JP2021092731A - 光スポット像照射装置および転写装置 - Google Patents
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Abstract
Description
。
2 光スポット像
11 レーザー光源
12 ビームエキスパンダー
13 位相回折素子
14 ズームレンズ(可変焦点光学系)
15 コリメートレンズ
16 ガルバノミラー(光スポット像シフト手段)
17 Fθレンズ
18 アパーチャ部材
19 アパーチャ
21 チップ
22 キャリア基板
23 被転写基板
31 移動ステージ(光スポット像シフト手段)
32 リレーレンズ
33 ミラー
B レーザー光
B1 光線束
S 被照射面
W 基材
Claims (6)
- 被照射面上に複数の光スポットよりなる光スポット像を照射する光スポット像照射装置であって、レーザー光源と、該レーザー光源から出射されたレーザー光を複数の光線に分割する位相回折素子と、前記複数の光線による前記光スポット像を前記被照射面の面内方向にシフトさせる光スポット像シフト手段と、を少なくとも備えることを特長とする光スポット像照射装置。
- 前記位相回折素子は、前記レーザー光をそのレーザー光の進行方向に相対して見たときに、規則的に配列された複数の光線に分割するものであることを特長とする請求項1に記載の光スポット像照射装置。
- 前記位相回折素子と前記被照射面との間に、可変焦点光学系がさらに設けられていることを特長とする、請求項1もしくは2に記載の光スポット像照射装置。
- 前記可変焦点光学系と前記被照射面の間に、前記可変焦点光学系による結像を、前記被照射面上に結像する結像光学系をさらに有し、前記結像光学系中に、前記光スポット像シフト手段たるガルバノミラー光学系が存することを特長とする、請求項3に記載の光スポット像照射装置。
- 前記光スポット像シフト手段として、前記被照射面そのものを移動させる移動ステージを有することを特長とする、請求項1乃至4のいずれかに記載の光スポット像照射装置。
- 平面基材上にマトリクス状に配列された複数のチップ群のうち、任意の位置にあるチップに対し、請求項1乃至5のいずれかに記載の光スポット像照射装置により生成された光スポット像を照射することにより、当該チップを被転写面へ転写させるチップ転写装置。
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Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09248686A (ja) * | 1996-03-15 | 1997-09-22 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ転写加工装置およびレーザ転写加工方法 |
JP2002222761A (ja) * | 2000-11-22 | 2002-08-09 | Nikon Corp | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 |
JP2003334683A (ja) * | 2002-05-17 | 2003-11-25 | Sangaku Renkei Kiko Kyushu:Kk | レーザ加工装置とレーザ加工方法 |
US20060013680A1 (en) * | 2004-07-16 | 2006-01-19 | Tessera, Inc. | Chip handling methods and apparatus |
US20090141251A1 (en) * | 2004-12-15 | 2009-06-04 | Samsung Electronics Co., Ltd | Illumination system to eliminate laser speckle and projection system employing the same |
JP2009130071A (ja) * | 2007-11-22 | 2009-06-11 | Canon Inc | 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 |
US20100142022A1 (en) * | 2008-12-05 | 2010-06-10 | Sjoestroem Fredrik | Methods and apparatuses for increasing available power in optical systems |
WO2011071889A1 (en) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | J.P. Sercel Associates, Inc. | Laser lift off systems and methods |
JP2013535334A (ja) * | 2010-07-08 | 2013-09-12 | テーエーエル・ソーラー・アーゲー | 多重ビーム及びそれぞれの適切なレーザ光学ヘッドによるレーザ加工 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5308431B2 (ja) | 2010-12-06 | 2013-10-09 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | レーザ光によるライン加工方法およびレーザ加工装置 |
JP2013232581A (ja) | 2012-05-01 | 2013-11-14 | Mitsubishi Electric Corp | 光起電力装置の製造方法および光起電力装置 |
US20150055078A1 (en) | 2013-08-22 | 2015-02-26 | Thorlabs, Inc. | Variable beam expander |
DE102014200633B3 (de) | 2014-01-15 | 2015-05-07 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Bearbeitungsvorrichtung und -verfahren zur Laserbearbeitung einer Oberfläche |
-
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09248686A (ja) * | 1996-03-15 | 1997-09-22 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ転写加工装置およびレーザ転写加工方法 |
JP2002222761A (ja) * | 2000-11-22 | 2002-08-09 | Nikon Corp | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 |
JP2003334683A (ja) * | 2002-05-17 | 2003-11-25 | Sangaku Renkei Kiko Kyushu:Kk | レーザ加工装置とレーザ加工方法 |
US20060013680A1 (en) * | 2004-07-16 | 2006-01-19 | Tessera, Inc. | Chip handling methods and apparatus |
US20090141251A1 (en) * | 2004-12-15 | 2009-06-04 | Samsung Electronics Co., Ltd | Illumination system to eliminate laser speckle and projection system employing the same |
JP2009130071A (ja) * | 2007-11-22 | 2009-06-11 | Canon Inc | 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 |
US20100142022A1 (en) * | 2008-12-05 | 2010-06-10 | Sjoestroem Fredrik | Methods and apparatuses for increasing available power in optical systems |
WO2011071889A1 (en) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | J.P. Sercel Associates, Inc. | Laser lift off systems and methods |
JP2013535334A (ja) * | 2010-07-08 | 2013-09-12 | テーエーエル・ソーラー・アーゲー | 多重ビーム及びそれぞれの適切なレーザ光学ヘッドによるレーザ加工 |
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