JP2021105475A - 加熱調理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ヒーターが揺動することを抑制できる加熱調理装置を提供する。【解決手段】加熱調理装置１００は、加熱調理室１００Ａと、ヒーター１６１と、支持部１７０とを備える。加熱調理室１００Ａは、天壁１Ｃを有し、被加熱物Ｈを収容する。ヒーター１６１は、被加熱物Ｈを加熱する。支持部１７０は、ヒーター１６１の一部１６１Ａを支持する。加熱調理室１００Ａは、第１側壁１Ｂと、第１側壁１Ｂに対向する第２側壁１Ａとを更に有する。ヒーター１６１は、第１側壁１Ｂから第２側壁１Ａに向かって延びており、第２側壁１Ａの側から折り返して第１側壁１Ｂまで延びている。ヒーター１６１は、第１基端部分１６３と第２基端部分１６４とを有する。第１基端部分１６３と第２基端部分１６４とは、第１側壁１Ｂに配置される。第１基端部分１６３の鉛直方向に沿った位置と、第２基端部分１６４の鉛直方向に沿った位置とは、異なる。【選択図】図７

Description

本発明は、加熱調理装置に関する。

特許文献１に記載の高周波加熱装置は、加熱室と、高周波電源と、シーズヒーターとを備える。加熱室は、被加熱物を収容する。高周波電源は、加熱室に高周波を供給する。シーズヒーターは、加熱室内の上部に配置される。シーズヒーターは、端部が加熱室の外部に導出され、端部が制御装置に結合される。シーズヒーターは、板状取付金具によって、加熱室の複数の側壁のうちの１つの側壁に取付けられる。

特開２００１−８２７４５号公報

しかしながら、特許文献１に記載の高周波加熱装置のような加熱調理装置のシーズヒーターは、一方の端部が板状取付金具によって固定されるが、他方の端部は固定されない。したがって、シーズヒーターは揺動しやすい。シーズヒーターが揺動することによって、シーズヒーターの耐久性が低減する。

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、ヒーターが揺動することを抑制できる加熱調理装置を提供することを目的とする。

本発明の一局面によれば、加熱調理装置は、加熱調理室と、ヒーターと、支持部とを備える。前記加熱調理室は、天壁を有し、被加熱物を収容する。前記ヒーターは、前記被加熱物を加熱する。前記支持部は、前記天壁に配置されており、前記ヒーターの一部を支持する。前記加熱調理室は、第１側壁と、前記第１側壁に対向する第２側壁とを更に有する。前記ヒーターは、前記第１側壁から前記第２側壁に向かって延びており、前記第２側壁の側から折り返して前記第１側壁まで延びている。前記ヒーターは、互いに離隔する第１基端部分と第２基端部分とを有する。前記第１基端部分と前記第２基端部分とは、前記第１側壁に配置される。前記第１基端部分の鉛直方向に沿った位置と、前記第２基端部分の前記鉛直方向に沿った位置とは、異なる。

本発明の加熱調理装置によれば、ヒーターが揺動することを抑制できる。

本発明の実施形態に係る引出し式加熱調理器の外観を示す斜視図である。 本実施形態に係る引出し式加熱調理器を示す右側面図である。 本実施形態に係る引出し式加熱調理器を示す上面図である。 本実施形態に係る加熱調理室の概略縦断面を示す図である。 本実施形態に係る加熱調理室の概略横断面を示す図である。 本実施形態に係るヒーターを底壁側から見た図である。 本実施形態に係るヒーターを扉部側から見た図である。 本実施形態に係るヒーターと支持部と示す模式図である。 図６Ａに示す領域ＡＲを拡大して示す図である。 図８に示すＩＸＡ−ＩＸＡ断面を示す図である。 図８に示すＩＸＢ−ＩＸＢ断面を示す図である。 本実施形態に係る左壁と左壁に配置された貫通孔を示す図である。 本実施形態に係る保持部を示す図である。 本実施形態に係る固定部によって固定された保持部を示す図である。 本実施形態に係る固定部を図１２と異なる側から見た図である。 本実施形態に係る引出し式加熱調理器が取付けられるキャビネットの外観を示す図である。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、図中、同一又は相当部分については同一の参照符号を付して説明を繰り返さない。

図１〜図３を参照して、本実施形態に係る引出し式加熱調理器１００について説明する。図１は、本実施形態に係る引出し式加熱調理器１００の外観を示す斜視図である。図２は、本実施形態に係る引出し式加熱調理器１００を示す右側面図である。詳しくは、図１と図２とは、引出し体２を引出した状態の引出し式加熱調理器１００を示す。また、図１は、引出し式加熱調理器１００を右斜め前の上方から視た外観を示す。引出し式加熱調理器１００は、加熱調理器の一例である。図３は、本実施形態に係る引出し式加熱調理器１００を示す上面図である。

引出し式加熱調理器１００は、被加熱物Ｈを加熱調理する。被加熱物Ｈは、例えば、食品である。図１に示すように、引出し式加熱調理器１００は、加熱庫１と、引出し体２と、操作パネル３とを備える。

本実施形態では、引出し式加熱調理器１００の操作パネル３が配置される側を引出し式加熱調理器１００の前側とし、その反対側を引出し式加熱調理器１００の後側と規定する。また、引出し式加熱調理器１００を前側から視たときの右側を引出し式加熱調理器１００の右側とし、その反対側を引出し式加熱調理器１００の左側と規定する。また、引出し式加熱調理器１００の前後方向及び左右方向と直交する方向において、操作パネル３が配置される側を引出し式加熱調理器１００の上側とし、その反対側を引出し式加熱調理器１００の下側と規定する。なお、これらの向きは、本発明の引出し式加熱調理器１００の使用時の向きを限定するものではない。

図１〜図３に示すように、加熱庫１は、箱状部材である。具体的には、図２と図３とに示すように、加熱庫１は、右外壁１Ｇ、左外壁１Ｈ、天外壁１Ｊ、底外壁１Ｆ、及び奥外壁１Ｋを有する。そして、加熱庫１は、その内部に加熱調理室１００Ａを有する。

加熱調理室１００Ａは、被加熱物Ｈを収容する収容空間１２０を有する。収容空間１２０は、被加熱物Ｈを収容可能な空間として予め定められた容積を有する。具体的には、加熱調理室１００Ａは、右壁１Ａ、左壁１Ｂ、天壁１Ｃ、底壁１Ｄ、及び奥壁１Ｅを有する。加熱調理室１００Ａの形状は、例えば、略直方体である。右壁１Ａ、左壁１Ｂ、天壁１Ｃ、底壁１Ｄ、及び奥壁１Ｅの材質は、例えば、金属である。右壁１Ａは、「第２側壁」の一例に相当する。左壁１Ｂは、「第１側壁」の一例に相当する。加熱調理室１００Ａの前側は、被加熱物Ｈを出し入れするために開口されている。

図２に示すように、加熱庫１は、底壁１Ｄと底外壁１Ｆとの間に空間を更に有する。加熱庫１は、天壁１Ｃと天外壁１Ｊとの間に空間を更に有する。加熱庫１は、奥壁１Ｅと奥外壁１Ｋとの間に空間を更に有する。図３に示すように、加熱庫１は、右壁１Ａと右外壁１Ｇとの間に空間を更に有する。加熱庫１は、左壁１Ｂと左外壁１Ｈとの間に空間を更に有する。

操作パネル３は、操作部と、表示部とを有する。操作部は、ユーザーからの操作を受け付ける。操作部は、各種のキーを含む。表示部は、各種の情報を表示する。表示部は、液晶パネルを含む。操作パネル３は、加熱庫１の前面の上部に位置する。

引出し体２は、加熱調理室１００Ａに対して引出し自在である。詳細には、引出し体２は、加熱庫１に対して引出し可能で、かつ引込み可能である。具体的には、引出し体２は、扉部２１と、載置部２２と、支持部２３とを有する。扉部２１は、加熱調理室１００Ａの前側の開口を開閉可能である。扉部２１は、略矩形の板状部材である。扉部２１は、前面２１Ａ及び後面２１Ｂを有する。扉部２１は、引出し体２が加熱調理室１００Ａから引出された状態において、加熱調理室１００Ａの前側の開口を開いている。扉部２１は、引出し体２が加熱調理室１００Ａに引込まれた状態において、加熱調理室１００Ａの前側の開口を閉じている。

載置部２２には、被加熱物Ｈが載置される。載置部２２は、例えば、セラミックス製又はガラス製の板状部材である。支持部２３は、扉部２１の後面２１Ｂに固定され、載置部２２が水平に維持されるように、載置部２２の周縁部を支持する。支持部２３の材質は、金属を含む。そして、引出し体２が引出されることにより、載置部２２及び支持部２３は加熱調理室１００Ａ内から外へ引出される。引出し体２が引込まれた状態において、載置部２２及び支持部２３は加熱調理室１００Ａ内に収容される。

また、引出し体２は、扉部２１と、支持部２３と、載置部２２とに加えて、一対のスライド部材２４と、支持部材２５とを更に有する。

一対のスライド部材２４は、前後方向に移動する。一対のスライド部材２４は、扉部２１の後面２１Ｂに固定されている。具体的には、一対のスライド部材２４の一端部は、扉部２１の後面２１Ｂの縁部に取り付けられている。

一方、加熱庫１は、一対のスライドレール１１を更に有する。一対のスライドレール１１のうちの一方は、右壁１Ａと右外壁１Ｇとの間の空間内で固定されている。一対のスライドレール１１のうちの他方は、左壁１Ｂと左外壁１Ｈとの間の空間内で固定されている。一対のスライド部材２４は、一対のスライドレール１１にスライド可能に支持される。

更に、支持部材２５は、扉部２１を支持する。詳細には、支持部材２５は、引出し体２の移動方向を前後方向に規制する。支持部材２５の一端部は、扉部２１の後面２１Ｂの左右方向の中央部で、かつ載置部２２よりも下側に取り付けられている。支持部材２５は、前後方向を長手方向とする部材である。

一方、図２に示すように、加熱庫１は、駆動機構４を更に有する。駆動機構４は、底壁１Ｄと底外壁１Ｆとの間の空間内に収容されている。例えば、駆動機構４は、駆動モーター４１と、駆動レール４２とを有する。駆動レール４２は、底壁１Ｄと底外壁１Ｆとの間の空間内で固定されている。駆動レール４２は、前後方向を長手方向とする部材である。支持部材２５は、駆動レール４２にスライド可能に支持され、支持部材２５が前後方向に移動する。支持部材２５が前後方向に移動するとともに、一対のスライド部材２４も前後方向に移動する。その結果、引出し体２は開状態又は閉状態になる。なお、駆動機構４は、支持部材２５と右側スライド部材２４１と左側スライド部材２４２との内の少なくともいずれか一方を駆動してもよい。そして、右側スライド部材２４１と左側スライド部材２４２とを駆動する場合、駆動機構４は、加熱調理室１００Ａの側方に位置してもよい。

次に、図１〜図４を参照して、本実施形態に係る加熱調理室１００Ａについて更に説明する。図４は、本実施形態に係る加熱調理室１００Ａの概略縦断面を示す図である。詳しくは、図４は、上下方向に加熱調理室１００Ａを切断したときの加熱調理室１００Ａの断面を示す。

図４に示すように、引出し式加熱調理器１００は、マイクロ波供給部１５と、仕切り部材１５Ｂとを更に備える。マイクロ波供給部１５は、マイクロ波を加熱調理室１００Ａ内に供給する。

マイクロ波供給部１５は、底壁１Ｄに対して加熱調理室１００Ａの外側に位置する。マイクロ波供給部１５は、放射室１５Ａと、マグネトロン１５１と、導波管１５２と、回転アンテナ１５３と、アンテナモーター１５４とを有する。マグネトロン１５１はマイクロ波を発生する。マグネトロン１５１は、マイクロ波発生部の一例である。

放射室１５Ａは、マイクロ波を加熱調理室１００Ａ内に放射するための放射口１５Ｃを有する。そして、放射口１５Ｃは、加熱調理室１００Ａの下方に位置する。具体的には、放射口１５Ｃは、底壁１Ｄの略中央部に位置する。放射口１５Ｃは、仕切り部材１５Ｂに覆われている。回転アンテナ１５３は、放射室１５Ａ内に収容されている。アンテナモーター１５４は、回転アンテナ１５３を駆動する。回転アンテナ１５３は、マイクロ波を撹拌し、放射口１５Ｃ及び仕切り部材１５Ｂを通して加熱調理室１００Ａ内にマイクロ波を供給する。

導波管１５２は、マイクロ波をマグネトロン１５１から放射口１５Ｃまで導波させる。そして、導波管１５２は、加熱調理室１００Ａの下方に位置する。

次に、図４〜図６Ｂを参照して、本実施形態に係るグリル部１６について説明する。図５は、本実施形態に係る加熱調理室１００Ａの概略横断面を示す図である。詳しくは、図５は、左右方向に加熱調理室１００Ａを切断したときの加熱調理室１００Ａの断面を示す。図６Ａは、本実施形態に係るヒーター１６１を底壁１Ｄの側から見た図である。図６Ｂは、本実施形態に係るヒーター１６１を扉部２１の側から見た図である。

図６Ａに示すように、引出し式加熱調理器１００は、グリル部１６と支持部１７０と保持部１８０と固定部１９０とを更に備える。グリル部１６は、ヒーター１６１と、一対の通電部１６２とを有する。

ヒーター１６１は、加熱調理室１００Ａ内に位置して、被加熱物Ｈを加熱する。詳細には、ヒーター１６１は、加熱調理室１００Ａ内の上部に位置する。図６Ａに示すように、ヒーター１６１は、左壁１Ｂから右壁１Ａに向かって延びており、右壁１Ａの側から折り返して左壁１Ｂまで延びている。ヒーター１６１は、上側から下側に視た場合、略Ｕ字状である。本実施形態では、３つのグリル部１６が配置されている（図５）。ヒーター１６１は、例えば、シーズヒーターである。

ヒーター１６１は、第１基端部分１６３と第２基端部分１６４とを有する。第１基端部分１６３は、左壁１Ｂに配置される。具体的には、第１基端部分１６３は、第２基端部分１６４と離隔して左壁１Ｂに配置される。換言すると、第１基端部分１６３と第２基端部分１６４とは、互いに離隔する。第１基端部分１６３は、加熱調理室１００Ａの内部側から左外壁１Ｈ側へ向かって、左壁１Ｂを貫通する。第１基端部分１６３のうちの一部は、加熱調理室１００Ａに位置する。そして、第１基端部分１６３のうちの他の一部は、左壁１Ｂと左外壁１Ｈとの間に位置する。第１基端部分１６３には、通電部１６２が接続される。

第２基端部分１６４は、左壁１Ｂに配置される。第２基端部分１６４は、加熱調理室１００Ａの内側から左外壁１Ｈ側へ向かって、左壁１Ｂを貫通する。第２基端部分１６４のうちの一部は、加熱調理室１００Ａに位置する。そして、第２基端部分１６４のうちの他の一部は、左壁１Ｂと左外壁１Ｈとの間に位置する。第２基端部分１６４には、通電部１６２が接続される。

通電部１６２は、左壁１Ｂの外側に位置する。通電部１６２はヒーター１６１に通電する。通電されたヒーター１６１は、発熱する。

図６Ａ及び図６Ｂに示すように、支持部１７０は、ヒーター１６１の一部１６１Ａを支持する。支持部１７０は、天壁１Ｃに配置される。支持部１７０は、例えば、セラミックである。支持部１７０は、固定孔１７５を有する。

図６Ｂに示すように、固定孔１７５には、ボルト１７６が挿通される。ボルト１７６は、天壁１Ｃに取付けられる。つまり、固定孔１７５にボルト１７６を挿通し、ボルト１７６を天壁１Ｃに取付けることで、支持部１７０は天壁１Ｃに固定される。

保持部１８０は、ヒーター１６１を保持する。保持部１８０については、図８を参照して、後述する。

固定部１９０は、保持部１８０を左壁１Ｂに固定する。固定部１９０については、図８を参照して後述する。

次に、図６Ａ〜図７を参照して、ヒーター１６１について更に詳しく説明する。図７は、本実施形態に係るヒーター１６１と支持部１７０とを示す模式図である。図７では、ヒーター１６１を図６Ａ及び図６Ｂに示す方向Ａから見ている。方向Ａは、支持部１７０から左壁１Ｂへ向かう方向である。図７には、基準線ＳＬが示される。基準線ＳＬは、水平方向に沿う線である。また、図７に示すように、ヒーター１６１の一部１６１Ａは、第１端部Ｅ１と第２端部Ｅ２とを有する。第１端部Ｅ１は、ヒーター１６１の一部１６１Ａのうちの第１基端部分１６３側の端部である。第２端部Ｅ２は、ヒーター１６１の一部１６１Ａのうちの第２基端部分１６４側の端部である。

図７に示すように、第１基端部分１６３は、左壁１Ｂの位置Ｐ１に配置される。第１基端部分１６３の中心は、位置Ｐ１と一致する。位置Ｐ１は、基準線ＳＬから鉛直方向Ｄ１に高さＨ１だけ離れた位置を示す。鉛直方向Ｄ１は、基準線ＳＬに直交する方向である。つまり、基準線ＳＬから鉛直方向Ｄ１に高さＨ１だけ離れた位置に、第１基端部分１６３が配置される。換言すれば、基準線ＳＬから鉛直方向Ｄ１に高さＨ１だけ離れた位置は、左壁１Ｂにおける鉛直方向Ｄ１に沿った第１基端部分１６３の位置である。

第２基端部分１６４は、左壁１Ｂの位置Ｐ２に配置される。第２基端部分１６４の中心は、位置Ｐ２と一致する。位置Ｐ２は、基準線ＳＬから鉛直方向Ｄ１に高さＨ２だけ離れた位置を示す。つまり、基準線ＳＬから鉛直方向Ｄ１に高さＨ２だけ離れた位置に、第２基端部分１６４が配置される。換言すれば、基準線ＳＬから鉛直方向Ｄ１に高さＨ２だけ離れた位置は、左壁１Ｂにおける鉛直方向Ｄ１に沿った第２基端部分１６４の位置Ｐ２である。

高さＨ２は、高さＨ１より高い。つまり、第２基端部分１６４の中心と一致する位置Ｐ２は、第１基端部分１６３の中心と一致する位置Ｐ１よりも高い位置に配置される。

また、図７には、仮想線ＬＡと仮想線ＬＢとが示される。仮想線ＬＡは、位置Ｐ１と位置Ｐ２とを結ぶ仮想線である。仮想線ＬＢは、第１端部Ｅ１と第２端部Ｅ２との間に位置する仮想線である。図７に示すように、正面方向から見た仮想線ＬＢと仮想線ＬＡとは、一致しない。正面方向は、方向Ａである。つまり、仮想線ＬＢは、仮想線ＬＡに対して所定角度θ１だけ傾斜する。よって、ヒーター１６１の一部１６１Ａは、仮想線ＬＡに対して所定角度θ１だけ傾斜した状態で左壁１Ｂに固定される。所定角度θ１は、例えば「３度」である。換言すれば、ヒーター１６１は、ねじられた状態で支持部１７０に支持される。

また、ヒーター１６１の一部１６１Ａは、支持部１７０に支持される。そして、第１基端部分１６３の鉛直方向Ｄ１に沿った位置Ｐ１と、第２基端部分１６４の鉛直方向Ｄ１に沿った位置Ｐ２とは、異なる。ヒーター１６１の一部１６１Ａを支持部１７０が支持することで、ヒーター１６１の揺動を抑制できる。更に、第１基端部分１６３の位置Ｐ１と第２基端部分１６４の位置Ｐ２とが異なるため、ヒーター１６１の一部１６１Ａは、ねじられた状態で支持部１７０に支持される。したがって、ねじられた状態から復帰する際にヒーター１６１に付勢力が発生し、支持部１７０とヒーター１６１とが当接する。この結果、ヒーター１６１の揺動を抑制できる。そして、ヒーター１６１の揺動によって、ヒーター１６１の耐久性が低減することを抑制できる。

また、図６Ａに示すように、ヒーター１６１の一部１６１Ａは、ヒーター１６１の折り返し部分である。したがって、ヒーター１６１の折り返し部分を支持部１７０が支持することで、ヒーター１６１の揺動を抑制できる。この結果、ヒーター１６１が揺動することで発生する異音を抑制できる。例えば、右壁１Ａの側に位置するヒーター１６１の一部１６１Ａ（折り返し部分）の揺動の振幅は、第１基端部分１６３の揺動の振幅、及び、第２基端部分１６４の揺動の振幅と比較して大きい。つまり、ヒーター１６１の折り返し部分を支持部１７０が支持できるため、ヒーター１６１の折り返し部分の揺動を抑制できる。

引き続き、図６Ａ〜図７を参照して、支持部１７０を更に詳しく説明する。支持部１７０は、第１支持部１７１と、第２支持部１７２と、接続部１７４とを更に有する。

図７に示すように、第１支持部１７１は、ヒーター１６１の一部１６１Ａと当接する。第１支持部１７１は、鉛直方向Ｄ１に沿って第２支持部１７２と対向する。第１支持部１７１は、基準線ＳＬに沿って延びる。

第２支持部１７２は、ヒーター１６１の一部１６１Ａと当接する。第２支持部１７２は、鉛直方向Ｄ１に沿って第１支持部１７１と対向する。換言すると、第１支持部１７１と第２支持部１７２とは、鉛直方向Ｄ１に沿って互いに対向する。第２支持部１７２は、基準線ＳＬに沿って延びる。

接続部１７４は、第１支持部１７１と第２支持部１７２とを接続する。接続部１７４は、第１支持部１７１と第２支持部１７２との間に位置する。接続部１７４によって接続された第１支持部１７１と第２支持部１７２との間には、空間１７３が位置する。空間１７３には、ヒーター１６１の一部１６１Ａが位置する。

図７に示すように、ヒーター１６１の一部１６１Ａは、ヒーター１６１のねじれによる付勢力によって、第１支持部１７１と第２支持部１７２とに当接する。つまり、ねじられたヒーター１６１は、ねじられる前の状態に戻る付勢力が発生し、弾性復帰しようとする。一方、ヒーター１６１に発生した付勢力に対向するように、第１支持部１７１はヒーター１６１に当接する。更に、ヒーター１６１に発生した付勢力に対向するように、第２支持部１７２はヒーター１６１に当接する。したがって、ヒーター１６１と支持部１７０との接触箇所を増加する。この結果、ヒーター１６１の揺動を抑制し、ヒーター１６１の揺動によって発生する異音を抑制できる。

次に、図３と図６Ａと図６Ｂと図８と図９Ａと図９Ｂとを参照して、ヒーター１６１を更に詳しく説明する。図８は、図６Ａに示す領域ＡＲを拡大して示す図である。図８に示すように、図６に示す領域ＡＲには、第１基端部分１６３と第２基端部分１６４とが拡大して示される。図９Ａは、図８に示すＩＸＡ−ＩＸＡ断面を示す図である。図９Ａには、本実施形態に係る第１基端部分１６３を模式的に示している。また、理解を容易にするために第１基端部分１６３の断面には、ハッチングを付していない。図９Ｂは、図８に示すＩＸＢ−ＩＸＢ断面を示す図である。図９Ｂは、本実施形態に係る第２基端部分１６４を模式的に示している。また、理解を容易にするために第２基端部分１６４の断面には、ハッチングを付していない。

図９Ａに示すように、第１基端部分１６３は、第１被保持部１６３Ａと、第１挿通部１６３Ｂとを有する。

第１被保持部１６３Ａは、第１基端部分１６３のうちの保持部１８０に保持される部分である。なお、第１被保持部１６３Ａは、位置ズレしないように、保持部１８０に固定されてもよい。

第１挿通部１６３Ｂは、第１基端部分１６３のうちの左壁１Ｂに挿通される部分である。図３に示すように、左壁１Ｂに挿通された第１挿通部１６３Ｂは、左壁１Ｂから左外壁１Ｈに向かって突出する。第１挿通部１６３Ｂの端部には、通電部１６２が接続される。なお、図９Ａに示すように、第１挿通部１６３Ｂは、左壁１Ｂと接触しない。

図９Ｂに示すように、第２基端部分１６４は、第２被保持部１６４Ａと、第２挿通部１６４Ｂとを有する。

第２基端部分１６４は、第２基端部分１６４のうちの保持部１８０に保持される部分である。なお、第２基端部分１６４は、位置ズレしないように、保持部１８０に固定されてもよい。

第２挿通部１６４Ｂは、第２基端部分１６４のうちの左壁１Ｂに挿通される部分である。図３に示すように、左壁１Ｂに挿通された第２挿通部１６４Ｂは、左壁１Ｂから左外壁１Ｈに向かって突出する。第２挿通部１６４Ｂの端部には、通電部１６２が接続される。なお、図９Ｂに示すように、第２挿通部１６４Ｂは、左壁１Ｂと接触しない。

次に、図９Ａと図９Ｂと図１０とを参照して、本実施形態に係る左壁１Ｂを詳しく説明する。図１０は、本実施形態に係る左壁１Ｂと左壁１Ｂに配置された貫通孔を示す図である。図１０では、理解を容易にするため、左壁１Ｂの一部を示している。また、図１０では、左壁１Ｂに第１基端部分１６３と第２基端部分１６４とが取り付けられたときの、第１挿通部１６３Ｂの位置と第２挿通部１６４Ｂの位置とを示している。

図１０に示すように、左壁１Ｂは、第１貫通孔５１と、第２貫通孔５２と、第３貫通孔５３と、第４貫通孔５４と、第５貫通孔５５とを有する。

第１貫通孔５１は、第１基端部分１６３が挿通される。具体的には、図９Ａに示すように、第１貫通孔５１は、第１挿通部１６３Ｂが挿通される。第１貫通孔５１の内径５１Ａは、第１挿通部１６３Ｂの外径１６３Ｃより大きい。また、図９Ａと図９Ｂと図１０とに示すように、第１貫通孔５１に第１挿通部１６３Ｂが当接しないように、左壁１Ｂに第１基端部分１６３が取り付けられる。

第１貫通孔５１は、位置Ｐ３に配置される。第１貫通孔５１の中心は、位置Ｐ３と一致する。位置Ｐ３は、基準線ＳＬから鉛直方向Ｄ１に高さＨ３だけ離れた位置を示す。つまり、基準線ＳＬから鉛直方向Ｄ１に高さＨ３だけ離れた位置に、第１貫通孔５１が配置される。第１貫通孔５１は、第３貫通孔５３と第５貫通孔５５との間に位置する。

第２貫通孔５２は、第２基端部分１６４が挿通される。具体的には、図９Ｂに示すように、第２貫通孔５２は、第２挿通部１６４Ｂが挿通される。第２貫通孔５２の内径５２Ａは、第２挿通部１６４Ｂの外径１６４Ｃより大きい。また、図９と図１０とに示すように、第２貫通孔５２に第２挿通部１６４Ｂが当接しないように、左壁１Ｂに第２基端部分１６４が取り付けられる。

第２貫通孔５２は、位置Ｐ４に配置される。第２貫通孔５２の中心は、位置Ｐ４と一致する。位置Ｐ４は、基準線ＳＬから鉛直方向Ｄ１に高さＨ４だけ離れた位置を示す。つまり、基準線ＳＬから鉛直方向Ｄ１に高さＨ４だけ離れた位置に、第２貫通孔５２が配置される。第２貫通孔５２は、第４貫通孔５４と第５貫通孔５５との間に位置する。高さＨ４は、高さＨ３と同じ高さである。

第３貫通孔５３は、収容空間１２０と、左壁１Ｂと左外壁１Ｈとの間の空間とをつなぐ。第３貫通孔５３は、位置Ｐ５に配置される。第３貫通孔５３の中心は、位置Ｐ５と一致する。位置Ｐ５は、基準線ＳＬから鉛直方向Ｄ１に高さＨ５だけ離れた位置を示す。つまり、基準線ＳＬから鉛直方向Ｄ１に高さＨ５だけ離れた位置に、第３貫通孔５３が配置される。第３貫通孔５３は、第１貫通孔５１に対して、第５貫通孔５５の反対側に位置する。高さＨ５は、高さＨ３、及び、高さＨ４より低い。

第４貫通孔５４は、収容空間１２０と、左壁１Ｂと左外壁１Ｈとの間の空間とをつなぐ。第４貫通孔５４は、位置Ｐ６に配置される。第４貫通孔５４の中心は、位置Ｐ６と一致する。位置Ｐ６は、基準線ＳＬから鉛直方向Ｄ１に高さＨ６だけ離れた位置を示す。つまり、基準線ＳＬから鉛直方向Ｄ１に高さＨ６だけ離れた位置に、第４貫通孔５４が配置される。第４貫通孔５４は、第２貫通孔５２に対して、第５貫通孔５５の反対側に位置する。高さＨ６は、高さＨ５より高い。また、高さＨ６は、高さＨ３、及び、高さＨ４より高い。

第５貫通孔５５は、収容空間１２０と、左壁１Ｂと左外壁１Ｈとの間の空間とをつなぐ。第５貫通孔５５は、位置Ｐ７に配置される。第５貫通孔５５の中心は、位置Ｐ７と一致する。位置Ｐ７は、基準線ＳＬから鉛直方向Ｄ１に高さＨ７だけ離れた位置を示す。つまり、基準線ＳＬから鉛直方向Ｄ１に高さＨ７だけ離れた位置に、第５貫通孔５５が配置される。第５貫通孔５５は、第１貫通孔５１と第２貫通孔５２との間に位置する。第５貫通孔５５の位置Ｐ７は、第１貫通孔５１の位置Ｐ３と第２貫通孔５２の位置Ｐ４とを結ぶ線分の中点に位置する。また、第５貫通孔５５は、第３貫通孔５３と第４貫通孔５４との間に位置する。高さＨ７は、高さＨ５より高い。また、高さＨ７は、高さＨ６より低い。また、高さＨ７は、高さＨ３、及び、高さＨ４と略一致する。

次に、図８〜図１１を参照して、本実施形態に係る保持部１８０を詳しく説明する。図１１は、本実施形態に係る保持部１８０を示す図である。図１１では、左壁１Ｂの第１貫通孔５１〜第５貫通孔５５に対応するように、保持部１８０を左壁１Ｂに配置している。また、図１１では、理解を容易にするために、第１基端部分１６３の第１被保持部１６３Ａと第２基端部分１６４の第２被保持部１６４Ａとを示す。

図８に示すように、保持部１８０は、第１基端部分１６３と第２基端部分１６４とを保持する。保持部１８０は、左壁１Ｂに沿って配置される。

図１１に示すように、保持部１８０は、本体部１８５を有する。本体部１８５は、平板状である。保持部１８０は、第１保持部１８５Ａと、第２保持部１８５Ｂと、第３保持部１８１Ａと、第４保持部１８１Ｂと、第５保持部１８１Ｃとを有する。

第１保持部１８５Ａは、第１基端部分１６３を保持する。具体的には、第１保持部１８５Ａは、第１被保持部１６３Ａを保持する。第１保持部１８５Ａは、貫通孔である。第１保持部１８５Ａの内径は、第１被保持部１６３Ａの外径１６３Ｃより大きい。第１保持部１８５Ａの内径は、図１０に示す第１貫通孔５１の内径より小さい。

保持部１８０が固定部１９０によって左壁１Ｂに固定される場合、図１０に示すように、第１保持部１８５Ａは第１貫通孔５１の内側に位置する。第１保持部１８５Ａは、第３保持部１８１Ａと第５保持部１８１Ｃとの間に位置する。

第２保持部１８５Ｂは、第２基端部分１６４を保持する。具体的には、図９Ｂに示すように、第２保持部１８５Ｂは、第２被保持部１６４Ａを保持する。第２保持部１８５Ｂは、貫通孔である。第２保持部１８５Ｂの内径は、第２被保持部１６４Ａの外径１６４Ｃより大きい。図１１に示す第２保持部１８５Ｂの内径は、図１０に示す第２貫通孔５２の内径より小さい。

保持部１８０が固定部１９０によって左壁１Ｂに固定される場合、図１０に示すように、第２保持部１８５Ｂは第２貫通孔５２の内側に位置する。また、第２保持部１８５Ｂは、第３保持部１８１Ａと第５保持部１８１Ｃとの間に位置する。

第３保持部１８１Ａは、貫通孔である。第３保持部１８１Ａである貫通孔の大きさは、第３貫通孔５３の大きさと略一致する。保持部１８０が固定部１９０によって左壁１Ｂに固定される場合、第３保持部１８１Ａの位置Ｐ１５は、第３貫通孔５３の位置Ｐ５と同じ位置となる。第３保持部１８１Ａは、第１保持部１８５Ａに対して、第５保持部１８１Ｃの反対側に位置する。

第４保持部１８１Ｂは、貫通孔である。第４保持部１８１Ｂである貫通孔の大きさは、第４貫通孔５４の大きさと略一致する。保持部１８０が固定部１９０によって左壁１Ｂに固定される場合、第４保持部１８１Ｂの位置Ｐ１６は、第４貫通孔５４の位置Ｐ６と同じ位置となる。第４保持部１８１Ｂは、第２保持部１８５Ｂに対して、第５保持部１８１Ｃの反対側に位置する。

第５保持部１８１Ｃは、貫通孔である。第５保持部１８１Ｃである貫通孔の大きさは、第５貫通孔５５の大きさと略一致する。保持部１８０が固定部１９０によって左壁１Ｂに固定される場合、第５保持部１８１Ｃの位置Ｐ１７は、第５貫通孔５５の位置Ｐ７と同じ位置となる。第５保持部１８１Ｃは、第１保持部１８５Ａと第２保持部１８５Ｂとの間に位置する。また、第５保持部１８１Ｃは、第３保持部１８１Ａと第４保持部１８１Ｂとの間に位置する。

また、図１１には、線分ＬＣが示される。線分ＬＣは、第３保持部１８１Ａの中心と、第４保持部１８１Ｂの中心とを結ぶ線分である。線分ＬＣの角度は、仮想線ＬＡの角度と一致する。線分ＬＣ上には、第１保持部１８５Ａの中心と、第２保持部１８５Ｂの中心と、第３保持部１８１Ａの中心と、第４保持部１８１Ｂの中心と、第５保持部１８１Ｃの中心とが位置する。なお、左壁１Ｂに取付けられる前の保持部１８０は、傾斜しない。図１０に示すように、互いに高さが異なる第３貫通孔５３の位置Ｐ５と第４貫通孔５４の位置Ｐ６とに、図１１に示すように、第３保持部１８１Ａと第４保持部１８１Ｂとを一致させることで、保持部１８０が傾斜した状態で固定される。そして、保持部１８０に保持されたヒーター１６１も傾斜する。

次に、図８と図１０〜図１３を参照して、本実施形態に係る固定部１９０を更に詳しく説明する。図１２は、本実施形態に係る固定部１９０によって固定された保持部１８０を示す図である。図１３は、本実施形態に係る固定部１９０を図１２と異なる側から見た図である。図１２と図１３に示すように、固定部１９０は、第３貫通孔５３〜第５貫通孔５５と第３保持部１８１Ａ〜第５保持部１８１Ｃとを一致させて、左壁１Ｂに保持部１８０を固定している。

図８に示すように、固定部１９０は、第１基端部分１６３と第２基端部分１６４とを保持した保持部１８０を左壁１Ｂに固定する。つまり、固定部１９０によって、ヒーター１６１は左壁１Ｂに固定される。固定部１９０は、例えば、ボルト１９１と、ナット１９２である。ボルト１９１とナット１９２とは、保持部１８０と左壁１Ｂとを締め付ける。ボルト１９１は、加熱調理室１００Ａの内側から左外壁１Ｈに向けて挿通される。ナット１９２は、左壁１Ｂと左外壁１Ｈとの間に位置する。したがって、固定部１９０は、第１基端部分１６３と第２基端部分１６４とを保持した保持部１８０を左壁１Ｂに固定できる。

固定部１９０は、第１固定部材１９０Ａと、第２固定部材１９０Ｂと、第３固定部材１９０Ｃとを含む。

第１固定部材１９０Ａは、保持部１８０を左壁１Ｂに固定する。具体的には、図１３に示すように、第１固定部材１９０Ａは、第１固定位置ＦＰ１において、保持部１８０を左壁１Ｂに固定する。第１固定部材１９０Ａは、第３固定部材１９０Ｃに対して、第２固定部材１９０Ｂの反対側に位置する。

第２固定部材１９０Ｂは、保持部１８０を左壁１Ｂに固定する。具体的には、図１３に示すように、第２固定部材１９０Ｂは、第２固定位置ＦＰ２において、保持部１８０を左壁１Ｂに固定する。第２固定部材１９０Ｂは、第３固定部材１９０Ｃに対して、第１固定部材１９０Ａの反対側に位置する。

第３固定部材１９０Ｃは、保持部１８０を左壁１Ｂに固定する。具体的には、図１３に示すように、第３固定部材１９０Ｃは、第３固定位置ＦＰ３において、保持部１８０を左壁１Ｂに固定する。第３固定部材１９０Ｃは、第１固定部材１９０Ａと第２固定部材１９０Ｂとの間に位置する。

第３固定位置ＦＰ３は、図１３に示すように、左壁１Ｂの所定領域ＰＡと接する位置を示す。所定領域ＰＡの外縁ＰＡＥは、第１貫通孔５１と第２貫通孔５２とを通る。具体的には、所定領域ＰＡの外縁ＰＡＥは、第１貫通孔５１の中心と第２貫通孔５２の中心とを通る。また、第３固定位置ＦＰ３は、例えば、所定領域ＰＡの外縁ＰＡＥと接する位置であってもよい。外縁ＰＡＥと接する位置は、例えば、外縁ＰＡＥ上に位置である。また、外縁ＰＡＥと接する位置は、例えば、所定領域ＰＡの外側であって、外縁ＰＡＥと接する位置であってもよい。また、第３固定位置ＦＰ３は、図１０に示す第５貫通孔５５の位置Ｐ７と同じ位置である。第３固定位置ＦＰ３に基づいて、第５貫通孔５５の位置Ｐ７が決定される。

第１固定位置ＦＰ１は、図１３に示す第１貫通孔５１に対して、第３固定位置ＦＰ３の反対側の位置を示す。第１固定位置ＦＰ１は、図１０に示す第３貫通孔５３の位置Ｐ５と同じ位置である。つまり、第１固定位置ＦＰ１に対応する位置に、第３貫通孔５３が配置される。

第２固定位置ＦＰ２は、図１３に示す第２貫通孔５２に対して、第３固定位置ＦＰ３の反対側の位置を示す。第２固定位置ＦＰ２は、図１０に示す第４貫通孔５４の位置Ｐ６と同じ位置である。つまり、第２固定位置ＦＰ２に対応する位置に、第４貫通孔５４が配置される。

第１固定位置ＦＰ１〜第３固定位置ＦＰ３のそれぞれで、固定部１９０が左壁１Ｂに対して保持部１８０を固定する。したがって、左壁１Ｂに対して、保持部１８０が浮き上がることを抑制できる。この結果、左壁１Ｂに対して、保持部１８０が浮き上がって、第１貫通孔５１と第２貫通孔５２とからマイクロ波が漏洩することを抑制できる。

また、第３固定位置ＦＰ３は、第１貫通孔５１と第２貫通孔５２との間に位置する。したがって、左壁１Ｂに対して、保持部１８０が浮き上がることをより抑制できる。この結果、左壁１Ｂに対して、保持部１８０が浮き上がって、第１貫通孔５１と第２貫通孔５２とからマイクロ波が漏洩することを更に抑制できる。

なお、第３固定位置ＦＰ３は、第１貫通孔５１と第２貫通孔５２とを結ぶ線分の中点を示す位置であってもよい。したがって、左壁１Ｂに対して、保持部１８０が浮き上がることをより効果的に抑制できる。この結果、左壁１Ｂに対して、保持部１８０が浮き上がって、第１貫通孔５１と第２貫通孔５２とからマイクロ波が漏洩することを更に抑制できる。

引き続き、図１２と図１３とを参照して、本実施形態に係る固定部１９０を更に詳しく説明する。

第１固定部材１９０Ａは、第１ボルト１９１Ａと、第１ナット１９２Ａとを有する。第１ボルト１９１Ａは、第３保持部１８１Ａに挿通される。第１ボルト１９１Ａは、第３貫通孔５３に挿通される。第１ボルト１９１Ａの外径は、第３貫通孔５３の内径より小さい。第１ボルト１９１Ａの外径は、第３保持部１８１Ａの内径より小さい。第１ナット１９２Ａは、第１ボルト１９１Ａに取付けられる。図１２に示すように、第１ボルト１９１Ａは、図１０に示す第３貫通孔５３と図１１に示す第３保持部１８１Ａとを一致させた状態で、第３貫通孔５３と第３保持部１８１Ａとに挿通される。そして、図１３に示すように、第１ボルト１９１Ａに第１ナット１９２Ａが取り付けられる。

第２固定部材１９０Ｂは、第２ボルト１９１Ｂと、第２ナット１９２Ｂとを有する。第２ボルト１９１Ｂは、第４保持部１８１Ｂに挿通される。第２ボルト１９１Ｂは、第４貫通孔５４に挿通される。第２ボルト１９１Ｂの外径は、第４貫通孔５４の内径より小さい。第２ボルト１９１Ｂの外径は、第４保持部１８１Ｂの内径より小さい。第２ナット１９２Ｂは、第２ボルト１９１Ｂに取付けられる。図１２に示すように、第２ボルト１９１Ｂは、図１０に示す第４貫通孔５４と図１１に示す第４保持部１８１Ｂとを一致させた状態で、第４貫通孔５４と第４保持部１８１Ｂとに挿通される。そして、図１３に示すように、第２ボルト１９１Ｂに第２ナット１９２Ｂが取り付けられる。

第３固定部材１９０Ｃは、第３ボルト１９１Ｃと、第３ナット１９２Ｃとを有する。第３ボルト１９１Ｃは、第５保持部１８１Ｃに挿通される。第３ボルト１９１Ｃは、第５貫通孔５５に挿通される。第３ボルト１９１Ｃの外径は、第５貫通孔５５の内径より小さい。第３ボルト１９１Ｃの外径は、第５保持部１８１Ｃの内径より小さい。第３ナット１９２Ｃは、第３ボルト１９１Ｃに取付けられる。図１２に示すように、第３ボルト１９１Ｃは、図１０に示す第５貫通孔５５と図１１に示す第５保持部１８１Ｃとを一致させた状態で、第５貫通孔５５と第５保持部１８１Ｃとに挿通される。そして、図１３に示すように、第３ボルト１９１Ｃに第３ナット１９２Ｃが取り付けられる。

第１固定部材１９０Ａと第２固定部材１９０Ｂと第３固定部材１９０Ｃとは、保持部１８０を左壁１Ｂに固定できる。したがって、保持部１８０と左壁１Ｂとの間に隙間が発生することを抑制できる。この結果、隙間からマイクロ波が進入し、ヒーター１６１を介して加熱調理室１００Ａの外にマイクロ波が漏洩することを抑制できる。

次に、図１４を参照して引出し式加熱調理器１００が取付けられるキャビネット２００について説明する。図１４は、本実施形態に係る引出し式加熱調理器１００が取付けられるキャビネット２００の外観を示す図である。

引出し式加熱調理器１００は、キャビネット２００内にビルトインされて設置される。図９に示すように、キャビネット２００は、上壁２００Ａ、下壁２００Ｂ、右壁２００Ｃ、左壁２００Ｄ、及び後壁２００Ｅを有する。上壁２００Ａ、下壁２００Ｂ、右壁２００Ｃ、左壁２００Ｄ及び後壁２００Ｅは、収容部２００Ｆを形成する。収容部２００Ｆは、引出し式加熱調理器１００が取付けられる直方体状の空間である。

以上、図面を参照しながら本発明の実施形態を説明した。但し、本発明は、上記の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の態様において実施することが可能である。また、上記の各実施形態に開示されている複数の構成要素を適宜組み合わせることによって、種々の発明の形成が可能である。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。図面は、理解しやすくするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示しており、図示された各構成要素の厚み、長さ、個数、間隔等は、図面作成の都合上から実際とは異なる。また、上記の実施形態で示す各構成要素の速度、材質、形状、寸法等は一例であって、特に限定されるものではなく、本発明の構成から実質的に逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。

（１）本実施形態において、保持部１８０は、加熱調理室１００Ａ側に位置したが、これに限らない。図３に示すように、左壁１Ｂと左外壁１Ｈとの間に取付けられてもよい。

（２）本実施形態では、互いに高さが異なる第３貫通孔５３の位置Ｐ５と第４貫通孔５４の位置Ｐ６とに、第３保持部１８１Ａと第４保持部１８１Ｂとを一致させることで、保持部１８０が傾斜し、保持部１８０の傾斜に応じてヒーター１６１が傾斜しているが、これに限らない。例えば、保持部１８０において、鉛直方向に沿った第１保持部１８５Ａの位置と、鉛直方向に沿った第２保持部１８５Ｂの位置とが異なってもよい。つまり、第１保持部１８５Ａの位置と第２保持部１８５Ｂの位置とに応じて、ヒーター１６１が傾斜する。そして、傾斜したヒーター１６１は、保持部１８０に保持される。更に、左壁１Ｂと保持部１８０とを固定することで、左壁１Ｂにヒーター１６１が傾斜した状態で取り付けられる。

本発明は、加熱調理装置の分野に利用可能である。

１Ａ ：右壁（第２側壁）
１Ｂ ：左壁（第１側壁）
１Ｃ ：天壁
５１ ：第１貫通孔
５２ ：第２貫通孔
１００ ：引出し式加熱調理器（加熱調理器）
１００Ａ ：加熱調理室
１６１ ：ヒーター
１６１Ａ ：ヒーターの一部
１６３ ：第１基端部分
１６３Ａ ：第１被保持部
１６３Ｂ ：第１挿通部
１６４ ：第２基端部分
１６４Ａ ：第２被保持部
１６４Ｂ ：第２挿通部
１７０ ：支持部
１７１ ：第１支持部
１７２ ：第２支持部
１７４ ：接続部
１８０ ：保持部
１８５Ａ ：第１保持部
１８５Ｂ ：第２保持部
１９０ ：固定部
１９０Ａ ：第１固定部材
１９０Ｂ ：第２固定部材
１９０Ｃ ：第３固定部材
ＰＡ ：所定領域
ＰＡＥ ：所定領域の外縁
ＦＰ１ ：第１固定位置
ＦＰ２ ：第２固定位置
ＦＰ３ ：第３固定位置
Ｈ ：被加熱物

Claims (5)

1. 天壁を有し、被加熱物を収容する加熱調理室と、
   前記被加熱物を加熱するヒーターと、
   前記天壁に配置されており、前記ヒーターの一部を支持する支持部と
   を備え、
   前記加熱調理室は、第１側壁と、前記第１側壁に対向する第２側壁とを更に有し、
   前記ヒーターは、前記第１側壁から前記第２側壁に向かって延びており、前記第２側壁の側から折り返して前記第１側壁まで延びており、
   前記ヒーターは、互いに離隔する第１基端部分と第２基端部分とを有し、
   前記第１基端部分と前記第２基端部分とは、前記第１側壁に配置され、
   前記第１基端部分の鉛直方向に沿った位置と、前記第２基端部分の前記鉛直方向に沿った位置とは、異なる、加熱調理装置。
2. 前記支持部は、前記鉛直方向に沿って互いに対向する第１支持部と第２支持部と、前記第１支持部と前記第２支持部とを接続する接続部とを有し、
   前記ヒーターの前記一部は、前記ヒーターのねじれによる付勢力によって、前記第１支持部と前記第２支持部とに当接する、請求項１に記載の加熱調理装置。
3. 前記ヒーターの前記一部は、前記ヒーターの折り返し部分である、請求項１又は請求項２に記載の加熱調理装置。
4. 前記第１側壁に沿って配置され、前記第１基端部分と前記第２基端部分とを保持する保持部と、
   前記保持部を前記第１側壁に固定する固定部と
   を更に備え、
   前記第１基端部分は、第１被保持部と、第１挿通部とを有し、
   前記第２基端部分は、第２被保持部と、第２挿通部とを有し、
   前記保持部は、
   前記第１被保持部を保持する第１保持部と、
   前記第２被保持部を保持する第２保持部と
   を有し、
   前記第１側壁は、
   前記第１挿通部が挿通される第１貫通孔と、
   前記第２挿通部が挿通される第２貫通孔と
   を有し、
   前記固定部は、
   第１固定位置において、前記保持部を前記第１側壁に固定する第１固定部材と、
   第２固定位置において、前記保持部を前記第１側壁に固定する第２固定部材と、
   第３固定位置において、前記保持部を前記第１側壁に固定する第３固定部材と
   を更に有し、
   前記第３固定位置は、前記第１側壁の所定領域内の位置を示し、
   前記所定領域の外縁は、前記第１貫通孔と前記第２貫通孔とを通り、
   前記第１固定位置は、前記第１貫通孔に対して、前記第３固定位置の反対側の位置を示し、
   前記第２固定位置は、前記第２貫通孔に対して、前記第３固定位置の反対側の位置を示す、請求項３に記載の加熱調理装置。
5. 前記第３固定位置は、前記第１貫通孔と前記第２貫通孔との間に位置する、請求項４に記載の加熱調理装置。

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