JP6934141B2 - Release film for transfer film and transfer film - Google Patents

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Description

本発明は、接着剤層やハードコート層などの転写層が積層された転写フィルムに用いられる離型フィルムおよび転写フィルムに関する。 The present invention relates to a release film and a transfer film used for a transfer film in which transfer layers such as an adhesive layer and a hard coat layer are laminated.

離型フィルム上に転写層が積層された転写フィルムが知られている。 A transfer film in which a transfer layer is laminated on a release film is known.

例えば、セパレータ(離型フィルム)上にエポキシ系接着剤が積層された、接着テープあるいは接着シート(転写フィルム)が知られている(例えば、特許文献1、2)。エポキシ系接着剤は、回路基板の封止樹脂あるいは多層プリント配線板の層間絶縁樹脂として用いることができることが知られている。 For example, an adhesive tape or an adhesive sheet (transfer film) in which an epoxy-based adhesive is laminated on a separator (release film) is known (for example, Patent Documents 1 and 2). It is known that the epoxy adhesive can be used as a sealing resin for a circuit board or an interlayer insulating resin for a multilayer printed wiring board.

また、基材上に離型層とハードコート層をこの順に有する転写箔(転写フィルム)が提案されている(例えば、特許文献3、4)。ハードコート層は、ウレタン(メタ)アクリレートやポリエステル(メタ)アクリレートなどの重合性化合物を含有する活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物からなる。 Further, a transfer foil (transfer film) having a release layer and a hard coat layer on the base material in this order has been proposed (for example, Patent Documents 3 and 4). The hard coat layer is made of a cured product of an active energy ray-curable composition containing a polymerizable compound such as urethane (meth) acrylate or polyester (meth) acrylate.

また、基材フィルム上に防汚硬化層が積層された転写フィルムが提案されている(例えば、特許文献5)。防汚硬化層はフッ素含有重合性モノマーを含有する。 Further, a transfer film in which an antifouling and curing layer is laminated on a base film has been proposed (for example, Patent Document 5). The antifouling hardened layer contains a fluorine-containing polymerizable monomer.

また、離型性を有する支持フィルム上に反射防止層が積層された転写材(転写フィルム)が提案されている(例えば、特許文献6)。この反射防止層は、含フッ素(メタ)アクリレート化合物と中空シリカを含有する。 Further, a transfer material (transfer film) in which an antireflection layer is laminated on a support film having releasability has been proposed (for example, Patent Document 6). This antireflection layer contains a fluorine-containing (meth) acrylate compound and hollow silica.

特開2005−39247号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-39247 特開2010−109383号公報JP-A-2010-109383 特開2013−185078号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-185078 特開2017−65017号公報JP-A-2017-65017 国際公開第2011/043361号International Publication No. 2011/0433361 特開2008−151930号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-151930

上記した転写フィルムにおける転写層、すなわち、エポキシ系接着剤層、ハードコート層、防汚層、反射防止層は、エポキシ化合物あるいは(メタ)アクリレート化合物(分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物)を含有する熱硬化性組成物または活性エネルギー線硬化性組成物を離型フィルム上に塗布することによって形成される。このとき、離型フィルム上に上記組成物を均一に塗布することができる塗布性が求められる。 The transfer layer in the above transfer film, that is, the epoxy adhesive layer, the hard coat layer, the antifouling layer, and the antireflection layer is an epoxy compound or a (meth) acrylate compound (a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule). It is formed by applying a thermosetting composition or an active energy ray-curable composition containing the above on a release film. At this time, coatability is required so that the composition can be uniformly coated on the release film.

また、転写フィルムの転写層を被着体に転写するときに離型フィルムを比較的簡単(スムーズ)に剥離することができる剥離性が求められる。 Further, when the transfer layer of the transfer film is transferred to the adherend, the release film can be peeled off relatively easily (smoothly).

一般に、転写層の離型フィルム上への塗布性と剥離性とは相反する特性であり、上述の特許文献1〜6に記載された従来技術では、塗布性と剥離性を同時に十分に満足できるものではなかった。 In general, the coatability of the transfer layer on the release film and the peelability are contradictory properties, and the prior art described in Patent Documents 1 to 6 described above can sufficiently satisfy the coatability and the peelability at the same time. It wasn't a thing.

そこで、本発明の目的は、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層の塗布性と剥離性が良好な転写フィルム用離型フィルムを提供することにある。本発明の他の目的は、本発明の離型フィルム上に、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層を備えた転写フィルムを提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is a release film for a transfer film having good coatability and peelability of a transfer layer containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule. Is to provide. Another object of the present invention is to provide a transfer film on the release film of the present invention, which comprises a transfer layer containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule. To provide.

本発明の上記目的は以下の発明によって達成された。
[1]エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層が積層された転写フィルムに用いられる離型フィルムであって、基材フィルム上に、シリコーン変性アルキド樹脂を含有する離型層を備えた、転写フィルム用離型フィルム。
[2]前記転写層が、接着剤層、ハードコート層、防汚層および反射防止層からなる群より選ばれる少なくとも一つの層である、[1]に記載の転写フィルム用離型フィルム。
[3]前記離型層におけるシリコーン変性アルキド樹脂の含有量が離型層の固形分総量100質量%に対して40質量%以上である、[1]または[2]に記載の転写フィルム用離型フィルム。
[4]前記離型層がさらにメラミン架橋剤を含有する、[1]〜[3]のいずれかに記載の転写フィルム用離型フィルム。
[5]前記基材フィルムと前記離型層との間にアンカー層が配置されている、[1]〜[4]のいずれかに記載の転写フィルム用離型フィルム。
[6]前記アンカー層がシラン化合物と有機配位子を有する金属錯体とを含有する、[5]に記載の転写フィルム用離型フィルム。
[7]前記有機配位子を有する金属錯体の中心金属が、アルミニウム、チタンおよびジルコニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種である、[6]に記載の転写フィルム用離型フィルム。
[8][1]〜[7]のいずれかに記載の転写フィルム用離型フィルムの離型層上に、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層が積層されてなる、転写フィルム。
[9]前記転写層が、接着剤層、ハードコート層、防汚層および反射防止層からなる群より選ばれる少なくとも一つの層である、[8]に記載の転写フィルム。
The above object of the present invention has been achieved by the following invention.
[1] A release film used for a transfer film in which a transfer layer containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule is laminated, and is on a base film. A release film for a transfer film provided with a release layer containing a silicone-modified alkyd resin.
[2] The release film for a transfer film according to [1], wherein the transfer layer is at least one layer selected from the group consisting of an adhesive layer, a hard coat layer, an antifouling layer and an antireflection layer.
[3] The release for a transfer film according to [1] or [2], wherein the content of the silicone-modified alkyd resin in the release layer is 40% by mass or more with respect to 100% by mass of the total solid content of the release layer. Mold film.
[4] The release film for a transfer film according to any one of [1] to [3], wherein the release layer further contains a melamine cross-linking agent.
[5] The release film for a transfer film according to any one of [1] to [4], wherein an anchor layer is arranged between the base film and the release layer.
[6] The release film for a transfer film according to [5], wherein the anchor layer contains a silane compound and a metal complex having an organic ligand.
[7] The release film for a transfer film according to [6], wherein the central metal of the metal complex having the organic ligand is at least one selected from the group consisting of aluminum, titanium and zirconium.
[8] At least selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule on the release layer of the release film for transfer film according to any one of [1] to [7]. A transfer film in which transfer layers containing one type are laminated.
[9] The transfer film according to [8], wherein the transfer layer is at least one layer selected from the group consisting of an adhesive layer, a hard coat layer, an antifouling layer and an antireflection layer.

本発明の転写フィルム用離型フィルムは、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層の塗布性が良好であるので、塗膜が均一で外観が良好な転写層が得られる。また、本発明の転写フィルム用離型フィルムは、上記転写層との剥離性が良好であるので、転写層を被着体に転写するときに比較的簡単(スムーズ)に剥離することができる。 The release film for a transfer film of the present invention has good coating properties of a transfer layer containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule. A uniform transfer layer having a good appearance can be obtained. Further, since the release film for transfer film of the present invention has good peelability from the transfer layer, it can be peeled off relatively easily (smoothly) when the transfer layer is transferred to an adherend.

また、本発明の転写フィルム用離型フィルムに上記転写層が積層された転写フィルムは、転写層が均一で外観が良好であり、かつ転写層を被着体に転写するときの離型フィルムの剥離性が良好である。 Further, the transfer film in which the transfer layer is laminated on the release film for transfer film of the present invention has a uniform transfer layer and a good appearance, and is a release film when the transfer layer is transferred to an adherend. Good peelability.

本発明の転写フィルム用離型フィルムは、転写層が離型フィルム上に一時的に積層された転写フィルムの転写層を被着体に転写するための離型フィルムである。すなわち、転写層が積層された転写フィルムに用いられる転写フィルム用離型フィルムである。以下、転写フィルム用離型フィルムを、単に「離型フィルム」ということがある。 The release film for a transfer film of the present invention is a release film for transferring the transfer layer of the transfer film in which the transfer layer is temporarily laminated on the release film to the adherend. That is, it is a release film for a transfer film used for a transfer film in which transfer layers are laminated. Hereinafter, the release film for transfer film may be simply referred to as "release film".

本発明の離型フィルムは、基材フィルム上に、シリコーン変性アルキド樹脂を含有する離型層を備える。この離型フィルムの離型層上に、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層が積層されて転写フィルムが得られる。この転写フィルムの転写層を直接または接着層などを介して被着体に接触させ、必要に応じて加熱・加圧して密着した後、離型フィルムを剥離して、転写層が被着体に転写被着される。なお、本発明において、「エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する」とは、エポキシ化合物および/または分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物そのものを含有する場合だけでなく、エポキシ化合物のエポキシ環が開環した構造および/または分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物のエチレン性不飽和基が重合して単結合となった構造を有する場合も含む。 The release film of the present invention includes a release layer containing a silicone-modified alkyd resin on a base film. A transfer film containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule is laminated on the release layer of the release film to obtain a transfer film. The transfer layer of this transfer film is brought into contact with the adherend directly or via an adhesive layer, etc., and if necessary, it is heated and pressed to adhere to the adherend, and then the release film is peeled off so that the transfer layer becomes an adherend. Transfer adhered. In the present invention, "containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule" means that the epoxy compound and / or the ethylenically unsaturated group is contained in the molecule. Not only when the compound itself is contained, but also the structure in which the epoxy ring of the epoxy compound is opened and / or the ethylenically unsaturated group of the compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule is polymerized to form a single bond. Including the case of having a structure.

本発明の離型フィルムの離型層は、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層の塗布性が良好であるので塗膜が均一で外観が良好な転写層が得られる。また、本発明の離型フィルムの離型層は、転写層との剥離性が良好であるので転写層を被着体に密着した後に離型フィルムをスムーズに剥離することができる。 The release layer of the release film of the present invention has good coating properties of a transfer layer containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule. A uniform transfer layer having a good appearance can be obtained. Further, since the release layer of the release film of the present invention has good releasability from the transfer layer, the release film can be smoothly peeled off after the transfer layer is brought into close contact with the adherend.

本発明の転写フィルムの転写層が転写される被着体は、特に限定されないが、例えば、回路基板、多層プリント配線板、プラスチック樹脂成型品などが挙げられる。プラスチック樹脂成型品としては、例えば、電子機器筐体(携帯型パーソナルコンピュータ、モバイル機器、携帯電話、電子手帳など)、家電(テレビ、冷蔵庫、洗濯機、炊飯器など)、スーツケース、プラスチックレンズ、自動車内装部材(インスツルメントパネル、コンソースボックス、ドアトリムなど)などが挙げられる。 The adherend to which the transfer layer of the transfer film of the present invention is transferred is not particularly limited, and examples thereof include a circuit board, a multilayer printed wiring board, and a plastic resin molded product. Examples of plastic resin molded products include electronic device housings (portable personal computers, mobile devices, mobile phones, electronic organizers, etc.), home appliances (TVs, refrigerators, washing machines, rice cookers, etc.), suitcases, plastic lenses, etc. Examples include automobile interior parts (instrument panels, consource boxes, door trims, etc.).

[離型層]
離型層はシリコーン変性アルキド樹脂を含有する。
[Release layer]
The release layer contains a silicone-modified alkyd resin.

本発明において、アルキド樹脂とは、多価アルコールと多塩基酸との縮合体を骨格とする化学構造に、さらに脂肪油や脂肪酸を反応させて変性した樹脂をいう。 In the present invention, the alkyd resin refers to a resin modified by further reacting a fatty oil or a fatty acid with a chemical structure having a condensate of a polyhydric alcohol and a polybasic acid as a skeleton.

上記多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール等の二価アルコール、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン等の三価アルコール、ジグリセリン、トリグリセリン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、マンニット、ソルビット等の四価以上のアルコールが挙げられる。これらは一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the polyhydric alcohol include dihydric alcohols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, trimethylene glycol, tetramethylene glycol and neopentyl glycol, and glycerin, trimethylolethane, trimethylpropane and the like. Hydrate alcohols, diglycerin, triglycerin, pentaerythritol, dipentaerythritol, mannit, sorbit and other tetrahydric or higher alcohols can be mentioned. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

上記多塩基酸としては、例えば、無水フタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸などの飽和多塩基酸や、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水シトラコン酸などの不飽和多塩基酸、シクロペンタジエン−無水マレイン酸付加物、テルペン−無水マレイン酸付加物、ロジン−無水マレイン酸付加物などのその他の多塩基酸が挙げられる。これらは一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the polybasic acid include saturated polybasic acids such as phthalic anhydride, terephthalic acid, succinic acid, adipic acid and sebacic acid, maleic anhydride, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid and citraconic anhydride. Other polybasic acids such as unsaturated polybasic acid, cyclopentadiene-maleic anhydride adduct, terpene-maleic anhydride adduct, rosin-maleic anhydride adduct can be mentioned. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

上記脂肪油や脂肪酸としては、大豆油、アマニ油、キリ油、ヒマシ油、脱水ヒマシ油、ヤシ油などの脂肪油、およびこれらの脂肪酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸、エレオステアリン酸、リシノレイン酸、脱水リシノレイン酸などの油脂および油脂脂肪酸などが挙げられる。これらは一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the above-mentioned fatty acids and fatty acids include fatty oils such as soybean oil, flaxseed oil, millet oil, castor oil, dehydrated castor oil and palm oil, and these fatty acids, stearic acid, oleic acid, linoleic acid, linoleic acid and eleo. Examples thereof include oils and fats such as stearic acid, ricinoleic acid and dehydrated ricinoleic acid, and oil and fat fatty acids. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

シリコーン変性アルキド樹脂を得るためのシリコーン変性剤としては、アルコキシシリル基やシラノール基を有する化合物を用いることができる。具体的には、ジメチルポリシロキサン等の有機基を有するオルガノポリシロキサンなどが挙げられ、有機基の一部がフェニル基、エチル基、イソプロピル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、水酸基、ビニル基等で置換されていてもよい。これらは一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。 As the silicone modifier for obtaining the silicone-modified alkyd resin, a compound having an alkoxysilyl group or a silanol group can be used. Specific examples thereof include organopolysiloxane having an organic group such as dimethylpolysiloxane, in which a part of the organic group is replaced with a phenyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, a hydroxyl group, a vinyl group or the like. It may have been done. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

シリコーン変性アルキド樹脂におけるシリコーン変性率は、転写層の良好な塗布性および良好な剥離性を発現させるという観点から、シリコーン変性アルキド樹脂固形分100質量%に対して1〜30質量%が好ましく、1〜10質量%がより好ましく、2〜5質量%が特に好ましい。 The silicone modification rate of the silicone-modified alkyd resin is preferably 1 to 30% by mass with respect to 100% by mass of the silicone-modified alkyd resin solid content from the viewpoint of exhibiting good coatability and good peelability of the transfer layer. 10% by mass is more preferable, and 2 to 5% by mass is particularly preferable.

シリコーン変性アルキド樹脂は市販されており、それらを使用することができる。市販品としては、信越化学工業(株)の商品名KS−881、KS−882、KS−883、X−62−9022、X−62−9027、X−62−950A、東レ・ダウコーニング(株)製の商品名SR2107、SR2114、東芝シリコーン(株)の商品名TSR180、日立化成(株)の商品名テスファイン309、同319、TA31−209Eなどがある。 Silicone-modified alkyd resins are commercially available and can be used. Commercially available products include Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. trade names KS-881, KS-882, KS-883, X-62-9022, X-62-9827, X-62-950A, Toray Dow Corning Co., Ltd. ), Trade names SR2107, SR2114, Toshiba Silicone Co., Ltd., trade name TSR180, Hitachi Chemical Co., Ltd., trade names Tessfine 309, 319, TA31-209E, etc.

離型層は、さらに架橋剤を含有することが好ましい。離型層が架橋剤を含有することによって、さらに転写層の塗布性と剥離性が良好となる。 The release layer preferably further contains a cross-linking agent. When the release layer contains a cross-linking agent, the coatability and peelability of the transfer layer are further improved.

架橋剤としては、例えば、エポキシ架橋剤、イソシアネート架橋剤、オキサゾリン架橋剤、カルボジイミド架橋剤、メラミン架橋剤等が挙げられる。これらは一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the cross-linking agent include an epoxy cross-linking agent, an isocyanate cross-linking agent, an oxazoline cross-linking agent, a carbodiimide cross-linking agent, a melamine cross-linking agent and the like. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

上記の中でも、メラミン架橋剤が特に好ましい。メラミン架橋剤を用いることによって、塗布性と剥離性が一段と向上する。 Among the above, a melamine cross-linking agent is particularly preferable. By using the melamine cross-linking agent, the coatability and the peelability are further improved.

エポキシ架橋剤としては、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ポリブタジエンジグリシジルエーテル等が挙げられる。 Examples of the epoxy cross-linking agent include ethylene glycol diglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, and polybutadiene diglycidyl ether.

イソシアネート架橋剤としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、メチレンジフェニルジイソシアネート等が挙げられる。 Examples of the isocyanate cross-linking agent include hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, tolylene diisocyanate, methylene diphenyl diisocyanate and the like.

オキサゾリン架橋剤としては、例えば、2,2′−ビス(2−オキサゾリン)、2,2′−エチレン−ビス(4,4′−ジメチル−2−オキサゾリン)、2,2′−p−フェニレン−ビス(2−オキサゾリン)、ビス(2−オキサゾリニルシクロヘキサン)スルフィドなどのオキサゾリン基を有する化合物や、オキサゾリン基含有ポリマーが挙げられる。 Examples of the oxazoline cross-linking agent include 2,2'-bis (2-oxazoline), 2,2'-ethylene-bis (4,4'-dimethyl-2-oxazoline), and 2,2'-p-phenylene-. Examples thereof include compounds having an oxazoline group such as bis (2-oxazoline) and bis (2-oxazoline cyclohexane) sulfide, and oxazoline group-containing polymers.

カルボジイミド架橋剤としては、p−フェニレン−ビス(2,6−キシリルカルボジイミド)、テトラメチレン−ビス(t−ブチルカルボジイミド)、シクロヘキサン−1,4−ビス(メチレン−t−ブチルカルボジイミド)などのカルボジイミド基を有する化合物や、カルボジイミド基を有する重合体であるポリカルボジイミドが挙げられる。 Examples of the carbodiimide cross-linking agent include carbodiimides such as p-phenylene-bis (2,6-xysilylcarbodiimide), tetramethylene-bis (t-butylcarbodiimide), and cyclohexane-1,4-bis (methylene-t-butylcarbodiimide). Examples thereof include a compound having a group and polycarbodiimide which is a polymer having a carbodiimide group.

メラミン架橋剤として用いられるメラミン化合物とは、トリアジン環の3つの炭素原子にアミノ基がそれぞれ結合した、いわゆるメラミン[1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリアミン]のアミノ基に種々の変性を施した化合物の総称であり、トリアジン環が複数縮合したものも含む。変性の種類としては、3つのアミノ基の水素原子の少なくとも1つがメチロール化されたメチロール化メラミン化合物が好ましく、さらに、メチロール化メラミン化合物のメチロール基を炭素数が1〜4の低級アルコールで部分もしくは完全にエーテル化したアルキルエーテル化メラミン化合物が好ましい。 The melamine compound used as a melamine cross-linking agent is various to the amino group of so-called melamine [1,3,5-triazine-2,4,6-triamine] in which an amino group is bonded to each of the three carbon atoms of the triazine ring. It is a general term for compounds that have undergone the above-mentioned modification, and includes those in which a plurality of triazine rings are condensed. As the type of modification, a methylolated melamine compound in which at least one of the hydrogen atoms of the three amino groups is methylolated is preferable, and the methylol group of the methylolated melamine compound is partially or partially composed of a lower alcohol having 1 to 4 carbon atoms. Fully etherified alkyl etherified melamine compounds are preferred.

エーテル化に用いられるアルコールとしては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールが挙げられる。 Examples of the alcohol used for etherification include methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol and butyl alcohol.

メラミン架橋剤は市販品を用いることができる。市販品としては、例えば、DIC(株)の“スーパーベッカミン(登録商標)”J−820−60、同J−821−60、同J−1090−65、同J−110−60、同J−117−60、同J−127−60、同J−166−60B、同J−105−60、同G840、同G821、三井化学(株)の“ユーバン(登録商標)”20SB、同20SE60、同21R、同22R、同122、同125、同128、同220、同225、同228、同28−60、同2020、同60R、同62、同62E、同360、同165、同166−60、同169、同2061、住友化学(株)の“スミマール(登録商標)”M−100、同M−40S、同M−55、同M−66B、日本サイテックインダストリーズの“サイメル(登録商標)”303、同325、同327、同350、同370、同235、同202、同238、同254、同272、同1130、(株)三和ケミカルの“ニカラック(登録商標)”MS17、同MX15、同MX430、同MX600、ハリマ化成(株)のバンセミンSM−975、同SM−960、日立化成(株)の“メラン(登録商標)”265、同2650Lなどが挙げられる。 A commercially available product can be used as the melamine cross-linking agent. Examples of commercially available products include "Super Beccamin (registered trademark)" J-820-60, J-821-60, J-1090-65, J-110-60, and J of DIC Co., Ltd. -117-60, J-127-60, J-166-60B, J-105-60, G840, G821, Mitsui Chemicals Co., Ltd. "Uban (registered trademark)" 20SB, 20SE60, 21R, 22R, 122, 125, 128, 220, 225, 228, 28-60, 2020, 60R, 62, 62E, 360, 165, 166- 60, 169, 2061, Sumitomo Chemicals Co., Ltd. "Sumimar (registered trademark)" M-100, M-40S, M-55, M-66B, Nippon Cytec Industries "Symel (registered trademark)" "303, 325, 327, 350, 370, 235, 202, 238, 254, 272, 1130, Sanwa Chemicals Co., Ltd." Nicarak (registered trademark) "MS17, same Examples thereof include MX15, MX430, MX600, Vancemin SM-975 and SM-960 of Harima Kasei Co., Ltd., and "Melan (registered trademark)" 265 and 2650L of Hitachi Kasei Co., Ltd.

前述したシリコーン変性アルキド樹脂の市販品の中には、シリコーン変性アルキド樹脂を硬化するための架橋剤として、メラミン架橋剤などが配合されているものが存在する。このような市販品を用いる場合には、上記した架橋剤を新たに添加することは必ずしも必要ではないが、添加することは妨げない。 Among the commercially available products of the silicone-modified alkyd resin described above, there are some that contain a melamine cross-linking agent or the like as a cross-linking agent for curing the silicone-modified alkyd resin. When such a commercially available product is used, it is not always necessary to newly add the above-mentioned cross-linking agent, but the addition is not hindered.

離型層は、離型層の硬化を促進させるために酸触媒を含有することが好ましい。酸触媒としては、硫酸、塩酸、硝酸、リン酸、p−トルエンスルホン酸等が挙げられる。これらの中でも、p−トルエンスルホン酸が好ましく用いられる。 The release layer preferably contains an acid catalyst in order to accelerate the curing of the release layer. Examples of the acid catalyst include sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, p-toluenesulfonic acid and the like. Among these, p-toluenesulfonic acid is preferably used.

離型層におけるシリコーン変性アルキド樹脂の含有量は、転写層の塗布性と剥離性とを良好にするという観点から、離型層の固形分総量100質量%に対して、40質量%以上が好ましく、50質量%以上がより好ましく、60質量%以上が特に好ましい。一方、シリコーン変性アルキド樹脂の含有量が多くなり過ぎると、離型層の強度(硬度)が低下し耐溶剤性や耐熱性が低下することがあるので、シリコーン変性アルキド樹脂の含有量は、97質量%以下が好ましく、95質量%以下がより好ましく、90質量%以下が特に好ましい。 The content of the silicone-modified alkyd resin in the release layer is preferably 40% by mass or more with respect to 100% by mass of the total solid content of the release layer from the viewpoint of improving the coatability and peelability of the transfer layer. , 50% by mass or more is more preferable, and 60% by mass or more is particularly preferable. On the other hand, if the content of the silicone-modified alkyd resin becomes too large, the strength (hardness) of the release layer may decrease, and the solvent resistance and heat resistance may decrease. Therefore, the content of the silicone-modified alkyd resin is 97. It is preferably 9% by mass or less, more preferably 95% by mass or less, and particularly preferably 90% by mass or less.

離型層が架橋剤を含有する場合の架橋剤の含有量は、転写層の塗布性と剥離性を向上させるという観点から、離型層固形分総量100質量%に対して、3質量%以上が好ましく、5質量%以上がより好ましく、10質量%以上が特に好ましい。一方、架橋剤の含有量が多くなり過ぎると、剥離性が低下することがあるので、架橋剤の含有量は、60質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましく、40質量%以下が特に好ましい。 When the release layer contains a cross-linking agent, the content of the cross-linking agent is 3% by mass or more with respect to 100% by mass of the total solid content of the release layer from the viewpoint of improving the coatability and peelability of the transfer layer. Is preferable, 5% by mass or more is more preferable, and 10% by mass or more is particularly preferable. On the other hand, if the content of the cross-linking agent is too large, the peelability may decrease. Therefore, the content of the cross-linking agent is preferably 60% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, and 40% by mass or less. Especially preferable.

離型層が酸触媒を含有する場合の酸触媒の含有量は、塗布性と剥離性を向上させるという観点から、離型層の固形分総量100質量%に対して、0.1〜10質量%が好ましく、0.3〜5質量%がより好ましく、0.5〜3質量%が特に好ましい。 When the release layer contains an acid catalyst, the content of the acid catalyst is 0.1 to 10% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the release layer from the viewpoint of improving coatability and peelability. % Is preferable, 0.3 to 5% by mass is more preferable, and 0.5 to 3% by mass is particularly preferable.

離型層は、さらに、バインダー樹脂を含有することができる。かかるバインダー樹脂としては、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂などが挙げられる。 The release layer can further contain a binder resin. Examples of such a binder resin include polyurethane resin, acrylic resin, polyester resin and the like.

離型層は、シリコーン変性アルキド樹脂を含有する組成物を基材フィルム上に塗布し、加熱硬化して形成されることが好ましい。すなわち、離型層を形成するための組成物は、熱硬化性組成物であることが好ましい。該組成物は、シリコーン変性アルキド樹脂と架橋剤を含有することが好ましく、さらに酸触媒を含有することが好ましい。また、該組成物はバインダー樹脂を含有することができる。 The release layer is preferably formed by applying a composition containing a silicone-modified alkyd resin onto a base film and heat-curing it. That is, the composition for forming the release layer is preferably a thermosetting composition. The composition preferably contains a silicone-modified alkyd resin and a cross-linking agent, and more preferably contains an acid catalyst. In addition, the composition can contain a binder resin.

組成物を硬化させる際の条件(加熱温度、時間)は特に限定されないが、加熱温度は70℃以上が好ましく、100℃以上がより好ましく、150℃以上が特に好ましい。上限は300℃程度である。加熱時間は3〜300秒が好ましく、5〜200秒がより好ましい。 The conditions (heating temperature, time) for curing the composition are not particularly limited, but the heating temperature is preferably 70 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, and particularly preferably 150 ° C. or higher. The upper limit is about 300 ° C. The heating time is preferably 3 to 300 seconds, more preferably 5 to 200 seconds.

組成物は、例えば、ウェットコーティング法により塗布することができる。ウェットコーティング法としては、例えば、リバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法、カーテンコート法等が挙げられる。 The composition can be applied, for example, by a wet coating method. Examples of the wet coating method include a reverse coating method, a spray coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a rod coating method, a die coating method, a spin coating method, an extrusion coating method, a curtain coating method and the like.

離型層の厚みは、30〜1000nmが好ましく、50〜600nmがより好ましく、70〜500nmがさらに好ましく、100〜400nmが特に好ましい。 The thickness of the release layer is preferably 30 to 1000 nm, more preferably 50 to 600 nm, further preferably 70 to 500 nm, and particularly preferably 100 to 400 nm.

離型層の表面自由エネルギーは、20〜35mJ/mが好ましく、21〜32mJ/mがより好ましく、22〜30mJ/mが特に好ましい。離型層の表面自由エネルギーが上記範囲であることによって、転写層の塗布性と剥離性がさらに向上する。 Surface free energy of the release layer is preferably 20~35mJ / m 2, more preferably 21~32mJ / m 2, 22~30mJ / m 2 is particularly preferred. When the surface free energy of the release layer is within the above range, the coatability and peelability of the transfer layer are further improved.

シリコーン変性アルキド樹脂を含有する離型層は、表面自由エネルギーを上記範囲に調整することが可能であり、さらに架橋剤を含有することによって表面自由エネルギーを上記範囲に容易に調整することができる。 The release layer containing the silicone-modified alkyd resin can adjust the surface free energy to the above range, and further, the surface free energy can be easily adjusted to the above range by containing a cross-linking agent.

ここで、表面自由エネルギーは、接触角計、例えば、協和界面科学(株)の「Drop Master DM501」を用いて測定することができる。詳細は後述する。 Here, the surface free energy can be measured using a contact angle meter, for example, "Drop Master DM501" of Kyowa Interface Science Co., Ltd. Details will be described later.

離型層の表面状態は、転写層の塗布性と剥離性を良好にするという観点から、比較的平滑であることが好ましい。具体的には、離型層の表面粗さSRaは50nm以下が好ましく、30nm以下がより好ましく、15nm以下が特に好ましい。上記表面粗さSRaは、離型フィルムや転写フィルムの滑り性や巻き取りを確保するという観点から、1nm以上が好ましく、3nm以上がより好ましく、5nm以上が特に好ましい。 The surface state of the release layer is preferably relatively smooth from the viewpoint of improving the coatability and peelability of the transfer layer. Specifically, the surface roughness SRa of the release layer is preferably 50 nm or less, more preferably 30 nm or less, and particularly preferably 15 nm or less. The surface roughness SRa is preferably 1 nm or more, more preferably 3 nm or more, and particularly preferably 5 nm or more, from the viewpoint of ensuring the slipperiness and winding of the release film or transfer film.

離型層の表面粗さSRaを50nm以下に制御する方法としては、離型層を積層する面の表面粗さSRaが60nm以下である基材フィルムを使用する方法が好ましい。さらに、離型層は粒子を含有しないか、または粒子を含有する場合は少量であることが好ましい。離型層が粒子を含有する場合の粒子の含有量は、離型層の固形分総量100質量%に対して3.0質量%以下であることが好ましく、1.0質量%以下であることがより好ましく、0.5質量%以下であることが特に好ましい。 As a method of controlling the surface roughness SRa of the release layer to 50 nm or less, a method of using a base film having a surface roughness SRa of the surface on which the release layer is laminated is 60 nm or less is preferable. Further, the release layer preferably does not contain particles, or if it contains particles, it is preferably in a small amount. When the release layer contains particles, the content of the particles is preferably 3.0% by mass or less, preferably 1.0% by mass or less, based on 100% by mass of the total solid content of the release layer. Is more preferable, and 0.5% by mass or less is particularly preferable.

ここで、表面粗さSRaは、光干渉型顕微鏡、例えば、(株)菱化システム製の「VertScan」を用いて測定することができる。 Here, the surface roughness SRa can be measured using an optical interference type microscope, for example, "VertScan" manufactured by Ryoka System Co., Ltd.

[基材フィルム]
本発明の離型フィルムに用いられる基材フィルムとしては、特に限定されず、各種プラスチックフィルムを使用することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等のポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム等のセルロースフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドフィルム、アクリルフィルム、環状オレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。
[Base film]
The base film used for the release film of the present invention is not particularly limited, and various plastic films can be used. For example, polyester film such as polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyolefin film such as polypropylene film and polyethylene film, cellulose film such as diacetyl cellulose film and triacetyl cellulose film, polysulfone film, polyether ether ketone. Examples thereof include films, polyether sulfone films, polyphenylene sulfide films, polyetherimide films, polyimide films, polyamide films, acrylic films, cyclic olefin films, and polycarbonate films.

これらのプラスチックフィルムの中でも、耐熱性が良好である、ポリイミドフィルムポリエステルフィルム、環状オレフィンフィルムが好ましく、特にポリエステルフィルムが好ましい。ポリエステルフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましく、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムがより好ましい。 Among these plastic films, a polyimide film polyester film and a cyclic olefin film having good heat resistance are preferable, and a polyester film is particularly preferable. As the polyester film, a polyethylene terephthalate film is preferable, and a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is more preferable.

基材フィルムとしてポリエステルフィルムを使用する場合は、基材フィルムの表面粗さSRaを制御するという観点から、3層積層構成のポリエステルフィルムが好ましい。3層積層構成としては、A層/B層/A層またはA層/B層/C層が挙げられる。ここで、A層、B層およびC層は、それぞれ組成が異なることを意味する。 When a polyester film is used as the base film, a polyester film having a three-layer laminated structure is preferable from the viewpoint of controlling the surface roughness SRa of the base film. Examples of the three-layer laminated structure include A layer / B layer / A layer or A layer / B layer / C layer. Here, the A layer, the B layer, and the C layer have different compositions.

上記3層構成において、A層またはC層は粒子を含有することが好ましい。A層またはC層に含有させる粒子の平均粒子径および/または含有量を調整することによって、ポリエステルフィルムの表面粗さSRaを制御することができる。 In the above three-layer structure, the A layer or the C layer preferably contains particles. The surface roughness SRa of the polyester film can be controlled by adjusting the average particle size and / or the content of the particles contained in the A layer or the C layer.

基材フィルムの離型層を積層する側の表面粗さSRaは、60nm以下が好ましく、50nm以下がより好ましく、30nm以下が特に好ましい。また、上記表面粗さSRaは、離型フィルムの滑り性や巻き取りを確保するという観点から、1nm以上が好ましく、3nm以上がより好ましく、5nm以上が特に好ましい。 The surface roughness SRa on the side where the release layer of the base film is laminated is preferably 60 nm or less, more preferably 50 nm or less, and particularly preferably 30 nm or less. Further, the surface roughness SRa is preferably 1 nm or more, more preferably 3 nm or more, and particularly preferably 5 nm or more, from the viewpoint of ensuring the slipperiness and winding of the release film.

生産設備の簡易化や生産性向上の観点から、A層/B層/A層の3層積層構成のポリエステルフィルムが好ましく用いられる。 From the viewpoint of simplifying the production equipment and improving the productivity, a polyester film having a three-layer laminated structure of A layer / B layer / A layer is preferably used.

基材フィルムの厚みは、10〜200μmが好ましく、15〜150μmがより好ましく、20〜100μmが特に好ましい。 The thickness of the base film is preferably 10 to 200 μm, more preferably 15 to 150 μm, and particularly preferably 20 to 100 μm.

[アンカー層]
基材フィルムと離型層との間に、基材フィルムと離型層との密着力を向上させるためのアンカー層を配置することが好ましい。
[Anchor layer]
It is preferable to arrange an anchor layer between the base film and the release layer to improve the adhesion between the base film and the release layer.

基材フィルム(特にポリエステルフィルム)と、シリコーン変性アルキド樹脂を含有する離型層との密着性を向上させるという観点から、アンカー層は、シラン化合物と有機配位子を有する金属錯体とを含有することが好ましい。 From the viewpoint of improving the adhesion between the base film (particularly the polyester film) and the release layer containing the silicone-modified alkyd resin, the anchor layer contains a silane compound and a metal complex having an organic ligand. Is preferable.

シラン化合物としては、下記の一般式(1)で表される化合物、または該化合物の加水分解物の縮合物あるいは部分縮合物が好ましく用いられる。 As the silane compound, a compound represented by the following general formula (1), or a condensate or a partial condensate of a hydrolyzate of the compound is preferably used.

Si(X)a(Y)b(R)c ・・・一般式(1)
(式中、Xは、アルキレン基に、グリシドキシ基、メルカプト基、(メタ)アクリロキシ基およびアミノ基からなる群より選ばれる一種が結合した基、アルケニル基、ビニル基またはハロアルキル基を表し、Yは加水分解性基を表し、Rは炭化水素基を表し、aは0または1、bは2または3、cは0〜2の整数を表し、a+b+c=4である。)
Yで表される加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソプロペノキシ基、アセトキシ基、ブタノキシム基、ケトキシム基、アミノ基等が挙げられ、これらは一種もしくは複数種を併用することができる。中でも、メトキシ基、エトキシ基が良好な加水分解性を有することから好ましい。
Si (X) a (Y) b (R) c ... General formula (1)
(In the formula, X represents a group to which one selected from the group consisting of a glycidoxy group, a mercapto group, a (meth) acryloxy group and an amino group is bonded to an alkylene group, an alkenyl group, a vinyl group or a haloalkyl group, and Y represents a haloalkyl group. Represents a hydrolyzable group, R represents a hydrocarbon group, a represents 0 or 1, b represents 2 or 3, c represents an integer of 0 to 2, and a + b + c = 4).
Examples of the hydrolyzable group represented by Y include a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, an isopropenoxy group, an acetoxy group, a butanoxim group, a ketoxim group, an amino group and the like, and these may be used alone or in combination of two or more. Can be done. Of these, the methoxy group and the ethoxy group are preferable because they have good hydrolyzability.

Rで表される炭化水素基としては、炭素数が1〜12の炭化水素基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、フェニル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。 The hydrocarbon group represented by R is preferably a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, a phenyl group, and the like. Cyclohexyl groups and the like can be mentioned.

一般式(1)で表されるシラン化合物として、具体的には、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、5−ヘキセニルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジイソプロペノキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシランなどが挙げられる。 Specific examples of the silane compound represented by the general formula (1) include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, and n-propyltriethoxysilane. , Hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, cyclohexyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane , 3-Mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxy Propyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N -2- (Aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 5- Hexenyltrimethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxycisilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyl Examples thereof include diethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiisopropenoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane and the like. ..

有機配位子を有する金属錯体の中心金属としては、アルミニウム、ジルコニウムおよびチタンからなる群より選ばれる少なくとも一種が好ましい。中でも、アルミニウム、ジルコニウムが好ましく、特にアルミニウムが好ましい。さらに、有機配位子を有する金属錯体は、上記中心金属を有するキレート化合物が好ましく、特にアルミニウムキレート化合物が好ましい。 As the central metal of the metal complex having an organic ligand, at least one selected from the group consisting of aluminum, zirconium and titanium is preferable. Of these, aluminum and zirconium are preferable, and aluminum is particularly preferable. Further, as the metal complex having an organic ligand, a chelate compound having the above-mentioned central metal is preferable, and an aluminum chelate compound is particularly preferable.

アルミニウムを中心金属とする、有機配位子を有する金属錯体の具体例としては、ビス(エチルアセトアセテート)(2,4−ペンタンジオネート)アルミニウム、アルミニウムトリス(アセチルアセトネ−ト)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)、アルミニウム−ジ−n−ブトキシド−モノエチルアセトアセテート、アルミニウム−ジ−イソプロポキシド−モノメチルアセトアセテート等が挙げられる。 Specific examples of the metal complex having an organic ligand with aluminum as the central metal include bis (ethylacetoacetate) (2,4-pentandionate) aluminum, aluminum tris (acetylacetoneate), and aluminum tris. (Ethylacetacetate), aluminum monoacetylacetonate bis (ethylacetate acetate), aluminum-di-n-butoxide-monoethylacetate, aluminum-di-isopropoxide-monomethylacetate, and the like.

ジルコニウムを中心金属とする、有機配位子を有する金属錯体の具体例としては、例えば、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムノルマルプロピレート、ジルコニウムノルマルブチレート、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムモノアセチルアセトナート、ジルコニウムビスアセチルアセトナート等が挙げられる。 Specific examples of the metal complex having an organic ligand with zirconium as the central metal include, for example, zirconium acetate, zirconium normal propylate, zirconium normal butyrate, zirconium tetraacetylacetonate, zirconium monoacetylacetonate, and zirconium bis. Examples include acetylacetonate.

チタンを中心金属とする、有機配位子を有する金属錯体の具体例としては、例えば、テトラノルマルブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート、テトラメチルチタネート等のチタンオルソエステル類、チタンアセチルアセトナート、チタンテトラアセチルアセトナート、ポリチタンアセチルアセトナート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテート、チタントリエタノールアミネート、チタンエチルアセトアセテート、チタンジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。 Specific examples of the metal complex having an organic ligand with titanium as the central metal include titanium such as tetranormal butyl titanate, tetraisopropyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, and tetramethyl titanate. Orthoesters, Titanium Acetylacetonate, Titanium Tetraacetylacetonate, Polytitanium Acetylacetonate, Titanium Octylene Glycolate, Titanium Lactate, Titanium Triethanolaminate, Titanium Ethylacetacetate, Titanium Diisopropoxybis (Ethylacetacetate) ) Etc. can be mentioned.

アンカー層の厚みは、10〜200nmが好ましく、20〜150nmがより好ましく、30〜100nmが特に好ましい。 The thickness of the anchor layer is preferably 10 to 200 nm, more preferably 20 to 150 nm, and particularly preferably 30 to 100 nm.

[転写層]
本発明における転写層は、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する。転写層は、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する組成物を離型フィルムの離型層上に塗布し、必要に応じて乾燥、硬化して形成される。
[Transfer layer]
The transfer layer in the present invention contains at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule. For the transfer layer, a composition containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule is applied onto the release layer of the release film, and if necessary, dried. Formed by curing.

エポキシ化合物を含有する組成物は、熱硬化性組成物または活性エネルギー線硬化性組成物であることが好ましい。 The composition containing the epoxy compound is preferably a thermosetting composition or an active energy ray-curable composition.

分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を含有する組成物は、活性エネルギー線硬化性組成物であることが好ましい。 The composition containing a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule is preferably an active energy ray-curable composition.

熱硬化性組成物は、加熱によって硬化する組成物であり、加熱温度としては100〜200℃が一般的であり、120〜180℃が好ましい。 The thermosetting composition is a composition that is cured by heating, and the heating temperature is generally 100 to 200 ° C., preferably 120 to 180 ° C.

活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線を照射することによって硬化する組成物である。活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、α線、β線、γ線などが挙げられる。中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。 The active energy ray-curable composition is a composition that is cured by irradiating with active energy rays. Examples of the active energy ray include ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, electron beams, α rays, β rays, and γ rays. Of these, ultraviolet rays and electron beams are preferable, and ultraviolet rays are particularly preferably used.

転写層が熱硬化性組成物または活性エネルギー線硬化性組成物からなる場合の転写層の硬化時期は、特に限定されず、転写層に含有される化合物の種類、転写層の種類や用途、被着体の種類や用途などによって適宜選択される。 When the transfer layer is composed of a thermosetting composition or an active energy ray-curable composition, the curing time of the transfer layer is not particularly limited, and the type of compound contained in the transfer layer, the type and use of the transfer layer, and the subject. It is appropriately selected depending on the type and application of the body.

転写層の硬化時期は、具体的には、離型フィルムの離型層上に転写層を積層する工程、転写層の転写工程、および転写後のいずれかで実施することができる。また、2以上の工程に分けて分割硬化することができる。転写層の硬化時期については、詳細は後述する。 Specifically, the curing time of the transfer layer can be carried out by any one of a step of laminating the transfer layer on the release layer of the release film, a transfer step of the transfer layer, and after the transfer. Further, it can be divided and cured in two or more steps. The details of the curing time of the transfer layer will be described later.

転写層におけるエポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物の含有量は、転写層の固形分総量100質量%に対して5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましく、20質量%以上が特に好ましい。上限は100質量%である。上記含有量は、転写層が2種以上の化合物を含有する場合は、合計含有量を意味する。 The content of at least one compound selected from the group consisting of the epoxy compound and the compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule in the transfer layer is preferably 5% by mass or more with respect to 100% by mass of the total solid content of the transfer layer. 10% by mass or more is more preferable, and 20% by mass or more is particularly preferable. The upper limit is 100% by mass. The above content means the total content when the transfer layer contains two or more kinds of compounds.

本発明における転写層、すなわち、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層としては、各種機能性層が挙げられる。例えば、接着剤層、回路基板の封止樹脂層、多層プリント配線板の層間絶縁樹脂層、ハードコート層、防汚層、反射防止層、感光性樹脂層、自己修復性樹脂層(自己治癒性樹脂層)、帯電防止層、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、導電層、防曇層、自動車外装塗膜の保護層(耐チッピング層)などが挙げられる。 Examples of the transfer layer in the present invention, that is, a transfer layer containing at least one selected from the group consisting of compounds having an ethylenically unsaturated group in the molecule, include various functional layers. For example, an adhesive layer, a sealing resin layer for a circuit board, an interlayer insulating resin layer for a multilayer printed wiring board, a hard coat layer, an antifouling layer, an antireflection layer, a photosensitive resin layer, and a self-healing resin layer (self-healing property). Resin layer), antistatic layer, near-infrared absorbing layer, ultraviolet absorbing layer, conductive layer, antifogging layer, protective layer (chipping resistant layer) of automobile exterior coating, and the like.

エポキシ化合物を含有する転写層の好ましい例として、接着剤層、回路基板の封止樹脂層、多層プリント配線板の層間絶縁樹脂層が挙げられる。上記封止樹脂層および層間絶縁樹脂層は、接着剤層であることが多く、この場合、封止樹脂層および層間絶縁樹脂層は接着剤層に含まれる。つまり、本発明における接着剤層は、回路基板の封止樹脂層および多層プリント配線板の層間絶縁樹脂層であることが好ましい。 Preferred examples of the transfer layer containing an epoxy compound include an adhesive layer, a sealing resin layer of a circuit board, and an interlayer insulating resin layer of a multilayer printed wiring board. The sealing resin layer and the interlayer insulating resin layer are often adhesive layers, and in this case, the sealing resin layer and the interlayer insulating resin layer are included in the adhesive layer. That is, the adhesive layer in the present invention is preferably a sealing resin layer of a circuit board and an interlayer insulating resin layer of a multilayer printed wiring board.

分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を含有する転写層の好ましい例としては、ハードコート層、防汚層、反射防止層が挙げられる。 Preferred examples of the transfer layer containing a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule include a hard coat layer, an antifouling layer, and an antireflection layer.

つまり、本発明における転写層は、接着剤層、ハードコート層、防汚層および反射防止層からなる群より選ばれる少なくとも一つの層であることが好ましい。詳細は後述する。 That is, the transfer layer in the present invention is preferably at least one layer selected from the group consisting of an adhesive layer, a hard coat layer, an antifouling layer and an antireflection layer. Details will be described later.

[エポキシ化合物]
エポキシ化合物は、特に限定されず、公知の化合物を用いることができる。例えば、回路基板の封止樹脂あるいは多層プリント配線板の層間絶縁樹脂に用いられるエポキシ化合物(エポキシ樹脂)、または熱硬化性接着剤に用いられるエポキシ化合物(エポキシ樹脂)などを用いることができる。
[Epoxy compound]
The epoxy compound is not particularly limited, and known compounds can be used. For example, an epoxy compound (epoxy resin) used for a sealing resin for a circuit board or an interlayer insulating resin for a multilayer printed wiring board, an epoxy compound (epoxy resin) used for a thermosetting adhesive, or the like can be used.

エポキシ化合物(エポキシ樹脂)の具体例として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、アルキルフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、フェノールとフェノール性水酸基を有する芳香族アルデヒドとの縮合物のエポキシ化物、トリグリシジルイソシアヌレート、脂肪環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂、アクリル酸変性エポキシ樹脂(エポキシアクリレート)、ナフタレン型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、スピロ環含有エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂などが挙げられる。 Specific examples of epoxy compounds (epoxy resins) include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, alkylphenol novolac type epoxy resin, and biphenol type epoxy resin. , Naphthalene type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, epoxidized product of condensate of phenol and aromatic aldehyde having phenolic hydroxyl group, triglycidyl isocyanurate, alicyclic epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl amine Type epoxy resin, hidden in type epoxy resin, isocyanurate type epoxy resin, acrylic acid modified epoxy resin (epoxy acrylate), naphthalene type epoxy resin, linear aliphatic epoxy resin, heterocyclic epoxy resin, spiro ring-containing epoxy resin, halogen Examples include chemicalized epoxy resin.

このようなエポキシ樹脂としては、具体的には、大日本インキ化学工業(株)製のHP4032、HP4032D、HP4700、N−690、N−695、ジャパンエポキシレジン(株)製の“エピコート(登録商標)”807、エピコート828EL、エピコート152、日本化薬(株)の“EPPN(登録商標)”−502H、NC7000L、NC3000H、東都化成(株)製のESN185、ESN475等が挙げられる。 Specific examples of such epoxy resins include HP4032, HP4032D, HP4700, N-690, N-695 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd., and "Epicoat (registered trademark) manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd." ) "807, Epicoat 828EL, Epicoat 152, Nippon Kayaku Co., Ltd.'s" EPPN (registered trademark) "-502H, NC7000L, NC3000H, Toto Kasei Co., Ltd.'s ESN185, ESN475 and the like.

[分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物]
分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物のエチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が挙げられる。これらの中でも、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基が好ましい。かかる化合物として、(メタ)アクリレート化合物が、一般に知られている。
[Compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule]
Examples of the ethylenically unsaturated group of the compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule include a vinyl group, an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group. Among these, acryloyloxy group and methacryloyloxy group are preferable. As such a compound, a (meth) acrylate compound is generally known.

以下、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を例示するが、これらの化合物に限定されない。以下の説明において、「・・・(メタ)アクリレート」とは、「・・・アクリレート」と「・・・メタクリレート」との総称である。 Hereinafter, compounds having an ethylenically unsaturated group in the molecule will be exemplified, but the compound is not limited to these compounds. In the following description, "... (meth) acrylate" is a general term for "... acrylate" and "... methacrylate".

分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシ(メタ)アクリレート等の単官能の(メタ)アクリレート、
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等の2官能の(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、グリセリンプロポキシトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の3〜6官能の(メタ)アクリレート、などが挙げられる。
Examples of the compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule include methyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, and phenoxyethyl (meth) acrylate. , Tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxy (meth) acrylate and other monofunctional ( Meta) acrylate,
Ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol Di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, etc. Bifunctional (meth) acrylate,
Trimethylol Propanetri (meth) Acrylate, Ditrimethylol Propanetri (Meta) Acrylate, Ditrimethylol Propanetetra (Meta) Acrylate, Glycerin Propoxytri (Meta) Acrylate, Pentaerythritol Tri (Meta) Acrylate, Pentaerythritol Tetra (Meta) Acrylate , Dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol tri (meth) acrylate, tripentaerythritol hexa Examples thereof include 3 to 6-functional (meth) acrylates such as (meth) acrylates.

また、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物として、分子内にエチレン性不飽和基とウレタン結合を有する化合物が挙げられる。例えば、エチレングリコール・アジピン酸・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチルフタリル(メタ)アクリレート・キシレンジイソシアネート、1,2−ポリブタジエングリコール・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン・プロピレングリコール・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートトルエンジイソシアネートウレタンオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンオリゴマーなどが挙げられる。 In addition, examples of the compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule include a compound having an ethylenically unsaturated group and a urethane bond in the molecule. For example, ethylene glycol, adipic acid, tolylene diisocyanate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol, tolylene diisocyanate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxyethylphthalyl (meth) acrylate, xylene diisocyanate, 1 , 2-Polybutadiene glycol, tolylene diisocyanate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, trimethylolpropane, propylene glycol, tolylene diisocyanate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate hexamethylene diisocyanate urethane Examples thereof include pre-oligomers, pentaerythritol tri (meth) acrylate toluene diisocyanate urethane oligomers, and pentaerythritol tri (meth) acrylate isophorone diisocyanate urethane oligomers.

また、分子内にエチレン性不飽和基とウレタン結合を有する化合物として、ポリエーテル骨格のウレタン(メタ)アクリレート、ポリカプロラクトン骨格のウレタン(メタ)アクリレート、ポリカーボネート骨格のウレタン(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of the compound having an ethylenically unsaturated group and a urethane bond in the molecule include urethane (meth) acrylate having a polyether skeleton, urethane (meth) acrylate having a polycaprolactone skeleton, and urethane (meth) acrylate having a polycarbonate skeleton.

ポリエーテル骨格のウレタン(メタ)アクリレートとしては、例えば、以下の化合物(1a)および化合物(1b)が挙げられる。 Examples of the urethane (meth) acrylate having a polyether skeleton include the following compounds (1a) and compound (1b).

(1a);ポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートとイソシアネート化合物とを反応させて得られた化合物
(1b);ポリアルキレングリコールとイソシアネート化合物とをイソシアネート基が水酸基に対して過剰となるような比率で反応させて得られた化合物に、さらに水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物を反応させて得られた化合物
上記(1a)の合成に用いられるポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコール(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
(1a); Compound obtained by reacting polyalkylene glycol (meth) acrylate with an isocyanate compound (1b); Reaction of polyalkylene glycol and an isocyanate compound at a ratio such that the isocyanate group is excessive with respect to the hydroxyl group. Compound obtained by further reacting the compound obtained by reacting with a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group Examples of the polyalkylene glycol (meth) acrylate compound used in the synthesis of (1a) above include polyethylene glycol ( Examples thereof include meta) acrylate, polypropylene glycol (meth) acrylate, and polybutylene glycol (meth) acrylate.

上記(1a)の合成に用いられるイソシアネート化合物としては、分子内にイソシアネート基を2個以上含有するポリイソシアネート化合物が好ましく、例えば、トリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、メチル−2,6−ジイソシアネートヘキサノエート、ノルボナンジイソシアネート、メチレンビス−4−シクロヘキシルイソシアネート、トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、イソホロンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、トリレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンイソシアネートのビューレット体などの(ポリ)イソシアネート、および上記イソシアネートのブロック体などを挙げることができる。 As the isocyanate compound used in the synthesis of (1a) above, a polyisocyanate compound containing two or more isocyanate groups in the molecule is preferable, and for example, tolylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, etc. Tris of tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, methyl-2,6-diisocyanate hexanoate, norbonan diisocyanate, methylenebis-4-cyclohexylisocyanate, tolylene diisocyanate (Methylolpropane adduct, hexamethylene diisocyanate trimerol propane adduct, isophorone diisocyanate trimethylolpropane adduct, tolylene diisocyanate isocyanurate, hexamethylene diisocyanate isocyanurate, hexamethylene isocyanate burette, etc. Poly) isocyanate, block body of the above-mentioned isocyanate, and the like can be mentioned.

上記(1b)の合成に用いられるポリアルキレングリコールとしては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコールなどが挙げられる。 Examples of the polyalkylene glycol used in the synthesis of the above (1b) include polyethylene glycol, polypropylene glycol, polybutylene glycol and the like.

上記(1b)の合成に用いられるイソシアネート化合物としては、上記(1a)の合成に用いられるイソシアネート化合物と同様の化合物を用いることができる。 As the isocyanate compound used for the synthesis of the above (1b), the same compound as the isocyanate compound used for the synthesis of the above (1a) can be used.

上記(1b)の合成に用いられる水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシエチル−フタル酸、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ポリカプロラクトン変性アルキル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 Examples of the (meth) acrylate compound having a hydroxyl group used in the synthesis of (1b) above include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2 -Hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxyethyl-phthalic acid, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) ) Acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, polycaprolactone-modified alkyl (meth) acrylate and the like.

ポリカプロラクトン骨格のウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、以下の化合物(2a)、化合物(2b)および化合物(2c)が挙げられる。 Examples of the urethane (meth) acrylate compound having a polycaprolactone skeleton include the following compounds (2a), compound (2b) and compound (2c).

(2a);ポリカプロラクトン変性アルキル(メタ)アクリレートとイソシアネート化合物とを反応させて得られる化合物
(2b);ポリカプロラクトン変性ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとイソシアネート化合物とを反応させることによって得られる化合物
(2c);長鎖アルキルアルコール、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートおよびイソシアネート化合物を反応させて得られる化合物
ここで、イソシアネート化合物としては、前述の(1a)の合成に用いられるイソシアネート化合物と同様の化合物を用いることができる。
(2a); Compound obtained by reacting polycaprolactone-modified alkyl (meth) acrylate with an isocyanate compound (2b); Compound obtained by reacting polycaprolactone-modified hydroxyalkyl (meth) acrylate with an isocyanate compound (2c) ); Compound obtained by reacting a long-chain alkyl alcohol, polycaprolactone-modified hydroxyethyl (meth) acrylate and an isocyanate compound Here, the isocyanate compound is the same compound as the isocyanate compound used in the synthesis of (1a) described above. Can be used.

ポリカーボネート骨格のウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、ポリカーボネートポリオール、イソシアネート化合物および水酸基を有する(メタ)アクリレートを反応させることによって合成することができる。 The urethane (meth) acrylate compound having a polycarbonate skeleton can be synthesized by reacting a polycarbonate polyol, an isocyanate compound, and a (meth) acrylate having a hydroxyl group.

ポリカーボネートポリオールは、アルキレングリコールと炭酸エステルのエステル交換反応、またはホスゲンもしくはクロル蟻酸エステルとアルキレングリコールとの反応などによって製造することができる。 The polycarbonate polyol can be produced by a transesterification reaction of an alkylene glycol and a carbonic acid ester, a reaction of a phosgene or chloralilate ester with an alkylene glycol, or the like.

アルキレングリコールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、ネオペンチルグリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,4−ジエチル−1,5ペンタンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、ビスフェノールA、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどが挙げられる。 Examples of the alkylene glycol include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, and neopentyl. Glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 1,4-cyclohexanediol, bisphenol A, glycerin, trimethylol Examples include propane and pentaerythritol.

炭酸エステルとしては、例えば、メチルカーボネート、ジメチルカーボネート、エチルカーボネート、ジエチルカーボネート、n−プロピルカーボネート、ジ−n−プロピルカーボネート、イソプロピルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、n−ブチルカーボネート、ジ−n−ブチルカーボネート、イソブチルカーボネート、ジイソブチルカーボネート、シクロカーボネート、ジフェニルカーボネート、メチルジフェニルカーボネート、エチレンカーボネート、1,2−プロピレンカーボネート、1,2−ブチレンカーボネートなどが挙げられる。 Examples of the carbonic acid ester include methyl carbonate, dimethyl carbonate, ethyl carbonate, diethyl carbonate, n-propyl carbonate, di-n-propyl carbonate, isopropyl carbonate, diisopropyl carbonate, n-butyl carbonate, di-n-butyl carbonate and isobutyl. Examples thereof include carbonate, diisobutyl carbonate, cyclocarbonate, diphenyl carbonate, methyldiphenyl carbonate, ethylene carbonate, 1,2-propylene carbonate, 1,2-butylene carbonate and the like.

また、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物として、分子内にエチレン性不飽和基とフッ素原子を有する化合物が挙げられる。かかる化合物としては、例えば、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、パーフルオロブチルエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロブチルヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロヘキシルヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロデシルエチル(メタ)アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレート、ジビニルドデカフルオロヘキサン、ジビニルヘキサデカフルオロオクタン、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、β−(パーフロロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,2−トリフルオロエチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,4−ヘキサフルオロブチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6−ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7−トリデカフルオロヘプチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコールなどが挙げられる。 In addition, examples of the compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule include a compound having an ethylenically unsaturated group and a fluorine atom in the molecule. Examples of such compounds include trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, pentafluoropropyl (meth) acrylate, hexafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, and perfluorobutyl. Ethyl (meth) acrylate, perfluorobutyl hydroxypropyl (meth) acrylate, perfluorohexyl ethyl (meth) acrylate, perfluorohexyl hydroxypropyl (meth) acrylate, perfluorooctyl ethyl (meth) acrylate, perfluorooctyl hydroxypropyl ( Meta) acrylate, perfluorodecylethyl (meth) acrylate, heptadecafluorodecyl (meth) acrylate, divinyldodecafluorohexane, divinylhexadecafluorooctane, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2 , 3,3,3-Pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorobutyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl ( Meta) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, β- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,2-trifluoroethylethylene Glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,3-pentafluoropropylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4 4-Hexafluorobutylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,5,5,5-nonafluoropentylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) ) -2,2,3,3,4,5,5,6,6-Undecafluorohexylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4 , 4,5,5,6,6,7,7,7-Tridecafluoroheptylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,5,5 6,6,7,7,8,8,8-Pentadecafluorooctylethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -3,3,4,4,5,5,6,6,7,7 , 8,8,8-Trideca Fluorooctyl Acrylate Ethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-heptadecafluoro Nonyl ethylene glycol and the like can be mentioned.

また、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物として、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物が挙げられる。かかる化合物としては、ポリシロキサン主鎖の両末端および/または側鎖にエチレン性不飽和基を有する化合物が好ましい。 Further, as a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule, a polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group can be mentioned. As such a compound, a compound having an ethylenically unsaturated group at both ends and / or side chains of the polysiloxane main chain is preferable.

エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物としては、特開2009−84327号公報の製造例1−1〜1−3の化合物、あるいはチッソ(株)製のサイラプレーンFM−0711、同FM−0721、同FM−0725、信越化学工業(株)製のX−24−8201、X−22−174DX、X−22−1602、X22−1603、X−22−2426、X−22−2404、X−22−164A、X−22−164C、X−22−2458、X−22−2459、X−22−2445、X−22−2457、東レ・ダウコーニング(株)製のBY16−152D、BY16−152、BY16−152C、ビックケミー・ジャパン(株)製のBYK−UV3570等の市販品を用いることができる。 Examples of the polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group include the compounds of Production Examples 1-1 to 1-3 of JP-A-2009-84327, or Silaplane FM-0711 and FM-0721 manufactured by Chisso Corporation. , FM-0725, X-24-8201 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., X-22-174DX, X-22-1602, X22-1603, X-22-2426, X-22-2404, X- 22-164A, X-22-164C, X-22-2458, X-22-2459, X-22-2445, X-22-2457, BY16-152D, BY16-152 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. , BY16-152C, BYK-UV3570 manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd., and other commercially available products can be used.

[接着剤層]
本発明における転写層は、接着剤層であることが好ましい。接着剤層は、エポキシ化合物を含有することが好ましい。接着剤層は、エポキシ化合物を含有する熱硬化性組成物、活性エネルギー線硬化性組成物または熱硬化性成分と活性エネルギー線硬化性成分とを含む熱・活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物であることが好ましい。エポキシ化合物としては、上述のエポキシ樹脂が好ましく用いられる。中でも、エポキシ化合物を含有する熱硬化性組成物の硬化物からなる接着剤層(熱硬化性接着剤層)であることが好ましい。
[Adhesive layer]
The transfer layer in the present invention is preferably an adhesive layer. The adhesive layer preferably contains an epoxy compound. The adhesive layer is a thermosetting composition containing an epoxy compound, an active energy ray-curable composition, or a cured product of a thermosetting / active energy ray-curable composition containing a thermosetting component and an active energy ray-curable component. Is preferable. As the epoxy compound, the above-mentioned epoxy resin is preferably used. Of these, an adhesive layer (thermosetting adhesive layer) made of a cured product of a thermosetting composition containing an epoxy compound is preferable.

接着剤層は、例えば、回路基板の封止樹脂層あるいは多層プリント配線板の層間絶縁樹脂層として好適である。特に、上記用途に適用される接着剤層としては、エポキシ化合物を含有する熱硬化性組成物の硬化物からなる接着剤層(熱硬化性接着剤層)であることが好ましい。 The adhesive layer is suitable as, for example, a sealing resin layer for a circuit board or an interlayer insulating resin layer for a multilayer printed wiring board. In particular, the adhesive layer applied to the above applications is preferably an adhesive layer (thermosetting adhesive layer) made of a cured product of a thermosetting composition containing an epoxy compound.

以下、回路基板の封止樹脂層あるいは多層プリント配線板の層間絶縁樹脂層に好適な熱硬化性接着剤層について詳細に説明する。 Hereinafter, a thermosetting adhesive layer suitable for the sealing resin layer of the circuit board or the interlayer insulating resin layer of the multilayer printed wiring board will be described in detail.

接着剤層は、上述したエポキシ化合物と、エポキシ化合物以外の他の熱硬化性樹脂を含有することができる。他の熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ系樹脂と架橋するノボラック型フェノール樹脂、ビニルフェノール樹脂、臭素化ビニルフェノール等が挙げられる。 The adhesive layer can contain the above-mentioned epoxy compound and a thermosetting resin other than the epoxy compound. Examples of other thermosetting resins include novolak-type phenol resins, vinyl phenol resins, and brominated vinyl phenols that crosslink with epoxy resins.

接着剤層は、さらに、硬化剤を含有することが好ましい。硬化剤としては、例えば、アミン系硬化剤、グアニジン系硬化剤、イミダゾール系硬化剤、フェノール系硬化剤、酸無水物系硬化剤、ヒドラジド系硬化剤、カルボン酸系硬化剤、チオール系硬化剤またはこれらのエポキシアダクトやマイクロカプセル化したもの等が挙げられる。また、トリフェニルホスフィン、ホスホニウムボレート、3−(3,4−ジクロロフェニル)−1,1−ジメチルウレア等の硬化促進剤を併用して用いてもよい。 The adhesive layer preferably further contains a curing agent. Examples of the curing agent include amine-based curing agents, guanidine-based curing agents, imidazole-based curing agents, phenol-based curing agents, acid anhydride-based curing agents, hydrazide-based curing agents, carboxylic acid-based curing agents, thiol-based curing agents, or Examples thereof include these epoxy adducts and microencapsulated ones. Further, a curing accelerator such as triphenylphosphine, phosphonium borate, 3- (3,4-dichlorophenyl) -1,1-dimethylurea may be used in combination.

硬化剤の具体例としては、例えば、ジシアンジアミド、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4,4’−トリアミノジフェニルスルホン、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジクロロ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6−(2−メチル−1−イミダゾリルエチル)−1、3、5−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、トリアジン構造含有ノボラック樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。 Specific examples of the curing agent include, for example, dicyandiamide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminobenzophenone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4. '-Diaminodiphenyl sulfone, 3,4,4'-triaminodiphenyl sulfone, 3,3', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dichloro-4,4' −Diaminodiphenylmethane, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,4-diamino-6- (2-methyl-1-imidazolylethyl) -1,3,5-triazine isocyanuric acid adduct, Examples thereof include a triazine structure-containing novolak resin, a phenol resin, and a melamine resin.

接着剤層は、熱可塑性樹脂を含有することができる。熱可塑性樹脂としては、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体(NBR)、カルボキシ化アクリロニトリル−ブタジエン共重合体(カルボキシ化NBR)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS)、ポリブタジエン、スチレン−ブタジエン−エチレン共重合体(SEBS)、(メタ)アクリル酸エステル樹脂(アクリルゴム)、カルボキシ化エチレンアクリルゴム、ポリビニルブチラール、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリウレタンなどが挙げられる。 The adhesive layer can contain a thermoplastic resin. Examples of the thermoplastic resin include acrylonitrile-butadiene copolymer (NBR), carboxylated acrylonitrile-butadiene copolymer (carboxylated NBR), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS), polybutadiene, and styrene-butadiene-ethylene. Examples thereof include polymer (SEBS), (meth) acrylic acid ester resin (acrylic rubber), carboxylated ethylene acrylic rubber, polyvinyl butyral, polyamide, polyester, polyimide, polyamideimide, and polyurethane.

接着剤層は、無機あるいは有機の充填材を含有することができる。無機充填材としては、例えば、シリカ、アルミナ、硫酸バリウム、タルク、クレー、雲母粉、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、ホウ酸アルミニウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、酸化チタン、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウムなどが挙げられる。有機充填材としては、アクリルゴム粒子、シリコーン粒子などが挙げられる。 The adhesive layer can contain an inorganic or organic filler. Examples of the inorganic filler include silica, alumina, barium sulfate, talc, clay, mica powder, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, magnesium oxide, boron nitride, aluminum borate, and barium titanate. Examples thereof include strontium titanate, calcium titanate, magnesium titanate, bismuth titanate, titanium oxide, barium titanate, and calcium zirconate. Examples of the organic filler include acrylic rubber particles and silicone particles.

接着剤層は、転写工程または転写後に加熱硬化されることが好ましい。ここで、転写工程での加熱は離型フィルムが存在する状態での加熱を意味し、転写後の加熱は離型フィルムが剥離された後の加熱を意味する。加熱温度としては、100〜200℃が一般的であり、120〜180℃が好ましい。 The adhesive layer is preferably heat-cured during or after the transfer step. Here, heating in the transfer step means heating in the presence of the release film, and heating after transfer means heating after the release film is peeled off. The heating temperature is generally 100 to 200 ° C, preferably 120 to 180 ° C.

接着剤層が、活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物からなる接着剤層である場合は、前述のエポキシ化合物、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物、光重合開始剤を含有することが好ましい。さらに、前述の熱可塑性樹脂、無機あるいは有機の充填材を含有することができる。この接着剤層は、転写工程または転写後に活性エネルギー線を照射して硬化されることが好ましい。 When the adhesive layer is an adhesive layer made of a cured product of an active energy ray-curable composition, it shall contain the above-mentioned epoxy compound, a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule, and a photopolymerization initiator. Is preferable. Further, the above-mentioned thermoplastic resin, inorganic or organic filler can be contained. The adhesive layer is preferably cured by irradiating it with active energy rays during or after the transfer.

接着剤層が、熱・活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物からなる接着剤層である場合は、前述のエポキシ化合物、前述の硬化剤、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物、光重合開始剤を含有することが好ましい。さらに、前述の熱可塑性樹脂、無機あるいは有機の充填材を含有することができる。この接着剤層は、転写工程または転写後に、加熱および/または活性エネルギー線を照射して硬化されることが好ましい。 When the adhesive layer is an adhesive layer made of a cured product of a heat / active energy ray-curable composition, the above-mentioned epoxy compound, the above-mentioned curing agent, a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule, and light. It preferably contains a polymerization initiator. Further, the above-mentioned thermoplastic resin, inorganic or organic filler can be contained. The adhesive layer is preferably cured by irradiating with heating and / or active energy rays after the transfer step or transfer.

ここで、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物は、前述と同様の化合物を用いることができる。また、光重合開始剤は、後述のハードコート層に用いられる化合物と同様の化合物を用いることができる。 Here, as the compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule, the same compound as described above can be used. Further, as the photopolymerization initiator, a compound similar to the compound used for the hard coat layer described later can be used.

接着剤層の厚みは、10〜200μmが適当であり、20〜100μmが好ましい。 The thickness of the adhesive layer is preferably 10 to 200 μm, preferably 20 to 100 μm.

[ハードコート層]
本発明における転写層は、ハードコート層であることが好ましい。ハードコート層は、前述したプラスチック樹脂成型品などの被着体に傷が付くことを抑制したり、意匠性を付与したりするために適用される。
[Hard coat layer]
The transfer layer in the present invention is preferably a hard coat layer. The hard coat layer is applied to prevent the adherend such as the plastic resin molded product described above from being scratched or to impart designability.

ハードコート層が転写された被着体に傷付き抑制効果を発現させるという観点から、ハードコート層の鉛筆硬度(JIS K5600−5−4(1999年)に規定)は、F以上が好ましく、H以上がより好ましく、2H以上が特に好ましい。上限は9H程度である。 From the viewpoint of exerting a scratch-suppressing effect on the adherend to which the hard coat layer is transferred, the pencil hardness of the hard coat layer (specified in JIS K5600-5-4 (1999)) is preferably F or higher, and H. The above is more preferable, and 2H or more is particularly preferable. The upper limit is about 9H.

ハードコート層は、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を含有することが好ましい。つまり、ハードコート層は、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を含有する活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物からなることが好ましい。 The hard coat layer preferably contains a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule. That is, the hard coat layer is preferably made of a cured product of an active energy ray-curable composition containing a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule.

ハードコート層の鉛筆硬度を高め、かつ硬化収縮を抑制するとい観点から、ハードコート層を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物は、分子内にエチレン性不飽和基とウレタン結合を有する化合物を含有することが好ましい。該組成物は、分子内にエチレン性不飽和基とウレタン結合を有する化合物に加えて、前述の3〜6官能の(メタ)アクリレートとを併用することがより好ましい。 From the viewpoint of increasing the pencil hardness of the hard coat layer and suppressing curing shrinkage, the active energy ray-curable composition for forming the hard coat layer is a compound having an ethylenically unsaturated group and a urethane bond in the molecule. Is preferably contained. It is more preferable that the composition is used in combination with the above-mentioned 3-6-functional (meth) acrylate in addition to the compound having an ethylenically unsaturated group and a urethane bond in the molecule.

活性エネルギー線硬化性組成物は、さらに光重合開始剤を含有することが好ましい。 The active energy ray-curable composition preferably further contains a photopolymerization initiator.

かかる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、p−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、2種以上組み合せて用いてもよい。 Specific examples of such a photopolymerization initiator include, for example, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, and the like. 4,4'-Bisdiethylaminobenzophenone, Michler ketone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, methylbenzoylformate, p-isopropyl-α-hydroxyisobutylphenone, α-hydroxyisobutylphenone, 2, Use carbonyl compounds such as 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 1-hydroxycyclohexylphenylketone, and sulfur compounds such as tetramethylthium monosulfide, tetramethylthium disulfide, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, and 2-methylthioxanthone. Can be done. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

また、光重合開始剤は一般に市販されており、それらを使用することができる。例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製の“イルガキュア(登録商標)”184、イルガキュア907、イルガキュア379、イルガキュア819、イルガキュア127、イルガキュア500、イルガキュア754、イルガキュア250、イルガキュア1800、イルガキュア1870、イルガキュアOXE01、DAROCUR TPO、DAROCUR1173等、日本シイベルヘグナー(株)製のSpeedcureMBB、SpeedcurePBZ、SpeedcureITX、SpeedcureCTX、SpeedcureEDB、Esacure ONE、Esacure KIP150、Esacure KTO46等、日本化薬(株)製のKAYACURE DETX−S、KAYACURE CTX、KAYACURE BMS、KAYACURE DMBI等が挙げられる。 In addition, photopolymerization initiators are generally commercially available, and they can be used. For example, "Irgacure (registered trademark)" 184, Irgacure 907, Irgacure 379, Irgacure 819, Irgacure 127, Irgacure 500, Irgacure 754, Irgacure 250, Irgacure 1800, Irgacure 1870, Irgacure OX01 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. , DAROCUR TPO, DAROCUR1173, etc., SpeedcureMBB, SpeedcurePBZ, SpeedcureITX, SpeedcureCTX, SpeedcureCTX, SpeedcureEDB, SpeedcureEDB, EsacureONE KAYACURE BMS, KAYACURE DMBI and the like can be mentioned.

ハードコート層に防汚性(耐指紋性)を付与する場合は、分子内にエチレン性不飽和基とフッ素原子を有する化合物および/または分子内にエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有させることが好ましい。 When imparting antifouling property (fingerprint resistance) to the hard coat layer, a compound having an ethylenically unsaturated group and a fluorine atom in the molecule and / or a polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule is contained. It is preferable to let it.

ハードコート層は、さらに、粒子、顔料、紫外線吸収剤、帯電防止剤などを含有することができる。 The hard coat layer can further contain particles, pigments, UV absorbers, antistatic agents and the like.

ハードコート層の厚みは、0.5〜20μmが適当であり、1〜15μmが好ましく、2〜10μmがより好ましい。 The thickness of the hard coat layer is preferably 0.5 to 20 μm, preferably 1 to 15 μm, and more preferably 2 to 10 μm.

ハードコート層は、離型フィルムの離型層上に活性エネルギー線硬化性組成物を塗布し、必要に応じて乾燥した後、活性エネルギー線を照射して形成することができる。活性エネルギーとしては、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、α線、β線、γ線などが挙げられる。中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。 The hard coat layer can be formed by applying an active energy ray-curable composition on the release layer of a release film, drying it if necessary, and then irradiating it with active energy rays. Examples of the active energy include ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, electron beams, α rays, β rays, and γ rays. Of these, ultraviolet rays and electron beams are preferable, and ultraviolet rays are particularly preferably used.

紫外線を照射するための光源としては、特に限定されないが、例えば、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく用いられる。また、紫外線を照射するときに、低酸素濃度下の雰囲気下、例えば、酸素濃度が500ppm以下の雰囲気下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができるので好ましい。 The light source for irradiating ultraviolet rays is not particularly limited, and for example, an ultraviolet fluorescent lamp, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. .. Further, an ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, a synchrotron radiant light, or the like can also be used. Of these, ultra-high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, carbon arcs, xenon arcs, and metal halide lamps are preferably used. Further, when irradiating ultraviolet rays, it is preferable to irradiate in an atmosphere with a low oxygen concentration, for example, in an atmosphere with an oxygen concentration of 500 ppm or less, because it can be cured efficiently.

紫外線の照射光量は、50mJ/cm以上が好ましく、100mJ/cm以上がより好ましく、特に150mJ/cm以上が好ましい。上限は2000mJ/cm以下が好ましく、1000mJ/cm以下がより好ましい。 Irradiation light amount of the ultraviolet rays is preferably from 50 mJ / cm 2 or more, 100 mJ / cm 2 or more, and particularly 150 mJ / cm 2 or more. The upper limit is preferably 2000 mJ / cm 2 or less, and more preferably 1000 mJ / cm 2 or less.

活性エネルギー線硬化性組成物の塗布方法としては、例えば、リバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。 Examples of the method for applying the active energy ray-curable composition include a reverse coating method, a spray coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a rod coating method, a die coating method, a spin coating method, and an extrusion coating method. Can be used.

ハードコート層の硬化時期は、離型フィルムの離型層上にハードコート層を積層する工程でほぼ完全に硬化させてもよいし、2工程に分けて分割硬化させてもよい。分割硬化としては、例えば、ハードコート層の積層工程で半硬化させ、ハードコート層の転写工程または転写後に活性エネルギー線を照射して完全硬化させる方法が挙げられる。 The curing time of the hard coat layer may be almost completely cured in the step of laminating the hard coat layer on the release layer of the release film, or may be divided and cured in two steps. Examples of the split curing include a method in which the hard coat layer is semi-cured in a laminating step and then completely cured by irradiating an active energy ray after the transfer step or transfer of the hard coat layer.

[防汚層]
本発明における転写層は、防汚層であることが好ましい。防汚層は、指紋などの汚れ成分が付着することを抑制する機能、または指紋などの汚れ成分が付着しても拭き取れる機能を有する層である。かかる機能は、例えば、防汚層の表面の水接触角で表すことができる。つまり、防汚層の表面の水接触角は、90度以上が好ましく、95度以上がより好ましく、100度以上が特に好ましい。上限は160度程度である。
[Anti-fouling layer]
The transfer layer in the present invention is preferably an antifouling layer. The antifouling layer is a layer having a function of suppressing the adhesion of stain components such as fingerprints or a function of wiping off even if stain components such as fingerprints are attached. Such a function can be represented by, for example, the water contact angle on the surface of the antifouling layer. That is, the water contact angle on the surface of the antifouling layer is preferably 90 degrees or more, more preferably 95 degrees or more, and particularly preferably 100 degrees or more. The upper limit is about 160 degrees.

防汚層は、被着体であるプラスチック樹脂成形品に防汚性を付与するのに適用される。 The antifouling layer is applied to impart antifouling property to a plastic resin molded product which is an adherend.

防汚層は、分子内にエチレン性不飽和基とフッ素原子を有する化合物および/または分子内にエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有することが好ましい。 The antifouling layer preferably contains a compound having an ethylenically unsaturated group and a fluorine atom in the molecule and / or a polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule.

防汚層は、分子内にエチレン性不飽和基とフッ素原子を有する化合物および/または分子内にエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有する活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物からなることが好ましい。つまり、防汚層は、離型フィルムの離型層上に上記活性エネルギー線硬化性組成物を塗布し、必要に応じて乾燥した後、活性エネルギー線を照射し硬化して形成することができる。活性エネルギー線の照射条件は、前述のハードコート層における条件と同様の条件を採用することができる。 The antifouling layer comprises a cured product of an active energy ray-curable composition containing a compound having an ethylenically unsaturated group and a fluorine atom in the molecule and / or a polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule. Is preferable. That is, the antifouling layer can be formed by applying the active energy ray-curable composition on the release layer of the release film, drying it if necessary, and then irradiating it with active energy rays to cure it. .. As the irradiation conditions for the active energy rays, the same conditions as those for the hard coat layer described above can be adopted.

活性エネルギー線硬化性組成物は、さらに、前述の2〜6官能の(メタ)アクリレートを含有することが好ましい。活性エネルギー線硬化性組成物は、またさらに、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤は、ハードコート層に用いられるのと同様の化合物を用いることができる。 The active energy ray-curable composition preferably further contains the above-mentioned 2-6 functional (meth) acrylate. The active energy ray-curable composition further preferably contains a photopolymerization initiator. As the photopolymerization initiator, the same compounds as those used for the hard coat layer can be used.

防汚層の厚みは、0.01〜10μmが好ましく、0.02〜5μmがより好ましく、0.03〜3μmが特に好ましい。 The thickness of the antifouling layer is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.02 to 5 μm, and particularly preferably 0.03 to 3 μm.

[反射防止層]
本発明における転写層は、反射防止層であることが好ましい。反射防止層は、被着体であるプラスチック樹脂成形品に反射防止性を付与するのに適用される。この観点から、反射防止層は、波長589nmの屈折率が1.47以下であることが好ましく、1.43以下であることがより好ましく、1.40以下であることがより好ましい。下限は1.25程度である。
[Anti-reflective layer]
The transfer layer in the present invention is preferably an antireflection layer. The antireflection layer is applied to impart antireflection property to a plastic resin molded product which is an adherend. From this viewpoint, the antireflection layer preferably has a refractive index of 1.47 or less, more preferably 1.43 or less, and more preferably 1.40 or less at a wavelength of 589 nm. The lower limit is about 1.25.

反射防止層は、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物と、フッ素化合物および/または中空シリカを含有することが好ましい。 The antireflection layer preferably contains a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule, a fluorine compound and / or hollow silica.

反射防止層は、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物と、フッ素化合物および/または中空シリカを含有する活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物からなることが好ましい。つまり、反射防止層は、離型フィルムの離型層上に上記活性エネルギー線硬化性組成物を塗布し、必要に応じて乾燥した後、活性エネルギー線を照射し硬化して形成することができる。活性エネルギー線の照射条件は、前述のハードコート層における条件と同様の条件を採用することができる。 The antireflection layer is preferably composed of a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule and a cured product of an active energy ray-curable composition containing a fluorine compound and / or hollow silica. That is, the antireflection layer can be formed by applying the active energy ray-curable composition on the release layer of the release film, drying it if necessary, and then irradiating it with active energy rays to cure it. .. As the irradiation conditions for the active energy rays, the same conditions as those for the hard coat layer described above can be adopted.

フッ素化合物としては、前述の分子内にエチレン性不飽和基とフッ素原子を有する化合物が好ましく用いられる。この場合は、上記フッ素化合物以外の「分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物」は必ずしも必要ではないが、反射防止層の硬度を高めるという観点から、前述した2〜6官能の(メタ)アクリレートを含有することが好ましい。 As the fluorine compound, the above-mentioned compound having an ethylenically unsaturated group and a fluorine atom in the molecule is preferably used. In this case, a "compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule" other than the above-mentioned fluorine compound is not always necessary, but from the viewpoint of increasing the hardness of the antireflection layer, the above-mentioned 2-6 functional (meth) It preferably contains an acrylate.

活性エネルギー線硬化性組成物は、またさらに、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤は、ハードコート層に用いられるのと同様の化合物を用いることができる。 The active energy ray-curable composition further preferably contains a photopolymerization initiator. As the photopolymerization initiator, the same compounds as those used for the hard coat layer can be used.

反射防止層の特に好ましい態様としては、中空シリカと、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物として2〜6官能の(メタ)アクリレートを含有する態様が挙げられる。 Particularly preferred embodiments of the antireflection layer include hollow silica and an embodiment containing 2 to 6 functional (meth) acrylates as a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule.

反射防止層の厚みは0.08〜0.12μmが好ましく、0.09〜0.11μmがより好ましい。 The thickness of the antireflection layer is preferably 0.08 to 0.12 μm, more preferably 0.09 to 0.11 μm.

[転写フィルム]
本発明の転写フィルムは、離型フィルムの離型層上に、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層が積層されたものである。
[Transfer film]
The transfer film of the present invention is obtained by laminating a transfer layer containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule on the release layer of the release film. be.

以下の説明において、「エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層」を「第1転写層」ということがある。 In the following description, the "transfer layer containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule" may be referred to as a "first transfer layer".

本発明の転写フィルムは、第1転写層の離型フィルムとは反対側に第2転写層が積層されていてもよい。つまり、本発明の転写フィルムは、離型フィルムの離型層上に第1転写層が直接に積層され、第1転写層上に第2転写層が積層された態様を含む。ここで、第2転写層は、単一層で構成されていてもよいし、複数層で構成されていてもよい。 In the transfer film of the present invention, the second transfer layer may be laminated on the side opposite to the release film of the first transfer layer. That is, the transfer film of the present invention includes an embodiment in which the first transfer layer is directly laminated on the release layer of the release film, and the second transfer layer is laminated on the first transfer layer. Here, the second transfer layer may be composed of a single layer or a plurality of layers.

第2転写層としては、第1転写層の種類や用途、あるいは被着体の種類や用途によって、適宜選択される。第1転写層が、ハードコート層、防汚層あるいは反射防止層である場合の第2転写層としては、第1転写層を被着体に密着させるための接着層、第1転写層と接着層の密着性を向上させるための密着強化層などが挙げられる。 The second transfer layer is appropriately selected depending on the type and use of the first transfer layer, or the type and use of the adherend. When the first transfer layer is a hard coat layer, an antifouling layer or an antireflection layer, the second transfer layer is an adhesive layer for adhering the first transfer layer to the adherend and adheres to the first transfer layer. Examples thereof include an adhesion strengthening layer for improving the adhesion of the layer.

接着層としては、例えば、樹脂系接着剤やホットメルト型接着剤を用いることができる。接着剤としては、例えば、アクリル酸エステル系、ポリエステル系、合成ゴム系、エポキシ系、ポリウレタン系、エチレン−酢酸ビニル系、ポリアミド系、ポリ塩化ビニル、ハロゲン化ポリオレフィン、ニトロセルロースおよびこれらの共重合体などが挙げられる。ホットメルト型接着剤としては、例えば、ポリウレタン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル系のものが挙げられる。 As the adhesive layer, for example, a resin-based adhesive or a hot-melt type adhesive can be used. Examples of the adhesive include acrylic acid ester-based, polyester-based, synthetic rubber-based, epoxy-based, polyurethane-based, ethylene-vinyl acetate-based, polyamide-based, polyvinyl chloride, halogenated polyolefin, nitrocellulose, and copolymers thereof. And so on. Examples of the hot melt type adhesive include polyurethane, polyamide, and polyvinyl chloride.

密着強化層を構成する材料としては、アクリルウレタン樹脂、塩酢ビ樹脂、ポリエステル系樹脂、メラミン系樹脂やエポキシ系等の熱硬化性樹脂が好ましく挙げられる。 As the material constituting the adhesion strengthening layer, thermosetting resins such as acrylic urethane resin, salt and vinegar resin, polyester resin, melamine resin and epoxy resin are preferably mentioned.

第1転写層が防汚層である場合の第2転写層としては、さらに、ハードコート層が挙げられる。このハードコート層は、防汚層と前述の接着層あるいは密着強化層との間に配置することが好ましい。ハードコート層としては、前述の第1転写層を構成するハードコート層と同様の構成を採用することができる。 Further, as the second transfer layer when the first transfer layer is an antifouling layer, a hard coat layer can be mentioned. The hard coat layer is preferably arranged between the antifouling layer and the above-mentioned adhesive layer or adhesion strengthening layer. As the hard coat layer, the same structure as the hard coat layer constituting the first transfer layer described above can be adopted.

第1転写層が反射防止層である場合の第2転写層としては、さらに、ハードコート層、高屈折率層、高屈折率ハードコート層などが挙げられる。これらの層は、反射防止層と前述の接着層あるいは密着強化層との間に配置することが好ましい。 Further, examples of the second transfer layer when the first transfer layer is an antireflection layer include a hard coat layer, a high refractive index layer, and a high refractive index hard coat layer. These layers are preferably arranged between the antireflection layer and the above-mentioned adhesive layer or adhesion strengthening layer.

ハードコート層としては、前述の第1転写層を構成するハードコート層と同様の構成を採用することができる。 As the hard coat layer, the same structure as the hard coat layer constituting the first transfer layer described above can be adopted.

高屈折率層および高屈折率ハードコート層は、波長589nmの屈折率が1.55〜1.80であることが好ましい。高屈折率層および高屈折率ハードコート層は、高屈折率の金属酸化物微粒子と前述の分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を含有する活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物であることが好ましい。高屈折率の金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO)などが挙げられる。 The high refractive index layer and the high refractive index hard coat layer preferably have a refractive index of 1.55 to 1.80 at a wavelength of 589 nm. The high refractive index layer and the high refractive index hard coat layer are cured products of an active energy ray-curable composition containing metal oxide fine particles having a high refractive index and the above-mentioned compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule. Is preferable. Examples of the metal oxide fine particles having a high refractive index include zirconium oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, tin oxide-doped indium oxide (ITO), and antimony-doped tin oxide (ATO).

高屈折率層の厚みは、0.08〜0.20μmが好ましく、0.09〜0.17μmがより好ましい。高屈折率ハードコート層の厚みは、0.5〜5.0μmが好ましく、0.7〜3.0μmがより好ましい。 The thickness of the high refractive index layer is preferably 0.08 to 0.20 μm, more preferably 0.09 to 0.17 μm. The thickness of the high refractive index hard coat layer is preferably 0.5 to 5.0 μm, more preferably 0.7 to 3.0 μm.

以下、実施例により本発明を詳述するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

[測定方法および評価方法]
(1)離型層の表面自由エネルギーの測定
表面自由エネルギーおよびその各成分(分散力、極性力、水素結合力)の値が既知の3種の液体として、水、ジヨードメタン、1−ブロモナフタレンを用い、23℃、65%RH下で、接触角計DropMasterDM501(協和界面科学(株)製)にて、各液体の離型層上での接触角を測定した。1つの測定面に対し5回測定を行いその平均値を接触角(θ)とした。この接触角(θ)の値および各液体の既知の値(Panzerによる方法IV(日本接着協会誌第15巻、第3号、第96頁に記載)の数値から、北崎・畑の式より導入される下記式を用いて各成分の値を計算した。
[Measurement method and evaluation method]
(1) Measurement of surface free energy of release layer Water, diiodomethane, and 1-bromonaphthalene are used as three kinds of liquids whose surface free energy and the values of each component (dispersion force, polarity force, and hydrogen bonding force) are known. The contact angle of each liquid on the release layer was measured with a contact angle meter DropMasterDM501 (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) at 23 ° C. and 65% RH. The measurement was performed 5 times on one measurement surface, and the average value was taken as the contact angle (θ). Introduced from the Kitazaki-Hata formula from the values of this contact angle (θ) and the known values of each liquid (Method IV by Panzer (described in Vol. 15, No. 3, page 96 of the Journal of the Japan Adhesive Association)). The value of each component was calculated using the following formula.

(γSd・γLd)1/2+(γSp・γLp)1/2+(γSh・γLh)1/2=γL(1+cosθ)/2
ここで、γLd、γLp、γLhは、それぞれ測定液の分散力、極性力、水素結合力の各成分を表し、θは測定面上での測定液の接触角を表し、また、γSd、γSp、γShは、それぞれ積層膜表面の分散力、極性力、水素結合力の各成分の値を表し、γLは各液体の表面エネルギーを表す。既知の値およびθを上記の式に代入して得られた連立方程式を解くことにより、測定面(離型層表面)の3成分の値を求める。
(ΓSd / γLd) 1/2+ (γSp / γLp) 1/2+ (γSh / γLh) 1/2 = γL (1 + cosθ) / 2
Here, γLd, γLp, and γLh represent each component of the dispersion force, the polarity force, and the hydrogen bond force of the measurement liquid, respectively, θ represents the contact angle of the measurement liquid on the measurement surface, and γSd, γSp, γSh represents the value of each component of the dispersion force, the polarity force, and the hydrogen bond force on the surface of the laminated film, and γL represents the surface energy of each liquid. By solving the simultaneous equations obtained by substituting the known values and θ into the above equation, the values of the three components of the measurement surface (release layer surface) are obtained.

下記式の通り、求められた分散力成分の値と極性力成分の値と水素結合力成分の値の和を、表面自由エネルギー(E)の値とする。 As shown in the following formula, the sum of the obtained value of the dispersion force component, the value of the polar force component, and the value of the hydrogen bonding force component is defined as the value of the surface free energy (E).

E=γSd+γSp+γSh
(2)表面粗さSRaの測定
基材フィルムおよび離型層の表面粗さSRaは、光干渉型顕微鏡((株)菱化システム社製、VertScan2.0、型式:R5300 GL−Lite−AC)を用いて、観察モード=Waveモード、面補正=4次、フィルター=530nmWhite、対物レンズ=50倍、測定領域=252.69×189.53μmにて表面形態観察し、求めた。測定は1サンプルにつき5回行い、その平均値から求めた。尚、基材フィルムの表面粗さSRaは、離型層を塗布する面の表面粗さSRaである。
E = γSd + γSp + γSh
(2) Measurement of surface roughness SRa The surface roughness SRa of the base film and the release layer is an optical interference type microscope (VertScan2.0, manufactured by Ryoka System Co., Ltd., model: R5300 GL-Lite-AC). The surface morphology was observed and determined in an observation mode = Wave mode, a surface correction = 4th order, a filter = 530 nm White, an objective lens = 50 times, and a measurement area = 252.69 × 189.53 μm. The measurement was performed 5 times per sample, and it was calculated from the average value. The surface roughness SRa of the base film is the surface roughness SRa of the surface to which the release layer is applied.

(3)ハードコート層の鉛筆硬度の測定
転写層がハードコート層である場合のハードコート層の鉛筆硬度を以下の要領で測定した。
(3) Measurement of Pencil Hardness of Hard Coat Layer The pencil hardness of the hard coat layer when the transfer layer was a hard coat layer was measured as follows.

下記(8)の転写工程に従って、被着体にハードコート層を転写した後、ハードコート層表面の鉛筆硬度をJIS K5600−5−4(1999年)に準拠して新東科学(株)製の表面性硬度計(HEIDON;タイプ14DR)を用いて測定した。荷重は750g、速度は30mm/minである。 After transferring the hard coat layer to the adherend according to the transfer step (8) below, the pencil hardness on the surface of the hard coat layer is manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd. in accordance with JIS K5600-5-4 (1999). It was measured using a surface hardness tester (HEIDON; type 14DR). The load is 750 g and the speed is 30 mm / min.

(4)防汚層の水接触角の測定
転写層が防汚層である場合の防汚層の水接触角を以下の要領で測定した。
(4) Measurement of water contact angle of antifouling layer When the transfer layer is an antifouling layer, the water contact angle of the antifouling layer was measured as follows.

下記(8)の転写工程に従って、被着体に防汚層を転写した後、防汚層表面の水接触角を協和界面科学(株)製の自動接触角計(DM−500)と解析ソフトFAMAS(バージョン3.34)を用いて測定した。測定には純水を用い、純水の滴下量を2マイクロリットルとした。5回測定し、最大と最小値を除く3点の平均値を採用した。測定環境は、温度23℃、相対湿度55%である。 After transferring the antifouling layer to the adherend according to the transfer step (8) below, the water contact angle on the surface of the antifouling layer is measured with an automatic contact angle meter (DM-500) manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. and analysis software. Measured using FAMAS (version 3.34). Pure water was used for the measurement, and the amount of pure water dropped was 2 microliters. The measurement was performed 5 times, and the average value of 3 points excluding the maximum and minimum values was adopted. The measurement environment is a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55%.

(5)反射防止層および高屈折率ハードコート層の屈折率の測定
反射防止層および高屈折率ハードコート層を形成するための組成物をシリコンウエハー上に塗布して形成された塗膜(乾燥厚み約2μm)について、25℃の温度条件下で位相差測定装置(ニコン(株)製:NPDM−1000)で589nmの屈折率を測定した。
(5) Measurement of Refractive Index of Antireflection Layer and High Refractive Index Hard Coat Layer A coating film (dried) formed by applying a composition for forming the antireflection layer and the high refractive index hard coat layer onto a silicon wafer. For a thickness of about 2 μm), the refractive index of 589 nm was measured with a phase difference measuring device (manufactured by Nikon Corporation: NPDM-1000) under a temperature condition of 25 ° C.

(6)反射防止層の視感反射率の測定
転写層が反射防止層である場合の反射防止層の視感反射率を以下の要領で測定した。
(6) Measurement of the visual reflectance of the antireflection layer The visual reflectance of the antireflection layer when the transfer layer is an antireflection layer was measured as follows.

下記(8)の転写工程に従って、被着体に反射防止層を転写した後、被着体の反射防止層とは反対面に黒粘着テープを貼り付けて測定用試料とし、下記のようにして視感反射率を測定した。 After transferring the antireflection layer to the adherend according to the transfer step (8) below, a black adhesive tape is attached to the surface of the adherend opposite to the antireflection layer to prepare a sample for measurement, as described below. The visual reflectance was measured.

<視感反射率の測定>
分光光度計(島津製作所製、UV3150PC)を用いて、測定面から5度の入射角で波長380〜780nmの範囲で反射率(片面反射)を算出し、視感反射率(JIS Z8701−1999において規定されている反射の刺激値Y)を求めた。分光光度計で分光立体角を測定し、JIS Z8701−1999に従って反射率(片面光線反射)を算出する。算出式は以下の通りである。
<Measurement of visual reflectance>
Using a spectrophotometer (UV3150PC, manufactured by Shimadzu Corporation), the reflectance (single-sided reflection) was calculated in the wavelength range of 380 to 780 nm at an incident angle of 5 degrees from the measurement surface, and the visual reflectance (in JIS Z8701-1999). The specified reflex stimulation value Y) was determined. The spectral solid angle is measured with a spectrophotometer, and the reflectance (single-sided ray reflection) is calculated according to JIS Z8701-1999. The calculation formula is as follows.

T=K・∫S(λ)・y(λ)・ R(λ) ・dλ (ただし、積分区間は380〜780nm)
T:片面光線反射率
S(λ):色の表示に用いる標準の光の分布
y(λ):XYZ表示系における等色関数
R(λ):分光立体角反射率。
T = K ・ ∫S (λ) ・ y (λ) ・ R (λ) ・ dλ (However, the integration interval is 380 to 780 nm)
T: Single-sided light reflectance S (λ): Standard light distribution used for color display y (λ): Color matching function in the XYZ display system R (λ): Spectral solid angle reflectance.

(7)転写層の塗布性の評価
転写層のそれぞれの組成物を離型フィルムの離型層上に下記の実施例の要領で塗布し、その塗布性を以下の基準で評価した。
A(良);均一で外観が良好な塗布膜が得られた場合
B(可);塗布膜に少し塗布ムラが確認されるが外観が規格内の場合
C(不可);塗布膜に強いハジキあるいは強い塗布ムラが確認され外観が規格外の場合。
(7) Evaluation of Applyability of Transfer Layer Each composition of the transfer layer was applied onto the release layer of the release film in the manner of the following Examples, and the coatability was evaluated according to the following criteria.
A (Good); When a uniform coating film with a good appearance is obtained B (Yes); When a slight coating unevenness is confirmed on the coating film but the appearance is within the standard C (No); Strong repellent on the coating film Or when strong coating unevenness is confirmed and the appearance is out of specification.

(8)転写フィルムの離型フィルムの剥離性評価
転写層として、接着剤層、ハードコート層、防汚層あるいは反射防止層が積層された転写フィルムの転写層を被着体に転写する工程における離型フィルムと転写層との剥離性を以下の要領で評価した。被着体は、転写層の種類に応じて以下のように変更した。
(8) Evaluation of release property of release film of transfer film In a step of transferring a transfer layer of a transfer film in which an adhesive layer, a hard coat layer, an antifouling layer or an antireflection layer is laminated as a transfer layer to an adherend. The peelability between the release film and the transfer layer was evaluated as follows. The adherend was changed as follows according to the type of transfer layer.

<被着体>
・転写層が接着剤層の場合;圧延銅箔(JX日鉱日石金属社製、厚さ35μm)の粗面に厚さ25μmのポリイミド層が積層された基板。接着剤層の転写面は圧延銅箔の面である。
・転写層がハードコート層、防汚層あるいは反射防止層;厚みが188μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ(株)製の“ルミラー(登録商標)”U48)
<転写工程>
転写フィルムの転写層面と被着体と重ねて試験用積層体を作製した。この積層体を、加熱プレス装置(ミカドテクノス(株)製の2ton真空ヒータープレス 型番MKP−150TV−WH)に挿入し、プレス温度160℃、プレス圧2MPaにて20分間熱プレスした。その後、積層体を取り出し、常温で1時間放置後、積層体から離型フィルムを剥離し、その剥離性を以下の基準で評価した。
<Subject>
-When the transfer layer is an adhesive layer; a substrate in which a polyimide layer having a thickness of 25 μm is laminated on a rough surface of a rolled copper foil (manufactured by JX Nippon Mining & Metals Co., Ltd., thickness 35 μm). The transfer surface of the adhesive layer is the surface of the rolled copper foil.
-The transfer layer is a hard coat layer, an antifouling layer or an antireflection layer; a polyethylene terephthalate film having a thickness of 188 μm (“Lumilar®” U48 manufactured by Toray Industries, Inc.)
<Transfer process>
A test laminate was prepared by superimposing the transfer layer surface of the transfer film and the adherend. This laminate was inserted into a heating press device (2ton vacuum heater press model number MKP-150TV-WH manufactured by Mikado Technos Co., Ltd.) and heat-pressed at a press temperature of 160 ° C. and a press pressure of 2 MPa for 20 minutes. Then, the laminated body was taken out, left at room temperature for 1 hour, and then the release film was peeled off from the laminated body, and the peelability was evaluated according to the following criteria.

<剥離性の評価>
A(良);簡単にスムーズに剥離できる場合
B(可);少し力をかければ剥離できる場合
C(不可);かなり力をかけなければ剥離できない場合
[第1転写層]
以下に、エポキシ化合物を含有する接着剤層、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を含有する、ハードコート層、防汚層および反射防止層を得るための組成物を示す。
<Evaluation of peelability>
A (good); when peeling can be done easily and smoothly B (possible); when peeling can be done with a little force C (impossible); when peeling cannot be done without applying considerable force [1st transfer layer]
The composition for obtaining an adhesive layer containing an epoxy compound, a hard coat layer, an antifouling layer and an antireflection layer containing a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule is shown below.

<接着剤層用組成物1>
エポキシ化合物としてビスフェノールA型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業(株)製「エピクロン840−S」)40質量部、ノボラック型フェノール樹脂(住友ベークライト(株)製「PR−53647」)40質量部、フェノキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製「YL−6954」)20質量部、平均粒子径16nmのシリカ(日本アエロジル(株)製)5質量部、シランカップリング剤としてオクチルトリエトキシシラン(信越化学工業(株)製)0.5質量部、サリチル酸20質量部、アセトン100質量部を計量して混合攪拌して調製した。
<Composition 1 for adhesive layer>
As an epoxy compound, 40 parts by mass of bisphenol A type epoxy resin ("Epicron 840-S" manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.), 40 parts by mass of novolac type phenol resin ("PR-53647" manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.), 20 parts by mass of phenoxy resin ("YL-6954" manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), 5 parts by mass of silica (manufactured by Nippon Aerodil Co., Ltd.) with an average particle diameter of 16 nm, octylriethoxysilane (Shinetsu Chemical Co., Ltd.) as a silane coupling agent (Manufactured by Kogyo Co., Ltd.) 0.5 parts by mass, 20 parts by mass of salicylic acid, and 100 parts by mass of acetone were weighed and mixed and stirred.

<接着剤層組成物2>
エポキシ化合物として、トリフェノールメタン骨格含有多官能固形エポキシ(ジャパンエポキシレジン(株)製の商品名「EP1032H60」45質量部、ビスフェノールF型液状エポキシ(ジャパンエポキシレジン(株)製の商品名「YL983U」)15質量部、柔軟性エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製の商品名「YL7175」)5質量部、硬化剤として2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加体(四国化成(株)製の商品名「2MAOK−PW」)4質量部、2−メチルグルタル酸4質量部、平均粒子径100nmのシリカ((株)アドマテックス性の商品名「SE1050」)10質量部、平均粒子径50nmのメタクリル表面処理ナノシリカ((株)アドマテックス性の商品名「YA050C−SM」)55質量部、有機樹脂粒子(ロームアンドハースジャパン(株)製の商品名「EXL−2655」:コアシェルタイプ有機微粒子)10質量部、グリシジルシランカップリング剤(東レダウコーニング(株)製の商品名「SH6040」)2質量部、およびメチルエチルケトンを固形濃度が60質量%となるように仕込み、ビーズミルで30分間撹拌した。その後、フェノキシ樹脂(東都化成(株)製の商品名「ZX−1356−2」)20質量部加え、再度、ビーズミルで30分間撹拌して調製した。
<Adhesive layer composition 2>
As an epoxy compound, 45 parts by mass of a polyfunctional solid epoxy containing a triphenol methane skeleton (trade name "EP1032H60" manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and a bisphenol F type liquid epoxy (trade name "YL983U" manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) ) 15 parts by mass, 5 parts by mass of flexible epoxy resin (trade name "YL7175" manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1') as a curing agent ] -Ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct (trade name "2MAOK-PW" manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.) 4 parts by mass, 2-methylglutaric acid 4 parts by mass, silica with an average particle diameter of 100 nm (Co., Ltd.) Admatex product name "SE1050") 10 parts by mass, methacrylic surface-treated nanosilica with an average particle diameter of 50 nm (Admatex product name "YA050C-SM") 55 parts by mass, organic resin particles (Rome and Hearth) Japan Co., Ltd. trade name "EXL-2655": core shell type organic fine particles) 10 parts by mass, glycidylsilane coupling agent (Toray Dow Corning Co., Ltd. trade name "SH6040") 2 parts by mass, and methyl ethyl ketone The mixture was charged to a solid concentration of 60% by mass and stirred with a bead mill for 30 minutes. After that, 20 parts by mass of phenoxy resin (trade name "ZX-1356-2" manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) was added, and the bead mill was used again. Prepared by stirring for 30 minutes.

<接着剤層用組成物3>
エポキシ化合物(ジャパンエポキシレジン(株)製、商品名「エピコート828EL」)100質量部、熱可塑性樹脂としてカルボキシ化NBR(日本ゼオン社製、商品名「“ニポール(登録商標)”1072」)を40質量部、硬化剤として4,4′−ジアミノジフェニルスルホン25質量部をメチルエチルケトンに溶解分散させて、固形分濃度が30質量%となるように調製した。
<Composition 3 for adhesive layer>
100 parts by mass of epoxy compound (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name "Epicoat 828EL"), 40 carboxylated NBR (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., trade name "Nipol (registered trademark)" 1072 ") By mass, 25 parts by mass of 4,4'-diaminodiphenyl sulfone as a curing agent was dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone to prepare a solid content concentration of 30% by mass.

<ハードコート層用組成物1>
分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製の商品名「ライトアクリレートDPE−6A」)58質量部、分子内にエチレン性不飽和基とウレタン結合を有する化合物としてウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)製の商品名「UN−901T」)37質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製“イルガキュア(登録商標)”184)5質量部をメチルイソブチルケトンに溶解して、固形分濃度が20質量%の塗工液を調製した。
<Composition 1 for hard coat layer>
Dipentaerythritol hexaacrylate (trade name "Light acrylate DPE-6A" manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) as a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule, 58 parts by mass, an ethylenically unsaturated group and a urethane bond in the molecule 37 parts by mass of urethane acrylate oligomer (trade name "UN-901T" manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), photopolymerization initiator ("Irgacure (registered trademark)" 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 parts by mass was dissolved in methylisobutylketone to prepare a coating solution having a solid content concentration of 20% by mass.

<ハードコート層用組成物2>
分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製の商品名「ライトアクリレートDPE−6A」)20質量部、下記で合成された分子内にエチレン性不飽和基とウレタン結合を有する化合物(UA)140質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製“イルガキュア(登録商標)”907)5質量部、下記の反応性シリカを固形分質量比(当該組成物の全固形分に対する比率)で5質量%を混合し、メチルエチルケトンで希釈して、固形分濃度が20質量%になるように調製した。
<Composition for hard coat layer 2>
20 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (trade name "Light acrylate DPE-6A" manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) as a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule, and not ethylenically in the molecule synthesized below. 140 parts by mass of compound (UA) having a saturated group and urethane bond, 5 parts by mass of photopolymerization initiator ("Irgacure (registered trademark)" 907 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), solid content of the following reactive silica 5% by mass was mixed by mass ratio (ratio of the composition to the total solid content) and diluted with methyl ethyl ketone to prepare a solid content concentration of 20% by mass.

<化合物(UA)の合成>
4つ口フラスコに、ビスフェノールF型ジエポキシ樹脂(東都化成(株)製も商品名「エポトートYDF−8170C」)を3180質量部、アクリル酸を1440質量部、重合禁止剤としてヒドロキノンモノメチルエーテルを4.6質量部、合成触媒としてジメチルアミノエチルメタアクリレート(三菱レイヨン(株)製の商品名「アクリエステルDM」)を23質量部入れ、攪拌しながら95℃まで昇温させ、95℃に保持した状態で14時間反応を続けた。酸価が1mgKOH/g以下になったところで内温が60℃になるまで冷却してエポキシ(メタ)アクリレート化合物を得た。
<Synthesis of compound (UA)>
3. In a four-necked flask, add 3180 parts by mass of bisphenol F-type diepoxy resin (also manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., trade name "Epototo YDF-8170C"), 1440 parts by mass of acrylic acid, and hydroquinone monomethyl ether as a polymerization inhibitor. 6 parts by mass, 23 parts by mass of dimethylaminoethyl methacrylate (trade name "Acrylic acid DM" manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) was added as a synthetic catalyst, the temperature was raised to 95 ° C. with stirring, and the temperature was maintained at 95 ° C. The reaction was continued for 14 hours. When the acid value became 1 mgKOH / g or less, the mixture was cooled to an internal temperature of 60 ° C. to obtain an epoxy (meth) acrylate compound.

次に、4つ口フラスコに、上記エポキシ(メタ)アクリレート化合物を298質量部、酢酸エチルを711.3質量部入れ、内温60℃になるように加温した。合成触媒としてジラウリン酸ジ−n−ブチル錫を0.21質量部添加し、攪拌しながら、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート(三井化学ポリウレタン(株)製の商品名「タケネート600」)199質量部を1時間かけて滴下した。滴下終了後2時間反応を続行し、続いてジエチレングリコール(和光純薬工業(株)製の試薬、商品名「ジエチレングリコール」;分子量106)27.3質量部と、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(東亜合成(株)製の商品名「アロニックスM−306」)187質量部の混合物を1時間かけて滴下した。滴下後5時間反応を続行し、質量平均分子量19800のウレタン(メタ)アクリレート化合物を得た。 Next, 298 parts by mass of the epoxy (meth) acrylate compound and 711.3 parts by mass of ethyl acetate were placed in a four-necked flask and heated to an internal temperature of 60 ° C. 0.21 parts by mass of di-n-butyltin dilaurate was added as a synthesis catalyst, and 199 parts by mass of methylcyclohexylene diisocyanate (trade name "Takenate 600" manufactured by Mitsui Chemicals Polyurethane Co., Ltd.) was added for 1 hour while stirring. Dropped over. The reaction was continued for 2 hours after the completion of the dropping, followed by 27.3 parts by mass of diethylene glycol (reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., trade name "diethylene glycol"; molecular weight 106) and pentaerythritol tetraacrylate (Toa Synthetic Co., Ltd.). ), The trade name "Aronix M-306") 187 parts by mass of the mixture was added dropwise over 1 hour. The reaction was continued for 5 hours after the dropping to obtain a urethane (meth) acrylate compound having a mass average molecular weight of 19,800.

<反応性シリカ>
コロイダルシリカ(日産化学工業(株)製の“オルガノシリカゾル(登録商標)”MEK−ST、固形分30質量%、メチルエチルケトン70質量%)150質量部に、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越シリコン(株)製の商品名「KBM−503」)13.7質量部と、10質量%蟻酸水溶液1.7質量部を混合し、70℃にて1時間撹拌して、反応性シリカを得た。
<Reactive silica>
Colloidal silica (“Organosilica sol (registered trademark)” MEK-ST manufactured by Nissan Chemical Industry Co., Ltd., solid content 30% by mass, methyl ethyl ketone 70% by mass) in 150 parts by mass, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane (Shinetsu Silicon) 13.7 parts by mass (trade name "KBM-503") manufactured by Co., Ltd. and 1.7 parts by mass of a 10% by mass aqueous formic acid solution were mixed and stirred at 70 ° C. for 1 hour to obtain reactive silica. ..

<ハードコート層用組成物3>
分子内にエチレン性不飽和基とウレタン結合を有する化合物を含有する紫外線硬化性樹脂塗布液(日本合成化学(株)の「UV−7550B」)を、メチルエチルケトンで固形分濃度が20質量%となるように希釈した。
<Composition for hard coat layer 3>
An ultraviolet curable resin coating solution (“UV-7550B” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) containing a compound having an ethylenically unsaturated group and a urethane bond in the molecule is mixed with methyl ethyl ketone to have a solid content concentration of 20% by mass. Diluted as.

<ハードコート層用組成物4>
分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を含有する紫外線硬化型ハードコート塗料(中国塗料(株)製の商品名「フォルシードNo.301C」をメチルエチルケトンで固形分濃度が30質量%に調製した。
<Composition for hard coat layer 4>
An ultraviolet curable hard coat paint (trade name "Forseed No. 301C" manufactured by China Paint Co., Ltd.) containing a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule was prepared with methyl ethyl ketone to have a solid content concentration of 30% by mass. ..

<防汚層用組成物4>
分子内にエチレン性不飽和基とフッ素原子を有する化合物を含有する紫外線硬化型ハードコート塗料(中国塗料(株)の商品名「フォルシードNo.421C」をメチルエチルケトンで固形分濃度が30質量%に調製した。
<Composition for antifouling layer 4>
Ultraviolet curable hard coat paint containing a compound having an ethylenically unsaturated group and a fluorine atom in the molecule (trade name "Forseed No. 421C" of China Paint Co., Ltd.) with methyl ethyl ketone to a solid content concentration of 30% by mass Prepared.

<反射防止層用組成物1>
分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製の商品名「ライトアクリレートDPE−6A」)57質量部、中空シリカ粒子のイソプロピルアルコール分散物(日揮触媒化成(株)製:固形分濃度20質量%、平均粒子径60nm)を固形分換算で40質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製“イルガキュア(登録商標)”184)3質量部をメチルエチルケトンに分散あるいは溶解して調製した。この組成物の屈折率は1.37であった。
<Composition for antireflection layer 1>
Dipentaerythritol hexaacrylate (trade name "Light acrylate DPE-6A" manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) as a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule, 57 parts by mass, isopropyl alcohol dispersion of hollow silica particles (JGC Catalyst) Kasei Co., Ltd .: Solid content concentration 20% by mass, average particle size 60 nm) in 40 parts by mass in terms of solid content, and photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. "Irgacure (registered trademark)" 184 ) Prepared by dispersing or dissolving 3 parts by mass in methyl ethyl ketone. The refractive index of this composition was 1.37.

[第2転写層]
<接着層用組成物>
ホットメルト型接着剤(東亞合成(株)製の“アロンメルト(登録商標)”PPET−1303S)を使用した。
[Second transfer layer]
<Composition for adhesive layer>
A hot melt type adhesive (“Aron Melt (registered trademark)” PPET-1303S manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was used.

<高屈折率ハードコート層用組成物>
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製の商品名「ライトアクリレートDPE−6A」)10質量部とウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)製の商品名「UN−901T」)37質量部、酸化ジルコニウム60質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製“イルガキュア(登録商標)”184)3質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解して調製した。この組成物の屈折率は1.70であった。
<Composition for high refractive index hard coat layer>
10 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (trade name "Light Acrylate DPE-6A" manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 37 parts by mass of urethane acrylate oligomer (trade name "UN-901T" manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), It was prepared by dispersing or dissolving 60 parts by mass of zirconium oxide and 3 parts by mass of a photopolymerization initiator (“Irgacure (registered trademark)” 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) in an organic solvent. The refractive index of this composition was 1.70.

[基材フィルム]
離型フィルムを構成する基材フィルムとして下記のポリエステルフィルムおよびポリイミドフィルムを用意した。
[Base film]
The following polyester film and polyimide film were prepared as the base film constituting the release film.

<ポリエステルフィルム1>
東レ(株)のポリエステルフィルム(“ルミラー(登録商標)” R75X)を用意した。このポリエステルフィルムは、厚みが25μmであり、表面粗さSRaが25nmであった。
<Polyester film 1>
A polyester film of Toray Industries, Inc. (“Lumirer (registered trademark)” R75X) was prepared. This polyester film had a thickness of 25 μm and a surface roughness SRa of 25 nm.

<ポリエステルフィルム2>
東レ(株)のポリエステルフィルム(“ルミラー(登録商標)” S10)を用意した。このポリエステルフィルムは、厚みが100μmであり、表面粗さSRaが25nmであった。
<Polyester film 2>
A polyester film of Toray Industries, Inc. (“Lumirer (registered trademark)” S10) was prepared. This polyester film had a thickness of 100 μm and a surface roughness SRa of 25 nm.

<ポリイミドフィルム1>
東レデュポン(株)のポリイミドフィルム(“カプトン(登録商標)”H100)を用意した。このポリイミドフィルムは厚みが25μmであり、表面粗さSRaが50nmであった。
<Polyimide film 1>
A polyimide film of Toray DuPont Co., Ltd. (“Kapton (registered trademark)” H100) was prepared. This polyimide film had a thickness of 25 μm and a surface roughness SRa of 50 nm.

[実施例1]
以下の要領で離型フィルムを作製した。
[Example 1]
A release film was prepared in the following manner.

ポリエステルフィルム1の一方の面に、下記のアンカー層用組成物をグラビアコーターで塗布し、120℃で乾燥加熱後、引き続き、下記の離型層用組成物p1をグラビアコーターで塗布し、100℃で予備乾燥後、160℃で加熱乾燥して、アンカー層と離型層を積層した。アンカー層の厚みは50nm、離型層の厚みは300nmであった。離型層の表面自由エネルギーは31mJ/mであり、離型層の表面粗さSRaは20nmであった。 The following composition for an anchor layer is applied to one surface of the polyester film 1 with a gravure coater, dried and heated at 120 ° C., and then the following composition for a release layer p1 is applied with a gravure coater to 100 ° C. After pre-drying, the anchor layer and the release layer were laminated by heating and drying at 160 ° C. The thickness of the anchor layer was 50 nm, and the thickness of the release layer was 300 nm. The surface free energy of the release layer was 31 mJ / m 2 , and the surface roughness SRa of the release layer was 20 nm.

<アンカー層用組成物>
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(東レ・ダウコーニング(株)製の商品名「BY24−846B」;含有量98質量%)5質量部、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(東レ・ダウコーニング(株)製の商品名「XIAMETER」OFS−6030 SILANE、含有量99質量%)1質量部、アルミニウムキレートとしてビス(エチルアセトアセテート)(2,4−ペンタンジオネート)アルミニウム(東レ・ダウコーニング(株)製の商品名「BY24−846E」;含有量38質量%)2質量部をトルエン50質量部とイソプロピルアルコール50質量部の混合溶媒に添加混合して調製した。
<Composition for anchor layer>
3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (trade name "BY24-846B" manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd .; content 98% by mass) 5 parts by mass, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (Tole Dow Corning) Trade name "XIAMETER" OFS-6030 SILANE manufactured by Co., Ltd., content 99% by mass) 1 part by mass, bis (ethylacetoacetate) (2,4-pentanionate) aluminum (Toray Dow Corning (Toray Dow Corning) as aluminum chelate It was prepared by adding and mixing 2 parts by mass of trade name "BY24-846E" manufactured by Co., Ltd .; content 38% by mass) to a mixed solvent of 50 parts by mass of toluene and 50 parts by mass of isopropyl alcohol.

<離型層用組成物p1>
・シリコーン変性アルキド樹脂;信越化学工業(株)製の商品名「X−62−9022」(シリコーン変性率が1質量%、メラミン架橋剤含有)を100質量部
・酸触媒;p−トルエンスルホン酸(信越化学工業(株)製の商品名「CAT−PC−80」)を1.3質量部
・溶媒;トルエンを245質量部、メチルエチルケトンを165質量部
[実施例2]
離型層用組成物を下記組成物p2に変更する以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを作製した。離型層の表面自由エネルギーは28mJ/mであり、離型層の表面粗さSRaは20nmであった。
<Composition for release layer p1>
-Silicone-modified alkyd resin; 100 parts by mass of the trade name "X-62-9022" (silicone modification rate is 1% by mass, containing a melamine cross-linking agent) manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.-Acid catalyst; p-toluenesulfonic acid (Product name "CAT-PC-80" manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.) is 1.3 parts by mass and solvent; 245 parts by mass of toluene and 165 parts by mass of methyl ethyl ketone [Example 2]
A release film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition for the release layer was changed to the following composition p2. The surface free energy of the release layer was 28 mJ / m 2 , and the surface roughness SRa of the release layer was 20 nm.

<離型層用組成物p2>
・シリコーン変性アルキド樹脂;信越化学工業(株)製の商品名「KS−881」(シリコーン変性率が5質量%、メラミン架橋剤含有)を100質量部
・酸触媒;p−トルエンスルホン酸(信越化学工業(株)製の商品名「CAT−PC−80」)を1.3質量部
・溶媒;トルエンを240質量部、メチルエチルケトンを160質量部
[実施例3]
離型層用組成物を下記組成物p3に変更する以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを作製した。離型層の表面自由エネルギーは25mJ/mであり、離型層の表面粗さSRaは20nmであった。
<Composition for release layer p2>
-Silicone-modified alkyd resin; 100 parts by mass of the trade name "KS-881" (silicone modification rate is 5% by mass, containing a melamine cross-linking agent) manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.-Acid catalyst; p-toluenesulfonic acid (Shin-Etsu) 1.3 parts by mass / solvent of trade name "CAT-PC-80" manufactured by Chemical Industry Co., Ltd .; 240 parts by mass of toluene and 160 parts by mass of methyl ethyl ketone [Example 3]
A release film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition for the release layer was changed to the following composition p3. The surface free energy of the release layer was 25 mJ / m 2 , and the surface roughness SRa of the release layer was 20 nm.

<離型層用組成物p3>
・シリコーン変性アルキド樹脂;信越化学工業(株)製の商品名「KS−883」(シリコーン変性率が10質量%、メラミン架橋剤含有)を100質量部
・酸触媒;p−トルエンスルホン酸(信越化学工業(株)製の商品名「CAT−PC−80」)を1.3質量部
・溶媒;トルエンを240質量部、メチルエチルケトンを160質量部
[実施例4]
離型層用組成物を下記組成物p4に変更する以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを作製した。離型層の表面自由エネルギーは21mJ/mであり、離型層の表面粗さSRaは20nmであった。
<Composition for release layer p3>
-Silicone-modified alkyd resin; 100 parts by mass of the trade name "KS-883" (silicone modification rate: 10% by mass, containing melamine cross-linking agent) manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.-Acid catalyst; p-toluenesulfonic acid (Shin-Etsu) 1.3 parts by mass / solvent of trade name "CAT-PC-80" manufactured by Chemical Industry Co., Ltd .; 240 parts by mass of toluene and 160 parts by mass of methyl ethyl ketone [Example 4]
A release film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition for the release layer was changed to the following composition p4. The surface free energy of the release layer was 21 mJ / m 2 , and the surface roughness SRa of the release layer was 20 nm.

<離型層用組成物p4>
・シリコーン変性アルキド樹脂;信越化学工業(株)製の商品名「KS−882」(シリコーン変性率が20質量%、メラミン架橋剤含有)を100質量部
・酸触媒;p−トルエンスルホン酸(信越化学工業(株)製の商品名「CAT−PC−80」)を1.3質量部
・溶媒;トルエンを240質量部、メチルエチルケトンを160質量部
[実施例5]
離型層用組成物を下記組成物p5に変更する以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを作製した。離型層の表面自由エネルギーは29mJ/mであり、離型層の表面粗さSRaは20nmであった。
<Composition for release layer p4>
-Silicone-modified alkyd resin; 100 parts by mass of the trade name "KS-882" (silicone modification rate: 20% by mass, containing melamine cross-linking agent) manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.-Acid catalyst; p-toluenesulfonic acid (Shin-Etsu) 1.3 parts by mass / solvent of trade name "CAT-PC-80" manufactured by Chemical Industry Co., Ltd .; 240 parts by mass of toluene and 160 parts by mass of methyl ethyl ketone [Example 5]
A release film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition for the release layer was changed to the following composition p5. The surface free energy of the release layer was 29 mJ / m 2 , and the surface roughness SRa of the release layer was 20 nm.

<離型層用組成物p5>
・シリコーン変性アルキド樹脂;日立化成(株)製の商品名「テスファイン309」(シリコーン変性アルキド樹脂/メラミン架橋剤(質量比)=65/35、シリコーン変性率が3質量%)を100質量部
・酸触媒;p−トルエンスルホン酸(信越化学工業(株)製の商品名「CAT−PC−80」)を1.3質量部
・溶媒;トルエンを420質量部、メチルエチルケトンを280質量部
[実施例6]
実施例2において、ポリエステルフィルム1をポリエステルフィルム2に変更する以外は実施例2と同様にして離型フィルムを作製した。離型層の表面自由エネルギーは28mJ/mであり、離型層の表面粗さSRaは20nmであった。
<Composition for release layer p5>
-Silicone-modified alkyd resin; 100 parts by mass of the trade name "Tessfine 309" (silicone-modified alkyd resin / melamine cross-linking agent (mass ratio) = 65/35, silicone modification rate: 3% by mass) manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. -Acid catalyst: 1.3 parts by mass of p-toluene sulfonic acid (trade name "CAT-PC-80" manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.) -Solvent: 420 parts by mass of toluene, 280 parts by mass of methyl ethyl ketone [Implementation] Example 6]
In Example 2, a release film was produced in the same manner as in Example 2 except that the polyester film 1 was changed to the polyester film 2. The surface free energy of the release layer was 28 mJ / m 2 , and the surface roughness SRa of the release layer was 20 nm.

[実施例7]
実施例2において、ポリエステルフィルム1をポリイミドフィルム1に変更する以外は実施例2と同様にして離型フィルムを作製した。離型層の表面自由エネルギーは28mJ/mであり、離型層の表面粗さSRaは40nmであった。
[Example 7]
In Example 2, a release film was produced in the same manner as in Example 2 except that the polyester film 1 was changed to the polyimide film 1. The surface free energy of the release layer was 28 mJ / m 2 , and the surface roughness SRa of the release layer was 40 nm.

[比較例1]
ポリエステルフィルム1の一方の面に、下記の離型層用組成物p6をグラビアコーターで塗布し、100℃で予備乾燥後、160℃で加熱乾燥して離型層を積層した。この離型層の厚みは300nmであった。離型層の表面自由エネルギーは19mJ/mであり、離型層の表面粗さSRaは20nmであった。
[Comparative Example 1]
The following composition for release layer p6 was applied to one surface of the polyester film 1 with a gravure coater, pre-dried at 100 ° C., and then heat-dried at 160 ° C. to laminate the release layer. The thickness of this release layer was 300 nm. The surface free energy of the release layer was 19 mJ / m 2 , and the surface roughness SRa of the release layer was 20 nm.

<離型層用組成物p6>
付加反応型の硬化性シリコーン樹脂(東レ・ダウコーニング(株)製の商品名「LTC750A」)40質量部、硬化剤であるPL−50T(信越化学工業(株)製)0.4質量部をトルエン500質量部、n−ヘプタン500質量部に混合した。
<Composition for release layer p6>
40 parts by mass of an addition reaction type curable silicone resin (trade name "LTC750A" manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) and 0.4 parts by mass of PL-50T (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as a curing agent. It was mixed with 500 parts by mass of toluene and 500 parts by mass of n-heptane.

[比較例2]
離型層用組成物を下記組成物p7に変更する以外は、比較例1と同様にして離型フィルムを作製した。離型層の表面自由エネルギーは50mJ/mであり、離型層の表面粗さSRaは20nmであった。
[Comparative Example 2]
A release film was prepared in the same manner as in Comparative Example 1 except that the composition for the release layer was changed to the following composition p7. The surface free energy of the release layer was 50 mJ / m 2 , and the surface roughness SRa of the release layer was 20 nm.

<離型層用組成物p7>
メラミン系樹脂((株)三羽研究所製の商品名「RP−50」)20質量部、硬化剤(和信化学工業(株)製の“プラスコート(登録商標)”DEPクリア)4質量部をトルエン50質量部、シクロヘキサノン50質量部に混合した。
<Composition for release layer p7>
20 parts by mass of melamine resin (trade name "RP-50" manufactured by Mitsuba Research Institute Co., Ltd.), 4 parts by mass of curing agent ("Plus Coat (registered trademark)" DEP clear manufactured by WASHIN CHEMICAL INDUSTRIES CO., LTD. Was mixed with 50 parts by mass of toluene and 50 parts by mass of cyclohexanone.

<評価>
上記で得られた離型フィルムについて、評価した結果を表1に示す。
<Evaluation>
Table 1 shows the evaluation results of the release film obtained above.

Figure 0006934141
Figure 0006934141

[実施例11〜17および比較例11〜12]
転写層として接着剤層が積層された転写フィルムを以下の要領で作製した。
[Examples 11 to 17 and Comparative Examples 11 to 12]
A transfer film in which an adhesive layer was laminated as a transfer layer was produced in the following manner.

<接着剤層の積層>
実施例1〜7および比較例1〜2で作製した離型フィルムの離型層上に、エポキシ化合物を含有する接着剤層用組成物1〜3を乾燥後の厚みが25μmとなるように、アプリケータを用いて塗布し、150℃で乾燥して接着剤層を形成した。
<Lamination of adhesive layer>
On the release layer of the release film produced in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2, the adhesive layer compositions 1 to 3 containing an epoxy compound are dried so that the thickness after drying is 25 μm. It was applied using an applicator and dried at 150 ° C. to form an adhesive layer.

<評価>
上記で得られた転写フィルムについて、評価した結果を表2に示す。
<Evaluation>
The evaluation results of the transfer film obtained above are shown in Table 2.

Figure 0006934141
Figure 0006934141

[実施例21〜27および比較例21〜22]
実施例1〜7および比較例1〜2で作製した離型フィルムの離型層上に、第1転写層としてハードコート層、第2転写層として接着層をこの順に積層して転写フィルムを作製した。
[Examples 21 to 27 and Comparative Examples 21 to 22]
A transfer film is prepared by laminating a hard coat layer as a first transfer layer and an adhesive layer as a second transfer layer in this order on the release layers of the release films prepared in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2. bottom.

<ハードコート層(第1転写層)の積層>
ハードコート層用組成物1〜4を乾燥・硬化後の厚みが7μmとなるようにワイヤーバーを用いて塗布し、90℃で乾燥後、紫外線を500mJ/cm照射し、硬化させてハードコート層を積層した。
<Lamination of hard coat layer (first transfer layer)>
The compositions 1 to 4 for the hard coat layer are applied using a wire bar so that the thickness after drying and curing is 7 μm, dried at 90 ° C., irradiated with ultraviolet rays at 500 mJ / cm 2 and cured to hard coat. The layers were laminated.

<接着層(第2転写層)の積層>
ホットメルト型接着層(東亞合成(株)製の“アロンメルト(登録商標)”PPET−1303S)を乾燥厚みが1.5μmとなるようにワイヤーバーにて積層した。
<Lamination of adhesive layer (second transfer layer)>
A hot melt type adhesive layer (“Aron Melt (registered trademark)” PPET-1303S manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was laminated with a wire bar so that the dry thickness was 1.5 μm.

<評価>
上記で得られた転写フィルムについて、評価した結果を表3に示す。
<Evaluation>
The evaluation results of the transfer film obtained above are shown in Table 3.

Figure 0006934141
Figure 0006934141

[実施例31〜37および比較例31〜32]
実施例1〜7および比較例1〜2で作製した離型フィルムの離型層上に、第1転写層として防汚層、第2転写層として接着層をこの順に積層して転写フィルムを作製した。
[Examples 31 to 37 and Comparative Examples 31 to 32]
A transfer film is prepared by laminating an antifouling layer as a first transfer layer and an adhesive layer as a second transfer layer in this order on the release layers of the release films prepared in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2. bottom.

<防汚層(第1転写層)の積層>
防汚層用組成物1を乾燥・硬化後の厚みが7μmとなるようにワイヤーバーを用いて塗布し、90℃で乾燥後、紫外線を500mJ/cm照射し、硬化させてハードコート層を積層した。
<Lamination of antifouling layer (first transfer layer)>
The antifouling layer composition 1 is applied using a wire bar so that the thickness after drying and curing is 7 μm, dried at 90 ° C., irradiated with ultraviolet rays at 500 mJ / cm 2 and cured to form a hard coat layer. Laminated.

<接着層(第2転写層)の積層>
ホットメルト型接着剤(東亞合成(株)製の“アロンメルト(登録商標)”PPET−1303S)を乾燥厚みが1.5μmとなるようにワイヤーバーにて積層した。
<Lamination of adhesive layer (second transfer layer)>
A hot melt type adhesive (“Aron Melt (registered trademark)” PPET-1303S manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was laminated with a wire bar so that the dry thickness was 1.5 μm.

<評価>
上記で得られた転写フィルムについて、評価した結果を表4に示す。
<Evaluation>
The evaluation results of the transfer film obtained above are shown in Table 4.

Figure 0006934141
Figure 0006934141

[実施例41〜47および比較例41〜42]
実施例1〜7および比較例1〜2で作製した離型フィルムの離型層上に。第1転写層として反射防止層、第2転写層として高屈折率ハードコート層と接着層をこの順に積層して転写フィルムを作製した。
[Examples 41-47 and Comparative Examples 41-42]
On the release layer of the release film produced in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2. An antireflection layer was laminated as the first transfer layer, and a high refractive index hard coat layer and an adhesive layer were laminated in this order as the second transfer layer to prepare a transfer film.

<反射防止層(第1転写層)の積層>
反射防止層用組成物1を乾燥・硬化後の厚みが0.1μmとなるようにワイヤーバーを用いて塗布し、90℃で乾燥後、紫外線を300mJ/cm照射し、硬化させて反射防止層を積層した。
<Lamination of antireflection layer (first transfer layer)>
The antireflection layer composition 1 is applied using a wire bar so that the thickness after drying and curing is 0.1 μm, dried at 90 ° C., irradiated with ultraviolet rays at 300 mJ / cm 2 and cured to prevent reflection. The layers were laminated.

<高屈折率ハードコート層(第2転写層)の積層>
高屈折率ハードコート層用組成物を乾燥・硬化後の厚みが5μmとなるようにワイヤーバーを用いて塗布し、90℃で乾燥後、紫外線を500mJ/cm照射し、硬化させて高屈折率ハードコート層を積層した。
<Lamination of high refractive index hard coat layer (second transfer layer)>
The composition for a high refractive index hard coat layer is applied using a wire bar so that the thickness after drying and curing is 5 μm, dried at 90 ° C., irradiated with ultraviolet rays at 500 mJ / cm 2 and cured to achieve high refractive index. The rate hard coat layer was laminated.

<接着層(第2転写層)の積層>
ホットメルト型接着剤(東亞合成(株)製の“アロンメルト(登録商標)”PPET−1303S)を乾燥厚みが1.5μmとなるようにワイヤーバーにて積層した。
<評価>
上記で得られた転写フィルムについて、評価した結果を表5に示す。
<Lamination of adhesive layer (second transfer layer)>
A hot melt type adhesive (“Aron Melt (registered trademark)” PPET-1303S manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was laminated with a wire bar so that the dry thickness was 1.5 μm.
<Evaluation>
The evaluation results of the transfer film obtained above are shown in Table 5.

Figure 0006934141
Figure 0006934141

Claims (10)

エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層が積層された転写フィルムに用いられる離型フィルムであって、基材フィルム上に、シリコーン変性アルキド樹脂を含有する離型層を備え、前記離型層におけるシリコーン変性アルキド樹脂の含有量が離型層の固形分総量100質量%に対して40質量%以上であり、前記離型層の表面自由エネルギーが22〜30mJ/m である、転写フィルム用離型フィルム。 A release film used for a transfer film in which a transfer layer containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule is laminated, and is a silicone on a base film. A release layer containing a modified alkyd resin is provided , and the content of the silicone-modified alkyd resin in the release layer is 40% by mass or more with respect to 100% by mass of the total solid content of the release layer. A release film for a transfer film having a surface free energy of 22 to 30 mJ / m 2. 分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を含有する転写層が積層された転写フィルムに用いられる離型フィルムであって、基材フィルム上に、シリコーン変性アルキド樹脂を含有する離型層を備えた、転写フィルム用離型フィルム。A release film used for a transfer film in which a transfer layer containing a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule is laminated, and the release layer containing a silicone-modified alkyd resin is provided on a base film. Also, a release film for transfer film. 前記転写層が、接着剤層、ハードコート層、防汚層および反射防止層からなる群より選ばれる少なくとも一つの層である、請求項1または2に記載の転写フィルム用離型フィルム。 The release film for a transfer film according to claim 1 or 2 , wherein the transfer layer is at least one layer selected from the group consisting of an adhesive layer, a hard coat layer, an antifouling layer and an antireflection layer. 前記離型層におけるシリコーン変性アルキド樹脂の含有量が離型層の固形分総量100質量%に対して40質量%以上である、請求項2に記載の転写フィルム用離型フィルム。 The release film for a transfer film according to claim 2 , wherein the content of the silicone-modified alkyd resin in the release layer is 40% by mass or more with respect to 100% by mass of the total solid content of the release layer. 前記離型層がさらにメラミン架橋剤を含有する、請求項1〜のいずれかに記載の転写フィルム用離型フィルム。 The release film for a transfer film according to any one of claims 1 to 4 , wherein the release layer further contains a melamine cross-linking agent. 前記基材フィルムと前記離型層との間にアンカー層が配置されている、請求項1〜のいずれかに記載の転写フィルム用離型フィルム。 The release film for a transfer film according to any one of claims 1 to 5 , wherein an anchor layer is arranged between the base film and the release layer. 前記アンカー層が、シラン化合物と有機配位子を有する金属錯体とを含有する、請求項に記載の転写フィルム用離型フィルム。 The release film for a transfer film according to claim 6 , wherein the anchor layer contains a silane compound and a metal complex having an organic ligand. 前記有機配位子を有する金属錯体の中心金属が、アルミニウム、チタンおよびジルコニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種である、請求項に記載の転写フィルム用離型フィルム。 The release film for a transfer film according to claim 7 , wherein the central metal of the metal complex having an organic ligand is at least one selected from the group consisting of aluminum, titanium and zirconium. 請求項1〜のいずれかに記載の転写フィルム用離型フィルムの離型層上に、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層が積層されてなる、転写フィルム。 Transfer on the release layer of the release film for transfer film according to any one of claims 1 to 8 containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule. A transfer film in which layers are laminated. 前記転写層が、接着剤層、ハードコート層、防汚層および反射防止層からなる群より選ばれる少なくとも一つの層である、請求項に記載の転写フィルム。 The transfer film according to claim 9 , wherein the transfer layer is at least one layer selected from the group consisting of an adhesive layer, a hard coat layer, an antifouling layer and an antireflection layer.
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