JP7443042B2 - 光スポット像照射装置および転写装置 - Google Patents
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Images
Description
。
2 光スポット像
11 レーザー光源
12 ビームエキスパンダー
13 位相回折素子
14 ズームレンズ(可変焦点光学系)
15 コリメートレンズ
16 ガルバノミラー(光スポット像シフト手段)
17 Fθレンズ
18 アパーチャ部材
19 アパーチャ
21 チップ
22 キャリア基板
23 被転写基板
31 移動ステージ(光スポット像シフト手段)
32 リレーレンズ
33 ミラー
B レーザー光
B1 光線束
S 被照射面
W 基材
Claims (4)
- 被照射面上に複数の光スポットよりなる光スポット像を照射する光スポット像照射装置であって、レーザー光源と、該レーザー光源から出射されたレーザー光を複数の光線に分割する位相回折素子と、前記位相回折素子と前記被照射面との間に設けられ、焦点距離を変化させることによって前記光スポットの面積およびピッチの拡大もしくは縮小を行う可変焦点光学系と、前記複数の光線による前記光スポット像を前記被照射面の面内方向にシフトさせる光スポット像シフト手段と、を少なくとも備えて前記被照射面にマトリクス状に前記光スポット像を形成し、
前記位相回折素子は、前記レーザー光を、前記光スポットが前記被照射面上で前記マトリクスの行方向に等ピッチで1列に配列されるパワーが均等な複数の光線に分割し、
前記マトリクスの前記行方向における前記光スポットのピッチを前記可変焦点光学系によって制御し、前記マトリクスの列方向における前記光スポットのピッチを前記光スポット像シフト手段によって制御することを特長とする光スポット像照射装置。 - 前記可変焦点光学系と前記被照射面の間に、前記可変焦点光学系による結像を、前記被照射面上に結像する結像光学系をさらに有し、前記結像光学系中に、前記光スポット像シフト手段たるガルバノミラー光学系が存することを特長とする、請求項1に記載の光スポット像照射装置。
- 前記光スポット像シフト手段として、前記被照射面そのものを移動させる移動ステージを有することを特長とする、請求項1もしくは2に記載の光スポット像照射装置。
- 平面基材上にマトリクス状に配列された複数のチップ群のうち、任意の位置にあるチップに対し、請求項1乃至3のいずれかに記載の光スポット像照射装置により生成された光スポット像を照射することにより、当該チップを被転写面へ転写させるチップ転写装置。
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