JP2021120484A - 粉体供給装置及びめっきシステム - Google Patents

Abstract

【課題】粉体の飛散をできる限り防止する粉体供給装置を提供する。【解決手段】めっきに使用される金属を含む粉体をめっき液に供給する粉体供給装置が提供される。この粉体供給装置は、めっき液を収容するように構成されるめっき液タンクと、めっき液タンク内に粉体を投入するための投入配管と、気体を供給するための気体供給ラインと、気体供給ラインからの気体を受けて、めっき液タンクに向かう螺旋気流を投入配管の内部に生成するように構成される螺旋気流生成部品と、を有する。【選択図】図１

Description

本発明は、粉体供給装置及びめっきシステムに関する。

従来、半導体ウェハ等の基板の表面に設けられた微細な配線用溝、ホール、又はレジスト開口部に配線を形成したり、基板の表面にパッケージの電極等と電気的に接続するバンプ（突起状電極）を形成したりすることが行われている。この配線及びバンプを形成する方法として、例えば、電解めっき法、蒸着法、印刷法、ボールバンプ法等が知られているが、半導体チップのＩ／Ｏ数の増加、細ピッチ化に伴い、微細化が可能で性能が比較的安定している電解めっき法が多く用いられるようになってきている。

電解めっきを行う装置においては、一般的に、めっき液を収容するめっき槽内にアノードと基板とが対向配置され、アノードと基板とに電圧が印加される。これにより、基板表面にめっき膜が形成される。

従来、電解めっき装置で使用されるアノードとして、めっき液に溶解する溶解アノード又はめっき液に溶解しない不溶解アノードが用いられている。不溶解アノードを用いてめっき処理を行う場合、めっきの進行につれてめっき液中の金属イオンが消費される。このため、定期的にめっき液に金属イオンを補充して、めっき液中の金属イオンの濃度を調整する必要がある。そこで、めっき槽とは別のめっき液タンクに収容されためっき液に金属の粉体を溶解し、そのめっき液をめっき槽に供給する装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。

特開２０１７−１４１５０３号公報

従来、金属の粉体をめっき液タンクに投入するときに、粉体が装置の外部に飛散し、クリーンルームを汚染する恐れがあった。クリーンルームの汚染を防止するため、従来の装置はクリーンルームとは別の空間、例えば、クリーンルームの階下室等に設置されていた。しかしながら、クリーンルームとは別の空間を準備できない場合などにおいて、装置をクリーンルームに設置したいという要望もある。また、粉体の飛散が装置の内部に留まったとしても、飛散した粉体はめっき液タンクに投入できず無駄になるという問題もある。

本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、その目的の一つは、粉体の飛散をできる限り防止する粉体供給装置を提供することである。

本発明の一形態によれば、めっきに使用される金属を含む粉体をめっき液に供給する粉体供給装置が提供される。この粉体供給装置は、めっき液を収容するように構成されるめっき液タンクと、前記めっき液タンク内に前記粉体を投入するための投入配管と、気体を供給するための気体供給ラインと、前記気体供給ラインからの気体を受けて、前記めっき液タンクに向かう螺旋気流を前記投入配管の内部に生成するように構成される螺旋気流生成部品と、を有する。

本発明の他の一形態によれば、めっきに使用される金属を含む粉体をめっき液に供給する粉体供給装置が提供される。この粉体供給装置は、めっき液を収容するように構成されるめっき液タンクと、前記めっき液タンク内に前記粉体を投入するための投入配管と、前記投入配管の出口を覆うように筒状の前記めっき液のカーテンを生成するカーテン生成部品と、を有する。

本発明の他の一形態によれば、めっきに使用される金属を含む粉体をめっき液に供給する粉体供給装置が提供される。この粉体供給装置は、めっき液を収容するように構成されるめっき液タンクと、前記粉体を収容するホッパを有する。前記ホッパは、前記粉体を前記ホッパ内に投入するための投入口と、前記ホッパ内の気体を排出する排気口と、を有する。前記粉体供給装置は、さらに、前記投入口と前記投入口に前記粉体を投入するための投入ノズルとの隙間から前記粉体が飛散することを防止するように構成される第１飛散防止部品と、前記排気口から前記粉体が飛散することを防止するように構成される第２飛散防止部品と、を有する。

本発明によれば、めっきシステムが提供される。このめっきシステムは、上記いずれかの粉体供給装置と、基板をめっきするためのめっき槽と、前記粉体供給装置の前記めっき液タンクから前記めっき槽に延びるめっき液供給管と、を備える。

本実施形態に係るめっきシステムの全体を示す模式図である。 酸化銅粉体を内部に保持することができる粉体容器を示す側面図である。 粉体供給装置の一部を示す側面図である。 図３に示した包囲カバーの内部の拡大斜視図である。 螺旋気流生成部品の斜視図である。 螺旋気流生成部品の側断面図である。 本実施形態における投入配管の出口開口端部を示す側面図である。 カーテン生成部品の一例を示す斜視図である。 図７Ａに示すカーテン生成部品の側断面図である。 カーテン生成部品の排出口の形状を示す概略図である。 カーテン生成部品の他の例を示す斜視図である。 図８Ａに示すカーテン生成部品の側断面図である。 ホッパの蓋近傍の拡大側面図である。 第２飛散防止部品の斜視図である。 第１飛散防止部品の斜視図である。 第１飛散防止部品をホッパの投入口に接触させる前のホッパの斜視図である。 第１飛散防止部品をホッパの投入口に接触させた後のホッパの斜視図である。

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。以下で説明する図面において、同一の又は相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。図１は、本実施形態に係るめっきシステムの全体を示す模式図である。めっきシステムは、クリーンルーム内に設置されためっき装置１と、階下室に設置された粉体供給装置２０とを備えている。本実施形態の粉体供給装置２０は、めっき装置１と同様にクリーンルーム内に設置してもよい。

本実施形態では、めっき装置１は、ウェハなどの基板に銅等の金属を電解めっきするための電解めっきユニットであり、粉体供給装置２０は、めっき装置１で使用されるめっき
液に、少なくとも金属を含む粉体を供給するための装置である。本実施形態では、少なくとも金属を含む粉体として、酸化銅粉体を使用する例を説明する。また、本実施形態における酸化銅粉体の平均粒径は、例えば、１０マイクロメートルから２００マイクロメートルである。本明細書において、「粉体」には、飛散する可能性のある任意の形状の物体、例えば、固形状の粒子、成形された粒状物、ペレット状に成形された固形物、小粒径の球体とされた銅固形物ボール、固体状の銅をリボン若しくはテープ状に成形した帯状物、又はこれらのいずれかの組み合わせからなる混合物を含む。

本実施形態のめっき装置１は、４つのめっき槽２を有している。めっき装置１は、任意の数のめっき槽２を備えることができる。各めっき槽２は、内槽５と外槽６を備えている。内槽５内には、アノードホルダ９に保持された不溶解アノード８が配置されている。めっき槽２の中において、不溶解アノード８の周囲には、中性膜（不図示）が配置されている。内槽５はめっき液で満たされており、内槽５から溢れためっき液は外槽６に流れ込む。なお、内槽５には、めっき液を攪拌する図示しないパドルが設けられ得る。基板Ｗは、基板ホルダ１１に保持され、基板ホルダ１１とともに内槽５内のめっき液中に浸漬される。また、基板Ｗとしては、半導体基板、プリント配線板等を用いることができる。

不溶解アノード８はアノードホルダ９を介してめっき電源１５の正極に電気的に接続され、基板ホルダ１１に保持された基板Ｗは、基板ホルダ１１を介してめっき電源１５の負極に電気的に接続される。めっき液に浸漬された不溶解アノード８と基板Ｗとの間に、めっき電源１５によって電圧を印加すると、めっき槽２内に収容されためっき液中で電気化学的な反応が起こり、基板Ｗの表面上に銅が析出する。このようにして、基板Ｗの表面が銅でめっきされる。

めっき装置１は、基板Ｗのめっき処理を制御するめっき制御部１７を備えている。このめっき制御部１７は、基板Ｗを流れた電流の累積値から、めっき槽２内のめっき液に含まれる銅イオンの濃度を算出する機能を有している。具体的には、基板Ｗがめっきされるにつれて、めっき液中の銅が消費される。銅の消費量は基板Ｗを流れた電流の累積値に比例する。めっき制御部１７は、めっき液に投入された銅の量と、電流の累積値（銅の消費量）とから、それぞれのめっき槽２におけるめっき液中の銅イオン濃度を算定することができる。

粉体供給装置２０は、密閉チャンバ２４と、ホッパ３３と、フィーダ３０と、モータ３１と、めっき液タンク３５と、動作制御部３２と、を有する。密閉チャンバ２４には、酸化銅粉体を収容した粉体容器２１が搬入される。ホッパ３３は、粉体容器２１から供給された酸化銅粉体を収容する。フィーダ３０は、ホッパ３３の下部に位置する粉体を搬送するように構成される。モータ３１は、フィーダ３０の駆動源である。めっき液タンク３５は、めっき液を収容し、フィーダ３０が搬送した酸化銅粉体を受けるように構成される。動作制御部３２は、モータ３１の動作を制御する。

めっき装置１と粉体供給装置２０は、めっき液供給管３６及びめっき液戻り管３７によって接続されている。より具体的には、めっき液供給管３６は、めっき液タンク３５からめっき槽２の内槽５の底部まで延びている。めっき液供給管３６は４つの分岐管３６ａに分岐しており、４つの分岐管３６ａは４つのめっき槽２の内槽５の底部にそれぞれ接続されている。４つの分岐管３６ａには、それぞれ、流量計３８および流量調節弁３９が設けられる。流量計３８および流量調節弁３９はめっき制御部１７に接続されている。めっき制御部１７は、流量計３８により測定されためっき液の流量に基づいて、流量調節弁３９の開度を制御するように構成されている。したがって、４つの分岐管３６ａを介してそれぞれのめっき槽２に供給されるめっき液の流量は、各めっき槽２の上流側に設けられた各流量調節弁３９によって制御され、これらの流量がほぼ同じとなるようにされる。めっき
液戻り管３７は、めっき槽２の外槽６の底部からめっき液タンク３５まで延びている。めっき液戻り管３７は、４つのめっき槽２の外槽６の底部にそれぞれ接続された４つの排出管３７ａを有している。

めっき液供給管３６には、めっき液を移送するためのポンプ２５と、ポンプ２５の下流側に配置されたフィルタ２６が設けられている。めっき装置１で使用されためっき液は、めっき液戻り管３７を通じて粉体供給装置２０のめっき液タンク３５に送られる。粉体供給装置２０で酸化銅粉体が添加されためっき液は、めっき液供給管３６を通じてめっき装置１に送られる。ポンプ２５は、めっき液をめっき装置１と粉体供給装置２０との間で常時循環させることができる。或いは、予め定められた量のめっき液を間欠的にめっき装置１から粉体供給装置２０に送って、酸化銅粉体が添加されためっき液を粉体供給装置２０からめっき装置１に間欠的に戻すようにしてもよい。

さらに、純水（ＤＩＷ：Ｄｅ−ｉｏｎｉｚｅｄ Ｗａｔｅｒ）をめっき液中に補充するために、純水供給ライン２２がめっき液タンク３５に接続されている。この純水供給ライン２２には、めっき装置１を停止したとき等に純水供給を停止するための開閉バルブ２３、純水の流量を測定するための流量計２８、純水の流量を調節するための流量調節弁２７が配置されている。開閉バルブ２３は、通常時は開とされる。流量計２８および流量調節弁２７は、めっき制御部１７に接続されている。めっき液中の銅イオン濃度が設定値を超えた場合には、めっき液を希釈するため、めっき制御部１７は、流量調節弁２７の開度を制御して純水をめっき液タンク３５に供給するように構成されている。

めっき制御部１７は、粉体供給装置２０の動作制御部３２と通信可能に接続されている。めっき液中の銅イオン濃度が設定値よりも低下すると、めっき制御部１７は、補給要求値を示す信号を粉体供給装置２０の動作制御部３２に送るように構成されている。この信号を受け、粉体供給装置２０は、酸化銅粉体の添加量が補給要求値に達するまで酸化銅粉体をめっき液に添加する。本実施形態では、めっき制御部１７および動作制御部３２は、別々の装置として構成されているが、一実施形態では、めっき制御部１７および動作制御部３２は１つの制御部として構成されてもよい。この場合、制御部は、プログラムに従って動作するコンピュータでもよい。このプログラムは、記憶媒体に格納されてもよい。

めっき装置１は、めっき液中の銅イオン濃度を測定する濃度測定器１８ａを備えてもよい。濃度測定器１８ａは、めっき液戻り管３７の４つの排出管３７ａにそれぞれ取り付けられている。濃度測定器１８ａによって得られた銅イオン濃度の測定値は、めっき制御部１７に送られる。めっき制御部１７は、電流の累積値から算定しためっき液中の銅イオン濃度を上記設定値と比較してもよいし、または濃度測定器１８ａによって測定された銅イオン濃度を上記設定値と比較してもよい。めっき制御部１７は、電流の累積値から算定しためっき液中の銅イオン濃度（すなわち銅イオン濃度の算定値）と、濃度測定器１８ａによって測定された銅イオン濃度（すなわち銅イオン濃度の測定値）との比較に基づいて、銅イオン濃度の算定値を較正してもよい。

また、めっき液供給管３６に分岐管３６ｂを設け、この分岐管３６ｂに濃度測定器１８ｂを設けてめっき液中の銅イオン濃度をモニタリングしてもよい。また、この分岐管３６ｂに分析装置（例えば、ＣＶＳ装置や比色計など）を設けて銅イオンだけでなく各種化学成分の溶存濃度を定量分析し、監視するようにしてもよい。これにより、それぞれのめっき槽２にめっき液が供給される前にめっき液供給管３６に存在するめっき液中の化学成分、例えば不純物の濃度を分析できる。その結果、不純物がめっき性能に対して影響することを防止し、より精度の高いめっき処理を行うことができる。なお、濃度測定器１８ａ，１８ｂのうちのいずれか一方のみを設けてもよい。

図２は、酸化銅粉体を内部に保持することができる粉体容器２１を示す側面図である。図２に示すように、粉体容器２１は、内部に酸化銅粉体を収容することができる容器本体４５と、容器本体４５に接続された粉体導管４６（投入ノズルの一例に相当する）と、粉体導管４６に取り付けられたバルブ４８とを備えている。容器本体４５は、ポリエチレンなどの合成樹脂から構成されている。容器本体４５には取っ手４９が形成されており、作業員が取っ手４９を掴んで粉体容器２１を持ち運ぶことができるようになっている。

粉体導管４６は、容器本体４５に接合されている。この粉体導管４６は、鉛直方向に対して約３０度の角度で傾斜している。粉体導管４６に取り付けられたバルブ４８を開くと、酸化銅粉体は粉体導管４６を通過することができ、バルブ４８を閉じると、酸化銅粉体は粉体導管４６を通過することができない。図２は、バルブ４８が閉じた状態を示している。粉体導管４６は、その先端にノズル４６ａを有する。ノズル４６ａには、キャップ４７が取り付けられている。

次に、図１に示した粉体供給装置２０について詳細に説明する。図３は、粉体供給装置２０の一部を示す側面図である。粉体供給装置２０の密閉チャンバ２４は図中省略されている。図示のように、ホッパ３３は粉体のリザーバであり、その内部には粉体容器２１から供給された酸化銅粉体が収容される。ホッパ３３は、全体的に円錐台形状を有しており、酸化銅粉体が下方に流れやすくなっている。ホッパ３３の上端開口は、蓋４１で覆われている。蓋４１は、上述した粉体容器２１から酸化銅粉体が投入される投入口１９と、排気口４２とを有する。この排気口４２は、ホッパ３３の内部空間に連通し、図示しない負圧源に接続している。したがって、ホッパ３３は排気口４２によりホッパ３３内の気体が排出される。

フィーダ３０は、ホッパ３３の下部に設けられた開口に連通している。フィーダ３０は、ホッパ３３の下部の開口から後述する投入配管２９（図４参照）に向かって、粉体を供給するように構成される。本実施形態では、フィーダ３０は、スクリュー３０ａを備えたスクリューフィーダーであるが、これに限らず、任意の搬送装置を採用することができる。モータ３１はフィーダ３０に連結されており、フィーダ３０を駆動するように構成される。ホッパ３３およびフィーダ３０は、ブラケット３４に固定されており、さらにブラケット３４は重量測定器４０に支持されている。即ち、重量測定器４０は、ホッパ３３、フィーダ３０、モータ３１、およびホッパ３３とフィーダ３０の内部に存在する酸化銅粉体の総重量を測定するように構成されている。

フィーダ３０の出口３０ｂは包囲カバー４３によって囲まれる。モータ３１がフィーダ３０を駆動すると、ホッパ３３内の酸化銅粉体は、フィーダ３０によって包囲カバー４３の内部に搬送されてめっき液タンク３５内に落下する。フィーダ３０の出口３０ｂは、包囲カバー４３内に位置している。また、粉体供給装置２０は、不活性ガス供給ライン４４（気体供給ラインの一例に相当する）を備える。不活性ガス供給ライン４４は、包囲カバー４３を通過し、後述する螺旋気流生成部品５０（図４参照）に接続される。

重量測定器４０は、モータ３１の動作を制御する動作制御部３２に接続されている。重量測定器４０から出力された重量の測定値は、動作制御部３２に送信され得る。動作制御部３２は、めっき装置１（図１参照）から送られる補給要求値を示す信号を受信し、酸化銅粉体の添加量が補給要求値に達するまで、モータ３１を動作させる。モータ３１はフィーダ３０を駆動し、フィーダ３０は、補給要求値に対応する量の酸化銅粉体をめっき液タンク３５に添加する。

図３に示した粉体供給装置２０においては、上述したように、フィーダ３０の重量は重量測定器４０により測定される。このため、フィーダ３０の出口３０ｂ近傍は、包囲カバ
ー４３と接触しないように構成される。即ち、フィーダ３０の出口３０ｂ近傍と、包囲カバー４３との間には隙間が形成されている。フィーダ３０の出口３０ｂからめっき液タンク３５に酸化銅粉体が落下するときに、この隙間から酸化銅粉体が飛散する可能性がある。本実施形態に係る粉体供給装置２０は、この飛散を抑制する構成を有する。

図４は、図３に示した包囲カバー４３の内部の拡大斜視図である。図４に示すように、包囲カバー４３は、フィーダ３０が挿入される開口４３ａをその側方に有している。フィーダ３０と包囲カバー４３とは非接触であるので、この開口４３ａとフィーダ３０との隙間から酸化銅粉体が飛散する可能性がある。粉体供給装置２０は、包囲カバー４３の内部から図１及び図３に示しためっき液タンク３５に向かって鉛直方向に延びる投入配管２９を有する。投入配管２９は、好ましくは、帯電を防止する超高分子量ポリエチレン材料から構成される。投入配管２９は、粉体が投入される入口開口端部２９ａと、粉体が出る出口開口端部２９ｂ（後述する図６参照）とを有する。入口開口端部２９ａは、図４に示すように上方に開口するように配置されている。これにより、フィーダ３０が搬送した酸化銅粉体は、フィーダ３０の出口３０ｂから落下して、投入配管２９を通じてめっき液タンク３５内に投入される。

本実施形態では、酸化銅粉体が飛散することを抑制するために、投入配管２９の内部に螺旋気流を生成するように構成される螺旋気流生成部品５０を有する。螺旋気流生成部品５０は、不活性ガス供給ライン４４からの不活性ガスを受けて、めっき液タンク３５に向かうように螺旋気流を生成する。

図５Ａは、螺旋気流生成部品５０の斜視図である。図５Ｂは、螺旋気流生成部品５０の側断面図である。図５Ａに示すように、螺旋気流生成部品５０は、投入配管２９の入口開口端部２９ａに取り付けられる。図５Ａ及び図５Ｂに示すように、螺旋気流生成部品５０は、略円筒状の筒状部材５１と、筒状部材５１に取り付けられる又はこれと一体に形成される環状部材５２と、を有する。なお、図５Ａにおいては、環状部材５２と投入配管２９が断面で図示されている。

図５Ａに示すように、螺旋気流生成部品５０が投入配管２９に取り付けられた状態において、筒状部材５１の外面５１ａは、投入配管２９の内面と接触するように構成される。筒状部材５１は、めっき液タンク３５側に位置する第１端部５３（図中下側端部）と、これと逆側の第２端部５４（図中上側端部）とを有する。本実施形態において、筒状部材５１は、投入配管２９の内部に部分的に挿入されて、第２端部５４が投入配管２９から突出するように配置される。

筒状部材５１は、その外面５１ａに、第１端部５３から第２端部５４に向かって延びる一以上の溝５５を有する。言い換えれば、溝５５は、少なくとも第１端部５３に達しており、第２端部５４に達していてもいなくてもよい。本実施形態では、複数の溝５５が外面５１ａに形成される。図示のように、溝５５は、筒状部材５１の軸方向に対して傾斜するように構成される。溝５５の各々は、互いに同一の角度で傾斜するように構成される。なお、溝５５の角度、幅、及び深さは、投入配管２９の内径又は長さ等に応じて適宜設定することが望ましい。筒状部材５１を投入配管２９の内部に部分的に挿入すると、筒状部材５１の溝５５と投入配管２９の内面により、筒状部材５１の軸方向に対して傾斜した複数の流路が画定される。

さらに、筒状部材５１は、周方向に延びる周方向段部５６を有する。本実施形態では、周方向段部５６は、筒状部材５１の第２端部５４に形成される。これにより、筒状部材５１と環状部材５２とによって、溝５５と連通する周方向のガス流路５８（図５Ｂ参照）が画定される。環状部材５２は、その上面（図中上側の面）に、不活性ガス供給ライン４４
が接続されるガス注入口５７を有する。ガス注入口５７は、筒状部材５１の周方向のガス流路５８と連通する。

次に、螺旋気流生成部品５０の機能について説明する。不活性ガス供給ライン４４から不活性ガスがガス注入口５７に供給されると、不活性ガスは、周方向のガス流路５８を通過して複数の溝５５の各々に達する。これにより、溝５５を通過する不活性ガスの圧力を均一化することができる。不活性ガスは、溝５５を通過して、筒状部材５１の第１端部５３から投入配管２９内に排出される。このとき、溝５５が筒状部材５１の軸方向に対して傾斜しているので、不活性ガスにより投入配管２９内に螺旋状の気流（螺旋気流）が生じる。投入配管２９内に発生した螺旋気流は、包囲カバー４３内の空気を投入配管２９内に引き込みながら、投入配管２９の出口開口端部２９ｂ（後述する図６参照）から排出される。これにより、包囲カバー４３内の雰囲気に存在する酸化銅粉体を投入配管２９内に引き込むことができ、酸化銅粉体が飛散することを抑制できる。また、投入配管２９内に生じた螺旋気流は、投入配管２９内部を通過する酸化銅粉体が投入配管２９の内壁面と接触することを防止することができる。これにより、酸化銅粉体が投入配管２９の内壁面に付着することを防止することができる。

以上で説明したように、本実施形態では、螺旋気流生成部品５０により、投入配管２９の内部に螺旋気流を生成することができるので、包囲カバー４３内の粉体の飛散を抑制することができる。また、本実施形態によれば、投入配管２９内に粉体が付着することを抑制することができる。

本実施形態では、筒状部材５１がその外面５１ａに溝５５を有し、この溝５５に気体を供給することにより螺旋気流を生じさせている。よって、本実施形態の螺旋気流生成部品５０によれば、非常に簡易的な構成で螺旋気流を発生させることができる。また、本実施形態では、不活性ガス供給ライン４４がガス注入口５７に接続されて、不活性ガスが螺旋気流生成部品５０を介して投入配管２９内に直接供給される。不活性ガスが包囲カバー４３内の空間に供給される場合、包囲カバー４３内の雰囲気に存在する粉体が飛散する可能性がある。したがって、本実施形態では、包囲カバー４３内の空間に不活性ガスを供給する場合に比べて、包囲カバー４３内の粉体の飛散を抑制することができる。

例えば、螺旋気流生成部品５０を投入配管２９の長さ方向中間部に設けた場合、螺旋気流生成部品５０よりも入口開口端部２９ａ側の投入配管２９の内部には螺旋気流は生じないことになる。この場合、螺旋気流生成部品５０よりも入口開口端部２９ａ側の投入配管２９の内壁に粉体が付着する可能性がある。本実施形態では、螺旋気流生成部品５０が投入配管２９の入口開口端部２９ａに設けられる。これにより、投入配管２９の内部全体に螺旋気流を生じさせることができ、投入配管２９の内部全体に粉体が付着することを抑制することができる。

また、本実施形態では、不活性ガスを投入配管２９内に供給している。めっき液タンク３５に貯留されているめっき液が高温（例えば約４５℃）に維持される場合、めっき液から蒸気が発生する。この蒸気は、投入配管２９内を上昇して包囲カバー４３の内部に到達し、フィーダ３０内に侵入する可能性がある。蒸気がフィーダ３０内の酸化銅粉体に吸着すると、酸化銅粉体が凝集してフィーダ３０を閉塞させるおそれがある。そこで、不活性ガスを投入配管２９内に供給することで、めっき液の蒸気がフィーダ３０内に侵入することを防止することができる。

次に、投入配管２９のめっき液タンク３５側の端部近傍における酸化銅粉体の飛散を抑制する構成について説明する。図６は、本実施形態における投入配管２９の出口開口端部２９ｂを示す側面図である。図６に示すように、投入配管２９は、出口開口端部２９ｂを
有する。不活性ガス供給ライン４４からの不活性ガスは、投入配管２９の出口開口端部２９ｂから出るとき、投入配管２９の内部と外部の圧力差により拡散する。このため、投入配管２９に投入された酸化銅粉体は、不活性ガスの拡散によって飛散し、めっき液タンク３５の壁面に付着する可能性がある。そこで、本実施形態では、図６に示すように、投入配管２９の出口を覆うように筒状のめっき液のカーテンを生成するカーテン生成部品６０を有する。カーテン生成部品６０には、めっき液供給ライン６１が接続され、めっき液が供給される。めっき液供給ライン６１は、例えば、図１に示しためっき液戻り管３７と接続されていてもよいし、めっき液タンク３５内のめっき液をポンプ等で汲み上げてカーテン生成部品６０に供給するように構成されてもよい。

次に、カーテン生成部品６０の詳細な構成について説明する。図７Ａは、カーテン生成部品６０の一例を示す斜視図である。図７Ｂは、図７Ａに示すカーテン生成部品６０の側断面図である。図７Ｃは、カーテン生成部品６０の排出口の形状を示す概略図である。図７Ａ及び図７Ｂに示すように、カーテン生成部品６０は、全体として環状の部材であり、投入配管２９の外周面に取り付けられるように構成される。図７Ｂによく示されるように、カーテン生成部品６０は、第１筒状部分６２と、第１筒状部分６２の外側に位置する第２筒状部分６３とを有する。第２筒状部分６３は、カーテン生成部品６０にめっき液を供給するための入口６４を有する。また、第１筒状部分６２と第２筒状部分６３との間には、めっき液をカーテン状に排出する排出口６５が形成される。なお、入口６４は、第１筒状部分６２に形成されてもよい。

入口６４と排出口６５との間には、めっき液が流れる流路が形成される。本実施形態において、この流路は、第１周方向流路６６と、軸方向流路６７と、第２周方向流路６８と、排出流路６９と、から構成される。第１周方向流路６６は、第１筒状部分６２と第２筒状部分６３との間に周方向に渡って形成され、入口６４と連通する。軸方向流路６７は、第１周方向流路６６と連通する。本実施形態では、カーテン生成部品６０の周方向に沿って複数の軸方向流路６７が略等間隔で配置される。第２周方向流路６８は、第１筒状部分６２と第２筒状部分６３との間に周方向に渡って形成され、軸方向流路６７の各々と連通する。第２周方向流路６８は、めっき液を周方向に沿って流すだけでなく、径方向外側にも流すように構成される。排出流路６９は、第２周方向流路６８の径方向外側と連通し、第２周方向流路６８と排出口６５とを流体連通する。なお、ここでの軸方向とは、第１筒状部分６２及び第２筒状部分６３の中心軸方向をいう。

本実施形態の排出口６５は、図７Ｃに示すように、第１筒状部分６２と第２筒状部分６３との間に全周方向に延在する。言い換えれば、排出口６５は、全体として略環状の断面を有する。なお、図７Ｃは、カーテン生成部品６０の軸方向と直交する断面における形状を示している。排出口６５は、第１径方向幅を有する第１部分６５ａと、第１径方向幅よりも大きな第２径方向幅を有する第２部分６５ｂと、を有する。具体的には、第１部分６５ａの形状は、略扇形状であり、第２部分６５ｂの形状は略円形状である。なお、ここで扇形状とは、円の２本の半径とその間にある２つの円弧によって囲まれた形状をいう。本実施形態では、排出口６５は、複数の第１部分６５ａと複数の第２部分６５ｂとから構成されて、全体として略環状の断面を形成している。言い換えれば、排出口６５は、略扇形状の第２部分６５ｂが、略円形の第１部分６５ａの間を接続するように配置されて構成される。図７Ｃに示すように、複数の第２部分６５ｂは、周方向に略等間隔に配置されることが好ましい。

図７Ａから図７Ｃに示すカーテン生成部品６０の機能について説明する。図６に示しためっき液供給ライン６１からめっき液がカーテン生成部品６０の入口６４に供給されると、めっき液は、第１周方向流路６６を通じてカーテン生成部品６０の全周にいきわたる。全周にいきわたっためっき液は、続いて、複数の軸方向流路６７を通じて軸方向に移動す
る。これにより、めっき液の流れの方向が変化する。続いて、軸方向流路６７を通っためっき液は、第２周方向流路６８を通じて再びカーテン生成部品６０の全周にいきわたる。このとき、めっき液の圧力がカーテン生成部品６０の全周に亘って略均一に分散される。第２周方向流路６８に達しためっき液は、第２周方向流路６８を通じて周方向及び径方向外側に流れて、排出流路６９に達する。排出流路６９に達しためっき液は、排出口６５を通じて略筒状のめっき液のカーテンを生成する。

以上で説明したカーテン生成部品６０によれば、投入配管２９の出口を覆うように筒状のめっき液のカーテンを生成することができる。これにより、酸化銅粉体が投入配管２９から出るときに、不活性ガスの拡散によって飛散し、めっき液タンク３５の壁面に付着することを防止することができる。本実施形態では、投入配管２９に不活性ガスを供給しているが、投入配管２９に不活性ガスを供給しない場合であっても、投入配管２９から出た酸化銅粉体がめっき液タンク３５の壁面に付着する可能性はある。具体的には例えば、酸化銅粉体がめっき液面に衝突するときにめっき液とともに周囲に飛散して、酸化銅粉体が液タンク３５の壁面に付着する可能性がある。したがって、本実施形態に係るカーテン生成部品６０によれば、投入配管２９に不活性ガスを供給しない場合であっても、酸化銅粉体がめっき液面に衝突する際の酸化銅粉体の飛散を抑制することができる。

また、カーテン生成部品６０は、第１部分６５ａと第２部分６５ｂを含む排出口６５を有する。排出口６５が一定の幅を有する単純な環状である場合、連続しためっき液のカーテンを生成することが困難である。また、複数の軸方向流路を周方向に沿って離間配置して排出口６５が構成された場合、シャワー状のめっき液が排出され、めっき液のカーテンを生成することが困難である。本実施形態の排出口６５は、第１部分６５ａと第２部分６５ｂとを含むので、連続しためっき液のカーテンを安定して生成することができる。また、排出口６５が複数の第２部分６５ｂを周方向に略等間隔で有することにより、連続しためっき液のカーテンを一層安定して生成することができる。

本実施形態のカーテン生成部品６０は、第１周方向流路６６と軸方向流路６７を有するので、入口６４から供給されためっき液を直ちにカーテン生成部品６０の全周方向にいきわたらせつつ、その流れ方向を変化させることができる。また、カーテン生成部品６０は、第２周方向流路６８を有するので、めっき液の圧力を全周に均等に分散することができる。

次に、カーテン生成部品６０の変形例について説明する。図８Ａは、カーテン生成部品６０の他の例を示す斜視図である。図８Ｂは、図８Ａに示すカーテン生成部品６０の側断面図である。図８Ａ及び図８Ｂに示すように、この例のカーテン生成部品６０は、図７Ａから図７Ｃに示したカーテン生成部品６０と同様に、全体として環状の部材であり、投入配管２９の外周面に取り付けられるように構成される。図８Ｂによく示されるように、カーテン生成部品６０は、第１筒状部分６２と、第１筒状部分６２の外側に位置する第２筒状部分６３とを有する。第２筒状部分６３は、カーテン生成部品６０にめっき液を供給するための入口６４を有する。また、第１筒状部分６２と第２筒状部分６３との間には、めっき液をカーテン状に排出する排出口６５が形成される。入口６４は、第１筒状部分６２に形成されてもよい。第１筒状部分６２は、第２筒状部分６３よりも軸方向に長い。具体的には、カーテン生成部品６０が投入配管２９に取り付けられた状態において、第１筒状部分６２は、排出口６５よりもめっき液タンク３５側（図８Ａ，図８Ｂ中下方向）に延びる。

入口６４と排出口６５との間には、めっき液が流れる流路が形成される。図示の例において、この流路は、第１周方向流路６６と、軸方向流路６７と、排出流路６９とから構成される。第１周方向流路６６は、第１筒状部分６２と第２筒状部分６３との間に周方向に
渡って形成され、入口６４と連通する。軸方向流路６７は、第１周方向流路６６と連通する。図示の例では、カーテン生成部品６０の周方向に沿って複数の軸方向流路６７が略等間隔で配置され、各々の軸方向流路６７が第１周方向流路６６の径方向外側と連通する。排出流路６９は、軸方向流路６７と排出口６５とを流体連通する流路である。

本実施形態の排出口６５は、第１筒状部分６２と第２筒状部分６３との間に全周方向に延在する。排出口６５は、全体として略環状の断面を有し、排出口６５の径方向の幅（環の厚さ）は、略一定である。第２筒状部分６３は、排出口６５に向かって第１筒状部分６２との距離が近くなるように傾斜したテーパ面６３ａをその内周面に有する。一方で、第２筒状部分６３のテーパ面６３ａと対向する第１筒状部分６２の面は一定の外径を有する。したがって、排出流路６９は、第２筒状部分６３のテーパ面６３ａにより、排出口６５に向かって徐々に狭くなるように構成される。

図８Ａ及び図８Ｂに示すカーテン生成部品６０の機能について説明する。図６に示しためっき液供給ライン６１からめっき液がカーテン生成部品６０の入口６４に供給されると、めっき液は、第１周方向流路６６を通じてカーテン生成部品６０の全周にいきわたる。全周にいきわたっためっき液は、続いて、複数の軸方向流路６７を通じて軸方向に移動する。これにより、めっき液の流れの方向が変化する。続いて、軸方向流路６７を通っためっき液は、排出流路６９に達する。排出流路６９に達しためっき液は、排出口６５に向かって徐々に狭くなる排出流路６９により流速が上昇しながら排出口６５から排出される。排出口６５から排出されるめっき液は、徐々に狭くなる排出流路６９により昇圧され、これにより、略筒状のめっき液のカーテンが生成される。

以上で説明したカーテン生成部品６０によれば、投入配管２９の出口を覆うように筒状のめっき液のカーテンを生成することができる。これにより、酸化銅粉体が投入配管２９から出るときに、不活性ガスの拡散によって飛散し、めっき液タンク３５の壁面に付着することを防止することができる。本実施形態では、投入配管２９に不活性ガスを供給しているが、投入配管２９に不活性ガスを供給しない場合であっても、投入配管２９から出た酸化銅粉体がめっき液タンク３５の壁面に付着する可能性はある。具体的には例えば、酸化銅粉体がめっき液面に衝突するときにめっき液とともに周囲に飛散して、酸化銅粉体が液タンク３５の壁面に付着する可能性がある。したがって、本実施形態に係るカーテン生成部品６０によれば、投入配管２９に不活性ガスを供給しない場合であっても、酸化銅粉体がめっき液面に衝突する際の酸化銅粉体の飛散を抑制することができる。

また、カーテン生成部品６０はテーパ面６３ａを第２筒状部分６３に有し、排出流路６９が排出口６５に向かって徐々に狭くなる。これにより、排出流路６９を通過するめっき液に第１筒状部分６２の外周面に向かう方向の圧力が生じ、めっき液の流速及び圧力を上昇させることができる。また、第１筒状部分６２が排出口６５よりも下方（めっき液タンク３５側）に延びるので、排出口６５から排出されためっき液は第１筒状部分６２の外周面に沿って流れる。これにより、周方向に連続しためっき液のカーテンを安定して生成することができる。

次に、ホッパ３３の蓋４１近傍における酸化銅粉体の飛散を抑制する構成について説明する。図９は、ホッパ３３の蓋４１近傍の拡大側面図である。粉体容器２１から酸化銅粉体をホッパ３３の投入口１９に投入するとき、粉体容器２１の粉体導管４６と投入口１９との隙間から酸化銅粉体がホッパ３３の外に飛散する可能性がある。また、ホッパ３３内に酸化銅粉体が投入されると、ホッパ３３内部の気体が排気口４２から排出されると共に、ホッパ３３内の酸化銅粉体が排気口４２からホッパ３３外部に飛散する可能性がある。そこで、本実施形態では、図９に示すように、粉体供給装置２０は、ホッパ３３の投入口１９と粉体導管４６との隙間から酸化銅粉体を防止するための第１飛散防止部品７４と、
ホッパ３３の排気口４２から酸化銅粉体が飛散することを防止するための第２飛散防止部品７０とを有する。

図９に示すように、本実施形態の粉体供給装置２０は、粉体導管４６のノズル４６ａから投入される酸化銅粉体を受けて、ホッパ３３の投入口１９に酸化銅粉体を投入する中間ノズル８０を有する。本実施形態では、第１飛散防止部品７４は中間ノズル８０に設けられる。他の実施形態では、中間ノズル８０を設けずに、粉体容器２１の粉体導管４６からホッパ３３の投入口１９に直接酸化銅粉体を投入するようにしてもよい。この場合、第１飛散防止部品７４は、粉体導管４６に設けられる。

図１０は、第２飛散防止部品７０の斜視図である。図１０に示すように第２飛散防止部品は、排気口４２を閉止するフィルタ７２と、フィルタ７２を排気口４２に固定する固定部材７１を有する。本実施形態において、フィルタ７２として、ろ布フィルタ等の酸化銅粉体を捕捉することができる任意のフィルタを採用することができる。また、本実施形態では、固定部材７１として、フィルタ７２を排気口４２に押さえつける略筒状の部材が採用される。

図１１は、第１飛散防止部品７４の斜視図である。図１１に示すように、第１飛散防止部品７４は、筒状部材７７と、筒状部材７７から径方向に延在するフランジ部７５とを有する。筒状部材７７は、粉体導管４６又は中間ノズル８０と嵌合するように構成される。第１飛散防止部品７４は、固定ねじ７６により粉体導管４６又は中間ノズル８０に固定され得る。フランジ部７５は、複数の開口を有する。本実施形態では、４つの開口がフランジ部７５に設けられる。これらの複数の開口はフィルタ７２により閉止される。なお、筒状部材７７の内部には開口７８が形成され、開口７８に粉体導管４６又は中間ノズル８０が挿入される。

次に、粉体容器２１から酸化銅粉体をホッパ３３に投入するプロセスについて説明する。図１２は、第１飛散防止部品７４をホッパ３３の投入口１９に接触させる前のホッパ３３の斜視図である。図１３は、第１飛散防止部品７４をホッパ３３の投入口１９に接触させた後のホッパ３３の斜視図である。図１２に示すように、粉体供給装置２０は、水平方向に延在する固定板８５と、固定板８５に螺合された複数のボルト８４を有する。この固定板８５は、図３に示した重量測定器４０には荷重が加わらないように配置される。

図１２に示すように、中間ノズル８０は、フランジ部８１とフランジ部８１から延在するノズル部８２（投入ノズルの一例に相当する）とを有する。第１飛散防止部品７４は、中間ノズル８０のノズル部８２に取り付けられる。フランジ部８１は、ボルト８４が通過可能な複数の孔８３を有する。図１２に示す状態では、複数のボルト８４は、フランジ部８１を下方から支持しており、第１飛散防止部品７４のフィルタ７２（図１１参照）はホッパ３３の投入口１９とは接触していない。したがって、酸化銅粉体をホッパ３３に投入しないときは、中間ノズル８０に取り付けられた第１飛散防止部品７４がホッパ３３に接触しないので、図３に示した重量測定器４０に中間ノズル８０及び第１飛散防止部品７４の重量が加わらない。

図１３に示すように、酸化銅粉体をホッパ３３に投入するときは、まず、中間ノズル８０を周方向に所定角度回転させ、ボルト８４をフランジ部８１の孔８３を通過させる。中間ノズル８０はホッパ３３に向かって移動し、第１飛散防止部品７４がホッパ３３の投入口１９と接触する。これにより、第１飛散防止部品７４のフィルタ７２は、中間ノズル８０とホッパ３３の投入口１９との隙間から酸化銅粉体が飛散することを防止する。

なお、中間ノズル８０が設けられず、第１飛散防止部品７４が、粉体容器２１の粉体導
管４６に設けられる場合は、第１飛散防止部品７４のフィルタ７２が投入口１９に接触するまで粉体導管４６を投入口１９内に挿入して、バルブ４８（図２参照）を開く。これにより、第１飛散防止部品７４のフィルタ７２は、粉体容器２１の粉体導管４６とホッパ３３の投入口１９との隙間から酸化銅粉体が飛散することを防止する。

また、他の実施形態では、第１飛散防止部品７４は、予めホッパ３３の投入口１９に取り付けられてもよい。この場合、中間ノズル８０のノズル部８２又は粉体容器２１の粉体導管４６のノズル４６ａを、投入口１９に取り付けられた第１飛散防止部品７４の筒状部材７７内に挿入して酸化銅粉体をホッパ３３内に投入することができる。なお、この場合、予め第１飛散防止部品７４の重量を含めて、ホッパ３３等の重量を管理する。

上記の実施形態では、めっき装置と別に設置された粉体供給装置に関して説明したが、本発明は、めっき装置が有するめっき槽に直接酸化銅粉体を供給する場合であっても適用可能である。また、めっき液に供給する金属を含む粉体は、酸化銅に限らず、ニッケルなど種々の金属を含むことができる。

以上、本発明の実施形態について説明したが、上述した発明の実施の形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明にはその等価物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲及び明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、又は省略が可能である。

以下に本明細書が開示する形態のいくつかを記載しておく。
第１形態によれば、めっきに使用される金属を含む粉体をめっき液に供給する粉体供給装置が提供される。この粉体供給装置は、めっき液を収容するように構成されるめっき液タンクと、前記めっき液タンク内に前記粉体を投入するための投入配管と、気体を供給するための気体供給ラインと、前記気体供給ラインからの気体を受けて、前記めっき液タンクに向かう螺旋気流を前記投入配管の内部に生成するように構成される螺旋気流生成部品と、を有する。

第２形態によれば、第１形態の粉体供給装置において、前記螺旋気流生成部品は、前記投入配管の内面と接触するように構成される外面を備えた筒状部材を有し、前記筒状部材は、前記めっき液タンク側の第１端部と、前記第１端部と逆側の第２端部とを備え、前記第１端部から前記第２端部に向かって延びる溝を前記外面に有し、前記気体供給ラインからの気体は、前記筒状部材の前記溝を通過するように構成される。

第３形態によれば、第２形態の粉体供給装置において、前記溝は、前記筒状部材の軸方向に対して傾斜するように形成される。

第４形態によれば、第２又は第３形態の粉体供給装置において、前記螺旋気流生成部品は、さらに、周方向に延びて前記溝と連通する空気流路と、前記気体供給ラインと接続され且つ前記空気流路と連通する空気注入口と、を有する。

第５形態によれば、第１から第４形態のいずれかの粉体供給装置において、前記投入配管は、前記粉体が投入される入口開口端部と、前記粉体が出る出口開口端部と、を有し、前記螺旋気流生成部品は、前記投入配管の前記入口開口端部に設けられる。

第６形態によれば、第１から第５形態のいずれかの粉体供給装置において、前記粉体を収容するように構成されるホッパと、前記ホッパの下部に設けられた開口から前記投入配
管に向かって、前記粉体を供給するように構成されるフィーダと、を有する。

第７形態によれば、めっきに使用される金属を含む粉体をめっき液に供給する粉体供給装置が提供される。この粉体供給装置は、めっき液を収容するように構成されるめっき液タンクと、前記めっき液タンク内に前記粉体を投入するための投入配管と、前記投入配管の出口を覆うように筒状の前記めっき液のカーテンを生成するカーテン生成部品と、を有する。

第８形態によれば、第７形態の粉体供給装置において、前記カーテン生成部品は、第１筒状部分と、前記第１筒状部分の外側に位置する第２筒状部分と、を有し、前記第１筒状部分と前記第２筒状部分との間に、前記めっき液を排出する排出口が形成され、前記排出口は、前記第１筒状部分と前記第２筒状部分との間に全周方向に延在し、前記カーテン生成部品の軸方向と直交する断面において、第１径方向幅を有する第１部分と、前記第１径方向幅よりも大きな第２径方向幅を有する第２部分とを有する。

第９形態によれば、第８形態の粉体供給装置において、前記排出口は、複数の前記第２部分を有し、複数の前記第２部分は、周方向に略等間隔に配置される。

第１０形態によれば、第７形態の粉体供給装置において、前記カーテン生成部材は、第１筒状部分と、前記第１筒状部分の外側に位置する第２筒状部分と、前記第１筒状部分と前記第２筒状部分との間に形成される排出口とを有し、前記第１筒状部分と前記第２筒状部分との間に、前記排出口と連通して前記めっき液を排出する排出流路が形成され、前記第２筒状部分は、前記排出口に向かって前記第１筒状部分との距離が近くなるように傾斜したテーパ面をその内周面に有し、前記排出流路は、前記第２筒状部分の前記テーパ面により、前記排出口に向かって徐々に狭くなるように構成される。

第１１形態によれば、第１０形態の粉体供給装置において、前記第１筒状部分は、前記排出口よりも前記めっき液タンク側に延びる。

第１２形態によれば、第８から第１１形態のいずれかの粉体供給装置において、前記カーテン生成部材は、前記めっき液の入口と、前記入口と連通し、前記第１筒状部分と前記第２筒状部分との間を周方向に延びる第１周方向流路と、を有する。

第１３形態によれば、第１２形態の粉体供給装置において、前記カーテン生成部材は、前記第１周方向流路と連通する、複数の軸方向流路を有する。

第１４形態によれば、第１２形態の粉体供給装置において、前記カーテン生成部材は、前記軸方向流路の各々と連通し、前記第１筒状部分と第２筒状部分との間を周方向に延びる第２周方向流路を有し、前記第２周方向流路は、前記排出口と連通する。

第１５形態によれば、第１３形態の粉体供給装置において、前記複数の軸方向流路は、前記排出流路と連通する。

第１６形態によれば、第７から第１５形態のいずれかの粉体供給装置において、前記投入配管内に気体を供給するための気体供給ラインを有する。

第１７形態によれば、めっきに使用される金属を含む粉体をめっき液に供給する粉体供給装置が提供される。この粉体供給装置は、めっき液を収容するように構成されるめっき液タンクと、前記粉体を収容するホッパを有し、前記ホッパは、前記粉体を前記ホッパ内に投入するための投入口と、前記ホッパ内の気体を排出する排気口と、を有し、前記粉体
供給装置は、さらに、前記投入口と前記投入口に前記粉体を投入するための投入ノズルとの隙間から前記粉体が飛散することを防止するように構成される第１飛散防止部品と、前記排気口から前記粉体が飛散することを防止するように構成される第２飛散防止部品と、を有する。

第１８形態によれば、第１７形態の粉体供給装置において、前記第１飛散防止部品は、ろ布フィルタを含み、前記投入口又は前記投入ノズルに取り付けられる。

第１９形態によれば、第１７又は第１８形態の粉体供給装置において、前記第２飛散防止部品は、ろ布フィルタを含み、前記排気口に取り付けられる。

第２０形態によれば、第１７から第１９形態のいずれかの粉体供給装置において、前記投入ノズルは、粉体を収容する粉体容器のノズルである。

第２１形態によれば、第１７から第１９形態のいずれかの粉体供給装置において、粉体を収容する粉体容器のノズルから投入される前記粉体を受けて、前記ホッパの投入口に前記粉体を投入する中間ノズルを有し、前記投入ノズルは、前記中間ノズルである。

第２２形態によれば、第２１形態の粉体供給装置において、前記第１飛散防止部品は、前記中間ノズルに取り付けられ、前記粉体を前記ホッパに投入するときに、前記第１飛散防止部品が前記ホッパの前記投入口と接触するように構成される。

第２３形態によれば、めっきシステムが提供される。このめっきシステムは、第１から第２２形態のいずれかの粉体供給装置と、基板をめっきするためのめっき槽と、前記粉体供給装置の前記めっき液タンクから前記めっき槽に延びるめっき液供給管と、を備える。

２…めっき槽
２０…粉体供給装置
２９…投入配管
２９ａ…入口開口端部
２９ｂ…出口開口端部
３０…フィーダ
３３…ホッパ
３５…めっき液タンク
４２…排気口
４４…不活性ガス供給ライン
４６…粉体導管
４６ａ…ノズル
５０…螺旋気流生成部品
５１…筒状部材
５３…第１端部
５４…第２端部
５５…溝
５６…周方向段部
６０…カーテン生成部品
６２…第１筒状部分
６３…第２筒状部分
６４…入口
６５…排出口
６６…第１周方向流路
６７…軸方向流路
６８…第２周方向流路
６９…排出流路
７０…第２飛散防止部品
７２…フィルタ
７４…第１飛散防止部品
８０…中間ノズル
８２…ノズル部

Claims (23)

1. めっきに使用される金属を含む粉体をめっき液に供給する粉体供給装置であって、
   めっき液を収容するように構成されるめっき液タンクと、
   前記めっき液タンク内に前記粉体を投入するための投入配管と、
   気体を供給するための気体供給ラインと、
   前記気体供給ラインからの気体を受けて、前記めっき液タンクに向かう螺旋気流を前記投入配管の内部に生成するように構成される螺旋気流生成部品と、を有する、粉体供給装置。
2. 請求項１に記載された粉体供給装置において、
   前記螺旋気流生成部品は、前記投入配管の内面と接触するように構成される外面を備えた筒状部材を有し、
   前記筒状部材は、前記めっき液タンク側の第１端部と、前記第１端部と逆側の第２端部とを備え、前記第１端部から前記第２端部に向かって延びる溝を前記外面に有し、
   前記気体供給ラインからの気体は、前記筒状部材の前記溝を通過するように構成される、粉体供給装置。
3. 請求項２に記載された粉体供給装置において、
   前記溝は、前記筒状部材の軸方向に対して傾斜するように形成される、粉体供給装置。
4. 請求項２又は３に記載された粉体供給装置において、
   前記螺旋気流生成部品は、さらに、周方向に延びて前記溝と連通する空気流路と、前記気体供給ラインと接続され且つ前記空気流路と連通する空気注入口と、を有する、粉体供給装置。
5. 請求項１から４のいずれか一項に記載された粉体供給装置において、
   前記投入配管は、前記粉体が投入される入口開口端部と、前記粉体が出る出口開口端部と、を有し、
   前記螺旋気流生成部品は、前記投入配管の前記入口開口端部に設けられる、粉体供給装置。
6. 請求項１から５のいずれか一項に記載された粉体供給装置において、
   前記粉体を収容するように構成されるホッパと、
   前記ホッパの下部に設けられた開口から前記投入配管に向かって、前記粉体を供給するように構成されるフィーダと、を有する、粉体供給装置。
7. めっきに使用される金属を含む粉体をめっき液に供給する粉体供給装置であって、
   めっき液を収容するように構成されるめっき液タンクと、
   前記めっき液タンク内に前記粉体を投入するための投入配管と、
   前記投入配管の出口を覆うように筒状の前記めっき液のカーテンを生成するカーテン生成部品と、を有する、粉体供給装置。
8. 請求項７に記載された粉体供給装置において、
   前記カーテン生成部品は、第１筒状部分と、前記第１筒状部分の外側に位置する第２筒状部分と、を有し、
   前記第１筒状部分と前記第２筒状部分との間に、前記めっき液を排出する排出口が形成され、
   前記排出口は、前記第１筒状部分と前記第２筒状部分との間に全周方向に延在し、前記カーテン生成部品の軸方向と直交する断面において、第１径方向幅を有する第１部分と、
   前記第１径方向幅よりも大きな第２径方向幅を有する第２部分とを有する、粉体供給装置。
9. 請求項８に記載された粉体供給装置において、
   前記排出口は、複数の前記第２部分を有し、
   複数の前記第２部分は、周方向に略等間隔に配置される、粉体供給装置。
10. 請求項７に記載された粉体供給装置において、
    前記カーテン生成部材は、第１筒状部分と、前記第１筒状部分の外側に位置する第２筒状部分と、前記第１筒状部分と前記第２筒状部分との間に形成される排出口とを有し、
    前記第１筒状部分と前記第２筒状部分との間に、前記排出口と連通して前記めっき液を排出する排出流路が形成され、
    前記第２筒状部分は、前記排出口に向かって前記第１筒状部分との距離が近くなるように傾斜したテーパ面をその内周面に有し、
    前記排出流路は、前記第２筒状部分の前記テーパ面により、前記排出口に向かって徐々に狭くなるように構成される、粉体供給装置。
11. 請求項１０に記載された粉体供給装置において、
    前記第１筒状部分は、前記排出口よりも前記めっき液タンク側に延びる、粉体供給装置。
12. 請求項８から１１のいずれか一項に記載された粉体供給装置において、
    前記カーテン生成部材は、
    前記めっき液の入口と、
    前記入口と連通し、前記第１筒状部分と前記第２筒状部分との間を周方向に延びる第１周方向流路と、を有する、粉体供給装置。
13. 請求項１２に記載された粉体供給装置において、
    前記カーテン生成部材は、前記第１周方向流路と連通する、複数の軸方向流路を有する、粉体供給装置。
14. 請求項８又は９に従属する請求項１２に記載された粉体供給装置において、
    前記カーテン生成部材は、前記軸方向流路の各々と連通し、前記第１筒状部分と第２筒状部分との間を周方向に延びる第２周方向流路を有し、
    前記第２周方向流路は、前記排出口と連通する、粉体供給装置。
15. 請求項１０に従属する請求項１３に記載された粉体供給装置において、
    前記複数の軸方向流路は、前記排出流路と連通する、粉体供給装置。
16. 請求項７から１５のいずれか一項に記載された粉体供給装置において、
    前記投入配管内に気体を供給するための気体供給ラインを有する、粉体供給装置。
17. めっきに使用される金属を含む粉体をめっき液に供給する粉体供給装置であって、
    めっき液を収容するように構成されるめっき液タンクと、
    前記粉体を収容するホッパを有し、
    前記ホッパは、前記粉体を前記ホッパ内に投入するための投入口と、前記ホッパ内の気体を排出する排気口と、を有し、
    前記粉体供給装置は、さらに、
    前記投入口と前記投入口に前記粉体を投入するための投入ノズルとの隙間から前記粉体が飛散することを防止するように構成される第１飛散防止部品と、
    前記排気口から前記粉体が飛散することを防止するように構成される第２飛散防止部品と、を有する、粉体供給装置。
18. 請求項１７に記載された粉体供給装置において、
    前記第１飛散防止部品は、ろ布フィルタを含み、前記投入口又は前記投入ノズルに取り付けられる、粉体供給装置。
19. 請求項１７又は１８に記載された粉体供給装置において、
    前記第２飛散防止部品は、ろ布フィルタを含み、前記排気口に取り付けられる、粉体供給装置。
20. 請求項１７から１９のいずれか一項に記載された粉体供給装置において、
    前記投入ノズルは、粉体を収容する粉体容器のノズルである、粉体供給装置。
21. 請求項１７から１９のいずれか一項に記載された粉体供給装置において、
    粉体を収容する粉体容器のノズルから投入される前記粉体を受けて、前記ホッパの投入口に前記粉体を投入する中間ノズルを有し、
    前記投入ノズルは、前記中間ノズルである、粉体供給装置。
22. 請求項２１に記載された粉体供給装置において、
    前記第１飛散防止部品は、前記中間ノズルに取り付けられ、
    前記粉体を前記ホッパに投入するときに、前記第１飛散防止部品が前記ホッパの前記投入口と接触するように構成される、粉体供給装置。
23. 請求項１から２２のいずれか一項に記載された粉体供給装置と、
    基板をめっきするためのめっき槽と、
    前記粉体供給装置の前記めっき液タンクから前記めっき槽に延びるめっき液供給管と、を備えた、めっきシステム。

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