JP2021141037A - レーザ励起プラズマ光源およびプラズマ点火方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims abstract description 42
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 41
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims abstract description 25
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 7
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 5
- 230000002459 sustained effect Effects 0.000 abstract description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 19
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 6
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N aluminum;oxygen(2-);yttrium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Y+3] JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910019901 yttrium aluminum garnet Inorganic materials 0.000 description 3
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 238000004452 microanalysis Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000002798 spectrophotometry method Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
- F02P—IGNITION, OTHER THAN COMPRESSION IGNITION, FOR INTERNAL-COMBUSTION ENGINES; TESTING OF IGNITION TIMING IN COMPRESSION-IGNITION ENGINES
- F02P9/00—Electric spark ignition control, not otherwise provided for
- F02P9/002—Control of spark intensity, intensifying, lengthening, suppression
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Plasma Technology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract
Description
本願は2020年3月5日出願のロシア特許出願RU2020109782号および2020年3月10日出願の米国特許出願第16/814,317号に対して優先権を主張する。
Claims (22)
- 少なくとも一部が光学的に透明である気体充填チャンバ,連続波(CW)レーザの集束ビームによって上記チャンバ内に維持される放射プラズマの領域,上記チャンバを出るプラズマ放射の少なくとも一つの出力ビーム,プラズマ点火手段を備えるレーザ励起プラズマ光源であって,
上記プラズマ点火手段が,上記チャンバ内に集束される第1および第2のレーザ・ビームを生成するパルス・レーザ・システムであり,
上記第1のレーザ・ビームが気体の光絶縁破壊のために配置され,かつ
上記第2のレーザ・ビームが上記光絶縁破壊後のプラズマ点火のために配置されている,
レーザ励起プラズマ光源。 - 上記第1のレーザ・ビームが104ワットを超えるピーク放射パワーおよび0.1μs未満のパルス長を有している,請求項1に記載の光源。
- 上記第2のレーザ・ビームが,上記第1のレーザ・ビームと比較して少なくとも3倍のレーザ・パルス・エネルギーおよび少なくとも一桁低いレーザ・ピーク・パワーを有している,請求項1または2に記載の光源。
- 上記第2のレーザ・ビームによって何度も点火される上記プラズマの体積が,上記第1のレーザによる光絶縁破壊中に生成されるプラズマの体積を1桁以上超える,
請求項1から3のいずれか一項に記載の光源。 - 上記第2のレーザ・ビームによって点火されるプラズマの体積および密度が,上記CWレーザの集束ビームによる上記プラズマの定常維持に十分なものである,請求項1から4のいずれか一項に記載の光源。
- 上記第2のレーザ・ビームが最大約1mmのプラズマ・サイズおよび最大1018cm−3またはそれ以上のプラズマ密度を提供する,請求項1から5のいずれか一項に記載の光源。
- 上記CWレーザの出力パワーが300ワットを超えない,請求項1から6のいずれか一項に記載の光源。
- 上記第2のレーザ・ビームの放射パルスは,上記第1のレーザ・ビームの放射パルスの終了後50μs以上経過後に終了する,請求項1から7のいずれか一項に記載の光源。
- 上記第1および第2のレーザ・ビームの集束領域が少なくとも部分的に重なり合っている,請求項1から8のいずれか一項に記載の光源。
- 上記パルス・レーザ・システムが,共通のキャビティ・ミラーを備える2つのレーザを含み,上記第1および第2のレーザ・ビームが平行であり,一つの共通の集束光学系を通して上記チャンバに導入される,請求項1から9のいずれか一項に記載の光源。
- 上記パルス・レーザ・システムが固体レーザ・システムである,請求項1から10のいずれか一項に記載の光源。
- 上記パルス・レーザ・システムがQスイッチング・モードまたはジャイアント−パルス生成モードにおいて上記第1のレーザ・ビームを生成する,請求項1から11のいずれか一項に記載の光源。
- 上記パルス・レーザ・システムがフリー・ランニング・モードにおいて上記第2のレーザ・ビームを生成する,請求項1から12のいずれか一項に記載の光源。
- 上記CWレーザのみがファイバ光出力を有している,請求項1から13のいずれか一項に記載の光源。
- 上記CWレーザの波長が上記第1および第2のレーザ・ビームの放射波長と異なっている,請求項1から14のいずれか一項に記載の光源。
- 上記CWレーザの集束ビームの軸が,垂直上向きまたは垂直に近い方向に向けられている,請求項1から15のいずれか一項に記載の光源。
- 上記チャンバの透明部分の外面および内面が同心球またはその一部として形成されており,上記放射プラズマの上記領域が上記同心球の中心に位置している,請求項1から16のいずれか一項に記載の光源。
- 上記プラズマ放射の出力ビームがすべての方位角において上記チャンバを出る,請求項1から17のいずれか一項に記載の光源。
- 上記プラズマ放射の出力ビームが9sr以上の立体角で上記チャンバを出る,請求項1から18のいずれか一項に記載の光源。
- 3つ以上のプラズマ放射の出力ビームを備えている,請求項1から19のいずれか一項に記載の光源。
- 高圧気体を有するチャンバ内へのCWレーザの集束ビームの方向付け,プラズマ点火,および上記CWレーザの集束ビームによる放射プラズマの定常維持を含む,レーザ励起プラズマ光源におけるプラズマ点火方法であって,
上記プラズマ点火が,上記チャンバ内に集束される第1および第2のレーザ・ビームを生成するパルス・レーザ・システムによって提供され,
上記第1のレーザ・ビームを用いて光絶縁破壊を提供し,その後に上記第2のレーザ・ビームを用いて上記プラズマを点火し,プラズマの体積および密度が上記CWレーザの集束ビームによる定常プラズマ維持に十分なものである,
方法。 - 上記パルス・レーザ・システムが,Qスイッチング・モードにおいて上記第1のレーザ・ビームを生成し,かつフリー・ランニング・モードにおいて上記第2のレーザ・ビームを生成する固体レーザ・システムである,請求項21に記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
RU2020109782A RU2732999C1 (ru) | 2020-03-05 | 2020-03-05 | Источник света с лазерной накачкой и способ зажигания плазмы |
RU2020109782 | 2020-03-05 | ||
US16/814,317 US10770282B1 (en) | 2020-03-10 | 2020-03-10 | Laser-pumped plasma light source and plasma ignition method |
US16/814,317 | 2020-03-10 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6885636B1 JP6885636B1 (ja) | 2021-06-16 |
JP2021141037A true JP2021141037A (ja) | 2021-09-16 |
Family
ID=75674911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020076580A Active JP6885636B1 (ja) | 2020-03-05 | 2020-04-23 | レーザ励起プラズマ光源およびプラズマ点火方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP4115441A1 (ja) |
JP (1) | JP6885636B1 (ja) |
KR (1) | KR20220133979A (ja) |
CN (1) | CN115210849A (ja) |
CA (1) | CA3166712A1 (ja) |
IL (1) | IL294983A (ja) |
WO (1) | WO2021177859A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116235277B (zh) * | 2020-08-06 | 2024-04-16 | Isteq私人有限公司 | 高亮度激光泵浦等离子体光源和用于降低像差的方法 |
CN118039452A (zh) * | 2024-02-05 | 2024-05-14 | 中国科学技术大学 | 一种台式化高亮度等离子体光源 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005522839A (ja) * | 2002-04-10 | 2005-07-28 | サイマー インコーポレイテッド | 極紫外線光源 |
US20150163893A1 (en) * | 2013-12-05 | 2015-06-11 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Plasma light source apparatus and plasma light generating method |
US20160169814A1 (en) * | 2014-12-11 | 2016-06-16 | Kohei Hashimoto | Plasma light source and inspection apparatus including the same |
JP2018528568A (ja) * | 2015-06-22 | 2018-09-27 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 高効率レーザー維持プラズマ光源 |
US20190094072A1 (en) * | 2017-09-22 | 2019-03-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Atomic emission spectrometer based on laser-induced plasma (lip), semiconductor manufacturing facility including the atomic emission spectrometer, and method of manufacturing semiconductor device using the atomic emission spectrometer |
JP2019511819A (ja) * | 2016-03-28 | 2019-04-25 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 高輝度レーザ維持プラズマ広帯域輻射源 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5417349A (en) | 1977-07-11 | 1979-02-08 | Mitsubishi Aluminium | Aluminum alloy brazing material for brazing used for fluxxfree brazing in high vacuum or nonoxidizable atomosphere |
DD243629A3 (de) | 1983-11-01 | 1987-03-11 | Walter Gaertner | Strahlungsquelle fuer optische geraete, insbesondere fuer fotolithografische abbildungssysteme |
JP5557487B2 (ja) * | 2009-07-30 | 2014-07-23 | ウシオ電機株式会社 | 光源装置 |
RU2539970C2 (ru) | 2012-12-17 | 2015-01-27 | Общество с ограниченной ответственностью "РнД-ИСАН" | Источник света с лазерной накачкой и способ генерации излучения |
RU2534223C1 (ru) | 2013-04-11 | 2014-11-27 | Общество с ограниченной ответственностью "РнД-ИСАН" | Источник света с лазерной накачкой и способ генерации излучения |
US10057973B2 (en) | 2015-05-14 | 2018-08-21 | Excelitas Technologies Corp. | Electrodeless single low power CW laser driven plasma lamp |
US10244613B2 (en) | 2015-10-04 | 2019-03-26 | Kla-Tencor Corporation | System and method for electrodeless plasma ignition in laser-sustained plasma light source |
-
2020
- 2020-04-23 JP JP2020076580A patent/JP6885636B1/ja active Active
-
2021
- 2021-02-26 WO PCT/RU2021/050049 patent/WO2021177859A1/en active Search and Examination
- 2021-02-26 CA CA3166712A patent/CA3166712A1/en active Pending
- 2021-02-26 IL IL294983A patent/IL294983A/en unknown
- 2021-02-26 CN CN202180018909.8A patent/CN115210849A/zh active Pending
- 2021-02-26 EP EP21721647.2A patent/EP4115441A1/en active Pending
- 2021-02-26 KR KR1020227029891A patent/KR20220133979A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005522839A (ja) * | 2002-04-10 | 2005-07-28 | サイマー インコーポレイテッド | 極紫外線光源 |
US20150163893A1 (en) * | 2013-12-05 | 2015-06-11 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Plasma light source apparatus and plasma light generating method |
US20160169814A1 (en) * | 2014-12-11 | 2016-06-16 | Kohei Hashimoto | Plasma light source and inspection apparatus including the same |
JP2018528568A (ja) * | 2015-06-22 | 2018-09-27 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 高効率レーザー維持プラズマ光源 |
JP2019511819A (ja) * | 2016-03-28 | 2019-04-25 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 高輝度レーザ維持プラズマ広帯域輻射源 |
US20190094072A1 (en) * | 2017-09-22 | 2019-03-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Atomic emission spectrometer based on laser-induced plasma (lip), semiconductor manufacturing facility including the atomic emission spectrometer, and method of manufacturing semiconductor device using the atomic emission spectrometer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN115210849A (zh) | 2022-10-18 |
CA3166712A1 (en) | 2021-09-10 |
WO2021177859A1 (en) | 2021-09-10 |
IL294983A (en) | 2022-09-01 |
JP6885636B1 (ja) | 2021-06-16 |
EP4115441A1 (en) | 2023-01-11 |
KR20220133979A (ko) | 2022-10-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200423 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20200423 |
|
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