JP2021082593A - 6次以上の補正stem多極子補正器 - Google Patents
6次以上の補正stem多極子補正器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021082593A JP2021082593A JP2020193431A JP2020193431A JP2021082593A JP 2021082593 A JP2021082593 A JP 2021082593A JP 2020193431 A JP2020193431 A JP 2020193431A JP 2020193431 A JP2020193431 A JP 2020193431A JP 2021082593 A JP2021082593 A JP 2021082593A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- primary
- multipole
- corrector
- quadrupole
- polypole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005405 multipole Effects 0.000 title claims abstract description 392
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims abstract description 264
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 181
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims abstract description 93
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 46
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 26
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 claims description 16
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 16
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 48
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 44
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 36
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 19
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 6
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 241000220317 Rosa Species 0.000 description 4
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 3
- 101100377706 Escherichia phage T5 A2.2 gene Proteins 0.000 description 2
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 101000932768 Conus catus Alpha-conotoxin CIC Proteins 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000013213 extrapolation Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 230000005404 monopole Effects 0.000 description 1
- ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N nobelium Chemical compound [No] ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001690 polydopamine Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- 238000012800 visualization Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/153—Correcting image defects, e.g. stigmators
- H01J2237/1532—Astigmatism
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/153—Correcting image defects, e.g. stigmators
- H01J2237/1534—Aberrations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/28—Scanning microscopes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/28—Scanning microscopes
- H01J2237/2802—Transmission microscopes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
【課題】荷電粒子顕微鏡システムにおける粒子光学レンズの軸方向収差を補正するための技術を提供する。【解決手段】多極子補正器100は、第1の励起が印加されるときに、第1の一次多極子場を生成する第1の一次多極子102、第2の励起が印加されるときに、第2の一次多極子場を生成する第2の一次多極子104と、を含む。第2の一次多極子104は、第1の一次多極子102と球面収差の発生源であるレンズとの間に配置され、第1の一次多極子102により発生する4次収差および6次収差を補正するための二次多極子112を含む。更に、8次収差を補正するための三次多極子114を含む。【選択図】図1
Description
粒子光学顕微鏡は、円形レンズを利用して電子/荷電粒子ビームを方向付け、試料を照射するものである。しかしながら、円形レンズは、正の球面収差係数を生成するため、より高い開放角が制限され、分解能およびプローブ電流が阻害される。この問題に対処するために、現在の粒子光学顕微鏡には、球面収差を低減および/または補正するための多極子補正器が組み込まれている。六極子補正器では、4次スリーローブ収差D4がゼロになるように一次多極子を慎重に画像化するのが従来の慣行となっている。例えば、1990年にローズ(Rose)によって発明された六極子補正器は、2つの強力な同一の六極子を備えている。ローズ補正器の2つの強力な六極子が倍率−1で互いに慎重に画像化されると、これにより、それらの最低次効果(つまり、3倍非点収差A2)が相殺され、4次スリーローブ収差D4が無効化される。このローズ補正器の場合、一次六極子を互いに画像化することは、六極子の中間面を互いに画像化することに対応している(つまり、中間面は正確に共役となる)。
しかしながら、当該方法で多極子中間面を互いに画像化することが現在の慣行におけるD4収差を無効にする唯一の方法ではない。例えば、いくつかの他の六極子補正器の種類(例えば、2つ以上の一次六極子を含む六極子補正器)では、全ての一次六極子の中間面が正確に相互に共役である場合、大きな収差D4が生成される。そのような六極子補正器では、D4を無効にするために、1つの一次六極子の中間面を、他の一次六極子の中間面に隣接している平面に共役化する。当該平面は、全てが他の一次六極子の中間面と同一ではない。
従来の多極子補正器では、4次スリーローブ収差D4はゼロであるが、従来の多極子補正器では、顕微鏡の解像度を制限する様々な高次収差(例えば、6次スリーローブ収差D6、8次スリーローブ収差D8など)も生成されている。例えば、米国特許第8,841,630号に記載のS−CORR補正器では、6倍非点収差はないものの、6次スリーローブ収差D6および8次スリーローブ収差D8のような収差は相殺されていない。したがって、現在の六極子補正器(ローズ補正器およびS−CORR補正器など)が機械的に完全であっても、それらを採用する現在の粒子光学顕微鏡は、6次収差(つまり、6次スリーローブ収差D6)によって制限されているのである。このため、6次収差は、六極子補正器を採用した現在の荷電粒子光学顕微鏡の画像化機能を制限する根本的な障壁となっている。また、同様の理由で、四極子ー八極子補正器を採用した現在の荷電粒子光学顕微鏡は、7次収差によって制限されている。したがって、このようなCs補正器の高次収差を低減することが望まれている。
本開示による荷電粒子顕微鏡システムにおける粒子光学レンズの軸収差を補正するための補正器は、第1の一次六極子であって、第1の励起電圧または電流が第1の一次六極子に印加されるときに、第1の一次六極子場を生成する、第1の一次六極子と、荷電粒子顕微鏡システム内で補正器が使用されるときに、第1の一次六極子と球面収差の発生源であるレンズとの間に配置される第2の一次六極子と、を含む。本文書の残りの部分では、このレンズを粒子光学レンズと呼ぶことがある。一般に、球面収差の主な発生源となるレンズは、荷電粒子顕微鏡システムで対物レンズとして作用するレンズである。第2の一次六極子は、第2の一次六極子に第2の励起が印加されるときに、第2の一次六極子場を生成する。本開示のいくつかの実施形態によれば、第1の一次六極子は、第2の一次六極子上に慎重に画像化されることはない。代わりに、第2の一次六極子上の第1の一次六極子の画像をやや不整合とすることで、組み合わせ4次収差が発生する。そのような実施形態では、補正器は、4次収差および6次収差を補正するための二次六極子を含み、二次六極子は、荷電粒子顕微鏡システム内で補正器が使用されるときに、第2の一次六極子と粒子光学レンズとの間に配置される。そのような補正器は、第2の一次六極子と粒子光学レンズとの間に配置され、8次収差を補正するための三次六極子をさらに含むことができる。
本開示の代替実施形態では、粒子光学レンズの軸方向収差を補正するための補正器は、第1の一次六極子であって、第1の励起が第1の一次六極子に印加されたときに、第1の一次六極子場を生成するための第1の一次六極子と、荷電粒子顕微鏡システム内で補正器が使用されるときに、第1の一次六極子と粒子光学レンズとの間に配置される第2の一次六極子とを含むことができる。第2の一次六極子は、第2の励起が第2の一次六極子に印加されるときに、第2の一次六極子場を生成し、第1の一次六極子は、従来の慣行に従って第2の一次六極子上に画像化される。そのような実施形態では、補正器は、荷電粒子顕微鏡システム内で補正器が使用されるときに、第2の一次六極子と粒子光学レンズとの間に配置される二次六極子をさらに含む。二次六極子は、第3の励起が二次六極子に印加されるときに、第3の六極子場を生成するように構成されている。代替の実施形態は、第2の一次六極子と粒子光学レンズとの間に配置される三次六極子をさらに含む。三次六極子は、第4の励起が三次六極子に印加されるときに、第4の六極子場を生成するように構成されている。二次六極子および三次六極子は、第3の六極子場および第4の六極子場が6次収差D6を補正するように配置および/または他の方法で構成されている。さらに、本開示による補正器は、双極子、四極子などのような、六極子の代わりに他のタイプの多極子を含むことができる。例えば、本開示による六極子の代わりに四極子および八極子場を使用する補正器は、固有および寄生の高次収差を補正するために上記と同様の現象を使用することができる。例えば、二次および三次八極子場は、7次までの4倍収差を補正できる。
詳細な説明は、添付の図を参照して説明される。これらの図では、参照番号の最も左側の数字(複数可)で、当該参照番号が最初に現われる図を示している。異なる図の同じ参照番号は、類似または同一の項目を示している。
本発明による、6次収差および/またはそれ以上の高次収差を補正するための例示的な多極子補正器を示す。
本開示による、従来技術の補正器および6次補正STEM多極子補正器システムの補正器伝達光学系の光学的挙動を示す集合的な図面200を示す。
本発明による、6次補正STEM多極子補正器システム100を光学カラムに含む試料302の構成要素を検査するための例示的な荷電粒子顕微鏡システムを示す。
3つの一次多極子を有する6次補正STEM多極子補正器システム100を含む、少なくとも2つの一次多極子が互いに画像化されていない例示的な荷電粒子顕微鏡システムを示す。
従来の補正器システムの光学性能を示す図面である。
本開示による、6次補正STEM多極子補正器システムの光学性能を示す図面である。
一次多極子が互いに画像化されておらず、第2の一次多極子が非対称に変位している、補正STEM多極子補正器システムの光学性能を示す。
非対称光線経路を有する例示的な補正STEM多極子補正器システムの光学性能を示す。
互いに画像化された少なくとも一対の一次多極子と、6次以上の収差を補正するために組み合わされる収差を生成するように配置および/または他の方法で構成された一対の一次多極子の下流に配置される複数の多極子とを含む、6次収差を補正するための例示的な多極子補正器システムを示す。
互いに画像化された少なくとも一対の一次多極子を含む6次収差を補正するための例示的な多極子補正器システムを含む例示的な荷電粒子顕微鏡システムを示す。
6次補正STEM多極子補正器システムの第1の一次多極子、第2の一次多極子、および二次多極子の収差を組み合わせて6次収差を補正する様子を示す図面である。
互いに画像化された少なくとも一対の一次多極子と、6次以上の収差を補正するために組み合わされる収差を生成するように配置および/または他の方法で構成された一対の一次多極子の下流に配置される複数の多極子とを含む、6次収差を補正するための例示的な多極子画像化補正器システムを示す。
互いに画像化された少なくとも一対の一次多極子と、6次以上の収差を補正するために組み合わされる収差を生成するように配置および/または他の方法で構成された一対の一次多極子の下流に配置される複数の多極子とを含む、6次収差を補正するための例示的な多極子補正器システムを示す。
従来の補正システムを備えた顕微鏡システムによって生成されたフラットロンチグラム画像であり、D6によって制限されている。
6次補正STEM多極子補正器システムを備えた顕微鏡システムによって生成されたフラットロンチグラム画像である。
6次および8次補正STEM多極子補正器システムを備えた顕微鏡システムによって生成されたフラットロンチグラム画像であり、D6およびD8の両方が大幅に低減されている。 同様の参照番号は、図面のいくつかの図を通して対応する部分を指す。一般に、これらの図では、所定の例に含まれる可能性が高い要素が実線で示されているのに対し、所定の例には任意選択的である要素は破線で示されている。しかしながら、実線で示される要素は、本開示の全ての例に必須である訳ではなく、実線で示される要素は、特定の例から、本開示の範囲から逸脱しない限り省略されてもよい。
6次収差および/またはそれ以上の高次収差を補正するための多極子補正器が本明細書に含まれている。より具体的には、本明細書に開示される多極子補正器は、荷電粒子顕微鏡システムにおける6次スリーローブD6収差を補正するように構成される。本発明のいくつかの実施形態による多極子補正器は、互いに画像化されず、4次組み合わせ収差が生成される、少なくとも1対の一次多極子と、荷電粒子顕微鏡システム内で補正器が使用されるときに、一対の一次多極子と球面収差の発生源であるレンズ(例えば、荷電粒子顕微鏡システムの対物レンズ)との間に配置される二次多極子と、を含む。
いくつかの実施形態では、レンズは、補正器が荷電粒子顕微鏡システム内で使用される場合の球面収差の主な発生源(つまり、システム内で最も球面収差が発生する発生源、システム内で大量の球面収差が発生する発生源)であるレンズであってもよい。二次多極子は、4次収差および6次収差を補正するように構成されている。本開示による収差の補正は、それらの合計がゼロ化される、実質的にゼロ化される、かつ/または最適値に低減される(例えば、それらの合計が1つ以上の他の収差と結合して、高次収差のバランスをとる/補正するような値に低減される)ように、負の収差によって相殺される正の収差に対応する。さらに、多極子、四極子、六極子、四極子−八極子などの用語は、本明細書では、多極子場、四極子場、六極子場、四極子−八極子場などを説明するために使用されており、これらの場を生成するように構成された物理デバイスではない。
すなわち、開示された本発明の実施形態は、組み合わされたときに、6次収差を補正する新規の収差を介して収差を補正する。さらに、以下に開示されるように、開示される発明のいくつかの実施形態では、生成された収差の組み合わせは、8次収差を補正するために組み合わせることができる。具体的には、互いに画像化されていない一対の一次多極子により、大きな4次収差が発生し、これが新規な二次多極子により発生した収差と組み合わされて、4次収差と6次収差の両方が相殺される。
さらに、本発明のいくつかの他の実施形態による多極子補正器は、従来の慣行に従って互いに画像化または実質的に画像化される少なくとも一対の一次多極子と、荷電粒子顕微鏡システム内で補正器が使用されるときに、一対の一次多極子と粒子光学レンズとの間に配置される複数の多極子とを含む。複数の多極子は、6次以上の収差を補正するために組み合わされる収差を生成するように配置および/または他の方法で構成されている。すなわち、一対の一次多極子と粒子光学レンズとの間に配置された個々の多極子は、補正器システムによって生成された他の収差と組み合せて6次または8次までの収差を相殺するような収差を生成するように、特定の励起レベルに配置および設定することができる。
以下の処理は、本開示による例示的な補正器システムの性能を実証するものである。具体的には、以下の処理は、(i)平行(またはほぼ平行)の入口ビームおよび出口ビーム、(ii)一次六極子間で同一の形状、(iii)2つのみの一次六極子、および(iv)(SEMまたはSTEMにおけるような)粒子光学レンズの上流の補正器を有する、本開示によるプローブ六極子補正器の性能を実証するものである。しかしながら、以下に説明するように、本開示による補正器は、そのような実施形態に限定されず、むしろ、同様の現象に従って動作する他の特性(例えば、システムの荷電粒子源、非平行出口ビーム、非対称六極子補正器、非対称光線路などから試料の下流側に配置されるように設計された、STEM以外の顕微鏡システム用の追加の一次六極子を有する、六極子の代わりの四極子−八極子)を有する補正器を本開示に従って構築することができる。例えば、本開示による例示的な補正器システムが、システムの荷電粒子源から試料の下流に配置されるように設計されている場合(例えば、TEMシステム用の補正器)、補正器内の六極子の配置は、逆となる(すなわち、二次六極子(複数可)は一次六極子よりも荷電粒子源に近接しているが、第2の六極子は依然として第1の六極子と二次六極子(複数可)との間に位置している)。
例として、2つの一次六極子を備えた補正器の場合を詳細に取り扱う。フリンジ場を無視すると、六極子のスカラー磁気ポテンシャルは次の式で与えられる。
ここで、u=x+iyは、半径方向の位置(x、y)を表す。本発明の実施形態の構成要素六極子についての複素六極子励起パラメータkを次のように定義する。
ここで、η=(e/(2m))1/2であり、Urは相対論的ポテンシャル、eは電気素量、mは粒子の質量である。2つの六極子補正器システムの場合、磁気レンズの回転を考慮して、ラーモア基準座標系の光学特性を計算する。この場合、様々な六極子場のkの値は全て実数であると想定できる。ただし、3つの六極子補正器システムでは、様々な六極子場のkの個々の値は実数または虚数の場合がある。さらに、ガウスビームが平行である平面では、勾配収差は位相関数
から次の式で導出される。
ここで、u=x+iyは、半径方向の位置(x、y)を表す。本発明の実施形態の構成要素六極子についての複素六極子励起パラメータkを次のように定義する。
ここで、η=(e/(2m))1/2であり、Urは相対論的ポテンシャル、eは電気素量、mは粒子の質量である。2つの六極子補正器システムの場合、磁気レンズの回転を考慮して、ラーモア基準座標系の光学特性を計算する。この場合、様々な六極子場のkの値は全て実数であると想定できる。ただし、3つの六極子補正器システムでは、様々な六極子場のkの個々の値は実数または虚数の場合がある。さらに、ガウスビームが平行である平面では、勾配収差は位相関数
から次の式で導出される。
本明細書に開示されるシステムの六極子について7次までの3回対称性によって許容される全ての項を説明する位相関数は、以下によって与えられる。
ここで、下付き文字「s」は、係数が勾配収差に対応することを示す。ここでは、A5SおよびD6S収差の非常に小さい異方性値は無視される(つまり、全ての収差係数はラーモア基準系で実数であると想定している)。
ここで、下付き文字「s」は、係数が勾配収差に対応することを示す。ここでは、A5SおよびD6S収差の非常に小さい異方性値は無視される(つまり、全ての収差係数はラーモア基準系で実数であると想定している)。
一対の一次六極子の各々の作用は、次の式で近似される。
二次六極子(複数可)の作用は次のように近似される。
式中、UinおよびUoutは、六極子の中間面に漸近的に定義されている。中間六極子が一対の一次六極子の間に位置する実施形態では、A5を補正するために、以下の計算において、D6に対するその適度な影響を無視する。一対の一次六極子の上流の一次六極子の励起はkであり、一対の一次六極子の下流六極子の励起パラメータはk+k2であり、kはk2よりもはるかに大きい。二次六極子の励起はまた、kよりもはるかに小さいk3である。
二次六極子(複数可)の作用は次のように近似される。
式中、UinおよびUoutは、六極子の中間面に漸近的に定義されている。中間六極子が一対の一次六極子の間に位置する実施形態では、A5を補正するために、以下の計算において、D6に対するその適度な影響を無視する。一対の一次六極子の上流の一次六極子の励起はkであり、一対の一次六極子の下流六極子の励起パラメータはk+k2であり、kはk2よりもはるかに大きい。二次六極子の励起はまた、kよりもはるかに小さいk3である。
平行ビームが第1の一次六極子に入射し、このビーム内の電子の複素横方向位置=U0である場合を考える。本発明によれば、下流の一次六極子の漸近中間面における中間結果(u1,u’1)は、最大で、u0において4次である。
及び
下流の一次六極子の作用が含まれ、ここで△zは、一次六極子の物理的シフト(図2に図示されるシフトなど)である。
及び
下流の一次六極子の作用が含まれ、ここで△zは、一次六極子の物理的シフト(図2に図示されるシフトなど)である。
式(8)をu1の項で書き直すと、次のようになり、
式(4)で述べた勾配収差
を特徴としている。式(9)において、k2と△zによる補正強度
の微小変化は無視され、残りにおける
は
と等しくなるように設定されている。ここから、開示された発明の対応する実施形態が6次(場合によっては8次以上)の収差を補正することを示すために、計算を進める2つの方法が存在する。
式(4)で述べた勾配収差
を特徴としている。式(9)において、k2と△zによる補正強度
の微小変化は無視され、残りにおける
は
と等しくなるように設定されている。ここから、開示された発明の対応する実施形態が6次(場合によっては8次以上)の収差を補正することを示すために、計算を進める2つの方法が存在する。
第1の方法では、下流の一次六極子と第2の六極子との間のドリフト距離をdとし、二次六極子の作用をk3とし、逆外挿が下流の一次六極子の中心に適用される。これにより、次の関係が生じる。
式中、
および
である。
式中、
および
である。
のテイラー級数反転により、u’2は
の関数として書くことができ、その結果、
の関係が得られ、式中、以下のようになる。
したがって、本発明の実施形態の3倍収差係数は、次のように書くことができる。
および
式中、D6s,corは、機械的および/または電気的エラーのない補正器の固有の補正器収差である。式(12)および(13)を使用すると、次に、k2L=−k3L3および△z=k2d/kの場合、A2SおよびD4Sがそれぞれ0に等しいことを示すことができる。6次球面収差D6sをこれらの値で書き換えると、次のことがわかる。
式(15)は、位置収差に変換できる。
試料では、
は、補正器の外側のレンズの球面収差であり、これは対物レンズ(C3、obj)の球面収差によって支配され、feffは転写レンズと対物レンズの有効焦点距離である。有効焦点距離の関係は次のとおりである。
式中、xは補正器出口平面内の位置であり、αは試料平面内の対応する角度である。
試料では、
は、補正器の外側のレンズの球面収差であり、これは対物レンズ(C3、obj)の球面収差によって支配され、feffは転写レンズと対物レンズの有効焦点距離である。有効焦点距離の関係は次のとおりである。
式中、xは補正器出口平面内の位置であり、αは試料平面内の対応する角度である。
これらの関係を使用して、荷電粒子顕微鏡システムにおける6次スリーローブD6収差を補正する、本開示による補正器を構築することができる。すなわち、一対の一次六極子の下流に二次多極子六極子を有する補正器は、補正器が6次収差を補正するように配置および/または他の方法で構成することができる。例えば、D6,corが3mmに等しい場合、上記の関係は、収差A2s、D4s、およびD6sが六極子シフト△z=0.5mmで補正できることを示しており、ここで、L=16mm、C3=1.4mm、d=35mm、およびfeff=1.6mmである。以下でさらに説明するように、六極子シフト△zは、一対の一次六極子が互いに画像化されないように物理的に変位することによって、または一対の一次六極子が互いに画像化されないように一次六極子間の2つの転写レンズの励起を変更することによって、あるいはそれらの組み合わせによって、達成できる。
式(1)〜(9)から式(12、13、14)に進む第2の方法では、出口面に平行ビームを有し、薄レンズ近似で処理される多数の多極子を備えたプローブ補正器が考えられる。補正器の下流の自由空間では、位相関数(S(x、y、z))は、HaraldRoseの「Geometrical Charged−Particle Optics」(Springer、2009年)の式2.21で説明されているアイコナール方程式によって支配され、ここで、ポテンシャルは一定であり、ベクトルポテンシャルはゼロである。したがって、この自由空間の位相関数は、
のようにスケーリングされ、次のように書くことができる。
対応する光線の勾配は次のように書くことができる。
および
式17の右辺には、非関心成分S=zを取り除くために、項−1が追加されている。位相関数S(x、y、z)はz依存性収差係数、例えばA2S=A2S(Z)を用いて、式(4)のように直列に展開されている。したがって、式(17)は、これらの係数の非線形微分方程式のセットとして書き直すことができる(例えば、
および
)。これらの微分方程式を用いて、式(9)から始まるドリフト距離d1にわたって上述した係数
を伝搬させ、補正器出口面に外挿して(すなわち、例えば
および
に対応する式(17)の逆を用いてd1にわたって係数を伝搬させて)、以下の3倍収差を得る。
および
ここで、D6s,corとD8s,corは固有の補正器収差である。本発明による補正器システムのいくつかの実施形態では、d1は、補正器の最も下流の一次多極子と補正器の下流の二次多極子との間の距離に対応する。
のようにスケーリングされ、次のように書くことができる。
対応する光線の勾配は次のように書くことができる。
および
式17の右辺には、非関心成分S=zを取り除くために、項−1が追加されている。位相関数S(x、y、z)はz依存性収差係数、例えばA2S=A2S(Z)を用いて、式(4)のように直列に展開されている。したがって、式(17)は、これらの係数の非線形微分方程式のセットとして書き直すことができる(例えば、
および
)。これらの微分方程式を用いて、式(9)から始まるドリフト距離d1にわたって上述した係数
を伝搬させ、補正器出口面に外挿して(すなわち、例えば
および
に対応する式(17)の逆を用いてd1にわたって係数を伝搬させて)、以下の3倍収差を得る。
および
ここで、D6s,corとD8s,corは固有の補正器収差である。本発明による補正器システムのいくつかの実施形態では、d1は、補正器の最も下流の一次多極子と補正器の下流の二次多極子との間の距離に対応する。
関係式(20)〜(22)を使用して、荷電粒子顕微鏡システムにおける6次スリーローブ収差を補正する本開示による補正器を構築することができる。これは、関係式(20)〜(22)は3つの自由度を含むためである(すなわち、デルタ励起k2が
の発生源であり、励起k3が
の発生源であり、△zが
の発生源となる)。これらの3つの自由度は、本開示による補正器システムが、一対の一次六極子が特定の六極子シフトを有し、一対の一次六極子の下流に配置された1つ以上の二次六極子を含み、および/または他の方法で、補正器システムの収差の組み合わせが
(すなわち、2次、4次、および6次のスリーローブ収差の補正)を達成するように構成されるように設計することができる。
の発生源であり、励起k3が
の発生源であり、△zが
の発生源となる)。これらの3つの自由度は、本開示による補正器システムが、一対の一次六極子が特定の六極子シフトを有し、一対の一次六極子の下流に配置された1つ以上の二次六極子を含み、および/または他の方法で、補正器システムの収差の組み合わせが
(すなわち、2次、4次、および6次のスリーローブ収差の補正)を達成するように構成されるように設計することができる。
さらに、いくつかの実施形態では、本発明による補正器システムは、補正器システムが荷電粒子顕微鏡内で使用される場合、一対の一次多極子と対物レンズとの間に複数の二次多極子を含んでもよい。例えば、補正器システムは、一対の一次多極子の下流の第1の二次多極子、および第1の二次多極子の下流の第2の二次多極子を含んでもよい。このようなシステムの3倍収差を決定するには、式(17)を使用して係数
を伝播させ、次に、式(17)の逆を使用して、補正器出口平面に外挿して戻すプロセスを2回行えばよい。第1の反復では、これら2つの計算は、第1の二次多極子に関連付けられたドリフト距離d1にわたって行うことができ、第2の反復では、計算は、第2の二次多極子に関連付けられたドリフト距離d2にわたって行うことができる。このプロセスの視覚化の例を図9に示す。さらに、以下の処理は、レンズ908および910(図9)が励起されない特別な場合に対応することに留意されたい。その他の場合、原理は変わらないが、解析計算が異なる。このプロセスをこのように2回反復すると、補正器システムで次の3倍収差が発生する。
および
を伝播させ、次に、式(17)の逆を使用して、補正器出口平面に外挿して戻すプロセスを2回行えばよい。第1の反復では、これら2つの計算は、第1の二次多極子に関連付けられたドリフト距離d1にわたって行うことができ、第2の反復では、計算は、第2の二次多極子に関連付けられたドリフト距離d2にわたって行うことができる。このプロセスの視覚化の例を図9に示す。さらに、以下の処理は、レンズ908および910(図9)が励起されない特別な場合に対応することに留意されたい。その他の場合、原理は変わらないが、解析計算が異なる。このプロセスをこのように2回反復すると、補正器システムで次の3倍収差が発生する。
および
これらの関係式は、本開示による補正器システムが、一対の一次六極子が特定の六極子シフトを有し、一対の一次六極子の下流に配置された2つ以上の二次六極子を含み、および/または他の方法で、補正器システムの収差の組み合わせが
(すなわち、2次、4次、6次、および8次のスリーローブ収差の補正)を達成するように構成されるように設計できることを示している。
(すなわち、2次、4次、6次、および8次のスリーローブ収差の補正)を達成するように構成されるように設計できることを示している。
あるいは、そのような補正器システムの3倍収差についてこれらの関係を使用して、本開示による、6次スリーローブ収差を補正しながら、一対の一次多極子を互いに画像化する補正器システムを構築することができる。これは、全ての一次六極子が互いに画像化されていない実施形態と比較して、二次の軸外非点収差が小さいという利点を有する。この場合、
となり、つまり、これはもはや自由度ではなくなる。関係式(24)〜(26)により、一対の一次多極子が互いに画像化されたときに、このようなスリーローブ収差を補正することができる。これは、関係式(24)〜(26)が3つの自由度(つまり、六極子励起が
の発生源となる)を有し、このような補正器システムを設計する(すなわち、具体的に配置および/または構成された一対の一次多極子の下流に2つの二次多極子を有する)ことが可能となり、その結果、追加変数(すなわち、
)として六極子シフトに依存することなく、6次までの3倍収差を補正できるためである。
となり、つまり、これはもはや自由度ではなくなる。関係式(24)〜(26)により、一対の一次多極子が互いに画像化されたときに、このようなスリーローブ収差を補正することができる。これは、関係式(24)〜(26)が3つの自由度(つまり、六極子励起が
の発生源となる)を有し、このような補正器システムを設計する(すなわち、具体的に配置および/または構成された一対の一次多極子の下流に2つの二次多極子を有する)ことが可能となり、その結果、追加変数(すなわち、
)として六極子シフトに依存することなく、6次までの3倍収差を補正できるためである。
図1は、本発明による、6次収差および/またはそれ以上の高次収差を補正するための例示的な多極子補正器100の図である。図1の説明および矢印は、SEMまたはSTEMシステムのプローブ補正器に固有のものである。例示的な多極子補正器100は、少なくとも第1の一次多極子102および第2の一次多極子104を含む。多極子は、n/2倍の回転対称性を示す電磁場を生成するための光学素子である。ここで、nは偶数の整数である。したがって、多極子の例には、双極子、四極子、六極子などが含まれる。例えば、8つのヨーク/電極を持つ多極子は、任意の向きで双極子場、四極子場、および六極子場を生成できる。
SEMまたはSTEMシステムの動作中、荷電粒子ビーム106は、中心軸108に沿って、多極子補正器の第1の端部110に方向付けられる。第2の一次多極子104は、荷電粒子顕微鏡システム内で補正器が使用されるときに、第1の一次多極子102と粒子光学レンズとの間に位置している。例えば、第2の一次多極子104は、第1の一次多極子102の下流に位置するものとして図1に示されている(すなわち、荷電粒子ビーム106は、第2の一次多極子104と相互作用する前に第1の一次多極子102と相互作用する)。第1の一次多極子102および第2の一次多極子104の各々に励起が印加され、それらが荷電粒子ビーム106を方向付けて試料に入射する電磁場を生成する。補正器100がTEMシステム内で動作するように設計されている実施形態では、補正器100は試料の下流に配置され、荷電粒子ビーム108は、第1の一次多極子102と相互作用する前に第2の一次多極子104と相互作用する。
本発明によれば、第1の一次多極子102、第2の一次多極子104、およびそれらの間の伝達光学系の寄与により、有意な3倍非点収差A2および有意な4次スリーローブ収差D4が生成される。様々な実施形態において、A2およびD4を無効にするこの不成功は、第2の一次多極子104に印加される励起が第1の一次多極子102に印加される励起よりも大きいこと、第1の一次多極子102および第2の一次多極子104が異なる長さ(すなわち、L1およびL2)を有すること、第1の一次多極子102および第2の一次多極子104が異なるビーム半径を有すること、第1の一次多極子102および第2の一次多極子104が磁気ヨークの異なる寸法を有すること、第1の一次多極子102と第2の一次多極子104との間の転写レンズ118の非対称性、第1の一次多極子102と第2の一次多極子104との間の荷電粒子ビーム106の光線路の非対称性、一次多極子間の転送光学系は多極子がお互いに画像化されないように退避されていること、またはそれらの組み合わせの結果である可能性が高い。代わりに、本発明によれば、本明細書に記載の補正器のこれらの態様の1つ以上は、6次収差および/またはそれ以上の高次収差が補正されるように調整および/または採用される。本明細書で使用される場合、多極子に印加される「励起」という用語は、対応する多極子に印加される励起電圧または励起電流を指す。例えば、補正器100が電子顕微鏡カラムで使用されている実施形態では、励起とは、特定の多極子に印加され、特定の多極子に多極子場を生成させる電流を指す場合がある。
従来技術の補正器100では、収差を防止するために、構成要素の多極子が互いに画像化されている。しかしながら、6次収差および/またはそれ以上の高次収差を補正するための例示的な多極子補正器100では、第1の一次多極子102は、第2の一次多極子104上に画像化されず、組み合わせ収差が発生する。例えば、第1の一次多極子102および第2の一次多極子104がそれぞれ六極子である場合、これは大きな4次収差を発生させる。いくつかの実施形態では、第2の一次多極子104上に画像化されていない第1の一次多極子102は、中心軸108に沿って変位している第1の一次多極子102の多極子中間面および第2の一次多極子104の多極子中間面のうちの1つ以上に対応している。例えば、第1の一次多極子102および第2の一次多極子104の各々は、中心軸108に沿った反対方向に、2つの一次六極子間の距離の0.1mm、0.5mm、1mm、0.1%、0.5%、1%以上まで変位することができる。さらに、荷電粒子ビーム106は、中心軸108と非平行な角度で第1の一次多極子102に入射することができる。例えば、励起は、例示的な多極子補正器100の上流の1つ以上のレンズに印加することができ、その結果、1つ以上のレンズは、荷電粒子ビームを中心軸108と非平行な角度で第1の一次多極子102に入射する。
図1は、補正器が荷電粒子顕微鏡システム内で使用される場合(例えば、SEM/STEMシステムにおける第2の一次多極子104の下流、およびTEMシステムにおける第2の一次多極子104の上流)に、第2の一次多極子104と粒子光学レンズとの間に配置された二次多極子112を含むものとして例示的な多極子補正器100をさらに示す。二次多極子112は、二次多極子112によって生成された多極子場が(i)第2の一次多極子104上に画像化されていない第1の一次多極子102によって発生した収差、および(ii)高次収差を補正するように、配置、励起、および/または他の方法で構成されている。例えば、二次多極子112が六極子である場合、二次多極子112によって生成された多極子場が(i)第2の一次多極子104上に画像化されていない第1の一次多極子102によって発生した4次収差、および(ii)6次収差を補正するように、配置、励起、および/または他の方法で構成されている。
例えば、第1と第2の多極子102と104との間の励起の変化は、第1の自由度であるシフトとして作用し、△zは第2の自由度として作用し(その結果、シフトに比例してスケーリングするD4収差が発生する)、かつ、二次多極子112の励起は、第3の自由度として作用する。これらの値を調整することにより、例示的な多極子補正器100は、制御されたA2およびD4収差を生成することができる(すなわち、A2は、二次多極子112の励起値ならびに第1の多極子102と第2の多極子104との間の励起の変化に依存し、D4は、二次多極子112の励起値およびシフトに依存する)。値を調整することにより、二次多極子112の励起値に依存する追加の収差を生成することも可能になり、これは、D6,corと組み合わせることで、システムのD6収差を補正する。このように、例示的な多極子補正器100のこれらの値は、2次、4次、および6次収差が補正されるような値である。
このように、そのような荷電粒子顕微鏡の動作中に、例示的な多極子補正器100が六極子を含む場合、例示的な多極子補正器100は、6次スリーローブD6収差を補正する。いくつかの実施形態では、例示的な多極子補正器100は、荷電粒子顕微鏡システム内で補正器が使用されるときに、二次多極子112と粒子光学レンズとの間に配置される三次多極子114を任意選択で含むことができる。そのような三次多極子114は、三次多極子114によって生成された多極子場がさらに高次の収差を補正するように配置、励起、および/または他の方法で構成される(例えば、三次多極子114が六極子である場合、8次収差を補正することができる)。
本開示によれば、第1の一次六極子102、第2の一次六極子104、二次多極子112、および任意の三次多極子114による3倍非点収差A2への寄与は、合計でゼロになる。
いくつかの実施形態では、例示的な多極子補正器100は、中間多極子116および/または1つ以上の転写レンズ118を含むことができる。さらに、図1には示されていないが、例示的な多極子補正器100はまた、任意選択で、第3の一次多極子を含むことができる。そのような第3の一次多極子は、第1の多極子102の上流、第2の多極子104の下流、または第1の多極子102と第2の多極子104との間に位置してもよい。いくつかの実施形態では、生成された六極子場の各々は、ラーモア基準フレーム内のxy平面において同じ向きを有する。あるいは、他の実施形態では、生成された六極子場のうちの1つ以上は、xy平面および/またはxy平面において同じ向きでなくてもよい。
図1では、多極子補正器100は、複数の光学部品(すなわち、多極子およびレンズ)を含むボックスとして示されている。様々な実施形態では、これらの光学部品は、保護構造および/または支持構造によって包まれているか、または部分的に包まれていてもよい。さらに、そのような構造を含む実施形態では、1つ以上の光学部品が当該構造内になくてもよい。図1はまた、少なくとも1つの追加の一次多極子120を示している。少なくとも1つの追加の一次多極子102のうちの個々の多極子は、第1の一次多極子102の上流、第2の一次多極子104の下流、第1の一次多極子102と第2の一次多極子104との間、またはそれらの組み合わせにおいて配置され得る。
図2は、本開示による、従来技術の補正器および6次補正STEM多極子補正器システムの補正器伝達光学系の光学的挙動を示す集合的な図面200を示す。具体的には、図面210および230は、それぞれ、従来技術の補正器、および6次補正STEM多極子補正器100に存在する収差を考慮するための光学的挙動を示している。
図面210は、第1の一次六極子202が第2の一次六極子204上に画像化される従来技術の補正器の一般的なスキームを示している。図面210および230の各々は、xz平面における荷電粒子ビーム106の軸方向光線206を示しており、z軸は、例示的な多極子補正器100の中心軸108に対応している。図面210は、荷電粒子ビーム206が第1の六極子202の入口面208に入射するとき、かつ第2の六極子204の出口面210を出るとき、中心軸108に平行であるとして、荷電粒子ビーム206の軸方向光線206を示している。図面210は、第1の六極子202が第2の六極子204上に画像化されるように、第1の六極子202の多極子中間面が位置212にあり、第2の六極子204の多極子中間面が位置214にあることをさらに示している。
図面230は、第1の一次六極子202および第2の一次六極子204の両方がそれらの標準位置(すなわち、図面230に示されるように、第1の六極子202が第2の六極子204上に画像化される位置)から中心軸108に沿って機械的にシフトされた6次補正STEM多極子補正器システムの実施形態を示す。すなわち、図面230は、位置216にある第1の一次六極子102の多極子中間面と、位置218にある第2の一次六極子104の多極子中間面とを示している。しかしながら、上記のように、他の実施形態では、一次多極子のうちの1つだけがシフトされ得る。あるいは、またはさらに、上記のように、シフトΔzはまた、転写レンズ118を調整することによって効果的に発生するか、または補足することができ、任意選択で、荷電粒子ビーム206が中心軸108と非平行な角度で第1の一次六極子102に入射するように、6次補正STEM多極子補正器システムの上流の1つ以上の光学素子の励起変化と組み合わせる。そのような実施形態では、第1の一次六極子202、第2の一次六極子204、またはその両方は、従来の慣行における従来の一次六極子位置から機械的にシフトされない場合がある。
図2は、第2の一次六極子104の下流に配置される二次多極子112を含むものとして、図面230の補正器システムをさらに示す。第1の六極子102、第2の一次多極子104、および二次六極子112の各々は、図面230に図示される6次補正STEM多極子補正器システムによって生成された収差が組み合わさって少なくとも6次までの収差を補正するように配置され、それぞれ対応する励起によって励起される。
図3は、本発明による、6次補正STEM多極子補正器システム100を光学カラムに含む試料302の構成要素を検査するための例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)300の図である。すなわち、図3は、構成要素の多極子として六極子を含むSTEM多極子補正器システム100を含む荷電粒子顕微鏡システム(複数可)300を示している。例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)300は、荷電粒子のビーム304(通常は電子ビームまたはイオンビーム)で試料302に照射および/または他の方法で衝突させるように構成された電子顕微鏡(EM)セットアップまたは電子リソグラフィセットアップを含むことができる。様々な実施形態において、荷電粒子顕微鏡システム300は、これらには限定されないが、走査型電子顕微鏡(SEM)、走査型透過電子顕微鏡(STEM)、透過型電子顕微鏡(TEM)、荷電粒子顕微鏡(CPM)、デュアルビーム顕微鏡システムなどのような1つ以上の異なるタイプのEMおよび/または荷電粒子顕微鏡であるか、またはこれらを含むことができる。加えて、いくつかの実施形態では、TEMは、STEMとしても動作することができる。図3は、STEMシステム306として、例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)300を示す。
例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)300は、荷電粒子ビーム304を放出軸310に沿って加速レンズ312に向けて放出する荷電粒子源308(例えば、熱電子源、ショットキー放出源、電界放出源、液体金属イオン源、プラズマイオン源など)を含む。放出軸310は、荷電粒子源308から例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)300の長さに沿って、かつ試料302を通って走る中心軸である。
加速レンズ312は、荷電粒子ビーム304を集束カラム314に向けて加速/減速、集束、および/または方向付けする。集束カラム314は、試料302に入射するように荷電粒子ビーム304を集束させる。加えて、集束カラム314は、荷電粒子ビーム304の収差(例えば、幾何学的収差、色収差)を補正および/または調整する。図3では、集束カラム314は、本発明による6次補正STEM多極子補正器システム100、転写レンズ318、および対物レンズ320を含むものとして示されている。6次補正STEM多極子補正器システム100は、互いに画像化されていない第1の一次多極子102および第2の一次多極子104を含む。6次補正STEM多極子補正器システム100はまた、6次までの3倍収差を補正するために、第1の一次多極子102および第2の一次多極子104によって生成される他の収差と組み合わせて収差を生成するように配置および/または他の方法で構成された二次多極子112を含むものとして示されている。図3はまた、中間多極子116および一対の転写レンズ118を含むものとして、6次補正STEM多極子補正器システム100を示している。
対物レンズ320は、荷電粒子ビーム304を試料302上の点に集束させる光学素子である。対物レンズ320は、単極子レンズ、磁気静電複合レンズ、静電検出器対物レンズ、または別のタイプの対物レンズを含んでもよい。
図3は、試料302を保持する試料ホルダ322を含むものとして、例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)300をさらに示している。例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)300はまた、荷電粒子ビーム304が試料302に入射する結果として試料302を通過する荷電粒子336を検出するように構成されている検出器334を含むものとして示されている。加えて、例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)300は、荷電粒子ビーム304に試料302の表面を走査させるための非点収差補正および走査コイル338を含むものとして示されている。例えば、走査コイル338を動作させることによって、荷電粒子ビーム304の方向は、それが試料302の異なる場所に当たるようにシフトすることができる。例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)300は、試料302と検出器334との間に配置された1つ以上の投影レンズ340をさらに含む。
図3は、コンピューティングデバイス(複数可)342を任意選択的に含むものとして、例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)300をさらに示している。当業者であれば、図3に図示するコンピューティングデバイス342は、単なる例示であり、本開示の範囲を限定することを意図するものではないことを理解するであろう。コンピューティングシステムおよびデバイスは、コンピュータ、ネットワークデバイス、インターネット家電製品、PDA、無線電話、コントローラ、オシロスコープ、増幅器等を含む、指定された機能を実行することができるハードウェアまたはソフトウェアの任意の組み合わせを含んでもよい。コンピューティングデバイス342はまた、図示されていない他のデバイスに接続されてもよく、または代わりに、スタンドアロンシステムとして動作してもよい。
図4は、3つの一次多極子を有する6次補正STEM多極子補正器システム100を含む例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)400を示しており、一次多極子の少なくとも1つは、その従来の位置から(物理的並進および/または本明細書に記載されている他の調整を介して)シフトされ、その結果、大きな4次収差が生成される。すなわち、図4は、構成要素の多極子として六極子を含むSTEM多極子補正器システム100を含む荷電粒子顕微鏡システム(複数可)400を示している。
例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)400は、放出軸408に沿って、かつ加速レンズ410に向けて荷電粒子ビーム406を放出する荷電粒子源404を含む。加速器レンズ410は、荷電粒子ビーム406を、荷電粒子ビーム406が試料414に入射するように集束するように構成された集束カラム412に向けて加速/減速、集束、および/または方向付けする。加えて、集束カラム412は、荷電粒子ビーム416の収差(例えば、幾何学的収差、色収差)を補正および/または調整する。
図4では、集束カラム412は、本発明による6次補正STEM多極子補正器システム100、転写レンズ416、および対物レンズ418を含むものとして示されている。図4に示される6次補正STEM多極子補正器システム100は、3つの一次多極子(すなわち、第1の一次多極子420、第2の一次多極子422、および第3の一次多極子424)を含んでおり、一次多極子のうちの少なくとも2つは互いに画像化されていない。具体的には、図4では、第2の一次多極子422は、第3の一次多極子424上に画像化されていない。しかしながら、他の実施形態では、3つの一次多極子の他の対が互いに画像化されない場合がある。6次補正STEM多極子補正器システム100はまた、6次までの3倍収差を補正するために、第1の一次多極子420、第2の一次多極子422、および第3の一次多極子424によって生成される他の収差と組み合わせて収差を生成するように配置および/または他の方法で構成された二次多極子426を含むものとして示されている。3つの一次六極子がラーモア基準フレーム内で同一の向きを有しない実施形態では、結果として生じる複素収差係数D4がD6,corと同じ位相を有するように、すなわち、D4/D6,cor=(D4r+iD4i)/(D6r,cor+iD6i,cor)=実数値となるように、それらの相互画像化条件を調整する必要がある。図4はまた、任意選択の一対の転写レンズ428および任意選択の三次多極子430を含むものとして、6次補正STEM多極子補正器システム100を示している。三次多極子430を含む実施形態では、D6,cor/D8,corが実数値に近い場合、かつ一次六極子D4がD4/D6,cor=実数値になるように調整されている場合、三次多極子430は、6次補正STEM多極子補正器システム100の他の多極子によって生成される累積収差と組み合わされて8次収差を補正する収差を生成するように配置および/または励起することができる。図4は、二次多極子426と三次多極子430との間に位置するものとして転写レンズ416を示しているが、他の実施形態では、転写レンズ416は、第3の一次多極子424と二次多極子426との間、または三次多極子430の下流に配置することができる。
図4は、試料414を保持する試料ホルダ432を含むものとして、例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)400をさらに示している。例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)400はまた、荷電粒子ビーム406が試料414に入射する結果として試料414を通過する荷電粒子を検出するように構成されている検出器434を含むものとして示されている。加えて、例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)400は、荷電粒子ビーム406に試料414の表面を走査させるための非点収差補正および走査コイル436を含むものとして示されている。
例えば、走査コイル436を動作させることによって、荷電粒子ビーム416の方向は、荷電粒子ビーム416が試料414の異なる場所に当たるようにシフトすることができる。例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)400は、試料414と検出器434との間に配置された1つ以上の投影レンズ438をさらに含む。図4は、コンピューティングデバイス(複数可)440を任意選択的に含むものとして、例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)400をさらに示している。
図5は、従来の補正器システムの光学性能を示している。図5は、一対の一次多極子が互いに画像化される従来の補正器システムの光学性能を示している。図5は、荷電粒子ビームの軸方向光線502のビーム経路と、システムが特定の加速電圧で動作している一次六極子の中心にクロスオーバを有する荷電粒子ビームの軸外光線504のビーム経路との両方を示してる。図5〜8の各々において、線506は、それぞれのシステムの軸方向磁場を示している。線506がゼロ以外である場合、転写レンズ118などの磁気レンズが存在することを示している。
図6〜8は、本開示による補正STEM多極子補正器システムの光学性能の図である。図6は、8次収差を補正するために二次多極子112の下流に配置される三次多極子114を有する補正STEM多極子補正器システムの光学性能を示している。図6は、荷電粒子ビームの軸方向光線602のビーム経路と、システムが特定の加速電圧で動作している荷電粒子ビームの軸外光線604のビーム経路の両方を示している。第1の一次多極子102の分解画像606に見られるように、軸外光線604は、第1の一次多極子102の多極子中間面でシステムの中心軸108を横切らない。むしろ、軸外光線604は、第1の一次多極子102の多極子中間面からΔzの変位で中心軸108を横切る。上述のように、Δzは、従来の補正器と比較した一次多極子の変位に基づいて、転写レンズ118の励起の変化、またはそれらの組み合わせによって発生し得る。さらに、補正器の上流のレンズを調整して、非平行入射ビームを生成することができる。他の実施形態では、軸外光線604は、第2の一次多極子102の多極子中間面で中心軸108を通過するが、第2の一次多極子104の多極子中間面では中心軸108を通過しない。
図7は、一次多極子が互いに画像化されておらず、第2の一次多極子が非対称に変位している、補正STEM多極子補正器システムの光学性能を示す。図7は、荷電粒子ビームの軸方向光線702のビーム経路と、システムが特定の加速電圧で動作している荷電粒子ビームの軸外光線704のビーム経路の両方を示している。
分解画像706に見られるように、図示の実施形態における第2の一次多極子104は、従来の補正器システムにおける従来の多極子708の長さL2とは異なる長さL1を有する。さらに、図7では、第1の一次多極子102の長さL2は、第2の一次多極子104の長さL1とは異なる。図7は、従来の補正器システムにおける従来の多極子708の多極子中間面705の位置からΔzだけシフトされている第2の一次多極子104の多極子中間面703を図示している。図7に図示されるこのシフトΔzは非対称である。すなわち、図7は、中間面における補正器の対称性が放棄されるように、一次多極子のうちの1つのみが変位される実施形態を示す。シフトΔz、第2の多極子104の長さL1、二次多極子112の位置、二次多極子112に印加される励起、またはそれらの組み合わせの値は、高次収差が補正されるように調整することができる。例えば、多極子が六極子である場合、値の組み合わせは、適切な一次六極子励起レベルに対してA2=D4=D6=0(または異なる最適値(複数可))になるように設定できる。
いくつかの実施形態では、第1の一次多極子102の長さは、二次多極子104の長さL1よりも短い。そのような実施形態では、第1の一次多極子102と第2の一次多極子104との間の長さ差、シフトΔz、第2の一次多極子104の長さL1、二次多極子112の位置、二次多極子112に印加される励起、またはそれらの組み合わせの値は、高次収差が補正されるように調整することができる。例えば、多極子が六極子である場合、値の組み合わせは、適切な一次六極子励起レベルに対してA2=D4=D6=D8=0(または異なる最適値(複数可))になるように設定できる。すなわち、第1の一次多極子102と第2の一次多極子104との間の長さの差により、本開示による補正器は、三次多極子114を必要とせずに、8次収差D8を補正することができる。
図8は、非対称光線経路を有する補正STEM多極子補正器システムの光学性能を示す。図8は、荷電粒子ビームの軸方向光線802のビーム経路と、システムが特定の加速電圧で動作している荷電粒子ビームの軸外光線804のビーム経路の両方を示している。図8に見られるように、レンズ118の励起、第2の一次多極子104のシフトΔz、第2の一次多極子104の長さ、第2の一次多極子104に印加される励起、またはそれらの組み合わせのうちの1つ以上により、軸方向光線802の経路が、それが補正器を通って進むときに非対称となる。これらの値および上述したその他の値は、適切な一次六極子励起レベルに対してA2=D4=D6=0(または異なる最適値(複数可))になるように調整できる。
図9は、少なくとも一対の一次多極子と、6次以上の収差を補正するために組み合わされる収差を生成するように配置および/または他の方法で構成された一対の一次多極子の下流に配置される複数の多極子とを含む、6次収差を補正するための例示的な多極子補正器システム900を示す図である。
具体的には、図9は、一対の一次多極子102および104、二次多極子112、および三次多極子114を含む、本開示による補正器を示している。上述のように、三次多極子114を含めることにより、多極子補正器システム900は、一対の一次多極子102および104が互いに画像化されるときに、6次までのスリーローブ収差を補正することができる。あるいは、第1の一次多極子102および第2の一次多極子104が互いに画像化されていない場合、三次多極子114は、多極子補正器システム900が8次までのスリーローブ収差を補正することを可能にする。
上記のように、多極子は、双極子、四極子、六極子、八極子などのいずれかに対応することができる。例えば、多極子104、112、および/または114が六極子場に対応する場合、本明細書に記載の方法を使用して、任意の方向の(固有および/または寄生の)3倍収差を6次まで(かつ、いくつかの実施形態において6次まで)無効にする多極子補正器システム900を設計および/または構成することができる。別の例として、多極子が八極子場に対応する場合、本明細書に記載の方法を使用して、任意の方向の(固有および/または寄生の)4倍収差を7次まで無効にする多極子補正器システム900を設計および/または構成することができる。
いくつかの実施形態では、例示的な多極子補正器システム900は、一対の一次多極子102および104を超えた追加の一次多極子を含むことができる。例えば、いくつかの実施形態では、例示的な多極子補正器システム900は、4つまたは6つの一次多極子(例えば、四極子八極子補正器)を含むことができる。そのような実施形態では、第2の多極子104は、二次多極子112に最も近い一次多極子に対応する。
図9は、対物レンズ906によって試料904上に方向付けられる荷電粒子ビーム902を示している。図9はまた、例えば、ローレンツ顕微鏡法など、無磁場環境で試料を研究するために、顕微鏡システムが対物レンズ906(およびプローブ形成レンズとしての第1の上流レンズ)をオフにした状態で動作することを可能にする転写レンズ910および任意選択の転写レンズ908を示す。
図10は、6次収差を補正するための例示的な多極子補正器システム900を含む例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)1000を示す。図10に示される例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)1000は、標準動作モードおよびローレンツ動作モードで動作することができるSEMシステム1002である。すなわち、荷電粒子ビーム1004の経路は、例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)1000の動作モードに応じて変化する。
例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)1000は、放出軸1010に沿って、かつ加速レンズ1012に向けて荷電粒子ビーム1004を放出する荷電粒子源1008を含み、加速器レンズ1012は、荷電粒子ビーム1004を、荷電粒子ビーム1004が試料1016に入射するように集束するように構成された集束カラム1014に向けて加速/減速、集束、および/または方向付けする。集束カラム1014は、例示的な多極子補正器システム900および複数のレンズ1018の配置を含むものとして示されている。いくつかの実施形態では、例示的な荷電粒子顕微鏡システム1000がローレンツモードで動作しているとき、対物レンズ1020はオフにされる。そのような実施形態では、ローレンツレンズ1022は、対物レンズのように作用し、荷電粒子ビーム1004を試料1016上に集束させる。
図10は、試料1016を保持する試料ホルダ1024を含むものとして、例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)1000をさらに示している。例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)1000はまた、荷電粒子ビーム1004が試料1016に入射する結果として試料1016によって放出および/または反射される荷電粒子を検出するように構成されている検出器1026を含むものとして示されている。加えて、例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)1000は、荷電粒子ビーム1004に試料1016の表面を走査させるための非点収差補正および走査コイル1028を含むものとして示されている。図10は、コンピューティングデバイス(複数可)1030を任意選択的に含むものとして、例示的な荷電粒子顕微鏡システム(複数可)1000をさらに示している。
図11は、6次補正STEM多極子補正器システムの第1の一次多極子、第2の一次多極子、および二次多極子の主収差が様々な段階で組み合わされて様々な次数の収差を補正する様子を示す図面1100である。図面1100は、第1の一次多極子102および第2の一次多極子104の各々に印加される第1の励起レベル1102、第2の一次多極子104に付加的に印加される第2の励起レベル1104、および二次多極子112に印加される第3の励起レベル1106を示す。図面1100はまた、そのような励起レベルの印加によって生成される支配的収差1108、およびこれらの収差を使用して二次の3倍非点収差を補正する方法の関係式1110を示す。
図面1110の異なる多極子は、ビーム経路の異なる位置に配置されている。これらの異なる位置は、次の効果によって組み合わせ収差を引き起こす。
第1の多極子M1は、光線の方向を、最低次ではその支配的収差m1に比例する量だけ変化させる。
光線が第2の多極子M2に伝播する間、この方向の変化は、第2の多極子での光線の追加のシフトdxをもたらす(すなわち、ビームの収束経路または発散経路のためにすでに存在し得るシフトに追加される)。この追加のシフトdxは、m1に比例し、これら2つの多極子間の距離dに比例する(dx〜m1d)。
このdxにより、第2の多極子が光線の追加の偏向dx’を引き起こす(つまり、第1の多極子がない場合に第2の多極子が行う作用に加えられる)。この追加のdx’は、dxと第2の多極子の支配的収差m2の両方に比例する(dx’〜m2dx〜m1m2d)。この追加は、多極子M1およびM2の組み合わせ収差と呼ばれている。これは、M1およびM2の最低次効果によって生成されるので、一次組み合わせ収差として分類することができる。
同様に、第1の多極子の二次低次効果は、第2の多極子のシフト(m1d)2を発生させ、これは、二次組み合わせ収差dx’〜m1 2m2d2として分類することができる。
第1の多極子M1は、光線の方向を、最低次ではその支配的収差m1に比例する量だけ変化させる。
光線が第2の多極子M2に伝播する間、この方向の変化は、第2の多極子での光線の追加のシフトdxをもたらす(すなわち、ビームの収束経路または発散経路のためにすでに存在し得るシフトに追加される)。この追加のシフトdxは、m1に比例し、これら2つの多極子間の距離dに比例する(dx〜m1d)。
このdxにより、第2の多極子が光線の追加の偏向dx’を引き起こす(つまり、第1の多極子がない場合に第2の多極子が行う作用に加えられる)。この追加のdx’は、dxと第2の多極子の支配的収差m2の両方に比例する(dx’〜m2dx〜m1m2d)。この追加は、多極子M1およびM2の組み合わせ収差と呼ばれている。これは、M1およびM2の最低次効果によって生成されるので、一次組み合わせ収差として分類することができる。
同様に、第1の多極子の二次低次効果は、第2の多極子のシフト(m1d)2を発生させ、これは、二次組み合わせ収差dx’〜m1 2m2d2として分類することができる。
この組み合わせ収差の概念は、ある多極子と別の多極子の組み合わせだけでなく、1組の光学素子(そのうちの支配的収差が負の球面収差である、2つの六極子と2つの転写レンズで構成される六極子補正器など)と多極子の組み合わせ、またはある1組の光学素子と別の1組の光学素子の組み合わせにも適用できる。本開示において、組み合わせ収差という一般用語は、任意の一次組み合わせ収差、二次組み合わせ収差、三次組み合わせ収差など、および/またはそれらの組み合わせを指すことを意図している。
図面1100はまた、励起レベルの印加によって生成された一次組み合わせ収差1112、および一次組み合わせ収差を使用して4次3倍収差を補正する方法についての関係式1114を示している。最後に、図面1100はまた、励起レベルの印加によって生成される二次組み合わせ収差1116を図示しており、これは、6次補正STEM多極子補正器システムが最適に構成されるとき、顕微鏡システムの6次スリーローブ収差を補正する。
図12は、少なくとも一対の一次多極子と、6次以上の収差を補正するために組み合わされる収差を生成するように配置および/または他の方法で構成された一対の一次多極子の下流に配置された複数の多極子とを含む、6次収差を補正するための例示的な多極子補正器システム1200の図である。
具体的には、図12は、一次多極子1202の(そのうちの2つが一次多極子102および104に対応する)トライアド、二次多極子112、および任意選択の三次多極子114を含む、本開示による多極子補正器システム1200を示す。上述のように、三次多極子114を含めることにより、多極子補正器システム1200は、一次多極子1202のトライアドが互いに画像化されるときに、それらがD4を生成しないという意味で、6次までのスリーローブ収差を補正することができる。あるいは、一次多極子1202のトライアドが互いに画像化されていない場合、三次多極子114は、多極子補正器システム1200が8次までのスリーローブ収差を補正することを可能にする。あるいは、一次多極子1202の相互画像条件および二次多極子112および114の励起は、6次までのスリーローブ収差全てが補正され、二次軸外非点収差がゼロになるように調整することができる。
図12は、複数の弱い六極子1204(例えば、弱い六極子)を任意選択で含むものとしての多極子補正器システムをさらに示している。いくつかの実施形態では、複数の弱い多極子は、軸外コマを補正するために、2つの反対称的な一対の弱い多極子を含むことができる。図12は、対物レンズ1210によって試料1208上に方向付けられる荷電粒子ビーム1206をさらに示している。
図13は、一対の一次多極子と、弱い円形転写レンズを含む複数の転写レンズと、6次以上の収差を補正するために組み合わされる収差を生成するように配置および/または他の方法で構成された一対の一次多極子の下流に配置された複数の多極子とを含む、6次収差を補正するための例示的な多極子補正器システム1300の図である。
具体的には、図13は、転写レンズ多極子1302(弱い円形転写レンズに対応する中央転写レンズ)のトライアド、二次多極子112、および任意選択の三次多極子114を含む、本開示による多極子補正器システム1300を示す。上述のように、三次多極子114を含めることにより、多極子補正器システム1300は、一対の一次多極子102および104が互いに画像化されるときに、6次までのスリーローブ収差を補正することができる。あるいは、第1の一次多極子102および第2の一次多極子104が互いに画像化されていない場合、三次多極子114は、多極子補正器システム1300が8次までのスリーローブ収差を補正することを可能にする。いくつかの実施形態では、第1の一次多極子102の長さは、第2の一次多極子104の長さよりも異なってもよく、その結果、第1の一次多極子102および第2の一次多極子104は、互いに画像化されない。図13は、対物レンズ1306によって試料1304上に方向付けられる荷電粒子ビーム106をさらに示している。
図14〜16は、それぞれ、従来の補正システム、6次補正STEM多極子補正器システム、8次補正STEM多極子補正器システムを備えた顕微鏡システムによって生成されたフラットロンチグラム画像である。ロンチグラムは、回折面上に形成された試料の投影画像(パターン)であり、プローブ形成レンズを使用して試料の近くに収束入射電子ビームが集束される。フラットロンチグラムは、顕微鏡システムでの補正器性能を説明するために使用される。図14と図15〜16を比較すると、6次補正STEM多極子補正器システムと8次補正STEM多極子補正器システムは、5次まで補正された従来の補正器システム(すなわち、半角度〜80mrad未満)よりも大きな収差自由領域(すなわち、半角度〜100mrad)を発生させる。
本開示による本発明の主題の例は、以下に列挙される段落で説明される。
A1.荷電粒子システムにおける軸収差を補正するための補正器であって、
第1の一次六極子であって、第1の励起が第1の一次六極子に印加されるときに、第1の一次六極子場を生成する、第1の一次六極子と、
第2の一次六極子であって、第2の励起が第2の一次六極子に印加されるときに、第2の一次六極子場を生成し、荷電粒子システムで使用されるときに、第2の一次六極子が、第1の一次六極子と球面収差の発生源であるレンズとの間に配置され、第1の一次六極子が、第2の一次六極子上に画像化されないため、組み合わせ4次収差が発生する、第2の一次六極子と、
4次収差および6次収差を補正するための二次六極子であって、二次六極子は、荷電粒子システム内で補正器が使用されるときに、第2の一次六極子とレンズとの間に配置される、二次六極子と、を備える、補正器。
第1の一次六極子であって、第1の励起が第1の一次六極子に印加されるときに、第1の一次六極子場を生成する、第1の一次六極子と、
第2の一次六極子であって、第2の励起が第2の一次六極子に印加されるときに、第2の一次六極子場を生成し、荷電粒子システムで使用されるときに、第2の一次六極子が、第1の一次六極子と球面収差の発生源であるレンズとの間に配置され、第1の一次六極子が、第2の一次六極子上に画像化されないため、組み合わせ4次収差が発生する、第2の一次六極子と、
4次収差および6次収差を補正するための二次六極子であって、二次六極子は、荷電粒子システム内で補正器が使用されるときに、第2の一次六極子とレンズとの間に配置される、二次六極子と、を備える、補正器。
A1.0.1.球面収差の発生源となるレンズが、粒子光学レンズである、パラグラフA1の補正器。
A1.0.2.レンズは、荷電粒子顕微鏡システム内で補正器が使用されるときに、対物レンズとして作用する、パラグラフA1〜A1.0.1のいずれかの補正器。
A1.0.3.レンズは、荷電粒子顕微鏡システム内で補正器が使用されるときに、球面収差の主な発生源である、パラグラフA1〜A1.0.2のいずれかの補正器。
A1.0.4.荷電粒子システムが、荷電粒子顕微鏡システムである、パラグラフA1〜A1.0.3のいずれかの補正器。
A1.0.5.荷電粒子システムが、電子顕微鏡システムである、パラグラフA1〜A1.0.4のいずれかの補正器。
A1.1.二次六極子は、第3の励起が二次六極子に印加されるときに、第3の六極子場を生成するように構成される、パラグラフA1〜A1.0.5のいずれかの補正器。
A1.1.1.第3の六極子場が、4次収差および6次収差を補正する1つ以上の収差を発生させる、パラグラフA1.1の補正器。
A1.2.8次収差を補正するための三次六極子をさらに備え、三次六極子は、荷電粒子システム内で補正器が使用されるときに、二次六極子とレンズとの間に配置される、パラグラフA1〜A1.1.1のいずれかの補正器。
A1.2.1.三次六極子は、第4の励起が三次六極子に印加されるときに、第4の六極子場を生成するように構成される、パラグラフA1.2の補正器。
A1.2.1.1.第4の六極子場が、8次収差を補正する1つ以上の収差を発生させる、パラグラフA1.2.1の補正器。
A1.2.1.1.1.第4の六極子場が、8次収差を補正する1つ以上の組み合わせ収差(例えば、一次組み合わせ収差、二次組み合わせ収差など)を発生させる、パラグラフA1.2.1.1の補正器。
A2.二次六極子が、4次収差を補正する一次組み合わせ収差を発生させる2次収差を発生させる、パラグラフA1〜A1.2.1.1のいずれかの補正器。
A2.1.第1の組み合わせ収差が、一次組み合わせ収差を含むか、または一次組み合わせ収差に対応する、パラグラフA2の補正器。
A2.2.第1の組み合わせ収差が、二次組み合わせ収差を含むか、または二次組み合わせ収差に対応する、パラグラフA2の補正器。
A3.二次六極子は、荷電粒子顕微鏡の光学カラムに配置されたときに、補正器と対物レンズとの間のドリフト空間によって発生する位置収差が、二次六極子によって生成される追加の収差と組み合わされて、6次収差を補正する第2の組み合わせ収差を形成するように構成される、パラグラフA1〜A2.2のいずれかの補正器。
A3.1.第2の組み合わせ収差が、一次組み合わせ収差を含むか、または一次組み合わせ収差に対応する、パラグラフA3の補正器。
A3.2.第2の組み合わせ収差が、二次組み合わせ収差を含むか、または二次組み合わせ収差に対応する、パラグラフA3の補正器。
A4.第1の一次六極子の寄与、第2の一次六極子の寄与、および第1の一次六極子と第2の一次六極子との間の任意の伝達光学系の寄与が相殺されない、パラグラフA1〜A3.2のいずれかの補正器。
A4.1.第1の励起は、第1の一次六極子に印加されるときに、第1の一次六極子に第1の一次六極子場を生成させる励起電圧に対応する、パラグラフA4の補正器。
A4.2.第1の励起は、第1の一次六極子に印加されるときに、第1の一次六極子に第1の一次六極子場を生成させる励起電流に対応する、パラグラフA4の補正器。
A4.3.第2の励起が第1の励起よりも大きい、パラグラフA4〜A4.2のいずれかの補正器。
A4.4.第1の一次六極子の寄与、第2の一次六極子の寄与、および第1の一次六極子と第2の一次六極子との間の任意の伝達光学系の寄与が、3倍非点収差A2および4次スリーローブ収差D4を生成する、パラグラフA4〜A4.3のいずれかの補正器。
A5.第2の一次六極子上に画像化されていない第1の一次六極子が、第1の一次六極子が第2の一次六極子上に画像化される位置からの軸に沿った第1の一次六極子の第1の変位に対応する、パラグラフA1〜A4.4のいずれかの補正器。
A5.1.第1の変位が0.1mm、0.5mm、1mmまたはそれ以上である、パラグラフA5の補正器。
A5.2.第1の変位が2つの一次六極子間の距離の0.1%、0.5%、または1%以上である、パラグラフA5の補正器。
A6.第2の一次六極子上に画像化されていない第1の一次六極子が、第1の一次六極子が第2の一次六極子上に画像化される位置からの軸に沿った第2の一次六極子の第2の変位に対応する、パラグラフA1〜A5.2のいずれかの補正器。
A6.1.第2の変位が0.1mm、0.5mm、1mmまたはそれ以上である、パラグラフA6の補正器。
A6.2.第2の変位が2つの一次六極子間の距離の0.1%、0.5%、または1%以上である、パラグラフA6の補正器。
A7.第1の変位が第2の変位と同じ大きさである、A5〜A5.1に依存する場合の、パラグラフA6〜A6.2のいずれかの補正器。
A8.第1の変位は第2の変位と対向する方向である、A5〜A5.1に依存する場合の、パラグラフA6〜A7のいずれかの補正器。
A9.六極子上に画像化されていない第1の一次六極子が、非平行角度で第1の一次六極子に入射するビームに対応する、パラグラフA1〜A4のいずれかの補正器。
A9.1.六極子上に画像化されていない第1の一次六極子が、補正器の上流のレンズのうちの1つ以上のレンズ励起に対応し、ビームが非平行角度で第1の一次六極子に入射する、パラグラフA9の補正器。
A9.2.非平行角度で第1の一次六極子に入射するビームが、発散角で第1の一次六極子に入射するビームに対応する、パラグラフA9の補正器。
A10.第1の一次六極子と第2の一次六極子との間の1つ以上の転写レンズのセットをさらに含む、パラグラフA1〜A9.2のいずれかの補正器。
A11.第1の一次六極子と第2の一次六極子との間に配置された第3の六極子をさらに含む、パラグラフA1〜A9.1のいずれかの補正器。
A11.1.第1の一次六極子と第3の六極子との間の1つ以上の転写レンズの第1のセットと、第3の六極子と第2の一次六極子との間の1つ以上の転写レンズの第2のセットとをさらに含む、パラグラフA1の補正器。
A11.2.第1の一次六極子と第2の一次六極子との間に配置された第3の一次六極子が、第3の一次六極子である、パラグラフA11〜A11.1のいずれかの補正器。
A11.3.第1の一次六極子と第2の一次六極子との間に配置された第3の六極子が、弱い中間六極子である、パラグラフA11〜A11.2のいずれかの補正器。
A12.第1の一次六極子の上流に配置された第3の六極子をさらに含む、パラグラフA1〜A12.4のいずれかの補正器。
A12.1.第3の六極子と第1の一次六極子との間の1つ以上の転写レンズの第1のセットと、第1の一次六極子と第2の一次六極子との間の1つ以上の転写レンズの第2のセットとをさらに含む、パラグラフA2の補正器。
A13.第2の一次六極子と二次六極子との間に配置された第3の六極子をさらに含む、パラグラフA1〜A9.1のいずれかの補正器。
A13.1.第1の一次六極子と第2の一次六極子との間の1つ以上の転写レンズの第1のセットと、第2の一次六極子と第3の六極子との間の1つ以上の転写レンズの第2のセットとをさらに含む、パラグラフA13の補正器。
A14.第1の一次六極子の第1の長さが、第2の一次六極子の第2の長さとは異なる、パラグラフA1〜A13.1のいずれかの補正器。
A14.1.第2の長さが第1の長さよりも大きい、パラグラフA14の補正器。
A15.1つ以上の追加の一次六極子をさらに含む、パラグラフB1〜B14.1のいずれかの補正器。
A15.1.追加の励起が1つ以上の追加の一次六極子の少なくとも1つに印加されると、組み合わせ4次収差に寄与する追加の六極子場が発生する、パラグラフB15の補正器。
B1.荷電粒子システムにおける軸収差を補正するための補正器であって、
第1の一次多極子であって、第1の励起が第1の一次多極子に印加されるときに、第1の一次多極子場を生成する、第1の一次多極子と、
第2の一次多極子であって、第2の励起が第2の一次多極子に印加されるときに、第2の一次多極子場を生成し、荷電粒子システム内で補正器が使用されるときに、第2の一次多極子が、第1の一次多極子と球面収差の発生源であるレンズとの間に配置され、第1の一次多極子が、第2の一次多極子上に画像化されないため、組み合わせ4次収差が発生する、第2の一次多極子と、
4次収差および6次収差を補正するための二次多極子であって、二次多極子が、荷電粒子システム内で補正器が使用されるときに、第2の一次多極子とレンズとの間に配置される、二次多極子と、を備える、補正器。
第1の一次多極子であって、第1の励起が第1の一次多極子に印加されるときに、第1の一次多極子場を生成する、第1の一次多極子と、
第2の一次多極子であって、第2の励起が第2の一次多極子に印加されるときに、第2の一次多極子場を生成し、荷電粒子システム内で補正器が使用されるときに、第2の一次多極子が、第1の一次多極子と球面収差の発生源であるレンズとの間に配置され、第1の一次多極子が、第2の一次多極子上に画像化されないため、組み合わせ4次収差が発生する、第2の一次多極子と、
4次収差および6次収差を補正するための二次多極子であって、二次多極子が、荷電粒子システム内で補正器が使用されるときに、第2の一次多極子とレンズとの間に配置される、二次多極子と、を備える、補正器。
B1.0.1.球面収差の主な発生源となるレンズが、粒子光学レンズである、パラグラフB1の補正器。
B1.0.2.レンズは、荷電粒子顕微鏡システム内で補正器が使用されるときに、対物レンズとして作用する、パラグラフB1〜B1.0.1のいずれかの補正器。
B1.0.3.レンズは、荷電粒子顕微鏡システム内で補正器が使用されるときに、球面収差の主な発生源である、パラグラフB1〜B1.0.2のいずれかの補正器。
B1.0.4.荷電粒子システムが、荷電粒子顕微鏡システムである、パラグラフB1〜B1.0.3のいずれかの補正器。
B1.0.5.荷電粒子システムが、電子顕微鏡システムである、パラグラフB1〜B1.0.4のいずれかの補正器。
B1.1.二次多極子は、第3の励起が二次多極子に印加されるときに、第3の多極子場を生成するように構成される、パラグラフB1〜B1.0.1のいずれかの補正器。
B1.1.1.第3の多極子場が、4次収差および6次収差を補正する1つ以上の収差を発生させる、パラグラフB1.1の補正器。
B1.2.8次収差を補正するための三次多極子をさらに備え、三次多極子は、荷電粒子システム内で補正器が使用されるときに、二次多極子とレンズとの間に配置される、パラグラフB1の補正器。
B1.2.1.三次多極子は、第4の励起が三次多極子に印加されるときに、第4の多極子場を生成するように構成される、パラグラフB1.2の補正器。
B1.2.1.1.第4の多極子場が、8次収差を補正する1つ以上の収差を発生させる、パラグラフB1.2.1の補正器。
B1.2.1.1.1.第4の六極子場が、8次収差を補正する1つ以上の組み合わせ収差(例えば、一次組み合わせ収差、二次組み合わせ収差など)を発生させる、パラグラフB1.2.1.1の補正器。
B2.二次多極子が、4次収差を補正する1.1次組み合わせ収差を生成する2次収差を生成する、パラグラフB1〜B1.1.1のいずれかの補正器。
B2.1.第1の組み合わせ収差が、一次組み合わせ収差を含むか、または一次組み合わせ収差に対応する、パラグラフB2の補正器。
B2.2.第1の組み合わせ収差が、二次組み合わせ収差を含むか、または二次組み合わせ収差に対応する、パラグラフB2の補正器。
B3.二次多極子は、荷電粒子顕微鏡の光学カラムに配置されたときに、補正器と対物レンズとの間のドリフト空間によって発生する位置収差が、二次多極子によって生成される追加の収差と組み合わされて、6次収差を補正する第2の組み合わせ収差を形成するように構成される、パラグラフB1〜B2.2のいずれかの補正器。
B3.1.第1の組み合わせ収差が、一次組み合わせ収差を含むか、または一次組み合わせ収差に対応する、パラグラフB3の補正器。
B3.2.第1の組み合わせ収差が、二次組み合わせ収差を含むか、または二次組み合わせ収差に対応する、パラグラフB3の補正器。
B4.第1の一次多極子の寄与、第2の一次多極子の寄与、および第1の一次多極子と第2の一次多極子との間の任意の伝達光学系の寄与が相殺されない、パラグラフB1〜B3.2のいずれかの補正器。
B4.1.第1の励起は、第1の一次多極子に印加されるときに、第1の一次多極子に第1の一次多極子場を生成させる励起電圧に対応する、パラグラフB4の補正器。
B4.2.第1の励起は、第1の一次多極子に印加されるときに、第1の一次多極子に第1の一次多極子場を生成させる励起電流に対応する、パラグラフB4の補正器。
B4.3.第2の励起が第1の励起よりも大きい、パラグラフB4〜B4.2のいずれかの補正器。
B4.4.第1の一次多極子の寄与、第2の一次多極子の寄与、および第1の一次多極子と第2の一次多極子との間の任意の伝達光学系の寄与が、3倍非点収差A2および4次スリーローブ収差D4を生成する、パラグラフB4〜B4.3のいずれかの補正器。
B5.第2の一次多極子上に画像化されていない第1の一次多極子が、第1の一次多極子が第2の一次多極子上に画像化される位置からの軸に沿った第1の一次多極子の第1の変位に対応する、パラグラフB1〜B4.4のいずれかの補正器。
B5.1.第1の変位が0.1mm、0.5mm、1mmまたはそれ以上である、パラグラフB5の補正器。
B5.2.第1の変位が2つの一次多極子間の距離の0.1%、0.5%、または1%以上である、パラグラフB5の補正器。
B6.第2の一次多極子上に画像化されていない第1の一次多極子が、第1の一次多極子が第2の一次多極子上に画像化される位置からの軸に沿った第2の一次多極子の第2の変位に対応する、パラグラフB1〜B5.2のいずれかの補正器。
B6.1.第2の変位が0.1mm、0.5mm、1mmまたはそれ以上である、パラグラフB6の補正器。
B6.2.第1の変位が2つの一次多極子間の距離の0.1%、0.5%、または1%以上である、パラグラフB6の補正器。
B7.第1の変位が第2の変位と同じ大きさである、B5〜B5.1に依存する場合の、パラグラフB6〜B6.2のいずれかの補正器。
B8.第1の変位は第2の変位と対向する方向である、B5〜B5.1に依存する場合の、パラグラフB6〜B7のいずれかの補正器。
B9.多極子上に画像化されていない第1の一次多極子が、発散角または収束角のうちの1つで第1の一次多極子に入射するビームに対応する、パラグラフB1〜B4のいずれかの補正器。
B9.1.多極子上に画像化されていない第1の一次多極子が、補正器の上流のレンズのうちの1つ以上のレンズ励起に対応し、ビームが発散角または収束角のうちの1つで第1の一次多極子に入射する、パラグラフB9の補正器。
B9.2.非平行角度で第1の一次多極子に入射するビームが、発散角で第1の一次多極子に入射するビームに対応する、パラグラフB9の補正器。
B10.第1の一次多極子と第2の一次多極子との間の1つ以上の転写レンズのセットをさらに含む、パラグラフB1〜B9.1のいずれかの補正器。
B11.第1の一次多極子と第2の一次多極子の間に配置された第3の多極子をさらに含む、パラグラフB1〜B9.1のいずれかの補正器。
B11.1.第1の一次多極子と第3の多極子との間の1つ以上の転写レンズの第1のセットと、第3の多極子と第2の一次多極子との間の1つ以上の転写レンズの第2のセットとをさらに含む、パラグラフB1の補正器。
B11.2.第1の一次多極子と第2の一次多極子の間に配置された第3の一次多極子が、第3の一次多極子である、パラグラフB11〜B11.1のいずれかの補正器。
B11.3.第1の一次多極子と第2の一次多極子の間に配置された第3の多極子が、弱い中間多極子である、パラグラフB11〜B11.2のいずれかの補正器。
B12.第1の一次多極子の上流に配置された第3の多極子をさらに含む、パラグラフB1〜B11.3のいずれかの補正器。
B12.1.第3の多極子と第1の一次多極子との間の1つ以上の転写レンズの第1のセットと、第1の一次多極子と第2の一次多極子との間の1つ以上の転写レンズの第2のセットとをさらに含む、パラグラフB2の補正器。
B13.第2の一次多極子と二次多極子の間に配置された第3の多極子をさらに含む、パラグラフB1〜B9.1のいずれかの補正器。
B13.1.第1の一次多極子と第2の一次多極子との間の1つ以上の転写レンズの第1のセットと、第2の一次多極子と第3の多極子との間の1つ以上の転写レンズの第2のセットとをさらに含む、パラグラフB13の補正器。
B14.多極子が六極子である、パラグラフB1〜B13.1の補正器。
B14.第1の一次多極子の第1の長さが、第2の一次多極子の第2の長さとは異なる、パラグラフB1〜B13.1のいずれかの補正器。
B14.1.第2の長さが第1の長さよりも大きい、パラグラフB14の補正器。
B15.1つ以上の追加の一次多極子をさらに含む、パラグラフB1〜B14.1のいずれかの補正器。
B15.1.追加の励起が1つ以上の追加の一次多極子の少なくとも1つに印加されると、組み合わせ4次収差に寄与する追加の多極子場が発生する、パラグラフB15の補正器。
C1.荷電粒子システムにおける軸収差を補正するための補正器であって、
第1の一次多極子であって、第1の励起が第1の一次多極子に印加されるときに、第1の一次多極子場を生成する、第1の一次多極子と、
第2の一次多極子であって、第2の励起が第2の一次多極子に印加されるときに、第2の一次多極子場を生成し、荷電粒子システム内で補正器が使用されるときに、第2の一次多極子が、第1の一次多極子と球面収差の発生源であるレンズとの間に配置され、第1の一次多極子が、第2の一次多極子上に画像化される、第2の一次多極子と、
第3の励起が二次多極子に印加されるときに第3の多極子場を生成するための二次多極子であって、二次多極子が、荷電粒子システム内で補正器が使用されるときに、第2の一次多極子とレンズとの間に配置される、二次多極子と、
第4の励起が三次多極子に印加されるときに第4の多極子場を生成するための三次多極子であって、三次多極子が、荷電粒子システム内で補正器が使用されるときに、第2の多極子とレンズとの間に配置され、第4の多極子場が、6次収差を補正する、三次多極子と、を備える、補正器。
第1の一次多極子であって、第1の励起が第1の一次多極子に印加されるときに、第1の一次多極子場を生成する、第1の一次多極子と、
第2の一次多極子であって、第2の励起が第2の一次多極子に印加されるときに、第2の一次多極子場を生成し、荷電粒子システム内で補正器が使用されるときに、第2の一次多極子が、第1の一次多極子と球面収差の発生源であるレンズとの間に配置され、第1の一次多極子が、第2の一次多極子上に画像化される、第2の一次多極子と、
第3の励起が二次多極子に印加されるときに第3の多極子場を生成するための二次多極子であって、二次多極子が、荷電粒子システム内で補正器が使用されるときに、第2の一次多極子とレンズとの間に配置される、二次多極子と、
第4の励起が三次多極子に印加されるときに第4の多極子場を生成するための三次多極子であって、三次多極子が、荷電粒子システム内で補正器が使用されるときに、第2の多極子とレンズとの間に配置され、第4の多極子場が、6次収差を補正する、三次多極子と、を備える、補正器。
C1.0.1.球面収差の主な発生源となるレンズが、粒子光学レンズである、パラグラフC1の補正器。
レンズは、荷電粒子顕微鏡システム内で補正器が使用されるときに、対物レンズとして作用する、パラグラフC1〜C1.0.1のいずれかの補正器。
C1.0.3.レンズは、荷電粒子顕微鏡システム内で補正器が使用されるときに、球面収差の主な発生源である、パラグラフC1〜C1.0.2のいずれかの補正器。
C1.0.4.荷電粒子システムが、荷電粒子顕微鏡システムである、パラグラフC1〜C1.0.3のいずれかの補正器。
C1.0.5.荷電粒子システムが、電子顕微鏡システムである、パラグラフC1〜C1.0.4のいずれかの補正器。
C1.1.8次収差を補正するための四次多極子をさらに備え、四次多極子は、荷電粒子顕微鏡システム内で補正器が使用されるときに、三次多極子と粒子光学レンズとの間に配置される、パラグラフC1〜C1.0.1のいずれかの補正器。
C1.1.1.四次多極子は、第5の励起が四次多極子に印加されるときに、第5の多極子場を生成するように構成される、パラグラフC1.1の補正器。
C1.1.1.1.第5の多極子場が、8次収差を補正する1つ以上の収差を発生させる、パラグラフC1.1.1の補正器。
C2.第1の一次多極子の寄与、第1の一次多極子の寄与、および第1の一次多極子と第2の一次多極子との間の任意の伝達光学系の寄与が相殺されない、パラグラフC1〜C1.1.1.1のいずれかの補正器。C2.1.第1の励起は、第1の一次多極子に印加されるときに、第1の一次多極子に第1の一次多極子場を生成させる励起電圧に対応する、パラグラフC2の補正器。
C2.2.第1の励起は、第1の一次多極子に印加されるときに、第1の一次多極子に第1の一次多極子場を生成させる励起電流に対応する、パラグラフC2の補正器。
C2.3.第2の励起が第1の励起よりも大きい、パラグラフC2〜C2.2のいずれかの補正器。
C2.4.第1の一次多極子の寄与、第2の一次多極子の寄与、および第1の一次多極子と第2の一次多極子との間の任意の伝達光学系の寄与が、3倍非点収差A2および4次スリーローブ収差D4を生成する、パラグラフC2〜C2.3のいずれかの補正器。
C3.第1の一次多極子と第2の一次多極子との間の1つ以上の転写レンズのセットをさらに含む、パラグラフC1〜C2.4のいずれかの補正器。
C4.第1の一次多極子と第2の一次多極子の間に配置された第3の多極子をさらに含む、パラグラフC1〜C3のいずれかの補正器。
C5.多極子が六極子である、パラグラフC1〜C5の補正器。
C6.第1の一次多極子の第1の長さが、第2の一次多極子の第2の長さとは異なる、パラグラフC1〜C5のいずれかの補正器。
C6.1.第2の長さが第1の長さよりも大きい、パラグラフC6の補正器。
D1.試料に向けて荷電粒子ビームを放出するように構成された荷電粒子源と、荷電粒子ビームを試料上に集束するように構成された光学カラムであって、パラグラフA1〜A13.1、B1〜B14、またはC1〜C5のいずれかの補正器を含む光学カラムと、を備える、荷電粒子顕微鏡。
E1.パラグラフA1〜A13.1、B1〜B14、またはC1〜C5のいずれかの補正器の使用。
F1.パラグラフD1の荷電粒子顕微鏡の使用。
Claims (15)
- 荷電粒子システムにおける軸収差を補正するための補正器であって、
第1の一次多極子であって、第1の励起が前記第1の一次多極子に印加されるときに、第1の一次多極子場を生成する、第1の一次多極子と、
第2の一次多極子であって、第2の励起が前記第2の一次多極子に印加されるときに、第2の一次多極子場を生成し、前記荷電粒子システムで使用されるときに、前記第2の一次多極子が、前記第1の一次多極子と球面収差の発生源であるレンズとの間に配置され、前記第1の一次多極子が、前記第2の一次多極子上に画像化されないため、組み合わせ4次収差が発生する、第2の一次多極子と、
前記4次収差および6次収差を補正するための二次多極子であって、前記二次多極子が、前記荷電粒子システムで使用されるときに、前記第2の一次多極子と前記レンズとの間に配置される、二次多極子と、を備える、補正器。 - 前記二次多極子が、3倍非点収差A2を補正するようにさらに構成される、請求項1に記載の補正器。
- 前記二次多極子は、
第3の励起が前記二次多極子に印加されるときに、前記二次多極子が第3の多極子場を生成し、
前記第3の多極子場が、前記4次収差および前記6次収差を補正する1つ以上の収差を発生させるように構成される、請求項1に記載の補正器。 - 前記二次多極子が、前記4次収差を補正する組み合わせ収差を発生させる2次収差を発生させる、請求項1に記載の補正器。
- 前記第1の励起および前記第2の励起は、前記第1の一次多極子場によって生成される3倍非点収差A2への第1の寄与および前記第2の一次多極子場によって生成される前記3倍非点収差A2への第2の寄与が相殺されないような励起である、請求項1に記載の補正器。
- 前記第2の一次多極子上に画像化されていない前記第1の一次多極子が、前記補正器が使用されているときに、発散角または収束角のうちの1つで前記第1の一次多極子に入射する荷電粒子ビームを含む、請求項1に記載の補正器。
- 前記第2の一次多極子上に画像化されていない前記第1の一次多極子は、前記補正器が使用されているときに、荷電粒子ビームが発散角または収束角のうちの1つで前記第1の一次多極子に入射するように、前記補正器の上流のレンズのうちの1つ以上のレンズ励起を含む、請求項1に記載の補正器。
- 前記第2の一次多極子上に画像化されていない前記第1の一次多極子が、前記第1の一次多極子と前記第2の一次多極子との間に配置されたレンズのうちの1つ以上のレンズ励起に対応する、請求項1に記載の補正器。
- 前記第1の一次多極子および前記第2の一次多極子が、それぞれ六極子である、請求項1に記載の補正器。
- 8次収差を補正するための三次多極子をさらに備え、前記三次多極子が、前記荷電粒子システムで使用されるときに、前記二次多極子と前記レンズとの間に配置される、請求項1〜9のいずれか一項に記載の補正器。
- 前記三次多極子は、
第4の励起が前記三次多極子に印加されるときに、第4の多極子場が生成され、
前記第4の多極子場が、前記8次収差を補正する1つ以上の収差を発生させるように構成される、請求項10に記載の補正器。 - 前記第2の一次多極子上に画像化されていない前記第1の一次多極子は、前記第1の一次多極子が前記第2の一次多極子上に画像化される位置からの中心軸に沿った前記第1の一次多極子または前記第2の一次多極子のうちの一方の第1の変位に対応する、請求項1〜11のいずれか一項に記載の補正器。
- 前記第2の一次多極子上に画像化されていない前記第1の一次多極子は、前記第1の一次多極子が前記第2の一次多極子上に画像化される位置からの中心軸に沿った前記第1の一次多極子または前記第2の一次多極子のうちの他方の第2の変位にさらに対応する、請求項12に記載の補正器。
- 前記第1の変位が、前記第2の変位と対向する方向である、請求項13に記載の補正器。
- 試料に向けて荷電粒子ビームを放出するように構成された荷電粒子源と、
前記荷電粒子ビームを前記試料上に集束するように構成された光学カラムと、を備える荷電粒子システムであって、前記光学カラムが、球面収差の発生源であるレンズの軸収差を補正するために、請求項1〜14のいずれか一項に記載の前記補正器を含む、荷電粒子システム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/692,851 | 2019-11-22 | ||
US16/692,851 US11114271B2 (en) | 2019-11-22 | 2019-11-22 | Sixth-order and above corrected STEM multipole correctors |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021082593A true JP2021082593A (ja) | 2021-05-27 |
Family
ID=73455550
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020193431A Pending JP2021082593A (ja) | 2019-11-22 | 2020-11-20 | 6次以上の補正stem多極子補正器 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11114271B2 (ja) |
EP (1) | EP3826048A1 (ja) |
JP (1) | JP2021082593A (ja) |
CN (1) | CN112837983A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023188294A1 (ja) * | 2022-03-31 | 2023-10-05 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20240047170A1 (en) * | 2022-08-08 | 2024-02-08 | Fei Company | Simple Spherical Aberration Corrector for SEM |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7378667B2 (en) | 2005-04-05 | 2008-05-27 | Fei Company | Particle-optical appliance provided with aberration-correcting means |
EP2325862A1 (en) | 2009-11-18 | 2011-05-25 | Fei Company | Corrector for axial aberrations of a particle-optical lens |
JP6843794B2 (ja) | 2018-03-30 | 2021-03-17 | 日本電子株式会社 | 収差補正装置および荷電粒子線装置 |
-
2019
- 2019-11-22 US US16/692,851 patent/US11114271B2/en active Active
-
2020
- 2020-11-17 EP EP20207973.7A patent/EP3826048A1/en active Pending
- 2020-11-20 CN CN202011306965.5A patent/CN112837983A/zh active Pending
- 2020-11-20 JP JP2020193431A patent/JP2021082593A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023188294A1 (ja) * | 2022-03-31 | 2023-10-05 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11114271B2 (en) | 2021-09-07 |
US20210159044A1 (en) | 2021-05-27 |
EP3826048A1 (en) | 2021-05-26 |
CN112837983A (zh) | 2021-05-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Rose | Optics of high-performance electron microscopes | |
JP5623719B2 (ja) | 荷電粒子線装置の色収差補正装置及びその補正方法 | |
JP4896877B2 (ja) | 収差補正装置及び収差補正装置を操作するための方法 | |
US6246058B1 (en) | Correction device for correcting chromatic aberration in particle-optical apparatus | |
JP5545869B2 (ja) | 荷電粒子線の軸合わせ方法及び荷電粒子線装置 | |
JP2021082593A (ja) | 6次以上の補正stem多極子補正器 | |
Rose | Outline of an ultracorrector compensating for all primary chromatic and geometrical aberrations of charged-particle lenses | |
EP0981829A1 (en) | Electrostatic device for correcting chromatic aberration in a particle-optical apparatus | |
US9472373B1 (en) | Beam separator device, charged particle beam device and methods of operating thereof | |
Dohi et al. | Design for an aberration corrected scanning electron microscope using miniature electron mirrors | |
Weißbäcker et al. | Electrostatic correction of the chromatic and of the spherical aberration of charged‐particle lenses | |
JP4343951B2 (ja) | 荷電粒子ビーム系用の単段式荷電粒子ビームエネルギー幅低減系 | |
Munro et al. | Simulation software for designing electron and ion beam equipment | |
US11239045B1 (en) | Method and system for correcting two-fold, fifth-order parasitic aberrations in charged particle systems | |
US20240047169A1 (en) | Simple Spherical Aberration Corrector for SEM | |
US20240047170A1 (en) | Simple Spherical Aberration Corrector for SEM | |
US9349566B1 (en) | Charged particle beam device, beam deflector device and methods of operating thereof | |
JP7425897B2 (ja) | 収差補正装置及び電子顕微鏡 | |
JP2002025489A (ja) | 荷電粒子線投影系に用いる、最適化された曲線軸を有するダブレット | |
Rose et al. | Gaussian Optics | |
Matsuya et al. | Resolution estimation of low electron energy probe lens system | |
JP2007242490A (ja) | 荷電粒子線光学系用の収差補正光学装置及び光学系 | |
Rose et al. | Aberrations |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20231106 |