JP7430364B2 - レーザー励起プラズマ光源および光生成方法 - Google Patents
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- 少なくとも一部が光学的に透明であるガス充填チャンバ,プラズマ点火手段,連続波(CW)レーザーの集束ビームによって上記チャンバ内に維持されるプラズマを放射する領域,および上記チャンバを出るプラズマ放射の少なくとも一つの出力ビームを含み,
上記プラズマ放射の出力ビームの最適連続生成が,上記チャンバ内のガス粒子の密度が90・1019cm-3未満であり,かつ上記チャンバの内面の温度が600K以上であることによって達成される,
レーザー励起プラズマ光源。 - 上記最適連続生成が,50mW/(mm2/nm・sr)を超える高スペクトル輝度の光源,および0.1%未満の輝度の低相対標準偏差σによって特徴付けられる,
請求項1に記載の光源。 - 約50バール以上のチャンバ内のガス圧力の提供の下,ガス粒子の密度が可能な限り低く,かつ作動中の上記チャンバの内面の温度が可能な限り高い,
請求項1または2に記載の光源。 - 上記ガス粒子の密度が45・1019cm-3以上であり,16.5バール以上の室温におけるガス圧力に対応する,
請求項1から3のいずれかに記載の光源。 - 上記チャンバの内面の温度が900K以下である,
請求項1から4のいずれかに記載の光源。 - 上記ガスが,キセノン,クリプトン,アルゴン,ネオン,および/またはそれらの混合物を含む,
請求項1から5のいずれかに記載の光源。 - 上記ガスがキセノンであり,上記CWレーザーの波長が808nmである,
請求項1から6のいずれかに記載の光源。 - 上記プラズマの出力ビームの出口に配置される上記チャンバの少なくとも一部が球状であり,プラズマを放射する領域が上記チャンバの上記球状部分の中心に位置する,
請求項1から7のいずれかに記載の光源。 - 上記チャンバの球状部分の内面の半径が5mm未満,好ましくは3mm以下である,
請求項8に記載の光源。 - 上記CWレーザーの集束ビームが,上記チャンバ内に下から上に方向づけられ,上記集束ビームの軸が垂直にまたはほぼ垂直に方向づけられている,
請求項1から9のいずれかに記載の光源。 - 上記チャンバの一部または細部が,プラズマを放射する領域の上にそこから3mm以下の距離に配置されている,
請求項1から10のいずれかに記載の光源。 - 上記チャンバがヒータを備えている,
請求項1から11のいずれかに記載の光源。 - 上記チャンバの透明部分が,サファイア,ロイコサファイア(Al2O3),溶融石英(fused quartz),結晶石英(SiO2),結晶フッ化マグネシウム(MgF2)のグループに属する材料から作られている,
請求項1から12のいずれかに記載の光源。 - 上記プラズマ点火手段が,Qスイッチングモードのパルスレーザービームおよびフリーランニングモードのパルスレーザービームを生成する個体レーザーシステムを備え,上記2つのパルスレーザービームが上記チャンバ内に集束される,
請求項1から13のいずれかに記載の光源。 - 上記CWレーザーのビームおよび上記チャンバから外に出るプラズマ放射の出力ビームのそれぞれが,上記プラズマを放射する領域の外において互いに交差しない,
請求項1から14のいずれかに記載の光源。 - 3つ以上のプラズマ放射の出力ビームを有している,
請求項1から15のいずれかに記載の光源。 - ガス充填チャンバ内でプラズマ点火し,CWレーザーの集束ビームによって維持されるプラズマを放射して上記チャンバの光学的に透明な部分を通じてプラズマを放射する領域から外に出る少なくとも一つのプラズマ放射の出力ビームを生成する光生成方法であって,
上記チャンバが90・1019cm-3未満の粒子密度のガスによって満たされており,
上記プラズマが600K以上の上記チャンバの内面の温度においてCWレーザーの集束ビームによって維持される,
方法。 - 50mW/(mm2/nm・sr)を超える高スペクトル輝度の光源を提供するために,作動中の上記チャンバのガス圧が約50バール以上である,
請求項17に記載の方法。 - 0.1%未満の輝度の低相対標準偏差σを提供するために,上記チャンバの内面の温度が,可能な限り低いガス粒子の密度の下で,可能な限り高くされる,
請求項17または18に記載の方法。 - 上記チャンバが45・1019cm-3以上のガス粒子の密度の粒子密度を持つガスによって満たされており,上記チャンバの内面の温度が900K以下の温度に維持されている,
請求項17から19のいずれかに記載の方法。 - 上記CWレーザーの上記集束ビームが下から上に垂直に上記チャンバ内に向けられている,
請求項17から20のいずれかに記載の方法。 - 上記チャンバ内の対流の乱れが,上記チャンバの上壁または一部を,プラズマを放射する領域の上にそこから3mm以下の距離に配置することによって抑制される,
請求項17から21のいずれかに記載の方法。 - 上記チャンバにキセノンが充填されており,上記放射プラズマが808nmの波長のCWレーザーの集束ビームによって維持される,
請求項17から22のいずれかに記載の方法。 - 上記プラズマ点火が,フリーランニングモードおよびQスイッチモードの固体レーザーシステムによって生成される2つのパルスレーザービームを上記チャンバ中に集束させることによって生成される,
請求項17から23のいずれかに記載の方法。
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