JP2021161286A - Low dielectric resin composition, molding, film, and flexible printed wiring board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、低誘電樹脂組成物と、当該低誘電樹脂組成物からなる成形品及びフィルムと、当該低誘電樹脂組成物からなるフィルムを含む、フレキシブルプリント配線板とに関する。 The present invention relates to a flexible printed wiring board including a low-dielectric resin composition, a molded product and a film made of the low-dielectric resin composition, and a film made of the low-dielectric resin composition.
近年、スマートフォン等の通信機器や、次世代テレビ等の電子機器において、大容量のデータを高速に送受信することが要求されている。これに伴い、電気信号の高周波数化が進んでいる。具体的には、無線通信分野では、2020年頃に、第5世代移動通信システム(5G)の導入が見込まれる。第5世代移動通信システムの導入に際して、10GHz以上の高周波数帯域の使用が検討されている。 In recent years, communication devices such as smartphones and electronic devices such as next-generation televisions have been required to transmit and receive large amounts of data at high speed. Along with this, the frequency of electric signals is increasing. Specifically, in the field of wireless communication, the introduction of the 5th generation mobile communication system (5G) is expected around 2020. When introducing the 5th generation mobile communication system, the use of a high frequency band of 10 GHz or more is being considered.
しかしながら、使用される信号の周波数が高くなるに伴い、情報の誤認識を招きうる出力信号の品質低下、すなわち、伝送損失が大きくなる。この伝送損失は、導体に起因する導体損失と、電子機器や通信機器における基板等の電気電子部品を構成する絶縁用の樹脂に起因する誘電損失とからなるが、導体損失は使用する周波数の0.5乗、誘電損失は周波数の1乗に比例するため、高周波帯、とりわけGHz帯においては、この誘電損失による影響が非常に大きくなる。 However, as the frequency of the signal used increases, the quality of the output signal, which can lead to misrecognition of information, deteriorates, that is, the transmission loss increases. This transmission loss consists of a conductor loss caused by a conductor and a dielectric loss caused by an insulating resin constituting an electric / electronic component such as a substrate in an electronic device or a communication device. The conductor loss is 0 at the frequency used. Since the fifth power and the dielectric loss are proportional to the first power of the frequency, the influence of this dielectric loss becomes very large in the high frequency band, particularly in the GHz band.
このため、伝送損失を低減するために、誘電損失に係る因子である比誘電率と、誘電正接とが低い低誘電材料が求められている。このような事情から、高周波数帯域で使用される低誘電材料として、例えば、液晶ポリマーの使用が検討されている。 Therefore, in order to reduce the transmission loss, a low-dielectric material having a low relative permittivity and a dielectric loss tangent, which are factors related to the dielectric loss, is required. Under these circumstances, the use of, for example, a liquid crystal polymer has been studied as a low-dielectric material used in a high frequency band.
しかしながら、液晶ポリマー等の低誘電樹脂についても、伝送損失をさらに低減させるために、さらなる低誘電特性が求められている。液晶ポリマーにはまた、その異方性に起因して溶融加工が困難である問題がある。例えば、液晶ポリマーを、代表的なフィルム製造方法である押出法によりフィルム化する場合、ダイから吐出される溶融した液晶ポリマーが、吐出方向のせん断力による溶融粘度の低下に起因してすぐに垂れてしまい、フィルムの引き取りが困難である。仮にフィルムを引き取ることができたとしても、フィルムにおける液晶ポリマーの配向に起因して、得られるフィルムは非常に裂けやすい。また、押出成形の際に、Tダイのリップ部分に樹脂塊が発生しやすい問題もある。さらに、液晶ポリマーは、その異方性に起因して、ストランドを切断することによるペレットの製造が困難となる場合がある。具体的には、例えば、ストランドを切断できなかったり、切断できたとしてもきれいな切断面を形成できずペレットにヒゲが発生しやすい問題がある。ペレットの形状の不均一さやペレットにおけるヒゲは、液晶ポリマーの成形加工時の、液晶ポリマーの計量の不安定さの一因となる。 However, even for low-dielectric resins such as liquid crystal polymers, further low-dielectric properties are required in order to further reduce transmission loss. The liquid crystal polymer also has a problem that it is difficult to melt process due to its anisotropy. For example, when a liquid crystal polymer is formed into a film by an extrusion method, which is a typical film manufacturing method, the molten liquid crystal polymer discharged from a die immediately drips due to a decrease in melt viscosity due to a shearing force in the discharge direction. It is difficult to pick up the film. Even if the film could be picked up, the resulting film would be very liable to tear due to the orientation of the liquid crystal polymer in the film. Further, there is a problem that a resin lump is likely to be generated in the lip portion of the T-die during extrusion molding. Further, the anisotropy of the liquid crystal polymer may make it difficult to produce pellets by cutting the strands. Specifically, for example, there is a problem that the strand cannot be cut, or even if the strand can be cut, a clean cut surface cannot be formed and whiskers are likely to occur on the pellet. The non-uniform shape of the pellets and the whiskers on the pellets contribute to the instability of weighing the liquid crystal polymer during the molding process of the liquid crystal polymer.
こうした事情から、液晶ポリマーにポリオレフィン系樹脂をブレンドし、成形加工性や異方性を改善した組成物が検討されている。例えば特許文献1には、特定の溶融粘度を有する液晶ポリエステル及び熱可塑性樹脂を含有する液晶ポリエステル樹脂組成物フィルムが開示される。特許文献1には、当該熱可塑性樹脂の例としてエチレンとグリシジルメタクリレートとの共重合体が記載されている。特許文献1に記載の技術では、各樹脂成分として特定の溶融粘度を有するものを使用するとともに、流動開始温度が液晶ポリエステルの同温度より10℃以上低いものでない熱可塑性樹脂が用いられる。これによって、得られる液晶ポリエステル樹脂組成物は、ガスバリア性とフィルム成形性とに優れる。特許文献2には、液晶性樹脂と、オレフィン系樹脂及び非液晶性ポリエステル樹脂とを含有する、柔軟性及び耐衝撃性を有するポリエステル樹脂組成物が開示されている。当該ポリエステル樹脂組成物においては、非液晶性ポリエステル樹脂が連続相を形成し、オレフィン系樹脂が島相として連続相(海相)中に分散している。 Under these circumstances, a composition in which a polyolefin resin is blended with a liquid crystal polymer to improve molding processability and anisotropy has been studied. For example, Patent Document 1 discloses a liquid crystal polyester resin composition film containing a liquid crystal polyester having a specific melt viscosity and a thermoplastic resin. Patent Document 1 describes a copolymer of ethylene and glycidyl methacrylate as an example of the thermoplastic resin. In the technique described in Patent Document 1, a resin having a specific melt viscosity is used as each resin component, and a thermoplastic resin whose flow start temperature is not lower than the same temperature of the liquid crystal polyester by 10 ° C. or more is used. As a result, the obtained liquid crystal polyester resin composition is excellent in gas barrier property and film moldability. Patent Document 2 discloses a polyester resin composition having flexibility and impact resistance, which contains a liquid crystal resin, an olefin resin and a non-liquid crystal polyester resin. In the polyester resin composition, the non-liquid crystal polyester resin forms a continuous phase, and the olefin resin is dispersed in the continuous phase (sea phase) as an island phase.
しかしながら、液晶ポリマーのフィルム成形性の改善、及びさらに優れた低誘電特性の付与において、上記のようなポリオレフィン系樹脂のブレンドが常に有効とは限らない。後記する実施例・比較例に示されるように、例えば特許文献1に記載されたようにエチレンとグリシジルメタクリレートとの共重合体を液晶ポリマーにブレンドすると、得られる液晶ポリマー組成物の誘電正接が大きくなる場合がある。特許文献2では、ポリオレフィンへの官能基の導入方法として、共重合の他にグラフトも記載されている。しかし、特許文献2で開示された樹脂組成物では、非液晶性ポリエステル樹脂が連続相(海相)である。このため、特許文献2に開示される樹脂組成物には、液晶ポリマーが有する耐熱性やポリオレフィン樹脂の低誘電特性は期待できない。そもそもこれらの発明は樹脂組成物の成形性や耐衝撃性、ガスバリア性等の改善を目的とする。このため、上記の特許文献1及び特許文献2では誘電特性について何ら言及されていない。 However, the above-mentioned blend of polyolefin resins is not always effective in improving the film formability of the liquid crystal polymer and imparting even better low dielectric properties. As shown in Examples and Comparative Examples described later, for example, when a copolymer of ethylene and glycidyl methacrylate is blended with a liquid crystal polymer as described in Patent Document 1, the obtained liquid crystal polymer composition has a large dielectric loss tangent. May become. Patent Document 2 describes grafts as well as copolymerization as a method for introducing a functional group into polyolefin. However, in the resin composition disclosed in Patent Document 2, the non-liquid polyester resin is a continuous phase (sea phase). Therefore, the resin composition disclosed in Patent Document 2 cannot be expected to have the heat resistance of the liquid crystal polymer and the low dielectric property of the polyolefin resin. In the first place, these inventions aim at improving the moldability, impact resistance, gas barrier property, etc. of the resin composition. Therefore, the above-mentioned Patent Documents 1 and 2 do not mention any dielectric properties.
本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、溶融加工性が良好であるとともに高周波帯域における低誘電特性に優れる低誘電樹脂組成物と、当該低誘電樹脂組成物を用いて形成された成形品及びフィルムと、当該フィルムを含むフレキシブルプリント配線板とを提供することとを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and is formed by using a low-dielectric resin composition having good melt processability and excellent low-dielectric properties in a high-frequency band, and the low-dielectric resin composition. An object of the present invention is to provide a molded product and a film, and a flexible printed wiring board containing the film.
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、液晶ポリマーに極性基を有するグラフト変性ポリオレフィン(B)をブレンドし、かつ特定の海島構造を形成することにより、液晶ポリマーの耐熱性を損なうことなく、溶融加工性、特にフィルム成形性に優れ、低誘電特性を有する樹脂組成物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventor blends a graft-modified polyolefin (B) having a polar group with a liquid crystal polymer and forms a specific sea-island structure to heat the liquid crystal polymer. The present invention has been completed by finding that a resin composition having excellent melt processability, particularly film formability, and low dielectric properties can be obtained without impairing the above.
すなわち、本発明は、以下の(1)〜(12)を提供する。
(1)液晶ポリマー(A)と、極性基を有するグラフト変性ポリオレフィン(B)とを含み、かつ連続領域である海相中に非連続領域である島相が分散した海島構造が形成されている低誘電樹脂組成物であって、
海島構造における海相が、液晶ポリマー(A)及び極性基を有するグラフト変性ポリオレフィン(B)のいずれか一方で形成され、島相のサイズが20μm以下である、低誘電樹脂組成物。
(2)周波数10GHzにおける比誘電率が、液晶ポリマー(A)の周波数10GHzにおける比誘電率より低い値であり、かつ周波数10GHzにおける誘電正接がグラフト変性ポリオレフィン(B)の周波数10GHzにおける誘電正接よりも低い値である、(1)に記載の低誘電樹脂組成物。
(3)周波数10GHzにおける比誘電率が2.80以下である、(1)又は(2)に記載の低誘電樹脂組成物。
(4)周波数10GHzにおける誘電正接が、0.0025以下である、(1)〜(3)のいずれか1つに記載の低誘電樹脂組成物。
(5)さらにオレフィンエラストマー(C)を含有する、(1)〜(4)のいずれか1つに記載の低誘電樹脂組成物。
(6)極性基が、エポキシ基である、(1)〜(5)のいずれか1つに記載の低誘電樹脂組成物。
(7)グラフト変性ポリオレフィン(B)が、グリシジル(メタ)アクリレートと、スチレンとによってグラフト変性されたポリオレフィンである、(1)〜(6)のいずれか1つに記載の低誘電樹脂素子物。
(8)液晶ポリマー(A)及び極性基を有するグラフト変性ポリオレフィン(B)を溶融混練する工程を含む、(1)〜(7)のいずれか1つに記載の低誘電樹脂組成物の製造方法。
(9)(1)〜(7)のいずれか1つに記載の低誘電樹脂組成物を用いて形成された成形品。
(10)(1)〜(7)のいずれか1つに記載の低誘電樹脂組成物を用いて形成されたフィルム。
(11)(10)に記載のフィルムを含む、フレキシブルプリント配線板。
That is, the present invention provides the following (1) to (12).
(1) A sea-island structure containing the liquid crystal polymer (A) and the graft-modified polyolefin (B) having a polar group, in which the discontinuous island phase is dispersed in the continuous sea phase is formed. A low-dielectric resin composition
A low-dielectric resin composition in which the sea phase in the sea-island structure is formed of either a liquid crystal polymer (A) or a graft-modified polyolefin (B) having a polar group, and the size of the island phase is 20 μm or less.
(2) The relative permittivity at a frequency of 10 GHz is lower than the relative permittivity of the liquid crystal polymer (A) at a frequency of 10 GHz, and the dielectric loss tangent at a frequency of 10 GHz is higher than the dielectric loss tangent of the graft-modified polyolefin (B) at a frequency of 10 GHz. The low dielectric resin composition according to (1), which has a low value.
(3) The low-dielectric resin composition according to (1) or (2), wherein the relative permittivity at a frequency of 10 GHz is 2.80 or less.
(4) The low dielectric resin composition according to any one of (1) to (3), wherein the dielectric loss tangent at a frequency of 10 GHz is 0.0025 or less.
(5) The low-dielectric resin composition according to any one of (1) to (4), which further contains an olefin elastomer (C).
(6) The low-dielectric resin composition according to any one of (1) to (5), wherein the polar group is an epoxy group.
(7) The low-dielectric resin device according to any one of (1) to (6), wherein the graft-modified polyolefin (B) is a polyolefin graft-modified with glycidyl (meth) acrylate and styrene.
(8) The method for producing a low-dielectric resin composition according to any one of (1) to (7), which comprises a step of melt-kneading the liquid crystal polymer (A) and the graft-modified polyolefin (B) having a polar group. ..
(9) A molded product formed by using the low-dielectric resin composition according to any one of (1) to (7).
(10) A film formed by using the low-dielectric resin composition according to any one of (1) to (7).
(11) A flexible printed wiring board containing the film according to (10).
本発明によれば、溶融加工性、特にフィルム成形性が良好であるとともに、高周波帯域における低誘電特性に優れる低誘電樹脂組成物と、当該低誘電樹脂組成物からなる成形品及びフィルムと、当該低誘電樹脂組成物からなるフィルムを含むフレキシブルプリント配線板とを提供することができる。 According to the present invention, a low-dielectric resin composition having good melt processability, particularly film formability, and excellent low-dielectric properties in a high-frequency band, a molded product and a film made of the low-dielectric resin composition, and the like. A flexible printed wiring board including a film made of a low-dielectric resin composition can be provided.
≪低誘電樹脂組成物≫
低誘電樹脂組成物は、液晶ポリマー(A)と、極性基を有するグラフト変性ポリオレフィン(B)とを含む樹脂組成物である。以下、極性基を有するグラフト変性ポリオレフィン(B)を、単に「グラフト変性ポリオレフィン(B)」とも記す。上記の低誘電樹脂組成物においては、連続領域である海相中に非連続領域である島相が分散した海島構造が形成されている。また、海島構造における海相が、液晶ポリマー(A)及びグラフト変性ポリオレフィン(B)のいずれか一方で形成され、島相のサイズが20μm以下である。
≪Low dielectric resin composition≫
The low-dielectric resin composition is a resin composition containing a liquid crystal polymer (A) and a graft-modified polyolefin (B) having a polar group. Hereinafter, the graft-modified polyolefin (B) having a polar group is also simply referred to as “graft-modified polyolefin (B)”. In the above low-dielectric resin composition, a sea-island structure in which discontinuous island phases are dispersed in a continuous sea phase is formed. Further, the sea phase in the sea-island structure is formed by either the liquid crystal polymer (A) or the graft-modified polyolefin (B), and the size of the island phase is 20 μm or less.
低誘電樹脂組成物の10GHzにおける比誘電率は、好ましくは液晶ポリマー(A)の周波数10GHzにおける比誘電率より低い値である。また、低誘電樹脂組成物の10GHzにおける誘電正接は、グラフト変性ポリオレフィン(B)の周波数10GHzにおける誘電正接の値以下であることが好ましい。 The relative permittivity of the low-dielectric resin composition at 10 GHz is preferably a value lower than the relative permittivity of the liquid crystal polymer (A) at a frequency of 10 GHz. Further, the dielectric loss tangent of the low dielectric resin composition at 10 GHz is preferably equal to or less than the value of the dielectric loss tangent of the graft-modified polyolefin (B) at a frequency of 10 GHz.
また、上記の低誘電樹脂組成物の周波数10GHzにおける比誘電率は、好ましくは2.80以下である。低誘電樹脂組成物の10GHzにおける誘電正接は、0.0025以下が好ましい。 The relative permittivity of the low-dielectric resin composition at a frequency of 10 GHz is preferably 2.80 or less. The dielectric loss tangent of the low dielectric resin composition at 10 GHz is preferably 0.0025 or less.
上記の低誘電樹脂組成物は、低誘電特性を活かし、高周波数帯域で使用される電気、電子部品、情報通信装置、当該情報通信装置の部品等の用途において好適に使用される。 The above-mentioned low-dielectric resin composition is suitably used in applications such as electric and electronic parts, information communication devices, and parts of the information communication device used in a high frequency band by taking advantage of the low dielectric property.
液晶ポリマーとグラフト変性ポリオレフィンとを含む樹脂組成物は、両者の混合比率、融点、両者の融点の差、混合時の温度、グラフト変性ポリオレフィンの変性率等の様々な条件に応じて、種々の相状態(相構造)を形成し得る。上記の低誘電樹脂組成物では、連続領域である海相中に非連続領域である島相が分散した海島構造が形成され、当該海島構造における海相が、液晶ポリマー(A)及び極性基を有するグラフト変性ポリオレフィン(B)のいずれか一方のみで形成されて、共連続構造は形成されない。また、島相のサイズが20μm以下である。
かかる相状態である場合、液晶ポリマー(A)の性質に由来する異方性が緩和され、低誘電樹脂組成物の溶融加工性が良好である。ここでいう「溶融加工性」とは、押出機及び射出成形機等の従来の加工機器を用いて、ポリマーを溶融して加工することが容易又は可能であることを意味する。
The resin composition containing the liquid crystal polymer and the graft-modified polyolefin has various phases depending on various conditions such as the mixing ratio of the two, the melting point, the difference between the melting points of the two, the temperature at the time of mixing, and the modification rate of the graft-modified polyolefin. A state (phase structure) can be formed. In the above low-dielectric resin composition, a sea-island structure in which discontinuous island phases are dispersed in a continuous sea phase is formed, and the sea phase in the sea-island structure contains a liquid crystal polymer (A) and a polar group. It is formed of only one of the graft-modified polyolefins (B) having, and a co-continuous structure is not formed. Moreover, the size of the island phase is 20 μm or less.
In such a phase state, the anisotropy derived from the properties of the liquid crystal polymer (A) is alleviated, and the melt processability of the low-dielectric resin composition is good. The term "melt processability" as used herein means that it is easy or possible to melt and process a polymer using conventional processing equipment such as an extruder and an injection molding machine.
低誘電樹脂組成物における海島構造について、液晶ポリマー(A)と、グラフト変性ポリオレフィン(B)とのいずれが海相(連続領域)を構成する成分であってもよい。
液晶ポリマー(A)が海相を形成していることによって、優れた溶融加工性とともに、液晶ポリマー(A)に由来する優れた耐熱性を発現しやすい。グラフト変性ポリオレフィン(B))が海相を形成していることによって、さらに優れた溶融加工性とともに、低い誘電特性を発現しやすい。
Regarding the sea-island structure in the low-dielectric resin composition, either the liquid crystal polymer (A) or the graft-modified polyolefin (B) may be a component constituting the sea phase (continuous region).
Since the liquid crystal polymer (A) forms a sea phase, it is easy to exhibit excellent heat resistance derived from the liquid crystal polymer (A) as well as excellent melt processability. Since the graft-modified polyolefin (B) forms a sea phase, it tends to exhibit low dielectric properties as well as excellent melt processability.
なお、「島相のサイズが20μm以下」とは、非連続領域である島相の全体の90%以上、通常95%以上、典型的には99%以上の島相のサイズが20μm以下であることを示す。ここで、「サイズ」とは一般に相の直径を指すが、島相の形状が円形とは大きく異なる場合には長径(外接する長方形の長辺の長さ)を「サイズ」として定義する。
本願発明の島相のサイズを確認する方法としては、任意の方法で確認することが可能であるが、例えば、後記する実施例のように低誘電樹脂組成物を用いて形成されたフィルムを熱硬化性樹脂で包埋し、厚み方向の断面をイオンビームで研磨してフィルムの断面出しを行い、フィルムの断面を走査型電子顕微鏡で観察する方法が挙げられる。
こうした島相のサイズは通常、ブレンドした樹脂同士の相溶性を反映しており、一般に相溶性が高い組み合わせほど島相のサイズが小さくなる傾向にある。低誘電樹脂組成物は、島相のサイズが15μm以下、特に10μm以下、中でも5μm以下であることが好ましい。
In addition, "the size of the island phase is 20 μm or less" means that the size of the island phase of 90% or more, usually 95% or more, typically 99% or more of the entire island phase which is a discontinuous region is 20 μm or less. Show that. Here, the "size" generally refers to the diameter of the phase, but when the shape of the island phase is significantly different from the circular shape, the major axis (the length of the long side of the circumscribed rectangle) is defined as the "size".
As a method for confirming the size of the island phase of the present invention, it can be confirmed by any method. For example, as in the examples described later, a film formed by using a low dielectric resin composition is heated. Examples thereof include a method of embedding with a curable resin, polishing a cross section in the thickness direction with an ion beam to obtain a cross section of the film, and observing the cross section of the film with a scanning electron microscope.
The size of these island phases usually reflects the compatibility between the blended resins, and in general, the higher the compatibility, the smaller the size of the island phases tends to be. The island phase size of the low-dielectric resin composition is preferably 15 μm or less, particularly preferably 10 μm or less, and more preferably 5 μm or less.
低誘電樹脂組成物は、液晶ポリマー(A)とグラフト変性ポリオレフィン(B)とを混合することにより製造される。
液晶ポリマー(A)とグラフト変性ポリオレフィン(B)とを混合する方法は特に限定されない。好ましい混合方法としては、一軸押出機や二軸押出機等の溶融混練装置を用いる方法が挙げられる。
液晶ポリマー(A)とグラフト変性ポリオレフィン(B)とを混合する条件は、液晶ポリマー(A)とグラフト変性ポリオレフィン(B)とを均一に混合でき、低誘電樹脂組成物に含まれる各成分が、過度に熱分解したり、昇華したりしない条件であれば特に限定されない。溶融混練装置を用いる場合、例えば、液晶ポリマー(A)の融点と、グラフト変性ポリオレフィン融点とのうちの高い方の融点よりも、好ましくは5℃以上100℃以下高い温度、より好ましくは10℃以上50℃以下高い温度で溶融混練が行われる。
The low-dielectric resin composition is produced by mixing the liquid crystal polymer (A) and the graft-modified polyolefin (B).
The method of mixing the liquid crystal polymer (A) and the graft-modified polyolefin (B) is not particularly limited. A preferred mixing method includes a method using a melt-kneading device such as a single-screw extruder or a twin-screw extruder.
The condition for mixing the liquid crystal polymer (A) and the graft-modified polyolefin (B) is that the liquid crystal polymer (A) and the graft-modified polyolefin (B) can be uniformly mixed, and each component contained in the low dielectric resin composition can be mixed. The condition is not particularly limited as long as it does not undergo excessive thermal decomposition or sublimation. When a melt-kneading device is used, for example, the temperature is preferably 5 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, more preferably 10 ° C. or higher, higher than the melting point of the liquid crystal polymer (A) and the melting point of the graft-modified polyolefin. Melting and kneading is performed at a temperature as high as 50 ° C. or lower.
低誘電樹脂組成物は、本発明の目的を阻害しない範囲で、液晶ポリマー(A)、及びグラフト変性ポリオレフィン(B)以外のその他の樹脂を含んでいてもよい。低誘電樹脂組成物に含まれる樹脂成分の全質量に対する、液晶ポリマー(A)の質量とグラフト変性ポリオレフィン(B)の質量との合計の割合は、典型的には、80質量%が好ましく、90質量%以上がより好ましく、95質量%以上がさらに好ましく、100質量%が特に好ましい。 The low-dielectric resin composition may contain other resins other than the liquid crystal polymer (A) and the graft-modified polyolefin (B) as long as the object of the present invention is not impaired. The total ratio of the mass of the liquid crystal polymer (A) and the mass of the graft-modified polyolefin (B) to the total mass of the resin component contained in the low dielectric resin composition is typically preferably 80% by mass, 90% by mass. By mass% or more is more preferable, 95% by mass or more is further preferable, and 100% by mass is particularly preferable.
その他の樹脂の例としては、グラフト変性されていないポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタレート等の非液晶性のポリエステル、ポリアミド、ポリエステルアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンエーテル、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、シリコーン樹脂、及びフッ素樹脂等が挙げられる。 Examples of other resins include ungrafted polyolefins, non-liquid polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyamides, polyesteramides, polyimides, polyamideimides, polycarbonates, polyacetals, polyphenylene sulfides, polyphenylene ethers, polysulfones. , Polyethersulfone, polyetherimide, silicone resin, fluororesin and the like.
低誘電樹脂組成物には、必要に応じて、無機充填剤を配合できる。無機充填剤としては、炭酸カルシウム、タルク、クレー、シリカ、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナ、モンモリロナイト、石膏、ガラスフレーク、ガラス繊維、ミルドガラス繊維、炭素繊維、アルミナ繊維、シリカアルミナ繊維、ホウ酸アルミニウムウィスカ、及びチタン酸カリウム繊維等が挙げられる。無機充填剤は、単独で使用されてもよく、2種以上を組み合わせて使用されてもよい。
これらの無機充填剤の使用量は、低誘電樹脂組成物の低誘電特性を損なわない範囲で、低誘電樹脂組成物の用途に応じて適宜決定される。例えば、低誘電樹脂組成物を用いてフィルムを形成する場合には、フィルムの機械強度を著しく損なわない範囲で、無機充填剤の使用量の上限が定められる。
An inorganic filler can be added to the low-dielectric resin composition, if necessary. Inorganic fillers include calcium carbonate, talc, clay, silica, magnesium carbonate, barium sulfate, titanium oxide, alumina, montmorillonite, gypsum, glass flakes, glass fibers, milled glass fibers, carbon fibers, alumina fibers, silica alumina fibers, Examples thereof include aluminum borate whisker and potassium titanate fiber. The inorganic filler may be used alone or in combination of two or more.
The amount of these inorganic fillers used is appropriately determined according to the application of the low-dielectric resin composition as long as the low-dielectric properties of the low-dielectric resin composition are not impaired. For example, when a film is formed using a low-dielectric resin composition, the upper limit of the amount of the inorganic filler used is set within a range that does not significantly impair the mechanical strength of the film.
低誘電樹脂組成物には、必要に応じて、さらに、有機充填剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、着色剤、防錆剤、架橋剤、発泡剤、蛍光剤、表面平滑剤、表面光沢改良剤、及び離型改良剤等の各種の添加剤を配合できる。
これらの添加剤は、単独で使用されてもよく、2種以上を組み合わせて使用されてもよい。
The low dielectric resin composition may further include organic fillers, antioxidants, heat stabilizers, light stabilizers, flame retardants, lubricants, antistatic agents, colorants, rust preventives, cross-linking agents, as required. Various additives such as a foaming agent, a fluorescent agent, a surface smoothing agent, a surface gloss improving agent, and a mold release improving agent can be blended.
These additives may be used alone or in combination of two or more.
以下、液晶ポリマー(A)、及びグラフト変性ポリオレフィン(B)について説明する。 Hereinafter, the liquid crystal polymer (A) and the graft-modified polyolefin (B) will be described.
<液晶ポリマー>
液晶ポリマーは、溶融時に光学的異方性を示すポリマーであって、当業者にサーモトロピック液晶ポリマーと認識されているポリマーを特に制限なく用いることができる。溶融時の光学的異方性は、直交偏光子を利用した慣用の偏光検査方法により確認することができる。
<Liquid crystal polymer>
The liquid crystal polymer is a polymer that exhibits optical anisotropy when melted, and a polymer recognized by those skilled in the art as a thermotropic liquid crystal polymer can be used without particular limitation. The optical anisotropy at the time of melting can be confirmed by a conventional polarization inspection method using an orthogonal polarizer.
液晶ポリマーは、典型的にはフェノール性水酸基を有するモノマーのアシル化物を含むモノマー混合物を重縮合することにより製造される。重縮合は、触媒の存在下に行われるのが好ましい。触媒の例としては、酢酸マグネシウム、酢酸第一錫、テトラブチルチタネート、酢酸鉛、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、三酸化アンチモン等の金属化合物や、1−メチルイミダゾール等の含窒素複素環式化合物が挙げられる。
触媒の使用量は、例えば、モノマー混合物(A)の量100質量部に対し、0.1質量部以下が好ましい。
The liquid crystal polymer is typically produced by polycondensing a monomer mixture containing an acylated product of a monomer having a phenolic hydroxyl group. The polycondensation is preferably carried out in the presence of a catalyst. Examples of the catalyst include metal compounds such as magnesium acetate, stannous acetate, tetrabutyl titanate, lead acetate, sodium acetate, potassium acetate and antimony trioxide, and nitrogen-containing heterocyclic compounds such as 1-methylimidazole. Be done.
The amount of the catalyst used is, for example, preferably 0.1 part by mass or less with respect to 100 parts by mass of the amount of the monomer mixture (A).
前述の通り、モノマー混合物は、フェノール性水酸基を有するモノマーのアシル化物を含むモノマーの混合物である。モノマー混合物は、テレフタル酸やイソフタル酸に代表される芳香族ジカルボン酸等のフェノール性水酸基を持たないモノマーを含んでいてもよい。 As described above, the monomer mixture is a mixture of monomers containing an acylated product of a monomer having a phenolic hydroxyl group. The monomer mixture may contain a monomer having no phenolic hydroxyl group such as an aromatic dicarboxylic acid typified by terephthalic acid or isophthalic acid.
モノマー混合物の調製方法としては、コストや製造時間の点で、フェノール性水酸基を有するモノマーを含むモノマー混合物をアシル化して、フェノール性水酸基を有するモノマーのアシル化物を含むモノマー混合物を得る方法が好ましい。 As a method for preparing the monomer mixture, a method of acylating a monomer mixture containing a monomer having a phenolic hydroxyl group to obtain a monomer mixture containing an acylated product of a monomer having a phenolic hydroxyl group is preferable in terms of cost and production time.
液晶ポリマーを構成する構成単位としては、芳香族オキシカルボニル単位、芳香族ジカルボニル単位、芳香族ジオキシ単位、芳香族アミノオキシ単位、芳香族ジアミノ単位、芳香族アミノカルボニル単位、及び脂肪族ジオキシ単位等が挙げられる。
なお、液晶ポリマー、エステル結合以外の結合として、アミド結合やチオエステル結合を含んでいてもよい。
Examples of the constituent units constituting the liquid crystal polymer include aromatic oxycarbonyl units, aromatic dicarbonyl units, aromatic dioxy units, aromatic aminooxy units, aromatic diamino units, aromatic aminocarbonyl units, and aliphatic dioxy units. Can be mentioned.
An amide bond or a thioester bond may be included as a bond other than the liquid crystal polymer and the ester bond.
芳香族オキシカルボニル単位は、芳香族ヒドロキシカルボン酸に由来する単位である。
芳香族ヒドロキシカルボン酸の好適な具体例としては、p−ヒドロキシ安息香酸、m−ヒドロキシ安息香酸、o−ヒドロキシ安息香酸、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、5−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、4’−ヒドロキシフェニル−4−安息香酸、3’−ヒドロキシフェニル−4−安息香酸、4’−ヒドロキシフェニル−3−安息香酸、これらのアルキル、アルコキシ又はハロゲン置換体が挙げられる。
芳香族ヒドロキシカルボン酸のエステル誘導体、酸ハロゲン化物等のエステル形成性誘導体も、芳香族ヒドロキシカルボン酸と同様に好適に使用できる。
得られる液晶ポリマーの機械的特性や融点を調整しやすいことから、これらの芳香族ヒドロキシカルボン酸の中では、p−ヒドロキシ安息香酸、及び6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸が好ましい。
The aromatic oxycarbonyl unit is a unit derived from an aromatic hydroxycarboxylic acid.
Preferable specific examples of the aromatic hydroxycarboxylic acid include p-hydroxybenzoic acid, m-hydroxybenzoic acid, o-hydroxybenzoic acid, 6-hydroxy-2-naphthoic acid, 5-hydroxy-2-naphthoic acid, 3 -Hydroxy-2-naphthoic acid, 4'-hydroxyphenyl-4-benzoic acid, 3'-hydroxyphenyl-4-benzoic acid, 4'-hydroxyphenyl-3-benzoic acid, alkyl, alkoxy or halogen substituents thereof Can be mentioned.
Ester derivatives of aromatic hydroxycarboxylic acids, ester-forming derivatives such as acid halides can also be preferably used in the same manner as aromatic hydroxycarboxylic acids.
Among these aromatic hydroxycarboxylic acids, p-hydroxybenzoic acid and 6-hydroxy-2-naphthoic acid are preferable because the mechanical properties and melting point of the obtained liquid crystal polymer can be easily adjusted.
芳香族ジカルボニル繰返し単位は、芳香族ジカルボン酸に由来する単位である。
芳香族ジカルボン酸の好適な具体例としては、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、及び4,4’−ジカルボキシビフェニル等の芳香族ジカルボン酸、これらのアルキル、アルコキシ又はハロゲン置換体が挙げられる。
芳香族ジカルボン酸のエステル誘導体、酸ハロゲン化物等のエステル形成性誘導体も、芳香族ジカルボン酸と同様に好適に使用できる。
得られる液晶ポリマーの機械物性、耐熱性、融点温度、成形性を適度なレベルに調整しやすいことから、これらの芳香族ジカルボン酸中ではテレフタル酸、及び2,6−ナフタレンジカルボン酸が好ましい。
The aromatic dicarbonyl repeating unit is a unit derived from an aromatic dicarboxylic acid.
Preferable specific examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, and the like. And aromatic dicarboxylic acids such as 4,4'-dicarboxybiphenyl, alkyl, alkoxy or halogen substituents thereof.
Ester derivatives of aromatic dicarboxylic acids, ester-forming derivatives such as acid halides can also be preferably used in the same manner as aromatic dicarboxylic acids.
Among these aromatic dicarboxylic acids, terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid are preferable because the mechanical properties, heat resistance, melting point temperature, and moldability of the obtained liquid crystal polymer can be easily adjusted to appropriate levels.
芳香族ジオキシ繰返し単位は、芳香族ジオールに由来する単位である。
芳香族ジオールの好適な具体例としては、ハイドロキノン、レゾルシン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、3,3’−ジヒドロキシビフェニル、3,4’−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−ジヒドロキシビフェニルエーテル、これらのアルキル、アルコキシ又はハロゲン置換体等が挙げられる。
重縮合時の反応性、及び得られる液晶ポリマーの特性等の点から、これらの芳香族ジオールの中ではハイドロキノン、レゾルシン、及び4,4’−ジヒドロキシビフェニルが好ましい。
Aromatic dioxy repeating units are units derived from aromatic diols.
Suitable specific examples of aromatic diols include hydroquinone, resorcinol, 2,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, and 4,4'-dihydroxybiphenyl. , 3,3'-Dihydroxybiphenyl, 3,4'-dihydroxybiphenyl, 4,4'-dihydroxybiphenyl ether, alkyl, alkoxy or halogen substituents thereof and the like.
Among these aromatic diols, hydroquinone, resorcin, and 4,4'-dihydroxybiphenyl are preferable from the viewpoint of reactivity at the time of polycondensation, characteristics of the obtained liquid crystal polymer, and the like.
芳香族アミノオキシ単位は、芳香族ヒドロキシアミンに由来する単位である。
芳香族ヒドロキシアミンの好適な具体例としては、p−アミノフェノール、m−アミノフェノール、4−アミノ−1−ナフトール、5−アミノ−1−ナフトール、8−アミノ−2−ナフトール、4−アミノ−4’−ヒドロキシビフェニル等の芳香族ヒドロキシアミン、これらのアルキル、アルコキシ又はハロゲン置換体等が挙げられる。
Aromatic aminooxy units are units derived from aromatic hydroxyamines.
Suitable specific examples of aromatic hydroxyamines include p-aminophenol, m-aminophenol, 4-amino-1-naphthol, 5-amino-1-naphthol, 8-amino-2-naphthol, 4-amino-. Aromatic hydroxyamines such as 4'-hydroxybiphenyl, alkyl, alkoxy or halogen substituents thereof and the like can be mentioned.
芳香族ジアミノ単位は、芳香族ジアミンに由来する単位である。
芳香族ジアミンの好適な具体例としては、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、1,5−ジアミノナフタレン、1,8−ジアミノナフタレン等の芳香族ジアミン、これらのアルキル、アルコキシ又はハロゲン置換体が挙げられる。
Aromatic diamino units are units derived from aromatic diamines.
Preferable specific examples of the aromatic diamine include aromatic diamines such as p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene and 1,8-diaminonaphthalene, and alkyl, alkoxy or halogen substituents thereof. Can be mentioned.
芳香族アミノカルボニル単位は、芳香族アミノカルボン酸に由来する単位である。
芳香族アミノカルボン酸の好適な具体例としては、p−アミノ安息香酸、m−アミノ安息香酸、6−アミノ−2−ナフトエ酸等の芳香族アミノカルボン酸、これらのアルキル、アルコキシ又はハロゲン置換体が挙げられる。
芳香族アミノカルボン酸のエステル誘導体、酸ハロゲン化物等のエステル形成性誘導体も液晶ポリマー製造用のモノマーとして好適に使用できる。
Aromatic aminocarbonyl units are units derived from aromatic aminocarboxylic acids.
Suitable specific examples of aromatic aminocarboxylic acids include aromatic aminocarboxylic acids such as p-aminobenzoic acid, m-aminobenzoic acid, 6-amino-2-naphthoic acid, and alkyl, alkoxy or halogen substituents thereof. Can be mentioned.
Ester derivatives of aromatic aminocarboxylic acids, ester-forming derivatives such as acid halides can also be suitably used as monomers for producing liquid crystal polymers.
脂肪族ジオキシ単位を与える単量体の具体例としては、例えばエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール等の脂肪族ジオール、ならびにそれらのアシル化物が挙げられる。
また、ポリエチレンテレフタレートや、ポリブチレンテレフタレート等の脂肪族ジオキシ単位を含有するポリマーを、前術の芳香族オキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸、芳香族ジオール、及びそれらのアシル化物、エステル誘導体、酸ハロゲン化物等と反応させることによっても、脂肪族ジオキシ単位を含む液晶ポリマーを得ることができる。
Specific examples of the monomer giving an aliphatic dioxy unit include aliphatic diols such as ethylene glycol, 1,4-butanediol, and 1,6-hexanediol, and acylates thereof.
In addition, a polymer containing an aliphatic dioxy unit such as polyethylene terephthalate or polybutylene terephthalate can be used as an aromatic oxycarboxylic acid, an aromatic dicarboxylic acid, an aromatic diol, and an acylated product, an ester derivative, or an acid halogen thereof. A liquid crystal polymer containing an aliphatic dioxy unit can also be obtained by reacting with a compound or the like.
液晶ポリマーは、チオエステル結合を含むものであってもよい。このような結合を与える単量体としては、メルカプト芳香族カルボン酸、芳香族ジチオール、及びヒドロキシ芳香族チオール等が挙げられる。
これらの単量体の使用量は、芳香族オキシカルボニル繰返し単位、芳香族ジカルボニル繰返し単位、芳香族ジオキシ繰返し単位、芳香族アミノオキシ繰返し単位、芳香族ジアミノ繰返し単位、芳香族アミノカルボニル繰り返し単位、芳香族オキシジカルボニル繰返し単位、及び脂肪族ジオキシ繰返し単位を与える単量体の合計量に対して10モル%以下であるのが好ましい。
The liquid crystal polymer may contain a thioester bond. Examples of the monomer giving such a bond include mercapto aromatic carboxylic acid, aromatic dithiol, hydroxyaromatic thiol and the like.
The amounts of these monomers used are aromatic oxycarbonyl repeating units, aromatic dicarbonyl repeating units, aromatic dioxy repeating units, aromatic aminooxy repeating units, aromatic diamino repeating units, aromatic aminocarbonyl repeating units, It is preferably 10 mol% or less based on the total amount of the aromatic oxydicarbonyl repeating unit and the monomer giving the aliphatic dioxy repeating unit.
液晶ポリマーの好適な例としては、以下の1)〜26)等が挙げられる。
1)4−ヒドロキシ安息香酸/2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸共重合体
2)4−ヒドロキシ安息香酸/テレフタル酸/4,4’−ジヒドロキシビフェニル共重合体
3)4−ヒドロキシ安息香酸/テレフタル酸/イソフタル酸/4,4’−ジヒドロキシビフェニル共重合体
4)4−ヒドロキシ安息香酸/テレフタル酸/イソフタル酸/4,4’−ジヒドロキシビフェニル/ハイドロキノン共重合体
5)4−ヒドロキシ安息香酸/テレフタル酸/ハイドロキノン共重合体
6)4−ヒドロキシ安息香酸/テレフタル酸/4,4’−ジヒドロキシビフェニル/ハイドロキノン共重合体
7)2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸/テレフタル酸/ハイドロキノン共重合体
8)4−ヒドロキシ安息香酸/2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸/テレフタル酸/4,4’−ジヒドロキシビフェニル共重合体
9)2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸/テレフタル酸/4,4’−ジヒドロキシビフェニル共重合体
10)4−ヒドロキシ安息香酸/2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸/テレフタル酸/ハイドロキノン共重合体
11)4−ヒドロキシ安息香酸/2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸/テレフタル酸/ハイドロキノン/4,4’−ジヒドロキシビフェニル共重合体
12)4−ヒドロキシ安息香酸/2,6−ナフタレンジカルボン酸/4,4’−ジヒドロキシビフェニル共重合体
13)4−ヒドロキシ安息香酸/テレフタル酸/2,6−ナフタレンジカルボン酸/ハイドロキノン共重合体
14)4−ヒドロキシ安息香酸/2,6−ナフタレンジカルボン酸/ハイドロキノン共重合体
15)4−ヒドロキシ安息香酸/2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸/2,6−ナフタレンジカルボン酸/ハイドロキノン共重合体
16)4−ヒドロキシ安息香酸/テレフタル酸/2,6−ナフタレンジカルボン酸/ハイドロキノン/4,4’−ジヒドロキシビフェニル共重合体
17)4−ヒドロキシ安息香酸/テレフタル酸/4−アミノフェノール共重合体
18)2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸/テレフタル酸/4−アミノフェノール共重合体
19)4−ヒドロキシ安息香酸/2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸/テレフタル酸/4−アミノフェノール共重合体
20)4−ヒドロキシ安息香酸/テレフタル酸/4,4’−ジヒドロキシビフェニル/4−アミノフェノール共重合体
21)4−ヒドロキシ安息香酸/テレフタル酸/エチレングリコール共重合体
22)4−ヒドロキシ安息香酸/テレフタル酸/4,4’−ジヒドロキシビフェニル/エチレングリコール共重合体
23)4−ヒドロキシ安息香酸/2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸/テレフタル酸/エチレングリコール共重合体
24)4−ヒドロキシ安息香酸/2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸/テレフタル酸/4,4’−ジヒドロキシビフェニル/エチレングリコール共重合体
25)4−ヒドロキシ安息香酸/テレフタル酸/2,6−ナフタレンジカルボン酸/4,4’−ジヒドロキシビフェニル共重合体
26)2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸/2,6−ナフタレンジカルボン酸/4,4’−ジヒドロキシビフェニル/ハイドロキノン共重合体。
液晶ポリマーは、より好ましくは全芳香族液晶ポリマー、すなわちエチレンジオキシ単位等の脂肪族系単位不含のポリマーである。全芳香族液晶ポリマーを成分とすることにより、低誘電樹脂組成物はより耐熱性に優れるものとなる。
Preferable examples of the liquid crystal polymer include the following 1) to 26) and the like.
1) 4-Hydroxybenzoic acid / 2-hydroxy-6-naphthoic acid copolymer 2) 4-hydroxybenzoic acid / terephthalic acid / 4,4'-dihydroxybiphenyl copolymer 3) 4-hydroxybenzoic acid / terephthalic acid / Isophthalic acid / 4,4'-dihydroxybiphenyl copolymer 4) 4-hydroxybenzoic acid / terephthalic acid / isophthalic acid / 4,4'-dihydroxybiphenyl / hydroquinone copolymer 5) 4-hydroxybenzoic acid / terephthalic acid / Hydroquinone copolymer 6) 4-hydroxybenzoic acid / terephthalic acid / 4,4'-dihydroxybiphenyl / hydroquinone copolymer 7) 2-hydroxy-6-naphthoic acid / terephthalic acid / hydroquinone copolymer 8) 4- Hydroxybenzoic acid / 2-hydroxy-6-naphthic acid / terephthalic acid / 4,4'-dihydroxybiphenyl copolymer 9) 2-hydroxy-6-naphthoic acid / terephthalic acid / 4,4'-dihydroxybiphenyl copolymer 10) 4-Hydroxybenzoic acid / 2-hydroxy-6-naphthoic acid / terephthalic acid / hydroquinone copolymer 11) 4-hydroxybenzoic acid / 2-hydroxy-6-naphthoic acid / terephthalic acid / hydroquinone / 4,4' -Dihydroxybiphenyl copolymer 12) 4-hydroxybenzoic acid / 2,6-naphthalenedicarboxylic acid / 4,4'-dihydroxybiphenyl copolymer 13) 4-hydroxybenzoic acid / terephthalic acid / 2,6-naphthalenedicarboxylic acid / Hydroquinone copolymer 14) 4-hydroxybenzoic acid / 2,6-naphthalenedicarboxylic acid / Hydroquinone copolymer 15) 4-hydroxybenzoic acid / 2-hydroxy-6-naphthoic acid / 2,6-naphthalenedicarboxylic acid / Hydroquinone copolymer 16) 4-hydroxybenzoic acid / terephthalic acid / 2,6-naphthalenedicarboxylic acid / hydroquinone / 4,4'-dihydroxybiphenyl copolymer 17) 4-hydroxybenzoic acid / terephthalic acid / 4-aminophenol Copolymer 18) 2-Hydroxy-6-naphthoic acid / terephthalic acid / 4-aminophenol copolymer 19) 4-hydroxybenzoic acid / 2-hydroxy-6-naphthoic acid / terephthalic acid / 4-aminophenol co-weight Combined 20) 4-hydroxybenzoic acid / terephthalic acid / 4,4'-dihydroxybiphenyl / 4-aminophenol copolymer 21) 4-hydroxybenzoic acid / terephthalic acid / ethylene glycol copolymer 22) 4-hi Droxybenzoic acid / terephthalic acid / 4,4'-dihydroxybiphenyl / ethylene glycol copolymer 23) 4-hydroxybenzoic acid / 2-hydroxy-6-naphthoic acid / terephthalic acid / ethylene glycol copolymer 24) 4-hydroxy Benzoic acid / 2-hydroxy-6-naphthic acid / terephthalic acid / 4,4'-dihydroxybiphenyl / ethylene glycol copolymer 25) 4-hydroxybenzoic acid / terephthalic acid / 2,6-naphthalenedicarboxylic acid / 4,4 '-Dihydroxybiphenyl copolymer 26) 2-Hydroxy-6-naphthoic acid / 2,6-naphthalenedicarboxylic acid / 4,4'-dihydroxybiphenyl / hydroquinone copolymer.
The liquid crystal polymer is more preferably a total aromatic liquid crystal polymer, that is, a polymer containing no aliphatic unit such as ethylenedioxy unit. By using the all-aromatic liquid crystal polymer as a component, the low-dielectric resin composition becomes more excellent in heat resistance.
前述の通り、フェノール性水酸基を有するモノマーを含むモノマー混合物をアシル化して、フェノール性水酸基を有するモノマーのアシル化物を含むモノマー混合物を得るのが好ましい。アシル化は、フェノール性水酸基と、脂肪酸無水物とを反応させることにより行われるのが好ましい。脂肪酸無水物としては、例えば、無水酢酸、及び無水プロピオン酸等を用いることができる。価格と取り扱い性の点から、無水酢酸が好ましく使用される。 As described above, it is preferable to acylate a monomer mixture containing a monomer having a phenolic hydroxyl group to obtain a monomer mixture containing an acylated product of a monomer having a phenolic hydroxyl group. Acylation is preferably carried out by reacting a phenolic hydroxyl group with a fatty acid anhydride. As the fatty acid anhydride, for example, acetic anhydride, propionic anhydride and the like can be used. Acetic anhydride is preferably used from the viewpoint of price and handleability.
脂肪酸無水物の使用量は、フェノール性水酸基の量に対して、1.0倍当量以上1.15倍当量以下が好ましく、1.03倍当量以上1.10倍当量以下がより好ましい。 The amount of the fatty acid anhydride used is preferably 1.0 times or more and 1.15 times or less, and more preferably 1.03 times or more and 1.10 times or less with respect to the amount of phenolic hydroxyl groups.
フェノール性水酸基を有するモノマーを含むモノマー混合物と、上記の脂肪酸無水物とを混合して加熱することによりアシル化して、フェノール性水酸基を有するモノマーのアシル化物を含むモノマー混合物が得られる。 A monomer mixture containing a monomer having a phenolic hydroxyl group and the above-mentioned fatty acid anhydride are mixed and acylated by heating to obtain a monomer mixture containing an acylated product of a monomer having a phenolic hydroxyl group.
以上のようにして得られたフェノール性水酸基を有するモノマーのアシル化物を含むモノマー混合物を加熱するとともに、重縮合により副生する脂肪酸を留去することにより液晶ポリマーが得られる。
溶融重縮合のみにより液晶ポリマーを製造する場合、溶融重縮合の温度は、150℃以上400℃以下が好ましく、250℃以上370℃以下が好ましい。
溶融重縮合と、後述する固相重合との二段階で液晶ポリマーを製造する場合、溶融重縮合の温度は120℃以上350℃以下が好ましく、200℃以上300℃以下が好ましい。重縮合反応の時間は、所望する融点、又は所望する分子量の液晶ポリマーが得られる限り特に限定されない。例えば、重縮合の反応時間としては30分以上5時間以下が好ましい。
上記方法により製造される液晶ポリマーは、必要に応じて、さらに高分子量化するために、固化された状態(固相)で加熱する重縮合に供されてもよい。
A liquid crystal polymer can be obtained by heating the monomer mixture containing the acylated product of the monomer having a phenolic hydroxyl group obtained as described above and distilling off the fatty acid produced as a by-product by polycondensation.
When a liquid crystal polymer is produced only by melt polycondensation, the temperature of melt polycondensation is preferably 150 ° C. or higher and 400 ° C. or lower, and preferably 250 ° C. or higher and 370 ° C. or lower.
When a liquid crystal polymer is produced in two steps of melt polycondensation and solid phase polymerization described later, the temperature of melt polycondensation is preferably 120 ° C. or higher and 350 ° C. or lower, and preferably 200 ° C. or higher and 300 ° C. or lower. The time of the polycondensation reaction is not particularly limited as long as a liquid crystal polymer having a desired melting point or a desired molecular weight can be obtained. For example, the reaction time of polycondensation is preferably 30 minutes or more and 5 hours or less.
If necessary, the liquid crystal polymer produced by the above method may be subjected to polycondensation by heating in a solidified state (solid phase) in order to further increase the molecular weight.
上記方法により、液晶ポリマー(A)が得られる。液晶ポリマー(A)の融点は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。液晶ポリマー(A)の融点は、250℃以上が好ましく、280℃以上がより好ましい。他方、加工性の観点や、低誘電樹脂組成物製造時のグラフト変性ポリオレフィン(B)の分解の抑制の点等から、液晶ポリマー(A)の融点は、400℃以下が好ましく、350℃以下がより好ましい。
なお、液晶ポリマー(A)の融点は、例えば、示差走査熱量計(Differential scanning calorimeter、以下DSCと略す)によって、昇温速度20℃/minで測定した際の結晶融解ピークから求めた温度である。より具体的には、液晶ポリマーの試料を、室温から20℃/分の昇温条件で測定した際に観測される吸熱ピーク温度(Tm1)の観測後、Tm1より20℃以上50℃以下高い温度で10分間保持し、次いで、20℃/分の降温条件で室温まで試料を冷却した後に、再度20℃/分の昇温条件で測定した際の吸熱ピークを観測し、そのピークトップを示す温度を液晶ポリマーの融点とする。測定用機器としては、例えば、TA Instruments社製DSC Q1000等を使用することができる。
The liquid crystal polymer (A) is obtained by the above method. The melting point of the liquid crystal polymer (A) is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. The melting point of the liquid crystal polymer (A) is preferably 250 ° C. or higher, more preferably 280 ° C. or higher. On the other hand, the melting point of the liquid crystal polymer (A) is preferably 400 ° C. or lower, preferably 350 ° C. or lower, from the viewpoint of processability and the suppression of decomposition of the graft-modified polyolefin (B) during the production of the low-dielectric resin composition. More preferred.
The melting point of the liquid crystal polymer (A) is, for example, the temperature obtained from the crystal melting peak measured at a heating rate of 20 ° C./min by a differential scanning calorimetry (hereinafter abbreviated as DSC). .. More specifically, after observing the heat absorption peak temperature (Tm1) observed when the liquid crystal polymer sample is measured at a temperature rising condition of 20 ° C./min from room temperature, the temperature is 20 ° C. or higher and 50 ° C. or lower higher than Tm1. Then, after cooling the sample to room temperature under the temperature lowering condition of 20 ° C./min for 10 minutes, the heat absorption peak when measured again under the temperature rising condition of 20 ° C./min was observed, and the temperature indicating the peak top was observed. Is the melting point of the liquid crystal polymer. As the measuring device, for example, DSC Q1000 manufactured by TA Instruments can be used.
<グラフト変性ポリオレフィン(B)>
グラフト変性ポリオレフィンは、ポリオレフィンがグラフト変性された樹脂であって、極性基を有する樹脂であれば特に限定されない。複数種の変性ポリオレフィンを併用することもできる。
ここで極性基とは、極性のある原子団のことで,この基が有機化合物中に存在すると,その化合物が極性をもつ基のことである。グラフトによりポリオレフィンに導入され得る極性基の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、テトラヒドロフタル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、及びイソクロトン酸等の不飽和カルボン酸に由来するカルボキシ基;酸無水物、酸ハライド、アミド、イミド、及びエステル(例えばメチル(メタ)アクリレートやエチル(メタ)アクリレート)等の前述の不飽和カルボン酸の誘導体に由来する酸無水物基、ハロカルボニル基、カルボン酸アミド基、イミド基、及びカルボン酸エステル基;メタクリル酸グリシジル、アクリル酸グリシジル、マレイン酸モノグリシジル、マレイン酸ジグリシジル、イタコン酸モノグリシジル、イタコン酸ジグリシジル、アリルコハク酸モノグリシジル、アリルコハク酸ジグリシジル、p−スチレンカルボン酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、メタクリルグリシジルエーテル、スチレン−p−グリシジルエーテル、p−グリシジルスチレン、3,4−エポキシ−1−ブテン、3,4−エポキシ−3−メチル−1−ブテン、及びビニルシクロヘキセンモノオキシド等のエポキシ基含有ビニル単量体に由来するエポキシ基等が挙げられる。これらの極性基の中では、好ましい相状態の低誘電樹脂組成物を得やすいことや、低誘電樹脂組成物を他の材料と接触させて用いる場合に、低誘電樹脂組成物と他の材料との密着性が良好であること等からエポキシ基を含有することが好ましい。
エポキシ基は、フェノール性水酸基やカルボキシ基等の液晶ポリマー(A)が有する官能基と反応し得る。このため、極性基としてエポキシ基を有するグラフト変性ポリオレフィン(B)と、液晶ポリマー(A)とは、低誘電樹脂組成物中において適度に親和し、例えば、海島構造のような好ましい相構造を容易に形成し得る。
<Graft-modified polyolefin (B)>
The graft-modified polyolefin is a resin in which the polyolefin is graft-modified and is not particularly limited as long as it is a resin having a polar group. Multiple types of modified polyolefins can also be used in combination.
Here, the polar group is a polar atomic group, and when this group is present in an organic compound, the compound is a polar group. Specific examples of polar groups that can be introduced into polyolefins by grafting include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, tetrahydrophthalic acid, itaconic acid, citraconic acid, crotonic acid, and isocrotonic acid. Derived carboxy groups; acid anhydride groups derived from derivatives of the aforementioned unsaturated carboxylic acids such as acid anhydrides, acid halides, amides, imides, and esters (eg, methyl (meth) acrylate and ethyl (meth) acrylate). Halocarbonyl group, carboxylic acid amide group, imide group, and carboxylic acid ester group; glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, monoglycidyl maleate, diglycidyl maleate, monoglycidyl itaconate, diglycidyl itaconate, monoglycidyl allyl succinate, allyl succil Diglycidyl acid, glycidyl p-styrene carboxylate, allyl glycidyl ether, methacryl glycidyl ether, styrene-p-glycidyl ether, p-glycidyl styrene, 3,4-epoxy-1-butene, 3,4-epoxy-3-methyl- Examples thereof include 1-butene and an epoxy group derived from an epoxy group-containing vinyl monomer such as vinylcyclohexene monooxide. Among these polar groups, it is easy to obtain a low-dielectric resin composition in a preferable phase state, and when the low-dielectric resin composition is used in contact with another material, the low-dielectric resin composition and the other material are used. It is preferable to contain an epoxy group because the adhesiveness of the resin is good.
The epoxy group can react with a functional group of the liquid crystal polymer (A) such as a phenolic hydroxyl group or a carboxy group. Therefore, the graft-modified polyolefin (B) having an epoxy group as a polar group and the liquid crystal polymer (A) have an appropriate affinity in the low-dielectric resin composition, facilitating a preferable phase structure such as a sea-island structure. Can be formed into.
グラフト変性ポリオレフィン(B)は、主鎖から分枝した箇所に極性基を有しているので、ポリオレフィン系のランダム共重合体やブロック共重合体とは異なる効果を発現する。後記する実施例・比較例でも示すように、極性基を有するグラフト変性ポリオレフィンを含む低誘電樹脂組成物は、同様の極性基を有するモノマーが共重合されたポリオレフィン系樹脂を含む組成物に比べ、誘電正接が有意に低い。また、分枝部を介して液晶ポリマーと相溶するので、極性基による変性量を大きくする必要がない。一般に、変性ポリオレフィンは極性基による変性量が大きいほど耐熱性が低くなる。しかし、グラフト変性ポリオレフィン(B)によれば少量の変性量で液晶ポリマーとの相溶性が発現する。このため、グラフト変性ポリオレフィン(B)を用いると、耐熱性を犠牲にすることなく低誘電樹脂組成物に良好な低誘電特性と溶融加工性を付すことができる。 Since the graft-modified polyolefin (B) has a polar group at a portion branched from the main chain, it exhibits an effect different from that of a polyolefin-based random copolymer or block copolymer. As will be shown in Examples and Comparative Examples described later, the low-dielectric resin composition containing a graft-modified polyolefin having a polar group is compared with the composition containing a polyolefin-based resin in which a monomer having a similar polar group is copolymerized. The dielectric loss tangent is significantly low. Further, since it is compatible with the liquid crystal polymer via the branch portion, it is not necessary to increase the amount of modification by the polar group. In general, the larger the amount of modification of a modified polyolefin due to a polar group, the lower the heat resistance. However, according to the graft-modified polyolefin (B), compatibility with the liquid crystal polymer is exhibited with a small amount of modification. Therefore, when the graft-modified polyolefin (B) is used, it is possible to impart good low-dielectric properties and melt processability to the low-dielectric resin composition without sacrificing heat resistance.
グラフト変性ポリオレフィン(B)中の極性基の量(変性量)に特に制限はない。液晶ポリマー(A)の化学構造や低誘電樹脂組成物の使用目的に応じて、種々の変性量のグラフト変性ポリオレフィン(B)を用いることができる。しかしながら、極性基含有単位の量が、グラフト変性ポリオレフィン(B)全体に対して0.01質量%以上5質量%以下、さらには0.05以上3質量%以下、特に0.1質量%以上2質量%以下であると、低誘電樹脂組成物により良好な耐熱性及び溶融加工性を付すことができ、好ましい。特に、極性基がエポキシ基である場合、グラフト変性ポリオレフィン(B)のエポキシ価は、好ましくは0.01〜5質量%、より好ましくは0.05質量%以上3質量%以下、特に好ましくは0.1〜2質量%であるのが望ましい。 The amount of polar groups (modified amount) in the graft-modified polyolefin (B) is not particularly limited. Various modified amounts of the graft-modified polyolefin (B) can be used depending on the chemical structure of the liquid crystal polymer (A) and the intended use of the low-dielectric resin composition. However, the amount of the polar group-containing unit is 0.01% by mass or more and 5% by mass or less, and further 0.05 or more and 3% by mass or less, particularly 0.1% by mass or more 2 with respect to the entire graft-modified polyolefin (B). When it is mass% or less, good heat resistance and melt processability can be imparted to the low-dielectric resin composition, which is preferable. In particular, when the polar group is an epoxy group, the epoxy value of the graft-modified polyolefin (B) is preferably 0.01 to 5% by mass, more preferably 0.05% by mass or more and 3% by mass or less, and particularly preferably 0. .1 to 2% by mass is desirable.
典型的には、グラフト変性ポリオレフィン(B)は、ポリオレフィンが、ラジカル重合開始剤の存在下で、極性基を有するビニル単量体でグラフト変性された樹脂である。
グラフト変性ポリオレフィン(B)は、極性基を有するビニル単量体、及び芳香族ビニル単量体によりグラフト変性されたポリオレフィンであるのが好ましく、グリシジル(メタ)アクリレートと、スチレンとによってグラフト変性されたポリオレフィンであるのがより好ましい。
Typically, the graft-modified polyolefin (B) is a resin in which the polyolefin is graft-modified with a vinyl monomer having a polar group in the presence of a radical polymerization initiator.
The graft-modified polyolefin (B) is preferably a polyolefin graft-modified with a vinyl monomer having a polar group and an aromatic vinyl monomer, and is graft-modified with glycidyl (meth) acrylate and styrene. More preferably, it is a polyolefin.
ポリオレフィンとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ−1−ブテン、ポリイソブチレン、ポリメチルペンテン、プロピレン−エチレン共重合体、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体、エチレン/ブテン−1共重合体、及びエチレン/オクテン共重合体等の鎖状ポリオレフィン;シクロペンタジエンとエチレン及び/又はプロピレンとの共重合体等の環状ポリオレフィンが挙げられる。 Examples of the polyolefin include polyethylene, polypropylene, poly-1-butene, polyisobutylene, polymethylpentene, propylene-ethylene copolymer, ethylene-propylene-diene copolymer, ethylene / butene-1 copolymer, and ethylene. / Chain polyolefins such as octene copolymers; cyclic polyolefins such as copolymers of cyclopentadiene with ethylene and / or propylene.
これらのポリオレフィンの中でも、変性反応が容易であることから、ポリメチルペンテン、ポリエチレン、ポリプロピレン、及びプロピレン−エチレン共重合体が好ましく、耐熱性及び低誘電特性の点から、ポリメチルペンテンがより好ましい。 Among these polyolefins, polymethylpentene, polyethylene, polypropylene, and propylene-ethylene copolymers are preferable because the modification reaction is easy, and polymethylpentene is more preferable from the viewpoint of heat resistance and low dielectric properties.
ポリオレフィンをグラフト変性する際に使用し得るラジカル重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、及びメチルアセトアセテートパーオキサイド等のケトンパーオキサイド;1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、n−ブチル−4,4−ビス(tert−ブチルパーオキシ)バレレート、及び2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ブタン等のパーオキシケタール;パーメタンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、及びクメンハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド;ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、α,α’−ビス(tert−ブチルパーオキシ−m−イソプロピル)ベンゼン、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、及び2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3等のジアルキルパーオキサイド;ベンゾイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド;ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、及びジ−2−メトキシブチルパーオキシジカーボネート等のパーオキシジカーボネート、tert−ブチルパーオキシオクテート、tert−ブチルパーオキシイソブチレート、tert−ブチルパーオキシラウレート、tert−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、tert−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシベンゾエート、及びジ−tert−ブチルパーオキシイソフタレート等のパーオキシエステル等が挙げられる。上記のラジカル重合開始剤は、単独又は2種以上を混合して用いることができる。 Examples of radical polymerization initiators that can be used for graft modification of polyolefins include ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide and methyl acetoacetate peroxide; 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3, 3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butylperoxy) cyclohexane, n-butyl-4,4-bis (tert-butylperoxy) valerate, and 2,2-bis (tert-butylperoxy). Oxy) Peroxyketal such as butane; hydroperoxides such as permethanehydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutylhydroperoxide, diisopropylbenzenehydroperoxide, and cumenehydroperoxide; dicumylper Oxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, α, α'-bis (tert-butylperoxy-m-isopropyl) benzene, tert-butylcumyl peroxide, di- Dialkyl peroxides such as tert-butyl peroxide and 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexin-3; diacyl peroxides such as benzoyl peroxide; di (3-methyl-3). −methoxybutyl) peroxydicarbonate, and peroxydicarbonate such as di-2-methoxybutylperoxydicarbonate, tert-butylperoxyoctate, tert-butylperoxyisobutyrate, tert-butylperoxylau Rate, tert-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, tert-butylperoxyisopropyl carbonate, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, tert-butylperoxy Examples thereof include acetate, tert-butylperoxybenzoate, and peroxyesters such as di-tert-butylperoxyisophthalate. The above radical polymerization initiator can be used alone or in combination of two or more.
ラジカル重合開始剤の使用量は、グラフト変性反応が良好に進行する限り特に限定されない。ラジカル重合開始剤の使用量は、ポリオレフィン100質量部に対して、0.01質量部以上10質量部以下が好ましく、0.2質量部以上5質量部以下がより好ましい。 The amount of the radical polymerization initiator used is not particularly limited as long as the graft modification reaction proceeds well. The amount of the radical polymerization initiator used is preferably 0.01 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, and more preferably 0.2 parts by mass or more and 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polyolefin.
グラフト変性に使用され得る極性基を有するビニル単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、テトラヒドロフタル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、及びイソクロトン酸等の不飽和カルボン酸;酸無水物、酸ハライド、アミド、イミド、及びエステル等のこれらの不飽和カルボン酸の誘導体;メタクリル酸グリシジル、アクリル酸グリシジル、マレイン酸モノグリシジル、マレイン酸ジグリシジル、イタコン酸モノグリシジル、イタコン酸ジグリシジル、アリルコハク酸モノグリシジル、アリルコハク酸ジグリシジル、p−スチレンカルボン酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、メタクリルグリシジルエーテル、スチレン−p−グリシジルエーテル、p−グリシジルスチレン、3,4−エポキシ−1−ブテン、3,4−エポキシ−3−メチル−1−ブテン、及びビニルシクロヘキセンモノオキシド等のエポキシ基含有ビニル単量体が挙げられる。
これらの中でも、エポキシ基含有ビニル単量体が好ましく、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸グリシジルがより好ましく、メタクリル酸グリシジルが特に好ましい。
上記の極性基を有するビニル単量体は、単独又は2種以上を混合して用いることができる。
The vinyl monomer having a polar group that can be used for graft modification includes unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, tetrahydrophthalic acid, itaconic acid, citraconic acid, crotonic acid, and isocrotonic acid. Acids; derivatives of these unsaturated carboxylic acids such as acid anhydrides, acid halides, amides, imides, and esters; glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, monoglycidyl maleate, diglycidyl maleate, monoglycidyl itaconate, itaconic acid. Diglycidyl, monoglycidyl allyl succinate, diglycidyl allyl succinate, glycidyl p-styrene carboxylate, allyl glycidyl ether, methacryl glycidyl ether, styrene-p-glycidyl ether, p-glycidyl styrene, 3,4-epoxy-1-butene, 3, Examples thereof include 4-epoxy-3-methyl-1-butene and epoxy group-containing vinyl monomers such as vinylcyclohexene monooxide.
Among these, an epoxy group-containing vinyl monomer is preferable, glycidyl methacrylate and glycidyl acrylate are more preferable, and glycidyl methacrylate is particularly preferable.
The vinyl monomer having the above polar groups can be used alone or in combination of two or more.
ポリオレフィンのグラフト変性に使用される極性基を有するビニル単量体の添加量は、ポリオレフィン100質量部に対して、0.1質量部以上12質量部以下が好ましく、0.2質量部以上10質量部以下がより好ましく、0.3質量部以上5質量部以下が特に好ましい。
かかる範囲内の量の極性基を有するビニル単量体を用いて変性されたポリオレフィンを用いることで、好ましい相状態であり、所望する低誘電特性を示す低誘電樹脂組成物を得やすい。
The amount of the vinyl monomer having a polar group used for the graft modification of the polyolefin is preferably 0.1 part by mass or more and 12 parts by mass or less, and 0.2 parts by mass or more and 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyolefin. The amount is more preferably 0.3 parts by mass or more, and particularly preferably 0.3 parts by mass or more and 5 parts by mass or less.
By using a polyolefin modified with a vinyl monomer having a polar group in an amount within such a range, it is easy to obtain a low-dielectric resin composition which is in a preferable phase state and exhibits a desired low-dielectric property.
前述の通りグラフト変性ポリオレフィン(B)は、極性基を有するビニル単量体、及び芳香族ビニル単量体によりグラフト変性されたポリオレフィンであるのが好ましい。
極性基を有するビニル単量体と、芳香族ビニル単量体とを併用することにより、グラフト反応が安定化することによって、極性基を有するビニル単量体を所望する量グラフトさせやすいためである。
As described above, the graft-modified polyolefin (B) is preferably a vinyl monomer having a polar group and a polyolefin graft-modified with an aromatic vinyl monomer.
This is because the combined use of the vinyl monomer having a polar group and the aromatic vinyl monomer stabilizes the graft reaction, so that the vinyl monomer having a polar group can be easily grafted in a desired amount. ..
芳香族ビニル単量体の具体例としては、スチレン;o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、α−メチルスチレン、β−メチルスチレン、ジメチルスチレン、及びトリメチルスチレン等のアルキルスチレン類;o−クロロスチレン、m−クロロスチレン、p−クロロスチレン、α−クロロスチレン、β−クロロスチレン、ジクロロスチレン、及びトリクロロスチレン等のクロロスチレン類;o−ブロモスチレン、m−ブロモスチレン、p−ブロモスチレン、ジブロモスチレン、及びトリブロモスチレン等のブロモスチレン類;o−フルオロスチレン、m−フルオロスチレン、p−フルオロスチレン、ジフルオロスチレン、及びトリフルオロスチレン等のフルオロスチレン類;o−ニトロスチレン、m−ニトロスチレン、p−ニトロスチレン、ジニトロスチレン、及びトリニトロスチレン等のニトロスチレン類;o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、ジヒドロキシスチレン、及びトリヒドロキシスチレン等のヒドロキシスチレン類;o−ジビニルベンゼン、m−ジビニルベンゼン、p−ジビニルベンゼン、o−ジイソプロペニルベンゼン、m−ジイソプロペニルベンゼン、及びp−ジイソプロペニルベンゼン等のジアルケニルベンゼン類等が挙げられる。
これら芳香族ビニル単量体の中でも、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、o−ジビニルベンゼン、m−ジビニルベンゼン、p−ジビニルベンゼン、又はジビニルベンゼン異性体混合物が、安価な点で好ましく、特にスチレンが好ましい。
芳香族ビニル単量体は、単独又は2種以上を混合して用いることができる。
Specific examples of aromatic vinyl monomers include styrene; alkylstyrenes such as o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, α-methylstyrene, β-methylstyrene, dimethylstyrene, and trimethylstyrene. Chlorostyrenes such as o-chlorostyrene, m-chlorostyrene, p-chlorostyrene, α-chlorostyrene, β-chlorostyrene, dichlorostyrene, and trichlorostyrene; o-bromostyrene, m-bromostyrene, p- Bromostyrenes such as bromostyrene, dibromostyrene, and tribromostyrene; fluorostyrenes such as o-fluorostyrene, m-fluorostyrene, p-fluorostyrene, difluorostyrene, and trifluorostyrene; o-nitrostyrene, m. Nitrostyrenes such as-nitrostyrene, p-nitrostyrene, dinitrostyrene, and trinitrostyrene; hydroxystyrenes such as o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, dihydroxystyrene, and trihydroxystyrene; Examples thereof include dialkenylbenzenes such as o-divinylbenzene, m-divinylbenzene, p-divinylbenzene, o-diisopropenylbenzene, m-diisopropenylbenzene, and p-diisopropenylbenzene.
Among these aromatic vinyl monomers, styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, o-divinylbenzene, m-divinylbenzene, p-divinylbenzene, or a mixture of divinylbenzene isomers is preferable in terms of low cost. , Especially styrene is preferable.
The aromatic vinyl monomer can be used alone or in combination of two or more.
ポリオレフィンのグラフト変性に使用される極性基を有する芳香族ビニル単量体の量は、ポリオレフィン100質量部に対して、0.1質量部以上12質量部以下が好ましく、0.2質量部以上10質量部以下がより好ましく、0.3質量部以上5質量部以下が特に好ましい。 The amount of the aromatic vinyl monomer having a polar group used for the graft modification of the polyolefin is preferably 0.1 part by mass or more and 12 parts by mass or less, and 0.2 parts by mass or more and 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyolefin. It is more preferably parts by mass or less, and particularly preferably 0.3 parts by mass or more and 5 parts by mass or less.
以上説明した低誘電樹脂組成物は、射出成形、押出成形、ブロー成形等の公知の種々の製造方法により種々の成形品に加工される。
以上説明した低誘電樹脂組成物は、高周波帯域における低誘電特性に優れるため、好ましくはフィルムに加工され、当該フィルムを用いて伝送損失の少ないフレキシブルプリント配線板が製造される。
The low-dielectric resin composition described above is processed into various molded products by various known manufacturing methods such as injection molding, extrusion molding, and blow molding.
Since the low-dielectric resin composition described above is excellent in low-dielectric properties in the high-frequency band, it is preferably processed into a film, and the film is used to produce a flexible printed wiring board with low transmission loss.
以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
〔製造例1〕
(変性ポリオレフィン1の製造)
(a1)ポリメチルペンテン樹脂(三井化学製TPXグレードMX002)100質量部、(b1)1,3−ジ(tert−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン(日油製:パーブチルP)1.5質量部を、ホッパー口より、シリンダー温度230℃、スクリュー回転数150rpmに設定した二軸押出機(46mmφ、L/D=63、神戸製鋼社製)に供給して溶融混練を行う際に、シリンダー途中より(c1)スチレン8質量部、(d1)グリシジルメタクリレート8質量部を加えた。その後、ベント口から真空脱揮することにより変性ポリオレフィン樹脂のペレットを得た。
得られた樹脂ペレットを130℃でキシレンに溶解させた後、再び常温に冷却した際に析出した再結晶樹脂を用いて、JIS K7236に準拠し電位差自動滴定装置(京都電子工業製AT700)でグリシジルメタクリレート変性量を測定した。変性ポリオレフィン1のグリシジルメタクリレート変性量は2.64質量%だった。
[Manufacturing Example 1]
(Manufacture of Modified Polyolefin 1)
(A1) 100 parts by mass of polymethylpentene resin (TPX grade MX002 manufactured by Mitsui Chemicals), (b1) 1.5 parts by mass of 1,3-di (tert-butylperoxyisopropyl) benzene (manufactured by NOF Corporation: Perbutyl P) , When supplying from the hopper mouth to a twin-screw extruder (46 mmφ, L / D = 63, manufactured by Kobe Steel) set to a cylinder temperature of 230 ° C. and a screw rotation speed of 150 rpm for melt kneading, from the middle of the cylinder ( c1) 8 parts by mass of styrene and (d1) 8 parts by mass of glycidyl methacrylate were added. Then, the modified polyolefin resin pellets were obtained by vacuum devolatile from the vent port.
After dissolving the obtained resin pellets in xylene at 130 ° C., using the recrystallized resin precipitated when cooled to room temperature again, glycidyl was used in a potential difference automatic titrator (AT700 manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd.) in accordance with JIS K7236. The amount of methacrylate modification was measured. The amount of glycidyl methacrylate modification of the modified polyolefin 1 was 2.64% by mass.
〔製造例2〜6〕
(変性ポリオレフィン2〜6の製造)
(b1)1,3−ジ(tert−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン(日油製:パーブチルP)、(c1)スチレン、及び(d1)グリシジルメタクリレートの添加量を下記のように変更した以外は、製造例1と同一の操作を行い、変性ポリオレフィン2〜7を製造した。各変性ポリオレフィンにおけるグリシジルメタクリレート変性量は、以下のとおりであった。
・変性ポリオレフィン2:(b1) 0.15質量部、(c1)0.5質量部、(d1)0.5質量部:グリシジルメタクリレート変性量0.23質量%
・変性ポリオレフィン3:(b1) 0.25質量部、(c1)1質量部、(d1)1質量部:グリシジルメタクリレート変性量0.35質量%
・変性ポリオレフィン4:(b1) 0.50質量部、(c1)2質量部、(d1)2質量部:グリシジルメタクリレート変性量0.74質量%
・変性ポリオレフィン5:(b1) 1.00質量部、(c1)4質量部、(d1)4質量部:グリシジルメタクリレート変性量1.56質量%
・変性ポリオレフィン6:(b1) 2.60質量部、(c1)12質量部、(d1)12質量部:グリシジルメタクリレート変性量4.29質量%
[Production Examples 2 to 6]
(Manufacture of Modified Polyolefins 2 to 6)
Except that the addition amounts of (b1) 1,3-di (tert-butylperoxyisopropyl) benzene (manufactured by NOF: Perbutyl P), (c1) styrene, and (d1) glycidyl methacrylate were changed as follows. The same operation as in Production Example 1 was carried out to produce modified polyolefins 2 to 7. The amount of glycidyl methacrylate modification in each modified polyolefin was as follows.
-Modified polyolefin 2: (b1) 0.15 parts by mass, (c1) 0.5 parts by mass, (d1) 0.5 parts by mass: glycidyl methacrylate modification amount 0.23% by mass
-Modified polyolefin 3: (b1) 0.25 parts by mass, (c1) 1 part by mass, (d1) 1 part by mass: glycidyl methacrylate modification amount 0.35% by mass
-Modified polyolefin 4: (b1) 0.50 parts by mass, (c1) 2 parts by mass, (d1) 2 parts by mass: glycidyl methacrylate modified amount 0.74% by mass
-Modified polyolefin 5: (b1) 1.00 parts by mass, (c1) 4 parts by mass, (d1) 4 parts by mass: glycidyl methacrylate modification amount 1.56% by mass
-Modified polyolefin 6: (b1) 2.60 parts by mass, (c1) 12 parts by mass, (d1) 12 parts by mass: glycidyl methacrylate modified amount 4.29% by mass
〔実施例1〜3、及び比較例1〜6〕
実施例、及び比較例において、液晶ポリマー(A)((A)成分)として、融点280℃の全芳香族液晶ポリエステル樹脂を用いた。また、実施例において、グラフト変性ポリオレフィン(B)((B)成分)として、製造例1で得た変性ポリオレフィン1を用いた。
比較例において、液晶ポリマー(A)と混合する樹脂として、未変性のポリメチルペンテンと、エチレン/グリシジルメタクリレート/メチルアクリレート共重合体(住友化学株式会社製、ボンドファースト7L(BF−7L))とを用いた。ボンドファースト7Lは、極性基としてエポキシ基を3質量%、メチルアクリレート基を27質量%有する非グラフト変性型の樹脂である。
[Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 6]
In Examples and Comparative Examples, a total aromatic liquid crystal polyester resin having a melting point of 280 ° C. was used as the liquid crystal polymers (A) (component (A)). Further, in the examples, the modified polyolefin 1 obtained in Production Example 1 was used as the graft-modified polyolefin (B) (component (B)).
In the comparative example, as a resin to be mixed with the liquid crystal polymer (A), unmodified polymethylpentene and an ethylene / glycidyl methacrylate / methyl acrylate copolymer (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., Bond First 7L (BF-7L)) were used. Was used. Bond First 7L is a non-graft modified resin having 3% by mass of an epoxy group and 27% by mass of a methyl acrylate group as polar groups.
表1に記載の量の各材料を、ホッパー口よりシリンダー温度300℃、スクリュー回転数150rpmに設定した二軸押出機(25mmφ、L/D=40、テクノベル製)に供給して溶融混練し各実施例、及び比較例の樹脂組成物を得た。なお、比較例1については、液晶ポリマー(A)単独での評価であり、比較例4については、変性ポリオレフィン1単独での評価である。各実施例、及び各比較例の樹脂、又は樹脂組成物について、以下の方法に従って、比誘電率、誘電正接、耐熱性、及び加工性の評価を行った。これらの評価結果を表1に記す。 Each material in the amount shown in Table 1 is supplied from the hopper mouth to a twin-screw extruder (25 mmφ, L / D = 40, manufactured by Technobel) set to a cylinder temperature of 300 ° C. and a screw rotation speed of 150 rpm, and melt-kneaded. The resin compositions of Examples and Comparative Examples were obtained. In addition, Comparative Example 1 is an evaluation of the liquid crystal polymer (A) alone, and Comparative Example 4 is an evaluation of the modified polyolefin 1 alone. The relative permittivity, dielectric loss tangent, heat resistance, and processability of each Example and each Comparative Example resin or resin composition were evaluated according to the following methods. The results of these evaluations are shown in Table 1.
[比誘電率・誘電正接]
測定装置として、空洞共振器摂動法複素誘電率評価装置を用い、下記周波数で得られた樹脂組成物の誘電率及び誘電正接を測定した。
測定周波数:10GHz
測定条件:温度22℃〜24℃、湿度45%〜55%
測定試料:前記測定条件下で、24時間放置した試料を使用した。
[Relative permittivity / dielectric loss tangent]
As a measuring device, a cavity resonator perturbation method complex dielectric constant evaluation device was used to measure the dielectric constant and the dielectric loss tangent of the resin composition obtained at the following frequencies.
Measurement frequency: 10GHz
Measurement conditions: temperature 22 ° C to 24 ° C, humidity 45% to 55%
Measurement sample: A sample left for 24 hours under the above measurement conditions was used.
[耐熱性]
測定装置として、動的粘弾性測定装置を用い、貯蔵弾性率が107MPa以下になる温度(℃)を測定した。測定は以下の条件で行い、耐熱性を下記の基準で評価した。
・サンプル測定範囲;幅5mm、つかみ具間距離20mm
・測定温度範囲;25℃〜260℃
・昇温速度;5℃/分
・歪み振幅;0.1%
・測定周波数;1Hz
・最小張力/圧縮力;0.1g
・力振幅初期値;100g
・評価基準
◎:260℃でも貯蔵弾性率が107MPa以下にならなかった。
○:貯蔵弾性率が107MPa以下となる温度が、200℃以上であった。
×:貯蔵弾性率が107MPa以下となる温度が、200℃未満であった。
[Heat-resistant]
As the measuring apparatus, using a dynamic viscoelasticity measuring device, the storage modulus was measured temperature (℃) reduced below 10 7 MPa. The measurement was performed under the following conditions, and the heat resistance was evaluated according to the following criteria.
-Sample measurement range: width 5 mm, distance between grippers 20 mm
-Measurement temperature range: 25 ° C to 260 ° C
・ Temperature rise rate: 5 ° C / min ・ Strain amplitude: 0.1%
・ Measurement frequency: 1Hz
-Minimum tension / compressive force; 0.1 g
・ Initial force amplitude; 100 g
Evaluation Criteria ◎: 260 ℃ but the storage modulus does not become less than 10 7 MPa.
○: temperature storage modulus equal to or less than 10 7 MPa is was 200 ° C. or higher.
×: temperature storage modulus equal to or less than 10 7 MPa was less than 200 ° C..
[溶融(押出)加工性]
二軸押出機(25mmφ、L/D=40、テクノベル製)を用いて溶融混練した後のストランドを水冷し、ペレタイザーによりカットした際の加工性を以下の通り評価した。
◎:割れ欠けなく、円柱状のペレットが取得可能
○:割れ欠けが一部含まれ、扁平した形状のペレットとなる。
×:ストランドが切断できずペレット取得ができない。又はペレットのほとんどにヒゲ、割れ欠けが含まれる。
[Melting (extrusion) workability]
The strands after melt-kneading using a twin-screw extruder (25 mmφ, L / D = 40, manufactured by Technobel) were water-cooled and the workability when cut by a pelletizer was evaluated as follows.
⊚: Columnar pellets can be obtained without cracking. ◯: Pellets with a flat shape are obtained with some cracking and chipping.
X: The strand cannot be cut and pellets cannot be obtained. Alternatively, most of the pellets contain whiskers and cracks.
[フィルム加工性]
上記で得られた各ペレットを、溶融押出によりTダイにてフィルムに成形した際の加工性を、以下の通り評価した。
◎:異常なし
○:Tダイのリップ部分に樹脂塊が発生/もしくはフィルムの垂れ・裂けが発生したが、フィルム化は可能であった。
×:Tダイのリップ部分に樹脂塊が発生/もしくはフィルムの垂れ・裂けが発生し、フィルム化も不可能であった。
[Film workability]
The processability when each of the pellets obtained above was formed into a film by T-die by melt extrusion was evaluated as follows.
⊚: No abnormality ◯: Resin lumps were generated on the lip portion of the T-die / or the film was sagging or tearing, but film formation was possible.
X: Resin lumps were generated on the lip portion of the T-die / or the film was sagging or tearing, and it was impossible to form a film.
[相構造]
各低誘電樹脂組成物をからなるフィルムについて、下記の方法で走査型電子顕微鏡観察を行い、相構造を評価した。
(フィルムの断面出し)
5mm×3mmの範囲をカッターナイフで切り出し、エポキシ系包埋樹脂及びカバーガラスを使用して切り出したフィルムの両面に保護膜層及びカバーガラス層を形成した後、イオンビームによるクロスセクションポリッシャ加工を行った。
(クロスセクションポリッシャ加工)
使用装置:日本電子株式会社製 SM−09020CP相当品
加工条件:加速電圧 6kV。
(フィルム断面観察)
上記得られたフィルムの断面について、走査型電子顕微鏡により観察を行った。
(走査型電子顕微鏡観察)
使用装置:株式会社日立ハイテクノロジーズ製 S−3000N相当品
観察条件:加速電圧 15kV
検出器:反射電子検出(組成モード)
倍率:1000倍。
(観察結果の分類)
観察結果を以下の基準に従い分類した。観察結果を表1に記す。
A:海島構造((A)成分が海相)
B:海島構造((A)成分が島相)
C:共連続構造(連続領域の一部に島相あり)
D:相分離
[Phase structure]
The phase structure of the film composed of each low-dielectric resin composition was evaluated by observing with a scanning electron microscope by the following method.
(Cross section of film)
A range of 5 mm x 3 mm is cut out with a cutter knife, a protective film layer and a cover glass layer are formed on both sides of the cut out film using an epoxy-based embedding resin and a cover glass, and then cross-section polisher processing is performed with an ion beam. rice field.
(Cross section polisher processing)
Equipment used: SM-09020CP equivalent manufactured by JEOL Ltd. Processing conditions: Acceleration voltage 6kV.
(Observation of film cross section)
The cross section of the obtained film was observed with a scanning electron microscope.
(Scanning electron microscope observation)
Equipment used: Hitachi High-Technologies Corporation S-3000N equivalent Observation conditions: Acceleration voltage 15kV
Detector: Reflected electron detection (composition mode)
Magnification: 1000 times.
(Classification of observation results)
The observation results were classified according to the following criteria. The observation results are shown in Table 1.
A: Sea island structure ((A) component is the sea phase)
B: Sea-island structure ((A) component is island fauna)
C: Co-continuous structure (island fauna in a part of continuous area)
D: Phase separation
実施例によれば、液晶ポリマー(A)と、極性基を有するグラフト変性ポリオレフィン(B)とを含有し、かつそれら成分のいずれか一方で海相が形成されている組成物であれば、良好な加工性、特にフィルム加工性と、優れた低誘電特性とを両立できることが分かる。これら実施例の低誘電樹脂組成物では、比誘電率がいずれも2.80以下と液晶ポリマーの値(2.98:比較例1)よりも低く、誘電正接も0.0025以下と変性ポリオレフィン1の値(0.0056:比較例4)に比べて低かった。なお、実施例の樹脂組成物では、島相はいずれもサイズが5μm以下であった。
他方、未変性ポリオレフィンをブレンドした比較例5では、溶融加工性が悪く、フィルム形状に加工することはできなかった。非グラフト変性型のポリオレフィン樹脂であるボンドファースト7Lをブレンドした比較例6では、海島構造が形成され、加工性も良好であったが、誘電正接が大きな値となってしまった。
また、比較例2及び3では、液晶ポリマー(A)と変性ポリオレフィン(B)の両者が共連続構造となり、海島構造が形成された実施例1〜3の低誘電樹脂組成物に比べ、フィルム加工性が劣る樹脂組成物となってしまった。
According to Examples, a composition containing a liquid crystal polymer (A) and a graft-modified polyolefin (B) having a polar group and having a sea phase formed on one of these components is good. It can be seen that excellent processability, particularly film processability, and excellent low-dielectric property can be achieved at the same time. In the low-dielectric resin compositions of these examples, the relative permittivity is 2.80 or less, which is lower than the value of the liquid crystal polymer (2.98: Comparative Example 1), and the dielectric loss tangent is 0.0025 or less, which is the modified polyolefin 1. It was lower than the value of (0.0056: Comparative Example 4). In the resin composition of the example, the size of each island phase was 5 μm or less.
On the other hand, in Comparative Example 5 in which the unmodified polyolefin was blended, the melt processability was poor and the film could not be processed into a film shape. In Comparative Example 6 in which Bond First 7L, which is a non-graft-modified polyolefin resin, was blended, a sea-island structure was formed and the workability was good, but the dielectric loss tangent became a large value.
Further, in Comparative Examples 2 and 3, both the liquid crystal polymer (A) and the modified polyolefin (B) had a co-continuous structure, and the film processing was performed as compared with the low-dielectric resin compositions of Examples 1 to 3 in which the sea-island structure was formed. The resin composition has inferior properties.
〔実施例4〜38、及び比較例7〜13〕
上記の実施例及び比較例より、樹脂組成物の加工性が相構造に影響されることが判明したので、この点をさらに検証すべく、変性ポリオレフィン2〜7を用いて実施例1と同様の操作を行った。各実施例における樹脂組成物の組成、溶融加工性、及び相構造を、表2に示す。参考のため、実施例1〜3、並びに比較例2及び3の結果も併記する。
[Examples 4 to 38 and Comparative Examples 7 to 13]
From the above Examples and Comparative Examples, it was found that the processability of the resin composition was affected by the phase structure. Therefore, in order to further verify this point, modified polyolefins 2 to 7 were used in the same manner as in Example 1. The operation was performed. Table 2 shows the composition, melt processability, and phase structure of the resin composition in each example. For reference, the results of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 2 and 3 are also shown.
表2より、液晶ポリマー(A)と、極性基を有するグラフト変性ポリオレフィン(B)とを含有し、かつそれら成分のいずれか一方で海相が形成されている低誘電樹脂組成物は、フィルム成形性に優れることが示された。
また、グラフト変性ポリオレフィン(B)として変性量が2質量%以下、特に1質量%以下のものを含有する低誘電樹脂組成物は、海島構造を形成し易く、フィルム成形性に優れることが判明した。
From Table 2, the low-dielectric resin composition containing the liquid crystal polymer (A) and the graft-modified polyolefin (B) having a polar group and having a sea phase formed on one of the components is film-molded. It was shown to be excellent in sex.
Further, it was found that a low-dielectric resin composition containing a graft-modified polyolefin (B) having a modified amount of 2% by mass or less, particularly 1% by mass or less, easily forms a sea-island structure and is excellent in film moldability. ..
実施例4〜38及び比較例7〜12の低誘電樹脂組成物の幾つかについて、実施例1と同様の物性試験を行った。その結果を、表3に示す。 Some of the low-dielectric resin compositions of Examples 4 to 38 and Comparative Examples 7 to 12 were subjected to the same physical characteristic tests as in Example 1. The results are shown in Table 3.
実施例によれば、液晶ポリマー(A)と、極性基を有するグラフト変性ポリオレフィン(B)とを含有し、かつそれら成分のいずれか一方で海相が形成されている組成物であれば、ポリオレフィンの変性量がどのような値であっても、良好な加工性と、優れた低誘電特性とを両立できることが分かる。これら実施例の低誘電樹脂組成物では、比誘電率がいずれも2.80以下であり、液晶ポリマーの値(2.98:比較例1)よりも低かった。なお、変性ポリオレフィン4の誘電正接を測定したところ(比較例13)、0.0027であった。実施例24〜28及び32〜33の低誘電樹脂組成物では、誘電正接がいずれも0.0025以下であり、変性ポリオレフィン4に比べて低い値であったことが分かる。また、実施例の樹脂組成物では、島相はいずれもサイズが10μm以下であった。
According to Examples, if the composition contains a liquid crystal polymer (A) and a graft-modified polyolefin (B) having a polar group, and a sea phase is formed on one of the components, the polyolefin is used. It can be seen that good workability and excellent low-dielectric properties can be achieved at the same time regardless of the value of the modification amount. In the low-dielectric resin compositions of these examples, the relative permittivity was 2.80 or less, which was lower than the value of the liquid crystal polymer (2.98: Comparative Example 1). The dielectric loss tangent of the modified polyolefin 4 was measured (Comparative Example 13) and found to be 0.0027. It can be seen that in the low dielectric resin compositions of Examples 24 to 28 and 32 to 33, the dielectric loss tangent was 0.0025 or less, which was lower than that of the modified polyolefin 4. Moreover, in the resin composition of the example, the size of each island phase was 10 μm or less.
Claims (11)
前記海島構造における前記海相が、前記液晶ポリマー(A)及び前記極性基を有するグラフト変性ポリオレフィン(B)のいずれか一方で形成され、前記島相のサイズが20μm以下である、低誘電樹脂組成物。 A low-dielectric resin containing a liquid crystal polymer (A) and a graft-modified polyolefin (B) having a polar group, and having a sea-island structure in which discontinuous island phases are dispersed in a continuous sea phase. It ’s a composition,
A low-dielectric resin composition in which the sea phase in the sea-island structure is formed of either the liquid crystal polymer (A) or the graft-modified polyolefin (B) having a polar group, and the size of the island phase is 20 μm or less. thing.
A flexible printed wiring board comprising the film according to claim 10.
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