JP2019093686A - Release film for transfer film and transfer film - Google Patents

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Abstract

To provide a release film for transfer film having good coating property and release property of a transfer layer containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule.SOLUTION: A release film for transfer film is used for a transfer film on which a transfer layer containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule is laminated, and has a release layer containing a silicone-modified alkyd resin on a base material film.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、接着剤層やハードコート層などの転写層が積層された転写フィルムに用いられる離型フィルムおよび転写フィルムに関する。   The present invention relates to a release film and a transfer film used for a transfer film on which a transfer layer such as an adhesive layer or a hard coat layer is laminated.

離型フィルム上に転写層が積層された転写フィルムが知られている。   There is known a transfer film in which a transfer layer is laminated on a release film.

例えば、セパレータ(離型フィルム)上にエポキシ系接着剤が積層された、接着テープあるいは接着シート(転写フィルム)が知られている(例えば、特許文献1、2)。エポキシ系接着剤は、回路基板の封止樹脂あるいは多層プリント配線板の層間絶縁樹脂として用いることができることが知られている。   For example, an adhesive tape or an adhesive sheet (transfer film) in which an epoxy adhesive is laminated on a separator (releasing film) is known (for example, Patent Documents 1 and 2). It is known that an epoxy-based adhesive can be used as a sealing resin of a circuit board or an interlayer insulating resin of a multilayer printed wiring board.

また、基材上に離型層とハードコート層をこの順に有する転写箔(転写フィルム)が提案されている(例えば、特許文献3、4)。ハードコート層は、ウレタン(メタ)アクリレートやポリエステル(メタ)アクリレートなどの重合性化合物を含有する活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物からなる。   Moreover, the transfer foil (transfer film) which has a mold release layer and a hard-coat layer in this order on a base material is proposed (for example, patent documents 3, 4). The hard coat layer is made of a cured product of an active energy ray-curable composition containing a polymerizable compound such as urethane (meth) acrylate or polyester (meth) acrylate.

また、基材フィルム上に防汚硬化層が積層された転写フィルムが提案されている(例えば、特許文献5)。防汚硬化層はフッ素含有重合性モノマーを含有する。   Moreover, the transfer film in which the antifouling | stain-resistant cured layer was laminated | stacked on the base film is proposed (for example, patent document 5). The antifouling cured layer contains a fluorine-containing polymerizable monomer.

また、離型性を有する支持フィルム上に反射防止層が積層された転写材(転写フィルム)が提案されている(例えば、特許文献6)。この反射防止層は、含フッ素(メタ)アクリレート化合物と中空シリカを含有する。   Further, a transfer material (transfer film) in which an antireflective layer is laminated on a support film having releasability has been proposed (for example, Patent Document 6). The antireflective layer contains a fluorine-containing (meth) acrylate compound and hollow silica.

特開2005−39247号公報JP 2005-39247 A 特開2010−109383号公報JP, 2010-109383, A 特開2013−185078号公報JP, 2013-185078, A 特開2017−65017号公報JP, 2017-65017, A 国際公開第2011/043361号International Publication No. 2011/0043361 特開2008−151930号公報JP, 2008-151930, A

上記した転写フィルムにおける転写層、すなわち、エポキシ系接着剤層、ハードコート層、防汚層、反射防止層は、エポキシ化合物あるいは(メタ)アクリレート化合物(分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物)を含有する熱硬化性組成物または活性エネルギー線硬化性組成物を離型フィルム上に塗布することによって形成される。このとき、離型フィルム上に上記組成物を均一に塗布することができる塗布性が求められる。   The transfer layer in the transfer film described above, that is, the epoxy-based adhesive layer, the hard coat layer, the antifouling layer, the antireflective layer is an epoxy compound or a (meth) acrylate compound (compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule) It forms by apply | coating the thermosetting composition or active energy ray curable composition which contains the above on a release film. At this time, the coating property which can apply | coat the said composition uniformly on a release film is calculated | required.

また、転写フィルムの転写層を被着体に転写するときに離型フィルムを比較的簡単(スムーズ)に剥離することができる剥離性が求められる。   Moreover, when transcribing the transfer layer of a transfer film to a to-be-adhered body, the releasability which can peel a release film comparatively easily (smoothly) is calculated | required.

一般に、転写層の離型フィルム上への塗布性と剥離性とは相反する特性であり、上述の特許文献1〜6に記載された従来技術では、塗布性と剥離性を同時に十分に満足できるものではなかった。   In general, the coatability of the transfer layer onto the release film and the releasability are opposite properties, and the prior art described in the above-mentioned Patent Documents 1 to 6 can fully satisfy the coatability and the releasability simultaneously. It was not a thing.

そこで、本発明の目的は、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層の塗布性と剥離性が良好な転写フィルム用離型フィルムを提供することにある。本発明の他の目的は、本発明の離型フィルム上に、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層を備えた転写フィルムを提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to provide a release film for transfer film having good coatability and releasability of a transfer layer containing at least one selected from the group consisting of epoxy compounds and compounds having an ethylenically unsaturated group in the molecule. To provide. Another object of the present invention is to provide a transfer film provided on the release film of the present invention with at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule. It is to provide.

本発明の上記目的は以下の発明によって達成された。
[1]エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層が積層された転写フィルムに用いられる離型フィルムであって、基材フィルム上に、シリコーン変性アルキド樹脂を含有する離型層を備えた、転写フィルム用離型フィルム。
[2]前記転写層が、接着剤層、ハードコート層、防汚層および反射防止層からなる群より選ばれる少なくとも一つの層である、[1]に記載の転写フィルム用離型フィルム。
[3]前記離型層におけるシリコーン変性アルキド樹脂の含有量が離型層の固形分総量100質量%に対して40質量%以上である、[1]または[2]に記載の転写フィルム用離型フィルム。
[4]前記離型層がさらにメラミン架橋剤を含有する、[1]〜[3]のいずれかに記載の転写フィルム用離型フィルム。
[5]前記基材フィルムと前記離型層との間にアンカー層が配置されている、[1]〜[4]のいずれかに記載の転写フィルム用離型フィルム。
[6]前記アンカー層がシラン化合物と有機配位子を有する金属錯体とを含有する、[5]に記載の転写フィルム用離型フィルム。
[7]前記有機配位子を有する金属錯体の中心金属が、アルミニウム、チタンおよびジルコニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種である、[6]に記載の転写フィルム用離型フィルム。
[8][1]〜[7]のいずれかに記載の転写フィルム用離型フィルムの離型層上に、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層が積層されてなる、転写フィルム。
[9]前記転写層が、接着剤層、ハードコート層、防汚層および反射防止層からなる群より選ばれる少なくとも一つの層である、[8]に記載の転写フィルム。
The above object of the present invention is achieved by the following invention.
[1] A release film for use in a transfer film comprising a transfer layer containing at least one member selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule, which is a substrate film A release film for transfer film, comprising a release layer containing a silicone-modified alkyd resin.
[2] The release film for transfer film according to [1], wherein the transfer layer is at least one layer selected from the group consisting of an adhesive layer, a hard coat layer, an antifouling layer and an antireflective layer.
[3] The release for transfer film according to [1] or [2], wherein the content of the silicone-modified alkyd resin in the release layer is 40% by mass or more based on 100% by mass of the total solid content of the release layer. Mold film.
[4] The release film for transfer film according to any one of [1] to [3], wherein the release layer further contains a melamine crosslinking agent.
[5] The release film for transfer film according to any one of [1] to [4], wherein an anchor layer is disposed between the base film and the release layer.
[6] The release film for transfer film according to [5], wherein the anchor layer contains a silane compound and a metal complex having an organic ligand.
[7] The release film for transfer film according to [6], wherein the central metal of the metal complex having an organic ligand is at least one selected from the group consisting of aluminum, titanium and zirconium.
[8] [1] to [7] on the release layer of the release film for transfer film, at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule A transfer film in which a transfer layer containing one type is laminated.
[9] The transfer film according to [8], wherein the transfer layer is at least one layer selected from the group consisting of an adhesive layer, a hard coat layer, an antifouling layer and an antireflective layer.

本発明の転写フィルム用離型フィルムは、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層の塗布性が良好であるので、塗膜が均一で外観が良好な転写層が得られる。また、本発明の転写フィルム用離型フィルムは、上記転写層との剥離性が良好であるので、転写層を被着体に転写するときに比較的簡単(スムーズ)に剥離することができる。   The release film for transfer film of the present invention is excellent in the coatability of the transfer layer containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule. A transfer layer which is uniform and has a good appearance can be obtained. In addition, since the release film for transfer film of the present invention has good releasability from the transfer layer, it can be relatively easily (smoothly) peeled off when the transfer layer is transferred to the adherend.

また、本発明の転写フィルム用離型フィルムに上記転写層が積層された転写フィルムは、転写層が均一で外観が良好であり、かつ転写層を被着体に転写するときの離型フィルムの剥離性が良好である。   The transfer film in which the transfer layer is laminated on the release film for transfer film of the present invention is a release film having a uniform transfer layer and good appearance and transferring the transfer layer to an adherend. Peelability is good.

本発明の転写フィルム用離型フィルムは、転写層が離型フィルム上に一時的に積層された転写フィルムの転写層を被着体に転写するための離型フィルムである。すなわち、転写層が積層された転写フィルムに用いられる転写フィルム用離型フィルムである。以下、転写フィルム用離型フィルムを、単に「離型フィルム」ということがある。   The release film for transfer film of the present invention is a release film for transferring a transfer layer of a transfer film, in which the transfer layer is temporarily laminated on the release film, to an adherend. That is, it is a release film for transfer film used for the transfer film on which the transfer layer is laminated. Hereinafter, the release film for transfer films may only be called "release film."

本発明の離型フィルムは、基材フィルム上に、シリコーン変性アルキド樹脂を含有する離型層を備える。この離型フィルムの離型層上に、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層が積層されて転写フィルムが得られる。この転写フィルムの転写層を直接または接着層などを介して被着体に接触させ、必要に応じて加熱・加圧して密着した後、離型フィルムを剥離して、転写層が被着体に転写被着される。なお、本発明において、「エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する」とは、エポキシ化合物および/または分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物そのものを含有する場合だけでなく、エポキシ化合物のエポキシ環が開環した構造および/または分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物のエチレン性不飽和基が重合して単結合となった構造を有する場合も含む。   The release film of the present invention comprises a release layer containing a silicone-modified alkyd resin on a base film. A transfer layer containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule is laminated on the release layer of the release film to obtain a transfer film. The transfer layer of this transfer film is brought into contact with the adherend directly or through an adhesive layer etc., and heat and pressure are applied as required, and then the release film is peeled off to transfer the transfer layer to the adherend Transfer-deposited. In the present invention, “containing at least one selected from the group consisting of epoxy compounds and compounds having an ethylenically unsaturated group in the molecule” means epoxy compounds and / or ethylenically unsaturated groups in the molecule. Not only when the compound itself is contained, but also the structure in which the epoxy ring of the epoxy compound is opened and / or the ethylenically unsaturated group of the compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule is polymerized to form a single bond It also includes the case of having a structure.

本発明の離型フィルムの離型層は、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層の塗布性が良好であるので塗膜が均一で外観が良好な転写層が得られる。また、本発明の離型フィルムの離型層は、転写層との剥離性が良好であるので転写層を被着体に密着した後に離型フィルムをスムーズに剥離することができる。   The release layer of the release film of the present invention is a coated film because the coatability of the transfer layer containing at least one selected from the group consisting of epoxy compounds and compounds having an ethylenically unsaturated group in the molecule is good. A transfer layer which is uniform and has a good appearance can be obtained. Moreover, since the release layer of the release film of the present invention has good releasability from the transfer layer, the release film can be peeled off smoothly after the transfer layer is in close contact with the adherend.

本発明の転写フィルムの転写層が転写される被着体は、特に限定されないが、例えば、回路基板、多層プリント配線板、プラスチック樹脂成型品などが挙げられる。プラスチック樹脂成型品としては、例えば、電子機器筐体(携帯型パーソナルコンピュータ、モバイル機器、携帯電話、電子手帳など)、家電(テレビ、冷蔵庫、洗濯機、炊飯器など)、スーツケース、プラスチックレンズ、自動車内装部材(インスツルメントパネル、コンソースボックス、ドアトリムなど)などが挙げられる。   The adherend to which the transfer layer of the transfer film of the present invention is transferred is not particularly limited, and examples thereof include circuit boards, multilayer printed wiring boards, and plastic resin molded articles. Examples of plastic resin molded products include electronic device housings (portable personal computers, mobile devices, mobile phones, electronic organizers, etc.), home appliances (TVs, refrigerators, washing machines, rice cookers, etc.), suitcases, plastic lenses, Automobile interior members (instrument panels, consourcing boxes, door trims, etc.) and the like can be mentioned.

[離型層]
離型層はシリコーン変性アルキド樹脂を含有する。
[Release layer]
The release layer contains a silicone modified alkyd resin.

本発明において、アルキド樹脂とは、多価アルコールと多塩基酸との縮合体を骨格とする化学構造に、さらに脂肪油や脂肪酸を反応させて変性した樹脂をいう。   In the present invention, the alkyd resin refers to a resin obtained by further reacting a fatty oil or a fatty acid with a chemical structure having a condensation product of a polyhydric alcohol and a polybasic acid as a skeleton.

上記多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコール等の二価アルコール、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン等の三価アルコール、ジグリセリン、トリグリセリン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、マンニット、ソルビット等の四価以上のアルコールが挙げられる。これらは一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the polyhydric alcohol include dihydric alcohols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, trimethylene glycol, tetramethylene glycol, neopentyl glycol, etc., glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane and the like. And alcohols having a valence of 4 or more such as dihydric alcohol, diglycerin, triglycerin, pentaerythritol, dipentaerythritol, mannitol, sorbit and the like. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination.

上記多塩基酸としては、例えば、無水フタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸などの飽和多塩基酸や、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水シトラコン酸などの不飽和多塩基酸、シクロペンタジエン−無水マレイン酸付加物、テルペン−無水マレイン酸付加物、ロジン−無水マレイン酸付加物などのその他の多塩基酸が挙げられる。これらは一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the polybasic acid include saturated polybasic acids such as phthalic anhydride, terephthalic acid, succinic acid, adipic acid and sebacic acid, and maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, citraconic anhydride and the like. Other polybasic acids such as unsaturated polybasic acids, cyclopentadiene-maleic anhydride adducts, terpene-maleic anhydride adducts, rosin-maleic anhydride adducts and the like can be mentioned. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination.

上記脂肪油や脂肪酸としては、大豆油、アマニ油、キリ油、ヒマシ油、脱水ヒマシ油、ヤシ油などの脂肪油、およびこれらの脂肪酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸、エレオステアリン酸、リシノレイン酸、脱水リシノレイン酸などの油脂および油脂脂肪酸などが挙げられる。これらは一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。   As the above-mentioned fatty oil and fatty acid, fatty oil such as soybean oil, linseed oil, tung oil, castor oil, dehydrated castor oil, coconut oil etc. Examples thereof include oils and fats such as stearic acid, ricinoleic acid and dehydrated ricinoleic acid, and fatty acids and the like. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination.

シリコーン変性アルキド樹脂を得るためのシリコーン変性剤としては、アルコキシシリル基やシラノール基を有する化合物を用いることができる。具体的には、ジメチルポリシロキサン等の有機基を有するオルガノポリシロキサンなどが挙げられ、有機基の一部がフェニル基、エチル基、イソプロピル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、水酸基、ビニル基等で置換されていてもよい。これらは一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。   As a silicone modifier for obtaining a silicone modified alkyd resin, a compound having an alkoxysilyl group or a silanol group can be used. Specifically, an organopolysiloxane having an organic group such as dimethylpolysiloxane is mentioned, and a part of the organic group is substituted with a phenyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a hexyl group, a cyclohexyl group, a hydroxyl group, a vinyl group, etc. It may be done. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination.

シリコーン変性アルキド樹脂におけるシリコーン変性率は、転写層の良好な塗布性および良好な剥離性を発現させるという観点から、シリコーン変性アルキド樹脂固形分100質量%に対して1〜30質量%が好ましく、1〜10質量%がより好ましく、2〜5質量%が特に好ましい。   The silicone modification ratio in the silicone modified alkyd resin is preferably 1 to 30% by mass with respect to 100% by mass of the silicone modified alkyd resin solid content, from the viewpoint of expressing the good coatability and the good releasability of the transfer layer. 10 mass% is more preferable, and 2 to 5 mass% is particularly preferable.

シリコーン変性アルキド樹脂は市販されており、それらを使用することができる。市販品としては、信越化学工業(株)の商品名KS−881、KS−882、KS−883、X−62−9022、X−62−9027、X−62−950A、東レ・ダウコーニング(株)製の商品名SR2107、SR2114、東芝シリコーン(株)の商品名TSR180、日立化成(株)の商品名テスファイン309、同319、TA31−209Eなどがある。   Silicone modified alkyd resins are commercially available and they can be used. Commercially available products include Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. trade names KS-881, KS-882, KS-883, X-62-9022, X-62-9027, X-62-950A, Toray Dow Corning (stock Trade names SR2107 and SR2114, trade name TSR180 manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd., trade names Tesfine 309 and 319 traded by Hitachi Chemical Co., Ltd., and TA31-209E.

離型層は、さらに架橋剤を含有することが好ましい。離型層が架橋剤を含有することによって、さらに転写層の塗布性と剥離性が良好となる。   The release layer preferably further contains a crosslinking agent. When the release layer contains a crosslinking agent, the coatability and the releasability of the transfer layer are further improved.

架橋剤としては、例えば、エポキシ架橋剤、イソシアネート架橋剤、オキサゾリン架橋剤、カルボジイミド架橋剤、メラミン架橋剤等が挙げられる。これらは一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。   As a crosslinking agent, an epoxy crosslinking agent, an isocyanate crosslinking agent, an oxazoline crosslinking agent, a carbodiimide crosslinking agent, a melamine crosslinking agent etc. are mentioned, for example. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination.

上記の中でも、メラミン架橋剤が特に好ましい。メラミン架橋剤を用いることによって、塗布性と剥離性が一段と向上する。   Among the above, melamine crosslinking agents are particularly preferred. The use of a melamine crosslinker further improves the coatability and the releasability.

エポキシ架橋剤としては、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ポリブタジエンジグリシジルエーテル等が挙げられる。   As an epoxy crosslinking agent, ethylene glycol diglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, polybutadiene diglycidyl ether etc. are mentioned, for example.

イソシアネート架橋剤としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、メチレンジフェニルジイソシアネート等が挙げられる。   As an isocyanate crosslinking agent, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, tolylene diisocyanate, methylene diphenyl diisocyanate etc. are mentioned, for example.

オキサゾリン架橋剤としては、例えば、2,2′−ビス(2−オキサゾリン)、2,2′−エチレン−ビス(4,4′−ジメチル−2−オキサゾリン)、2,2′−p−フェニレン−ビス(2−オキサゾリン)、ビス(2−オキサゾリニルシクロヘキサン)スルフィドなどのオキサゾリン基を有する化合物や、オキサゾリン基含有ポリマーが挙げられる。   As an oxazoline crosslinking agent, for example, 2,2'-bis (2-oxazoline), 2,2'-ethylene-bis (4,4'-dimethyl-2-oxazoline), 2,2'-p-phenylene- The compound which has oxazoline groups, such as a bis (2-oxazoline) and a bis (2- oxazolinyl cyclohexane) sulfide, and an oxazoline group containing polymer are mentioned.

カルボジイミド架橋剤としては、p−フェニレン−ビス(2,6−キシリルカルボジイミド)、テトラメチレン−ビス(t−ブチルカルボジイミド)、シクロヘキサン−1,4−ビス(メチレン−t−ブチルカルボジイミド)などのカルボジイミド基を有する化合物や、カルボジイミド基を有する重合体であるポリカルボジイミドが挙げられる。   Examples of carbodiimide crosslinking agents include carbodiimides such as p-phenylene-bis (2,6-xylcarbodiimide), tetramethylene-bis (t-butylcarbodiimide), cyclohexane-1,4-bis (methylene-t-butylcarbodiimide), etc. The compound which has group, and polycarbodiimide which is a polymer which has carbodiimide group are mentioned.

メラミン架橋剤として用いられるメラミン化合物とは、トリアジン環の3つの炭素原子にアミノ基がそれぞれ結合した、いわゆるメラミン[1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリアミン]のアミノ基に種々の変性を施した化合物の総称であり、トリアジン環が複数縮合したものも含む。変性の種類としては、3つのアミノ基の水素原子の少なくとも1つがメチロール化されたメチロール化メラミン化合物が好ましく、さらに、メチロール化メラミン化合物のメチロール基を炭素数が1〜4の低級アルコールで部分もしくは完全にエーテル化したアルキルエーテル化メラミン化合物が好ましい。   The melamine compound used as a melamine crosslinking agent is variously used as the amino group of so-called melamine [1,3,5-triazine-2,4,6-triamine] in which amino groups are respectively bonded to three carbon atoms of a triazine ring It is a generic term of the compound which gave the modification | denaturation of, and the thing in which multiple triazine rings were condensed is also included. As the type of modification, a methylolated melamine compound in which at least one of hydrogen atoms of three amino groups is methylolated is preferable, and further, the methylol group of the methylolated melamine compound is partially or lower alcohol having a carbon number of 1 to 4 Preferred are fully etherified alkyl etherified melamine compounds.

エーテル化に用いられるアルコールとしては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールが挙げられる。   Examples of the alcohol used for the etherification include methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol and butyl alcohol.

メラミン架橋剤は市販品を用いることができる。市販品としては、例えば、DIC(株)の“スーパーベッカミン(登録商標)”J−820−60、同J−821−60、同J−1090−65、同J−110−60、同J−117−60、同J−127−60、同J−166−60B、同J−105−60、同G840、同G821、三井化学(株)の“ユーバン(登録商標)”20SB、同20SE60、同21R、同22R、同122、同125、同128、同220、同225、同228、同28−60、同2020、同60R、同62、同62E、同360、同165、同166−60、同169、同2061、住友化学(株)の“スミマール(登録商標)”M−100、同M−40S、同M−55、同M−66B、日本サイテックインダストリーズの“サイメル(登録商標)”303、同325、同327、同350、同370、同235、同202、同238、同254、同272、同1130、(株)三和ケミカルの“ニカラック(登録商標)”MS17、同MX15、同MX430、同MX600、ハリマ化成(株)のバンセミンSM−975、同SM−960、日立化成(株)の“メラン(登録商標)”265、同2650Lなどが挙げられる。   A commercial item can be used for a melamine crosslinking agent. As a commercial item, for example, "Super Beckcamine (registered trademark)" J-820-60, J-821-60, J-1090-65, J-110-60, and J of DIC Corporation. -117-60, J-127-60, J-166-60B, J-105-60, G840, G821, Mitsui Chemicals, Inc. "Yuvan (registered trademark)" 20SB, 20SE60, 20SE60, 21R, 22R, 122, 125, 128, 220, 225, 228, 28-60, 2020, 60R, 62, 62E, 360, 165, 166- 60, No. 169, No. 2061, Sumitomo Chemical Co., Ltd. "Sumimar (registered trademark)" M-100, M-40S, M-55, M-66B, "Cymel (registered trademark) of Nippon Cytech Industries" " 03, 325, 327, 350, 370, 235, 202, 238, 254, 272, 1130, "Nikarak (registered trademark)" MS17, MX15 of Sanwa Chemical Co., Ltd. MX430 and MX600, Harma Chemical Co., Ltd. Bangsemin SM-975, and Hara Kasei Co., Ltd. SM-960, and Hitachi Chemical Co., Ltd. "MELAN (registered trademark)" 265 and 2650 L.

前述したシリコーン変性アルキド樹脂の市販品の中には、シリコーン変性アルキド樹脂を硬化するための架橋剤として、メラミン架橋剤などが配合されているものが存在する。このような市販品を用いる場合には、上記した架橋剤を新たに添加することは必ずしも必要ではないが、添加することは妨げない。   Among the commercially available products of the silicone-modified alkyd resin described above, those containing a melamine crosslinking agent or the like as a crosslinking agent for curing the silicone-modified alkyd resin are present. When such a commercially available product is used, it is not always necessary to newly add the above-mentioned crosslinking agent, but the addition is not hindered.

離型層は、離型層の硬化を促進させるために酸触媒を含有することが好ましい。酸触媒としては、硫酸、塩酸、硝酸、リン酸、p−トルエンスルホン酸等が挙げられる。これらの中でも、p−トルエンスルホン酸が好ましく用いられる。   The release layer preferably contains an acid catalyst in order to accelerate the curing of the release layer. As the acid catalyst, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, p-toluenesulfonic acid and the like can be mentioned. Among these, p-toluenesulfonic acid is preferably used.

離型層におけるシリコーン変性アルキド樹脂の含有量は、転写層の塗布性と剥離性とを良好にするという観点から、離型層の固形分総量100質量%に対して、40質量%以上が好ましく、50質量%以上がより好ましく、60質量%以上が特に好ましい。一方、シリコーン変性アルキド樹脂の含有量が多くなり過ぎると、離型層の強度(硬度)が低下し耐溶剤性や耐熱性が低下することがあるので、シリコーン変性アルキド樹脂の含有量は、97質量%以下が好ましく、95質量%以下がより好ましく、90質量%以下が特に好ましい。   The content of the silicone-modified alkyd resin in the release layer is preferably 40% by mass or more based on 100% by mass of the total solid content of the release layer from the viewpoint of improving the coatability and releasability of the transfer layer. 50 mass% or more is more preferable, and 60 mass% or more is especially preferable. On the other hand, if the content of the silicone-modified alkyd resin is too large, the strength (hardness) of the release layer may be reduced and the solvent resistance and the heat resistance may be reduced. % By mass or less is preferable, 95% by mass or less is more preferable, and 90% by mass or less is particularly preferable.

離型層が架橋剤を含有する場合の架橋剤の含有量は、転写層の塗布性と剥離性を向上させるという観点から、離型層固形分総量100質量%に対して、3質量%以上が好ましく、5質量%以上がより好ましく、10質量%以上が特に好ましい。一方、架橋剤の含有量が多くなり過ぎると、剥離性が低下することがあるので、架橋剤の含有量は、60質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましく、40質量%以下が特に好ましい。   The content of the crosslinking agent in the case where the release layer contains a crosslinking agent is 3% by mass or more based on 100% by mass of the solid content of the release layer from the viewpoint of improving the coatability and releasability of the transfer layer. Is preferable, 5 mass% or more is more preferable, and 10 mass% or more is particularly preferable. On the other hand, when the content of the crosslinking agent is too large, the releasability may be reduced, so the content of the crosslinking agent is preferably 60% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, and 40% by mass or less Particularly preferred.

離型層が酸触媒を含有する場合の酸触媒の含有量は、塗布性と剥離性を向上させるという観点から、離型層の固形分総量100質量%に対して、0.1〜10質量%が好ましく、0.3〜5質量%がより好ましく、0.5〜3質量%が特に好ましい。   The content of the acid catalyst when the release layer contains an acid catalyst is 0.1 to 10 mass based on 100% by mass of the total solid content of the release layer from the viewpoint of improving the coatability and the releasability. % Is preferable, 0.3-5 mass% is more preferable, 0.5-3 mass% is especially preferable.

離型層は、さらに、バインダー樹脂を含有することができる。かかるバインダー樹脂としては、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂などが挙げられる。   The release layer can further contain a binder resin. As such binder resin, polyurethane resin, acrylic resin, polyester resin and the like can be mentioned.

離型層は、シリコーン変性アルキド樹脂を含有する組成物を基材フィルム上に塗布し、加熱硬化して形成されることが好ましい。すなわち、離型層を形成するための組成物は、熱硬化性組成物であることが好ましい。該組成物は、シリコーン変性アルキド樹脂と架橋剤を含有することが好ましく、さらに酸触媒を含有することが好ましい。また、該組成物はバインダー樹脂を含有することができる。   The release layer is preferably formed by applying a composition containing a silicone modified alkyd resin on a substrate film and heat curing. That is, the composition for forming the release layer is preferably a thermosetting composition. The composition preferably contains a silicone-modified alkyd resin and a crosslinking agent, and more preferably contains an acid catalyst. The composition can also contain a binder resin.

組成物を硬化させる際の条件(加熱温度、時間)は特に限定されないが、加熱温度は70℃以上が好ましく、100℃以上がより好ましく、150℃以上が特に好ましい。上限は300℃程度である。加熱時間は3〜300秒が好ましく、5〜200秒がより好ましい。   The conditions (heating temperature and time) for curing the composition are not particularly limited, but the heating temperature is preferably 70 ° C. or more, more preferably 100 ° C. or more, and particularly preferably 150 ° C. or more. The upper limit is about 300 ° C. The heating time is preferably 3 to 300 seconds, more preferably 5 to 200 seconds.

組成物は、例えば、ウェットコーティング法により塗布することができる。ウェットコーティング法としては、例えば、リバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法、カーテンコート法等が挙げられる。   The composition can be applied by, for example, a wet coating method. Examples of the wet coating method include reverse coating method, spray coating method, bar coating method, gravure coating method, rod coating method, die coating method, spin coating method, extrusion coating method, curtain coating method and the like.

離型層の厚みは、30〜1000nmが好ましく、50〜600nmがより好ましく、70〜500nmがさらに好ましく、100〜400nmが特に好ましい。   30-1000 nm is preferable, 50-600 nm is more preferable, 70-500 nm is further more preferable, and, as for the thickness of a release layer, 100-400 nm is especially preferable.

離型層の表面自由エネルギーは、20〜35mJ/mが好ましく、21〜32mJ/mがより好ましく、22〜30mJ/mが特に好ましい。離型層の表面自由エネルギーが上記範囲であることによって、転写層の塗布性と剥離性がさらに向上する。 20-35 mJ / m < 2 > is preferable, as for the surface free energy of a release layer, 21-32 mJ / m < 2 > is more preferable, and 22-30 mJ / m < 2 > is especially preferable. When the surface free energy of the release layer is in the above range, the coatability and the releasability of the transfer layer are further improved.

シリコーン変性アルキド樹脂を含有する離型層は、表面自由エネルギーを上記範囲に調整することが可能であり、さらに架橋剤を含有することによって表面自由エネルギーを上記範囲に容易に調整することができる。   The release layer containing the silicone-modified alkyd resin can adjust the surface free energy to the above range, and the surface free energy can be easily adjusted to the above range by further containing a crosslinking agent.

ここで、表面自由エネルギーは、接触角計、例えば、協和界面科学(株)の「Drop Master DM501」を用いて測定することができる。詳細は後述する。   Here, the surface free energy can be measured using a contact angle meter, for example, “Drop Master DM 501” manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. Details will be described later.

離型層の表面状態は、転写層の塗布性と剥離性を良好にするという観点から、比較的平滑であることが好ましい。具体的には、離型層の表面粗さSRaは50nm以下が好ましく、30nm以下がより好ましく、15nm以下が特に好ましい。上記表面粗さSRaは、離型フィルムや転写フィルムの滑り性や巻き取りを確保するという観点から、1nm以上が好ましく、3nm以上がより好ましく、5nm以上が特に好ましい。   The surface state of the release layer is preferably relatively smooth from the viewpoint of improving the coatability and the releasability of the transfer layer. Specifically, the surface roughness SRa of the release layer is preferably 50 nm or less, more preferably 30 nm or less, and particularly preferably 15 nm or less. The surface roughness SRa is preferably 1 nm or more, more preferably 3 nm or more, and particularly preferably 5 nm or more, from the viewpoint of securing the slipperiness and winding of the release film and the transfer film.

離型層の表面粗さSRaを50nm以下に制御する方法としては、離型層を積層する面の表面粗さSRaが60nm以下である基材フィルムを使用する方法が好ましい。さらに、離型層は粒子を含有しないか、または粒子を含有する場合は少量であることが好ましい。離型層が粒子を含有する場合の粒子の含有量は、離型層の固形分総量100質量%に対して3.0質量%以下であることが好ましく、1.0質量%以下であることがより好ましく、0.5質量%以下であることが特に好ましい。   As a method of controlling the surface roughness SRa of the release layer to 50 nm or less, a method using a base film in which the surface roughness SRa of the surface on which the release layer is laminated is 60 nm or less is preferable. Furthermore, the release layer preferably contains no particles or, if it contains particles, a small amount. The content of particles in the case where the release layer contains particles is preferably 3.0% by mass or less and 1.0% by mass or less based on 100% by mass of the total solid content of the release layer. Is more preferably 0.5% by mass or less.

ここで、表面粗さSRaは、光干渉型顕微鏡、例えば、(株)菱化システム製の「VertScan」を用いて測定することができる。   Here, the surface roughness SRa can be measured using an optical interference microscope, for example, “VertScan” manufactured by Ryoka Systems Co., Ltd.

[基材フィルム]
本発明の離型フィルムに用いられる基材フィルムとしては、特に限定されず、各種プラスチックフィルムを使用することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等のポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム等のセルロースフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドフィルム、アクリルフィルム、環状オレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。
[Base film]
It does not specifically limit as a base film used for the release film of this invention, Various plastic films can be used. For example, polyester film such as polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyolefin film such as polypropylene film, polyethylene film, cellulose film such as diacetyl cellulose film, triacetyl cellulose film, polysulfone film, polyether ether ketone Films, polyethersulfone films, polyphenylene sulfide films, polyetherimide films, polyimide films, polyamide films, acrylic films, cyclic olefin films, polycarbonate films and the like can be mentioned.

これらのプラスチックフィルムの中でも、耐熱性が良好である、ポリイミドフィルムポリエステルフィルム、環状オレフィンフィルムが好ましく、特にポリエステルフィルムが好ましい。ポリエステルフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましく、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムがより好ましい。   Among these plastic films, polyimide film polyester film and cyclic olefin film having good heat resistance are preferable, and polyester film is particularly preferable. As a polyester film, a polyethylene terephthalate film is preferable, and a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is more preferable.

基材フィルムとしてポリエステルフィルムを使用する場合は、基材フィルムの表面粗さSRaを制御するという観点から、3層積層構成のポリエステルフィルムが好ましい。3層積層構成としては、A層/B層/A層またはA層/B層/C層が挙げられる。ここで、A層、B層およびC層は、それぞれ組成が異なることを意味する。   When using a polyester film as a base film, the polyester film of 3 layer laminated constitution is preferable from a viewpoint of controlling surface roughness SRa of a base film. As a three-layer lamination configuration, A layer / B layer / A layer or A layer / B layer / C layer can be mentioned. Here, the layer A, the layer B and the layer C mean that their compositions are different.

上記3層構成において、A層またはC層は粒子を含有することが好ましい。A層またはC層に含有させる粒子の平均粒子径および/または含有量を調整することによって、ポリエステルフィルムの表面粗さSRaを制御することができる。   In the above three-layer configuration, the layer A or layer C preferably contains particles. The surface roughness SRa of the polyester film can be controlled by adjusting the average particle size and / or the content of the particles contained in the layer A or the layer C.

基材フィルムの離型層を積層する側の表面粗さSRaは、60nm以下が好ましく、50nm以下がより好ましく、30nm以下が特に好ましい。また、上記表面粗さSRaは、離型フィルムの滑り性や巻き取りを確保するという観点から、1nm以上が好ましく、3nm以上がより好ましく、5nm以上が特に好ましい。   60 nm or less is preferable, 50 nm or less is more preferable, and, as for surface roughness SRa of the side which laminates | stacks the mold release layer of a base film, 30 nm or less is especially preferable. The surface roughness SRa is preferably 1 nm or more, more preferably 3 nm or more, and particularly preferably 5 nm or more, from the viewpoint of securing the slip property and winding of the release film.

生産設備の簡易化や生産性向上の観点から、A層/B層/A層の3層積層構成のポリエステルフィルムが好ましく用いられる。   From the viewpoint of simplification of production facilities and improvement of productivity, a polyester film having a three-layer lamination structure of A layer / B layer / A layer is preferably used.

基材フィルムの厚みは、10〜200μmが好ましく、15〜150μmがより好ましく、20〜100μmが特に好ましい。   10-200 micrometers is preferable, as for the thickness of a base film, 15-150 micrometers is more preferable, and 20-100 micrometers is especially preferable.

[アンカー層]
基材フィルムと離型層との間に、基材フィルムと離型層との密着力を向上させるためのアンカー層を配置することが好ましい。
[Anchor Layer]
It is preferable to arrange an anchor layer for improving the adhesion between the base film and the release layer, between the base film and the release layer.

基材フィルム(特にポリエステルフィルム)と、シリコーン変性アルキド樹脂を含有する離型層との密着性を向上させるという観点から、アンカー層は、シラン化合物と有機配位子を有する金属錯体とを含有することが好ましい。   The anchor layer contains a silane compound and a metal complex having an organic ligand from the viewpoint of improving the adhesion between the substrate film (particularly polyester film) and the release layer containing the silicone-modified alkyd resin. Is preferred.

シラン化合物としては、下記の一般式(1)で表される化合物、または該化合物の加水分解物の縮合物あるいは部分縮合物が好ましく用いられる。   As the silane compound, a compound represented by the following general formula (1), or a condensate or partial condensate of a hydrolyzate of the compound is preferably used.

Si(X)a(Y)b(R)c ・・・一般式(1)
(式中、Xは、アルキレン基に、グリシドキシ基、メルカプト基、(メタ)アクリロキシ基およびアミノ基からなる群より選ばれる一種が結合した基、アルケニル基、ビニル基またはハロアルキル基を表し、Yは加水分解性基を表し、Rは炭化水素基を表し、aは0または1、bは2または3、cは0〜2の整数を表し、a+b+c=4である。)
Yで表される加水分解性基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソプロペノキシ基、アセトキシ基、ブタノキシム基、ケトキシム基、アミノ基等が挙げられ、これらは一種もしくは複数種を併用することができる。中でも、メトキシ基、エトキシ基が良好な加水分解性を有することから好ましい。
Si (X) a (Y) b (R) c ・ ・ ・ General formula (1)
(Wherein X represents a group in which one member selected from the group consisting of glycidoxy group, mercapto group, (meth) acryloxy group and amino group is bonded to an alkylene group, an alkenyl group, a vinyl group or a haloalkyl group; A hydrolysable group is represented, R is a hydrocarbon group, a is 0 or 1, b is 2 or 3, c is an integer of 0 to 2, and a + b + c = 4.
Examples of the hydrolyzable group represented by Y include a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, an isopropenoxy group, an acetoxy group, a butanoxym group, a ketoxime group, an amino group and the like, and one or more of these may be used in combination. Can. Among them, methoxy and ethoxy are preferable because they have good hydrolyzability.

Rで表される炭化水素基としては、炭素数が1〜12の炭化水素基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、フェニル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。   The hydrocarbon group represented by R is preferably a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, phenyl group, A cyclohexyl group etc. are mentioned.

一般式(1)で表されるシラン化合物として、具体的には、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、5−ヘキセニルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジイソプロペノキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシランなどが挙げられる。   As the silane compound represented by the general formula (1), specifically, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane Hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, cyclohexyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane , 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl ester -Diethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N 2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) Propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 5-hexenyltrimethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, -Glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiisopropenoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, vinyl tri Methoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinylmethyldimethoxysilane and the like can be mentioned.

有機配位子を有する金属錯体の中心金属としては、アルミニウム、ジルコニウムおよびチタンからなる群より選ばれる少なくとも一種が好ましい。中でも、アルミニウム、ジルコニウムが好ましく、特にアルミニウムが好ましい。さらに、有機配位子を有する金属錯体は、上記中心金属を有するキレート化合物が好ましく、特にアルミニウムキレート化合物が好ましい。   The central metal of the metal complex having an organic ligand is preferably at least one selected from the group consisting of aluminum, zirconium and titanium. Among them, aluminum and zirconium are preferable, and aluminum is particularly preferable. Further, the metal complex having an organic ligand is preferably a chelate compound having the central metal, particularly preferably an aluminum chelate compound.

アルミニウムを中心金属とする、有機配位子を有する金属錯体の具体例としては、ビス(エチルアセトアセテート)(2,4−ペンタンジオネート)アルミニウム、アルミニウムトリス(アセチルアセトネ−ト)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)、アルミニウム−ジ−n−ブトキシド−モノエチルアセトアセテート、アルミニウム−ジ−イソプロポキシド−モノメチルアセトアセテート等が挙げられる。   Specific examples of metal complexes having an organic ligand and having aluminum as a central metal include bis (ethylacetoacetate) (2,4-pentanedionate) aluminum, aluminum tris (acetylacetonate), aluminum tris (Ethylacetoacetate), aluminum monoacetylacetonate bis (ethylacetoacetate), aluminum-di-n-butoxide-monoethylacetoacetate, aluminum-di-isopropoxide-monomethylacetoacetate and the like.

ジルコニウムを中心金属とする、有機配位子を有する金属錯体の具体例としては、例えば、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムノルマルプロピレート、ジルコニウムノルマルブチレート、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムモノアセチルアセトナート、ジルコニウムビスアセチルアセトナート等が挙げられる。   Specific examples of metal complexes having an organic ligand and having zirconium as a central metal include, for example, zirconium acetate, zirconium normal propylate, zirconium normal butyrate, zirconium tetraacetylacetonate, zirconium monoacetylacetonate, and zirconium bis. And acetylacetonate.

チタンを中心金属とする、有機配位子を有する金属錯体の具体例としては、例えば、テトラノルマルブチルチタネート、テトライソプロピルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート、テトラメチルチタネート等のチタンオルソエステル類、チタンアセチルアセトナート、チタンテトラアセチルアセトナート、ポリチタンアセチルアセトナート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテート、チタントリエタノールアミネート、チタンエチルアセトアセテート、チタンジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。   Specific examples of the metal complex having an organic ligand and having titanium as a central metal include, for example, titanium such as tetranormal butyl titanate, tetraisopropyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, tetramethyl titanate and the like. Orthoesters, titanium acetylacetonate, titanium tetraacetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, titanium lactate, titanium triethanolaminate, titanium ethylacetoacetate, titanium diisopropoxy bis (ethylacetoacetate) Etc.).

アンカー層の厚みは、10〜200nmが好ましく、20〜150nmがより好ましく、30〜100nmが特に好ましい。   10-200 nm is preferable, as for the thickness of an anchor layer, 20-150 nm is more preferable, and 30-100 nm is especially preferable.

[転写層]
本発明における転写層は、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する。転写層は、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する組成物を離型フィルムの離型層上に塗布し、必要に応じて乾燥、硬化して形成される。
[Transfer layer]
The transfer layer in the present invention contains at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule. The transfer layer is formed by applying a composition containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule onto the release layer of the release film, and optionally drying it, It is cured and formed.

エポキシ化合物を含有する組成物は、熱硬化性組成物または活性エネルギー線硬化性組成物であることが好ましい。   The composition containing an epoxy compound is preferably a thermosetting composition or an active energy ray curable composition.

分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を含有する組成物は、活性エネルギー線硬化性組成物であることが好ましい。   The composition containing a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule is preferably an active energy ray curable composition.

熱硬化性組成物は、加熱によって硬化する組成物であり、加熱温度としては100〜200℃が一般的であり、120〜180℃が好ましい。   The thermosetting composition is a composition which is cured by heating, and the heating temperature is generally 100 to 200 ° C., and preferably 120 to 180 ° C.

活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線を照射することによって硬化する組成物である。活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、α線、β線、γ線などが挙げられる。中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。   An active energy ray-curable composition is a composition that cures upon irradiation with active energy rays. As an active energy ray, an ultraviolet ray, a visible ray, infrared rays, an electron beam, an alpha ray, a beta ray, a gamma ray etc. are mentioned. Among them, ultraviolet rays and electron beams are preferable, and ultraviolet rays are particularly preferably used.

転写層が熱硬化性組成物または活性エネルギー線硬化性組成物からなる場合の転写層の硬化時期は、特に限定されず、転写層に含有される化合物の種類、転写層の種類や用途、被着体の種類や用途などによって適宜選択される。   The curing time of the transfer layer when the transfer layer is composed of a thermosetting composition or an active energy ray curable composition is not particularly limited, and the kind of the compound contained in the transfer layer, the type and use of the transfer layer, and the object It is appropriately selected depending on the type and use of the garment.

転写層の硬化時期は、具体的には、離型フィルムの離型層上に転写層を積層する工程、転写層の転写工程、および転写後のいずれかで実施することができる。また、2以上の工程に分けて分割硬化することができる。転写層の硬化時期については、詳細は後述する。   Specifically, the curing time of the transfer layer can be implemented by any of a step of laminating the transfer layer on the release layer of the release film, a transfer step of the transfer layer, and after transfer. Also, it can be divided and cured in two or more steps. Details of the curing time of the transfer layer will be described later.

転写層におけるエポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物の含有量は、転写層の固形分総量100質量%に対して5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましく、20質量%以上が特に好ましい。上限は100質量%である。上記含有量は、転写層が2種以上の化合物を含有する場合は、合計含有量を意味する。   The content of at least one compound selected from the group consisting of an epoxy compound in the transfer layer and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule is preferably 5% by mass or more based on 100% by mass of the total solid content of the transfer layer. 10 mass% or more is more preferable, and 20 mass% or more is especially preferable. The upper limit is 100% by mass. The above content means the total content when the transfer layer contains two or more compounds.

本発明における転写層、すなわち、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層としては、各種機能性層が挙げられる。例えば、接着剤層、回路基板の封止樹脂層、多層プリント配線板の層間絶縁樹脂層、ハードコート層、防汚層、反射防止層、感光性樹脂層、自己修復性樹脂層(自己治癒性樹脂層)、帯電防止層、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、導電層、防曇層、自動車外装塗膜の保護層(耐チッピング層)などが挙げられる。   As the transfer layer in the present invention, that is, the transfer layer containing at least one selected from the group consisting of compounds having an ethylenically unsaturated group in the molecule, various functional layers can be mentioned. For example, an adhesive layer, a sealing resin layer of a circuit board, an interlayer insulating resin layer of a multilayer printed wiring board, a hard coat layer, an antifouling layer, an antireflective layer, a photosensitive resin layer, a self-healing resin layer Resin layer), an antistatic layer, a near infrared ray absorbing layer, an ultraviolet ray absorbing layer, a conductive layer, an antifogging layer, a protective layer of an automobile exterior coating (anti-chipping layer) and the like.

エポキシ化合物を含有する転写層の好ましい例として、接着剤層、回路基板の封止樹脂層、多層プリント配線板の層間絶縁樹脂層が挙げられる。上記封止樹脂層および層間絶縁樹脂層は、接着剤層であることが多く、この場合、封止樹脂層および層間絶縁樹脂層は接着剤層に含まれる。つまり、本発明における接着剤層は、回路基板の封止樹脂層および多層プリント配線板の層間絶縁樹脂層であることが好ましい。   As a preferable example of the transfer layer containing an epoxy compound, an adhesive bond layer, the sealing resin layer of a circuit board, and the interlayer insulation resin layer of a multilayer printed wiring board are mentioned. The sealing resin layer and the interlayer insulating resin layer are often adhesive layers, and in this case, the sealing resin layer and the interlayer insulating resin layer are included in the adhesive layer. That is, the adhesive layer in the present invention is preferably a sealing resin layer of a circuit board and an interlayer insulating resin layer of a multilayer printed wiring board.

分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を含有する転写層の好ましい例としては、ハードコート層、防汚層、反射防止層が挙げられる。   Preferred examples of the transfer layer containing a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule include a hard coat layer, an antifouling layer, and an antireflective layer.

つまり、本発明における転写層は、接着剤層、ハードコート層、防汚層および反射防止層からなる群より選ばれる少なくとも一つの層であることが好ましい。詳細は後述する。   That is, the transfer layer in the present invention is preferably at least one layer selected from the group consisting of an adhesive layer, a hard coat layer, an antifouling layer and an antireflective layer. Details will be described later.

[エポキシ化合物]
エポキシ化合物は、特に限定されず、公知の化合物を用いることができる。例えば、回路基板の封止樹脂あるいは多層プリント配線板の層間絶縁樹脂に用いられるエポキシ化合物(エポキシ樹脂)、または熱硬化性接着剤に用いられるエポキシ化合物(エポキシ樹脂)などを用いることができる。
[Epoxy compound]
The epoxy compound is not particularly limited, and known compounds can be used. For example, an epoxy compound (epoxy resin) used for a sealing resin of a circuit board or an interlayer insulating resin of a multilayer printed wiring board, an epoxy compound (epoxy resin) used for a thermosetting adhesive, or the like can be used.

エポキシ化合物(エポキシ樹脂)の具体例として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、アルキルフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、フェノールとフェノール性水酸基を有する芳香族アルデヒドとの縮合物のエポキシ化物、トリグリシジルイソシアヌレート、脂肪環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂、アクリル酸変性エポキシ樹脂(エポキシアクリレート)、ナフタレン型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、スピロ環含有エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂などが挙げられる。   Specific examples of the epoxy compound (epoxy resin) include bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, phenol novolac epoxy resin, cresol novolac epoxy resin, bisphenol S epoxy resin, alkylphenol novolac epoxy resin, biphenol epoxy resin Naphthalene type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, epoxy compound of condensate of phenol and aromatic aldehyde having phenolic hydroxyl group, triglycidyl isocyanurate, aliphatic cyclic epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl amine Type epoxy resin, hydantoin type epoxy resin, isocyanurate type epoxy resin, acrylic acid modified epoxy resin (epoxy acrylate), naphthale Type epoxy resins, linear aliphatic epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, spiro ring-containing epoxy resins, and halogenated epoxy resins.

このようなエポキシ樹脂としては、具体的には、大日本インキ化学工業(株)製のHP4032、HP4032D、HP4700、N−690、N−695、ジャパンエポキシレジン(株)製の“エピコート(登録商標)”807、エピコート828EL、エピコート152、日本化薬(株)の“EPPN(登録商標)”−502H、NC7000L、NC3000H、東都化成(株)製のESN185、ESN475等が挙げられる。   As such an epoxy resin, specifically, HP4032, HP4032D, HP4700, N-690, N-695 manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., "Epicoat (registered trademark) manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd." And the like, and "EPPN (registered trademark)" of Nippon Kayaku Co., Ltd.-502 H, NC 7000 L, NC 3000 H, ESN 185, ES N 475, etc. manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.

[分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物]
分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物のエチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が挙げられる。これらの中でも、アクリロイルオキシ基およびメタクリロイルオキシ基が好ましい。かかる化合物として、(メタ)アクリレート化合物が、一般に知られている。
[Compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule]
Examples of the ethylenically unsaturated group of the compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule include a vinyl group, an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group. Among these, acryloyloxy group and methacryloyloxy group are preferable. As such compounds, (meth) acrylate compounds are generally known.

以下、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を例示するが、これらの化合物に限定されない。以下の説明において、「・・・(メタ)アクリレート」とは、「・・・アクリレート」と「・・・メタクリレート」との総称である。   Hereinafter, although the compound which has an ethylenically unsaturated group in a molecule | numerator is illustrated, it is not limited to these compounds. In the following description, "... (meth) acrylate" is a generic term for "... acrylate" and "... methacrylate".

分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシ(メタ)アクリレート等の単官能の(メタ)アクリレート、
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等の2官能の(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、グリセリンプロポキシトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の3〜6官能の(メタ)アクリレート、などが挙げられる。
Examples of compounds having an ethylenically unsaturated group in the molecule include methyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate and phenoxyethyl (meth) acrylate Monofunctional compounds such as tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxy (meth) acrylate Meta) acrylate,
Ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol Di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, etc. Bifunctional (meth) acrylate,
Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, glycerin propoxy tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate , Dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol tri (meth) acrylate, tripentaerythritol hexa Examples thereof include 3 to 6 functional (meth) acrylates such as (meth) acrylates.

また、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物として、分子内にエチレン性不飽和基とウレタン結合を有する化合物が挙げられる。例えば、エチレングリコール・アジピン酸・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチルフタリル(メタ)アクリレート・キシレンジイソシアネート、1,2−ポリブタジエングリコール・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン・プロピレングリコール・トリレンジイソシアネート・2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートトルエンジイソシアネートウレタンオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンオリゴマーなどが挙げられる。   Moreover, as a compound which has an ethylenically unsaturated group in a molecule | numerator, the compound which has an ethylenically unsaturated group and a urethane bond in a molecule | numerator is mentioned. For example, ethylene glycol, adipic acid, tolylene diisocyanate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol, tolylene diisocyanate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl phthalyl (meth) acrylate, xylene diisocyanate, 1 , 2-polybutadiene glycol tolylene diisocyanate · 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, trimethylolpropane · propylene glycol · tolylene diisocyanate · 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate hexamethylene diisocyanate urethane Pre-oligomer, pentaerythritol tri (meth) acrylate toluene diisocyanate urethane Mer, pentaerythritol tri (meth) acrylate isophorone diisocyanate urethane oligomer and the like.

また、分子内にエチレン性不飽和基とウレタン結合を有する化合物として、ポリエーテル骨格のウレタン(メタ)アクリレート、ポリカプロラクトン骨格のウレタン(メタ)アクリレート、ポリカーボネート骨格のウレタン(メタ)アクリレートが挙げられる。   Moreover, as a compound which has an ethylenically unsaturated group and a urethane bond in a molecule | numerator, urethane (meth) acrylate of polyether frame | skeleton, urethane (meth) acrylate of polycaprolactone frame | skeleton, and urethane (meth) acrylate of polycarbonate frame | skeleton are mentioned.

ポリエーテル骨格のウレタン(メタ)アクリレートとしては、例えば、以下の化合物(1a)および化合物(1b)が挙げられる。   Examples of the urethane (meth) acrylate having a polyether skeleton include the following compound (1a) and compound (1b).

(1a);ポリアルキレングリコール(メタ)アクリレートとイソシアネート化合物とを反応させて得られた化合物
(1b);ポリアルキレングリコールとイソシアネート化合物とをイソシアネート基が水酸基に対して過剰となるような比率で反応させて得られた化合物に、さらに水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物を反応させて得られた化合物
上記(1a)の合成に用いられるポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコール(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
(1a); compound obtained by reacting polyalkylene glycol (meth) acrylate and isocyanate compound (1b); reaction of polyalkylene glycol and isocyanate compound in such a ratio that the isocyanate group is excessive to the hydroxyl group The compound obtained by reacting the (meth) acrylate compound which further has a hydroxyl group with the compound obtained by making it be obtained. The polyalkylene glycol (meth) acrylate compound used for the synthesis of the above (1a) is, for example, polyethylene glycol Examples include meta) acrylates, polypropylene glycol (meth) acrylates, polybutylene glycol (meth) acrylates, and the like.

上記(1a)の合成に用いられるイソシアネート化合物としては、分子内にイソシアネート基を2個以上含有するポリイソシアネート化合物が好ましく、例えば、トリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、メチル−2,6−ジイソシアネートヘキサノエート、ノルボナンジイソシアネート、メチレンビス−4−シクロヘキシルイソシアネート、トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、イソホロンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、トリレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンイソシアネートのビューレット体などの(ポリ)イソシアネート、および上記イソシアネートのブロック体などを挙げることができる。   The isocyanate compound used in the synthesis of the above (1a) is preferably a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in the molecule, and, for example, tolylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, Tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, methyl-2,6-diisocyanatohexanoate, norbornane diisocyanate, methylenebis-4-cyclohexylisocyanate, tolylene diisocyanate Methylol propane adduct, hexamethylene diisocyanate Methylol propane adduct, trimethylol propane adduct of isophorone diisocyanate, isocyanurate of tolylene diisocyanate, isocyanurate of hexamethylene diisocyanate, (poly) isocyanate such as biuret of hexamethylene isocyanate, and block of the above isocyanate And the like.

上記(1b)の合成に用いられるポリアルキレングリコールとしては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコールなどが挙げられる。   As a polyalkylene glycol used for the synthesis | combination of said (1b), polyethyleneglycol, a polypropylene glycol, a polybutylene glycol etc. are mentioned, for example.

上記(1b)の合成に用いられるイソシアネート化合物としては、上記(1a)の合成に用いられるイソシアネート化合物と同様の化合物を用いることができる。   As an isocyanate compound used for the synthesis | combination of said (1b), the compound similar to the isocyanate compound used for the synthesis | combination of said (1a) can be used.

上記(1b)の合成に用いられる水酸基を有する(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシエチル−フタル酸、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ポリカプロラクトン変性アルキル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。   Examples of the (meth) acrylate compound having a hydroxyl group used in the synthesis of the above (1b) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2 -Hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxyethyl-phthalic acid, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate ) Acrylates, polypropylene glycol mono (meth) acrylates, glycerol mono (meth) acrylates, pentaerythritol tri (meth) acrylates, dipentaerythritol penta (meth) acrylates, polycaprolactone-modified aa Etc. Kill (meth) acrylate.

ポリカプロラクトン骨格のウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、以下の化合物(2a)、化合物(2b)および化合物(2c)が挙げられる。   Examples of the polycaprolactone skeleton urethane (meth) acrylate compound include the following compound (2a), compound (2b) and compound (2c).

(2a);ポリカプロラクトン変性アルキル(メタ)アクリレートとイソシアネート化合物とを反応させて得られる化合物
(2b);ポリカプロラクトン変性ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとイソシアネート化合物とを反応させることによって得られる化合物
(2c);長鎖アルキルアルコール、ポリカプロラクトン変性ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートおよびイソシアネート化合物を反応させて得られる化合物
ここで、イソシアネート化合物としては、前述の(1a)の合成に用いられるイソシアネート化合物と同様の化合物を用いることができる。
(2a); compound obtained by reacting polycaprolactone modified alkyl (meth) acrylate with isocyanate compound (2b); compound obtained by reacting polycaprolactone modified hydroxyalkyl (meth) acrylate with isocyanate compound (2c) Compound obtained by reacting long-chain alkyl alcohol, polycaprolactone modified hydroxyethyl (meth) acrylate and isocyanate compound Here, as an isocyanate compound, the same compound as the isocyanate compound used for the synthesis of the above (1a) Can be used.

ポリカーボネート骨格のウレタン(メタ)アクリレート化合物としては、ポリカーボネートポリオール、イソシアネート化合物および水酸基を有する(メタ)アクリレートを反応させることによって合成することができる。   The urethane (meth) acrylate compound having a polycarbonate skeleton can be synthesized by reacting a polycarbonate polyol, an isocyanate compound and a (meth) acrylate having a hydroxyl group.

ポリカーボネートポリオールは、アルキレングリコールと炭酸エステルのエステル交換反応、またはホスゲンもしくはクロル蟻酸エステルとアルキレングリコールとの反応などによって製造することができる。   The polycarbonate polyol can be produced by transesterification reaction of alkylene glycol and carbonate, or reaction of phosgene or chloroformate with alkylene glycol, or the like.

アルキレングリコールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、ネオペンチルグリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,4−ジエチル−1,5ペンタンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、ビスフェノールA、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどが挙げられる。   As an alkylene glycol, for example, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, neopentyl Glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,4-diethyl-1,5 pentanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, 1,4-cyclohexanediol, bisphenol A, glycerin, trimethylol Propane, pentaerythritol and the like can be mentioned.

炭酸エステルとしては、例えば、メチルカーボネート、ジメチルカーボネート、エチルカーボネート、ジエチルカーボネート、n−プロピルカーボネート、ジ−n−プロピルカーボネート、イソプロピルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、n−ブチルカーボネート、ジ−n−ブチルカーボネート、イソブチルカーボネート、ジイソブチルカーボネート、シクロカーボネート、ジフェニルカーボネート、メチルジフェニルカーボネート、エチレンカーボネート、1,2−プロピレンカーボネート、1,2−ブチレンカーボネートなどが挙げられる。   Examples of carbonates include methyl carbonate, dimethyl carbonate, ethyl carbonate, diethyl carbonate, n-propyl carbonate, di-n-propyl carbonate, isopropyl carbonate, diisopropyl carbonate, n-butyl carbonate, di-n-butyl carbonate, isobutyl Carbonate, diisobutyl carbonate, cyclocarbonate, diphenyl carbonate, methyl diphenyl carbonate, ethylene carbonate, 1,2-propylene carbonate, 1,2-butylene carbonate and the like can be mentioned.

また、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物として、分子内にエチレン性不飽和基とフッ素原子を有する化合物が挙げられる。かかる化合物としては、例えば、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、パーフルオロブチルエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロブチルヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロヘキシルヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、パーフルオロデシルエチル(メタ)アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレート、ジビニルドデカフルオロヘキサン、ジビニルヘキサデカフルオロオクタン、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、β−(パーフロロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,2−トリフルオロエチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,4−ヘキサフルオロブチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6−ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7−トリデカフルオロヘプチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−(α−フルオロアクリル酸)−2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコールなどが挙げられる。   Moreover, as a compound which has an ethylenically unsaturated group in a molecule | numerator, the compound which has an ethylenically unsaturated group and a fluorine atom in a molecule | numerator is mentioned. Such compounds include, for example, trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, pentafluoropropyl (meth) acrylate, hexafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, perfluorobutyl Ethyl (meth) acrylate, perfluorobutylhydroxypropyl (meth) acrylate, perfluorohexylethyl (meth) acrylate, perfluorohexylhydroxypropyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, perfluorooctylhydroxypropyl ( Meta) acrylate, perfluorodecylethyl (meth) acrylate, heptadecafluorodecyl (meth) acrylate, divinyl Decafluorohexane, divinylhexadecafluorooctane, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorobutyl) ethyl (Meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, β- (perfluoro octyl) ) Ethyl (meth) acrylate, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,2-trifluoroethyl ethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,3-penta Fluoropropyl ethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3, 3,4,4,4-hexafluorobutyl ethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl ethylene glycol, di- (Α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-undecafluorohexyl ethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7-tridecafluoroheptyl ethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,6 4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-Pentadecafluorooctyl ethylene glycol, di- (α-fluoroacrylic acid) -3,3,4,4,5,5,6 6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl ethylene glycol Cole, di- (α-fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9,9-heptadecafluorononyl Ethylene glycol etc. are mentioned.

また、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物として、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物が挙げられる。かかる化合物としては、ポリシロキサン主鎖の両末端および/または側鎖にエチレン性不飽和基を有する化合物が好ましい。   Moreover, as a compound which has an ethylenically unsaturated group in a molecule | numerator, the polysiloxane compound which has an ethylenically unsaturated group is mentioned. As such a compound, a compound having an ethylenically unsaturated group at both ends and / or side chains of the polysiloxane main chain is preferable.

エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物としては、特開2009−84327号公報の製造例1−1〜1−3の化合物、あるいはチッソ(株)製のサイラプレーンFM−0711、同FM−0721、同FM−0725、信越化学工業(株)製のX−24−8201、X−22−174DX、X−22−1602、X22−1603、X−22−2426、X−22−2404、X−22−164A、X−22−164C、X−22−2458、X−22−2459、X−22−2445、X−22−2457、東レ・ダウコーニング(株)製のBY16−152D、BY16−152、BY16−152C、ビックケミー・ジャパン(株)製のBYK−UV3570等の市販品を用いることができる。   As the polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group, compounds of Production Examples 1-1 to 1-3 of JP 2009-84327 A, or Silaprene FM-0711 and FM 07021 manufactured by Chisso Corporation. FM-0725, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. X-24-8201, X-22-174DX, X-22-1602, X22-1603, X-22-2426, X-22-2404, X- 22-164A, X-22-164C, X-22-2458, X-22-2459, X-22-2445, X-22-2457, BY16-152D manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., BY16-152 Commercial products such as BY16-152C and BYK-UV 3570 manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd. can be used.

[接着剤層]
本発明における転写層は、接着剤層であることが好ましい。接着剤層は、エポキシ化合物を含有することが好ましい。接着剤層は、エポキシ化合物を含有する熱硬化性組成物、活性エネルギー線硬化性組成物または熱硬化性成分と活性エネルギー線硬化性成分とを含む熱・活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物であることが好ましい。エポキシ化合物としては、上述のエポキシ樹脂が好ましく用いられる。中でも、エポキシ化合物を含有する熱硬化性組成物の硬化物からなる接着剤層(熱硬化性接着剤層)であることが好ましい。
[Adhesive layer]
The transfer layer in the present invention is preferably an adhesive layer. The adhesive layer preferably contains an epoxy compound. The adhesive layer is a thermosetting composition containing an epoxy compound, an active energy ray curable composition, or a cured product of a thermally active energy ray curable composition containing a thermosetting component and an active energy ray curable component. Is preferred. As the epoxy compound, the above-mentioned epoxy resin is preferably used. Among them, an adhesive layer (thermosetting adhesive layer) composed of a cured product of a thermosetting composition containing an epoxy compound is preferable.

接着剤層は、例えば、回路基板の封止樹脂層あるいは多層プリント配線板の層間絶縁樹脂層として好適である。特に、上記用途に適用される接着剤層としては、エポキシ化合物を含有する熱硬化性組成物の硬化物からなる接着剤層(熱硬化性接着剤層)であることが好ましい。   The adhesive layer is suitable, for example, as a sealing resin layer of a circuit board or an interlayer insulating resin layer of a multilayer printed wiring board. In particular, as the adhesive layer applied to the above-mentioned applications, it is preferable to be an adhesive layer (thermosetting adhesive layer) formed of a cured product of a thermosetting composition containing an epoxy compound.

以下、回路基板の封止樹脂層あるいは多層プリント配線板の層間絶縁樹脂層に好適な熱硬化性接着剤層について詳細に説明する。   Hereinafter, a thermosetting adhesive layer suitable for a sealing resin layer of a circuit board or an interlayer insulating resin layer of a multilayer printed wiring board will be described in detail.

接着剤層は、上述したエポキシ化合物と、エポキシ化合物以外の他の熱硬化性樹脂を含有することができる。他の熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ系樹脂と架橋するノボラック型フェノール樹脂、ビニルフェノール樹脂、臭素化ビニルフェノール等が挙げられる。   The adhesive layer can contain the above-described epoxy compound and another thermosetting resin other than the epoxy compound. As another thermosetting resin, the novolak-type phenol resin bridge | crosslinked with an epoxy resin, vinyl phenol resin, brominated vinyl phenol etc. are mentioned, for example.

接着剤層は、さらに、硬化剤を含有することが好ましい。硬化剤としては、例えば、アミン系硬化剤、グアニジン系硬化剤、イミダゾール系硬化剤、フェノール系硬化剤、酸無水物系硬化剤、ヒドラジド系硬化剤、カルボン酸系硬化剤、チオール系硬化剤またはこれらのエポキシアダクトやマイクロカプセル化したもの等が挙げられる。また、トリフェニルホスフィン、ホスホニウムボレート、3−(3,4−ジクロロフェニル)−1,1−ジメチルウレア等の硬化促進剤を併用して用いてもよい。   The adhesive layer preferably further contains a curing agent. Examples of curing agents include amine curing agents, guanidine curing agents, imidazole curing agents, phenol curing agents, acid anhydride curing agents, hydrazide curing agents, carboxylic acid curing agents, thiol curing agents or These epoxy adducts and microcapsules may be mentioned. Moreover, you may use together and use hardening accelerators, such as a triphenyl phosphine, a phosphonium borate, 3- (3, 4- dichlorophenyl) -1,1- dimethyl urea.

硬化剤の具体例としては、例えば、ジシアンジアミド、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4,4’−トリアミノジフェニルスルホン、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジクロロ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6−(2−メチル−1−イミダゾリルエチル)−1、3、5−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、トリアジン構造含有ノボラック樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。   Specific examples of the curing agent include, for example, dicyandiamide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminobenzophenone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4 '-Diaminodiphenyl sulfone, 3,4,4'-triaminodiphenyl sulfone, 3,3', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dichloro-4,4 ' -Diaminodiphenylmethane, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,4-diamino-6- (2-methyl-1-imidazolylethyl) -1,3,5-triazine isocyanuric acid adduct, Examples thereof include triazine structure-containing novolak resins, phenol resins, and melamine resins.

接着剤層は、熱可塑性樹脂を含有することができる。熱可塑性樹脂としては、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体(NBR)、カルボキシ化アクリロニトリル−ブタジエン共重合体(カルボキシ化NBR)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS)、ポリブタジエン、スチレン−ブタジエン−エチレン共重合体(SEBS)、(メタ)アクリル酸エステル樹脂(アクリルゴム)、カルボキシ化エチレンアクリルゴム、ポリビニルブチラール、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリウレタンなどが挙げられる。   The adhesive layer can contain a thermoplastic resin. As a thermoplastic resin, acrylonitrile-butadiene copolymer (NBR), carboxylated acrylonitrile-butadiene copolymer (carboxylated NBR), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS), polybutadiene, styrene-butadiene-ethylene copolymer Polymer (SEBS), (meth) acrylic ester resin (acrylic rubber), carboxylated ethylene acrylic rubber, polyvinyl butyral, polyamide, polyester, polyimide, polyamide imide, polyurethane and the like can be mentioned.

接着剤層は、無機あるいは有機の充填材を含有することができる。無機充填材としては、例えば、シリカ、アルミナ、硫酸バリウム、タルク、クレー、雲母粉、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、ホウ酸アルミニウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸ビスマス、酸化チタン、ジルコン酸バリウム、ジルコン酸カルシウムなどが挙げられる。有機充填材としては、アクリルゴム粒子、シリコーン粒子などが挙げられる。   The adhesive layer can contain an inorganic or organic filler. As the inorganic filler, for example, silica, alumina, barium sulfate, talc, clay, mica powder, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, magnesium oxide, magnesium oxide, boron nitride, aluminum borate, barium titanate, Strontium titanate, calcium titanate, magnesium titanate, bismuth titanate, titanium oxide, barium zirconate, calcium zirconate and the like can be mentioned. Examples of the organic filler include acrylic rubber particles and silicone particles.

接着剤層は、転写工程または転写後に加熱硬化されることが好ましい。ここで、転写工程での加熱は離型フィルムが存在する状態での加熱を意味し、転写後の加熱は離型フィルムが剥離された後の加熱を意味する。加熱温度としては、100〜200℃が一般的であり、120〜180℃が好ましい。   The adhesive layer is preferably heat-cured after the transfer step or transfer. Here, heating in the transfer step means heating in the presence of the release film, and heating after transfer means heating after the release film is peeled off. As heating temperature, 100-200 degreeC is common, and 120-180 degreeC is preferable.

接着剤層が、活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物からなる接着剤層である場合は、前述のエポキシ化合物、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物、光重合開始剤を含有することが好ましい。さらに、前述の熱可塑性樹脂、無機あるいは有機の充填材を含有することができる。この接着剤層は、転写工程または転写後に活性エネルギー線を照射して硬化されることが好ましい。   When the adhesive layer is an adhesive layer comprising a cured product of an active energy ray curable composition, it contains the above-mentioned epoxy compound, a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule, and a photopolymerization initiator. Is preferred. Furthermore, the above-mentioned thermoplastic resin and inorganic or organic filler can be contained. The adhesive layer is preferably cured by irradiation with active energy rays after the transfer step or transfer.

接着剤層が、熱・活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物からなる接着剤層である場合は、前述のエポキシ化合物、前述の硬化剤、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物、光重合開始剤を含有することが好ましい。さらに、前述の熱可塑性樹脂、無機あるいは有機の充填材を含有することができる。この接着剤層は、転写工程または転写後に、加熱および/または活性エネルギー線を照射して硬化されることが好ましい。   When the adhesive layer is an adhesive layer comprising a cured product of a heat / active energy ray curable composition, the above-mentioned epoxy compound, the above-mentioned curing agent, a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule, light It is preferable to contain a polymerization initiator. Furthermore, the above-mentioned thermoplastic resin and inorganic or organic filler can be contained. The adhesive layer is preferably cured by heating and / or irradiation with active energy rays after the transfer step or transfer.

ここで、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物は、前述と同様の化合物を用いることができる。また、光重合開始剤は、後述のハードコート層に用いられる化合物と同様の化合物を用いることができる。   Here, as the compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule, the same compounds as described above can be used. Moreover, the compound similar to the compound used for a below-mentioned hard-coat layer can be used for a photoinitiator.

接着剤層の厚みは、10〜200μmが適当であり、20〜100μmが好ましい。   10-200 micrometers is suitable for the thickness of an adhesive bond layer, and 20-100 micrometers is preferable.

[ハードコート層]
本発明における転写層は、ハードコート層であることが好ましい。ハードコート層は、前述したプラスチック樹脂成型品などの被着体に傷が付くことを抑制したり、意匠性を付与したりするために適用される。
[Hard coat layer]
The transfer layer in the present invention is preferably a hard coat layer. The hard coat layer is applied to inhibit scratching of the adherend such as the plastic resin molded product described above or to provide a design.

ハードコート層が転写された被着体に傷付き抑制効果を発現させるという観点から、ハードコート層の鉛筆硬度(JIS K5600−5−4(1999年)に規定)は、F以上が好ましく、H以上がより好ましく、2H以上が特に好ましい。上限は9H程度である。   The pencil hardness (defined in JIS K 5600-5-4 (1999)) of the hard coat layer is preferably F or more from the viewpoint of exerting the scratching suppression effect on the adherend to which the hard coat layer has been transferred. The above is more preferable, and 2H or more is particularly preferable. The upper limit is about 9H.

ハードコート層は、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を含有することが好ましい。つまり、ハードコート層は、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を含有する活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物からなることが好ましい。   The hard coat layer preferably contains a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule. That is, the hard coat layer is preferably made of a cured product of an active energy ray curable composition containing a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule.

ハードコート層の鉛筆硬度を高め、かつ硬化収縮を抑制するとい観点から、ハードコート層を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物は、分子内にエチレン性不飽和基とウレタン結合を有する化合物を含有することが好ましい。該組成物は、分子内にエチレン性不飽和基とウレタン結合を有する化合物に加えて、前述の3〜6官能の(メタ)アクリレートとを併用することがより好ましい。   From the viewpoint of increasing the pencil hardness of the hard coat layer and suppressing the cure shrinkage, the active energy ray curable composition for forming the hard coat layer is a compound having an ethylenically unsaturated group and a urethane bond in the molecule. It is preferable to contain The composition is more preferably used in combination with the aforementioned 3- to 6-functional (meth) acrylate in addition to the compound having an ethylenically unsaturated group and a urethane bond in the molecule.

活性エネルギー線硬化性組成物は、さらに光重合開始剤を含有することが好ましい。   The active energy ray-curable composition preferably further contains a photopolymerization initiator.

かかる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、p−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、2種以上組み合せて用いてもよい。   Specific examples of such photopolymerization initiators include, for example, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 4,4'-Bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, methyl benzoyl formate, p-isopropyl-α-hydroxyisobutylphenone, α-hydroxyisobutylphenone, 2, Carbonyl compounds such as 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, tetramethylthiuram monosulfide, teto It is possible to use sulfur compounds such as lamethylthiuram disulfide, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone and the like. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

また、光重合開始剤は一般に市販されており、それらを使用することができる。例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製の“イルガキュア(登録商標)”184、イルガキュア907、イルガキュア379、イルガキュア819、イルガキュア127、イルガキュア500、イルガキュア754、イルガキュア250、イルガキュア1800、イルガキュア1870、イルガキュアOXE01、DAROCUR TPO、DAROCUR1173等、日本シイベルヘグナー(株)製のSpeedcureMBB、SpeedcurePBZ、SpeedcureITX、SpeedcureCTX、SpeedcureEDB、Esacure ONE、Esacure KIP150、Esacure KTO46等、日本化薬(株)製のKAYACURE DETX−S、KAYACURE CTX、KAYACURE BMS、KAYACURE DMBI等が挙げられる。   Also, photoinitiators are generally commercially available, and they can be used. For example, “Irgacure (registered trademark)” 184, Irgacure 907, Irgacure 379, Irgacure 819, Irgacure 127, Irgacure 500, Irgacure 754, Irgacure 250, Irgacure 1800, Irgacure 1870, Irgacure 1870, Irgacure OXE01 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Inc. , DAROCUR TPO, DAROCUR 1173, etc., Speedcure MBB, Speedcure PBZ, Speedcure ITX, Speedcure CTX, Speedcure EDB, Esacure ONE, Esacure KIP 150, Esacure KTO 46, etc. manufactured by Nippon Sibel Hegner Ltd., KAYACURE DETX-S, KAYACURE C, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYAC RE BMS, KAYACURE DMBI, and the like.

ハードコート層に防汚性(耐指紋性)を付与する場合は、分子内にエチレン性不飽和基とフッ素原子を有する化合物および/または分子内にエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有させることが好ましい。   In the case of imparting antifouling properties (fingerprint resistance) to the hard coat layer, it contains a compound having an ethylenically unsaturated group and a fluorine atom in the molecule and / or a polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule. It is preferable to

ハードコート層は、さらに、粒子、顔料、紫外線吸収剤、帯電防止剤などを含有することができる。   The hard coat layer may further contain particles, pigments, UV absorbers, antistatic agents and the like.

ハードコート層の厚みは、0.5〜20μmが適当であり、1〜15μmが好ましく、2〜10μmがより好ましい。   0.5-20 micrometers is suitable for the thickness of a hard-coat layer, 1-15 micrometers is preferable, and 2-10 micrometers is more preferable.

ハードコート層は、離型フィルムの離型層上に活性エネルギー線硬化性組成物を塗布し、必要に応じて乾燥した後、活性エネルギー線を照射して形成することができる。活性エネルギーとしては、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、α線、β線、γ線などが挙げられる。中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。   The hard coat layer can be formed by applying an active energy ray-curable composition on the release layer of the release film, drying if necessary, and then irradiating the active energy ray. The active energy includes ultraviolet light, visible light, infrared light, electron beam, α rays, β rays, γ rays and the like. Among them, ultraviolet rays and electron beams are preferable, and ultraviolet rays are particularly preferably used.

紫外線を照射するための光源としては、特に限定されないが、例えば、紫外線蛍光灯、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。また、ArFエキシマレーザ、KrFエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。このうち、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプを好ましく用いられる。また、紫外線を照射するときに、低酸素濃度下の雰囲気下、例えば、酸素濃度が500ppm以下の雰囲気下で照射を行なうと、効率よく硬化させることができるので好ましい。   Although it does not specifically limit as a light source for irradiating an ultraviolet-ray, For example, an ultraviolet fluorescent lamp, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp etc. can be used. . In addition, an ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, synchrotron radiation or the like can be used. Among these, an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc and a metal halide lamp are preferably used. When ultraviolet light is irradiated, it is preferable to perform irradiation under an atmosphere of low oxygen concentration, for example, under an atmosphere of oxygen concentration of 500 ppm or less, because curing can be performed efficiently.

紫外線の照射光量は、50mJ/cm以上が好ましく、100mJ/cm以上がより好ましく、特に150mJ/cm以上が好ましい。上限は2000mJ/cm以下が好ましく、1000mJ/cm以下がより好ましい。 Irradiation light amount of the ultraviolet rays is preferably from 50 mJ / cm 2 or more, 100 mJ / cm 2 or more, and particularly 150 mJ / cm 2 or more. The upper limit is preferably 2000 mJ / cm 2 or less, more preferably 1000 mJ / cm 2 or less.

活性エネルギー線硬化性組成物の塗布方法としては、例えば、リバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。   As a coating method of the active energy ray curable composition, for example, coating methods such as reverse coating method, spray coating method, bar coating method, gravure coating method, rod coating method, die coating method, spin coating method, extrusion coating method and the like Can be used.

ハードコート層の硬化時期は、離型フィルムの離型層上にハードコート層を積層する工程でほぼ完全に硬化させてもよいし、2工程に分けて分割硬化させてもよい。分割硬化としては、例えば、ハードコート層の積層工程で半硬化させ、ハードコート層の転写工程または転写後に活性エネルギー線を照射して完全硬化させる方法が挙げられる。   The curing time of the hard coat layer may be almost completely cured in the step of laminating the hard coat layer on the release layer of the release film, or may be divided and divided into two steps. The divisional curing may be, for example, a method of semi-curing in the step of laminating the hard coat layer, and in the step of transferring the hard coat layer or after the transfer, the active energy ray is irradiated for complete curing.

[防汚層]
本発明における転写層は、防汚層であることが好ましい。防汚層は、指紋などの汚れ成分が付着することを抑制する機能、または指紋などの汚れ成分が付着しても拭き取れる機能を有する層である。かかる機能は、例えば、防汚層の表面の水接触角で表すことができる。つまり、防汚層の表面の水接触角は、90度以上が好ましく、95度以上がより好ましく、100度以上が特に好ましい。上限は160度程度である。
[Antifouling layer]
The transfer layer in the present invention is preferably an antifouling layer. The antifouling layer is a layer having a function of suppressing adhesion of a soiling component such as a fingerprint or a function of wiping off even when a soiling component such as a fingerprint adheres. Such a function can be represented, for example, by the water contact angle of the surface of the antifouling layer. That is, the water contact angle on the surface of the antifouling layer is preferably 90 degrees or more, more preferably 95 degrees or more, and particularly preferably 100 degrees or more. The upper limit is about 160 degrees.

防汚層は、被着体であるプラスチック樹脂成形品に防汚性を付与するのに適用される。   The antifouling layer is applied to impart antifouling properties to a plastic resin molded product which is an adherend.

防汚層は、分子内にエチレン性不飽和基とフッ素原子を有する化合物および/または分子内にエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有することが好ましい。   The antifouling layer preferably contains a compound having an ethylenically unsaturated group and a fluorine atom in the molecule and / or a polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule.

防汚層は、分子内にエチレン性不飽和基とフッ素原子を有する化合物および/または分子内にエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有する活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物からなることが好ましい。つまり、防汚層は、離型フィルムの離型層上に上記活性エネルギー線硬化性組成物を塗布し、必要に応じて乾燥した後、活性エネルギー線を照射し硬化して形成することができる。活性エネルギー線の照射条件は、前述のハードコート層における条件と同様の条件を採用することができる。   The antifouling layer comprises a cured product of an active energy ray curable composition containing a compound having an ethylenically unsaturated group and a fluorine atom in the molecule and / or a polysiloxane compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule. Is preferred. That is, the antifouling layer can be formed by applying the above-mentioned active energy ray-curable composition on the release layer of the release film, drying it as necessary, and then irradiating the active energy ray to cure it. . The irradiation conditions of the active energy ray may be the same as the conditions in the above-mentioned hard coat layer.

活性エネルギー線硬化性組成物は、さらに、前述の2〜6官能の(メタ)アクリレートを含有することが好ましい。活性エネルギー線硬化性組成物は、またさらに、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤は、ハードコート層に用いられるのと同様の化合物を用いることができる。   The active energy ray-curable composition preferably further contains the above-mentioned 2 to 6 functional (meth) acrylate. The active energy ray curable composition preferably further contains a photopolymerization initiator. As the photopolymerization initiator, the same compounds as those used for the hard coat layer can be used.

防汚層の厚みは、0.01〜10μmが好ましく、0.02〜5μmがより好ましく、0.03〜3μmが特に好ましい。   0.01-10 micrometers is preferable, as for the thickness of an antifouling layer, 0.02-5 micrometers is more preferable, and 0.03-3 micrometers is especially preferable.

[反射防止層]
本発明における転写層は、反射防止層であることが好ましい。反射防止層は、被着体であるプラスチック樹脂成形品に反射防止性を付与するのに適用される。この観点から、反射防止層は、波長589nmの屈折率が1.47以下であることが好ましく、1.43以下であることがより好ましく、1.40以下であることがより好ましい。下限は1.25程度である。
[Anti-reflection layer]
The transfer layer in the present invention is preferably an antireflective layer. The antireflective layer is applied to provide an antireflective property to a plastic resin molded product as an adherend. From this viewpoint, the antireflection layer preferably has a refractive index of 1.47 or less at a wavelength of 589 nm, more preferably 1.43 or less, and still more preferably 1.40 or less. The lower limit is about 1.25.

反射防止層は、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物と、フッ素化合物および/または中空シリカを含有することが好ましい。   The antireflective layer preferably contains a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule, a fluorine compound and / or hollow silica.

反射防止層は、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物と、フッ素化合物および/または中空シリカを含有する活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物からなることが好ましい。つまり、反射防止層は、離型フィルムの離型層上に上記活性エネルギー線硬化性組成物を塗布し、必要に応じて乾燥した後、活性エネルギー線を照射し硬化して形成することができる。活性エネルギー線の照射条件は、前述のハードコート層における条件と同様の条件を採用することができる。   The antireflective layer preferably comprises a cured product of an active energy ray-curable composition containing a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule, and a fluorine compound and / or hollow silica. That is, the antireflective layer can be formed by applying the above-mentioned active energy ray curable composition on the release layer of the release film, drying it as necessary, and then irradiating and curing the active energy ray. . The irradiation conditions of the active energy ray may be the same as the conditions in the above-mentioned hard coat layer.

フッ素化合物としては、前述の分子内にエチレン性不飽和基とフッ素原子を有する化合物が好ましく用いられる。この場合は、上記フッ素化合物以外の「分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物」は必ずしも必要ではないが、反射防止層の硬度を高めるという観点から、前述した2〜6官能の(メタ)アクリレートを含有することが好ましい。   As a fluorine compound, the compound which has an ethylenically unsaturated group and a fluorine atom in the above-mentioned molecule | numerator is used preferably. In this case, the “compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule” other than the fluorine compound is not necessarily required, but from the viewpoint of increasing the hardness of the antireflective layer, the above-mentioned 2 to 6 functional (meth) It is preferable to contain an acrylate.

活性エネルギー線硬化性組成物は、またさらに、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤は、ハードコート層に用いられるのと同様の化合物を用いることができる。   The active energy ray curable composition preferably further contains a photopolymerization initiator. As the photopolymerization initiator, the same compounds as those used for the hard coat layer can be used.

反射防止層の特に好ましい態様としては、中空シリカと、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物として2〜6官能の(メタ)アクリレートを含有する態様が挙げられる。   As a particularly preferable embodiment of the antireflective layer, an embodiment containing hollow silica and a 2 to 6 functional (meth) acrylate as a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule can be mentioned.

反射防止層の厚みは0.08〜0.12μmが好ましく、0.09〜0.11μmがより好ましい。   The thickness of the antireflective layer is preferably 0.08 to 0.12 μm, and more preferably 0.09 to 0.11 μm.

[転写フィルム]
本発明の転写フィルムは、離型フィルムの離型層上に、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層が積層されたものである。
[Transfer film]
The transfer film of the present invention is obtained by laminating a transfer layer containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule on the release layer of the release film. is there.

以下の説明において、「エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層」を「第1転写層」ということがある。   In the following description, the “transfer layer containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule” may be referred to as “first transfer layer”.

本発明の転写フィルムは、第1転写層の離型フィルムとは反対側に第2転写層が積層されていてもよい。つまり、本発明の転写フィルムは、離型フィルムの離型層上に第1転写層が直接に積層され、第1転写層上に第2転写層が積層された態様を含む。ここで、第2転写層は、単一層で構成されていてもよいし、複数層で構成されていてもよい。   In the transfer film of the present invention, the second transfer layer may be laminated on the side opposite to the release film of the first transfer layer. That is, the transfer film of the present invention includes a mode in which the first transfer layer is directly laminated on the release layer of the release film, and the second transfer layer is laminated on the first transfer layer. Here, the second transfer layer may be composed of a single layer or multiple layers.

第2転写層としては、第1転写層の種類や用途、あるいは被着体の種類や用途によって、適宜選択される。第1転写層が、ハードコート層、防汚層あるいは反射防止層である場合の第2転写層としては、第1転写層を被着体に密着させるための接着層、第1転写層と接着層の密着性を向上させるための密着強化層などが挙げられる。   The second transfer layer is appropriately selected depending on the type and use of the first transfer layer, or the type and use of the adherend. When the first transfer layer is a hard coat layer, an antifouling layer or an antireflective layer, the second transfer layer includes an adhesive layer for bringing the first transfer layer into close contact with the adherend, and an adhesion to the first transfer layer An adhesion strengthening layer for improving the adhesion of a layer etc. are mentioned.

接着層としては、例えば、樹脂系接着剤やホットメルト型接着剤を用いることができる。接着剤としては、例えば、アクリル酸エステル系、ポリエステル系、合成ゴム系、エポキシ系、ポリウレタン系、エチレン−酢酸ビニル系、ポリアミド系、ポリ塩化ビニル、ハロゲン化ポリオレフィン、ニトロセルロースおよびこれらの共重合体などが挙げられる。ホットメルト型接着剤としては、例えば、ポリウレタン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル系のものが挙げられる。   As the adhesive layer, for example, a resin adhesive or a hot melt adhesive can be used. As the adhesive, for example, acrylic acid ester type, polyester type, synthetic rubber type, epoxy type, polyurethane type, ethylene-vinyl acetate type, polyamide type, polyvinyl chloride, halogenated polyolefin, nitrocellulose, and copolymers thereof Etc. As a hot melt type adhesive agent, the thing of polyurethane, a polyamide, a polyvinyl chloride type is mentioned, for example.

密着強化層を構成する材料としては、アクリルウレタン樹脂、塩酢ビ樹脂、ポリエステル系樹脂、メラミン系樹脂やエポキシ系等の熱硬化性樹脂が好ましく挙げられる。   As a material which comprises an adhesion reinforcement layer, thermosetting resin, such as an acryl urethane resin, a salt vinyl-acetate resin, a polyester-type resin, a melamine-type resin, and an epoxy type, is mentioned preferably.

第1転写層が防汚層である場合の第2転写層としては、さらに、ハードコート層が挙げられる。このハードコート層は、防汚層と前述の接着層あるいは密着強化層との間に配置することが好ましい。ハードコート層としては、前述の第1転写層を構成するハードコート層と同様の構成を採用することができる。   As a 2nd transfer layer in case a 1st transfer layer is an antifouling layer, a hard court layer is mentioned further. The hard coat layer is preferably disposed between the antifouling layer and the above-mentioned adhesive layer or adhesion enhancing layer. As the hard coat layer, the same configuration as that of the hard coat layer constituting the first transfer layer described above can be adopted.

第1転写層が反射防止層である場合の第2転写層としては、さらに、ハードコート層、高屈折率層、高屈折率ハードコート層などが挙げられる。これらの層は、反射防止層と前述の接着層あるいは密着強化層との間に配置することが好ましい。   As a 2nd transfer layer in case a 1st transfer layer is an anti-reflective layer, a hard-coat layer, a high refractive index layer, a high refractive index hard-coat layer etc. are mentioned further. These layers are preferably disposed between the antireflective layer and the aforementioned adhesive layer or adhesion enhancing layer.

ハードコート層としては、前述の第1転写層を構成するハードコート層と同様の構成を採用することができる。   As the hard coat layer, the same configuration as that of the hard coat layer constituting the first transfer layer described above can be adopted.

高屈折率層および高屈折率ハードコート層は、波長589nmの屈折率が1.55〜1.80であることが好ましい。高屈折率層および高屈折率ハードコート層は、高屈折率の金属酸化物微粒子と前述の分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を含有する活性エネルギー線硬化性組成物の硬化物であることが好ましい。高屈折率の金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO)などが挙げられる。   The high refractive index layer and the high refractive index hard coat layer preferably have a refractive index of 1.55 to 1.80 at a wavelength of 589 nm. The high refractive index layer and the high refractive index hard coat layer are cured products of an active energy ray curable composition containing high refractive index metal oxide fine particles and a compound having an ethylenically unsaturated group in the aforementioned molecule. Is preferred. Examples of metal oxide fine particles having a high refractive index include zirconium oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, tin oxide-doped indium oxide (ITO), and antimony-doped tin oxide (ATO).

高屈折率層の厚みは、0.08〜0.20μmが好ましく、0.09〜0.17μmがより好ましい。高屈折率ハードコート層の厚みは、0.5〜5.0μmが好ましく、0.7〜3.0μmがより好ましい。   0.08-0.20 micrometer is preferable and, as for the thickness of a high refractive index layer, 0.09-0.17 micrometer is more preferable. 0.5-5.0 micrometers is preferable and, as for the thickness of a high refractive index hard-coat layer, 0.7-3.0 micrometers is more preferable.

以下、実施例により本発明を詳述するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples, but the present invention is not limited to these examples.

[測定方法および評価方法]
(1)離型層の表面自由エネルギーの測定
表面自由エネルギーおよびその各成分(分散力、極性力、水素結合力)の値が既知の3種の液体として、水、ジヨードメタン、1−ブロモナフタレンを用い、23℃、65%RH下で、接触角計DropMasterDM501(協和界面科学(株)製)にて、各液体の離型層上での接触角を測定した。1つの測定面に対し5回測定を行いその平均値を接触角(θ)とした。この接触角(θ)の値および各液体の既知の値(Panzerによる方法IV(日本接着協会誌第15巻、第3号、第96頁に記載)の数値から、北崎・畑の式より導入される下記式を用いて各成分の値を計算した。
[Measuring method and evaluation method]
(1) Measurement of surface free energy of mold release layer Water, diiodomethane, 1-bromonaphthalene as three kinds of liquids whose values of surface free energy and each component (dispersion power, polarity power, hydrogen bonding power) are known The contact angle of each liquid on the release layer was measured using a contact angle meter DropMaster DM 501 (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) at 23 ° C. and 65% RH. The measurement was performed 5 times for one measurement surface, and the average value was taken as the contact angle (θ). From the values of the contact angle (θ) and the known values of each liquid (method IV of Panzer (described in Japan Adhesive Association Vol. 15, No. 3, page 96), introduced from Kitazaki-Hata equation The value of each component was calculated using the following equation.

(γSd・γLd)1/2+(γSp・γLp)1/2+(γSh・γLh)1/2=γL(1+cosθ)/2
ここで、γLd、γLp、γLhは、それぞれ測定液の分散力、極性力、水素結合力の各成分を表し、θは測定面上での測定液の接触角を表し、また、γSd、γSp、γShは、それぞれ積層膜表面の分散力、極性力、水素結合力の各成分の値を表し、γLは各液体の表面エネルギーを表す。既知の値およびθを上記の式に代入して得られた連立方程式を解くことにより、測定面(離型層表面)の3成分の値を求める。
(ΓSd · γLd) 1/2 + (γSp · γLp) 1/2 + (γSh · γLh) 1/2 = γL (1 + cos θ) / 2
Here, γLd, γLp, and γLh respectively represent the dispersion force, polarity force, and hydrogen bonding force components of the measurement solution, θ represents the contact angle of the measurement solution on the measurement surface, and γSd, γSp, γSh represents values of the dispersion force, polarity force, and hydrogen bonding force components of the laminated film surface, respectively, and γL represents the surface energy of each liquid. The values of three components of the measurement surface (release layer surface) are determined by solving the simultaneous equations obtained by substituting known values and θ into the above equation.

下記式の通り、求められた分散力成分の値と極性力成分の値と水素結合力成分の値の和を、表面自由エネルギー(E)の値とする。   The sum of the value of the dispersion force component, the value of the polar force component, and the value of the hydrogen bonding component is determined as the value of the surface free energy (E) as in the following formula.

E=γSd+γSp+γSh
(2)表面粗さSRaの測定
基材フィルムおよび離型層の表面粗さSRaは、光干渉型顕微鏡((株)菱化システム社製、VertScan2.0、型式:R5300 GL−Lite−AC)を用いて、観察モード=Waveモード、面補正=4次、フィルター=530nmWhite、対物レンズ=50倍、測定領域=252.69×189.53μmにて表面形態観察し、求めた。測定は1サンプルにつき5回行い、その平均値から求めた。尚、基材フィルムの表面粗さSRaは、離型層を塗布する面の表面粗さSRaである。
E = γSd + γSp + γSh
(2) Measurement of Surface Roughness SRa The surface roughness SRa of the substrate film and the release layer is an optical interference type microscope (manufactured by Ryoka System Co., Ltd., VertScan 2.0, model: R5300 GL-Lite-AC) The surface morphology was observed using an observation mode = wave mode, surface correction = 4th order, filter = 530 nm white, objective lens = 50 ×, measurement area = 252.69 × 189.53 μm. The measurement was performed 5 times for one sample, and the average value was obtained. In addition, surface roughness SRa of a base film is surface roughness SRa of the surface which applies a mold release layer.

(3)ハードコート層の鉛筆硬度の測定
転写層がハードコート層である場合のハードコート層の鉛筆硬度を以下の要領で測定した。
(3) Measurement of Pencil Hardness of Hard Coat Layer The pencil hardness of the hard coat layer when the transfer layer is a hard coat layer was measured in the following manner.

下記(8)の転写工程に従って、被着体にハードコート層を転写した後、ハードコート層表面の鉛筆硬度をJIS K5600−5−4(1999年)に準拠して新東科学(株)製の表面性硬度計(HEIDON;タイプ14DR)を用いて測定した。荷重は750g、速度は30mm/minである。   After transferring the hard coat layer to the adherend according to the following transfer step (8), the pencil hardness of the hard coat layer surface is made according to JIS K5600-5-4 (1999), manufactured by Shinto Scientific Co., Ltd. Surface hardness tester (HEIDON; type 14DR). The load is 750 g and the speed is 30 mm / min.

(4)防汚層の水接触角の測定
転写層が防汚層である場合の防汚層の水接触角を以下の要領で測定した。
(4) Measurement of Water Contact Angle of Antifouling Layer The water contact angle of the antifouling layer when the transfer layer was the antifouling layer was measured in the following manner.

下記(8)の転写工程に従って、被着体に防汚層を転写した後、防汚層表面の水接触角を協和界面科学(株)製の自動接触角計(DM−500)と解析ソフトFAMAS(バージョン3.34)を用いて測定した。測定には純水を用い、純水の滴下量を2マイクロリットルとした。5回測定し、最大と最小値を除く3点の平均値を採用した。測定環境は、温度23℃、相対湿度55%である。   After transferring the antifouling layer to the adherend according to the following transfer step (8), the contact angle of water on the surface of the antifouling layer is analyzed with an automatic contact angle meter (DM-500) manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. It measured using FAMAS (version 3.34). Pure water was used for measurement, and the amount of dropped pure water was 2 microliters. It measured 5 times and adopted the average value of 3 points except maximum and minimum. The measurement environment is a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55%.

(5)反射防止層および高屈折率ハードコート層の屈折率の測定
反射防止層および高屈折率ハードコート層を形成するための組成物をシリコンウエハー上に塗布して形成された塗膜(乾燥厚み約2μm)について、25℃の温度条件下で位相差測定装置(ニコン(株)製:NPDM−1000)で589nmの屈折率を測定した。
(5) Measurement of refractive index of antireflective layer and high refractive index hard coat layer Coating formed by applying a composition for forming the antireflective layer and high refractive index hard coat layer on a silicon wafer The refractive index of 589 nm was measured for a thickness of about 2 μm under a temperature condition of 25 ° C. with a retardation measurement apparatus (manufactured by Nikon Corporation: NPDM-1000).

(6)反射防止層の視感反射率の測定
転写層が反射防止層である場合の反射防止層の視感反射率を以下の要領で測定した。
(6) Measurement of luminous reflectance of antireflective layer The luminous reflectance of the antireflective layer when the transfer layer is an antireflective layer was measured in the following manner.

下記(8)の転写工程に従って、被着体に反射防止層を転写した後、被着体の反射防止層とは反対面に黒粘着テープを貼り付けて測定用試料とし、下記のようにして視感反射率を測定した。   After transferring the antireflective layer to the adherend according to the following transfer step (8), a black adhesive tape is attached to the surface of the adherend opposite to the antireflective layer to form a measurement sample, as described below. The luminous reflectance was measured.

<視感反射率の測定>
分光光度計(島津製作所製、UV3150PC)を用いて、測定面から5度の入射角で波長380〜780nmの範囲で反射率(片面反射)を算出し、視感反射率(JIS Z8701−1999において規定されている反射の刺激値Y)を求めた。分光光度計で分光立体角を測定し、JIS Z8701−1999に従って反射率(片面光線反射)を算出する。算出式は以下の通りである。
<Measurement of luminous reflectance>
Using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, UV 3150PC), the reflectance (one-sided reflection) is calculated in the wavelength range of 380 to 780 nm at an incident angle of 5 degrees from the measurement surface, and the luminous reflectance (JIS Z8701-1999) The stimulation value Y of the defined reflex was determined. The spectral solid angle is measured with a spectrophotometer, and the reflectance (one-sided ray reflection) is calculated according to JIS Z8701-1999. The calculation formula is as follows.

T=K・∫S(λ)・y(λ)・ R(λ) ・dλ (ただし、積分区間は380〜780nm)
T:片面光線反射率
S(λ):色の表示に用いる標準の光の分布
y(λ):XYZ表示系における等色関数
R(λ):分光立体角反射率。
T = K · ∫ S (λ) · y (λ) · R (λ) · dλ (where the integration interval is 380 to 780 nm)
T: single-sided light reflectance S (λ): standard light distribution used for color display y (λ): color matching function in XYZ display system R (λ): spectral solid angle reflectance.

(7)転写層の塗布性の評価
転写層のそれぞれの組成物を離型フィルムの離型層上に下記の実施例の要領で塗布し、その塗布性を以下の基準で評価した。
A(良);均一で外観が良好な塗布膜が得られた場合
B(可);塗布膜に少し塗布ムラが確認されるが外観が規格内の場合
C(不可);塗布膜に強いハジキあるいは強い塗布ムラが確認され外観が規格外の場合。
(7) Evaluation of Coatability of Transfer Layer Each composition of the transfer layer was coated on the release layer of the release film in the same manner as in the following examples, and the coatability was evaluated based on the following criteria.
A (good); when a coating film having a uniform appearance and a good appearance is obtained B (good); a little coating unevenness is observed in the coating film, but when the appearance is within the specification C (not good); Or when strong coating unevenness is confirmed and the appearance is out of specification.

(8)転写フィルムの離型フィルムの剥離性評価
転写層として、接着剤層、ハードコート層、防汚層あるいは反射防止層が積層された転写フィルムの転写層を被着体に転写する工程における離型フィルムと転写層との剥離性を以下の要領で評価した。被着体は、転写層の種類に応じて以下のように変更した。
(8) Peelability evaluation of release film of transfer film In the process of transferring the transfer layer of a transfer film on which an adhesive layer, a hard coat layer, an antifouling layer or an antireflective layer is laminated as a transfer layer to an adherend The peelability between the release film and the transfer layer was evaluated in the following manner. The adherend was changed as follows according to the type of transfer layer.

<被着体>
・転写層が接着剤層の場合;圧延銅箔(JX日鉱日石金属社製、厚さ35μm)の粗面に厚さ25μmのポリイミド層が積層された基板。接着剤層の転写面は圧延銅箔の面である。
・転写層がハードコート層、防汚層あるいは反射防止層;厚みが188μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ(株)製の“ルミラー(登録商標)”U48)
<転写工程>
転写フィルムの転写層面と被着体と重ねて試験用積層体を作製した。この積層体を、加熱プレス装置(ミカドテクノス(株)製の2ton真空ヒータープレス 型番MKP−150TV−WH)に挿入し、プレス温度160℃、プレス圧2MPaにて20分間熱プレスした。その後、積層体を取り出し、常温で1時間放置後、積層体から離型フィルムを剥離し、その剥離性を以下の基準で評価した。
<Adherend>
In the case where the transfer layer is an adhesive layer; a substrate in which a 25 μm-thick polyimide layer is laminated on a rough surface of a rolled copper foil (manufactured by JX Nippon Mining & Metals, thickness 35 μm). The transfer surface of the adhesive layer is the surface of a rolled copper foil.
· Transfer layer: hard coat layer, antifouling layer or antireflective layer; polyethylene terephthalate film with a thickness of 188 μm ("Lumirror (registered trademark)" U48, manufactured by Toray Industries, Inc.)
<Transfer process>
The transfer layer surface of the transfer film and the adherend were overlapped to prepare a test laminate. This laminate was inserted into a heating press (2ton vacuum heater press manufactured by Mikado Technos Co., Ltd. Model No. MKP-150TV-WH) and heat pressed at a press temperature of 160 ° C. and a press pressure of 2 MPa for 20 minutes. Then, after taking out a layered product and leaving it to stand at normal temperature for 1 hour, a release film was exfoliated from a layered product and the exfoliation nature was evaluated by the following standards.

<剥離性の評価>
A(良);簡単にスムーズに剥離できる場合
B(可);少し力をかければ剥離できる場合
C(不可);かなり力をかけなければ剥離できない場合
[第1転写層]
以下に、エポキシ化合物を含有する接着剤層、分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を含有する、ハードコート層、防汚層および反射防止層を得るための組成物を示す。
<Evaluation of peelability>
A (good); when it can be peeled easily and smoothly B (if possible); when it can be peeled if a little force is applied C (not); if it can not be peeled off if a considerable force is applied [first transfer layer]
Hereinafter, a composition for obtaining a hard coat layer, an antifouling layer and an antireflective layer containing an adhesive layer containing an epoxy compound, and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule is shown.

<接着剤層用組成物1>
エポキシ化合物としてビスフェノールA型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業(株)製「エピクロン840−S」)40質量部、ノボラック型フェノール樹脂(住友ベークライト(株)製「PR−53647」)40質量部、フェノキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製「YL−6954」)20質量部、平均粒子径16nmのシリカ(日本アエロジル(株)製)5質量部、シランカップリング剤としてオクチルトリエトキシシラン(信越化学工業(株)製)0.5質量部、サリチル酸20質量部、アセトン100質量部を計量して混合攪拌して調製した。
<Composition 1 for Adhesive Layer>
40 parts by mass of bisphenol A type epoxy resin ("Epiclon 840-S" manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) as an epoxy compound, 40 parts by mass of novolac type phenol resin ("PR-53647" manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) 20 parts by mass of phenoxy resin ("JL-9554" manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.), 5 parts by mass of silica with an average particle diameter of 16 nm (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), octyltriethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as a silane coupling agent 0.5 parts by mass of Industrial Co., Ltd. product, 20 parts by mass of salicylic acid, and 100 parts by mass of acetone were weighed and mixed and stirred.

<接着剤層組成物2>
エポキシ化合物として、トリフェノールメタン骨格含有多官能固形エポキシ(ジャパンエポキシレジン(株)製の商品名「EP1032H60」45質量部、ビスフェノールF型液状エポキシ(ジャパンエポキシレジン(株)製の商品名「YL983U」)15質量部、柔軟性エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製の商品名「YL7175」)5質量部、硬化剤として2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加体(四国化成(株)製の商品名「2MAOK−PW」)4質量部、2−メチルグルタル酸4質量部、平均粒子径100nmのシリカ((株)アドマテックス性の商品名「SE1050」)10質量部、平均粒子径50nmのメタクリル表面処理ナノシリカ((株)アドマテックス性の商品名「YA050C−SM」)55質量部、有機樹脂粒子(ロームアンドハースジャパン(株)製の商品名「EXL−2655」:コアシェルタイプ有機微粒子)10質量部、グリシジルシランカップリング剤(東レダウコーニング(株)製の商品名「SH6040」)2質量部、およびメチルエチルケトンを固形濃度が60質量%となるように仕込み、ビーズミルで30分間撹拌した。その後、フェノキシ樹脂(東都化成(株)製の商品名「ZX−1356−2」)20質量部加え、再度、ビーズミルで30分間撹拌して調製した。
<Adhesive layer composition 2>
As epoxy compound, triphenolmethane skeleton-containing polyfunctional solid epoxy (trade name “EP1032H60” 45 parts by mass manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd., bisphenol F liquid epoxy (trade name “YL 983 U” manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.) 15 parts by mass, 5 parts by mass of a flexible epoxy resin (trade name "YL7175" manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.), 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ') as a curing agent 4 parts by mass of 2-ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct (trade name "2MAOK-PW" manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.), 4 parts by mass of 2-methyl glutaric acid, silica having an average particle diameter of 100 nm 10 parts by mass of Admatex's trade name “SE1050”, methacryl surface-treated nano-silicon having an average particle diameter of 50 nm (Trade name "YA050C-SM" (trade name of Admatex Co., Ltd.)) 55 parts by mass, organic resin particles (trade name "EXL-2655" manufactured by Rohm and Haas Japan Ltd .: core-shell type organic fine particles) 10 parts by mass 2 parts by mass of a glycidyl silane coupling agent (trade name “SH6040” manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) and methyl ethyl ketone were charged so as to have a solid concentration of 60 mass%, and stirred for 30 minutes with a bead mill. 20 parts by mass (trade name “ZX-1356-2” manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.) was added, and the mixture was again stirred for 30 minutes with a bead mill to prepare.

<接着剤層用組成物3>
エポキシ化合物(ジャパンエポキシレジン(株)製、商品名「エピコート828EL」)100質量部、熱可塑性樹脂としてカルボキシ化NBR(日本ゼオン社製、商品名「“ニポール(登録商標)”1072」)を40質量部、硬化剤として4,4′−ジアミノジフェニルスルホン25質量部をメチルエチルケトンに溶解分散させて、固形分濃度が30質量%となるように調製した。
<Composition 3 for adhesive layer>
100 parts by mass of an epoxy compound (manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd., trade name "Epikote 828EL"), 40 as a thermoplastic resin carboxylated NBR (trade name "" NIPOL (registered trademark) 1072 ") manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. A mass part and 25 mass parts of 4, 4'- diaminodiphenyl sulfone as a hardening agent were dissolved and dispersed in methyl ethyl ketone, and it prepared so that solid content concentration might be 30 mass%.

<ハードコート層用組成物1>
分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製の商品名「ライトアクリレートDPE−6A」)58質量部、分子内にエチレン性不飽和基とウレタン結合を有する化合物としてウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)製の商品名「UN−901T」)37質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製“イルガキュア(登録商標)”184)5質量部をメチルイソブチルケトンに溶解して、固形分濃度が20質量%の塗工液を調製した。
<Composition 1 for Hard Coat Layer>
58 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (trade name "Light Acrylate DPE-6A" manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) as a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule, and an ethylenically unsaturated group and a urethane bond in the molecule 37 parts by mass of a urethane acrylate oligomer (trade name "UN-901T" manufactured by KONAMI KOGYO CO., LTD.), A photopolymerization initiator ("IRGACURE (registered trademark)" 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Inc.) 5 parts by mass was dissolved in methyl isobutyl ketone to prepare a coating liquid having a solid content concentration of 20% by mass.

<ハードコート層用組成物2>
分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製の商品名「ライトアクリレートDPE−6A」)20質量部、下記で合成された分子内にエチレン性不飽和基とウレタン結合を有する化合物(UA)140質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製“イルガキュア(登録商標)”907)5質量部、下記の反応性シリカを固形分質量比(当該組成物の全固形分に対する比率)で5質量%を混合し、メチルエチルケトンで希釈して、固形分濃度が20質量%になるように調製した。
<Composition 2 for Hard Coat Layer>
20 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (trade name "Light Acrylate DPE-6A" manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) as a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule; 140 parts by mass of a compound (UA) having a saturated group and a urethane bond, 5 parts by mass of a photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. “IRGACURE (registered trademark)” 907), solid content of the following reactive silica 5 mass% was mixed by mass ratio (ratio to the total solid of the said composition), and it diluted with methyl ethyl ketone, and prepared so that solid content concentration might be 20 mass%.

<化合物(UA)の合成>
4つ口フラスコに、ビスフェノールF型ジエポキシ樹脂(東都化成(株)製も商品名「エポトートYDF−8170C」)を3180質量部、アクリル酸を1440質量部、重合禁止剤としてヒドロキノンモノメチルエーテルを4.6質量部、合成触媒としてジメチルアミノエチルメタアクリレート(三菱レイヨン(株)製の商品名「アクリエステルDM」)を23質量部入れ、攪拌しながら95℃まで昇温させ、95℃に保持した状態で14時間反応を続けた。酸価が1mgKOH/g以下になったところで内温が60℃になるまで冷却してエポキシ(メタ)アクリレート化合物を得た。
<Synthesis of Compound (UA)>
In a four-necked flask, 3180 parts by mass of bisphenol F diepoxy resin (trade name "Epototh YDF-8170C" manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), 1440 parts by mass of acrylic acid, and hydroquinone monomethyl ether as a polymerization inhibitor 4. 6 parts by mass, 23 parts by mass of dimethylaminoethyl methacrylate (trade name “Acryester DM” manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) as a synthesis catalyst, charged, heated to 95 ° C. with stirring, and maintained at 95 ° C. The reaction continued for 14 hours. When the acid value became 1 mg KOH / g or less, the internal temperature was cooled to 60 ° C. to obtain an epoxy (meth) acrylate compound.

次に、4つ口フラスコに、上記エポキシ(メタ)アクリレート化合物を298質量部、酢酸エチルを711.3質量部入れ、内温60℃になるように加温した。合成触媒としてジラウリン酸ジ−n−ブチル錫を0.21質量部添加し、攪拌しながら、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート(三井化学ポリウレタン(株)製の商品名「タケネート600」)199質量部を1時間かけて滴下した。滴下終了後2時間反応を続行し、続いてジエチレングリコール(和光純薬工業(株)製の試薬、商品名「ジエチレングリコール」;分子量106)27.3質量部と、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(東亜合成(株)製の商品名「アロニックスM−306」)187質量部の混合物を1時間かけて滴下した。滴下後5時間反応を続行し、質量平均分子量19800のウレタン(メタ)アクリレート化合物を得た。   Next, 298 parts by mass of the above-mentioned epoxy (meth) acrylate compound and 711.3 parts by mass of ethyl acetate were charged into a four-necked flask, and the mixture was heated to an internal temperature of 60 ° C. 0.21 parts by mass of di-n-butyltin dilaurate as a synthesis catalyst and 199 parts by mass of methylcyclohexylene diisocyanate (trade name "Takenate 600" manufactured by Mitsui Chemicals Polyurethanes Co., Ltd.) for 1 hour while stirring It dripped over. After completion of the addition, the reaction is continued for 2 hours, followed by 27.3 parts by mass of diethylene glycol (reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., trade name "diethylene glycol"; molecular weight 106), pentaerythritol tetraacrylate (Toa Synthesis (stock A mixture of 187 parts by mass of a trade name "ALONIX M-306" manufactured by A.M.) was added dropwise over 1 hour. After the addition, the reaction was continued for 5 hours to obtain a urethane (meth) acrylate compound having a weight average molecular weight of 19,800.

<反応性シリカ>
コロイダルシリカ(日産化学工業(株)製の“オルガノシリカゾル(登録商標)”MEK−ST、固形分30質量%、メチルエチルケトン70質量%)150質量部に、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越シリコン(株)製の商品名「KBM−503」)13.7質量部と、10質量%蟻酸水溶液1.7質量部を混合し、70℃にて1時間撹拌して、反応性シリカを得た。
<Reactive silica>
150 parts by mass of colloidal silica ("Organosilica sol (registered trademark)" MEK-ST manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content 30% by mass, methyl ethyl ketone 70% by mass), 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu silicon) 13.7 parts by mass of trade name "KBM-503" (trade name) and 1.7 parts by mass of 10 mass% formic acid aqueous solution were mixed, and stirred at 70 ° C for 1 hour to obtain reactive silica .

<ハードコート層用組成物3>
分子内にエチレン性不飽和基とウレタン結合を有する化合物を含有する紫外線硬化性樹脂塗布液(日本合成化学(株)の「UV−7550B」)を、メチルエチルケトンで固形分濃度が20質量%となるように希釈した。
<Composition 3 for Hard Coat Layer>
An ultraviolet curable resin coating solution ("UV-7550B" from Nippon Gohsei Kagaku Co., Ltd.) containing a compound having an ethylenically unsaturated group and a urethane bond in its molecule, and a solid content concentration of 20% by mass with methyl ethyl ketone As diluted.

<ハードコート層用組成物4>
分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物を含有する紫外線硬化型ハードコート塗料(中国塗料(株)製の商品名「フォルシードNo.301C」をメチルエチルケトンで固形分濃度が30質量%に調製した。
<Composition 4 for Hard Coat Layer>
An ultraviolet-curable hard coat paint (trade name “Forseed No. 301C” manufactured by China Paint Co., Ltd.) containing a compound having an ethylenically unsaturated group in its molecule was adjusted to a solid content concentration of 30 mass% with methyl ethyl ketone .

<防汚層用組成物4>
分子内にエチレン性不飽和基とフッ素原子を有する化合物を含有する紫外線硬化型ハードコート塗料(中国塗料(株)の商品名「フォルシードNo.421C」をメチルエチルケトンで固形分濃度が30質量%に調製した。
<Composition for antifouling layer 4>
A UV curable hard coat paint containing a compound having an ethylenic unsaturated group and a fluorine atom in the molecule (trade name “Porceed No. 421C” of China Paint Co., Ltd.) made of methyl ethyl ketone to a solid content concentration of 30 mass% Prepared.

<反射防止層用組成物1>
分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製の商品名「ライトアクリレートDPE−6A」)57質量部、中空シリカ粒子のイソプロピルアルコール分散物(日揮触媒化成(株)製:固形分濃度20質量%、平均粒子径60nm)を固形分換算で40質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製“イルガキュア(登録商標)”184)3質量部をメチルエチルケトンに分散あるいは溶解して調製した。この組成物の屈折率は1.37であった。
<Composition 1 for Antireflection Layer>
57 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (trade name "Light Acrylate DPE-6A" manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) as a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule, isopropyl alcohol dispersion of hollow silica particles (JV catalyst Kasei Co., Ltd. product: solid content concentration of 20% by mass, average particle diameter 60 nm) 40 parts by mass in terms of solid content, photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. product “IRGACURE (registered trademark)” 184 3 parts by weight was prepared by dispersing or dissolving in methyl ethyl ketone. The refractive index of this composition was 1.37.

[第2転写層]
<接着層用組成物>
ホットメルト型接着剤(東亞合成(株)製の“アロンメルト(登録商標)”PPET−1303S)を使用した。
[Second transfer layer]
<Composition for adhesive layer>
A hot melt adhesive ("Aronmelt (registered trademark)" PPET-1303S manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was used.

<高屈折率ハードコート層用組成物>
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(共栄社化学(株)製の商品名「ライトアクリレートDPE−6A」)10質量部とウレタンアクリレートオリゴマー(根上工業(株)製の商品名「UN−901T」)37質量部、酸化ジルコニウム60質量部、および光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製“イルガキュア(登録商標)”184)3質量部を有機溶剤に分散あるいは溶解して調製した。この組成物の屈折率は1.70であった。
<Composition for high refractive index hard coat layer>
10 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (trade name “Light Acrylate DPE-6A” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 37 parts by mass of urethane acrylate oligomer (trade name “UN-901T” manufactured by Kegami Kogyo Co., Ltd.) It was prepared by dispersing or dissolving 60 parts by mass of zirconium oxide and 3 parts by mass of a photopolymerization initiator (“IRGACURE (registered trademark)” 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) in an organic solvent. The refractive index of this composition was 1.70.

[基材フィルム]
離型フィルムを構成する基材フィルムとして下記のポリエステルフィルムおよびポリイミドフィルムを用意した。
[Base film]
The following polyester film and polyimide film were prepared as a base film which comprises a release film.

<ポリエステルフィルム1>
東レ(株)のポリエステルフィルム(“ルミラー(登録商標)” R75X)を用意した。このポリエステルフィルムは、厚みが25μmであり、表面粗さSRaが25nmであった。
<Polyester film 1>
A polyester film ("Lumirror (registered trademark)" R75X) manufactured by Toray Industries, Inc. was prepared. The polyester film had a thickness of 25 μm and a surface roughness SRa of 25 nm.

<ポリエステルフィルム2>
東レ(株)のポリエステルフィルム(“ルミラー(登録商標)” S10)を用意した。このポリエステルフィルムは、厚みが100μmであり、表面粗さSRaが25nmであった。
<Polyester film 2>
A polyester film ("Lumirror (registered trademark)" S10) manufactured by Toray Industries, Inc. was prepared. The polyester film had a thickness of 100 μm and a surface roughness SRa of 25 nm.

<ポリイミドフィルム1>
東レデュポン(株)のポリイミドフィルム(“カプトン(登録商標)”H100)を用意した。このポリイミドフィルムは厚みが25μmであり、表面粗さSRaが50nmであった。
<Polyimide film 1>
A polyimide film ("Kapton (registered trademark)" H100) manufactured by Toray DuPont Co., Ltd. was prepared. The polyimide film had a thickness of 25 μm and a surface roughness SRa of 50 nm.

[実施例1]
以下の要領で離型フィルムを作製した。
Example 1
A release film was produced in the following manner.

ポリエステルフィルム1の一方の面に、下記のアンカー層用組成物をグラビアコーターで塗布し、120℃で乾燥加熱後、引き続き、下記の離型層用組成物p1をグラビアコーターで塗布し、100℃で予備乾燥後、160℃で加熱乾燥して、アンカー層と離型層を積層した。アンカー層の厚みは50nm、離型層の厚みは300nmであった。離型層の表面自由エネルギーは31mJ/mであり、離型層の表面粗さSRaは20nmであった。 The following composition for an anchor layer is coated by a gravure coater on one side of the polyester film 1 and dried and heated at 120 ° C, and subsequently, the composition p1 for a release layer described below is coated by a gravure coater, 100 ° C After pre-drying, heat-dried at 160 ° C. to laminate the anchor layer and the release layer. The thickness of the anchor layer was 50 nm, and the thickness of the release layer was 300 nm. The surface free energy of the release layer was 31 mJ / m 2 , and the surface roughness SRa of the release layer was 20 nm.

<アンカー層用組成物>
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(東レ・ダウコーニング(株)製の商品名「BY24−846B」;含有量98質量%)5質量部、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(東レ・ダウコーニング(株)製の商品名「XIAMETER」OFS−6030 SILANE、含有量99質量%)1質量部、アルミニウムキレートとしてビス(エチルアセトアセテート)(2,4−ペンタンジオネート)アルミニウム(東レ・ダウコーニング(株)製の商品名「BY24−846E」;含有量38質量%)2質量部をトルエン50質量部とイソプロピルアルコール50質量部の混合溶媒に添加混合して調製した。
<Composition for anchor layer>
5 parts by mass of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (trade name "BY24-846B" manufactured by Toray Dow Corning; content: 98% by mass), 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (Toray Dow Corning) Co., Ltd. trade name "XIAMETER" OFS-6030 SILANE (content: 99% by mass) 1 part by mass, bis (ethylacetoacetate) (2,4-pentanedionate) aluminum (Toray Dow Corning (Australia) as aluminum chelate It prepared by adding and mixing 2 mass parts of brand names "BY24-846E"; content amount of 38 mass%) manufactured by Co., Ltd. in a mixed solvent of 50 mass parts of toluene and 50 mass parts of isopropyl alcohol.

<離型層用組成物p1>
・シリコーン変性アルキド樹脂;信越化学工業(株)製の商品名「X−62−9022」(シリコーン変性率が1質量%、メラミン架橋剤含有)を100質量部
・酸触媒;p−トルエンスルホン酸(信越化学工業(株)製の商品名「CAT−PC−80」)を1.3質量部
・溶媒;トルエンを245質量部、メチルエチルケトンを165質量部
[実施例2]
離型層用組成物を下記組成物p2に変更する以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを作製した。離型層の表面自由エネルギーは28mJ/mであり、離型層の表面粗さSRaは20nmであった。
<Composition for Release Layer p1>
-Silicone modified alkyd resin; 100 parts by mass of "X-62-9022" (Silicone modification rate is 1% by mass, containing a melamine crosslinking agent) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.-Acid catalyst; p-toluenesulfonic acid (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. trade name "CAT-PC-80") 1.3 parts by mass · Solvent; 245 parts by mass of toluene, 165 parts by mass of methyl ethyl ketone [Example 2]
A release film was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition for release layer was changed to the following composition p2. The surface free energy of the release layer was 28 mJ / m 2 , and the surface roughness SRa of the release layer was 20 nm.

<離型層用組成物p2>
・シリコーン変性アルキド樹脂;信越化学工業(株)製の商品名「KS−881」(シリコーン変性率が5質量%、メラミン架橋剤含有)を100質量部
・酸触媒;p−トルエンスルホン酸(信越化学工業(株)製の商品名「CAT−PC−80」)を1.3質量部
・溶媒;トルエンを240質量部、メチルエチルケトンを160質量部
[実施例3]
離型層用組成物を下記組成物p3に変更する以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを作製した。離型層の表面自由エネルギーは25mJ/mであり、離型層の表面粗さSRaは20nmであった。
<Composition for Release Layer p2>
· Silicone modified alkyd resin; 100 parts by mass, trade name "KS-881" (containing 5% by mass silicone modification, containing a melamine crosslinking agent) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. · Acid catalyst; p-toluenesulfonic acid (Shin-Etsu) 1.3 parts by mass of "CAT-PC-80" (trade name, manufactured by Chemical Industry Co., Ltd.), 240 parts by mass of a solvent, 240 parts by mass of toluene, and 160 parts by mass of methyl ethyl ketone [Example 3]
A release film was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition for release layer was changed to the following composition p3. The surface free energy of the release layer was 25 mJ / m 2 , and the surface roughness SRa of the release layer was 20 nm.

<離型層用組成物p3>
・シリコーン変性アルキド樹脂;信越化学工業(株)製の商品名「KS−883」(シリコーン変性率が10質量%、メラミン架橋剤含有)を100質量部
・酸触媒;p−トルエンスルホン酸(信越化学工業(株)製の商品名「CAT−PC−80」)を1.3質量部
・溶媒;トルエンを240質量部、メチルエチルケトンを160質量部
[実施例4]
離型層用組成物を下記組成物p4に変更する以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを作製した。離型層の表面自由エネルギーは21mJ/mであり、離型層の表面粗さSRaは20nmであった。
<Composition for Release Layer p3>
-Silicone modified alkyd resin; 100 parts by mass of "KS-883" (10% by mass silicone modification rate, containing a melamine crosslinking agent), trade name of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.-Acid catalyst; p-toluenesulfonic acid (Shin-Etsu) 1.3 parts by mass of "CAT-PC-80" (trade name, manufactured by Chemical Industry Co., Ltd.), 240 parts by mass of a solvent, 240 parts by mass of toluene, and 160 parts by mass of methyl ethyl ketone [Example 4]
A release film was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition for release layer was changed to the following composition p4. The surface free energy of the release layer was 21 mJ / m 2 , and the surface roughness SRa of the release layer was 20 nm.

<離型層用組成物p4>
・シリコーン変性アルキド樹脂;信越化学工業(株)製の商品名「KS−882」(シリコーン変性率が20質量%、メラミン架橋剤含有)を100質量部
・酸触媒;p−トルエンスルホン酸(信越化学工業(株)製の商品名「CAT−PC−80」)を1.3質量部
・溶媒;トルエンを240質量部、メチルエチルケトンを160質量部
[実施例5]
離型層用組成物を下記組成物p5に変更する以外は、実施例1と同様にして離型フィルムを作製した。離型層の表面自由エネルギーは29mJ/mであり、離型層の表面粗さSRaは20nmであった。
<Composition for Release Layer p4>
-Silicone modified alkyd resin; 100 parts by mass, trade name "KS-882" (containing 20% by mass silicone modification, containing a melamine crosslinking agent) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.-Acid catalyst; p-toluenesulfonic acid (Shin-Etsu) 1.3 parts by mass of "CAT-PC-80" (trade name, manufactured by Chemical Industry Co., Ltd.), 240 parts by mass of a solvent, 240 parts by mass of toluene, and 160 parts by mass of methyl ethyl ketone [Example 5]
A release film was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition for release layer was changed to the following composition p5. The surface free energy of the release layer was 29 mJ / m 2 , and the surface roughness SRa of the release layer was 20 nm.

<離型層用組成物p5>
・シリコーン変性アルキド樹脂;日立化成(株)製の商品名「テスファイン309」(シリコーン変性アルキド樹脂/メラミン架橋剤(質量比)=65/35、シリコーン変性率が3質量%)を100質量部
・酸触媒;p−トルエンスルホン酸(信越化学工業(株)製の商品名「CAT−PC−80」)を1.3質量部
・溶媒;トルエンを420質量部、メチルエチルケトンを280質量部
[実施例6]
実施例2において、ポリエステルフィルム1をポリエステルフィルム2に変更する以外は実施例2と同様にして離型フィルムを作製した。離型層の表面自由エネルギーは28mJ/mであり、離型層の表面粗さSRaは20nmであった。
<Composition for Release Layer p5>
-Silicone modified alkyd resin; 100 mass parts of "Tes fine 309" (Silicone modified alkyd resin / melamine crosslinking agent (mass ratio) = 65/35, silicone modification ratio 3 mass%) manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. Acid catalyst: 1.3 parts by mass of p-toluenesulfonic acid (trade name "CAT-PC-80" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Solvent: 420 parts by mass of toluene, 280 parts by mass of methyl ethyl ketone Example 6]
A release film was produced in the same manner as in Example 2 except that polyester film 1 was changed to polyester film 2 in Example 2. The surface free energy of the release layer was 28 mJ / m 2 , and the surface roughness SRa of the release layer was 20 nm.

[実施例7]
実施例2において、ポリエステルフィルム1をポリイミドフィルム1に変更する以外は実施例2と同様にして離型フィルムを作製した。離型層の表面自由エネルギーは28mJ/mであり、離型層の表面粗さSRaは40nmであった。
[Example 7]
A release film was produced in the same manner as in Example 2 except that polyester film 1 was changed to polyimide film 1 in Example 2. The surface free energy of the release layer was 28 mJ / m 2 , and the surface roughness SRa of the release layer was 40 nm.

[比較例1]
ポリエステルフィルム1の一方の面に、下記の離型層用組成物p6をグラビアコーターで塗布し、100℃で予備乾燥後、160℃で加熱乾燥して離型層を積層した。この離型層の厚みは300nmであった。離型層の表面自由エネルギーは19mJ/mであり、離型層の表面粗さSRaは20nmであった。
Comparative Example 1
The following composition p6 for release layer was applied by a gravure coater on one side of the polyester film 1, and after preliminary drying at 100 ° C., it was dried by heating at 160 ° C. to laminate a release layer. The thickness of this release layer was 300 nm. The surface free energy of the release layer was 19 mJ / m 2 , and the surface roughness SRa of the release layer was 20 nm.

<離型層用組成物p6>
付加反応型の硬化性シリコーン樹脂(東レ・ダウコーニング(株)製の商品名「LTC750A」)40質量部、硬化剤であるPL−50T(信越化学工業(株)製)0.4質量部をトルエン500質量部、n−ヘプタン500質量部に混合した。
<Composition for Release Layer p6>
40 parts by mass of an addition reaction type curable silicone resin (trade name "LTC 750A" manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) and 0.4 parts by mass of PL-50T (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as a curing agent 500 parts by mass of toluene and 500 parts by mass of n-heptane were mixed.

[比較例2]
離型層用組成物を下記組成物p7に変更する以外は、比較例1と同様にして離型フィルムを作製した。離型層の表面自由エネルギーは50mJ/mであり、離型層の表面粗さSRaは20nmであった。
Comparative Example 2
A release film was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the composition for release layer was changed to the following composition p7. The surface free energy of the release layer was 50 mJ / m 2 , and the surface roughness SRa of the release layer was 20 nm.

<離型層用組成物p7>
メラミン系樹脂((株)三羽研究所製の商品名「RP−50」)20質量部、硬化剤(和信化学工業(株)製の“プラスコート(登録商標)”DEPクリア)4質量部をトルエン50質量部、シクロヘキサノン50質量部に混合した。
<Composition for Release Layer p7>
20 parts by mass of a melamine-based resin (trade name "RP-50" manufactured by Sanba Laboratories Co., Ltd.), 4 parts by mass of a curing agent ("Plus Coat (registered trademark)" DEP clear manufactured by Washin Chemical Industry Co., Ltd.) Were mixed with 50 parts by mass of toluene and 50 parts by mass of cyclohexanone.

<評価>
上記で得られた離型フィルムについて、評価した結果を表1に示す。
<Evaluation>
The evaluation results of the release film obtained above are shown in Table 1.

Figure 2019093686
Figure 2019093686

[実施例11〜17および比較例11〜12]
転写層として接着剤層が積層された転写フィルムを以下の要領で作製した。
[Examples 11 to 17 and Comparative Examples 11 to 12]
A transfer film in which an adhesive layer was laminated as a transfer layer was produced in the following manner.

<接着剤層の積層>
実施例1〜7および比較例1〜2で作製した離型フィルムの離型層上に、エポキシ化合物を含有する接着剤層用組成物1〜3を乾燥後の厚みが25μmとなるように、アプリケータを用いて塗布し、150℃で乾燥して接着剤層を形成した。
<Lamination of adhesive layer>
The adhesive layer compositions 1 to 3 containing an epoxy compound on the release layer of the release film prepared in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 2 have a thickness after drying of 25 μm. It applied using the applicator, dried at 150 degreeC, and formed the adhesive layer.

<評価>
上記で得られた転写フィルムについて、評価した結果を表2に示す。
<Evaluation>
The evaluation results of the transfer film obtained above are shown in Table 2.

Figure 2019093686
Figure 2019093686

[実施例21〜27および比較例21〜22]
実施例1〜7および比較例1〜2で作製した離型フィルムの離型層上に、第1転写層としてハードコート層、第2転写層として接着層をこの順に積層して転写フィルムを作製した。
[Examples 21 to 27 and Comparative Examples 21 to 22]
A hard coat layer as a first transfer layer and an adhesive layer as a second transfer layer are laminated in this order on the release layer of the release film prepared in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 2 to prepare a transfer film. did.

<ハードコート層(第1転写層)の積層>
ハードコート層用組成物1〜4を乾燥・硬化後の厚みが7μmとなるようにワイヤーバーを用いて塗布し、90℃で乾燥後、紫外線を500mJ/cm照射し、硬化させてハードコート層を積層した。
<Lamination of Hard Coat Layer (First Transfer Layer)>
Hard coat layer compositions 1 to 4 are applied using a wire bar so that the thickness after drying and curing is 7 μm, dried at 90 ° C., irradiated with 500 mJ / cm 2 of ultraviolet light, and cured to give a hard coat Layers were stacked.

<接着層(第2転写層)の積層>
ホットメルト型接着層(東亞合成(株)製の“アロンメルト(登録商標)”PPET−1303S)を乾燥厚みが1.5μmとなるようにワイヤーバーにて積層した。
<Lamination of adhesive layer (second transfer layer)>
A hot melt type adhesive layer ("Aronmelt (registered trademark)" PPET-1303S manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was laminated with a wire bar so that the dry thickness was 1.5 μm.

<評価>
上記で得られた転写フィルムについて、評価した結果を表3に示す。
<Evaluation>
The evaluation results of the transfer film obtained above are shown in Table 3.

Figure 2019093686
Figure 2019093686

[実施例31〜37および比較例31〜32]
実施例1〜7および比較例1〜2で作製した離型フィルムの離型層上に、第1転写層として防汚層、第2転写層として接着層をこの順に積層して転写フィルムを作製した。
[Examples 31 to 37 and Comparative Examples 31 to 32]
An antifouling layer as a first transfer layer and an adhesive layer as a second transfer layer are laminated in this order on the release layer of the release film produced in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2 to produce a transfer film. did.

<防汚層(第1転写層)の積層>
防汚層用組成物1を乾燥・硬化後の厚みが7μmとなるようにワイヤーバーを用いて塗布し、90℃で乾燥後、紫外線を500mJ/cm照射し、硬化させてハードコート層を積層した。
<Lamination of antifouling layer (first transfer layer)>
The composition 1 for antifouling layer is applied using a wire bar so that the thickness after drying and curing becomes 7 μm, dried at 90 ° C., irradiated with 500 mJ / cm 2 of ultraviolet rays and cured to form a hard coat layer Stacked.

<接着層(第2転写層)の積層>
ホットメルト型接着剤(東亞合成(株)製の“アロンメルト(登録商標)”PPET−1303S)を乾燥厚みが1.5μmとなるようにワイヤーバーにて積層した。
<Lamination of adhesive layer (second transfer layer)>
A hot melt adhesive ("Aronmelt (registered trademark)" PPET-1303S manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was laminated with a wire bar to a dry thickness of 1.5 μm.

<評価>
上記で得られた転写フィルムについて、評価した結果を表4に示す。
<Evaluation>
The evaluation results of the transfer film obtained above are shown in Table 4.

Figure 2019093686
Figure 2019093686

[実施例41〜47および比較例41〜42]
実施例1〜7および比較例1〜2で作製した離型フィルムの離型層上に。第1転写層として反射防止層、第2転写層として高屈折率ハードコート層と接着層をこの順に積層して転写フィルムを作製した。
[Examples 41 to 47 and Comparative Examples 41 to 42]
On the release layer of the release film produced in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2. An antireflective layer as a first transfer layer and a high refractive index hard coat layer and an adhesive layer as a second transfer layer were laminated in this order to prepare a transfer film.

<反射防止層(第1転写層)の積層>
反射防止層用組成物1を乾燥・硬化後の厚みが0.1μmとなるようにワイヤーバーを用いて塗布し、90℃で乾燥後、紫外線を300mJ/cm照射し、硬化させて反射防止層を積層した。
<Lamination of Antireflection Layer (First Transfer Layer)>
The composition for antireflective layer 1 is applied using a wire bar so that the thickness after drying and curing becomes 0.1 μm, dried at 90 ° C., irradiated with 300 mJ / cm 2 of ultraviolet light, and cured to prevent antireflective Layers were stacked.

<高屈折率ハードコート層(第2転写層)の積層>
高屈折率ハードコート層用組成物を乾燥・硬化後の厚みが5μmとなるようにワイヤーバーを用いて塗布し、90℃で乾燥後、紫外線を500mJ/cm照射し、硬化させて高屈折率ハードコート層を積層した。
<Lamination of High Refractive Index Hard Coat Layer (Second Transfer Layer)>
The composition for high refractive index hard coat layer is applied using a wire bar to a dry and cured thickness of 5 μm, dried at 90 ° C, irradiated with 500 mJ / cm 2 of ultraviolet light and cured to achieve high refractive index Rate hard coat layer was laminated.

<接着層(第2転写層)の積層>
ホットメルト型接着剤(東亞合成(株)製の“アロンメルト(登録商標)”PPET−1303S)を乾燥厚みが1.5μmとなるようにワイヤーバーにて積層した。
<評価>
上記で得られた転写フィルムについて、評価した結果を表5に示す。
<Lamination of adhesive layer (second transfer layer)>
A hot melt adhesive ("Aronmelt (registered trademark)" PPET-1303S manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was laminated with a wire bar to a dry thickness of 1.5 μm.
<Evaluation>
The evaluation results of the transfer film obtained above are shown in Table 5.

Figure 2019093686
Figure 2019093686

Claims (9)

エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層が積層された転写フィルムに用いられる離型フィルムであって、基材フィルム上に、シリコーン変性アルキド樹脂を含有する離型層を備えた、転写フィルム用離型フィルム。   It is a release film used for a transfer film on which a transfer layer containing at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule is laminated, which is a silicone film on a substrate film A release film for transfer film, comprising a release layer containing a modified alkyd resin. 前記転写層が、接着剤層、ハードコート層、防汚層および反射防止層からなる群より選ばれる少なくとも一つの層である、請求項1に記載の転写フィルム用離型フィルム。   The release film for transfer film according to claim 1, wherein the transfer layer is at least one layer selected from the group consisting of an adhesive layer, a hard coat layer, an antifouling layer and an antireflective layer. 前記離型層におけるシリコーン変性アルキド樹脂の含有量が離型層の固形分総量100質量%に対して40質量%以上である、請求項1または2に記載の転写フィルム用離型フィルム。   The release film for transfer film according to claim 1 or 2, wherein the content of the silicone-modified alkyd resin in the release layer is 40% by mass or more based on 100% by mass of the total solid content of the release layer. 前記離型層がさらにメラミン架橋剤を含有する、請求項1〜3のいずれかに記載の転写フィルム用離型フィルム。   The release film for transfer film according to any one of claims 1 to 3, wherein the release layer further contains a melamine crosslinking agent. 前記基材フィルムと前記離型層との間にアンカー層が配置されている、請求項1〜4のいずれかに記載の転写フィルム用離型フィルム。   The release film for transfer films according to any one of claims 1 to 4, wherein an anchor layer is disposed between the base film and the release layer. 前記アンカー層が、シラン化合物と有機配位子を有する金属錯体とを含有する、請求項5に記載の転写フィルム用離型フィルム。   The release film for transfer film according to claim 5, wherein the anchor layer contains a silane compound and a metal complex having an organic ligand. 前記有機配位子を有する金属錯体の中心金属が、アルミニウム、チタンおよびジルコニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種である、請求項6に記載の転写フィルム用離型フィルム。   The release film for transfer film according to claim 6, wherein the central metal of the metal complex having the organic ligand is at least one selected from the group consisting of aluminum, titanium and zirconium. 請求項1〜7のいずれかに記載の転写フィルム用離型フィルムの離型層上に、エポキシ化合物および分子内にエチレン性不飽和基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する転写層が積層されてなる、転写フィルム。   A transfer comprising at least one selected from the group consisting of an epoxy compound and a compound having an ethylenically unsaturated group in the molecule on the release layer of the release film for transfer film according to any one of claims 1 to 7. Transfer film in which layers are laminated. 前記転写層が、接着剤層、ハードコート層、防汚層および反射防止層からなる群より選ばれる少なくとも一つの層である、請求項8に記載の転写フィルム。   The transfer film according to claim 8, wherein the transfer layer is at least one layer selected from the group consisting of an adhesive layer, a hard coat layer, an antifouling layer and an antireflective layer.
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