JP2021111448A - Enamel wire and coating material - Google Patents

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Abstract

To provide an enamel wire which can suppress partial discharge even when film thickness of an insulating film is not necessarily increased, and a coating material.SOLUTION: An enamel wire includes a conductor, and an insulating film. The insulating film is composed of polyimide. In the polyimide, a ratio A1/AT that is a ratio of a molar number A1 of a first repeating unit represented by formula (1) to a total molar number AT of the molar number A1 and a molar number A2 of a second repeating unit represented by formula (2) is 0.6 or more and 1.0 or less. In the polyimide, a ratio B1/BT that is a ratio of a molar number B1 of a first group to a total molar number BT of the molar number B1 and a molar number B2 of a second group is 0.8 or more and 1.0 or less. The first group is a group represented by any one of formulae (3) to (6) in R in formula (1) or formula (2). The second group is a group represented by formula (7) in R in formula (1) or formula (2).SELECTED DRAWING: None

Description

本開示はエナメル線及び塗料に関する。 The present disclosure relates to enamel wires and paints.

エナメル線は、導体と、絶縁皮膜とを備える。絶縁皮膜として、ポリイミドから成るものが知られている(特許文献1、2参照)。ポリイミドとして、ピロメリット酸二無水物(PMDA)と4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(ODA)とから合成されるものが知られている。 The enamel wire includes a conductor and an insulating film. As an insulating film, one made of polyimide is known (see Patent Documents 1 and 2). Known polyimides are synthesized from pyromellitic acid dianhydride (PMDA) and 4,4'-diaminodiphenyl ether (ODA).

エナメル線は、産業用モータ等のモータに使用される。近年、モータは小型化、及び軽量化されている。また、出力を向上させるために、モータは高電圧駆動される。また、動力性能向上のために、モータはインバータ駆動される。 Enamel wire is used for motors such as industrial motors. In recent years, motors have become smaller and lighter. Also, in order to improve the output, the motor is driven by a high voltage. Further, in order to improve the power performance, the motor is driven by an inverter.

特開平9−106712号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-106712 特開2014−49377号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-49377

モータが高電圧駆動され、同時にインバータ駆動される場合、高電圧駆動とインバータサージとの重畳により、モータのエナメル線に部分放電が発生するリスクが高まる。部分放電が発生すると、絶縁皮膜が徐々に浸食され、最終的には絶縁不良となる。 When the motor is driven by a high voltage and is driven by an inverter at the same time, the risk of partial discharge occurring in the enamel wire of the motor increases due to the superposition of the high voltage drive and the inverter surge. When a partial discharge occurs, the insulating film is gradually eroded, eventually resulting in poor insulation.

部分放電を抑制する方法として、絶縁皮膜の膜厚を大きくする方法がある。しかしながら、絶縁皮膜の膜厚を大きくすると、モータ内で導体の占有率が低下してしまい、モータの高出力化が困難になる。 As a method of suppressing partial discharge, there is a method of increasing the film thickness of the insulating film. However, if the film thickness of the insulating film is increased, the occupancy rate of the conductor in the motor decreases, and it becomes difficult to increase the output of the motor.

本開示の1つの局面は、必ずしも絶縁皮膜の膜厚を大きくしなくても部分放電を抑制できるエナメル線、及び塗料を提供することが好ましい。 One aspect of the present disclosure is preferably to provide an enamel wire and a coating material that can suppress partial discharge without necessarily increasing the film thickness of the insulating film.

本開示の1の局面は、導体と、前記導体の周囲に設けられ、下記式(1)で表される第1の繰り返し単位及び下記式(2)で表される第2の繰り返し単位を含むか又は前記第1の繰り返し単位を含むポリイミドから成る絶縁皮膜と、を備えるエナメル線である。
前記ポリイミドにおいて、前記第1の繰り返し単位のモル数A1と、前記第2の繰り返し単位のモル数A2との合計モル数ATに対する前記モル数A1の比である比A1/ATが0.6以上1.0以下である。
One aspect of the present disclosure includes a conductor and a first repeating unit provided around the conductor and represented by the following formula (1) and a second repeating unit represented by the following formula (2). Alternatively, it is an enamel wire comprising an insulating film made of polyimide containing the first repeating unit.
In the polyimide, the ratio A1 / AT, which is the ratio of the number of moles A1 to the total number of moles AT of the number of moles A1 of the first repeating unit and the number of moles A2 of the second repeating unit, is 0.6 or more. It is 1.0 or less.

前記ポリイミドは、前記式(1)又は前記式(2)におけるRとして、下記式(3)〜(6)のいずれかで示される第1の基及び下記式(7)で示される第2の基を含むか又は前記第1の基を含む。
前記第1の基のモル数B1と、前記第2の基のモル数B2との合計モル数BTに対する前記モル数B1の比である比B1/BTが0.8以上1.0以下である。
The polyimide has a first group represented by any of the following formulas (3) to (6) and a second group represented by the following formula (7) as R in the formula (1) or the formula (2). Includes a group or comprises the first group.
The ratio B1 / BT, which is the ratio of the number of moles B1 to the total number of moles BT of the number of moles B1 of the first group and the number of moles B2 of the second group, is 0.8 or more and 1.0 or less. ..

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本開示の1つの局面であるエナメル線は、絶縁皮膜の膜厚を必ずしも大きくしなくても、部分放電を抑制できる。
本開示の別の局面は、ポリアミック酸を含む塗料である。前記ポリアミック酸は、下記式(8)で表される第1の繰り返し単位及び下記式(9)で表される第2の繰り返し単位を含むか又は前記第1の繰り返し単位を含む。
前記ポリアミック酸において、前記第1の繰り返し単位のモル数C1と、前記第2の繰り返し単位のモル数C2との合計モル数CTに対する前記モル数C1の比である比C1/CTは、0.6以上1.0以下である。
The enamel wire, which is one aspect of the present disclosure, can suppress partial discharge without necessarily increasing the film thickness of the insulating film.
Another aspect of the disclosure is a coating containing a polyamic acid. The polyamic acid contains a first repeating unit represented by the following formula (8) and a second repeating unit represented by the following formula (9), or contains the first repeating unit.
In the polyamic acid, the ratio C1 / CT, which is the ratio of the number of moles C1 to the total number of moles CT of the number of moles C1 of the first repeating unit and the number of moles C2 of the second repeating unit, is 0. 6 or more and 1.0 or less.

前記ポリアミック酸は、前記式(8)又は前記式(9)におけるRとして、下記式(3)〜(6)のいずれかで示される第1の基及び下記式(7)で示される第2の基を含むか又は前記第1の基を含む。
前記第1の基のモル数D1と、前記第2の基のモル数D2との合計モル数DTに対する前記モル数D1の比である比D1/DTが0.8以上1.0以下である。
The polyamic acid is the first group represented by any of the following formulas (3) to (6) and the second group represented by the following formula (7) as R in the formula (8) or the formula (9). Or contains the first group.
The ratio D1 / DT, which is the ratio of the number of moles D1 to the total number of moles DT of the number of moles D1 of the first group and the number of moles D2 of the second group, is 0.8 or more and 1.0 or less. ..

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本開示の別の局面である塗料を用いて、絶縁皮膜を形成できる。形成された絶縁皮膜は、膜厚が必ずしも大きくなくても、部分放電を抑制できる。 An insulating film can be formed by using a paint which is another aspect of the present disclosure. The formed insulating film can suppress partial discharge even if the film thickness is not necessarily large.

本開示の例示的な実施形態について説明する。
1.エナメル線の構成
エナメル線は、導体と、絶縁皮膜とを備える。導体は、例えば、銅線、アルミニウム線等の金属線から構成される。導体の断面形状は特に限定されない。導体の断面形状として、例えば、円形、平角形状等が挙げられる。導体の直径は、例えば、0.1mm以上3.0mm以下である。
An exemplary embodiment of the present disclosure will be described.
1. 1. Structure of Enamel Wire The enamel wire includes a conductor and an insulating film. The conductor is composed of, for example, a metal wire such as a copper wire or an aluminum wire. The cross-sectional shape of the conductor is not particularly limited. Examples of the cross-sectional shape of the conductor include a circular shape and a flat shape. The diameter of the conductor is, for example, 0.1 mm or more and 3.0 mm or less.

絶縁皮膜は、導体の周囲に設けられる。絶縁皮膜は、例えば、導体の外周面に接している。絶縁皮膜の膜厚は、例えば、25μm以上300μm以下である。絶縁皮膜はポリイミドから成る。ポリイミドは、下記式(1)で表される第1の繰り返し単位を含む。ポリイミドは、下記式(2)で表される第2の繰り返し単位を含んでいてもよいし、含んでいなくてもよい。 The insulating film is provided around the conductor. The insulating film is in contact with, for example, the outer peripheral surface of the conductor. The film thickness of the insulating film is, for example, 25 μm or more and 300 μm or less. The insulating film is made of polyimide. The polyimide contains a first repeating unit represented by the following formula (1). The polyimide may or may not contain a second repeating unit represented by the following formula (2).

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式(1)で表される第1の繰り返し単位は、例えば、3,3’4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(s−BPDA)がジアミンと反応して生じる繰り返し単位である。式(2)で表される第2の繰り返し単位は、例えば、ピロメリット酸二無水物(PMDA)がジアミンと反応して生じる繰り返し単位である。 The first repeating unit represented by the formula (1) is, for example, a repeating unit produced by reacting 3,3'4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (s-BPDA) with a diamine. The second repeating unit represented by the formula (2) is, for example, a repeating unit produced by reacting pyromellitic dianhydride (PMDA) with a diamine.

ポリイミドにおいて、式(1)で表される第1の繰り返し単位のモル数をA1とする。ポリイミドにおいて、式(2)で表される第2の繰り返し単位のモル数をA2とする。ポリイミドにおいて、A1とA2との合計モル数をATとする。ATに対するA1の比を、比A1/ATとする。比A1/ATは、0.6以上1.0以下である。 In polyimide, the number of moles of the first repeating unit represented by the formula (1) is A1. In polyimide, the number of moles of the second repeating unit represented by the formula (2) is A2. In polyimide, the total number of moles of A1 and A2 is AT. The ratio of A1 to AT is defined as the ratio A1 / AT. The ratio A1 / AT is 0.6 or more and 1.0 or less.

比A1/ATが0.6以上であることにより、絶縁皮膜の膜厚が必ずしも大きくなくても、絶縁皮膜の部分放電開始電圧(以下ではPDIVとする)が大きくなる。PDIVが大きいと、部分放電が生じ難い。 When the ratio A1 / AT is 0.6 or more, the partial discharge start voltage (hereinafter referred to as PDIV) of the insulating film becomes large even if the film thickness of the insulating film is not necessarily large. When PDIV is large, partial discharge is unlikely to occur.

比A1/ATが0.6以上である場合にPDIVが大きくなる理由は、以下のように推測される。式(1)で表される第1の繰り返し単位は、式(2)で表される第2の繰り返し単位より分子量が大きい。そのため、比A1/ATが大きいほど、イミド基の密度が低下する。イミド基の密度が低下すると、絶縁皮膜の比誘電率と吸水率とが低下する。その結果、絶縁皮膜のPDIVが大きくなる。 The reason why PDIV increases when the ratio A1 / AT is 0.6 or more is presumed as follows. The first repeating unit represented by the formula (1) has a higher molecular weight than the second repeating unit represented by the formula (2). Therefore, the larger the ratio A1 / AT, the lower the density of imide groups. When the density of imide groups decreases, the relative permittivity and water absorption of the insulating film decrease. As a result, the PDIV of the insulating film becomes large.

また、比A1/ATが0.6以上であることにより、ポリイミドの分子構造が柔軟になる。ポリイミドの分子構造が柔軟になることにより、絶縁皮膜のガラス転移温度Tg、及び高温下での貯蔵弾性率が低下し、絶縁皮膜の熱可塑性が現れる。絶縁皮膜が熱可塑性を有することにより、絶縁皮膜を構成する層間の密着性が向上する。 Further, when the ratio A1 / AT is 0.6 or more, the molecular structure of the polyimide becomes flexible. Since the molecular structure of the polyimide becomes flexible, the glass transition temperature Tg of the insulating film and the storage elastic modulus at a high temperature are lowered, and the thermoplasticity of the insulating film appears. Since the insulating film has thermoplasticity, the adhesion between the layers constituting the insulating film is improved.

ポリイミドは、絶縁皮膜の特性を損ねない範囲で、式(1)で表される第1の繰り返し単位、及び式(2)で表される第2の繰り返し単位のいずれでもない繰り返し単位(以下では他の繰り返し単位Xとする)を含んでいてもよい。ATに対し、他の繰り返し単位Xのモル数の比は、0.1以下であることが好ましい。 Polyimide is a repeating unit that is neither a first repeating unit represented by the formula (1) nor a second repeating unit represented by the formula (2) (hereinafter,) as long as the characteristics of the insulating film are not impaired. Other repeating units X) may be included. The ratio of the number of moles of the other repeating unit X to AT is preferably 0.1 or less.

他の繰り返し単位Xとして、例えば、3,3’4、4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)、3,3’4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物(DSDA)、4,4’−オキシジフタル酸二無水物(ODPA)、4,4’−(2,2−ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)等がジアミンと反応して生じる繰り返し単位が挙げられる。 Other repeating units X include, for example, 3,3'4, 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA), 3,3'4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride (DSDA), and the like. Examples thereof include repeating units formed by the reaction of 4,4'-oxydiphthalic dianhydride (ODPA), 4,4'-(2,2-hexafluoroisopropyridene) diphthalic acid dianhydride (6FDA) and the like with diamine. ..

ポリイミドは、第1の基を含む。第1の基は、式(1)又は式(2)におけるRのうち、下記式(3)〜(6)のいずれかで表される基である。式(1)又は式(2)におけるRは、下記式(3)〜(6)のいずれかで表される基のうちの少なくとも1つを含む。ポリイミドは、第2の基を含んでいてもよいし、含んでいなくてもよい。第2の基は、式(1)又は式(2)におけるRのうち、下記式(7)で表される基である。ポリイミドが、第1の基とともに第2の基を含む場合、PDIVが大きいまま、可撓性および耐熱性を損ねないでエナメル線の製造コストを低減することができる。 The polyimide contains a first group. The first group is a group represented by any of the following formulas (3) to (6) among R in the formula (1) or the formula (2). R in the formula (1) or the formula (2) includes at least one of the groups represented by any of the following formulas (3) to (6). The polyimide may or may not contain a second group. The second group is a group represented by the following formula (7) in R in the formula (1) or the formula (2). When the polyimide contains a second group as well as a first group, the manufacturing cost of the enamel wire can be reduced without impairing the flexibility and heat resistance while the PDIV remains large.

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式(3)で表される基は、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン(TPE−Q)の残基である。TPE−Qは、ポリイミドの合成に使用可能なジアミンに対応する。式(4)で表される基は、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン(TPE−R)の残基である。TPE−Rは、ポリイミドの合成に使用可能なジアミンに対応する。 The group represented by the formula (3) is a residue of 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene (TPE-Q). TPE-Q corresponds to the diamines that can be used in the synthesis of polyimide. The group represented by the formula (4) is a residue of 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (TPE-R). TPE-R corresponds to diamines that can be used in the synthesis of polyimide.

式(5)で表される基は、1、3―ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン(APB)の残基である。APBは、ポリイミドの合成に使用可能なジアミンに対応する。式(6)で表される基は、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル(BODA)の残基である。BODAは、ポリイミドの合成に使用可能なジアミンに対応する。 The group represented by the formula (5) is a residue of 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene (APB). APB corresponds to the diamines that can be used in the synthesis of polyimide. The group represented by the formula (6) is a residue of 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl (BODA). BODA corresponds to diamines that can be used in the synthesis of polyimide.

式(7)で表される基は、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(ODA)の残基である。ODAは、ポリイミドの合成に使用可能なジアミンに対応する。
ポリイミドにおいて、第1の基のモル数をB1とする。ポリイミドにおいて、第2の基のモル数をB2とする。ポリイミドにおいて、B1とB2との合計モル数をBTとする。BTに対するB1の比を、比B1/BTとする。比B1/BTは、0.8以上1.0以下である。
The group represented by the formula (7) is a residue of 4,4'-diaminodiphenyl ether (ODA). ODA corresponds to diamines that can be used in the synthesis of polyimide.
In polyimide, the number of moles of the first group is B1. In polyimide, the number of moles of the second group is B2. In polyimide, the total number of moles of B1 and B2 is defined as BT. The ratio of B1 to BT is defined as the ratio B1 / BT. The ratio B1 / BT is 0.8 or more and 1.0 or less.

比B1/BTが0.8以上であることにより、絶縁皮膜のPDIVが大きくなる。その理由は以下のように推測される。第1の基は第2の基より分子量が大きい。そのため、比B1/BTが大きいほど、イミド基の密度が低下する。イミド基の密度が低下すると、絶縁皮膜の比誘電率と吸水率とが低下する。その結果、絶縁皮膜のPDIVが大きくなる。 When the ratio B1 / BT is 0.8 or more, the PDIV of the insulating film becomes large. The reason is presumed as follows. The first group has a higher molecular weight than the second group. Therefore, the larger the ratio B1 / BT, the lower the density of imide groups. When the density of imide groups decreases, the relative permittivity and water absorption of the insulating film decrease. As a result, the PDIV of the insulating film becomes large.

式(1)又は式(2)におけるRは、例えば、その全てが、式(3)〜(7)のいずれかで表される基である。また、絶縁皮膜の特性を損ねない範囲で、Rの一部は、式(3)〜(7)のいずれにも該当しない基であってもよい。BTに対し、式(3)〜(7)のいずれにも該当しない基のモル数の比は、0.1以下であることが好ましい。 The R in the formula (1) or the formula (2) is, for example, a group in which all of them are represented by any of the formulas (3) to (7). Further, a part of R may be a group that does not correspond to any of the formulas (3) to (7) as long as the characteristics of the insulating film are not impaired. The ratio of the number of moles of groups that do not correspond to any of the formulas (3) to (7) to BT is preferably 0.1 or less.

ポリイミドの末端は、キャッピングされていてもよい。キャッピングに用いる材料として、例えば、無水酸を含む化合物、アミノ基を含む化合物等が挙げられる。無水酸を含む化合物として、例えば、フタル酸無水物、4−メチルフタル酸無水物、3−メチルフタル酸無水物、1,2−ナフタル酸無水物マレイン酸無水物、2,3−ナフタレンジカルボン酸無水物、各種フッ素化フタル酸無水物、各種ブロム化フタル酸無水物、各種クロル化フタル酸無水物、2,3−アントラセンジカルボン酸無水物、4−エチニルフタル酸無水物、4−フェニルエチニルフタル酸無水物等が挙げられる。アミノ基を含む化合物として、例えば、アミノ基をひとつ含む化合物が挙げられる。 The end of the polyimide may be capped. Examples of the material used for capping include a compound containing an anhydride and a compound containing an amino group. Examples of compounds containing anhydrous acid include phthalic anhydride, 4-methylphthalic anhydride, 3-methylphthalic anhydride, 1,2-naphthalic anhydride, maleic anhydride, and 2,3-naphthalenedicarboxylic acid anhydride. , Various fluorinated phthalic anhydrides, various brominated phthalic anhydrides, various chlorinated phthalic anhydrides, 2,3-anthracene dicarboxylic hydrides, 4-ethynyl phthalic anhydrides, 4-phenylethynyl phthalic anhydrides Things etc. can be mentioned. Examples of the compound containing an amino group include a compound containing one amino group.

本開示のエナメル線は、絶縁皮膜の膜厚が必ずしも大きくなくても、PDIVが大きい。絶縁皮膜の膜厚が40μmの場合、PDIVが970Vp以上であることが好ましい。
本開示のエナメル線は、可撓性が良好である。本開示のエナメル線を20%伸長した後に、エナメル線の2倍径の治具にエナメル線を巻き付けた場合、絶縁皮膜に亀裂及び割れが生じないことが好ましい。
The enamel wire of the present disclosure has a large PDIV even if the film thickness of the insulating film is not necessarily large. When the film thickness of the insulating film is 40 μm, the PDIV is preferably 970 Vp or more.
The enamel wire of the present disclosure has good flexibility. When the enamel wire of the present disclosure is stretched by 20% and then wound around a jig having a diameter twice that of the enamel wire, it is preferable that the insulating film is not cracked or cracked.

本開示のエナメル線は、耐熱性が良好である。260℃の空気中でエナメル線を500時間保存する熱処理を行った後における絶縁皮膜の絶縁破壊電圧が、熱処理を行っていない絶縁皮膜の絶縁破壊電圧の70%以上であることが好ましい。 The enamel wire of the present disclosure has good heat resistance. It is preferable that the dielectric breakdown voltage of the insulating film after the heat treatment for storing the enamel wire in air at 260 ° C. for 500 hours is 70% or more of the dielectric breakdown voltage of the insulating film not subjected to the heat treatment.

エナメル線は、導体と絶縁皮膜との間に、密着層を備えていてもよい。密着層は、導体と絶縁皮膜との密着性を向上させる。密着層の膜厚は、エナメル線の可撓性や耐部分放電性を損ねないように薄いことが好ましい。耐部分放電性とは、PDIVが大きいことを意味する。密着層の膜厚は、例えば、1〜10μmである。 The enamel wire may be provided with an adhesion layer between the conductor and the insulating film. The adhesion layer improves the adhesion between the conductor and the insulating film. The film thickness of the adhesion layer is preferably thin so as not to impair the flexibility and partial discharge resistance of the enamel wire. Partial discharge resistance means that PDIV is large. The film thickness of the adhesion layer is, for example, 1 to 10 μm.

エナメル線は、導体と絶縁皮膜との間に、軟化温度の高い皮膜(以下では耐軟化層とする)を備えていてもよい。耐軟化層を備える場合、エナメル線の耐軟化性が向上する。耐軟化層の膜厚は、エナメル線の可撓性や耐部分放電性を損ねず、且つ、エナメル線の耐軟化性が向上するように、適宜設定することができる。耐軟化層の材質は、例えば、PMDAとODAとを主たる成分としたポリイミドである。 The enamel wire may be provided with a film having a high softening temperature (hereinafter referred to as a softening resistant layer) between the conductor and the insulating film. When the softening layer is provided, the softening resistance of the enamel wire is improved. The film thickness of the softening layer can be appropriately set so as not to impair the flexibility and partial discharge resistance of the enamel wire and to improve the softening resistance of the enamel wire. The material of the softening layer is, for example, polyimide containing PMDA and ODA as main components.

絶縁皮膜は、添加剤を含んでいてもよい。添加剤として、例えば、フィルム強度を改善する添加剤、表面の滑り性や耐摩耗性を向上させる添加剤、酸化防止剤、伸び特性を向上させる添加剤、低誘電率化させる添加剤、半導電化のための添加剤等が挙げられる。 The insulating film may contain additives. As additives, for example, additives that improve film strength, additives that improve surface slipperiness and wear resistance, antioxidants, additives that improve elongation characteristics, additives that lower the dielectric constant, and semiconductivity. Examples include additives for chemical conversion.

絶縁皮膜は、例えば、内部に複数の空孔を備えた絶縁皮膜であってもよい。内部に複数の空孔を備える絶縁皮膜として、例えば、発泡剤により発泡した絶縁皮膜、中空の粒子を複数含む絶縁皮膜等が挙げられる。 The insulating film may be, for example, an insulating film having a plurality of holes inside. Examples of the insulating film having a plurality of pores inside include an insulating film foamed by a foaming agent, an insulating film containing a plurality of hollow particles, and the like.

2.エナメル線の製造方法
エナメル線の製造方法は、例えば、後述する塗料を用いて、導体の周囲を囲む絶縁皮膜を形成する方法である。絶縁皮膜を形成する方法は、例えば、塗料を導体に塗装し、焼き付ける工程を繰り返す方法である。焼き付けの温度は、例えば、300〜500℃である。1回の工程における焼き付けの時間は、例えば、1〜2分間である。工程を繰り返す回数は、例えば、10〜50回である。工程を繰り返す回数が多いほど、絶縁皮膜の膜厚は大きくなる。
2. Method for manufacturing enamel wire The method for manufacturing enamel wire is, for example, a method of forming an insulating film surrounding a conductor by using a paint described later. The method of forming the insulating film is, for example, a method of repeating a process of applying a paint to a conductor and baking it. The baking temperature is, for example, 300 to 500 ° C. The baking time in one step is, for example, 1 to 2 minutes. The number of times the process is repeated is, for example, 10 to 50 times. The more the process is repeated, the larger the film thickness of the insulating film.

エナメル線の製造方法は、塗装の方法には限定されず、高温で絶縁皮膜を成型する方法でもよい。エナメル線が密着層又は耐軟化層を備える場合は、密着層又は耐軟化層を形成した後に、絶縁皮膜を形成する。 The method for producing the enamel wire is not limited to the coating method, and may be a method of molding an insulating film at a high temperature. When the enamel wire has an adhesive layer or a softening resistant layer, an insulating film is formed after forming the adhesive layer or the softening resistant layer.

3.塗料の構成
塗料は、例えば、絶縁塗料である。塗料は、例えば、エナメル線用塗料である。塗料は、ポリアミック酸を含む。ポリアミック酸は、下記式(8)で表される第1の繰り返し単位を含む。ポリアミック酸は、下記式(9)で表される第2の繰り返し単位を含んでいてもよいし、含んでいなくてもよい。
3. 3. Composition of paint The paint is, for example, an insulating paint. The paint is, for example, a paint for enamel wire. The paint contains a polyamic acid. The polyamic acid contains a first repeating unit represented by the following formula (8). The polyamic acid may or may not contain a second repeating unit represented by the following formula (9).

Figure 2021111448
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ポリアミック酸において、式(8)で表される第1の繰り返し単位のモル数をC1とする。ポリアミック酸において、式(9)で表される第2の繰り返し単位のモル数をC2とする。ポリアミック酸において、C1とC2との合計モル数をCTとする。CTに対するC1の比を、比C1/CTとする。比C1/CTは、0.6以上1.0以下である。 In polyamic acid, the number of moles of the first repeating unit represented by the formula (8) is defined as C1. In polyamic acid, the number of moles of the second repeating unit represented by the formula (9) is defined as C2. In polyamic acid, the total number of moles of C1 and C2 is defined as CT. The ratio of C1 to CT is defined as the ratio C1 / CT. The ratio C1 / CT is 0.6 or more and 1.0 or less.

比C1/CTが0.6以上であることにより、塗料を用いて形成した絶縁皮膜の膜厚が必ずしも大きくなくても、絶縁皮膜のPDIVが大きくなる。
比C1/CTが0.6以上である場合にPDIVが大きくなる理由は、以下のように推測される。式(8)で表される第1の繰り返し単位は、式(9)で表される第2の繰り返し単位より分子量が大きい。そのため、比C1/CTが大きいほど、イミド基の密度が低下する。イミド基の密度が低下すると、絶縁皮膜の比誘電率と吸水率とが低下する。その結果、絶縁皮膜のPDIVが大きくなる。
When the ratio C1 / CT is 0.6 or more, the PDIV of the insulating film becomes large even if the film thickness of the insulating film formed by using the paint is not necessarily large.
The reason why PDIV increases when the ratio C1 / CT is 0.6 or more is presumed as follows. The first repeating unit represented by the formula (8) has a higher molecular weight than the second repeating unit represented by the formula (9). Therefore, the larger the ratio C1 / CT, the lower the density of imide groups. When the density of imide groups decreases, the relative permittivity and water absorption of the insulating film decrease. As a result, the PDIV of the insulating film becomes large.

また、比C1/CTが0.6以上であることにより、塗料を用いて形成した絶縁皮膜に含まれるポリイミドの分子構造が柔軟になる。ポリイミドの分子構造が柔軟になることにより、絶縁皮膜のガラス転移温度Tg、及び高温下での貯蔵弾性率が低下し、絶縁皮膜の熱可塑性が現れる。絶縁皮膜が熱可塑性を有することにより、絶縁皮膜を構成する層間の密着性が向上する。 Further, when the ratio C1 / CT is 0.6 or more, the molecular structure of the polyimide contained in the insulating film formed by using the paint becomes flexible. Since the molecular structure of the polyimide becomes flexible, the glass transition temperature Tg of the insulating film and the storage elastic modulus at a high temperature are lowered, and the thermoplasticity of the insulating film appears. Since the insulating film has thermoplasticity, the adhesion between the layers constituting the insulating film is improved.

ポリアミック酸は、塗料を用いて形成した絶縁皮膜の特性を損ねない範囲で、式(8)で表される第1の繰り返し単位、及び式(9)で表される第2の繰り返し単位のいずれでもない繰り返し単位(以下では他の繰り返し単位Yとする)を含んでいてもよい。CTに対し、他の繰り返し単位Yのモル数の比は、0.1以下であることが好ましい。 The polyamic acid is either the first repeating unit represented by the formula (8) or the second repeating unit represented by the formula (9) as long as the characteristics of the insulating film formed by using the paint are not impaired. It may also include a repeating unit that is not (hereinafter referred to as another repeating unit Y). The ratio of the number of moles of the other repeating unit Y to CT is preferably 0.1 or less.

他の繰り返し単位Yとして、例えば、BTDA、DSDA、ODPA、6FDA等がジアミンと反応して生じる繰り返し単位が挙げられる。
ポリアミック酸は、第1の基を含む。第1の基は、式(8)又は式(9)におけるRのうち、下記式(3)〜(6)のいずれかで表される基である。式(8)又は式(9)におけるRは、下記式(3)〜(6)のいずれかで表される基のうちの少なくとも1つを含む。ポリアミック酸は、第2の基を含んでいてもよいし、含んでいなくてもよい。第2の基は、式(1)又は式(2)におけるRのうち、下記式(7)で表される基である。
ポリアミック酸が、第1の基とともに第2の基を含む場合、PDIVが大きいまま、可撓性および耐熱性を損ねないでエナメル線の製造コストを低減することができる。
Examples of the other repeating unit Y include a repeating unit formed by the reaction of BTDA, DSDA, ODPA, 6FDA and the like with a diamine.
The polyamic acid contains a first group. The first group is a group represented by any of the following formulas (3) to (6) among R in the formula (8) or the formula (9). R in the formula (8) or the formula (9) includes at least one of the groups represented by any of the following formulas (3) to (6). The polyamic acid may or may not contain a second group. The second group is a group represented by the following formula (7) in R in the formula (1) or the formula (2).
When the polyamic acid contains a second group together with the first group, the production cost of the enamel wire can be reduced without impairing the flexibility and heat resistance while the PDIV remains large.

Figure 2021111448
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式(3)で表される基は、TPE−Qの残基である。TPE−Qは、ポリアミック酸の合成に使用可能なジアミンに対応する。式(4)で表される基は、TPE−Rの残基である。TPE−Rは、ポリアミック酸の合成に使用可能なジアミンに対応する。式(5)で表される基は、APBの残基である。APBは、ポリアミック酸の合成に使用可能なジアミンに対応する。式(6)で表される基は、BODAの残基である。BODAは、ポリアミック酸の合成に使用可能なジアミンに対応する。式(7)で表される基は、ODAの残基である。ODAは、ポリアミック酸の合成に使用可能なジアミンに対応する。 The group represented by the formula (3) is a residue of TPE-Q. TPE-Q corresponds to the diamines that can be used in the synthesis of polyamic acids. The group represented by the formula (4) is a residue of TPE-R. TPE-R corresponds to the diamines that can be used in the synthesis of polyamic acids. The group represented by the formula (5) is a residue of APB. APB corresponds to the diamines that can be used in the synthesis of polyamic acids. The group represented by the formula (6) is a residue of BODA. BODA corresponds to the diamines that can be used in the synthesis of polyamic acids. The group represented by the formula (7) is a residue of ODA. ODA corresponds to diamines that can be used in the synthesis of polyamic acids.

ポリアミック酸において、第1の基のモル数をD1とする。ポリアミック酸において、第2の基のモル数をD2とする。ポリアミック酸において、D1とD2との合計モル数をDTとする。DTに対するD1の比を、比D1/DTとする。比D1/DTは、0.8以上1.0以下である。 In polyamic acids, the number of moles of the first group is D1. In polyamic acid, the number of moles of the second group is D2. In polyamic acid, the total number of moles of D1 and D2 is defined as DT. The ratio of D1 to DT is defined as the ratio D1 / DT. The ratio D1 / DT is 0.8 or more and 1.0 or less.

比D1/DTが0.8以上であることにより、塗料を用いて形成した絶縁皮膜のPDIVが大きくなる。その理由は以下のように推測される。第1の基は第2の基より分子量が大きい。そのため、比D1/DTが大きいほど、イミド基の密度が低下する。イミド基の密度が低下すると、絶縁皮膜の比誘電率と吸水率とが低下する。その結果、絶縁皮膜のPDIVが大きくなる。 When the ratio D1 / DT is 0.8 or more, the PDIV of the insulating film formed by using the paint becomes large. The reason is presumed as follows. The first group has a higher molecular weight than the second group. Therefore, the larger the ratio D1 / DT, the lower the density of imide groups. When the density of imide groups decreases, the relative permittivity and water absorption of the insulating film decrease. As a result, the PDIV of the insulating film becomes large.

式(8)又は式(9)におけるRは、例えば、その全てが、式(3)〜(7)のいずれかで表される基である。また、絶縁皮膜の特性を損ねない範囲で、Rの一部は、式(3)〜(7)のいずれにも該当しない基であってもよい。DTに対し、式(3)〜(7)のいずれにも該当しない基のモル数の比は、0.1以下であることが好ましい。 The R in the formula (8) or the formula (9) is, for example, a group in which all of them are represented by any of the formulas (3) to (7). Further, a part of R may be a group that does not correspond to any of the formulas (3) to (7) as long as the characteristics of the insulating film are not impaired. The ratio of the number of moles of groups that do not correspond to any of the formulas (3) to (7) to DT is preferably 0.1 or less.

ポリアミック酸の末端は、キャッピングされていてもよい。キャッピングに用いる材料として、例えば、ポリイミドのキャッピングに用いる材料と同様のものが挙げられる。
塗料の溶媒として、例えば、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、γ−ブチロラクトン、N、N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、N、N−ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルイミダゾリジノン(DMI)、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、炭化水素系等が挙げられる。上述した溶媒のうち2種以上を、塗料の特性を損ねない範囲で併用してもよい。塗料の溶媒は、例えば、ポリアミック酸を合成するときの溶媒である。
The ends of the polyamic acid may be capped. Examples of the material used for capping include the same materials as those used for polyimide capping.
As paint solvents, for example, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), γ-butyrolactone, N, N-dimethylacetamide (DMAC), N, N-dimethylformamide (DMF), dimethylimidazolidinone (DMI), Cyclohexanone, methylcyclohexanone, hydrocarbons and the like can be mentioned. Two or more of the above-mentioned solvents may be used in combination as long as the characteristics of the coating material are not impaired. The solvent of the paint is, for example, a solvent for synthesizing a polyamic acid.

塗料は、添加剤を含んでいてもよい。添加剤として、例えば、フィルム強度を改善する添加剤、表面の滑り性や耐摩耗性を向上させる添加剤、酸化防止剤、伸び特性を向上させる添加剤、低誘電率化させる添加剤、半導電化のための添加剤等が挙げられる。 The paint may contain additives. As additives, for example, additives that improve film strength, additives that improve surface slipperiness and wear resistance, antioxidants, additives that improve elongation characteristics, additives that lower the dielectric constant, and semiconductivity. Examples include additives for chemical conversion.

塗料は、例えば、発泡剤、中空粒子等を含んでいてもよい。塗料が発泡剤、中空粒子等を含んでいる場合、内部に複数の空孔を備えた絶縁皮膜を形成することができる。
4.塗料の製造方法
ポリアミック酸は、例えば、酸二無水物と、ジアミンとを反応させることで製造できる。酸二無水物と、ジアミンとのモル比は、例えば、100:100である。また、酸二無水物と、ジアミンとのモル比は、例えば、絶縁皮膜の特性を損ねない範囲で、100:100から外れていてもよい。絶縁皮膜の特性とは、例えば、可撓性である。
The paint may contain, for example, a foaming agent, hollow particles and the like. When the paint contains a foaming agent, hollow particles, or the like, an insulating film having a plurality of pores can be formed inside.
4. Method for Producing Paint Polyamic acid can be produced, for example, by reacting acid dianhydride with diamine. The molar ratio of acid dianhydride to diamine is, for example, 100: 100. Further, the molar ratio of the acid dianhydride to the diamine may deviate from 100: 100, for example, as long as the characteristics of the insulating film are not impaired. The characteristic of the insulating film is, for example, flexibility.

例えば、100モルの酸二無水物に対し、100.1〜105.0モルのジアミンを配合することができる。また、例えば、100モルのジアミンに対し、100.1〜105.0モルの酸二無水物を配合することができる。酸二無水物及びジアミンのうちの一方を他方に対し過剰に配合することで、ポリアミック酸の分子量を小さく制御することができる。ポリアミック酸の分子量が小さくなると、塗料の粘度が小さくなり、塗装における作業性がよくなる。 For example, 10.0 to 105.0 mol of diamine can be blended with 100 mol of acid dianhydride. Further, for example, 10.0 to 105.0 mol of acid dianhydride can be blended with 100 mol of diamine. By adding one of the acid dianhydride and the diamine in excess to the other, the molecular weight of the polyamic acid can be controlled to be small. When the molecular weight of the polyamic acid is reduced, the viscosity of the paint is reduced and the workability in painting is improved.

ポリアミック酸を合成するときの温度は、生成するポリアミック酸の特性を損ねない範囲で適宜調整することができる。ポリアミック酸を合成するときの温度は、例えば、0〜100℃の範囲内である。ポリアミック酸を合成した後に、塗料を50〜100℃程度に加温し、塗料を撹拌することで、塗料の粘度を調整してもよい。調整後の塗料の粘度は、例えば、1〜5Pa・sである。 The temperature at which the polyamic acid is synthesized can be appropriately adjusted as long as the characteristics of the produced polyamic acid are not impaired. The temperature at which the polyamic acid is synthesized is, for example, in the range of 0 to 100 ° C. After synthesizing the polyamic acid, the viscosity of the paint may be adjusted by heating the paint to about 50 to 100 ° C. and stirring the paint. The adjusted viscosity of the paint is, for example, 1 to 5 Pa · s.

5.実施例
(5−1)塗料の製造
実施例1〜7の塗料、及び比較例1〜5の塗料を製造した。塗料の製造方法は、まず、NMPにジアミンを溶解させ、次に、酸二無水物を溶解させ、次に、室温で12時間攪拌する方法であった。このとき、NMPの質量は80質量部であり、ジアミンと酸二無水物との合計質量は20質量部であった。攪拌の結果、ポリアミック酸を含む塗料が得られた。得られた塗料を、塗装作業性を良くするために希釈し、粘度を調整した。調整後の塗料の粘度は2〜3Pas/secであった。
5. Example (5-1) Production of Paint The paints of Examples 1 to 7 and the paints of Comparative Examples 1 to 5 were produced. The method for producing the coating material was to first dissolve the diamine in NMP, then dissolve the acid dianhydride, and then stir at room temperature for 12 hours. At this time, the mass of NMP was 80 parts by mass, and the total mass of diamine and acid dianhydride was 20 parts by mass. As a result of stirring, a paint containing a polyamic acid was obtained. The obtained paint was diluted to improve the workability of painting, and the viscosity was adjusted. The adjusted viscosity of the paint was 2-3 Pas / sec.

各実施例及び各比較例において、ジアミンの種類及び量、並びに、酸二無水物の種類及び量は表1に示すとおりであった。表1におけるジアミンの量は、全てのジアミンの合計モル数に対するモル比である。表1における酸二無水物の量は、全ての酸二無水物の合計モル数に対するモル比である。 In each Example and each Comparative Example, the type and amount of diamine and the type and amount of acid dianhydride were as shown in Table 1. The amount of diamine in Table 1 is the molar ratio to the total number of moles of all diamines. The amount of acid dianhydride in Table 1 is the molar ratio to the total number of moles of all acid dianhydrides.

Figure 2021111448
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ただし、さらに詳しくは、各実施例及び各比較例において、酸二無水物又はジアミンのうち一方のモル数を、他方のモル数に比べて0.1〜5%だけ多くした。この理由は、塗料が過度に高粘度化することを抑制するためである。表1におけるBAPPは、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパンである。 However, more specifically, in each Example and each Comparative Example, the number of moles of one of the acid dianhydrides or diamines was increased by 0.1 to 5% as compared with the number of moles of the other. The reason for this is to prevent the paint from becoming excessively viscous. The BAPP in Table 1 is 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane.

なお、PMDAは、式(2)で表される第2の繰り返し単位、及び式(9)で表される第2の繰り返し単位を生じさせる酸二無水物である。PMDAのモル数は、式(2)で表される第2の繰り返し単位のモル数と等しく、式(9)で表される第2の繰り返し単位のモル数と等しい。s−BPDAは、式(1)で表される第1の繰り返し単位、及び式(8)で表される第1の繰り返し単位を生じさせる酸二無水物である。s−BPDAのモル数は、式(1)で表される第1の繰り返し単位のモル数と等しく、式(8)で表される第1の繰り返し単位のモル数と等しい。 PMDA is an acid dianhydride that produces a second repeating unit represented by the formula (2) and a second repeating unit represented by the formula (9). The number of moles of PMDA is equal to the number of moles of the second repeating unit represented by the formula (2) and equal to the number of moles of the second repeating unit represented by the formula (9). s-BPDA is an acid dianhydride that gives rise to the first repeating unit represented by the formula (1) and the first repeating unit represented by the formula (8). The number of moles of s-BPDA is equal to the number of moles of the first repeating unit represented by the formula (1) and equal to the number of moles of the first repeating unit represented by the formula (8).

ODAは、式(7)で表される第2の基を生じさせるジアミンである。BODAは、式(6)で表される第1の基を生じさせるジアミンである。TPE−Rは、式(4)で表される第1の基を生じさせるジアミンである。
(5−2)エナメル線の製造
各実施例及び各比較例の塗料を用いて、以下の方法でエナメル線を製造した。直径0.8mmの銅線を用意した。この銅線は導体に対応する。塗料を銅線に塗装し、焼き付ける工程を繰り返した。焼き付けには塗装炉を使用した。焼き付けの温度は450℃であった。1回の工程における焼き付けの時間は90秒間であった。上記の工程を繰り返した回数は15回であった。その結果、銅線の周囲に絶縁皮膜が形成され、エナメル線が得られた。絶縁皮膜の膜厚は40μmであった。
(5−3)エナメル線の評価
(i)PDIVの測定
各実施例及び各比較例のエナメル線のそれぞれについて、以下の方法でPDIVを測定した。エナメル線から、500mmの長さの切断片を複数切り出した。2本の切断片からツイストペアを作成した。このツイストペアを10個作成した。
ODA is a diamine that gives rise to a second group represented by formula (7). BODA is a diamine that gives rise to the first group represented by the formula (6). TPE-R is a diamine that gives rise to the first group represented by the formula (4).
(5-2) Production of Enamel Wire Using the paints of each Example and each Comparative Example, an enamel wire was produced by the following method. A copper wire having a diameter of 0.8 mm was prepared. This copper wire corresponds to the conductor. The process of applying the paint to the copper wire and baking it was repeated. A painting furnace was used for baking. The baking temperature was 450 ° C. The baking time in one step was 90 seconds. The number of times the above steps were repeated was 15 times. As a result, an insulating film was formed around the copper wire, and an enamel wire was obtained. The film thickness of the insulating film was 40 μm.
(5-3) Evaluation of enamel wire
(i) Measurement of PDIV PDIV was measured by the following method for each of the enamel wires of each Example and each Comparative Example. A plurality of cut pieces having a length of 500 mm were cut out from the enamel wire. Twisted pair was made from two pieces. Ten twisted pairs were created.

ツイストペアのうち、端部を含む長さ10mmの部分(以下では端末処理部とする)の絶縁皮膜を除去した。端末処理部に電極を接続した。25℃、湿度50%の雰囲気で、ツイストペアに50Hzの電圧を加え、10〜30V/sで昇圧した。ツイストペアに10pCの放電が毎秒50回発生したときの電圧をPDIVとした。1つのツイストペアについて、この操作を3回繰り返し、3回の測定の平均値を、そのツイストペアのPDIVとした。10個のツイストペアのPDIVの平均値を算出した。PDIVの測定結果を表1に示す。 Of the twisted pair, the insulating film of a portion having a length of 10 mm including the end portion (hereinafter referred to as a terminal processing portion) was removed. An electrode was connected to the terminal processing unit. A voltage of 50 Hz was applied to the twisted pair in an atmosphere of 25 ° C. and a humidity of 50%, and the voltage was increased at 10 to 30 V / s. The voltage when 10 pC discharge was generated 50 times per second in twisted pair was defined as PDIV. This operation was repeated three times for one twisted pair, and the average value of the three measurements was taken as the PDIV of the twisted pair. The average value of PDIV of 10 twisted pairs was calculated. The measurement results of PDIV are shown in Table 1.

絶縁皮膜の膜厚が40μmのときにPDIVが970Vp以上であれば、耐部分放電性が良好であるとした。表1における「○」は、耐部分放電性が良好であることを示す。
(ii)可撓性の評価
各実施例及び各比較例のエナメル線のそれぞれについて、以下の方法で可撓性を評価した。エナメル線を20%伸長した後に、エナメル線の2倍径の治具にエナメル線を巻き付けた。次に、絶縁皮膜の表面を顕微鏡で観察した。絶縁皮膜の表面に亀裂、割れ等の欠陥が無ければ、可撓性が良好であると判断した。絶縁皮膜の表面に亀裂、割れ等の欠陥が有れば、可撓性が不良であると判断した。評価結果を表1に示す。表1における「○」は可撓性が良好であることを示す。
(iii)耐熱性の評価
各実施例及び各比較例のエナメル線のそれぞれについて、以下の方法で耐熱性を評価した。260℃の空気中でエナメル線を500時間保存する熱処理を行った。熱処理には恒温槽を用いた。熱処理を行った後における絶縁皮膜の絶縁破壊電圧が、熱処理を行っていない絶縁皮膜の絶縁破壊電圧の70%以上であれば、耐熱性が良好であると判断した。熱処理を行った後における絶縁皮膜の絶縁破壊電圧が、熱処理を行っていない絶縁皮膜の絶縁破壊電圧の70%未満であれば、耐熱性が不良であると判断した。評価結果を表1に示す。表1における「○」は耐熱性が良好であることを示し、「×」は耐熱性が不良であることを示す。
(iv)評価結果のまとめ
各実施例のエナメル線では、絶縁皮膜の膜厚が大きくなくても、PDIVが大きかった。また、各実施例のエナメル線は、可撓性及び耐熱性も良好であった。
When the film thickness of the insulating film is 40 μm and the PDIV is 970 Vp or more, the partial discharge resistance is considered to be good. “◯” in Table 1 indicates that the partial discharge resistance is good.
(ii) Evaluation of flexibility The flexibility of each of the enamel wires of each example and each comparative example was evaluated by the following method. After extending the enamel wire by 20%, the enamel wire was wound around a jig having a diameter twice that of the enamel wire. Next, the surface of the insulating film was observed with a microscope. If there were no defects such as cracks and cracks on the surface of the insulating film, it was judged that the flexibility was good. If there are defects such as cracks and cracks on the surface of the insulating film, it is judged that the flexibility is poor. The evaluation results are shown in Table 1. “◯” in Table 1 indicates that the flexibility is good.
(iii) Evaluation of heat resistance The heat resistance of each of the enamel wires of each Example and each Comparative Example was evaluated by the following method. A heat treatment was performed in which the enamel wire was stored in air at 260 ° C. for 500 hours. A constant temperature bath was used for the heat treatment. If the dielectric breakdown voltage of the insulating film after the heat treatment is 70% or more of the dielectric breakdown voltage of the insulating film not subjected to the heat treatment, it is judged that the heat resistance is good. If the dielectric breakdown voltage of the insulating film after the heat treatment is less than 70% of the dielectric breakdown voltage of the insulating film not subjected to the heat treatment, it is judged that the heat resistance is poor. The evaluation results are shown in Table 1. In Table 1, "◯" indicates that the heat resistance is good, and "x" indicates that the heat resistance is poor.
(iv) Summary of evaluation results In the enamel wire of each example, PDIV was large even if the film thickness of the insulating film was not large. In addition, the enamel wire of each example had good flexibility and heat resistance.

比較例1〜4のエナメル線では、PDIVが低かった。比較例5のエナメル線は、耐熱性が不良であった。耐熱性が不良である理由は、塗料の原料として、脂肪族基を有するBAPPを用いているため、高温で絶縁皮膜の劣化が起こり、絶縁皮膜の絶縁性が低下したためであると推測される。 PDIV was low in the enamel wires of Comparative Examples 1 to 4. The enamel wire of Comparative Example 5 had poor heat resistance. It is presumed that the reason why the heat resistance is poor is that BAPP having an aliphatic group is used as a raw material for the paint, so that the insulating film deteriorates at a high temperature and the insulating property of the insulating film deteriorates.

6.他の実施形態
以上、本開示の実施形態について説明したが、本開示は上述の実施形態に限定されることなく、種々変形して実施することができる。
6. Other Embodiments Although the embodiments of the present disclosure have been described above, the present disclosure is not limited to the above-described embodiments, and can be implemented in various modifications.

(1)上記各実施形態における1つの構成要素が有する機能を複数の構成要素に分担させたり、複数の構成要素が有する機能を1つの構成要素に発揮させたりしてもよい。また、上記各実施形態の構成の一部を省略してもよい。また、上記各実施形態の構成の少なくとも一部を、他の上記実施形態の構成に対して付加、置換等してもよい。 (1) The function of one component in each of the above embodiments may be shared by a plurality of components, or the function of the plurality of components may be exerted by one component. Further, a part of the configuration of each of the above embodiments may be omitted. In addition, at least a part of the configuration of each of the above embodiments may be added or replaced with respect to the configuration of the other embodiment.

(2)上述したエナメル線の他、当該エナメル線を構成要素とするシステム、エナメル線の製造方法、塗料の製造方法等、種々の形態で本開示を実現することもできる。 (2) In addition to the above-mentioned enamel wire, the present disclosure can be realized in various forms such as a system including the enamel wire as a component, a method for manufacturing the enamel wire, and a method for manufacturing a paint.

Claims (5)

導体と、
前記導体の周囲に設けられ、下記式(1)で表される第1の繰り返し単位及び下記式(2)で表される第2の繰り返し単位を含むか又は前記第1の繰り返し単位を含むポリイミドから成る絶縁皮膜と、
を備えるエナメル線であって、
前記ポリイミドにおいて、前記第1の繰り返し単位のモル数A1と、前記第2の繰り返し単位のモル数A2との合計モル数ATに対する前記モル数A1の比である比A1/ATが0.6以上1.0以下であり、
前記ポリイミドは、前記式(1)又は前記式(2)におけるRとして、下記式(3)〜(6)のいずれかで示される第1の基及び下記式(7)で示される第2の基を含むか又は前記第1の基を含み、
前記第1の基のモル数B1と、前記第2の基のモル数B2との合計モル数BTに対する前記モル数B1の比である比B1/BTが0.8以上1.0以下であるエナメル線。
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With the conductor
A polyimide provided around the conductor and containing a first repeating unit represented by the following formula (1) and a second repeating unit represented by the following formula (2) or containing the first repeating unit. Insulation film consisting of
Enamel wire with
In the polyimide, the ratio A1 / AT, which is the ratio of the number of moles A1 to the total number of moles AT of the number of moles A1 of the first repeating unit and the number of moles A2 of the second repeating unit, is 0.6 or more. 1.0 or less
The polyimide has a first group represented by any of the following formulas (3) to (6) and a second group represented by the following formula (7) as R in the formula (1) or the formula (2). Contains a group or contains the first group
The ratio B1 / BT, which is the ratio of the number of moles B1 to the total number of moles BT of the number of moles B1 of the first group and the number of moles B2 of the second group, is 0.8 or more and 1.0 or less. Enamel wire.
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請求項1に記載のエナメル線であって、
前記絶縁皮膜の膜厚が40μmの場合の部分放電開始電圧が970Vp以上であるエナメル線。
The enamel wire according to claim 1.
An enamel wire having a partial discharge start voltage of 970 Vp or more when the film thickness of the insulating film is 40 μm.
請求項1又は2に記載のエナメル線であって、
前記エナメル線を20%伸長した後に、前記エナメル線の2倍径の治具に前記エナメル線を巻き付けた場合、前記絶縁皮膜に亀裂及び割れが生じないエナメル線。
The enamel wire according to claim 1 or 2.
An enamel wire in which cracks and cracks do not occur in the insulating film when the enamel wire is wound around a jig having a diameter twice that of the enamel wire after the enamel wire is stretched by 20%.
請求項1〜3のいずれか1項に記載のエナメル線であって、
260℃の空気中で前記エナメル線を500時間保存する熱処理を行った後における前記絶縁皮膜の絶縁破壊電圧が、前記熱処理を行っていない前記絶縁皮膜の絶縁破壊電圧の70%以上であるエナメル線。
The enamel wire according to any one of claims 1 to 3.
The breakdown voltage of the insulating film after the heat treatment for storing the enamel wire in air at 260 ° C. for 500 hours is 70% or more of the breakdown voltage of the insulating coating not subjected to the heat treatment. ..
ポリアミック酸を含む塗料であって、
前記ポリアミック酸は、下記式(8)で表される第1の繰り返し単位及び下記式(9)で表される第2の繰り返し単位を含むか又は前記第1の繰り返し単位を含み、
前記ポリアミック酸において、前記第1の繰り返し単位のモル数C1と、前記第2の繰り返し単位のモル数C2との合計モル数CTに対する前記モル数C1の比である比C1/CTは、0.6以上1.0以下であり、
前記ポリアミック酸は、前記式(8)又は前記式(9)におけるRとして、下記式(3)〜(6)のいずれかで示される第1の基及び下記式(7)で示される第2の基を含むか又は前記第1の基を含み、
前記第1の基のモル数D1と、前記第2の基のモル数D2との合計モル数DTに対する前記モル数D1の比である比D1/DTが0.8以上1.0以下である塗料。
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A paint containing polyamic acid
The polyamic acid contains a first repeating unit represented by the following formula (8) and a second repeating unit represented by the following formula (9), or contains the first repeating unit.
In the polyamic acid, the ratio C1 / CT, which is the ratio of the number of moles C1 to the total number of moles CT of the number of moles C1 of the first repeating unit and the number of moles C2 of the second repeating unit, is 0. 6 or more and 1.0 or less,
The polyamic acid is the first group represented by any of the following formulas (3) to (6) and the second group represented by the following formula (7) as R in the formula (8) or the formula (9). Or contains the first group of
The ratio D1 / DT, which is the ratio of the number of moles D1 to the total number of moles DT of the number of moles D1 of the first group and the number of moles D2 of the second group, is 0.8 or more and 1.0 or less. paint.
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