JP2021159811A - 可視光応答型複合薄膜光触媒材料及び可視光応答型複合薄膜光触媒材料の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】酸化チタンからなる薄膜21と、酸化チタンからなる薄膜上に形成された酸化タングステンからなる薄膜22と、酸化タングステンからなる薄膜上に形成された酸化ケイ素若しくは酸化ケイ素及び酸化タングステンの混合薄膜とを有する可視光応答型複合薄膜光触媒材料20。
【選択図】図3
Description
図1は、本実施形態において用いられるスパッタリング装置の概略を示す図である。
図2は、本実施形態に係る可視光応答型複合薄膜光触媒材料の製造方法の一例を示すフローチャートである。図3は、本実施形態に係る可視光応答型複合薄膜光触媒材料の一例を示す図である。
まず、基板10の温度と光触媒活性との関係について説明する。
ここでいう反応速度とは、光触媒活性を示す指標値であり、この反応速度の値が大きいほど光触媒活性が高いことを示す。以下説明する。
次に、真空チャンバ2内のスパッタガス構成と酸化タングステン単層薄膜の光触媒活性との関係について説明する。
続いて、RF電源5から供給されるスパッタ電力値と酸化チタン単層薄膜の光触媒活性との関係について説明する。
続いて、酸化チタンの薄膜及び酸化タングステンの薄膜からなる二層薄膜の膜厚と、紫外光照射時の光触媒活性との関係について説明する。
続いて、酸化チタンの薄膜及び酸化タングステンの薄膜からなる二層薄膜の膜厚と可視光照射時の光触媒活性との関係について説明する。
続いて、酸化チタンの薄膜、酸化タングステンの薄膜及び酸化ケイ素の薄膜からなる三層薄膜の膜厚と紫外光照射時の光触媒活性との関係について説明する。
ここでいう濡れ性とは親水性を示す指標値であり、この濡れ性の値が小さいほど親水性が高いことを示す。以下説明する。
20 可視光応答型複合薄膜光触媒材料
21 酸化チタン薄膜
22 酸化タングステン薄膜
23 酸化ケイ素薄膜
Claims (7)
- 酸化チタンからなる薄膜と、
前記酸化チタンからなる薄膜上に形成された酸化タングステンからなる薄膜と、
前記酸化タングステンからなる薄膜上に形成された酸化ケイ素からなる薄膜若しくは酸化ケイ素及び酸化タングステンからなる混合薄膜と、
を有する可視光応答型複合薄膜光触媒材料。 - 前記酸化タングステンからなる薄膜の代わりに、チタン酸ストロンチウム、酸化インジウム、酸化モリブデン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化ニオブ、酸化亜鉛又は酸化鉄のいずれかからなる薄膜を有することを特徴とする請求項1に記載の可視光応答型複合薄膜光触媒材料。
- 酸化チタンからなる薄膜と、
前記酸化チタンからなる薄膜上に形成された酸化ケイ素及び酸化タングステンからなる混合薄膜と、
を有する可視光応答型複合薄膜光触媒材料。 - 基板上に、スパッタリング法により酸化チタンからなる薄膜を形成する工程と、
前記酸化チタンからなる薄膜上に、スパッタリング法により酸化タングステンからなる薄膜を形成する工程と、
前記酸化タングステンからなる薄膜上に、スパッタリング法により酸化ケイ素からなる薄膜若しくは酸化ケイ素及び酸化タングステンからなる混合薄膜を形成する工程と、
を含むことを特徴とする可視光応答型複合薄膜光触媒材料の製造方法。 - 前記酸化タングステンからなる薄膜の代わりに、チタン酸ストロンチウム、酸化インジウム、酸化モリブデン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化ニオブ、酸化亜鉛又は酸化鉄のいずれかからなる薄膜を形成することを特徴とする請求項4に記載の可視光応答型複合薄膜光触媒材料の製造方法。
- 前記スパッタリング法は、高周波スパッタリング法であり、
前記酸化チタンからなる薄膜を形成する工程では、チャンバ内の圧力が0.1〜1.0Paであり、前記基板を200〜300℃に加熱した条件下で前記酸化チタンからなる薄膜を形成し、
前記酸化タングステンからなる薄膜を形成する工程では、チャンバ内の圧力が0.1〜1.0Paであり、前記基板を10〜100℃に加熱した条件下で前記酸化タングステンからなる薄膜を形成し、
前記酸化ケイ素からなる薄膜若しくは酸化ケイ素及び酸化タングステンの混合薄膜を形成する工程では、チャンバ内の圧力が0.1Pa〜1.0Paであり、前記基板を10〜100℃に加熱した条件下で前記酸化ケイ素若しくは酸化ケイ素及び酸化タングステンの混合薄膜を形成することを特徴とする請求項4に記載の可視光応答型複合薄膜光触媒材料の製造方法。 - 基板上に、スパッタリング法により酸化チタンからなる薄膜を形成する工程と、
前記酸化チタンからなる薄膜上に、スパッタリング法により酸化ケイ素及び酸化タングステンからなる混合薄膜を形成する工程と、
を含むことを特徴とする可視光応答型複合薄膜光触媒材料の製造方法。
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JP2002234105A (ja) * | 2000-03-13 | 2002-08-20 | Toto Ltd | 親水性部材及びその製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10225639A (ja) * | 1997-02-13 | 1998-08-25 | Toto Ltd | 光触媒性親水性部材及びその製造方法、並びに光触媒性親水性コ−ティング組成物 |
JP2002234105A (ja) * | 2000-03-13 | 2002-08-20 | Toto Ltd | 親水性部材及びその製造方法 |
JP2012120967A (ja) * | 2010-12-07 | 2012-06-28 | Nissan Motor Co Ltd | 可視光応答型光触媒およびこれを含む親水性部材ならびにこれらの製造方法 |
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宮城友昭、他: "機能性表面処理技術と評価に関する研究(第2報)", 平成30年度研究報告大分県産業科学技術センター, JPN6022036785, 2018, ISSN: 0004867591 * |
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