万倍以上30万倍以下とすることが好ましい。 The thickness of each layer constituting the transfer sheet is, for example, the thickness of 20 points from the cross-sectional image taken by using a scanning electron microscope (SEM), a transmission electron microscope (TEM), or a scanning transmission electron microscope (STEM). It can be measured and calculated from the average value of 20 values. When the film thickness to be measured is on the order of μm, it is preferable to use SEM, and when the film thickness is on the order of nm, it is preferable to use TEM or STEM. In the case of SEM, the acceleration voltage is preferably 1 kV or more and 10 kV or less, and the magnification is preferably 1000 times or more and 7000 times or less. In the case of TEM or STEM, the acceleration voltage is 10 kV or more and 30 kV or less, and the magnification is 50,000 times or more and 300,000 times or less. Is preferable.

[積層体]
本発明の積層体は、ガラス基材上に、接着層、ハードコート層及び反射防止層をこの順に含み、前記接着層が熱可塑性樹脂及び電離放射線硬化性樹脂組成物を含むことを特徴としている。
[Laminate]
The laminate of the present invention is characterized in that an adhesive layer, a hard coat layer and an antireflection layer are contained in this order on a glass base material, and the adhesive layer contains a thermoplastic resin and an ionizing radiation curable resin composition. ..

積層体の接着層中の電離放射線硬化性樹脂組成物において、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は、80質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましく、100質量%であることがさらに好ましい。
なお、積層体の接着層中の電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は、転写シートの接着層中の電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物の割合よりも高いことが好ましい。すなわち、積層体の製造時に電離放射線を照射し、転写シートの接着層よりも、積層体の接着層の電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化の度合いを高めることが好ましい。
In the ionizing radiation curable resin composition in the adhesive layer of the laminate, the ratio of the cured product of the ionizing radiation curable resin composition is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and 100% by mass. Is even more preferable.
The ratio of the cured product of the ionizing radiation curable resin composition in the adhesive layer of the laminate is preferably higher than the ratio of the cured product of the ionizing radiation curable resin composition in the adhesive layer of the transfer sheet. That is, it is preferable to irradiate ionizing radiation during the production of the laminate to increase the degree of curing of the ionizing radiation curable resin composition of the adhesive layer of the laminate rather than the adhesive layer of the transfer sheet.

図2は、本発明の積層体の一実施形態を示す断面図である。図2の積層体2は、被着体50上に、接着層40、ハードコート層30及び反射防止層20をこの順に有している。
図2の積層体2は、図示はされていないが、積層体2を構成する各層の密着性を向上するために、層と層との間にアンカー層を有しても良い。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an embodiment of the laminated body of the present invention. The laminated body 2 of FIG. 2 has an adhesive layer 40, a hard coat layer 30, and an antireflection layer 20 on the adherend 50 in this order.
Although the laminated body 2 of FIG. 2 is not shown, an anchor layer may be provided between the layers in order to improve the adhesion of each layer constituting the laminated body 2.

本発明の積層体を構成する反射防止層の実施の形態は、前述した転写シートの反射防止層の実施の形態と同様である。 The embodiment of the antireflection layer constituting the laminated body of the present invention is the same as the embodiment of the antireflection layer of the transfer sheet described above.

本発明の積層体の接着層は、電離放射線硬化性樹脂組成物及び熱可塑性樹脂を含むことを要する。接着層に熱可塑性樹脂が含まれないと、接着層とガラス等の被着物との密着性が低下し、積層体表面に所定の機能が付与されない。また、接着層に電離放射線硬化性樹脂が含まれないと、転写層の硬度が低くなり、積層体の表面硬度を高くできない。 The adhesive layer of the laminate of the present invention needs to contain an ionizing radiation curable resin composition and a thermoplastic resin. If the adhesive layer does not contain a thermoplastic resin, the adhesiveness between the adhesive layer and an adherend such as glass is lowered, and a predetermined function is not imparted to the surface of the laminate. Further, if the adhesive layer does not contain an ionizing radiation curable resin, the hardness of the transfer layer becomes low, and the surface hardness of the laminated body cannot be increased.

積層体の接着層に含まれる熱可塑性樹脂の実施の形態は、前述した転写シートの接着層に含まれる熱可塑性樹脂の実施の形態と同様である。
また、積層体の接着層に含まれる電離放射線硬化性樹脂の実施の形態は、前述した転写シートの接着層に含まれる電離放射線硬化性樹脂の実施の形態と同様である。但し、積層体の電離放射線硬化性樹脂に含まれる、電離放射線硬化性樹脂の硬化物の好適な割合は、前述の通りであることが好ましい。
The embodiment of the thermoplastic resin contained in the adhesive layer of the laminate is the same as the embodiment of the thermoplastic resin contained in the adhesive layer of the transfer sheet described above.
Further, the embodiment of the ionizing radiation curable resin contained in the adhesive layer of the laminated body is the same as the embodiment of the ionizing radiation curable resin contained in the adhesive layer of the transfer sheet described above. However, the preferable ratio of the cured product of the ionizing radiation curable resin contained in the ionizing radiation curable resin of the laminated body is preferably as described above.

積層体の接着層に含まれる、前記熱可塑性樹脂の質量Mと前記電離放射線硬化性樹脂組成物の質量Mとの質量比M/Mは、0.10以上であることが好ましく、0.15以上であることがより好ましく、0.20以上であることがさらに好ましく、0.40以上であることが特に好ましい。M/Mが0.10以上であることで、接着層の硬度を高くできるため、被着体の硬度が接着層によって損なわれず、積層体の表面硬度に反映されやすくなり、特に被着体がガラス等の硬い素材の場合、積層体の表面硬度を高くでき、積層体表面に傷が生じることを防止できる。
また、質量比M/Mは、1.30以下であることが好ましく、1.20以下であることがより好ましく、1.00以下であることがさらに好ましく、0.80以下であることが特に好ましい。M/Mが1.30以下であることで、被着体と接着層との密着性が向上し、被着体から転写層が剥離し脱落することを抑止できる。
Contained in the adhesive layer of the laminate, the weight ratio M B / M A of the mass M B of the mass M A of the thermoplastic resin wherein the ionizing radiation curable resin composition is preferably 0.10 or more , 0.15 or more, more preferably 0.20 or more, and particularly preferably 0.40 or more. M B / M A that is 0.10 or more, it is possible to increase the hardness of the adhesive layer, the hardness of the adherend is not impaired by the adhesive layer, likely to be reflected in the surface hardness of the laminate, in particular deposition When the body is made of a hard material such as glass, the surface hardness of the laminated body can be increased, and the surface of the laminated body can be prevented from being scratched.
Further it, the mass ratio M B / M A, preferably 1.30 or less, more preferably 1.20 or less, further preferably 1.00 or less, 0.80 or less Is particularly preferable. By M A / M B is 1.30 or less, improves adhesion between the adhesive layer and the adherend, possible to prevent the transfer layer is peeled off from the adherend.

本発明の積層体を構成するハードコート層の実施の形態は、前述した転写シートのハードコート層の実施の形態と同様である。但し、積層体のハードコート層に含まれる硬化性樹脂組成物において、硬化樹脂組成物に含まれる、硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は、80質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましく、100質量%であることがさらに好ましい。
なお、積層体のハードコート層中の硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は、転写シートのハードコート層中の硬化性樹脂組成物の硬化物の割合よりも高いことが好ましい。すなわち、積層体の製造時に、電離放射線の照射やエージング等により硬化性樹脂組成物の硬化を促進させ、転写シートのハードコート層よりも、積層体のハードコート層の硬化性樹脂組成物の硬化の度合いを高めることが好ましい。
The embodiment of the hard coat layer constituting the laminate of the present invention is the same as the embodiment of the hard coat layer of the transfer sheet described above. However, in the curable resin composition contained in the hard coat layer of the laminate, the ratio of the cured product of the curable resin composition contained in the cured resin composition is preferably 80% by mass or more, preferably 90% by mass or more. More preferably, it is more preferably 100% by mass.
The ratio of the cured product of the curable resin composition in the hard coat layer of the laminate is preferably higher than the ratio of the cured product of the curable resin composition in the hard coat layer of the transfer sheet. That is, during the production of the laminate, the curing of the curable resin composition is promoted by irradiation with ionizing radiation, aging, etc., and the curable resin composition of the hard coat layer of the laminate is cured rather than the hard coat layer of the transfer sheet. It is preferable to increase the degree of.

本発明の積層体は、必要に応じてアンカー層を含んでもよい。本発明の積層体がアンカー層を含む場合の実施の形態は、前述した転写シートのアンカー層の実施の形態と同様である。但し、積層体のアンカー層に含まれる硬化性樹脂組成物において、硬化樹脂組成物に含まれる、硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は、80質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましく、100質量%であることがさらに好ましい。
なお、積層体のアンカー層中の硬化性樹脂組成物の硬化物の割合は、転写シートのアンカー層中の硬化性樹脂組成物の硬化物の割合よりも高いことが好ましい。すなわち、積層体の製造時に、電離放射線の照射やエージング等により硬化性樹脂組成物の硬化を促進させ、転写シートのアンカー層よりも、積層体のアンカー層の硬化性樹脂組成物の硬化の度合いを高めることが好ましい。
The laminate of the present invention may include an anchor layer, if necessary. The embodiment when the laminate of the present invention includes an anchor layer is the same as the embodiment of the anchor layer of the transfer sheet described above. However, in the curable resin composition contained in the anchor layer of the laminate, the ratio of the cured product of the curable resin composition contained in the cured resin composition is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more. It is preferably 100% by mass, and more preferably 100% by mass.
The ratio of the cured product of the curable resin composition in the anchor layer of the laminate is preferably higher than the ratio of the cured product of the curable resin composition in the anchor layer of the transfer sheet. That is, during the production of the laminate, the curing of the curable resin composition is promoted by irradiation with ionizing radiation, aging, etc., and the degree of curing of the curable resin composition of the anchor layer of the laminate is higher than that of the anchor layer of the transfer sheet. It is preferable to increase.

本発明の積層体は、後述するガラス基材と前記接着層との間において、格子パターンの各方向でのカット数が11個、カットの間隔が1mmの条件で、JIS K 5600−5−6:1999に規定されるクロスカット法により実施された密着性の評価結果が、前記格子パターンで剥がれの確認できるクロスカット部分が5%未満であることが好ましい。剥がれの確認できるクロスカット部分が5%未満であると、ガラス基材等の被着体と、接着層との間の密着強度が高く、積層体から転写層が剥離し脱離することを抑止できる。 The laminate of the present invention has JIS K 5600-5-6 under the conditions that the number of cuts in each direction of the lattice pattern is 11 and the cut interval is 1 mm between the glass base material described later and the adhesive layer. : It is preferable that the cross-cut portion where peeling can be confirmed in the lattice pattern is less than 5% in the evaluation result of the adhesion carried out by the cross-cut method specified in 1999. When the cross-cut portion where peeling can be confirmed is less than 5%, the adhesion strength between the adherend such as a glass substrate and the adhesive layer is high, and the transfer layer is prevented from peeling off from the laminated body. can.

本発明の積層体の表面硬度は、JIS K 5600−5−4:1999のひっかき硬度(鉛筆法)に規定される鉛筆硬度がH以上であることが好ましく、2H以上であることがより好ましい。鉛筆硬度がH以上であると、反射防止層に傷が入りづらく、積層体の反射防止機能を良好にしやすくなり、さらに被着体の質感を生かしやすくなる。 As for the surface hardness of the laminate of the present invention, the pencil hardness defined in JIS K 5600-5-4: 1999 scratch hardness (pencil method) is preferably H or more, and more preferably 2H or more. When the pencil hardness is H or more, the antireflection layer is less likely to be scratched, the antireflection function of the laminated body is easily improved, and the texture of the adherend is easily utilized.

[被着体]
本発明の積層体における被着体は、ガラス基材である。ガラス基材としては、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス及び石英ガラス等のガラスからなる基材が挙げられる。
また、被着体の形状も特に限定されず、平板状のものであってもよいし、三次元形状を有するものであってもよい。
[Subject]
The adherend in the laminate of the present invention is a glass base material. Examples of the glass base material include a base material made of glass such as soda-lime glass, borosilicate glass and quartz glass.
Further, the shape of the adherend is not particularly limited, and may be a flat plate shape or a three-dimensional shape.

被着体の厚みは、0.1mm以上10mm以下であることが好ましく、0.5mm以上8mm以下であることがより好ましく、0.5mm以上5mm以下であることがさらに好ましい。 The thickness of the adherend is preferably 0.1 mm or more and 10 mm or less, more preferably 0.5 mm or more and 8 mm or less, and further preferably 0.5 mm or more and 5 mm or less.

[転写シートの製造方法]
本発明の転写シートの製造方法は、剥離基材B上に接着層を形成する工程、該接着層上にハードコート層を形成する工程、該ハードコート層上に反射防止層を形成する工程、及び該反射防止層上に剥離基材Aを積層する工程を少なくとも含む。
[Manufacturing method of transfer sheet]
The method for producing a transfer sheet of the present invention includes a step of forming an adhesive layer on the release base material B, a step of forming a hard coat layer on the adhesive layer, and a step of forming an antireflection layer on the hard coat layer. At least a step of laminating the release base material A on the antireflection layer is included.

(接着層形成工程)
接着層の形成工程は、前記剥離基材B上に接着層を形成する工程である。接着層の形成方法としては、前述の通り公知の塗布方法を用いることができ、例えばグラビアコートにより形成できる。
尚、接着層形成時に、電離放射線を照射し接着層を硬化してもよく、照射しなくてもよい。
(Adhesive layer forming process)
The step of forming the adhesive layer is a step of forming the adhesive layer on the release base material B. As a method for forming the adhesive layer, a known coating method can be used as described above, and the adhesive layer can be formed by, for example, a gravure coat.
At the time of forming the adhesive layer, the adhesive layer may or may not be irradiated with ionizing radiation.

接着層を形成時、接着層に含まれる熱可塑性樹脂の質量Mと電離放射線硬化性樹脂組成物の質量Mとの質量比M/Mが、0.10以上であることが好ましく、0.15以上であることがより好ましく、0.20以上であることがさらに好ましく、0.40以上であることが特に好ましい。また、質量比M/Mは、1.30以下であることが好ましく、1.20以下であることがより好ましく、1.00以下であることがさらに好ましく、0.80以下であることが特に好ましい。
/Mが1.30以下であることで、接着層形成時に電離放射線を照射せずとも、タックのない接着層を形成できるため、速やかに次工程へ進むことができる。
また、上述したように、接着層に含まれる電離放射線硬化性樹脂組成物が紫外線硬化性樹脂であって、かつ接着層上に形成する層が紫外線硬化樹脂を含む場合に、接着層と接着層上に形成する層との層間強度を向上でき、耐擦傷性を向上させる効果を発揮できる。M/Mを1.30以下として、かつ、接着層の形成時に紫外線を照射しないことにより、当該効果をさらに顕著なものとすることができる。
When forming an adhesive layer, the mass ratio M B / M A of the mass M B of the mass M A and the ionizing radiation curable resin composition of the thermoplastic resin contained in the adhesive layer is preferably 0.10 or more , 0.15 or more, more preferably 0.20 or more, and particularly preferably 0.40 or more. Further it, the mass ratio M B / M A, preferably 1.30 or less, more preferably 1.20 or less, further preferably 1.00 or less, 0.80 or less Is particularly preferable.
By M B / M A is 1.30 or less, without irradiating ionizing radiation at the time of bonding layer formed, it is possible to form a tack-free adhesive layer, it is possible to quickly proceed to the next step.
Further, as described above, when the ionizing radiation curable resin composition contained in the adhesive layer is an ultraviolet curable resin and the layer formed on the adhesive layer contains an ultraviolet curable resin, the adhesive layer and the adhesive layer are formed. The interlayer strength with the layer formed on the top can be improved, and the effect of improving the scratch resistance can be exhibited. The M B / M A as 1.30 or less, and, by not irradiated with ultraviolet rays when forming the adhesive layer, can be made more remarkable the effect.

また、接着層の形成工程前に、前記剥離基材Bの表面を剥離処理する工程を含んでもよい。前記剥離処理は、接着層形成工程で、剥離基材Bが接着層と接する面に、上述した剥離剤を塗布することでできる。前述の剥離剤の塗布は、公知の塗布方法を用いることができ、例えばグラビアコートで塗布できる。 Further, a step of peeling the surface of the peeling base material B may be included before the step of forming the adhesive layer. The peeling treatment can be performed by applying the above-mentioned peeling agent to the surface where the peeling base material B comes into contact with the adhesive layer in the adhesive layer forming step. A known coating method can be used for coating the above-mentioned release agent, for example, a gravure coat can be applied.

(ハードコート層形成工程)
ハードコート層の形成工程は、前記接着層上にハードコート層を形成する工程である。ハードコート層の形成方法としては、前述の通り公知の塗布方法を用いることができ、例えばグラビアコートにより形成できる。
また、ハードコート層を形成時、電離放射線の照射量を調節することによって、半硬化(ハーフキュア)状態とすることができる。
(Hard coat layer forming process)
The hard coat layer forming step is a step of forming a hard coat layer on the adhesive layer. As a method for forming the hard coat layer, a known coating method can be used as described above, and for example, it can be formed by a gravure coat.
Further, when the hard coat layer is formed, the semi-cured state can be obtained by adjusting the irradiation amount of ionizing radiation.

尚、接着層を形成する際に、電離放射線を照射しない場合は、ハードコート形成時に電離放射線を照射することによって、接着層の電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化できる。 When the adhesive layer is not irradiated with ionizing radiation, the ionizing radiation curable resin composition of the adhesive layer can be cured by irradiating the adhesive layer with ionizing radiation at the time of forming the hard coat.

(反射防止層形成工程)
反射防止層の形成工程は、前記ハードコート層上に反射防止層として、低屈折率層及び高屈折率層を積層する工程である。反射防止層として低屈折率層及び高屈折率層の形成方法としては、前述の通り公知のウェット法又はドライ法を用いることができる。ウェット法を用いる場合は、例えばグラビアコートで塗布し形成できる。また、ドライ法を用いる場合は、例えば化学気相成長法により形成できる。
(Anti-reflection layer forming process)
The step of forming the antireflection layer is a step of laminating a low refractive index layer and a high refractive index layer on the hard coat layer as an antireflection layer. As a method for forming the low refractive index layer and the high refractive index layer as the antireflection layer, a known wet method or dry method can be used as described above. When the wet method is used, it can be formed by applying, for example, a gravure coat. When the dry method is used, it can be formed by, for example, a chemical vapor deposition method.

(剥離基材A形成工程)
剥離基材Aの形成工程は、前記反射防止層上に剥離基材Aを形成する工程であり、例えば公知のラミネート法で積層できる。
(Peeling base material A forming step)
The step of forming the peeling base material A is a step of forming the peeling base material A on the antireflection layer, and can be laminated by, for example, a known laminating method.

また、剥離基材Aの形成工程の前に、剥離基材A上に粘着層を形成する工程を含んでもよい。前記粘着層は、剥離基材A形成工程で、剥離基材Aが反射防止層と接する面に形成できる。前記粘着層の形成方法は公知の塗布方法を用いることができ、例えばグラビアコートにより形成できる。 Further, a step of forming an adhesive layer on the peeling base material A may be included before the step of forming the peeling base material A. The adhesive layer can be formed on the surface where the release base material A is in contact with the antireflection layer in the release base material A forming step. A known coating method can be used as the method for forming the adhesive layer, and the adhesive layer can be formed by, for example, a gravure coat.

(アンカー層形成工程)
転写シートの製造工程には、さらにアンカー層の形成工程を含んでもよい。アンカー層の形成工程は、転写シートを構成する層と層との間にアンカー層を形成する工程である。アンカー層の形成方法としては、公知の塗布方法を用いることができ、例えばグラビアコートにより形成できる。
(Anchor layer forming process)
The transfer sheet manufacturing step may further include a step of forming an anchor layer. The process of forming the anchor layer is a step of forming an anchor layer between the layers constituting the transfer sheet. As a method for forming the anchor layer, a known coating method can be used, and for example, it can be formed by a gravure coat.

[積層体の製造方法]
本発明の積層体は、上述した被着体上に、本発明の転写シートの転写層を転写することによって、製造できる。
[Manufacturing method of laminated body]
The laminate of the present invention can be produced by transferring the transfer layer of the transfer sheet of the present invention onto the adherend described above.

また、本発明の積層体は、下記の工程(1)〜(4)の工程により、被着体に上述の転写シートから転写層を転写することによって、製造できる。
(1)ガラス基材上に、上述の転写シートを、転写シートの接着層側の面を接して重ね合わせる工程。
(2)転写シートの剥離基材A側から加熱及び加圧し、ガラス基材と転写シートの接着層を密着させる工程。
(3)密着させたガラス基材と転写シートから、転写シートの剥離基材Aを剥離し除去する工程。
(4)転写層の反射防止層側から、電離放射線を照射し、転写層の硬化を進行させる工程。
Further, the laminate of the present invention can be produced by transferring the transfer layer from the above-mentioned transfer sheet to the adherend by the following steps (1) to (4).
(1) A step of superimposing the above-mentioned transfer sheet on a glass base material in contact with the surface of the transfer sheet on the adhesive layer side.
(2) A step of heating and pressurizing from the peeling base material A side of the transfer sheet to bring the glass base material and the adhesive layer of the transfer sheet into close contact with each other.
(3) A step of peeling and removing the peeling base material A of the transfer sheet from the glass base material and the transfer sheet that are in close contact with each other.
(4) A step of irradiating ionizing radiation from the antireflection layer side of the transfer layer to promote curing of the transfer layer.

工程(1)及び(2)は、ロール転写装置等により加熱及び加圧を併用したラミネート法により実施できる。 The steps (1) and (2) can be carried out by a laminating method in which heating and pressurization are combined with a roll transfer device or the like.

工程(2)において、転写シートの剥離基材A側の表面温度は、110℃以下が好ましく、100℃以下がより好ましく、90℃以下がさらに好ましく、80℃以下が特に好ましい。工程(2)における転写シートの剥離基材A側の表面温度を110℃以下にすることによって、剥離基材Aが軟化し変形しにくくなり、転写層にクラックが生じることを防ぎやすくなる。工程(2)における転写シートの表面温度の下限値は、ガラス基材と転写シートが密着されれば特に制限はされないが、通常は35℃以上であり、40℃以上が好ましく、45℃以上がより好ましい。 In the step (2), the surface temperature of the transfer sheet on the peeling base material A side is preferably 110 ° C. or lower, more preferably 100 ° C. or lower, further preferably 90 ° C. or lower, and particularly preferably 80 ° C. or lower. By setting the surface temperature of the transfer sheet on the release base material A side of the transfer sheet to 110 ° C. or lower in the step (2), the release base material A softens and is less likely to be deformed, and it becomes easier to prevent cracks from occurring in the transfer layer. The lower limit of the surface temperature of the transfer sheet in the step (2) is not particularly limited as long as the glass substrate and the transfer sheet are in close contact with each other, but is usually 35 ° C. or higher, preferably 40 ° C. or higher, and 45 ° C. or higher. More preferred.

また、上述の転写シートが、接着層の剥離基材Aとは反対側の面に剥離基材Bを有する場合、上述の工程(1)の工程の前に、下記工程(0)の工程を有することが好ましい。
(0)転写シートから剥離基材Bを剥離し、接着層を露出させる工程。
Further, when the above-mentioned transfer sheet has the peeling base material B on the surface opposite to the peeling base material A of the adhesive layer, the step of the following step (0) is performed before the step of the above-mentioned step (1). It is preferable to have.
(0) A step of peeling the peeling base material B from the transfer sheet to expose the adhesive layer.

[画像表示装置]
本発明の画像表示装置は、表示素子の光出射面側に、上述した本発明の積層体を有するものである。
[Image display device]
The image display device of the present invention has the above-mentioned laminate of the present invention on the light emitting surface side of the display element.

積層体は、ガラス基材を基準として、反射防止層側の面が、表示素子とは反対側の面を向くように配置されてなることが好ましい。
また、積層体は、画像表示装置の最表面に配置されてなることが好ましい。
The laminate is preferably arranged so that the surface on the antireflection layer side faces the surface on the side opposite to the display element with reference to the glass base material.
Further, the laminated body is preferably arranged on the outermost surface of the image display device.

表示素子としては、液晶表示素子、EL表示素子(有機EL表示素子、無機EL表示素子)、プラズマ表示素子等が挙げられ、さらには、マイクロLED表示素子等のLED表示素子が挙げられる。これら表示素子は、表示素子の内部にタッチパネル機能を有していてもよい。
液晶表示素子の液晶の表示方式としては、IPS方式、VA方式、マルチドメイン方式、OCB方式、STN方式、TSTN方式等が挙げられる。表示素子が液晶表示素子である場合、バックライトが必要である。バックライトは、液晶表示素子の積層体を有する側とは反対側に配置される。
画像表示装置は、タッチパネル付きの画像表示装置であってもよい。
Examples of the display element include a liquid crystal display element, an EL display element (organic EL display element, an inorganic EL display element), a plasma display element, and the like, and further, an LED display element such as a micro LED display element can be mentioned. These display elements may have a touch panel function inside the display element.
Examples of the liquid crystal display method of the liquid crystal display element include an IPS method, a VA method, a multi-domain method, an OCB method, an STN method, and a TSTN method. When the display element is a liquid crystal display element, a backlight is required. The backlight is arranged on the side opposite to the side having the laminated body of the liquid crystal display elements.
The image display device may be an image display device with a touch panel.

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。尚、本発明は実施例に記載の形態に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to the embodiments described in the examples.

1.評価、測定
実施例及び比較例で得られた積層体に係る諸特性について、下記要領に従って評価した。結果を表1にまとめる。
1. 1. Evaluation and measurement Various characteristics of the laminate obtained in Examples and Comparative Examples were evaluated according to the following procedure. The results are summarized in Table 1.

1−1.密着性
転写層の密着性の評価は、JIS K 5600−5−6:1999に規定されるクロスカット法に準拠し測定した。
サンプルは、実施例及び比較例で作製した積層体を、23℃、相対湿度50%の環境下で24時間保管した後に、縦10マス×横10マス=100マスの碁盤目状(カット数:格子パターンの各方向に11個、カット間隔:1mm)に、刃先が転写層からガラス基材まで到達するようにクロスカットした。
上記クロスカットを施したサンプルの、クロスカットを施した表面に、粘着テープ(ニチバン株式会社製、製品名「セロテープ(登録商標)」)を貼り付けし、JIS K 5600−5−6:1999に規定されるクロスカット法に準拠し剥離試験を行った。
剥離試験の結果より、下記評価基準により密着性を評価した。
<評価基準>
A:格子パターンで剥がれの確認できるクロスカット部分が5%未満。
B:格子パターンで剥がれの確認できるクロスカット部分が5%以上15%未満。
C:格子パターンで剥がれの確認できるクロスカット部分が15%以上。
1-1. Adhesion The adhesion of the transfer layer was evaluated according to the cross-cut method specified in JIS K 5600-5-6: 1999.
The sample is a grid pattern of 10 squares x 10 squares = 100 squares (number of cuts:) after the laminates prepared in Examples and Comparative Examples are stored for 24 hours in an environment of 23 ° C. and 50% relative humidity. 11 pieces were cut in each direction of the lattice pattern, and the cutting interval was 1 mm) so that the cutting edge reached from the transfer layer to the glass substrate.
Adhesive tape (manufactured by Nichiban Co., Ltd., product name "Cellotape (registered trademark)") was attached to the cross-cut surface of the above cross-cut sample to form JIS K 5600-5-6: 1999. A peeling test was conducted in accordance with the specified cross-cut method.
Based on the results of the peeling test, the adhesion was evaluated according to the following evaluation criteria.
<Evaluation criteria>
A: Less than 5% of the cross-cut parts can be confirmed to be peeled off in the grid pattern.
B: The cross-cut portion where peeling can be confirmed in the grid pattern is 5% or more and less than 15%.
C: The cross-cut part where peeling can be confirmed in the grid pattern is 15% or more.

1−2.鉛筆硬度
積層体の表面硬度の硬度は、JIS K 5600−5−4:1999のひっかき硬度(鉛筆法)に準拠し、鉛筆硬度として測定した。
実施例及び比較例の積層体の反射防止層側の面に、所定の硬度を有する鉛筆を、サンプルの面に対して45°の角度であて、750g荷重で10mm/secの速度で動かし、鉛筆硬度を測定した。
それぞれのサンプルに対し、各硬度を有する鉛筆を用いて、上記操作を3回実施した。この時、1本も傷が入らなかった鉛筆の内、最も硬いものを、そのサンプルの鉛筆硬度とし、表1に記載した。
1-2. Pencil hardness The surface hardness of the laminate was measured as the pencil hardness in accordance with JIS K 5600-5-4: 1999 scratch hardness (pencil method).
A pencil having a predetermined hardness was moved on the surface of the laminate of Examples and Comparative Examples on the antireflection layer side at an angle of 45 ° with respect to the surface of the sample at a speed of 10 mm / sec with a load of 750 g. The hardness was measured.
For each sample, the above operation was performed three times using a pencil having each hardness. At this time, among the pencils that did not have any scratches, the hardest one was defined as the pencil hardness of the sample and is shown in Table 1.

1−3.耐擦傷性
実施例及び比較例の積層体の反射防止層側の面に対して、100g/mの荷重でスチールウール(「ボンスター#0000」、日本スチールウール社製)を100往復させて、表面の状態を目視で観察し、下記基準で評価した。
<評価基準>
A:艶の変化が確認されない。
C:傷付きが確認され、艶変化が確認された。
1-3. Scratch resistance Steel wool (“Bonster # 0000”, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) is reciprocated 100 times with a load of 100 g / m 2 against the surface of the laminate of Examples and Comparative Examples on the antireflection layer side. The surface condition was visually observed and evaluated according to the following criteria.
<Evaluation criteria>
A: No change in luster is confirmed.
C: Scratches were confirmed, and gloss change was confirmed.

1−4.指触乾燥
後述の実施例及び比較例の転写シートの作製において、接着層を塗工し乾燥した後に、接着層の塗工面を指で触った後、表面の状態を目視で観察し、下記基準で評価した。
<評価基準>
A:表面の変化が確認されない。
B:わずかに表面の変化が確認された。
C:指で触った跡がはっきり確認された。
1-4. Drying to the touch In the preparation of the transfer sheets of Examples and Comparative Examples described later, after the adhesive layer is coated and dried, the coated surface of the adhesive layer is touched with a finger, and then the surface condition is visually observed, and the following criteria are used. Evaluated in.
<Evaluation criteria>
A: No surface change is confirmed.
B: A slight change in the surface was confirmed.
C: The trace of touching with a finger was clearly confirmed.

2.転写シート及び積層体の作製
(実施例1)
表面が離型処理された、厚み38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムからなる剥離基材B上に、下記処方の接着層形成用塗布液1を塗布し、乾燥(100℃、60秒)し、厚み3μmの接着層を形成した。
<接着層形成用塗布液1>
・ポリビニルブチラール(PVB) : 10質量部
(積水化学社製、商品名「エスレックBM−2」 ガラス転移温度:67℃)
・電離放射線硬化性樹脂A : 2質量部
(日本化薬社製、商品名「KAYARAD PET−30」)
・光重合開始剤 : 0.08質量部
(BASF社製、商品名「Ominirad 184」)
・溶剤 (イソプロパノール/メチルエチルケトン=1/15) : 適量
2. Preparation of transfer sheet and laminate (Example 1)
On the release base material B made of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm and whose surface has been mold-released, the coating liquid 1 for forming an adhesive layer according to the following formulation is applied, dried (100 ° C., 60 seconds), and has a thickness of 3 μm. An adhesive layer was formed.
<Coating liquid 1 for forming an adhesive layer>
-Polyvinyl butyral (PVB): 10 parts by mass (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., trade name "Eslek BM-2" glass transition temperature: 67 ° C)
-Ionizing radiation curable resin A: 2 parts by mass (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name "KAYARAD PET-30")
-Photopolymerization initiator: 0.08 parts by mass (manufactured by BASF, trade name "Ominirad 184")
-Solvent (isopropanol / methyl ethyl ketone = 1/15): Appropriate amount

次いで接着層上に、下記処方のハードコート層形成用塗布液を塗布し、乾燥(100℃60秒)後、ハードコート層側から紫外線を照射し、電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させ、厚み3μmのハードコート層を形成した。
<ハードコート層形成用塗布液>
・光重合開始剤 0.5質量部
(BASF社製、商品名「Omnirad 184」)
・反応性アクリルポリマー : 30.0質量部
(有効成分:35質量%、メチルエチルケトン/2,6−ジ−ターシャリーブチル−4−クレゾール混合溶剤)
・ウレタンアクリレート樹脂 : 5質量部
(有効成分:50質量%、1―メトキシ−2−プロパノール/PGM−AC/アクリル酸2−ヒドロキシプロピル/2,6−ジ−ターシャリーブチル−4−クレゾール混合溶剤)
・レベリング剤 : 0.2質量部
(DIC社製、商品名「メガファック F−560」、有効成分:20質量%)
・希釈溶剤 : 55.3質量部
(メチルイソブチルケトンとメチルエチルケトンとの2:8混合溶剤)
Next, a coating liquid for forming a hard coat layer having the following formulation is applied onto the adhesive layer, dried (100 ° C. for 60 seconds), and then irradiated with ultraviolet rays from the hard coat layer side to cure the ionizing radiation curable resin composition. A hard coat layer having a thickness of 3 μm was formed.
<Coating liquid for forming a hard coat layer>
-Photopolymerization initiator 0.5 parts by mass (manufactured by BASF, trade name "Omnirad 184")
-Reactive acrylic polymer: 30.0 parts by mass (active ingredient: 35% by mass, methyl ethyl ketone / 2,6-ditertiary butyl-4-cresol mixed solvent)
-Urethane acrylate resin: 5 parts by mass (active ingredient: 50% by mass, 1-methoxy-2-propanol / PGM-AC / 2-hydroxypropyl acrylate / 2,6-di-terriary butyl-4-cresol mixed solvent )
-Leveling agent: 0.2 parts by mass (manufactured by DIC, trade name "Megafuck F-560", active ingredient: 20% by mass)
-Diluting solvent: 55.3 parts by mass (2: 8 mixed solvent of methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone)

次いでハードコート層上に、下記処方の低屈折率層形成用塗布液を塗布し、乾燥(100℃60秒)後、ハードコート層側から紫外線を照射し、電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させ、厚み100nmの反射防止層を形成した。低屈折率層の屈折率は1.30であった。
<低屈折率層形成用塗布液>
・光重合開始剤 : 0.1質量部
(IGM Resins社製、商品名「Omnirad 127」)
・紫外線硬化性樹脂 : 1.1質量部
(新中村化学工業社製、商品名「NKエステル ATM−4PL」)
・中空シリカ : 6.3質量部(有効成分:1.3質量部)
(平均粒子径60nm)
・中実シリカ : 0.9質量部(有効成分:0.3質量部)
(平均粒子径12nm)
・フッ素系防汚剤 : 0.1質量部(有効成分:0.005質量部)
(DIC社製、商品名「メガファック F−568」)
・希釈溶剤 : 91.5質量部
(メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの9:1混合溶剤)
Next, a coating liquid for forming a low refractive index layer according to the following formulation is applied onto the hard coat layer, dried (100 ° C. for 60 seconds), and then irradiated with ultraviolet rays from the hard coat layer side to cure the ionizing radiation curable resin composition. To form an antireflection layer having a thickness of 100 nm. The refractive index of the low refractive index layer was 1.30.
<Coating liquid for forming a low refractive index layer>
-Photopolymerization initiator: 0.1 parts by mass (manufactured by IGM Resins, trade name "Omnirad 127")
-UV curable resin: 1.1 parts by mass (manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., trade name "NK ester ATM-4PL")
-Hollow silica: 6.3 parts by mass (active ingredient: 1.3 parts by mass)
(Average particle size 60 nm)
-Solid silica: 0.9 parts by mass (active ingredient: 0.3 parts by mass)
(Average particle size 12 nm)
-Fluorine-based antifouling agent: 0.1 parts by mass (active ingredient: 0.005 parts by mass)
(Product name "Mega Fvck F-568" manufactured by DIC Corporation)
-Diluting solvent: 91.5 parts by mass (9: 1 mixed solvent of methyl isobutyl ketone and propylene glycol monomethyl ether acetate)

次いで、反射防止層上に、粘着層を有する厚み38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムからなる剥離基材Aを、反射防止層と粘着層が対面するように貼り合わせ、実施例1で用いる転写シートを得た。 Next, a release base material A made of a polyethylene terephthalate film having an adhesive layer and a thickness of 38 μm was bonded onto the antireflection layer so that the antireflection layer and the adhesive layer faced each other to obtain a transfer sheet used in Example 1. ..

次いで、得られた転写シートから剥離基材Bを剥離し取り除き、接着層を露出させ、被着体であるガラス基材(厚み0.7mm、AGC社製、商品名「Dragontrail」)に、転写シートの接着層と被着体を重ね合わせ積層させた。積層させたのち、転写シート側より、ラミネーター(アコ・ブランズ・ジャパン社製、商品名「デスクトップロールラミネーターB316A3」)で、ラミロール温度100℃、搬送速度0.5m/minで加熱しながら加圧し、転写シートの転写層と被着体を密着させた。
次いで、密着させた転写シートから剥離基材Aを剥離し取り除き、反射防止層側から紫外線を照射し、接着層、ハードコート層及び反射防止層の硬化を進行させ、実施例1で用いる積層体を得た。
Next, the release base material B is peeled off from the obtained transfer sheet, the adhesive layer is exposed, and the transfer base material B is transferred to a glass base material (thickness 0.7 mm, manufactured by AGC Inc., trade name "Dragonrail") as an adherend. The adhesive layer of the sheet and the adherend were overlapped and laminated. After laminating, pressurize from the transfer sheet side with a laminator (manufactured by Aco Brands Japan, trade name "Desktop Roll Laminator B316A3") while heating at a laminator temperature of 100 ° C. and a transport speed of 0.5 m / min. The transfer layer of the transfer sheet and the adherend were brought into close contact with each other.
Next, the release base material A is peeled off from the adhered transfer sheet, and ultraviolet rays are irradiated from the antireflection layer side to advance the curing of the adhesive layer, the hard coat layer and the antireflection layer, and the laminate used in Example 1 is used. Got

(実施例2)
接着層形成用塗布液1の電離放射線硬化性樹脂Aの配合量を、4質量部に変更して接着層を形成した以外は、実施例1と同様にして、実施例2の転写シート及び積層体を得た。
(Example 2)
The transfer sheet and lamination of Example 2 were carried out in the same manner as in Example 1 except that the amount of the ionizing radiation curable resin A in the adhesive layer forming coating liquid 1 was changed to 4 parts by mass to form the adhesive layer. I got a body.

(実施例3)
接着層形成用塗布液1の電離放射線硬化性樹脂Aの配合量を、8質量部に変更して接着層を形成した以外は、実施例1と同様にして、実施例3の転写シート及び積層体を得た。
(Example 3)
The transfer sheet and lamination of Example 3 were carried out in the same manner as in Example 1 except that the amount of the ionizing radiation curable resin A in the adhesive layer forming coating liquid 1 was changed to 8 parts by mass to form the adhesive layer. I got a body.

(実施例4)
接着層形成用塗布液1の電離放射線硬化性樹脂Aの配合量を、12質量部に変更して接着層を形成した以外は、実施例1と同様にして、実施例4の転写シート及び積層体を得た。
(Example 4)
The transfer sheet and lamination of Example 4 were carried out in the same manner as in Example 1 except that the amount of the ionizing radiation curable resin A in the coating liquid 1 for forming the adhesive layer was changed to 12 parts by mass to form the adhesive layer. I got a body.

(実施例5)
接着層を下記処方の接着層形成用塗布液2に変更して形成した以外は、実施例1と同様にして、実施例5の転写シート及び積層体を得た。
<接着層形成用塗布液2>
・ポリビニルブチラール(PVB) : 10質量部
(積水化学社製、商品名「エスレックBM−2」 ガラス転移温度:67℃)
・電離放射線硬化性樹脂B : 4質量部
(日本化薬社製、商品名「KAYARAD DPHA」)
・光重合開始剤 : 0.08質量部
(BASF社製、商品名「Ominirad 184」)
・溶剤 (イソプロパノール/メチルエチルケトン=1/15) : 適量
(Example 5)
The transfer sheet and laminate of Example 5 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the adhesive layer was changed to the adhesive layer forming coating liquid 2 having the following formulation.
<Coating liquid 2 for forming an adhesive layer>
-Polyvinyl butyral (PVB): 10 parts by mass (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., trade name "Eslek BM-2" glass transition temperature: 67 ° C)
-Ionizing radiation curable resin B: 4 parts by mass (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name "KAYARAD DPHA")
-Photopolymerization initiator: 0.08 parts by mass (manufactured by BASF, trade name "Ominirad 184")
-Solvent (isopropanol / methyl ethyl ketone = 1/15): Appropriate amount

(実施例6)
接着層を下記処方の接着層形成用塗布液3に変更して形成した以外は、実施例1と同様にして、実施例6の転写シート及び積層体を得た。
<接着層形成用塗布液3>
・ポリビニルブチラール(PVB) : 10質量部
(積水化学社製、商品名「エスレックBM−2」 ガラス転移温度:67℃)
・電離放射線硬化性樹脂C : 4質量部
(新中村化学工業社製、商品名「NKエステル A−9300−1CL」)
・光重合開始剤 : 0.08質量部
(BASF社製、商品名「Ominirad 184」)
・溶剤 (イソプロパノール/メチルエチルケトン=1/15) : 適量
(Example 6)
A transfer sheet and a laminate of Example 6 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the adhesive layer was changed to the adhesive layer forming coating liquid 3 of the following formulation.
<Coating liquid for forming an adhesive layer 3>
-Polyvinyl butyral (PVB): 10 parts by mass (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., trade name "Eslek BM-2" glass transition temperature: 67 ° C)
-Ionizing radiation curable resin C: 4 parts by mass (manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., trade name "NK ester A-9300-1CL")
-Photopolymerization initiator: 0.08 parts by mass (manufactured by BASF, trade name "Ominirad 184")
-Solvent (isopropanol / methyl ethyl ketone = 1/15): Appropriate amount

(実施例7)
接着層を下記処方の接着層形成用塗布液4に変更して形成した以外は、実施例1と同様にして、実施例7の転写シート及び積層体を得た。
<接着層形成用塗布液4>
・エチレン―酢酸ビニル共重合体(EVA) : 10質量部
(東ソー社製、商品名「ウルトラセン760」 酢酸ビニル含有率:42%)
・電離放射線硬化性樹脂A : 4質量部
(日本化薬社製、商品名「KAYARAD PET−30」)
・光重合開始剤 : 0.08質量部
(BASF社製、商品名「Ominirad 184」)
・溶剤 (イソプロパノール/メチルエチルケトン=1/15) : 適量
(Example 7)
A transfer sheet and a laminate of Example 7 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the adhesive layer was changed to the adhesive layer forming coating liquid 4 having the following formulation.
<Coating liquid for forming an adhesive layer 4>
-Ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA): 10 parts by mass (manufactured by Tosoh Corporation, trade name "Ultrasen 760", vinyl acetate content: 42%)
-Ionizing radiation curable resin A: 4 parts by mass (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name "KAYARAD PET-30")
-Photopolymerization initiator: 0.08 parts by mass (manufactured by BASF, trade name "Ominirad 184")
-Solvent (isopropanol / methyl ethyl ketone = 1/15): Appropriate amount

(実施例8)
接着層を下記処方の接着層形成用塗布液5に変更して形成した以外は、実施例1と同様にして、実施例8の転写シート及び積層体を得た。
・ポリエステルウレタン樹脂 : 10質量部
(Mw:34000、Tg:65℃)
・電離放射線硬化性樹脂D : 5質量部
(イソホロンジイソシアネート骨格を有する多官能ウレタンアクリレート、Mw:1000)
・光重合開始剤 : 0.08質量部
(BASF社製、商品名「Ominirad 184」)
・溶剤 (トルエン/メチルエチルケトン=4/1) : 適量
(Example 8)
A transfer sheet and a laminate of Example 8 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the adhesive layer was formed by changing the coating liquid 5 for forming an adhesive layer according to the following formulation.
-Polyester urethane resin: 10 parts by mass (Mw: 34000, Tg: 65 ° C)
-Ionizing radiation curable resin D: 5 parts by mass (polyfunctional urethane acrylate having an isophorone diisocyanate skeleton, Mw: 1000)
-Photopolymerization initiator: 0.08 parts by mass (manufactured by BASF, trade name "Ominirad 184")
-Solvent (toluene / methyl ethyl ketone = 4/1): Appropriate amount

(比較例1)
接着層において、電離放射線硬化性樹脂を配合せずに形成した以外は実施例1と同様にして、比較例1の転写シート及び積層体を得た。
(Comparative Example 1)
A transfer sheet and a laminate of Comparative Example 1 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the adhesive layer was formed without blending an ionizing radiation curable resin.

(比較例2)
接着層において、電離放射線硬化性樹脂を配合せずに形成した以外は実施例7と同様にして、比較例2の転写シート及び積層体を得た。
(Comparative Example 2)
A transfer sheet and a laminate of Comparative Example 2 were obtained in the same manner as in Example 7 except that the adhesive layer was formed without blending an ionizing radiation curable resin.

Figure 2021133680
Figure 2021133680

表1の結果から、接着層が熱可塑性樹脂組成物と電離放射線硬化性樹脂とからなる、実施例1〜8の転写シート及び積層体は、転写層と被着体の密着性が良く、さらに積層体の表面硬度及び耐擦傷性を良好にできることが確認できる。尚、表1中では評価していないが、実施例1〜8の積層体は、被着体上に厚みの厚い支持体を有さないことから、手で触れた際の被着体(ガラス)の質感が維持され、質感が良好なものであった。 From the results in Table 1, the transfer sheets and laminates of Examples 1 to 8 in which the adhesive layer is composed of a thermoplastic resin composition and an ionizing radiation curable resin have good adhesion between the transfer layer and the adherend, and further. It can be confirmed that the surface hardness and scratch resistance of the laminated body can be improved. Although not evaluated in Table 1, the laminates of Examples 1 to 8 do not have a thick support on the adherend, and therefore, the adherend (glass) when touched by hand. ) Was maintained and the texture was good.

本発明の転写シート及び積層体によれば、被着体がもつ質感を良好に保ち、さらに、積層体の表面硬度が高く、傷の発生を抑止できる転写シート及び積層体を提供できる。上述のような特徴により、本発明の転写シート及び積層体は、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ等の画像表示装置の部材として、好適に用いられる。 According to the transfer sheet and the laminated body of the present invention, it is possible to provide the transfer sheet and the laminated body which can maintain a good texture of the adherend, have a high surface hardness of the laminated body, and can suppress the occurrence of scratches. Due to the above-mentioned characteristics, the transfer sheet and the laminate of the present invention are suitably used as members of an image display device such as a liquid crystal display and an organic EL display.

1:転写シート
2:積層体
10:剥離基材A
20:反射防止層
30:ハードコート層
40:接着層
50:被着体
100:転写層
1: Transfer sheet 2: Laminated body 10: Peeling base material A
20: Antireflection layer 30: Hard coat layer 40: Adhesive layer 50: Adhesion 100: Transfer layer

Claims (7)

剥離基材A上に転写層を有する転写シートであって、
前記転写層は、剥離基材A側から、反射防止層、ハードコート層及び接着層をこの順に有し、
前記接着層が熱可塑性樹脂及び電離放射線硬化性樹脂組成物を含む、転写シート。
A transfer sheet having a transfer layer on the release base material A.
The transfer layer has an antireflection layer, a hard coat layer, and an adhesive layer in this order from the release base material A side.
A transfer sheet in which the adhesive layer contains a thermoplastic resin and an ionizing radiation curable resin composition.
前記接着層の熱可塑性樹脂の質量Mと電離放射線硬化性樹脂組成物の質量Mとの質量比M/Mが、0.10以上1.30以下である、請求項1に記載の転写シート。 The mass ratio M B / M A of the mass M B of the mass M A and the ionizing radiation curable resin composition of the thermoplastic resin of the adhesive layer is 0.10 or more 1.30 or less, according to claim 1 Transfer sheet. ガラス基材上に、接着層、ハードコート層及び反射防止層をこの順に含み、前記接着層が熱可塑性樹脂及び電離放射線硬化性樹脂組成物を含む、積層体。 A laminate in which an adhesive layer, a hard coat layer, and an antireflection layer are contained in this order on a glass base material, and the adhesive layer contains a thermoplastic resin and an ionizing radiation curable resin composition. 前記接着層の熱硬化性樹脂の質量Mと電離放射線硬化性樹脂組成物の質量Mとの質量比M/Mが、0.10以上1.30以下である、請求項3に記載の積層体。 The mass ratio M B / M A of the mass M B of the mass M A and the ionizing radiation curable resin composition of the thermosetting resin of the adhesive layer is 0.10 or more 1.30 or less, to claim 3 The laminate described. 前記ガラス基材と前記接着層との間において、格子パターンの各方向でのカット数が11個、カットの間隔が1mmの条件で、JIS K 5600−5−6:1999に規定されるクロスカット法により実施された密着性の評価結果が、前記格子パターンで剥がれの確認できるクロスカット部分が5%未満である、請求項3又は4に記載の積層体。 The cross cut specified in JIS K 5600-5-6: 1999 under the condition that the number of cuts in each direction of the lattice pattern is 11 and the cut interval is 1 mm between the glass base material and the adhesive layer. The laminate according to claim 3 or 4, wherein the evaluation result of the adhesiveness carried out by the method shows that the cross-cut portion where peeling can be confirmed in the lattice pattern is less than 5%. 下記(1)〜(4)の工程を有する積層体の製造方法。
(1)ガラス基材上に、請求項1又は2に記載の転写シートを、前記転写シートの前記接着層側の面を接して重ね合わせる工程。
(2)前記転写シートの前記剥離基材A側から加熱及び加圧し、ガラス基材と前記転写シートの前記接着層を密着させる工程。
(3)密着させたガラス基材と前記転写シートから、前記転写シートの前記剥離基材Aを剥離し除去する工程。
(4)転写層の反射防止層側から、電離放射線を照射し、転写層の硬化を進行させる工程。
A method for producing a laminate having the following steps (1) to (4).
(1) A step of superimposing the transfer sheet according to claim 1 or 2 on a glass base material in contact with the surface of the transfer sheet on the adhesive layer side.
(2) A step of heating and pressurizing from the peeling base material A side of the transfer sheet to bring the glass base material and the adhesive layer of the transfer sheet into close contact with each other.
(3) A step of peeling and removing the peeling base material A of the transfer sheet from the glass base material and the transfer sheet that are in close contact with each other.
(4) A step of irradiating ionizing radiation from the antireflection layer side of the transfer layer to promote curing of the transfer layer.
表示素子上に、請求項3〜5のいずれか1項に記載の積層体を有する、画像表示装置。 An image display device having the laminate according to any one of claims 3 to 5 on a display element.
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