JP2021154187A - パターン形成方法、及び塗布装置 - Google Patents
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Abstract
Description
上記した特許文献1記載の製造方法では、液状態の表面張力によって部品を位置合わせするためのパターン基板を、マスクや版などを用いることなく、バリアブル・オンデマンドで製造できるとしているが、別途、露光装置や現像装置が必要となり、設備コストが嵩むという課題があった。
また、上記した特許文献2記載の製造方法では、転写印刷法と液滴塗布法とを用いるので依然として多段にわたる煩雑な工程が必要となり、インクジェット法を用いるコストメリットが半減してしまうという課題があった。
前記基材のインク塗布領域の周囲に前記インクと互いに混ざり合わない溶媒の液滴を吐出して溶媒塗膜を形成する第1工程と、
前記インク塗布領域の周囲に前記溶媒塗膜が形成された後の前記インク塗布領域に前記インクの液滴を吐出して塗布する第2工程と、
前記インク塗布領域の周囲に形成された前記溶媒塗膜と、前記インク塗布領域に塗布された前記インクとを乾燥させることにより、前記インク塗布領域に前記インクによるパターンを形成する第3工程とを含むことを特徴としている。
前記第1工程では、
前記インク塗布領域の周囲のうち少なくとも前記インク塗布領域の境界近傍に吐出する前記溶媒の液滴径が前記インク塗布領域の塗布幅よりも小さくなるように、前記溶媒の液滴を吐出することを特徴としている。
前記インクの液滴を吐出するインク塗布ユニットと、
前記インクと互いに混ざり合わない溶媒の液滴を吐出する溶媒塗布ユニットと、
前記溶媒塗布ユニットと前記基材とを相対走査させつつ、前記溶媒塗布ユニットから前記溶媒の液滴をインク塗布領域の周囲に吐出して溶媒塗膜を形成する制御を行う溶媒吐出制御部と、
前記インク塗布ユニットと前記基材とを相対走査させつつ、前記インク塗布領域の周囲に前記溶媒塗膜が形成された後の前記インク塗布領域に、前記インク塗布ユニットから前記インクを吐出して塗布する制御を行うインク吐出制御部とを備えていることを特徴としている。
図1は、実施の形態に係る塗布装置を概略的に示す側面図である。図2は、実施の形態に係る塗布装置を概略的に示す平面図である。
溶媒吐出ヘッド部11は、Y軸方向を長手方向とする略直方体の形状を有し、ピエゾ素子を駆動させて貧溶媒を吐出する溶媒吐出ヘッドモジュール12、13が組み込まれている。本実施の形態では、溶媒吐出ヘッドモジュール12、13が、Y軸方向に複数列組み込まれているとともに、X軸方向に隣接して組み込まれている。すなわち、溶媒吐出ヘッド部11が、複数行のノズル列を含んで構成されている。
インク吐出ヘッド部21は、Y軸方向を長手方向とする略直方体の形状を有し、ピエゾ素子を駆動させてインクを吐出するインク吐出ヘッドモジュール22、23が組み込まれている。本実施形態では、インク吐出ヘッドモジュール22、23が、Y軸方向に複数列組み込まれているとともに、X軸方向に隣接して組み込まれている。すなわち、インク吐出ヘッド部21が、複数行のノズル列を含んで構成されている。
いずれにしろ、インク吐出ヘッド部21の走査は、インク塗布領域の周囲への溶媒塗膜の形成が開始されてから、前記溶媒塗膜が完全に乾燥する前に開始し、前記溶媒塗膜が完全に乾燥する前に完了するように実行される。
また、前記溶媒系のインクには、溶液系のインクと分散系のインクとが含まれる。前記溶液系のインクは、前記機能性材料が溶媒中に分子レベルで分かれた状態で溶解しているものであり、例えば、有機ELや有機半導体のポリマー、又は色材の染料などの溶液が挙げられる。また、前記分散系のインクは、前記機能性材料が微小な粒子として溶媒中に浮遊した状態で存在しているものであり、例えば、金属粒子からなる導電性材料、液晶ディスプレイで用いられる色材の顔料の分散液などが挙げられる。
すなわち、制御装置40は、溶媒塗布ユニット10と基材Wとを相対走査させつつ、溶媒塗布ユニット10の溶媒吐出ヘッド部11から貧溶媒の液滴をインク塗布領域の周囲に吐出して溶媒塗膜を形成する制御を行う。
また、制御装置40は、インク塗布ユニット20と基材Wとを相対走査させつつ、インク塗布領域の周囲に溶媒塗膜が形成された後のインク塗布領域に、インク塗布ユニット20のインク吐出ヘッド部21からインクを吐出して塗布する制御を行う。
図4は、実施の形態に係る塗布装置1を用いて、基材W上にインクによるパターンを形成している工程の一部と、貧溶媒の着弾位置ズレが発生した場合の状態とを説明するための部分拡大図である。
図5(b)は、図5(a)に例示した第1工程の後の第2工程において、インク塗布領域Wiにインクが吐出されて、インク液パターン26が形成された状態を示している。
ステップS1では、塗布装置1のステージ30に基材Wが搬入される。例えば、図示しないロボットハンド等により基材Wがステージ30上に載置される。この際に、例えば、基材Wに設けられた位置決め用のアライメントマークが読み込まれて、該アライメントマークを基準にして、基材W上のパターン形成位置が補正される構成としてもよい。
なお、塗布装置1は、塗布完了後の基材Wを加熱するヒーターなどの基板加熱部をステージ30に装備してもよく、乾燥工程(第3工程)において、前記基板加熱部を用いて、基材W上の溶媒塗膜16やインク液パターン26の乾燥(溶媒等の蒸発)が促進される構成としてもよい。
10 溶媒塗布ユニット
11 溶媒吐出ヘッド部
12、13 溶媒吐出ヘッドモジュール
12a、13a ノズル
14 第1ガントリ部
14a 脚部
14b ビーム部材
15、15a、15b 貧溶媒液滴
16 溶媒塗膜
20 インク塗布ユニット
21 インク吐出ヘッド部
22、23 インク吐出ヘッドモジュール
22a、23a ノズル
24 第2ガントリ部
24a 脚部
24b ビーム部材
25、25a インク液滴
26 インク液パターン
30 ステージ
40 制御装置
W 基材
Wi インク塗布領域
Wd インク塗布幅
P ノズルピッチ
PT パターン
Claims (4)
- インクジェット法により基材にインクによるパターンを形成するパターン形成方法であって、
前記基材のインク塗布領域の周囲に前記インクと互いに混ざり合わない溶媒の液滴を吐出して溶媒塗膜を形成する第1工程と、
前記インク塗布領域の周囲に前記溶媒塗膜が形成された後の前記インク塗布領域に前記インクの液滴を吐出して塗布する第2工程と、
前記インク塗布領域の周囲に形成された前記溶媒塗膜と、前記インク塗布領域に塗布された前記インクとを乾燥させることにより、前記インク塗布領域に前記インクによるパターンを形成する第3工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。 - 前記第1工程では、
前記インク塗布領域の周囲のうち少なくとも前記インク塗布領域の境界近傍に吐出する前記溶媒の液滴径が前記インク塗布領域の塗布幅よりも小さくなるように、前記溶媒の液滴を吐出することを特徴とする請求項1記載のパターン形成方法。 - インクジェット法により基材にインクによるパターンを形成する塗布装置であって、
前記インクの液滴を吐出するインク塗布ユニットと、
前記インクと互いに混ざり合わない溶媒の液滴を吐出する溶媒塗布ユニットと、
前記溶媒塗布ユニットと前記基材とを相対走査させつつ、前記溶媒塗布ユニットから前記溶媒の液滴をインク塗布領域の周囲に吐出して溶媒塗膜を形成する制御を行う溶媒吐出制御部と、
前記インク塗布ユニットと前記基材とを相対走査させつつ、前記インク塗布領域の周囲に前記溶媒塗膜が形成された後の前記インク塗布領域に、前記インク塗布ユニットから前記インクを吐出して塗布する制御を行うインク吐出制御部とを備えていることを特徴とする塗布装置。 - 前記溶媒吐出制御部が、
前記インク塗布領域の周囲のうち少なくとも前記インク塗布領域の境界近傍に吐出する前記溶媒の液滴径が前記インク塗布領域の塗布幅よりも小さくなるように、前記溶媒の液滴を吐出制御可能に構成されていることを特徴とする請求項3記載の塗布装置。
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有機物性化学 第7回 界面現象 −表面張力,界面活性剤,撥水,親水,接着−, JPN6023030675, 3 July 2017 (2017-07-03), pages 1 - 8, ISSN: 0005221235 * |
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