JP7179132B2 - insulated wire - Google Patents

insulated wire Download PDF

Info

Publication number
JP7179132B2
JP7179132B2 JP2021132968A JP2021132968A JP7179132B2 JP 7179132 B2 JP7179132 B2 JP 7179132B2 JP 2021132968 A JP2021132968 A JP 2021132968A JP 2021132968 A JP2021132968 A JP 2021132968A JP 7179132 B2 JP7179132 B2 JP 7179132B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating layer
insulated wire
mol
polyimide
resin varnish
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021132968A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2021192370A (en
Inventor
修平 前田
雅晃 山内
潤 菅原
康 田村
雄貴 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Sumitomo Electric Wintec Inc
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
Sumitomo Electric Wintec Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd, Sumitomo Electric Wintec Inc filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP2021132968A priority Critical patent/JP7179132B2/en
Publication of JP2021192370A publication Critical patent/JP2021192370A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7179132B2 publication Critical patent/JP7179132B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、絶縁電線に関する。 The present invention relates to insulated wires.

モータ等のコイルに用いられる絶縁電線において、導体を被覆する絶縁層には、優れた絶縁性、導体に対する密着性、耐熱性、機械的強度等が求められている。この絶縁層の形成に用いる合成樹脂としては、例えばポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド等が挙げられる。 2. Description of the Related Art In insulated wires used for coils of motors and the like, an insulating layer covering a conductor is required to have excellent insulating properties, adhesion to the conductor, heat resistance, mechanical strength, and the like. Synthetic resins used for forming this insulating layer include, for example, polyimide, polyamideimide, and polyesterimide.

また、適用電圧が高い電気機器、例えば高電圧で使用されるモータ等では、電気機器を構成する絶縁電線に高電圧が印加され、その絶縁層表面で部分放電(コロナ放電)が発生しやすくなる。コロナ放電が発生すると、局部的な温度上昇やオゾン等の発生が引き起こされやすくなり、その結果、絶縁電線の絶縁層が劣化することで早期に絶縁破壊を起こし、電気機器の寿命が短くなる。高電圧が印加される絶縁電線には上記の理由によりコロナ放電開始電圧の向上が求められており、そのためには絶縁層の誘電率を低くすることが有効であることが知られている。 In addition, in electrical equipment with a high applied voltage, such as a motor that is used at a high voltage, a high voltage is applied to the insulated wires that constitute the electrical equipment, and partial discharge (corona discharge) is likely to occur on the surface of the insulation layer. . When corona discharge occurs, it tends to cause a local rise in temperature and the generation of ozone, etc. As a result, the insulation layer of the insulated wire deteriorates, causing early dielectric breakdown and shortening the life of electrical equipment. Insulated wires to which a high voltage is applied are required to have an improved corona discharge initiation voltage for the above reasons, and it is known that lowering the dielectric constant of the insulating layer is effective for this purpose.

さらに、絶縁電線は、湿熱環境下に晒される場合がある。このような環境下では、絶縁層を形成する合成樹脂が加水分解を生じてその分子量が著しく低下し、その結果、クラック等が生じて絶縁層としての機能が低下するおそれがある。そのため、絶縁電線の絶縁層には、上記湿熱環境下での機能低下を抑制する性能(耐湿熱劣化性)が要求される場合がある。 Furthermore, the insulated wire may be exposed to a moist and hot environment. Under such an environment, the synthetic resin forming the insulating layer is hydrolyzed and its molecular weight is remarkably lowered, and as a result, cracks or the like may occur and the function as an insulating layer may be deteriorated. Therefore, the insulating layer of the insulated wire is sometimes required to have the performance (wet heat deterioration resistance) of suppressing the functional deterioration in the moist heat environment.

さらに、絶縁電線をコイルとして使用する場合には、コイルの占積率を上げるために絶縁電線に曲げ加工を行う。具体的には、例えば絶縁電線を捲線してコイルを形成した後にコイルをスロット中に挿入したり、あらかじめ変形させた絶縁電線同士を溶接してコイルを形成したりする。このような用途で用いられる絶縁電線の絶縁層には、曲げ加工した際に電気特性低下の原因となる割れ、ピンホール、ボイド等が発生することを抑制する曲げ加工性が要求される。 Furthermore, when an insulated wire is used as a coil, the insulated wire is bent in order to increase the space factor of the coil. Specifically, for example, after forming a coil by winding an insulated wire, the coil is inserted into a slot, or pre-deformed insulated wires are welded together to form a coil. The insulating layer of the insulated wire used for such applications is required to have bending workability that suppresses the occurrence of cracks, pinholes, voids, and the like that cause deterioration of electrical properties when bent.

ポリイミドは、絶縁電線の絶縁層に使用される合成樹脂の中では特に耐熱性に優れ、誘電率が低く、かつ機械的強度にも優れ、また一定の原料や製造条件を適用した場合には良好な曲げ加工性を実現できるため、高電圧で使用される絶縁電線の絶縁層に用いられている。例えば特開2013-253124号公報には、芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との反応産物であり、かつイミド化後のイミド基濃度が特定範囲であるポリイミド前駆体を含有する樹脂ワニスを用いて絶縁層を形成することで、耐熱性、耐クレージング性に優れ、コロナ放電し難い絶縁電線が得られると記載されている。 Among the synthetic resins used for the insulating layer of insulated wires, polyimide has particularly excellent heat resistance, low dielectric constant, and excellent mechanical strength. It is used for the insulation layer of insulated wires used at high voltages because it can achieve excellent bending workability. For example, in JP-A-2013-253124, a resin containing a polyimide precursor which is a reaction product of an aromatic diamine and an aromatic tetracarboxylic dianhydride and has an imide group concentration within a specific range after imidization It is described that by forming an insulating layer using a varnish, an insulated wire that is excellent in heat resistance and crazing resistance and resistant to corona discharge can be obtained.

特開2013-253124号公報JP 2013-253124 A

しかし、ポリイミドは、湿熱環境下に長時間曝された場合に加水分解を生じるおそれがある材料であるため、上記従来の絶縁電線の備える絶縁層は、耐湿熱劣化性について向上の余地がある。 However, since polyimide is a material that may be hydrolyzed when exposed to a moist and hot environment for a long time, the insulating layer of the conventional insulated wire has room for improvement in terms of resistance to moist and heat deterioration.

本発明は、上述のような事情に基づいてなされたものであり、絶縁層の曲げ加工性及び耐湿熱劣化性に優れる絶縁電線を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an insulated wire having an insulating layer with excellent bending workability and moisture-heat deterioration resistance.

上記課題を解決するためになされた本発明の一態様に係る絶縁電線は、導体と、この導体の外周側に積層される1又は複数の絶縁層とを備える絶縁電線であって、上記絶縁層のうち少なくとも1層が、芳香族テトラカルボン酸二無水物及び芳香族ジアミンの反応生成物に由来するポリイミドを主成分とし、かつN-メチル-2-ピロリドンに80℃で4時間浸漬したときの質量膨潤度が1.3倍以上20.0倍以下であり、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物がビフェニルテトラカルボン酸二無水物を含み、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物100モル%に対するビフェニルテトラカルボン酸二無水物の含有量が25モル%以上95モル%以下である。 An insulated wire according to one aspect of the present invention, which has been made to solve the above problems, is an insulated wire comprising a conductor and one or more insulating layers laminated on the outer peripheral side of the conductor, wherein the insulating layer At least one of the layers is mainly composed of polyimide derived from the reaction product of aromatic tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine, and when immersed in N-methyl-2-pyrrolidone at 80 ° C. for 4 hours The degree of mass swelling is 1.3 times or more and 20.0 times or less, the aromatic tetracarboxylic dianhydride contains biphenyltetracarboxylic dianhydride, and the aromatic tetracarboxylic dianhydride is 100 mol% The content of biphenyltetracarboxylic dianhydride is 25 mol % or more and 95 mol % or less.

本発明の一態様に係る絶縁電線は、絶縁層の曲げ加工性及び耐湿熱劣化性に優れる。 The insulated wire according to one aspect of the present invention is excellent in bending workability and resistance to moisture-heat deterioration of the insulating layer.

[本発明の実施形態の説明]
本発明の一態様に係る絶縁電線は、導体と、この導体の外周側に積層される1又は複数の絶縁層とを備える絶縁電線であって、上記絶縁層のうち少なくとも1層が、芳香族テトラカルボン酸二無水物及び芳香族ジアミンの反応生成物に由来するポリイミドを主成分とし、かつN-メチル-2-ピロリドン(NMP)に80℃で4時間浸漬したときの質量膨潤度(以下、「NMP質量膨潤度」ともいう)が1.3倍以上20.0倍以下であり、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物がビフェニルテトラカルボン酸二無水物を含み、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物100モル%に対するビフェニルテトラカルボン酸二無水物の含有量が25モル%以上95モル%以下である。
[Description of the embodiment of the present invention]
An insulated wire according to one aspect of the present invention is an insulated wire including a conductor and one or more insulating layers laminated on the outer peripheral side of the conductor, wherein at least one of the insulating layers is an aromatic The polyimide derived from the reaction product of tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine is the main component, and the mass swelling degree when immersed in N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) at 80 ° C. for 4 hours (hereinafter Also referred to as "NMP mass swelling degree") is 1.3 times or more and 20.0 times or less, the aromatic tetracarboxylic dianhydride includes biphenyltetracarboxylic dianhydride, and the aromatic tetracarboxylic dianhydride The content of biphenyltetracarboxylic dianhydride is 25 mol% or more and 95 mol% or less with respect to 100 mol% of the anhydride.

当該絶縁電線は、上記構成を有することにより、絶縁層の曲げ加工性及び耐湿熱劣化性に優れる。当該絶縁電線が上記構成を有することにより上記効果を奏する理由は定かではないが、例えば以下のように推察される。すなわち、当該絶縁電線の1又は複数の絶縁層のうち少なくとも1層は、原料として加水分解され難いBPDAを特定量用いたポリイミド前駆体に由来するポリイミドを主成分とする。このポリイミドは、BPDAに由来する加水分解され難い構造を特定量含むことで湿熱環境下でも加水分解され難いため、上記絶縁層の耐湿熱劣化性を向上すると考えられる。また、当該絶縁電線は、上記絶縁層のNMP質量膨潤度を上記範囲とすること、つまり上記絶縁層をNMPに代表される樹脂ワニス用溶剤によって適度に膨潤する層とすることで、絶縁層の耐溶剤性の低下を抑制しつつ、以下の理由により曲げ加工性を向上できる。 Since the insulated wire has the above configuration, the insulating layer is excellent in bending workability and resistance to moisture-heat deterioration. Although it is not clear why the insulated wire having the above structure provides the above effect, it is presumed as follows. That is, at least one of the one or more insulating layers of the insulated wire is mainly composed of polyimide derived from a polyimide precursor using a specific amount of BPDA, which is difficult to hydrolyze, as a raw material. Since this polyimide contains a specific amount of a structure that is difficult to hydrolyze derived from BPDA, it is difficult to be hydrolyzed even in a hot and humid environment, so it is thought that the resistance to wet heat deterioration of the insulating layer is improved. In the insulated wire, the NMP mass swelling degree of the insulating layer is within the above range, that is, the insulating layer is a layer that is appropriately swollen by a resin varnish solvent represented by NMP, so that the insulating layer Bending workability can be improved for the following reasons while suppressing a decrease in solvent resistance.

すなわち、ポリイミドを主成分とする絶縁層を形成する場合、ポリイミド前駆体(ポリアミック酸)を含有する樹脂ワニスを導体の外周側に塗工する塗工工程と、得られた塗膜を加熱する加熱工程とを備える方法を用いるのが一般的である。上記方法では、一回の塗工工程及び加熱工程では数μm程度の比較的薄い絶縁層しか形成できないため、通常塗工工程及び加熱工程を繰り返して所定の厚さ(数10μm程度)となるまで複数の絶縁層を順次積層する。この2回目以降の塗工工程の際、樹脂ワニスに含まれるNMP等の溶剤が下地層(前回の塗工工程及び加熱工程で形成された絶縁層)に含まれるポリイミドを若干溶解する場合には、上記下地層と新たに積層する絶縁層とが馴染み易くなるため、各層間の密着力が向上すると考えられる。ここで、上記下地層に相当する絶縁層がNMPに代表される樹脂ワニス用溶剤によって適度に膨潤する層である場合、この絶縁層に樹脂ワニスの溶剤が浸潤することでポリイミドの溶解が促進されるため、上記下地層と新たに積層する絶縁層とがより馴染み易くなり、その結果、各層間の密着力向上がより確実に達成されると考えられる。これにより、当該絶縁電線は、曲げ加工等によって絶縁層に大きな変形を施した際に、絶縁層の各層間が剥離して絶縁性等が低下することを抑制できるため、絶縁層の曲げ加工性に優れると考えられる。なお、NMPは代表的な樹脂ワニス用溶剤であり、樹脂ワニスにはNMPと同様の極性溶剤が使用されることが多いため、NMPにより膨潤し易い絶縁層は、NMP以外の樹脂ワニス用溶剤によっても膨潤し易いと考えられる。そのため、当該絶縁電線の絶縁層がNMP以外の溶剤を含有する樹脂ワニスにより形成されている場合においても、上述の曲げ加工性の向上効果を得ることができる。 That is, when forming an insulating layer containing polyimide as a main component, a coating step of applying a resin varnish containing a polyimide precursor (polyamic acid) to the outer peripheral side of the conductor, and a heating of heating the resulting coating film It is common to use a method comprising the steps of: In the above method, only a relatively thin insulating layer of about several μm can be formed in a single coating step and heating step. A plurality of insulating layers are sequentially laminated. When the solvent such as NMP contained in the resin varnish slightly dissolves the polyimide contained in the base layer (insulating layer formed in the previous coating process and heating process) during the second and subsequent coating processes, It is thought that the base layer and the newly laminated insulating layer become more compatible with each other, so that the adhesion between the respective layers is improved. Here, when the insulating layer corresponding to the base layer is a layer that is moderately swollen by a resin varnish solvent represented by NMP, the infiltration of the resin varnish solvent into this insulating layer accelerates the dissolution of the polyimide. Therefore, it is considered that the underlayer and the newly laminated insulating layer become more compatible with each other, and as a result, the adhesion between the respective layers can be improved more reliably. As a result, when the insulating layer of the insulated wire is greatly deformed by bending or the like, it is possible to suppress the deterioration of the insulating properties, etc. due to the separation of each layer of the insulating layer, so the bending workability of the insulating layer It is considered to be superior to NMP is a typical resin varnish solvent, and since polar solvents similar to NMP are often used in resin varnishes, the insulating layer, which tends to swell due to NMP, cannot be washed with a resin varnish solvent other than NMP. It is also considered that it is easy to swell. Therefore, even when the insulating layer of the insulated wire is formed of a resin varnish containing a solvent other than NMP, the above-described effect of improving bending workability can be obtained.

ここで、絶縁層のNMP質量膨潤度は、絶縁層の主成分であるポリイミドの種類と絶縁層の形成条件とによって決まると考えられる。そして、BPDAに由来する構造をポリイミドに過剰に導入した場合、BPDAが有するビフェニル構造により分子同士のパッキングが促進されるため、NMP等の溶剤が分子間に浸透し難くなり、NMP質量膨潤度が低下するおそれがあると考えられる。そのため、当該絶縁電線は、上記ポリイミド前駆体の原料におけるBPDAの含有量を上記上限以下とすること、つまりBPDAに由来する構造をポリイミドに適度に導入することで容易かつ確実にNMP質量膨潤度を上記範囲とすることができる。ここで「主成分」とは、最も含有量の多い成分であり、例えば含有量が50質量%以上の成分を指す。「NMP質量膨潤度」とは、NMP膨潤処理後の絶縁層の総質量をR1(g)、NMP膨潤処理後の絶縁層を例えば200℃で1時間乾燥させた後の質量をR2(g)としたときに下記式で表される値をいう。
NMP質量膨潤度(倍)=R1/R2
Here, the degree of NMP mass swelling of the insulating layer is considered to be determined by the type of polyimide that is the main component of the insulating layer and the formation conditions of the insulating layer. Then, when the structure derived from BPDA is excessively introduced into polyimide, the biphenyl structure of BPDA promotes packing between molecules, making it difficult for solvents such as NMP to penetrate between molecules, and the NMP mass swelling degree is reduced. It is thought that there is a possibility that it will decrease. Therefore, in the insulated wire, the content of BPDA in the raw material of the polyimide precursor is set to the above upper limit or less, that is, by appropriately introducing a structure derived from BPDA into the polyimide, the NMP mass swelling degree can be easily and reliably increased. It can be within the above range. Here, the “main component” is the component with the highest content, for example, a component with a content of 50% by mass or more. The "NMP mass swelling degree" is R1 (g) for the total mass of the insulating layer after the NMP swelling treatment, and R2 (g) for the mass after drying the insulating layer after the NMP swelling treatment at, for example, 200 ° C. for 1 hour. The value expressed by the following formula when
NMP mass swelling degree (times) = R1/R2

上記芳香族テトラカルボン酸二無水物がピロメリット酸二無水物をさらに含むとよく、この場合、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物100モル%に対するピロメリット酸二無水物の含有量としては、5モル%以上75モル%以下が好ましい。このように、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物がピロメリット酸二無水物を特定量含むことで、ポリイミドに剛直な構造を導入できるため、絶縁層の耐熱性を向上できる。 The aromatic tetracarboxylic dianhydride preferably further contains pyromellitic dianhydride. In this case, the content of pyromellitic dianhydride with respect to 100 mol% of the aromatic tetracarboxylic dianhydride is 5 mol % or more and 75 mol % or less is preferable. In this way, by including a specific amount of pyromellitic dianhydride in the aromatic tetracarboxylic dianhydride, a rigid structure can be introduced into the polyimide, so that the heat resistance of the insulating layer can be improved.

上記芳香族ジアミンがジアミノジフェニルエーテルを含むとよい。このように、上記芳香族ジアミンがジアミノジフェニルエーテルを含むことで、絶縁層の靭性を向上できる。 The aromatic diamine preferably contains diaminodiphenyl ether. Thus, the toughness of the insulating layer can be improved by including the diaminodiphenyl ether in the aromatic diamine.

[本発明の実施形態の詳細]
以下、本発明の一態様に係る絶縁電線を説明する。
[Details of the embodiment of the present invention]
An insulated wire according to one aspect of the present invention will be described below.

<絶縁電線>
当該絶縁電線は、導体と、この導体の外周側に積層される1又は複数の絶縁層とを備える。当該絶縁電線は、絶縁層の曲げ加工性及び耐湿熱劣化性に優れる。
<Insulated wire>
The insulated wire includes a conductor and one or more insulating layers laminated on the outer peripheral side of the conductor. The insulated wire is excellent in bending workability of the insulating layer and resistance to moisture-heat deterioration.

[導体]
上記絶縁電線の導体の材質としては、導電率が高く、かつ機械的強度が大きい金属が好ましい。このような金属としては、例えば銅、銅合金、アルミニウム、ニッケル、銀、軟鉄、鋼、ステンレス鋼等が挙げられる。上記絶縁電線の導体は、これらの金属を線状に形成した材料や、このような線状の材料にさらに別の金属を被覆した多層構造のもの、例えばニッケル被覆銅線、銀被覆銅線、銅被覆アルミニウム線、銅被覆鋼線等を用いることができる。
[conductor]
As a material for the conductor of the insulated wire, a metal having high electrical conductivity and high mechanical strength is preferable. Examples of such metals include copper, copper alloys, aluminum, nickel, silver, soft iron, steel, and stainless steel. The conductor of the insulated wire is made of a linear material of any of these metals, or of a multi-layered structure in which such a linear material is further coated with another metal, such as nickel-coated copper wire, silver-coated copper wire, A copper-coated aluminum wire, a copper-coated steel wire, or the like can be used.

当該絶縁電線の導体の平均断面積の下限としては、0.01mmが好ましく、0.1mmがより好ましい。一方、上記導体の平均断面積の上限としては、10mmが好ましく、5mmがより好ましい。上記導体の平均断面積が上記下限より小さい場合、抵抗値が増大するおそれがある。逆に、上記導体の平均断面積が上記上限を超える場合、誘電率を十分に低下させるために絶縁層を厚く形成しなければならず、当該絶縁電線が不必要に大径化するおそれがある。 The lower limit of the average cross-sectional area of the conductor of the insulated wire is preferably 0.01 mm 2 , more preferably 0.1 mm 2 . On the other hand, the upper limit of the average cross-sectional area of the conductor is preferably 10 mm 2 , more preferably 5 mm 2 . If the average cross-sectional area of the conductor is smaller than the lower limit, the resistance value may increase. Conversely, if the average cross-sectional area of the conductor exceeds the upper limit, the insulating layer must be formed thick enough to sufficiently lower the dielectric constant, and the insulated wire may unnecessarily increase in diameter. .

[絶縁層]
当該絶縁電線の1又は複数の絶縁層は、導体の外周側に積層される。上記絶縁電線が複数の絶縁層を備える場合、各絶縁層は上記導体の外周側に断面視で同心円状に順次積層される。この場合、各絶縁層の平均厚さとしては、例えば1μm以上5μm以下とすることができる。また、上記複数の絶縁層の平均合計厚さとしては、例えば10μm以上200μm以下とすることができる。さらに、複数の絶縁層の合計層数としては、例えば2層以上200層以下とすることができる。
[Insulating layer]
One or more insulating layers of the insulated wire are laminated on the outer peripheral side of the conductor. When the insulated wire has a plurality of insulating layers, the insulating layers are sequentially laminated concentrically on the outer peripheral side of the conductor in a cross-sectional view. In this case, the average thickness of each insulating layer can be, for example, 1 μm or more and 5 μm or less. Further, the average total thickness of the plurality of insulating layers can be, for example, 10 μm or more and 200 μm or less. Furthermore, the total number of insulating layers can be, for example, 2 to 200 layers.

この複数の絶縁層のうち少なくとも1層は、芳香族テトラカルボン酸二無水物及び芳香族ジアミンの反応生成物であるポリイミド前駆体(ポリアミック酸)に由来するポリイミドを主成分とし、かつNMPに80℃で4時間浸漬したときの質量膨潤度が1.3倍以上20.0倍以下である。 At least one of the plurality of insulating layers is mainly composed of a polyimide derived from a polyimide precursor (polyamic acid) that is a reaction product of an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine, and contains 80% NMP. The degree of mass swelling when immersed at °C for 4 hours is 1.3 times or more and 20.0 times or less.

上記絶縁層のNMP質量膨潤度の下限としては、1.35倍が好ましく、1.4倍がより好ましい。一方、上記NMP質量膨潤度の上限としては、15.0倍が好ましく、7.0倍がより好ましく、3.0倍がさらに好ましい。上記NMP質量膨潤度が上記下限より小さい場合、絶縁層の層間密着力を十分に向上することができず、その結果、絶縁層の曲げ加工性が低下するおそれがある。逆に、上記NMP質量膨潤度が上記上限を超える場合、絶縁層の耐溶剤性が低下するおそれがある。 The lower limit of the NMP mass swelling degree of the insulating layer is preferably 1.35 times, more preferably 1.4 times. On the other hand, the upper limit of the NMP mass swelling degree is preferably 15.0 times, more preferably 7.0 times, and still more preferably 3.0 times. If the NMP mass swelling degree is less than the lower limit, the interlayer adhesion of the insulating layer cannot be sufficiently improved, and as a result, the bending workability of the insulating layer may deteriorate. Conversely, if the NMP mass swelling degree exceeds the upper limit, the insulating layer may have reduced solvent resistance.

上記絶縁層のNMP質量膨潤度は、主成分であるポリイミドの種類と、絶縁層の形成方法とによって制御することができる。ポリイミドの種類によってNMP質量膨潤度を制御する方法としては、例えば上記ポリイミドに分子量の高い構造を導入してイミド基の割合を小さくする方法や、上記ポリイミドの分子量を適度なものとする方法、すなわちポリイミドの形成に適度な重量平均分子量のポリイミド前駆体を用いる方法等が挙げられる。また、絶縁層の形成方法によってNMP質量膨潤度を調節する方法としては、例えば上記ポリイミドに結晶構造が形成されないようにする方法等が挙げられる。それぞれの方法の具体的な条件については後述する。 The degree of NMP mass swelling of the insulating layer can be controlled by the type of polyimide, which is the main component, and the method of forming the insulating layer. As a method of controlling the degree of NMP mass swelling depending on the type of polyimide, for example, a method of introducing a structure with a high molecular weight into the polyimide to reduce the proportion of imide groups, or a method of making the molecular weight of the polyimide moderate, that is, A method using a polyimide precursor having an appropriate weight-average molecular weight for forming the polyimide can be used. In addition, as a method of adjusting the degree of NMP mass swelling by the method of forming the insulating layer, for example, a method of preventing the formation of a crystal structure in the polyimide can be mentioned. Specific conditions for each method will be described later.

(ポリイミド前駆体)
上記ポリイミドの原料となるポリイミド前駆体は、イミド化によりポリイミドを形成する重合体であり、芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとの重合によって得られる反応生成物である。つまり、上記ポリイミド前駆体は、芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとを原料とする。
(polyimide precursor)
The polyimide precursor, which is the raw material of the polyimide, is a polymer that forms a polyimide by imidization, and is a reaction product obtained by polymerization of an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine. That is, the above polyimide precursor is made from an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine.

上記ポリイミド前駆体の重量平均分子量の下限としては、10,000が好ましく、20,000がより好ましい。また、上記重量平均分子量の上限としては、100,000が好ましく、80,000がより好ましい。上記重量平均分子量が上記下限より小さい場合、絶縁層の機械強度が不十分になるおそれがある。逆に、上記重量平均分子量が上記上限を超える場合、絶縁層を形成する際に用いる樹脂ワニスの塗布性が低下し、その結果、絶縁層に塗布欠陥が生じるおそれがある。また、形成されるポリイミドの分子量が増加することで分子間の相互作用が促進されてNMP等の溶剤が分子間に浸透し難くなるおそれがある。その結果、絶縁層のNMP質量膨潤度が低下し、曲げ加工性が低下するおそれがある。ここで「重量平均分子量」とは、JIS-K7252-1:2008「プラスチック-サイズ排除クロマトグラフィーによる高分子の平均分子量及び分子量分布の求め方-第1部:通則」に準拠して、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)を用いて測定される値を指す。 As a minimum of the weight average molecular weight of the said polyimide precursor, 10,000 is preferable and 20,000 is more preferable. Moreover, as an upper limit of the said weight average molecular weight, 100,000 is preferable and 80,000 is more preferable. If the weight average molecular weight is less than the lower limit, the insulating layer may have insufficient mechanical strength. Conversely, if the weight-average molecular weight exceeds the upper limit, the coating properties of the resin varnish used to form the insulating layer may deteriorate, and as a result coating defects may occur in the insulating layer. In addition, an increase in the molecular weight of the formed polyimide promotes intermolecular interaction, which may make it difficult for a solvent such as NMP to permeate the molecules. As a result, the NMP mass swelling degree of the insulating layer may decrease, and the bending workability may decrease. Here, the "weight average molecular weight" refers to JIS-K7252-1: 2008 "Plastics-Method for determining the average molecular weight and molecular weight distribution of a polymer by size exclusion chromatography-Part 1: General rules", gel permeation It refers to values measured using chromatography (GPC).

上記ポリイミド前駆体の原料として用いる芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとのモル比(芳香族テトラカルボン酸二無水物/芳香族ジアミン)としては、ポリイミド前駆体の合成容易性の観点から、例えば95/105以上105/95以下とすることができる。 The molar ratio of the aromatic tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine (aromatic tetracarboxylic dianhydride/aromatic diamine) used as raw materials for the polyimide precursor is from the viewpoint of ease of synthesis of the polyimide precursor. Therefore, it can be, for example, 95/105 or more and 105/95 or less.

(芳香族テトラカルボン酸二無水物)
上記ポリイミド前駆体の原料として用いる芳香族テトラカルボン酸二無水物は、BPDAを含む。BPDAとしては、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(3,3’,4,4’-BDPA)、2,3,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(2,3,3’,4’-BDPA)、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(2,2’,3,3’-BDPA)等が挙げられ、これらの中で、3,3’,4,4’-BDPAが好ましい。
(Aromatic tetracarboxylic dianhydride)
The aromatic tetracarboxylic dianhydride used as a raw material for the polyimide precursor contains BPDA. BPDA includes 3,3′,4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (3,3′,4,4′-BDPA), 2,3,3′,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride anhydride (2,3,3′,4′-BDPA), 2,2′,3,3′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (2,2′,3,3′-BDPA) and the like. , and among these, 3,3′,4,4′-BDPA is preferred.

上記芳香族テトラカルボン酸二無水物100モル%に対するBPDAの含有量の下限としては、25モル%であり、35モル%が好ましく、55モル%がより好ましい。一方、上記BPDAの含有量の上限としては、95モル%であり、92モル%が好ましい。上記BPDAの含有量を上記範囲とすることで、絶縁層の主成分であるポリイミドにBPDAに由来する構造を適度に導入することができ、その結果、曲げ加工性及び耐湿熱劣化性をバランスよく向上できる。上記BPDAの含有量が上記下限より小さい場合、絶縁層の耐湿熱劣化性が低下するおそれがある。逆に、上記BPDAの含有量が上記上限を超える場合、つまりポリイミドに過剰にBPDAに由来する構造を導入する場合、BPDAが有するビフェニル構造がポリイミド分子同士のパッキングを促進し、NMP等の溶剤が分子間に浸透し難くなるおそれがある。その結果、絶縁層のNMP質量膨潤度が低下し、曲げ加工性が低下するおそれがある。 The lower limit of the content of BPDA with respect to 100 mol % of the aromatic tetracarboxylic dianhydride is 25 mol %, preferably 35 mol %, more preferably 55 mol %. On the other hand, the upper limit of the BPDA content is 95 mol %, preferably 92 mol %. By setting the content of the BPDA in the above range, it is possible to appropriately introduce a structure derived from BPDA into the polyimide, which is the main component of the insulating layer, and as a result, bending workability and resistance to moist heat deterioration are well balanced. can improve. If the content of BPDA is less than the above lower limit, the resistance to moisture and heat deterioration of the insulating layer may deteriorate. Conversely, when the content of BPDA exceeds the upper limit, that is, when a structure derived from BPDA is excessively introduced into polyimide, the biphenyl structure possessed by BPDA promotes packing between polyimide molecules, and solvents such as NMP It may become difficult to permeate between molecules. As a result, the NMP mass swelling degree of the insulating layer may decrease, and the bending workability may decrease.

上記ポリイミド前駆体の原料として用いる芳香族テトラカルボン酸二無水物のうち、BPDA以外の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えばピロメリット酸二無水物(PMDA)、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、1,2,5,6-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。上記その他の芳香族テトラカルボン酸二無水物は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。 Among the aromatic tetracarboxylic dianhydrides used as raw materials for the polyimide precursor, aromatic tetracarboxylic dianhydrides other than BPDA include, for example, pyromellitic dianhydride (PMDA), 3,3′,4 ,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA), 4,4′-oxydiphthalic dianhydride, 2,2′,3,3′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis( 3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride , 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfone dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)ether dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,3, 6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride and the like. The other aromatic tetracarboxylic dianhydrides may be used alone or in combination of two or more.

上記ポリイミド前駆体の原料として用いる芳香族テトラカルボン酸二無水物は、PMDA又はBTDAをさらに含むことが好ましい。ポリイミド前駆体の原料として剛直な構造を有するPMDAを用いることで、イミド化後のポリイミドに剛直な構造を導入できるため、絶縁層の耐熱性を向上できる。また、ポリイミド前駆体の原料として比較的分子量の大きいBTDAを用いることで、上記NMP質量膨潤度を適度に増大させることができ、その結果、絶縁層の曲げ加工性をより向上できる。なお、PMDA及びBTDAは組み合わせて用いてもよい。 The aromatic tetracarboxylic dianhydride used as a raw material for the polyimide precursor preferably further contains PMDA or BTDA. By using PMDA having a rigid structure as a raw material for the polyimide precursor, a rigid structure can be introduced into the polyimide after imidization, so that the heat resistance of the insulating layer can be improved. Moreover, by using BTDA, which has a relatively large molecular weight, as a raw material for the polyimide precursor, the NMP mass swelling degree can be appropriately increased, and as a result, the bending workability of the insulating layer can be further improved. Note that PMDA and BTDA may be used in combination.

上記ポリイミド前駆体の原料として用いる芳香族テトラカルボン酸二無水物100モル%に対するPMDAの含有量の下限としては、5モル%が好ましく、8モル%がより好ましい。一方、上記PMDAの含有量の上限としては、75モル%が好ましく、65モル%がより好ましく、45モル%がさらに好ましく、20モル%がさらに好ましい。上記PMDAの含有量が上記下限より小さい場合、絶縁層の耐熱性が不十分となるおそれがある。逆に、上記PMDAの含有量が上記上限を超える場合、絶縁層の主成分であるポリイミドにBPDAに由来する構造を十分に導入することができず、その結果、上記絶縁層の耐湿熱劣化性が低下するおそれがある。 The lower limit of the PMDA content relative to 100 mol % of the aromatic tetracarboxylic dianhydride used as the starting material for the polyimide precursor is preferably 5 mol %, more preferably 8 mol %. On the other hand, the upper limit of the PMDA content is preferably 75 mol%, more preferably 65 mol%, still more preferably 45 mol%, and even more preferably 20 mol%. If the PMDA content is less than the lower limit, the heat resistance of the insulating layer may be insufficient. Conversely, if the content of PMDA exceeds the upper limit, the structure derived from BPDA cannot be sufficiently introduced into polyimide, which is the main component of the insulating layer, and as a result, the insulating layer is resistant to moisture and heat deterioration. may decrease.

上記ポリイミド前駆体の原料として用いる芳香族テトラカルボン酸二無水物100モル%に対するBTDAの含有量の下限としては、5モル%が好ましく、30モル%がより好ましく、50モル%がさらに好ましい。一方、上記BTDAの含有量の上限としては、75モル%が好ましく、65モル%がより好ましい。上記BTDAの含有量が上記下限より小さい場合、BTDAによる絶縁層の曲げ加工性の向上効果が不十分となるおそれがある。逆に、上記BTDAの含有量が上記上限を超える場合、絶縁層の主成分であるポリイミドにBPDAに由来する構造を十分に導入することができず、その結果、上記絶縁層の耐湿熱劣化性が低下するおそれがある。 The lower limit of the BTDA content relative to 100 mol % of the aromatic tetracarboxylic dianhydride used as the starting material for the polyimide precursor is preferably 5 mol %, more preferably 30 mol %, and even more preferably 50 mol %. On the other hand, the upper limit of the BTDA content is preferably 75 mol%, more preferably 65 mol%. If the BTDA content is less than the lower limit, the effect of BTDA in improving the bending workability of the insulating layer may be insufficient. Conversely, if the BTDA content exceeds the upper limit, the structure derived from BPDA cannot be sufficiently introduced into the polyimide, which is the main component of the insulating layer, and as a result, the insulating layer is resistant to moisture and heat deterioration. may decrease.

(芳香族ジアミン)
上記ポリイミド前駆体の原料として用いる芳香族ジアミンとしては、例えば4,4’-ジアミノジフェニルエーテル(4,4’-ODA)、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル(3,4’-ODA)、3,3’-ジアミノジフェニルエーテル(3,3’-ODA)、2,4’-ジアミノジフェニルエーテル(2,4’-ODA)、2,2’-ジアミノジフェニルエーテル(2,2’-ODA)等のジアミノジフェニルエーテル(ODA)、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン(BAPP)、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル(BAPB)、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,3’-ジアミノジフェニルメタン、2,4’-ジアミノジフェニルメタン、2,2’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、2,4’-ジアミノジフェニルスルホン、2,2’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、3,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’-ジアミノジフェニルスルフィド、2,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、2,2’-ジアミノジフェニルスルフィド、パラフェニレンジアミン(PPD)、メタフェニレンジアミン、p-キシリレンジアミン、m-キシリレンジアミン、2,2’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、1,5-ジアミノナフタレン、4,4’-ベンゾフェノンジアミン、3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,3’,5,5’-テトラメチル-4,4’-ジアミノジフェニルメタンなどが挙げられる。これらの芳香族ジアミンは、単独で用いても2種以上を併用してもよい。
(aromatic diamine)
Examples of the aromatic diamine used as a raw material for the polyimide precursor include 4,4′-diaminodiphenyl ether (4,4′-ODA), 3,4′-diaminodiphenyl ether (3,4′-ODA), 3,3 Diaminodiphenyl ethers (ODA) such as '-diaminodiphenyl ether (3,3'-ODA), 2,4'-diaminodiphenyl ether (2,4'-ODA), 2,2'-diaminodiphenyl ether (2,2'-ODA) ), 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane (BAPP), 4,4′-bis(4-aminophenoxy)biphenyl (BAPB), 4,4′-diaminodiphenylmethane, 3, 4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 2,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3, 3'-diaminodiphenyl sulfone, 2,4'-diaminodiphenyl sulfone, 2,2'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide, 2,4'-diaminodiphenyl sulfide, 2,2'-diaminodiphenyl sulfide, paraphenylenediamine (PPD), metaphenylenediamine, p-xylylenediamine, m-xylylenediamine, 2,2'-dimethyl- 4,4'-diaminobiphenyl, 1,5-diaminonaphthalene, 4,4'-benzophenonediamine, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3',5,5'-tetramethyl -4,4'-diaminodiphenylmethane and the like. These aromatic diamines may be used alone or in combination of two or more.

上記ポリイミド前駆体の原料として用いる芳香族ジアミンは、ODA、BAPP、BAPB又はこれらの組み合わせを含むことが好ましい。上記ポリイミド前駆体の原料としてODAを用いることで、絶縁層の靭性を向上できる。上記ODAとしては、4,4’-ODAが好ましい。また、上記ポリイミド前駆体の原料として比較的分子量の大きいBAPP及びBAPBのうちの少なくとも1種を用いることで、上記NMP質量膨潤度を適度に増大させることができ、その結果、絶縁層の曲げ加工性をより向上できる。 The aromatic diamine used as a raw material for the polyimide precursor preferably contains ODA, BAPP, BAPB, or a combination thereof. By using ODA as a raw material for the polyimide precursor, the toughness of the insulating layer can be improved. As the ODA, 4,4'-ODA is preferable. In addition, by using at least one of BAPP and BAPB, which have relatively large molecular weights, as a raw material for the polyimide precursor, the NMP mass swelling degree can be increased appropriately, and as a result, bending of the insulating layer You can improve your performance.

上記絶縁層の靭性を効果的に向上させる場合、上記芳香族ジアミンは、上記ODA、BAPP及びBAPBのうち、ODAのみを含むとよい。この場合、上記芳香族ジアミン100モル%に対するODAの含有量の下限としては、50モル%が好ましく、90モル%がより好ましく、99モル%がさらに好ましい。このように、上記ODAの含有量を上記下限以上とすることで、絶縁層の靭性をより向上できる。また、上記ODAの含有量としては、100モル%が特に好ましい。 In order to effectively improve the toughness of the insulating layer, the aromatic diamine may contain only ODA among the ODA, BAPP and BAPB. In this case, the lower limit of the ODA content relative to 100 mol % of the aromatic diamine is preferably 50 mol %, more preferably 90 mol %, and even more preferably 99 mol %. Thus, by setting the ODA content to the above lower limit or more, the toughness of the insulating layer can be further improved. Further, the content of ODA is particularly preferably 100 mol %.

一方、上記絶縁層の曲げ加工性及び靭性をバランスよく向上させる場合、上記芳香族ジアミンは、ODAとBAPP及びBAPBのうちの少なくとも1種とを含むとよい。この場合、上記芳香族ジアミン100モル%に対するODA、BAPP及びBAPBの合計含有量の下限としては、50モル%が好ましく、90モル%がより好ましく、99モル%がさらに好ましい。また、上記合計含有量としては、100モル%が特に好ましい。さらに、上記芳香族ジアミンにおけるODAの含有量と、BAPP及びBAPBの合計含有量との比(ODAの含有量/BAPP及びBAPBの合計含有量)としては、例えば15/85以上70/30以下とすることができる。 On the other hand, in order to improve the bending workability and toughness of the insulating layer in a well-balanced manner, the aromatic diamine preferably contains ODA and at least one of BAPP and BAPB. In this case, the lower limit of the total content of ODA, BAPP and BAPB with respect to 100 mol % of the aromatic diamine is preferably 50 mol %, more preferably 90 mol %, and even more preferably 99 mol %. Moreover, as said total content, 100 mol% is especially preferable. Furthermore, the ratio of the content of ODA in the aromatic diamine to the total content of BAPP and BAPB (content of ODA/total content of BAPP and BAPB) is, for example, 15/85 or more and 70/30 or less. can do.

なお、上記ポリイミド前駆体は、芳香族テトラカルボン酸二無水物及び芳香族ジアミンと、その他の原料との重合によって得られる反応生成物であってもよい。上記その他の原料としては、例えば1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸二無水物、ヘキサメチレンジアミン等の脂肪族ジアミンなどが挙げられる。 The polyimide precursor may be a reaction product obtained by polymerization of an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine with other raw materials. Examples of the other raw materials include aliphatic tetracarboxylic dianhydrides such as 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride and aliphatic diamines such as hexamethylenediamine.

上記ポリイミド前駆体は、実質的にBPDAと、ODAと、PMDA、BTDA、BAPP及びBAPBのうちの少なくとも一種とのみを原料として得られる反応生成物であることが好ましい。つまり、当該絶縁電線の絶縁層の主成分であるポリイミドは、実質的にBPDAに由来する構造と、ODAに由来する構造と、PMDA、BTDA、BAPP及びBAPBのうちの少なくとも1種に由来する構造とのみにより形成されることが好ましい。具体的には、上記ポリイミド前駆体の全原料におけるBPDA、ODA、PMDA、BTDA、BAPP及びBAPBの合計割合の下限としては、95モル%が好ましく、99モル%がより好ましい。また、上記合計割合は、100モル%が最も好ましい。 The polyimide precursor is preferably a reaction product obtained substantially only from BPDA, ODA, and at least one of PMDA, BTDA, BAPP and BAPB as raw materials. That is, the polyimide, which is the main component of the insulating layer of the insulated wire, has a structure substantially derived from BPDA, a structure derived from ODA, and a structure derived from at least one of PMDA, BTDA, BAPP and BAPB. It is preferably formed only by Specifically, the lower limit of the total proportion of BPDA, ODA, PMDA, BTDA, BAPP and BAPB in all raw materials of the polyimide precursor is preferably 95 mol %, more preferably 99 mol %. Moreover, the above total ratio is most preferably 100 mol %.

なお、上記複数の絶縁層は、全ての絶縁層が上述のポリイミドを主成分とすることが好ましいが、一部の絶縁層の主成分は上述したポリイミド以外のポリイミドや他の合成樹脂であってもよい。上記他の合成樹脂としては、例えばポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポリウレタン、ポリエーテルイミド等が使用できる。 In addition, it is preferable that all the insulating layers of the plurality of insulating layers contain the above-mentioned polyimide as a main component. good too. Examples of other synthetic resins that can be used include polyamideimide, polyesterimide, polyurethane, and polyetherimide.

(ポリイミド前駆体の合成方法)
上記ポリイミド前駆体は、上述した芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとの重合反応により得ることができる。上記重合反応の方法としては、従来のポリイミド前駆体の合成と同様とすることができる。上記重合反応の具体的な方法としては、例えば芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとを有機溶剤中で混合し、この混合液を加熱する方法等が挙げられる。この方法により、芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとが重合し、ポリイミド前駆体が有機溶剤に溶解した溶液を得ることができる。
(Method for synthesizing polyimide precursor)
The polyimide precursor can be obtained by a polymerization reaction of the aromatic tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine described above. The method of the polymerization reaction can be the same as in the synthesis of conventional polyimide precursors. A specific method of the polymerization reaction includes, for example, a method of mixing an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine in an organic solvent and heating the mixed solution. By this method, the aromatic tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine are polymerized, and a solution of the polyimide precursor dissolved in the organic solvent can be obtained.

上記重合の際の反応条件としては、使用する原料等により適宜設定すればよいが、例えば反応温度を10℃以上100℃以下、反応時間を0.5時間以上24時間以下とすることができる。 The reaction conditions for the above polymerization may be appropriately set depending on the raw materials used, etc. For example, the reaction temperature can be 10° C. or higher and 100° C. or lower, and the reaction time can be 0.5 hours or longer and 24 hours or shorter.

上記重合に用いる芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとのモル比(芳香族テトラカルボン酸二無水物/芳香族ジアミン)は、重合反応を効率的に進行させる観点から、100/100に近いほど好ましい。上記モル比としては、例えば95/105以上105/95以下とすることができる。 The molar ratio of the aromatic tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine used in the polymerization (aromatic tetracarboxylic dianhydride/aromatic diamine) is 100/100 from the viewpoint of efficiently proceeding the polymerization reaction. The closer to , the better. The molar ratio can be, for example, 95/105 or more and 105/95 or less.

上記重合に用いる有機溶剤としては、例えばN-メチル-2-ピロリドン(NMP)、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン等の非プロトン性極性有機溶剤を使用できる。これらの有機溶剤は単独で用いても2種以上を併用しても良い。ここで「非プロトン性極性有機溶剤」とは、プロトンを放出する基を持たない極性有機溶剤をいう。 Examples of organic solvents used in the above polymerization include aprotic polar organic solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, and γ-butyrolactone. Available. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. As used herein, the term "aprotic polar organic solvent" refers to a polar organic solvent that does not have a proton-releasing group.

上記有機溶剤の使用量は、芳香族テトラカルボン酸二無水物及び芳香族ジアミンを均一に分散、溶解させることができる使用量であれば特に制限されない。上記有機溶剤の使用量としては、例えば芳香族テトラカルボン酸二無水物及び芳香族ジアミンの合計100質量部に対し、100質量部以上1,000質量部以下とすることができる。 The amount of the organic solvent used is not particularly limited as long as it is an amount that can uniformly disperse and dissolve the aromatic tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine. The amount of the organic solvent used can be, for example, 100 parts by mass or more and 1,000 parts by mass or less with respect to a total of 100 parts by mass of the aromatic tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine.

[他の層]
上記絶縁電線は、1又は複数の絶縁層の外周側にさらに他の層が積層されていてもよい。上記他の層としては、例えば表面潤滑層等が挙げられる。
[Other layers]
In the insulated wire, another layer may be laminated on the outer peripheral side of one or more insulating layers. Examples of the other layer include a surface lubricating layer.

<絶縁電線の製造方法>
次に、当該絶縁電線の好適な製造方法の一例について説明する。上記絶縁電線の製造方法は、導体の外周側に樹脂ワニスを塗工する塗工工程と、上記塗工された樹脂ワニスを加熱する加熱工程とを備える。上記樹脂ワニスは、芳香族テトラカルボン酸二無水物及び芳香族ジアミンの反応生成物であるポリイミド前駆体を含有する。上記絶縁電線の製造方法は、上記塗工工程及び加熱工程を繰り返すことが好ましい。上記絶縁電線の製造方法によれば、当該絶縁電線を容易かつ確実に製造できる。以下、上記塗工工程で用いる樹脂ワニスについて説明した後、各工程を説明する。
<Manufacturing method of insulated wire>
Next, an example of a suitable method for manufacturing the insulated wire will be described. The method for manufacturing the insulated wire includes a coating step of coating the outer circumference of the conductor with a resin varnish, and a heating step of heating the coated resin varnish. The resin varnish contains a polyimide precursor which is a reaction product of an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine. In the method for manufacturing the insulated wire, the coating step and the heating step are preferably repeated. According to the insulated wire manufacturing method, the insulated wire can be manufactured easily and reliably. Hereinafter, after explaining the resin varnish used in the coating step, each step will be explained.

[樹脂ワニス]
上記樹脂ワニスはポリイミド前駆体を含有する。また、上記樹脂ワニスは通常有機溶剤をさらに含有する。上記樹脂ワニスが含有するポリイミド前駆体としては、当該絶縁電線で説明したポリイミド前駆体を用いることができるため、説明を省略する。
[Resin varnish]
The resin varnish contains a polyimide precursor. Moreover, the resin varnish usually further contains an organic solvent. As the polyimide precursor contained in the resin varnish, the polyimide precursor described for the insulated wire can be used, so the description is omitted.

(有機溶剤)
上記樹脂ワニスに用いる有機溶剤は、上記樹脂ワニスの塗布性を向上する。また、上記有機溶剤を含有する上記樹脂ワニスは、導体の周面側への塗工工程及び加熱工程を繰り返して複数の絶縁層を形成する際、2回目以降の塗工工程において上記樹脂ワニス中の有機溶剤が下地層(前回の塗工工程及び加熱工程で形成された絶縁層)のポリイミドを若干溶解するため、形成される複数の絶縁層の各層間の密着力を向上させることができる。
(Organic solvent)
The organic solvent used for the resin varnish improves the coatability of the resin varnish. Further, the resin varnish containing the organic solvent is used in the resin varnish in the second and subsequent coating steps when repeating the coating step and the heating step on the peripheral surface side of the conductor to form a plurality of insulating layers. The organic solvent slightly dissolves the polyimide of the underlying layer (insulating layer formed in the previous coating step and heating step), so that the adhesion between each layer of the plurality of insulating layers to be formed can be improved.

上記有機溶剤としては、非プロトン性極性有機溶剤が好ましい。ポリイミド前駆体は非プロトン性極性有機溶剤に対する溶解性が高いため、上記有機溶剤として非プロトン性極性有機溶剤を用いることにより、上記ポリイミド前駆体の上記樹脂ワニス中の濃度を高める場合においても上記ポリイミド前駆体を確実に溶解させることができる。また、上記有機溶剤として非プロトン性極性有機溶剤を用いることにより、上述の2回目以降の塗工工程において上記樹脂ワニス中の有機溶剤がした下地層のポリイミドを溶解し易くなるため、形成される複数の絶縁層の各層間の密着力をより向上させることができる。 As the organic solvent, an aprotic polar organic solvent is preferable. Since the polyimide precursor has high solubility in an aprotic polar organic solvent, by using an aprotic polar organic solvent as the organic solvent, even when the concentration of the polyimide precursor in the resin varnish is increased, the polyimide The precursor can be reliably dissolved. In addition, by using an aprotic polar organic solvent as the organic solvent, it becomes easier to dissolve the polyimide of the underlying layer formed by the organic solvent in the resin varnish in the second and subsequent coating steps. Adhesion between each layer of the plurality of insulating layers can be further improved.

上記非プロトン性極性有機溶剤としては、ポリイミド前駆体の溶解性向上及び絶縁層間の密着力向上の観点から、N-メチル-2-ピロリドン(NMP)、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン及びこれらの組み合わせが好ましく、NMPがより好ましい。 As the aprotic polar organic solvent, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), N,N-dimethylformamide, N,N- Dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, γ-butyrolactone and combinations thereof are preferred, and NMP is more preferred.

有機溶剤は、上述したポリイミド前駆体の重合反応に使用した有機溶剤をそのまま使用してもよく、ポリイミド前駆体を得た後、別途添加してもよいが、作業性の観点から、ポリイミド前駆体の重合反応に使用した有機溶剤をそのまま使用することが好ましい。上記樹脂ワニスにおける有機溶剤の含有量としては、例えばポリイミド前駆体100質量部に対して100質量部以上1,000質量部以下の範囲とすることができる。 As the organic solvent, the organic solvent used in the polymerization reaction of the polyimide precursor described above may be used as it is, or may be added separately after obtaining the polyimide precursor, but from the viewpoint of workability, the polyimide precursor It is preferable to use the organic solvent used in the polymerization reaction of (1) as it is. The content of the organic solvent in the resin varnish can be, for example, in the range of 100 parts by mass or more and 1,000 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polyimide precursor.

(他の成分)
上記樹脂ワニスは、上述した成分以外に顔料、染料、無機又は有機のフィラー、潤滑剤、密着向上剤等の各種添加剤や反応性低分子などを含有しても良い。この中で、密着向上剤としてメラミン化合物を含有することで、形成される絶縁層と導体との密着力を向上できる。さらに、上記樹脂ワニスは、本発明の趣旨を損ねない範囲で他の樹脂を含有してもよい。上記樹脂ワニスに上述の成分を含有させる場合、上記樹脂ワニスにおける上述の成分の含有量としては、ポリイミド前駆体100質量部に対し、例えば0.5質量部以上30質量部以下とすることができる。
(other ingredients)
The resin varnish may contain various additives such as pigments, dyes, inorganic or organic fillers, lubricants, adhesion improvers, and reactive low-molecular weight compounds in addition to the components described above. Among these, by containing a melamine compound as an adhesion improver, the adhesion between the formed insulating layer and the conductor can be improved. Furthermore, the resin varnish may contain other resins within the scope of the present invention. When the resin varnish contains the above-described components, the content of the above-described components in the resin varnish may be, for example, 0.5 parts by mass or more and 30 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polyimide precursor. .

(樹脂ワニスの製造方法)
上記樹脂ワニスの製造方法としては、例えばポリイミド前駆体の合成方法で説明したポリイミド前駆体が有機溶剤に溶解した溶液をそのまま上記樹脂ワニスとする方法が挙げられる。また、上記樹脂ワニスの製造方法としては、例えば上記ポリイミド前駆体が有機溶剤に溶解した溶液からポリイミド前駆体を精製した後に、得られた精製ポリイミド前駆体と有機溶剤等の他の成分とを混合する方法も挙げられる。
(Method for producing resin varnish)
As a method for producing the resin varnish, for example, a method in which the polyimide precursor is dissolved in an organic solvent as described in the method for synthesizing the polyimide precursor is directly used as the resin varnish. Further, as a method for producing the resin varnish, for example, after purifying the polyimide precursor from a solution in which the polyimide precursor is dissolved in an organic solvent, the obtained purified polyimide precursor and other components such as an organic solvent are mixed. There is also a method for

[塗工工程]
本工程では、導体の外周側に後述する樹脂ワニスを塗工する。塗工方法としては、特に限定されないが、例えば上記樹脂ワニスを貯留した樹脂ワニス槽と塗工ダイスとを備える塗工装置を用いた方法等が挙げられる。この塗工装置によれば、導体が樹脂ワニス槽内を挿通することで上記樹脂ワニスが導体外周面に付着した後、塗工ダイスを通過することで上記樹脂ワニスが導体外周面に均一な厚さで塗工される。なお、本工程では、導体の外周面に上記樹脂ワニスを直接塗工してもよく、導体の外周面に予め密着改良層等の中間層を設けておき、その中間層の外周側に上記樹脂ワニスを塗工してもよい。
[Coating process]
In this step, a resin varnish, which will be described later, is applied to the outer peripheral side of the conductor. The coating method is not particularly limited, but includes, for example, a method using a coating apparatus provided with a resin varnish tank in which the resin varnish is stored and a coating die. According to this coating apparatus, the resin varnish adheres to the outer peripheral surface of the conductor by passing the conductor through the resin varnish tank, and then the resin varnish is applied to the outer peripheral surface of the conductor with a uniform thickness by passing through the coating die. It is coated with In this step, the resin varnish may be directly applied to the outer peripheral surface of the conductor, an intermediate layer such as an adhesion improving layer is provided in advance on the outer peripheral surface of the conductor, and the resin Varnish may be applied.

なお、上記絶縁電線の製造方法で上記塗工工程及び加熱工程を繰り返す場合、複数の塗工工程のうち一部の塗工工程では、上記樹脂ワニス以外の樹脂ワニスを用いてもよい。 When the coating step and the heating step are repeated in the method for manufacturing an insulated wire, a resin varnish other than the resin varnish described above may be used in some of the plurality of coating steps.

[加熱工程]
本工程では、例えば上記樹脂ワニスを塗工した導体を加熱炉内で走行させる方法等により、導体に塗工された上記樹脂ワニスを加熱する。この加熱工程によって、上記樹脂ワニスが含有するポリイミド前駆体がイミド化されると共に有機溶剤等の揮発成分が除去され、導体の外周側に焼付層である絶縁層が積層される。加熱方法としては、特に限定されず、例えば熱風加熱、赤外線加熱、高周波加熱等の従来公知の方法により行うことができる。加熱温度としては、例えば350℃以上500℃以下とすることができる。加熱時間としては、例えば5秒以上100秒以下とすることができる。なお、上記樹脂ワニスを塗工した導体を加熱炉内で走行させることで加熱する場合、加熱炉内の設定温度を上記加熱温度と見なし、加熱炉の入口から出口までの距離を導体の線速で除した値を上記加熱時間と見なすものとする。
[Heating process]
In this step, the resin varnish coated on the conductor is heated by, for example, a method of running the conductor coated with the resin varnish in a heating furnace. By this heating step, the polyimide precursor contained in the resin varnish is imidized and volatile components such as organic solvents are removed, and an insulating layer, which is a baking layer, is laminated on the outer peripheral side of the conductor. The heating method is not particularly limited, and conventionally known methods such as hot air heating, infrared heating, and high-frequency heating can be used. The heating temperature can be, for example, 350° C. or higher and 500° C. or lower. The heating time can be, for example, 5 seconds or more and 100 seconds or less. When the conductor coated with the resin varnish is heated by running in a heating furnace, the set temperature in the heating furnace is regarded as the heating temperature, and the linear velocity of the conductor is the distance from the entrance to the exit of the heating furnace. shall be regarded as the above heating time.

ここで、上記加熱工程によって形成されるポリイミドが結晶構造を多量に含む場合、NMP等の樹脂ワニス用溶剤がポリイミドの分子間に浸透し難くなるため、上記絶縁層のNMP質量膨潤度が低下し易くなると考えられる。そのため、上記加熱工程においては、上記絶縁層のNMP質量膨潤度を確実に上記範囲とする観点から、以下の方法(A)~(C)等の採用により、絶縁層の主成分であるポリイミドに結晶構造が形成され難くすることが好ましい。すなわち、上記加熱工程では、上述のポリイミドが形成された段階で既に含まれている結晶構造を融解するため、加熱温度を400℃以上500℃以下と比較的高くする方法(A)、加熱時間を30秒以上100秒以下と比較的長くする方法(B)等を採用するとよい。また、上記加熱工程では、上述の高温のポリイミドが冷却される際に結晶構造が形成されることを抑制するため、加熱直後に絶縁層及び導体を急冷する方法(C)等を採用するとよい。上記急冷の方法としては、例えば上記絶縁層及び導体に送風する方法や、上記絶縁層及び導体を低温下(例えば0℃以上15℃以下)に曝露する方法等が挙げられる。但し、上記質量膨潤度は、ポリイミド前駆体の種類によっても制御できるため、上述の方法(A)~(C)等は必ずしも必要ではない。 Here, when the polyimide formed by the above heating step contains a large amount of crystal structure, it becomes difficult for the resin varnish solvent such as NMP to permeate between the molecules of the polyimide, so the NMP mass swelling degree of the insulating layer decreases. presumed to be easier. Therefore, in the heating step, from the viewpoint of ensuring that the NMP mass swelling degree of the insulating layer is within the above range, the following methods (A) to (C) are adopted to polyimide, which is the main component of the insulating layer. It is preferable to make it difficult to form a crystal structure. That is, in the heating step, in order to melt the crystal structure already contained at the stage where the polyimide is formed, the heating temperature is relatively high at 400 ° C. or higher and 500 ° C. or lower (A), the heating time is It is preferable to employ method (B) or the like in which the time is relatively long, such as 30 seconds or more and 100 seconds or less. In addition, in the heating step, in order to suppress the formation of a crystal structure when the above-mentioned high-temperature polyimide is cooled, the method (C) of quenching the insulating layer and the conductor immediately after heating may be adopted. Examples of the quenching method include a method of blowing air to the insulating layer and the conductor, and a method of exposing the insulating layer and the conductor to a low temperature (for example, 0° C. or higher and 15° C. or lower). However, since the degree of mass swelling can be controlled also by the type of polyimide precursor, the above methods (A) to (C) are not necessarily required.

上記絶縁電線の製造方法で上記塗工工程及び加熱工程を繰り返す場合、上記塗工工程及び加熱工程を繰り返す回数としては、例えば2回以上200回以下とすることができる。 When the coating process and the heating process are repeated in the method for manufacturing an insulated wire, the number of times the coating process and the heating process are repeated may be, for example, 2 times or more and 200 times or less.

[その他の実施形態]
上記開示された実施形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
[Other embodiments]
The above-disclosed embodiments should be considered in all respects to be illustrative and not restrictive. The scope of the present invention is not limited to the configuration of the above-described embodiment, but is indicated by the scope of the claims, and is intended to include all modifications within the scope and meaning equivalent to the scope of the claims. be.

以下、実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples below, but the present invention is not limited to the following examples.

本実施例において、ポリイミド前駆体の重量平均分子量は、JIS-K7252-1:2008「プラスチック-サイズ排除クロマトグラフィーによる高分子の平均分子量及び分子量分布の求め方-第1部:通則」に準拠して、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)を用いて測定した。 In this example, the weight average molecular weight of the polyimide precursor was determined according to JIS-K7252-1:2008 "Plastics-Determination of the average molecular weight and molecular weight distribution of polymers by size exclusion chromatography-Part 1: General rule". was measured using gel permeation chromatography (GPC).

<樹脂ワニスの調製>
[樹脂ワニスV1の調製]
4,4’-ODA100モル%をN-メチル-2-ピロリドンに溶解させた後、得られた溶液にPMDA10モル%及び3,3’,4,4’-BPDA90モル%を加え、窒素雰囲気下で撹拌した。その後、撹拌しながら80℃で3時間反応させた後、室温に冷却することにより、有機溶剤としてのN-メチル-2-ピロリドンにポリイミド前駆体が溶解している樹脂ワニスV1を調製した。この樹脂ワニスV1中のポリイミド前駆体濃度は30質量%であった。また、樹脂ワニスV1に含まれるポリイミド前駆体の重量平均分子量は30,000であった。
<Preparation of resin varnish>
[Preparation of resin varnish V1]
After dissolving 100 mol% of 4,4′-ODA in N-methyl-2-pyrrolidone, 10 mol% of PMDA and 90 mol% of 3,3′,4,4′-BPDA were added to the resulting solution, and the mixture was stirred under a nitrogen atmosphere. was stirred. Thereafter, the mixture was allowed to react at 80° C. for 3 hours while stirring, and then cooled to room temperature to prepare a resin varnish V1 in which the polyimide precursor was dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone as an organic solvent. The polyimide precursor concentration in this resin varnish V1 was 30% by mass. Moreover, the weight average molecular weight of the polyimide precursor contained in the resin varnish V1 was 30,000.

[樹脂ワニスV2~V14の調製]
芳香族テトラカルボン酸二無水物及び芳香族ジアミンの種類及び使用量を表1に示す通りとした以外は樹脂ワニスV1の調製と同様に操作し、樹脂ワニスV2~V14を調製した。
[Preparation of resin varnishes V2 to V14]
Resin varnishes V2 to V14 were prepared in the same manner as in the preparation of resin varnish V1 except that the types and amounts of the aromatic tetracarboxylic dianhydrides and aromatic diamines were as shown in Table 1.

<絶縁電線の製造>
[絶縁電線No.1の製造]
銅を主成分とする平均径1mmの丸線を導体として用意した。樹脂ワニスV1を上記導体の外周面に塗工する工程と、上記樹脂ワニスを塗工した導体を加熱温度400℃、加熱時間30秒の条件で加熱炉により加熱する工程とを10回ずつ繰り返し行うことで、上記導体と、この導体の外周面に積層される平均厚さ35μmの絶縁層とを備える絶縁電線No.1を得た。
<Manufacture of insulated wires>
[Insulated wire No. 1 production]
A round wire composed mainly of copper and having an average diameter of 1 mm was prepared as a conductor. A step of applying the resin varnish V1 to the outer peripheral surface of the conductor and a step of heating the conductor coated with the resin varnish in a heating furnace under conditions of a heating temperature of 400° C. and a heating time of 30 seconds are repeated 10 times each. Thus, an insulated wire No. 1 comprising the above conductor and an insulating layer having an average thickness of 35 μm laminated on the outer peripheral surface of the conductor. got 1.

[絶縁電線No.2~14の製造]
樹脂ワニスV1の替わりに樹脂ワニスV2~V14を用いた以外は絶縁電線No.1の製造と同様に操作し、絶縁電線No.2~14を製造した。
[Insulated wire No. Production of 2 to 14]
Insulated wire No. 1 except that resin varnishes V2 to V14 were used instead of resin varnish V1. Insulated wire no. 2-14 were produced.

[NMP質量膨潤度の測定]
上記製造した絶縁電線の絶縁層をカッターナイフで剥ぎ取り、得られた絶縁層を試料として用いた。この試料をNMP(三菱化学社製)に80℃で4時間浸漬した後、質量を測定し、これをNMP膨潤処理後の絶縁層の質量R1(g)とした。次に、上記試料を200℃で1時間乾燥させた後、再度質量を測定し、これを乾燥後の絶縁層の質量R2(g)とした。下記式にR1~R2を代入し、これをNMP質量膨潤度とした。表1に、絶縁電線No.1~14のNMP質量膨潤度を示す。
NMP質量膨潤度(倍)=R1/R2
[Measurement of NMP Mass Swelling Degree]
The insulating layer of the insulated wire manufactured above was stripped off with a cutter knife, and the obtained insulating layer was used as a sample. After this sample was immersed in NMP (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) at 80° C. for 4 hours, the mass was measured, and this was defined as the mass R1 (g) of the insulating layer after the NMP swelling treatment. Next, after drying the sample at 200° C. for 1 hour, the mass was measured again, and this was defined as the mass R2 (g) of the insulating layer after drying. Substituting R1 and R2 into the following formula, this was taken as the NMP mass swelling degree. Table 1 shows insulated wire No. It exhibits an NMP mass swelling degree of 1-14.
NMP mass swelling degree (times) = R1/R2

<評価>
絶縁電線No.1~14を用いて絶縁層の耐湿熱劣化性及び曲げ加工性を評価した。評価結果を表1に示す。
<Evaluation>
Insulated wire no. 1 to 14 were used to evaluate the wet heat deterioration resistance and bending workability of the insulating layer. Table 1 shows the evaluation results.

[耐湿熱劣化性]
絶縁層の耐湿熱劣化性は、絶縁電線を長手方向に10%伸長しつつ、温度85℃、相対湿度95%、750時間の条件で湿熱処理を行い、処理後の絶縁電線を目視で観察して表面に亀裂が観察されなかった場合を「A(良好)」、表面に亀裂が観察された場合を「B(良好でない)」とした。
[Damp heat deterioration resistance]
The wet heat deterioration resistance of the insulating layer was evaluated by performing wet heat treatment under conditions of 85 ° C temperature, 95% relative humidity, and 750 hours while stretching the insulated wire by 10% in the longitudinal direction, and visually observing the insulated wire after treatment. A case where no cracks were observed on the surface was rated as "A (good)", and a case where cracks were observed on the surface was rated as "B (not good)".

[曲げ加工性]
絶縁層の曲げ加工性は、絶縁電線を90°に折り曲げてその状態で10秒間保持した後、折り曲げ箇所の絶縁層を目視で確認し、層間剥離が確認されなかった場合を「A(良好)」、層間剥離が確認された場合を「B(良好でない)」と判断した。
[Bendability]
For the bending workability of the insulating layer, the insulated wire was bent at 90° and held in that state for 10 seconds, and then the insulating layer at the bent portion was visually confirmed. ", and the case where delamination was confirmed was judged as "B (not good)".

Figure 0007179132000001
Figure 0007179132000001

表1から明らかなように、No.1~4、6~7及び11~13の絶縁電線の絶縁層は、特定量のBPDAを原料として用いたポリイミド前駆体に由来するポリイミドを主成分とし、かつNMP質量膨潤度が特定範囲であるため、曲げ加工性及び耐湿熱劣化性が優れていた。一方、No.5及び8~10の絶縁電線は、上記BPDAの使用量を上記特定量としなかった。また、No.5、8、9及び14の絶縁電線は、上記NMP質量膨潤度を上記特定範囲外とした。その結果、No.5、8~10及び14の絶縁電線の絶縁層は、耐湿熱劣化性及び曲げ加工性のうち少なくとも一方が良好でなかった。 As is clear from Table 1, No. The insulation layers of the insulated wires 1 to 4, 6 to 7 and 11 to 13 are mainly composed of polyimide derived from a polyimide precursor using a specific amount of BPDA as a raw material, and the NMP mass swelling degree is within a specific range. Therefore, bending workability and resistance to wet heat deterioration were excellent. On the other hand, No. Insulated wires 5 and 8 to 10 did not use the above specified amount of BPDA. Also, No. For the insulated wires Nos. 5, 8, 9 and 14, the NMP mass swelling degree was outside the specified range. As a result, No. The insulation layers of the insulated wires Nos. 5, 8 to 10, and 14 were poor in at least one of the resistance to deterioration by moist heat and bending workability.

本発明の一態様に係る絶縁電線は、絶縁層の曲げ加工性及び耐湿熱劣化性に優れる。 The insulated wire according to one aspect of the present invention is excellent in bending workability and resistance to moisture-heat deterioration of the insulating layer.

Claims (3)

導体と、この導体の外周側に積層される1又は複数の絶縁層とを備える絶縁電線であって、
上記絶縁層のうち少なくとも1層が、芳香族テトラカルボン酸二無水物及び芳香族ジアミンの反応生成物に由来するポリイミドを主成分とし、かつN-メチル-2-ピロリドンに80℃で4時間浸漬したときの質量膨潤度が1.3倍以上20.0倍以下であり、
上記芳香族テトラカルボン酸二無水物がビフェニルテトラカルボン酸二無水物を含み、
上記芳香族テトラカルボン酸二無水物100モル%に対するビフェニルテトラカルボン酸二無水物の含有量が25モル%以上95モル%以下である絶縁電線。
An insulated wire comprising a conductor and one or more insulating layers laminated on the outer peripheral side of the conductor,
At least one of the insulating layers is mainly composed of a polyimide derived from a reaction product of an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine, and is immersed in N-methyl-2-pyrrolidone at 80 ° C. for 4 hours. The mass swelling degree is 1.3 times or more and 20.0 times or less when
The aromatic tetracarboxylic dianhydride comprises biphenyltetracarboxylic dianhydride,
An insulated wire, wherein the content of biphenyltetracarboxylic dianhydride is 25 mol% or more and 95 mol% or less based on 100 mol% of the aromatic tetracarboxylic dianhydride.
上記芳香族テトラカルボン酸二無水物がピロメリット酸二無水物をさらに含み、
上記芳香族テトラカルボン酸二無水物100モル%に対するピロメリット酸二無水物の含有量が5モル%以上75モル%以下である請求項1に記載の絶縁電線。
The aromatic tetracarboxylic dianhydride further comprises pyromellitic dianhydride,
The insulated wire according to claim 1, wherein the content of pyromellitic dianhydride is 5 mol% or more and 75 mol% or less based on 100 mol% of the aromatic tetracarboxylic dianhydride.
上記芳香族ジアミンがジアミノジフェニルエーテルを含む請求項1又は請求項2に記載の絶縁電線。 The insulated wire according to claim 1 or 2, wherein the aromatic diamine contains diaminodiphenyl ether.
JP2021132968A 2017-01-18 2021-08-17 insulated wire Active JP7179132B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021132968A JP7179132B2 (en) 2017-01-18 2021-08-17 insulated wire

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017007117A JP6964413B2 (en) 2017-01-18 2017-01-18 Insulated wire
JP2021132968A JP7179132B2 (en) 2017-01-18 2021-08-17 insulated wire

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017007117A Division JP6964413B2 (en) 2017-01-18 2017-01-18 Insulated wire

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021192370A JP2021192370A (en) 2021-12-16
JP7179132B2 true JP7179132B2 (en) 2022-11-28

Family

ID=62985594

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017007117A Active JP6964413B2 (en) 2017-01-18 2017-01-18 Insulated wire
JP2021132968A Active JP7179132B2 (en) 2017-01-18 2021-08-17 insulated wire

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017007117A Active JP6964413B2 (en) 2017-01-18 2017-01-18 Insulated wire

Country Status (1)

Country Link
JP (2) JP6964413B2 (en)

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5931654B2 (en) * 2012-09-03 2016-06-08 日立金属株式会社 Insulated wire and coil using the same
JP5761151B2 (en) * 2012-10-16 2015-08-12 日立金属株式会社 Insulated wires and coils

Also Published As

Publication number Publication date
JP6964413B2 (en) 2021-11-10
JP2021192370A (en) 2021-12-16
JP2018116851A (en) 2018-07-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2012102121A1 (en) Polyimide resin varnish, and insulated electrical wire, electrical coil, and motor using same
TWI736867B (en) Polyimide varnish and preparation method thereof, polyimide coating article and preparation method thereof, wire and eleectronic device
US11905431B2 (en) Polyimide varnish comprising aromatic carboxylic acid for conductor coating and manufacturing method therefor
JP7213806B2 (en) insulated wire
JP6394697B2 (en) Insulated wires and coils
JP2013253124A (en) Polyimide resin vanish, and insulated electric wire, electric coil and motor using the same
JP7442614B2 (en) Polyamic acid composition, method for producing polyamic acid composition, polyimide containing the same, and coating containing the same
WO2012153636A1 (en) Polyimide resin varnish, insulated electric wire using same, electric coil, and motor
JP2012234625A (en) Insulation wire, electric machine coil using the same, and motor
JP7442615B2 (en) Polyamic acid composition, method for producing polyamic acid composition, polyimide containing the same, and coating containing the same
JP6865592B2 (en) Manufacturing method of resin varnish, insulated wire and insulated wire
JP7104162B2 (en) Polyamic acid composition for conductor coating
JP7179132B2 (en) insulated wire
JP2017095594A (en) Resin varnish and insulation wire
JP6964412B2 (en) Insulated wire and its manufacturing method
JP6515571B2 (en) Polyimide paint and insulated wire
JP2013155281A (en) Insulating coating, insulated wire using the insulating coating, and coil using the insulated wire
WO2020016954A1 (en) Resin varnish, insulated electric wire, and method for producing insulated electric wire
JP2013028695A (en) Polyimide resin vanish, and insulated electric wire, electric coil and motor using the same
JP5837397B2 (en) Insulated wire and electric coil and motor using the same
WO2023058288A1 (en) Resin composition and insulated wire
KR102564595B1 (en) Polyamic Acid Composition and Polyimide Coating Material Comprising The Same
KR102564597B1 (en) Polyimide Coating Material
JP2017132892A (en) Resin varnish and insulation wire

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210915

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20220601

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20221108

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20221115

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7179132

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150