JP2021107098A - 旋盤 - Google Patents
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Abstract
【課題】清掃のために加工の効率が低下することが無い旋盤を提供する。【解決手段】旋盤は、主軸50と、前記主軸を搭載し、前記主軸の軸方向に沿って前記主軸とともに移動可能な主軸台60と、を備え、前記軸方向に沿った前記主軸および前記主軸台の前進と、前進した位置における前記主軸によるワークの把持と、前記ワークを把持した状態の前記主軸および前記主軸台の前記軸方向に沿った後退と、を含む加工サイクルを実行し、さらに、前記加工サイクルにおける移動中の前記主軸台に接触する位置に、切粉Gを清掃するための清掃部材を有する。【選択図】図2
Description
本発明は、旋盤に関する。
旋盤でワークを加工するとワークの切粉が発生する。このような切粉の清掃や除去に関する技術が提案されている。
Z軸方向およびX軸方向に移動自在である刃物台に、工具取付部がT軸回りに回転自在に支持されているNC加工機において、工具取付部に切粉清掃部材が支持されており、刃物台のZ軸方向およびX軸方向の移動と、工具取付部のT軸回りの回転との合成動作により、加工室内の切粉清掃を行う切粉掃除装置が開示されている(特許文献1参照)。
Z軸方向およびX軸方向に移動自在である刃物台に、工具取付部がT軸回りに回転自在に支持されているNC加工機において、工具取付部に切粉清掃部材が支持されており、刃物台のZ軸方向およびX軸方向の移動と、工具取付部のT軸回りの回転との合成動作により、加工室内の切粉清掃を行う切粉掃除装置が開示されている(特許文献1参照)。
前記文献では、加工作業とは別に清掃作業の時間が必要である。そのため、加工の効率が低下する。
本発明は上述の課題に鑑みてなされたものであり、加工の効率に影響を与えずに清掃を行う構成を提供する。
本発明の態様の一つは、旋盤は、主軸と、前記主軸を搭載し、前記主軸の軸方向に沿って前記主軸とともに移動可能な主軸台と、を備え、前記軸方向に沿った前記主軸および前記主軸台の前進と、前進した位置における前記主軸によるワークの把持と、前記ワークを把持した状態の前記主軸および前記主軸台の前記軸方向に沿った後退と、を含む加工サイクルを実行し、さらに、前記加工サイクルにおける移動中の前記主軸台に接触する位置に、切粉を清掃するための清掃部材を有する。
前記構成によれば、旋盤が有する清掃部材は、加工サイクルにおける移動中の主軸台に接触する位置に在る。そのため、加工サイクルにおける主軸台の動きをそのまま利用して主軸台の清掃が行われ、主軸台に付着、堆積した切粉が除去される。従って、清掃のために加工の効率が低下することが無い。
以下、各図を参照しながら本発明の実施形態を説明する。各図は、本実施形態を説明するための例示に過ぎない。また、各図は例示であるため、形状や比率等が互いに整合していなかったり、一部の図示が省略されていたりすることもあるが、そのような不整合や省略は、説明に影響を及ぼさない。
図1は、本実施形態にかかる旋盤10の構成を簡易的に示している。旋盤10は工作機械の一種である。旋盤10は、コンピューターとしてのNC(Numerical Control)装置11を有するため、これをNC旋盤とも呼ぶ。NC装置11が加工プログラムに従って旋盤10の各部の動作を数値制御することにより、ワークWに対する加工が実施される。
旋盤10は、例えば、正面主軸20、ガイドブッシュ(GB)40、GB支持部30、背面主軸50、背面主軸台60、刃物台70を含む。
図1の例では、正面主軸20と背面主軸50とは軸心が一致する状態で対向しており、それらの軸心をZ軸と呼ぶ。Z軸方向は水平と解してよい。正面主軸20、背面主軸50は各々、Z軸を中心として回転可能である。図では、Z軸の正面主軸20側をZ軸マイナス方向とし、背面主軸50側をZ軸プラス方向としている。正面主軸20、背面主軸50は各々、Z軸に供給される棒状のワークWを解放可能に把持するコレットを備える。
図1の例では、正面主軸20と背面主軸50とは軸心が一致する状態で対向しており、それらの軸心をZ軸と呼ぶ。Z軸方向は水平と解してよい。正面主軸20、背面主軸50は各々、Z軸を中心として回転可能である。図では、Z軸の正面主軸20側をZ軸マイナス方向とし、背面主軸50側をZ軸プラス方向としている。正面主軸20、背面主軸50は各々、Z軸に供給される棒状のワークWを解放可能に把持するコレットを備える。
正面主軸20よりもZ軸プラス方向の位置には、GB支持部30が設けられている。GB支持部30は、旋盤10の加工室内で固定されている。GB支持部30は、Z軸を含んだ範囲にZ軸方向に貫通する貫通孔を有しており、貫通孔に対応してGB40が取り付けられている。図1の例では、正面主軸20からZ軸プラス方向に突出したワークWは、GB支持部30およびGB40を貫通してさらにZ軸プラス方向へ突出している。GB40は、自身を貫通するワークWを、ワークWが回転可能な状態で周囲から支持する。
GB40よりもZ軸プラス方向の位置に、背面主軸50および背面主軸50を搭載する背面主軸台60が設けられている。背面主軸台60は、Z軸方向に沿って背面主軸50とともに移動可能である。言い換えると、背面主軸50と一体となって移動する構造物を背面主軸台60と呼ぶ。背面主軸台60および背面主軸50のZ軸マイナス方向への移動を、それらの「前進」と表現し、背面主軸台60および背面主軸50のZ軸プラス方向への移動を、それらの「後退」と表現する。
刃物台70は、ワークWの加工に用いられる工具71を一つ以上支持する。刃物台70が支持する工具71の数や種類は特に限られない。刃物台70は、例えば、X軸方向とY軸方向とのそれぞれに移動可能である。X軸およびY軸はいずれもZ軸に対して垂直であり、かつ、X軸とY軸とは直交している。X軸は、重力方向と平行であってもよいし、重力方向に対して傾いていてもよい。X軸が重力方向と平行であれば、Y軸は水平であり、X軸が重力方向に対して傾いているのであれば、Y軸は水平方向に対して傾いている。
刃物台70は、背面主軸50が把持するワークWに工具71を作用させることにより、ワークWを加工する。図示は省略しているが、旋盤10は、正面主軸20が把持するワークWを、GB40よりもZ軸プラス方向の位置で正面加工する工具を有する刃物台を、刃物台70とは別に有しているとしてもよい。
上述の構成は一例である。旋盤10は、背面主軸50および背面主軸台60を、Z軸方向に加え、例えば、X軸方向へ移動させる機構を有していてもよい。また、旋盤10は、正面主軸20をZ軸方向やそれ以外の方向へ移動させる機構を有していてもよい。また、GB40およびGB支持部30は無くてもよい。旋盤10が有する各部の回転や移動といった各動作は、図示しないモータやボールねじ等の駆動部を用いて実現される。
次に、背面主軸50、背面主軸台60および刃物台70の関係性を例に採り、本実施形態による切粉の清掃について説明する。
図2は、背面主軸50、背面主軸台60および刃物台70を含む構成を、Y軸と平行な向きの視点、つまり図1と同様の視点により示している。
図3は、背面主軸50、背面主軸台60および刃物台70を含む構成を、Z軸マイナス方向を向く視点により示している。
図4は、背面主軸50、背面主軸台60および刃物台70を含む構成を、斜視図により示している。
図2,3,4では、図1よりも各部の形状を詳細に示している。ただし、図2,3,4では、刃物台70の工具71については図示を省略している。
図3は、背面主軸50、背面主軸台60および刃物台70を含む構成を、Z軸マイナス方向を向く視点により示している。
図4は、背面主軸50、背面主軸台60および刃物台70を含む構成を、斜視図により示している。
図2,3,4では、図1よりも各部の形状を詳細に示している。ただし、図2,3,4では、刃物台70の工具71については図示を省略している。
図2および図3から判るように、背面主軸台60は、背面主軸50よりもX軸プラス方向、つまり上方へ延出するカバー61を有する。カバー61も背面主軸台60の一部と見なす。カバー61は、背面主軸50や背面主軸台60の駆動に必要な要素、例えば、モータやボールねじやその他の要素の少なくとも一部を覆ったり収容したりする部材である。カバー61は、背面主軸台60のうちの背面主軸50を収容する筐体62よりも突出しているため、カバー61と筐体62とが形成する角部63に、ワークWの切粉Gが堆積し易い。
切粉Gを清掃するために、刃物台70には清掃部材72が取り付けられている。清掃部材72は、例えば、ブラシであったりワイパであったりする。図3によれば、清掃部材72は、刃物台70のY軸プラス方向の端部であって角部63に近い位置に、カバー61側に突出する向きで取り付けられている。なお、図4においてカバー61を背面主軸台60から分離して記載している理由については、後述する。
図5は、NC装置11が加工プログラムに従って旋盤10の各部を数値制御することにより実現する加工サイクルを、フローチャートにより示している。加工サイクルとは、ワークWから一つの加工品を製造するための一連の動作である。ただし、図5は、加工サイクルのうち、主に背面主軸50が関わるステップを示しており、加工サイクルの全体を示している訳ではない。
ワークWに対する正面加工が終了したタイミングあるいは正面加工が終了しそうな所定のタイミングで、背面主軸50が背面主軸台60とともに前進する(ステップS100)。背面主軸50は、所定の「前進位置」まで前進したところで、正面加工が終了したワークWの先端を把持する(ステップS110)。ここで言うワークWの先端とは、当然、ワークWのZ軸プラス方向を向く端部である。背面主軸50がワークWを把持した状態で、ワークWに対する突っ切り加工が行われる(ステップS120)。これにより、背面主軸50が把持するワークWが、正面主軸20が把持するワークWから切り離される。
突っ切り加工後、背面主軸50が背面主軸台60とともに後退する(ステップS130)。背面主軸50が所定の後退位置まで後退したところで、背面主軸50が把持するワークWに対する加工が行われる(ステップS140)。ステップS140の加工を背面加工と呼ぶ。背面加工は、ワークWへの工具71の使用および背面主軸50の回転により実現する。むろん、刃物台70や背面主軸台60は、背面加工に必要な移動を適宜行う。背面加工後、加工品が回収される(ステップS150)。背面加工後のワークWを加工品と呼ぶ。加工品の回収方法は、特に限定されない。例えば、背面主軸50が加工品の把持を解除することで加工品が落下して不図示の回収手段により回収される。ステップS150の後は、次の加工品の製造のためにステップS100へ戻る。
図6は、NC装置11が加工プログラムに従った数値制御により実現する刃物台70の移動処理を、フローチャートにより示している。NC装置11は、刃物台70の移動処理を、図5のフローチャートと並行して実施する。
ステップ200の実行前の刃物台70は「非清掃位置」に在る。非清掃位置とは、刃物台70が背面主軸50および背面主軸台60のいずれとも干渉しない位置である。非清掃位置の刃物台70は、背面主軸50が上述の前進位置に在る状態であっても、背面主軸50および背面主軸台60のいずれとも干渉しない。刃物台70の非清掃位置を、待機位置等と呼んでもよい。図2,3,4や後述の図7に示す刃物台70は、いずれも非清掃位置に在る。
刃物台70は、ステップS120の突っ切り加工後にステップS130で背面主軸50および背面主軸台60が後退を開始することに応じて、非清掃位置から「清掃位置」へ移動する(ステップS200)。後退の開始に応じて移動する、とは後退の開始直前に移動を開始すること、後退の開始と同時に移動を開始すること、後退の開始後に移動を開始すること、のいずれであってもよい。清掃位置とは、清掃部材72が背面主軸台60に接触する位置である。刃物台70が非清掃位置に在る場合は、当然、清掃部材72は背面主軸台60に接触しない。ステップS200における刃物台70の移動は、Y軸プラス方向への移動である。本実施形態において、部材の干渉とは、移動の妨げとなるような接触を意味する。清掃位置に刃物台70が在る状態での清掃部材72の背面主軸台60への接触は、背面主軸台60の移動を妨げないため、干渉に該当しない。
刃物台70は、背面主軸台60が清掃部材72の位置を通過した後、「背面加工位置」へ移動する(ステップS210)。背面加工位置とは、ステップS140の背面加工を行うための位置である。つまり、背面主軸台60が清掃部材72の位置よりもZ軸プラス方向へ移動したタイミングで清掃部材72と背面主軸台60との接触が途切れて清掃部材72による清掃が終了する。そこで、刃物台70は背面加工位置へ移動する。
刃物台70は、ステップS140の背面加工の終了後、非清掃位置へ移動する(ステップS220)。この結果、刃物台70は、ステップS150,S100,S110,S120を経て再びステップS130が実行されるタイミングで、ステップS200の移動を行うことになる。なお、刃物台70が背面加工位置に在る状態で、背面主軸50の前進を開始すると、背面主軸50や背面主軸台60が刃物台70と干渉するおそれがある。
図7は、図2と同様に背面主軸50、背面主軸台60および刃物台70を含む構成を、Y軸と平行な向きの視点により示している。図7は、破線により前進位置P1を示している点で、図2と異なる。図7の破線は、背面主軸50および背面主軸台60のZ軸マイナス方向における端部の外形を簡易的に示している。つまり、ステップS100の結果、背面主軸50および背面主軸台60は、前進位置P1まで移動する。
カバー61は、背面主軸台60の一部であるため、実際には図4のように背面主軸台60から分離することは無い。しかし、図4においてカバー61を背面主軸台60と一体的に記載しようとすると、背面主軸50や背面主軸台60によりカバー61が隠れてしまうため、便宜上、図4ではカバー61を分離して記載している。図4では、背面主軸50および背面主軸台60(ただしカバー61を除く。)は、前進位置P1に無いものの、カバー61は、背面主軸50および背面主軸台60が前進位置P1に在るときを想定した位置に記載されている。また、図4では、前進位置P1にあるカバー61に対応させて、上述の角部63に堆積した切粉Gの位置を示している。
図5および図6の説明から解るように、ステップS100の前進により背面主軸50および背面主軸台60が前進位置P1に達した時点では、刃物台70は、非清掃位置に在る。非清掃位置の刃物台70は、図4に示すように、カバー61からY軸マイナス方向に離れており、カバー61と干渉していない。また、図4に示す清掃部材72も、カバー61からY軸マイナス方向に離れており、カバー61に接していない。
図8は、図3と同様に背面主軸50、背面主軸台60および刃物台70を含む構成を、Z軸マイナス方向を向く視点により示している。ただし、図8は、刃物台70が清掃位置に在る点で図3と異なる。ステップS200により、刃物台70は、図8に示すように清掃部材72が背面主軸台60の一部であるカバー61に接触する清掃位置まで移動する。刃物台70が清掃位置に在る状態で、背面主軸50および背面主軸台60はステップS130の後退を継続する。従って、背面主軸台60の角部63に堆積した切粉Gは、背面主軸50および背面主軸台60の後退に伴って清掃部材72によって掃かれ、背面主軸台60から落下する。これにより、背面主軸台60から切粉Gが除去される。
このように本実施形態によれば、旋盤10は、主軸と、主軸を搭載し主軸の軸方向に沿って主軸とともに移動可能な主軸台とを備える。例えば、旋盤10は、背面主軸50と背面主軸台60とを備える。そして、旋盤10は、軸方向に沿った主軸および主軸台の前進と、前進した位置における主軸によるワークWの把持と、ワークを把持した状態の主軸および主軸台の軸方向に沿った後退と、を含む加工サイクルを実行する。さらに、旋盤10は、加工サイクルにおける移動中の主軸台に接触する位置に、切粉Gを清掃するための清掃部材72を有する。
前記構成によれば、旋盤10は、ワークWの加工サイクルに影響を与えることなく、主軸台の清掃を行うことができる。つまり、加工サイクルにおける主軸台の動きをそのまま利用して、移動中の主軸台に接触する清掃部材72により主軸台の清掃が行われる。これにより、清掃に起因して、ワークWの加工効率、具体的には時間あたりのワークWの製造個数が、低下することが無い。
また、本実施形態によれば、旋盤10は、ワークWの加工のための工具71を支持する刃物台70を備え、清掃部材72は刃物台70に取り付けられている。そして、刃物台70は、清掃部材72が主軸台に接触する清掃位置と、清掃部材72が主軸台に接触しない非清掃位置とへ移動可能であり、加工サイクルの一部期間に清掃位置に在る、としてもよい。
前記構成によれば、旋盤10は、刃物台70を移動させることにより、主軸台の移動に合わせて一部期間だけ清掃部材72を主軸台に接触させることができる。具体的には、前記一部期間は、図5および図6によればワークWの突っ切り加工後の背面主軸50および背面主軸台60の後退期間の一部である。
前記構成によれば、旋盤10は、刃物台70を移動させることにより、主軸台の移動に合わせて一部期間だけ清掃部材72を主軸台に接触させることができる。具体的には、前記一部期間は、図5および図6によればワークWの突っ切り加工後の背面主軸50および背面主軸台60の後退期間の一部である。
また、本実施形態によれば、刃物台70の非清掃位置は、刃物台70が主軸および主軸台と干渉しない位置である。
前記構成によれば、旋盤10は、加工サイクルの前記一部期間以外の期間の少なくとも一部において、刃物台70を非清掃位置に置くことにより、刃物台70と主軸や主軸台との干渉を回避することができる。
前記構成によれば、旋盤10は、加工サイクルの前記一部期間以外の期間の少なくとも一部において、刃物台70を非清掃位置に置くことにより、刃物台70と主軸や主軸台との干渉を回避することができる。
図5および図6では、背面主軸50および背面主軸台60が正面主軸20から離れる方向へ後退する期間に背面主軸台60を清掃部材72により清掃する例を説明した。しかしながら、背面主軸台60に堆積した切粉Gを、背面主軸50および背面主軸台60が正面主軸20に近づく方向へ前進する期間に清掃部材72により清掃することも可能である。NC装置11は、例えば、背面主軸50および背面主軸台60がステップS100の前進を開始する時点で刃物台70を非清掃位置から清掃位置へ移動させ、背面主軸50および背面主軸台60が前進位置まで前進する過程の一部期間に、清掃部材72を背面主軸台60に接触させる。そして、NC装置11は、例えば、背面主軸50および背面主軸台60が前進位置に到達したタイミングや、到達する直前の所定タイミングで、刃物台70を清掃位置から非清掃位置に戻すとしてもよい。
これまでは、一体的に移動する主軸および主軸台として、背面主軸50および背面主軸台60を挙げ、背面主軸台60を清掃部材72により清掃する例を説明した。しかしながら、正面主軸20が正面主軸20を搭載するテーブル等の主軸台によりZ軸のプラスやマイナスの方向へ移動可能であれば、正面主軸20および当該主軸台の移動を利用して清掃部材で当該主軸台を清掃する実施形態も、把握することができる。
また、加工サイクルにおける移動中の主軸台に接触する位置に清掃部材を有するとは、加工サイクルの一部期間に限って、主軸台に接触可能な位置に清掃部材が在る態様だけでなく、加工サイクルの全期間に亘って、主軸台に接触可能な位置に清掃部材が在る態様を含む。
本実施形態において旋盤10の各部が実行する各工程を、方法の発明として捉えることも可能である。
本実施形態において旋盤10の各部が実行する各工程を、方法の発明として捉えることも可能である。
なお、図3で示すように、Z軸と平行な方向から見たとき、本実施形態の旋盤10におけるX軸とZ軸から成る面は地面と平行ではない。つまり、X軸とZ軸から成る面は、X軸プラス方向からX軸マイナス方向に向かうにつれ、重力方向に傾斜している。旋盤10において、X軸マイナス方向には、旋盤10の扉や切粉Gを回収する切粉回収部(いずれも不図示)が存在する。
旋盤10のオペレーターは工具71の交換や、切粉回収部に溜まった切粉Gの除去などを行う際、旋盤10を停止させ、旋盤10の扉を開け、旋盤10の内部にアクセスする。X軸とZ軸からなる面が傾斜しているため、旋盤10の内部は、X軸プラス方向(旋盤10の奥側)からX軸マイナス方向(旋盤10の扉側)に向かうにつれ、重力方向の位置が低くなる。その結果、旋盤10のオペレーターが旋盤10の内部にアクセスする必要があるとき、作業がしやすくなる。反対に、旋盤10の奥側が扉側よりも重力方向における位置が低くなった場合は、旋盤10の内部にアクセスするオペレーターの作業性は悪くなる。
X軸とZ軸からなる面が傾斜する、つまりX軸プラス方向からX軸マイナス方向に向かうにつれ、X軸が重力方向に傾斜する場合、重力によって、切粉は自然とX軸マイナス方向に移動する。ただし、カバー61に堆積した切粉Gについては、X軸マイナス方向に移動しようとしても、背面主軸50や背面主軸台60の構造物によって塞き止められてしまう。よって、塞き止められた切粉Gを清掃する観点からも本発明は有用である。
10…旋盤、11…NC装置、20…正面主軸、50…背面主軸、60…背面主軸台、61…カバー、63…角部、70…刃物台、71…工具、72…清掃部材、P1…前進位置、W…ワーク
Claims (3)
- 主軸と、
前記主軸を搭載し、前記主軸の軸方向に沿って前記主軸とともに移動可能な主軸台と、を備える旋盤であって、
前記軸方向に沿った前記主軸および前記主軸台の前進と、前進した位置における前記主軸によるワークの把持と、前記ワークを把持した状態の前記主軸および前記主軸台の前記軸方向に沿った後退と、を含む加工サイクルを実行し、
さらに、前記加工サイクルにおける移動中の前記主軸台に接触する位置に、切粉を清掃するための清掃部材を有する、ことを特徴とする旋盤。 - 前記ワークの加工のための工具を支持する刃物台を備え、
前記清掃部材は前記刃物台に取り付けられており、
前記刃物台は、前記清掃部材が前記主軸台に接触する清掃位置と、前記清掃部材が前記主軸台に接触しない非清掃位置とへ移動可能であり、前記加工サイクルの一部期間に前記清掃位置に在る、ことを特徴とする請求項1に記載の旋盤。 - 前記刃物台の前記非清掃位置は、前記刃物台が前記主軸および前記主軸台と干渉しない位置である、ことを特徴とする請求項2に記載の旋盤。
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