JP2021158091A - イオン源ガス配管構造およびイオン源ガス配管システム - Google Patents
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- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 145
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 56
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 56
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 56
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims abstract description 19
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 37
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 10
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 119
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 3
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 3
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diol;bis(4-fluorophenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1.C1=CC(F)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(F)C=C1 JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
Description
Claims (5)
- イオン源ガス貯留部からのイオン源ガスをイオン源へ供給するイオン源ガス配管構造であって、
前記イオン源ガス貯留部と前記イオン源のガス導入部との間に設けられてガス配管の絶縁性を確保する絶縁部を有し、
前記絶縁部は、
ガスを流通させるための配管であって酸素透過性を有する絶縁性配管と、
前記絶縁性配管の外側に設けられて前記絶縁性配管における酸素の透過を防ぐ酸素透過防止構造と、
を含む、イオン源ガス配管構造。 - 前記酸素透過防止構造は、前記絶縁性配管の周囲を覆う管状構造体と、前記絶縁性配管と、によって形成される二重管構造である、請求項1に記載のイオン源ガス配管構造。
- 前記絶縁性配管と前記管状構造体との間に不活性ガスが充填される、請求項2に記載のイオン源ガス配管構造。
- 前記絶縁性配管と前記管状構造体との間は真空である、請求項2に記載のイオン源ガス配管構造。
- イオン源ガス貯留部とイオン源との間に設けられる配管システムであって、
前記イオン源ガス貯留部と前記イオン源のガス導入部との間を接続するガス配管と、
前記ガス配管の途中に設けられて前記ガス配管の絶縁性を確保する絶縁部と、を有し、
前記絶縁部は、
ガスを流通させるための配管であって酸素透過性を有する絶縁性配管と、
前記絶縁性配管の外側に設けられて前記絶縁性配管における酸素の透過を防ぐ酸素透過防止構造と、
を含む、イオン源ガス配管システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020060248A JP7449747B2 (ja) | 2020-03-30 | 2020-03-30 | イオン源ガス配管構造およびイオン源ガス配管システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020060248A JP7449747B2 (ja) | 2020-03-30 | 2020-03-30 | イオン源ガス配管構造およびイオン源ガス配管システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021158091A true JP2021158091A (ja) | 2021-10-07 |
JP7449747B2 JP7449747B2 (ja) | 2024-03-14 |
Family
ID=77919793
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020060248A Active JP7449747B2 (ja) | 2020-03-30 | 2020-03-30 | イオン源ガス配管構造およびイオン源ガス配管システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7449747B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10275695A (ja) * | 1997-03-28 | 1998-10-13 | Nissin Electric Co Ltd | プラズマ装置へのガス供給方法及びプラズマ処理装置並びにイオンビーム装置 |
JP2006286298A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Sen Corp An Shi & Axcelis Company | 絶縁配管部材、ガス供給装置およびイオンビーム装置 |
US20100187448A1 (en) * | 2007-06-28 | 2010-07-29 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes George Claude | Arrangment and method for processing a substrate |
JP2014505322A (ja) * | 2010-11-30 | 2014-02-27 | アドバンスド テクノロジー マテリアルズ,インコーポレイテッド | 遠隔ドーパント源を含むイオン注入機システム及び当該イオン注入機システムを備える方法 |
-
2020
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH10275695A (ja) * | 1997-03-28 | 1998-10-13 | Nissin Electric Co Ltd | プラズマ装置へのガス供給方法及びプラズマ処理装置並びにイオンビーム装置 |
JP2006286298A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Sen Corp An Shi & Axcelis Company | 絶縁配管部材、ガス供給装置およびイオンビーム装置 |
US20100187448A1 (en) * | 2007-06-28 | 2010-07-29 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes George Claude | Arrangment and method for processing a substrate |
JP2014505322A (ja) * | 2010-11-30 | 2014-02-27 | アドバンスド テクノロジー マテリアルズ,インコーポレイテッド | 遠隔ドーパント源を含むイオン注入機システム及び当該イオン注入機システムを備える方法 |
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