JP2021067869A - 位相差層付き偏光子、偏光子複合体、及び光学積層体 - Google Patents

Abstract

【課題】新規な偏光子を備える位相差層付き偏光子、偏光子複合体、及び光学積層体を提供する。【解決手段】位相差層付き偏光子は、偏光子と、偏光子の一方の面側に設けられた位相差層と、を有する。偏光子は、厚みが１５μｍ以下の偏光領域と、平面視において偏光領域に囲まれた非偏光領域とを有する。非偏光領域は、平面視において偏光領域に囲まれた貫通穴に、活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物が設けられた領域である。【選択図】図１

Description

本発明は、位相差層付き偏光子、偏光子複合体、及び光学積層体に関する。

偏光子は、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置等の表示装置における偏光の供給素子として、また偏光の検出素子として広く用いられている。偏光子を備えた表示装置は、ノート型パーソナルコンピュータや携帯電話等のモバイル機器にも展開されており、表示目的の多様化、表示区分の明確化、装飾化等への要求から、透過率の異なる領域を有する偏光子が要求されている。特にスマートフォンやタブレット型端末に代表される中小型の携帯端末においては、装飾性の観点から全面にわたって境目のないデザインとするため、表示面全面に偏光子を貼り合わせることがある。この場合、カメラレンズの領域、画面下のアイコン又はロゴ印刷の領域にも偏光子が重なることがあるため、カメラの感度が悪くなったり、意匠性に劣ったりするという問題がある。

例えば特許文献１には、偏光板に含まれる偏光子に二色性物質の含有量が相対的に低い二色性物質低濃度部を部分的に設け、この二色性物質低濃度部に対応させてカメラを配置することにより、カメラ性能に悪影響を与えないようにすることが記載されている。

特開２０１５−２１５６０９号公報

特許文献１では、二色性物質を含む樹脂フィルムに塩基性溶液を接触させるという化学処理を施すことにより、樹脂フィルムを部分的に脱色して二色性物質低濃度部を形成している。脱色のために用いた塩基性溶液は、廃液として処理するために手間やコストを要する。また、特許文献１には、二色性物質としてのヨウ素を用いた場合に塩基性溶液を接触させることにより、ヨウ素の含有量を低減して二色性物質低濃度部を形成できることが記載されている。しかしながら、ヨウ素以外の二色性物質を用いた場合に二色性物質低濃度部を形成する具体的な方法については開示がない。

本発明は、脱色等の化学処理によって二色性物質の含有量の少ない領域を形成した偏光子に代わる、新規な偏光子を備える位相差層付き偏光子、偏光子複合体、及び光学積層体の提供を目的とする。

本発明は、以下の位相差層付き偏光子、偏光子複合体、及び光学積層体を提供する。
〔１〕 偏光子と、前記偏光子の一方の面側に設けられた位相差層と、を有する位相差層付き偏光子であって、
前記偏光子は、厚みが１５μｍ以下の偏光領域と、平面視において前記偏光領域に囲まれた非偏光領域と、を有し、
前記非偏光領域は、平面視において前記偏光領域に囲まれた貫通穴に、活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物が設けられた領域である、位相差層付き偏光子。
〔２〕 前記位相差層は、位相差特性を有し且つ前記偏光領域に対応する領域に存在する位相差領域と、位相差特性を有さず且つ前記非偏光領域に対応する領域に存在する非位相差領域と、を有し、
前記非偏光領域及び前記非位相差領域は、活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物を含み、
前記非位相差領域は、平面視において前記位相差領域に囲まれた貫通穴に、活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物が設けられた領域である、〔１〕に記載の位相差層付き偏光子。
〔３〕 前記硬化物の厚みは、前記位相差層付き偏光子における前記偏光領域及び前記位相差領域を含む積層構造部分の厚みと同じである、〔２〕に記載の位相差層付き偏光子。
〔４〕 前記硬化物の厚みは、前記位相差層付き偏光子における前記偏光領域及び前記位相差領域を含む積層構造部分の厚みよりも小さい、〔２〕に記載の位相差層付き偏光子。
〔５〕 前記硬化物の厚みは、前記位相差層付き偏光子における前記偏光領域及び前記位相差領域を含む積層構造部分の厚みよりも大きい、〔２〕に記載の位相差層付き偏光子。
〔６〕 前記位相差領域は、重合性液晶化合物の重合硬化層である、〔２〕〜〔５〕のいずれかに記載の位相差層付き偏光子。
〔７〕 前記非偏光領域は、透光性を有する、〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の位相差層付き偏光子。
〔８〕前記非偏光領域の平面視における径は、０．５ｍｍ以上２０ｍｍ以下である、〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の位相差層付き偏光子。
〔９〕 前記活性エネルギー線硬化性樹脂は、エポキシ化合物を含む、〔１〕〜〔８〕のいずれかに記載の位相差層付き偏光子。
〔１０〕 前記エポキシ化合物は、脂環式エポキシ化合物を含む、〔９〕に記載の位相差層付き偏光子。
〔１１〕 〔１〕〜〔１０〕のいずれかに記載の位相差層付き偏光子と、前記位相差層付き偏光子の少なくとも一方の面側に設けられた補強材と、を有する偏光子複合体であって、
前記補強材は、各開口端面が前記偏光子の面に対向するように配列した複数のセルを有する、偏光子複合体。
〔１２〕 前記セルの前記開口の形状は、多角形状、円形状、又は楕円形状である、〔１１〕に記載の偏光子複合体。
〔１３〕 さらに、前記セルの内部空間に透光性の充填材が設けられている、〔１２〕に記載の偏光子複合体。
〔１４〕 〔１〕〜〔１０〕のいずれかに記載の位相差層付き偏光子、又は〔１１〕〜〔１３〕のいずれかに記載の偏光子複合体の片面側又は両面側に保護層を有する、光学積層体。
〔１５〕 前記保護層は、前記偏光子上に設けられた活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物層である、〔１４〕に記載の光学積層体。
〔１６〕 前記保護層を構成する活性エネルギー線硬化性樹脂は、前記非偏光領域に含まれる前記硬化物を構成する活性エネルギー線硬化性樹脂と同じ活性エネルギー線硬化性樹脂である、〔１５〕に記載の光学積層体。

本発明によれば、新規な偏光子を備える位相差層付き偏光子、偏光子複合体、及び光学積層体を提供することができる。

（ａ）は、本発明の位相差層付き偏光子の一例を模式的に示す偏光子側の概略平面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示す位相差層付き偏光子のｚ−ｚ’断面図である。 （ａ）〜（ｅ）は、本発明の位相差層付き偏光子の他の一例を模式的に示す概略断面図である。 （ａ）及び（ｂ）は、位相差層付き偏光子の非偏光領域及び非位相差領域周辺の断面の一例を模式的に示す図であって、非偏光領域及び非位相差領域に設けられた硬化物の厚みを決定する方法を説明するための説明図である。 （ａ）〜（ｄ）は、本発明の位相差層付き偏光子の製造方法の一例を模式的に示す概略断面図である。 （ａ）及び（ｂ）は、図４に示す位相差層付き偏光子の製造方法の続きを模式的に示す概略断面図である。 （ａ）〜（ｄ）は、本発明の位相差層付き偏光子の製造方法の他の一例を模式的に示す概略断面図である。 （ａ）〜（ｄ）は、図６に示す位相差層付き偏光子の製造方法の続きを模式的に示す概略断面図である。 （ａ）は、本発明の偏光子複合体の一例を模式的に示す概略断面図であり、（ｂ）は、偏光子複合体の補強材側の概略平面図である。 本発明の偏光子複合体の他の一例を模式的に示す概略断面図である。 （ａ）及び（ｂ）は、本発明の光学積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。 （ａ）及び（ｂ）は、本発明の光学積層体の他の一例を模式的に示す概略断面図である。 （ａ）及び（ｂ）は、本発明の光学積層体のさらに他の一例を模式的に示す概略断面図である。

以下、図面を参照して本発明の位相差層付き偏光子、偏光子複合体、及び光学積層体の好ましい実施形態について説明する。以下のすべての図面においては、各構成要素を理解しやすくするために縮尺を適宜調整して示しており、図面に示される各構成要素の縮尺と実際の構成要素の縮尺とは必ずしも一致しない。

＜位相差層付き偏光子＞
（位相差層付き偏光子（１））
図１（ａ）は、本実施形態の位相差層付き偏光子の一例を模式的に示す偏光子側の概略平面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示す位相差層付き偏光子のｚ−ｚ’断面図である。図１（ａ）及び（ｂ）に示す位相差層付き偏光子４０は、偏光子１０と、偏光子１０の一方の面側に設けられた位相差層７０とを有する。

位相差層付き偏光子４０が有する偏光子１０は、図１（ａ）に示すように、偏光領域１１と非偏光領域１２とを有する。偏光領域１１の厚みは、１５μｍ以下である。非偏光領域１２は、偏光子１０の平面視において偏光領域１１に囲まれた領域である。非偏光領域１２は、平面視において、偏光領域１１に囲まれた貫通穴２２に、活性エネルギー線硬化性樹脂（以下、「硬化性樹脂（Ｘ）」ということがある。）の硬化物が設けられた領域である。

偏光領域１１の厚みは、１５μｍ以下であり、１３μｍ以下であってもよく、１０μｍ以下であってもよく、８μｍ以下であってもよく、５μｍ以下であってもよく、通常１μｍ以上である。偏光領域１１の厚みが上記範囲を超えると、非偏光領域１２に、後述する硬化性樹脂（Ｘ）を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を設けるための作業性が低下しやすい。また、偏光領域１１が上記範囲未満である場合、所望の光学特性を得ることが難しくなる。偏光領域１１の厚みは、例えば接触式膜厚測定装置（ＭＳ−５Ｃ、株式会社ニコン製）を用いて測定することができる。

偏光子１０における偏光領域１１及び非偏光領域１２の配置は、偏光領域１１が非偏光領域１２を取り囲むように設けられていれば特に限定されない。偏光子１０の平面視において、偏光領域１１が占有する総面積は、非偏光領域１２が占有する総面積よりも大きいことが好ましい。偏光子１０は、非偏光領域１２を１つ有していればよく、非偏光領域１２を２つ以上有していてもよい。非偏光領域１２を２つ以上有する場合、それぞれの非偏光領域１２の形状は互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。

位相差層７０は、全体が位相差特性を有する位相差領域からなる。位相差領域とは、波長５９０ｎｍの波長において、面内位相差値（Ｒ０）及び厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）のうちの少なくとも一方が４０ｎｍ超である領域をいう。

面内位相差値（Ｒ０）は、位相差層７０の厚み方向とは垂直な方向（面内方向）の位相差値であり、下式（Ｉ）によって求めることができる。厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）は、位相差層７０の厚み方向の位相差値であり、下式（ＩＩ）によって求めることができる。面内位相差値（Ｒ０）及び厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）は、いずれも温度２３℃における波長５９０ｎｍの光で測定される。
Ｒ０＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄ （Ｉ）
Ｒｔｈ＝［｛（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２｝−Ｎｚ］×ｄ （ＩＩ）
［式（Ｉ）及び式（ＩＩ）中、
Ｎｘは、面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、
Ｎｙは、面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、
Ｎｚは、厚さ方向の屈折率であり、
ｄは、位相差層の厚み［ｎｍ］である。］
面内位相差値（Ｒ０）及び厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）は、例えば、王子計測機器社製の複屈折測定装置（商品名ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ）により測定することができる。

位相差層７０が有する位相差特性は特に限定されない。位相差層７０は、例えば１／４波長板、１／２波長板、逆波長分散性の１／４波長板、又は、ポジティブＣ板として機能する位相差特性を有することができる。

位相差層７０の厚みは特に限定されないが、３０μｍ以下であり、２０μｍ以下であってもよく、１５μｍ以下であってもよく、１３μｍ以下であってもよく、１０μｍ以下であってもよく、８μｍ以下であってもよく、５μｍ以下であってもよく、通常１μｍ以上である。

位相差層７０の形成には、後述する原料位相差層を用いることができる。位相差層７０は、例えば、熱可塑性樹脂を一軸延伸又は二軸延伸した延伸フィルム、又は重合性液晶性化合物の重合硬化層等である。

位相差層７０は、偏光子１０の一方の面側に、図示しない貼合層を介して設けることができる。貼合層としては、粘着剤層又は接着剤層が挙げられる。粘着剤層を形成するための粘着剤及び接着剤層を形成するための接着剤としては、例えば、後述する充填材を構成するために用いる粘着剤及び接着剤が挙げられる。位相差層付き偏光子４０は、偏光子１０の一方の面側に１層の位相差層を有していてもよく、２層以上の位相差層を有していてもよい。２層以上の位相差層を有する場合、位相差層は互いに貼合層を介して積層することができ、位相差特性は互いに同じであってもよく互いに異なっていてもよい。

位相差層付き偏光子４０では、図１（ａ）に示すように、平面視において偏光領域１１に囲まれた非偏光領域１２を有する。そのため、位相差層付き偏光子４０をスマートフォンやタブレット型端末等に展開される液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等の表示装置に適用する際に、非偏光領域１２に対応させて、カメラレンズ、アイコン又はロゴ等の印刷部を配置することにより、カメラの感度の低下及び意匠性の低下を抑制することができる。

位相差層付き偏光子４０では、非偏光領域１２が硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を含むことにより、偏光子１０の貫通穴２２を中実とすることができる。位相差層付き偏光子４０が有する偏光子１０は厚みは１５μｍ以下と薄いため、非偏光領域１２に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物が設けられておらず貫通穴２２が中空の状態であると、表示装置に適用した際等に曝される温度変化に伴う偏光子の収縮によって貫通穴２２の周辺にクラックが発生したりする等の不具合を生じる虞がある。これに対し、位相差層付き偏光子４０が有する偏光子１０のように、貫通穴２２に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物が設けられることによって非偏光領域１２を中実とすることができるため、上記の不具合の発生を抑制することができる。

（位相差層付き偏光子（２））
図２（ａ）〜（ｅ）は、本実施形態の位相差層付き偏光子の他の一例を模式的に示す概略断面図である。図２（ａ）〜（ｅ）に示す位相差層付き偏光子４１は、偏光子１０と、偏光子１０の一方の面側に設けられた位相差層７１とを有する。偏光子１０については、上記で説明したとおりである。

位相差層７１は、図２（ａ）〜（ｅ）に示すように、位相差特性を有する位相差領域７５と、位相差特性を有さない非位相差領域７６とを有する。位相差領域７５は、図１に示す位相差層７０で説明したように波長５９０ｎｍの波長において、面内位相差値（Ｒ０）及び厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）のうちの少なくとも一方が４０ｎｍ超である領域をいう。非位相差領域７６とは、波長５９０ｎｍの波長において、面内位相差値（Ｒ０）及び厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）がそれぞれ４０ｎｍ以下である領域をいう。面内位相差値（Ｒ０）及び厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）の算出及び測定は、上記した方法で行うことができる。

位相差層付き偏光子４１に含まれる位相差層７１において、位相差領域７５は偏光子１０の偏光領域１１に対応する領域に存在し、非位相差領域７６は偏光子１０の非偏光領域１２に対応する領域に存在する。ここで、位相差領域７５が偏光領域１１に対応する領域に存在するとは、平面視方向において、位相差領域７５及び偏光領域１１が互いに略同形状、略同寸法であることをいい、同様に、非位相差領域７６が非偏光領域１２に対応する領域にあるとは、平面視方向において、非位相差領域７６及び非偏光領域１２が略同じ位置に、略同形状、略同寸法（径）であることをいう。換言すれば、非位相差領域７６を、平面視方向で、偏光子１０に投影したとき、非位相差領域７６の投影領域と、当該偏光子１０にある非偏光領域１２とが略同一であることをいう。後述する位相差層付き偏光子の製造手段によれば、位相差領域７５が偏光領域１１に対応する領域に存在する位相差層付き偏光子を、効率的に製造できる。位相差層付き偏光子４１に含まれる偏光子１０が２つ以上の非偏光領域１２を有する場合、少なくとも１つの非偏光領域１２に対応する領域に非位相差領域７６が存在していればよく、他の非偏光領域１２に対応する領域には位相差領域７５が存在していてもよい。

位相差層７１は、偏光子１０の一方の面側に、図示しない貼合層を介して設けることができる。貼合層としては、粘着剤層又は接着剤層が挙げられる。位相差層付き偏光子４１は、偏光子１０の一方の面側に１層の位相差層を有していてもよく、２層以上の位相差層を有していてもよい。２層以上の位相差層を有する場合、位相差層は互いに貼合層を介して積層することができ、位相差特性は互いに同じであってもよく互いに異なっていてもよい。２層以上の位相差層を有する場合、少なくとも１層が位相差層７１であれば、他の位相差層は、例えば上記した位相差層７０であってもよい。この場合、位相差層７１は、偏光子１０に相対的に近い側に設けられることが好ましい。

位相差層付き偏光子４１の非偏光領域１２及び非位相差領域７６は、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を含む。非偏光領域１２は、平面視において偏光領域１１に囲まれた貫通穴２２に、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物が設けられた領域である。非位相差領域７６は、平面視において位相差領域７５に囲まれ、且つ上記した貫通穴２２に対応する領域に設けられた貫通穴７２に、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物が設けられた領域である。偏光子１０の貫通穴２２と位相差層７１の貫通穴７２とは、平面視において同形状とすることができる。貫通穴２２と貫通穴７２とは、偏光領域１１の厚み方向に連通したものとすることができ、連通する上記貫通穴２２，７２に亘って硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を設けることができる。

位相差層付き偏光子４１においても、図１に示す位相差層付き偏光子４０と同様に、表示装置に適用した際に、カメラの感度の低下及び意匠性の低下を抑制することができ、上記した不具合の発生を抑制することができる。特に、位相差層付き偏光子４１では、位相差層７１が非位相差領域７６を有している。そのため、非偏光領域１２及び非位相差領域７６に対応させて、カメラレンズ、アイコン又はロゴ等の印刷部を配置することにより、より一層カメラの感度の低下及び意匠性の低下を抑制することができる。

位相差層付き偏光子４１に設けられる硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の厚みは、位相差層付き偏光子４１における偏光領域１１及び位相差領域７５を含む積層構造部分の厚みと同じであってもよく（図２（ａ））、当該積層構造部分の厚みよりも小さくてもよく（図２（ｂ），（ｃ））、当該積層構造部分の厚みよりも大きくてもよい（図２（ｄ），（ｅ））。上記積層構造部分の厚みとは、偏光領域１１の厚みと位相差領域７５との厚みの合計厚みであってもよく、この合計厚みに偏光領域１１と位相差領域７５との間に介在する層の厚みが含まれていてもよい。例えば、位相差層付き偏光子４１が偏光子１０と位相差層７１との間に貼合層を有している場合、上記積層構造部分の厚みは、偏光領域１１の厚みと位相差領域７５の厚みとの合計厚みに貼合層の厚みも加味したものとなる。位相差層付き偏光子４１に設けられた硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物は、偏光子１０の貫通穴２２の少なくとも一部、及び、位相差層７１の貫通穴７２の少なくとも一部を埋めるように設けられていればよい。位相差層付き偏光子４１が偏光子１０と位相差層７１との間に貼合層を有する場合、貼合層に設けられた貫通穴の少なくとも一部を埋めるように、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物が設けられていればよい。硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物は、偏光子１０の貫通穴２２全体を埋めるように設けられることが好ましく、偏光子１０の貫通穴２２全体、位相差層７１の貫通穴７２全体、及び上記貼合層の貫通穴全体を埋めるように設けられることがより好ましい。

位相差層付き偏光子４１における偏光領域１１及び位相差領域７５を含む積層構造部分の厚みは、３０μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以下であることがさらに好ましく、１８μｍ以下であってもよく、１６μｍ以下であってもよく、通常２μｍ以上である。上記積層構造部分の厚みが上記範囲を超えると、後述するように非偏光領域１２及び非位相差領域７６に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を設けるための作業性が低下しやすい。厚みは、例えば接触式膜厚測定装置（ＭＳ−５Ｃ、株式会社ニコン製）を用いて測定することができる。

位相差層付き偏光子４１に設けられた硬化物の厚みは、次のようにして決定する。まず、位相差層付き偏光子４１において、偏光子１０の偏光領域１１の表面（位相差層７１側とは反対側の表面）を含む第１平面と、位相差層７１の位相差領域７５の表面（偏光子１０側とは反対側の表面）を含む第２平面とを仮定する。次に、非偏光領域１２において、偏光子１０側における硬化物の表面と第１平面とがなす最短距離が最大となる位置である第１位置、及び、位相差層７１側における硬化物の表面と第２平面とがなす最短距離が最大となる第２位置を決定する。そして、第１位置における最短距離（ｄｍ）、第２位置における最短距離（ｄｎ）、及び、第１平面と第２平面との距離（Ｄ）を合計した値（ｄｍ＋ｄｎ＋Ｄ）を、位相差層付き偏光子４１に設けられた硬化物の厚みとする。

非偏光領域１２及び非位相差領域７６に設けられた硬化物の厚みと、位相差層付き偏光子４１における偏光領域１１及び位相差領域７５を含む積層構造部分の厚みが異なる場合の厚みの決定方法について、図３に基づいて具体的に説明する。図３（ａ）及び（ｂ）は、位相差層付き偏光子の非偏光領域及び非位相差領域周辺の断面の一例を模式的に示す図であって、非偏光領域及び非位相差領域に設けられた硬化物の厚みを決定する方法を説明するための説明図である。

図３（ａ）に示すように非偏光領域１２及び非位相差領域７６に硬化物が設けられている場合、偏光子１０の位相差層７１側とは反対側の表面側に沿って非偏光領域１２にある直線を第１平面１１ｍと仮定する。この第１平面１１ｍ上の任意の点と、非偏光領域１２に設けられた硬化物の表面上の任意の点とを結ぶ直線が最短距離となる直線のうち、当該直線の長さ（図３（ａ）中の「ｄｍ」）が最大となるときの位置を第１位置とする。次に、図３（ａ）に示すように、位相差層７１の偏光子１０側とは反対側の表面側に沿って非位相差領域７６にある一点鎖線で示す直線を第２平面１１ｎと仮定する。この第２平面１１ｎ上の任意の点と、非位相差領域７６に設けられた硬化物の表面上の任意の点とを結ぶ直線が最短距離となる直線のうち、当該直線の長さ（図３（ａ）中の「ｄｎ」）が最大となるときの位置を第２位置とする。ここで、図３（ａ）に示すように、非偏光領域１２及び非位相差領域７６に設けられている硬化物の表面が、位相差層付き偏光子４１の厚み方向において、第１平面１１ｍ及び第２平面１１ｎよりも内面側（偏光子１０及び位相差層７１側）に存在する場合、ｄｍ及びｄｎは負の値として示すものとする。また、第１平面１１ｍと第２平面１１ｎとの間の距離（積層構造部分の厚みに相当）をＤとする。そうすると、図３（ａ）に示す非偏光領域１２及び非位相差領域７６に設けられている硬化物の厚みは、Ｄ＋ｄｍ＋ｄｎ（ｄｍ及びｄｎは負の値）として決定することができる。

また、図３（ｂ）に示すように非偏光領域１２と非位相差領域７６に硬化物が設けられている場合についても上記と同様に、第１平面１１ｍ及び第２平面１１ｎを仮定することにより、非偏光領域１２及び非位相差領域７６に設けられている硬化物の厚みを決定することができる。具体的には、まず、第１平面１１ｍ上の任意の点と、非偏光領域１２に設けられた硬化物の表面上の任意の点とを結ぶ直線が最短距離となる直線のうち、当該直線の長さ（図３（ｂ）中の「ｄｍ」）が最大となるときの位置を第１位置とする。次に、第２平面１１ｎ上の任意の点と、非位相差領域７６に設けられた硬化物の表面上の任意の点とを結ぶ直線が最短距離となる直線のうち、当該直線の長さ（図３（ｂ）中の「ｄｎ」）が最大となるときの位置を第２位置とする。ここで、図３（ｂ）に示すように、非偏光領域１２及び非位相差領域７６に設けられている硬化物の表面が、位相差層付き偏光子４１の厚み方向において、第１平面１１ｍ及び第２平面１１ｎよりも外面側（偏光子１０及び位相差層７１側とは反対側）に存在する場合、ｄｍ及びｄｎは正の値として示すものとする。そうすると、図３（ｂ）に示す非偏光領域１２及び非位相差領域７６に設けられている硬化物の厚みは、Ｄ＋ｄｍ＋ｄｎ（ｄｍ及びｄｎは正の値）として決定することができる。

位相差層付き偏光子４０，４１は、円偏光板であってもよい。この場合、位相差層７０及び位相差層７１の位相差領域７５は、１／４波長板として機能する位相差特性を有することができる。位相差層付き偏光子４０，４１が円偏光板である場合、偏光子１０の一方の面側に、位相差層７０，７１を２層以上有していてもよい。例えば、偏光子１０の一方の面側に、位相差特性が［ａ］１／２波長板及び１／４波長板の順、［ｂ］逆波長分散性の１／４波長板及びポジティブＣ板の順、又は、［ｃ］ポジティブＣ板及び逆波長分散性の１／４波長板の順に配置されるように位相差層７０，７１を積層してもよい。

位相差層付き偏光子４０は、枚葉体であってもよく、保管時や輸送時等に巻回されてロール形状とされる長さを有する長尺体であってもよい。位相差層付き偏光子４０の平面形状及び大きさは、特に限定されない。

（偏光領域）
偏光子１０の偏光領域１１は、好ましくは波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の波長において吸収二色性を示す。偏光子１０は、その吸収軸に平行な振動面をもつ直線偏光を吸収し、吸収軸に直交する（透過軸と平行な）振動面をもつ直線偏光を透過する性質を有するが、この性質は主に偏光領域１１によって得ることができる。

偏光領域１１は、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質が吸着・配向されたもの；ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等、ポリエン系配向フィルムや液晶化合物を配向させたものに二色性物質が吸着・配向されたもの；等を用いることができる。その中でも、光学特性に優れたものとして、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し、一軸延伸して得られたものを用いることが好ましい。

まず、好ましい偏光領域１１となる、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られたものについて、簡単にその製造方法を説明する。

ヨウ素による染色は、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。一軸延伸の延伸倍率は、３〜７倍であることが好ましい。延伸は、染色処理後に行ってもよく、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。

ポリビニルアルコール系フィルムには、必要に応じて、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗することで、ポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させて染色ムラ等を防止することができる。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの延伸処理、染色処理、架橋処理（ホウ酸処理）、水洗処理、乾燥処理は、例えば、特開２０１２−１５９７７８号公報に記載されている方法に準じて行ってもよい。この文献記載の方法では、基材フィルムへのポリビニルアルコール系樹脂のコーティングにより、偏光領域１１となるポリビニルアルコール系樹脂層を形成する。この際、用いた基材フィルムは、後述する第１支持層２５として用いることもできる。

続いて、液晶化合物を配向させたものに二色性色素が吸着・配向してなる偏光領域１１について簡単に説明する。この場合の偏光領域１１としては、例えば特開２０１３−３７３５３号公報、特開２０１３−３３２４９号公報、特開２０１６−１７０３６８号公報特開２０１７−８３８４３号公報等に記載されるように、液晶化合物が重合した硬化膜中に、二色性色素が配向したものを使用してもよい。二色性色素としては、波長３８０〜８００ｎｍの範囲内に吸収を有するものを用いることができ、有機染料を用いることが好ましい。二色性色素として、例えば、アゾ化合物が挙げられる。液晶化合物は、配向したまま重合することができる液晶化合物であり、分子内に重合性基を有することができる。このような液晶化合物が重合した硬化膜は、基材フィルム上に形成されていてもよく、その場合は、上記基材フィルムは、後述する第１支持層２５として用いることもできる。

上記のようにして偏光領域１１に用いられる偏光フィルムを作製した後に、穴あけ加工により非偏光領域１２を形成して偏光子１０を形成することも好ましい。本明細書では、このような偏光領域１１のみで形成された偏光フィルムを原料偏光子２０ということがある。

偏光領域１１の視感度補正偏光度（Ｐｙ）は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは９０％以上であり、さらに好ましくは９５％以上であり、特に好ましくは９９％以上である。偏光領域１１の単体透過率（Ｔｓ）は、通常５０％未満であり、４６％以下であってもよい。偏光領域１１の単体透過率（Ｔｓ）は、好ましくは３９％以上であり、より好ましくは３９．５％以上であり、さらに好ましくは４０％以上であり、特に好ましくは４０．５％以上である。

単体透過率（Ｔｓ）は、ＪＩＳ Ｚ８７０１の２度視野（Ｃ光源）に準拠して測定して視感度補正を行ったＹ値である。視感度補正偏光度（Ｐｙ）及び単体透過率（Ｔｓ）は、例えば、紫外可視分光光度計（日本分光株式会社製、製品名：Ｖ７１００）を用いて測定することができ、視感度補正を行った平行透過率Ｔｐ及び直交透過率Ｔｃに基づいて、下記式により求められる。
Ｐｙ［％］＝｛（Ｔｐ−Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝^１／２×１００

（非偏光領域）
一般的に「非偏光」とは、電界成分に観測し得る規則性がない光を指す。換言すると、非偏光とは、優位な特定の偏光状態が観測されないランダムな光である。また、「部分偏光」とは、偏光と非偏光との中間の状態にある光を指し、直線偏光、円偏光及び楕円偏光の少なくとも１つと非偏光とが交じり合った光を意味する。偏光子１０における非偏光領域１２とは、当該非偏光領域１２を透過する光（透過光）が、非偏光又は部分偏光となることを意味するものである。特に、透過光が非偏光である非偏光領域が好ましい。

偏光子１０の非偏光領域１２は、平面視において偏光領域１１に囲まれた領域である。非偏光領域１２は、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を含む。非偏光領域１２は、偏光領域１１のみで形成された偏光子（原料偏光子２０）に設けられた貫通穴に、後述する硬化性樹脂（Ｘ）を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物を設けたものであることが好ましい。非偏光領域１２は透光性を有する。本明細書において、透光性とは波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の可視光が８０％以上透過する性質（透過率）をいい、８５％以上透過するもの好ましく、９０％以上透過するものがより好ましく、９２％以上透過するものさらに好ましい。以下における「透光性」の定義及び可視光に対する透過率の好ましい範囲も上記と同じである。

偏光子１０の非偏光領域１２が透光性を有することにより、非偏光領域１２において光学的な透明性を確保することができる。これにより、位相差層付き偏光子４０，４１を表示装置に適用する際に、非偏光領域１２に対応させて、カメラレンズ、アイコン又はロゴ等の印刷部を配置することにより、カメラの感度の低下や意匠性の低下を抑制することができる。

非偏光領域１２の平面形状は特に限定されないが、円形；楕円形；小判形；三角形や四角形等の多角形；多角形の少なくとも１つの角が角丸（Ｒを有する形状）とされた角丸多角形等とすることができる。

非偏光領域１２の径は、０．５ｍｍ以上であることが好ましく、１ｍｍ以上であってもよく、２ｍｍ以上であってもよく、３ｍｍ以上であってもよい。非偏光領域１２の径は、２０ｍｍ以下であることが好ましく、１５ｍｍ以下であってもよく、１０ｍｍ以下であってもよく、７ｍｍ以下であってもよい。非偏光領域１２の径とは、当該非偏光領域１２の外周の任意の二点を結ぶ直線のうち最も長さが長い直線における長さをいう。

非偏光領域１２に設けられた硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の厚みは、偏光領域１１の厚みと同じであってもよく、偏光領域１１の厚みよりも小さくてもよく、偏光領域１１の厚みよりも大きくてもよい。上記したように、非偏光領域１２に設けられた硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物は、貫通穴２２全体を埋めるように設けられていることが好ましい。

非偏光領域１２に設けられた硬化物の厚みは、上記で説明した位相差層付き偏光子４１に設けられた硬化物の厚みの測定方法に倣って行えばよい。具体的には、上記測定方法において、第２平面を、偏光子１０の偏光領域１１の表面のうち、第１平面に含まれるとした表面とは反対側の表面として、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の厚みを決定すればよい。

（位相差領域）
位相差層７１は位相差特性を有するが、この性質は主に位相差領域７５によって得ることができる。位相差領域７５の波長５９０ｎｍの波長における面内位相差値（Ｒ０）及び厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）のうち少なくとも一方が４０ｎｍ超であり、それぞれ独立して１００ｎｍ以上であってもよく、５００ｎｍ以上であってもよく、１０００ｎｍ以上であってもよく、通常１５０００ｎｍ以下である。

位相差領域７５は、例えば、１／４波長板、１／２波長板、逆波長分散性の１／４波長板、又は、ポジティブＣ板として機能する位相差特性を有することができる。上記したとおり、互いに位相差特性の異なる位相差層を複数種積層して、位相差領域７５とすることもできる。

位相差領域７５は、後述する全体が位相差領域である原料位相差層によって形成される領域とすることができる。互いに位相差特性の異なる位相差層を複数種積層したものを位相差領域７５とする場合には、この複数種積層したものを原料位相差層とすればよい。そのため、位相差領域７５は、後述する原料位相差層を構成する材料によって形成され、具体的には熱可塑性樹脂を含むことができる。位相差領域は、例えば、熱可塑性樹脂を一軸延伸又は二軸延伸した延伸フィルム、又は、重合性液晶性化合物の重合硬化層等によって形成することができる。

位相差領域７５の厚みは、１５μｍ以下であることが好ましく、１３μｍ以下であってもよく、１０μｍ以下であってもよく、８μｍ以下であってもよく、５μｍ以下であってもよく、通常１μｍ以上である。

（非位相差領域）
位相差層７１の非位相差領域７６は、平面視において位相差領域７５に囲まれた領域である。非位相差領域７６の波長５９０ｎｍの波長における面内位相差値（Ｒ０）及び厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）は、４０ｎｍ以下であり、それぞれ独立して３５ｎｍ以下であってもよく、３０ｎｍ以下であってもよく、２０ｎｍ以下であってもよく、０ｎｍであってもよい。

非位相差領域７６は、平面視において位相差領域７５に囲まれた貫通穴７２に、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を含むことができる。非位相差領域７６に設けられた硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の厚みは、位相差領域７５の厚みと同じであってもよく、非位相差領域７６の厚みよりも小さくてもよく、非位相差領域７６の厚みよりも大きくてもよい。上記したように、非位相差領域７６に設けられた硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物は、貫通穴７２全体を埋めるように設けられていることが好ましい。後述のように、このような非位相差領域７６を、非偏光領域１２に対応させて設けることにより、位相差層付き偏光子４０，４１を表示装置に適用する際に、非偏光領域１２及び非位相差領域７６に対応させて、カメラレンズ、アイコン又はロゴ等の印刷部を配置することにより、カメラの感度の低下や意匠性の低下を抑制することができる。

非位相差領域７６に設けられた硬化物の厚みは、上記で説明した位相差層付き偏光子４１に設けられた硬化物の厚みの測定方法に倣って行えばよい。具体的には、上記測定方法において、第１平面を、位相差層７１の位相差領域７５の表面のうち、第２平面に含まれるとした表面とは反対側の表面として、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の厚みを決定すればよい。

非位相差領域７６の平面形状及び径は特に限定されず、非偏光領域１２の平面形状として例示した形状及び径が挙げられる。非位相差領域７６の平面形状及び径は、非偏光領域１２の平面形状及び径とそれぞれ同じであることが好ましい。

（活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（硬化性樹脂組成物））
位相差層付き偏光子４０における非偏光領域１２、並びに、位相差層付き偏光子４１における非偏光領域１２及び非位相差領域７６は上記のとおり、活性エネルギー線硬化性樹脂（硬化性樹脂（Ｘ））の硬化物が設けられた領域であり、好ましくは、当該硬化性樹脂（Ｘ）を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（以下、「硬化性樹脂組成物」ということがある。）により形成される。硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂（Ｘ）は、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線の照射によって硬化するものである。硬化性樹脂（Ｘ）は、紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化性樹脂であることが好ましい。硬化性樹脂（Ｘ）を含む硬化性樹脂組成物は、活性エネルギー線硬化型の接着剤であってもよく、この場合、紫外線硬化型の接着剤であることがより好ましい。

硬化性樹脂組成物は無溶剤型であることが好ましい。無溶剤型とは、積極的には溶剤を添加していないことをいい、具体的には、無溶剤型の硬化性樹脂組成物とは、当該硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂（Ｘ）１００重量％に対して溶剤の含有量が５重量％以下であることをいう。

硬化性樹脂（Ｘ）は、エポキシ化合物を含むことが好ましい。エポキシ化合物とは、分子内に１個以上、好ましくは２個以上のエポキシ基を有する化合物である。エポキシ化合物としては、脂環式エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物、水素化エポキシ化合物（脂環式環を有するポリオールのグリシジルエーテル）等を挙げることができる。硬化性樹脂（Ｘ）に含まれるエポキシ化合物は、１種であってもよく、２種以上であってもよい。

エポキシ化合物の含有量は、硬化性樹脂（Ｘ）１００重量％に対して、４０重量％以上であることが好ましく、５０重量％以上であることがより好ましく、６０重量％以上であることがさらに好ましい。エポキシ化合物の含有量は、硬化性樹脂（Ｘ）１００重量％に対して、１００重量％以下であればよく、９０重量％以下であってもよく、さらには８０重量％以下であってもよいし、７５重量％以下であってもよい。

エポキシ化合物のエポキシ当量は通常、４０〜３０００ｇ／当量、好ましくは５０〜１５００ｇ／当量の範囲内である。エポキシ当量が３０００ｇ／当量を超えると、硬化性樹脂（Ｘ）に含有される他の成分との相溶性が低下する可能性がある。

硬化性樹脂（Ｘ）に含まれるエポキシ化合物は、脂環式エポキシ化合物を含有することが好ましい。脂環式エポキシ化合物は、脂環に結合したエポキシ基を分子内に１個以上有するエポキシ化合物である。「脂環に結合したエポキシ基」とは、下記式に示される構造における橋かけの酸素原子−Ｏ−を意味する。下記式中、ｍは２〜５の整数である。

上記式における（ＣＨ_２）_ｍ中の１個又は複数個の水素原子を取り除いた形の基が他の化学構造に結合している化合物が、脂環式エポキシ化合物となり得る。（ＣＨ_２）_ｍ中の１個又は複数個の水素原子は、メチル基やエチル基等の直鎖状アルキル基で適宜置換されていてもよい。脂環式エポキシ化合物の中でも、オキサビシクロヘキサン環（上記式においてｍ＝３のもの）や、オキサビシクロヘプタン環（上記式においてｍ＝４のもの）を有するエポキシ化合物は、偏光子１０の偏光領域１１及び位相差層７１の位相差領域７５と、非偏光領域１２及び非位相差領域７６を形成する硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物との間に優れた密着性を与えることから好ましく用いられる。以下に、好ましく用いられる脂環式エポキシ化合物を具体的に例示するが、これらの化合物に限定されるものではない。

［ａ］下記式（ＩＶ）で示されるエポキシシクロヘキシルメチル エポキシシクロヘキサンカルボキシレート類：

［式（ＩＶ）中、Ｒ^８及びＲ^９は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１〜５の直鎖状アルキル基を表す。］

［ｂ］下記式（Ｖ）で示されるアルカンジオールのエポキシシクロヘキサンカルボキシレート類：

［式（Ｖ）中、Ｒ^１０及びＲ^１１は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１〜５の直鎖状アルキル基を表し、ｎは２〜２０の整数を表す。］

［ｃ］下記式（ＶＩ）で示されるジカルボン酸のエポキシシクロヘキシルメチルエステル類：

［式（ＶＩ）中、Ｒ^１２及びＲ^１３は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１〜５の直鎖状アルキル基を表し、ｐは２〜２０の整数を表す。］

［ｄ］下記式（ＶＩＩ）で示されるポリエチレングリコールのエポキシシクロヘキシルメチルエーテル類：

［式（ＶＩＩ）中、Ｒ^１４及びＲ^１５は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１〜５の直鎖状アルキル基を表し、ｑは２〜１０の整数を表す。］

［ｅ］下記式（ＶＩＩＩ）で示されるアルカンジオールのエポキシシクロヘキシルメチルエーテル類：

［式（ＶＩＩＩ）中、Ｒ^１６及びＲ^１７は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１〜５の直鎖状アルキル基を表し、ｒは２〜２０の整数を表す。］

［ｆ］下記式（ＩＸ）で示されるジエポキシトリスピロ化合物：

［式（ＩＸ）中、Ｒ^１８及びＲ^１９は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１〜５の直鎖状アルキル基を表す。］

［ｇ］下記式（Ｘ）で示されるジエポキシモノスピロ化合物：

［式（Ｘ）中、Ｒ^２０及びＲ^２１は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１〜５の直鎖状アルキル基を表す。］

［ｈ］下記式（ＸＩ）で示されるビニルシクロヘキセンジエポキシド類：

［式（ＸＩ）中、Ｒ^２２は、水素原子又は炭素数１〜５の直鎖状アルキル基を表す。］

［ｉ］下記式（ＸＩＩ）で示されるエポキシシクロペンチルエーテル類：

［式（ＸＩＩ）中、Ｒ^２３及びＲ^２４は、互いに独立して、水素原子又は炭素数１〜５の直鎖状アルキル基を表す。］

［ｊ］下記式（ＸＩＩＩ）で示されるジエポキシトリシクロデカン類：

［式（ＸＩＩＩ）中、Ｒ^２５は、水素原子又は炭素数１〜５の直鎖状アルキル基を表す。］

脂肪族エポキシ化合物としては、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテルが挙げられる。より具体的には、１，４−ブタンジオールのジグリシジルエーテル；１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル；グリセリンのトリグリシジルエーテル；トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル；ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル；プロピレングリコールのジグリシジルエーテル；エチレングリコール、プロピレングリコール又はグリセリン等の脂肪族多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイド（エチレンオキサイドやプロピレンオキサイド）を付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル等が挙げられる。

水素化エポキシ化合物は、芳香族ポリオールの芳香環に水素化反応を行って得られる脂環式ポリオールに、エピクロロヒドリンを反応させることにより得られるものである。芳香族ポリオールとしては、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ等のビスフェノール型化合物；フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ヒドロキシベンズアルデヒドフェノールノボラック樹脂等のノボラック型樹脂；テトラヒドロキシジフェニルメタン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ポリビニルフェノール等の多官能型の化合物が挙げられる。水素化エポキシ化合物の中でも好ましいものとして、水素化されたビスフェノールＡのジグリシジルエーテルが挙げられる。

硬化性樹脂（Ｘ）は、エポキシ化合物等の活性エネルギー線硬化性化合物とともに（メタ）アクリル系化合物等を含有してもよい。（メタ）アクリル系化合物を併用することにより、偏光子１０の偏光領域１１及び位相差層７１の位相差領域７５と、非偏光領域１２及び非位相差領域７６を形成する硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物との間の密着性、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物の硬度及び機械的強度を高める効果が期待でき、さらには、硬化性樹脂（Ｘ）の粘度や硬化速度等の調整をより容易に行うことができるようになる。「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルからなる群より選択される少なくとも一方を意味する。

硬化性樹脂（Ｘ）を含む硬化性樹脂組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤としては、光カチオン系重合剤等のカチオン系重合剤やラジカル重合開始剤が挙げられる。光カチオン系重合開始剤は、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線等の活性エネルギー線の照射によりカチオン種又はルイス酸を発生し、エポキシ基の重合反応を開始させるものである。上述のように硬化性樹脂（Ｘ）は、紫外線の照射によって硬化する紫外線硬化性樹脂であることが好ましく、硬化性樹脂（Ｘ）は脂環式エポキシ化合物を含むことが好ましいため、この場合の重合開始剤は、紫外線の照射によりカチオン種又はルイス酸を発生するものが好ましい。

硬化性樹脂組成物は、さらに、光増感剤、重合促進剤、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、帯電防止剤、レベリング剤等の添加剤を含有することができる。

（位相差層付き偏光子（１）の製造方法）
図４及び図５は、本実施形態の位相差層付き偏光子の製造方法の一例を模式的に示す概略断面図である。図４及び図５では、図１に示す位相差層付き偏光子４０を得る場合を示している。位相差層付き偏光子４０は、例えば、全体が同じ視感度補正偏光度（Ｐｙ）を有し、非偏光領域１２を有していない原料偏光子２０を用いて製造することができる。原料偏光子２０は上記した偏光子１０の偏光領域１１のみで形成されているため、原料偏光子２０の厚みは、偏光子１０の偏光領域１１と同じ厚みである１５μｍ以下であることが好ましい。

位相差層付き偏光子４０は、例えば次の工程で製造することができる。まず、図４（ａ）に示すように、原料偏光子２０の一方の面に、原料偏光子２０に対して剥離可能に第１支持層２５が設けられた第１積層体３１を準備する。準備した第１積層体３１に対して、打抜き、切抜き、切削、又はレーザーカット等により積層方向に貫通する貫通穴３２を形成する（図４（ｂ））。これにより、原料偏光子２０に貫通穴２２が形成された穴あき偏光子２１が得られる。続いて、貫通穴３２が形成された第１積層体３１の穴あき偏光子２１側に第２支持層２６を剥離可能に設けた後（図４（ｃ））、第１支持層２５を剥離する（図４（ｄ））。これにより、第２支持層２６と穴あき偏光子２１とが積層された第２積層体３３を得る（図４（ｄ））。第２支持層２６は、穴あき偏光子２１の貫通穴２２の一方側を塞ぐように設ける。

次に、第２積層体３３の穴あき偏光子２１の貫通穴２２に硬化性樹脂（Ｘ）を含む硬化性樹脂組成物を充填し、活性エネルギー線を照射することにより、貫通穴２２内の硬化性樹脂（Ｘ）を硬化させる。これにより、穴あき偏光子２１の貫通穴２２に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を形成し、第２支持層２６上に偏光子１０が積層された第３積層体３４を得る（図５（ａ））。第３積層体３４の偏光子１０は、穴あき偏光子２１の貫通穴２２以外の領域が偏光領域１１となり、硬化物が設けられた貫通穴２２の領域が非偏光領域１２となっている。そして、第３積層体３４の偏光子１０側に、図示しない貼合層を介して位相差層７０を積層して、位相差層付き偏光子４０を形成する。位相差層７０を積層した後に、第２支持層２６は剥離してもよい。

穴あき偏光子２１の貫通穴２２に硬化性樹脂組成物を充填する方法としては、特に限定されない。例えば、分注器又はディスペンサー等を用いて第２積層体３３の穴あき偏光子２１の貫通穴２２に硬化性樹脂組成物を注入してもよく、第２積層体３３の穴あき偏光子２１の表面上に硬化性樹脂組成物をコーティングしながら、穴あき偏光子２１の貫通穴２２に硬化性樹脂組成物を充填してもよい。穴あき偏光子２１の表面上にコーティングされた硬化性樹脂組成物の硬化物層は、後述する保護層とすることができる。硬化性樹脂組成物をコーティングする場合は、コーティングにより形成された塗布層表面を覆うように基材フィルムを設けてもよい。基材フィルムは、後述する保護層として用いてもよく、この場合、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物層は、後述する保護層を貼合するための貼合層としてもよい。基材フィルムは、硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂（Ｘ）の硬化後に剥離してもよい。

第１支持層２５は、原料偏光子２０の製造時に用いられる支持層であってもよく、硬化性樹脂組成物をコーティングする際に用いた上記基材フィルムを用いてもよい。あるいは、原料偏光子２０に、水等の揮発性液体によって貼合された剥離可能な支持層であってもよく、原料偏光子２０に対して剥離可能な粘着シートであってもよい。第２支持層２６は、穴あき偏光子２１に水等の揮発性液体によって貼合された剥離可能な支持層であってもよく、穴あき偏光子２１に対して剥離可能な粘着シートであってもよい。

非偏光領域１２を設けた偏光子１０に位相差層７０を設けることにより、図１（ｂ）に示す位相差層付き偏光子４０を製造することができる。この位相差層７０は、熱可塑性樹脂を一軸延伸又は二軸延伸した延伸フィルムであってもよく、重合性液晶性化合物の重合硬化層であってもよい。位相差層７０が重合硬化層である場合、基材層上で重合性液晶化合物を重合硬化して重合硬化層を形成した基材層付き重合硬化層を用いてもよい。この基材層付き重合硬化層の重合硬化層側を、貼合層を介して第３積層体３４の偏光子１０側に積層した後、当該基材層を剥離することにより、偏光子１０上に位相差層７０を形成することができる。

上記のように、原料偏光子２０の厚みが１５μｍ以下であることにより、穴あき偏光子２１に設けられる貫通穴２２の深さも１５μｍ以下とすることができる。これにより、穴あき偏光子２１の貫通穴２２への硬化性樹脂組成物の充填や、貫通穴２２に充填された硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂（Ｘ）の硬化処理を短時間で行うことができるため、作業性の低下を抑制できる。

（位相差層付き偏光子（２）の製造方法）
図６及び図７は、本実施形態の位相差層付き偏光子の製造方法の一例を模式的に示す概略断面図である。図６及び図７では、図２（ａ）に示す位相差層付き偏光子４１を得る場合を示しているが、図２（ｃ）及び（ｅ）に示す位相差層付き偏光子４１も、下記に説明する方法によって製造することができる。位相差層付き偏光子４１は、例えば、全体が同じ視感度補正偏光度（Ｐｙ）を有し、非偏光領域１２を有していない原料偏光子２０（図６（ａ））を用い、さらに原料位相差層として全体が位相差領域である重合硬化層８５（図６（ｂ））を用いて製造することができる。原料偏光子２０は上記した偏光子１０の偏光領域１１となるため、原料偏光子２０の厚みは、偏光子１０の偏光領域１１と同じ厚みである１５μｍ以下であることが好ましい。重合硬化層８５は上記した位相差層７１の位相差領域７５となるため、重合硬化層８５の厚みは、位相差層７１の位相差領域７５と同じ厚みであることが好ましい。

位相差層付き偏光子４１は、例えば次の工程で製造することができる。まず、位相差層付き偏光子４０の製造方法で説明した手順で、第１積層体３１を準備する（図６（ａ））。基材層８４上で重合性液晶化合物を重合硬化して、基材層８４上に、全体が位相差領域である重合硬化層８５が形成された基材層付き重合硬化層８０を準備する（図６（ｂ））。準備した第１積層体３１の原料偏光子２０側に、図示しない貼合層を介して、基材層付き重合硬化層８０の重合硬化層８５側を積層する（図６（ｃ））。これにより、基材層８４、重合硬化層８５、原料偏光子２０、及び第１支持層２５がこの順に積層された第４積層体３５を得る（図６（ｃ））。第４積層体３５に対して、打抜き、切抜き、切削、又はレーザーカット等により積層方向に貫通する貫通穴３６（貫通穴２２，７２を含む）を形成し（図６（ｄ））、第１支持層２５を剥離して第５積層体３７を得る（図７（ａ））。これにより、原料偏光子２０に貫通穴２２が形成された穴あき偏光子２１、及び、重合硬化層８５に貫通穴７２が形成された穴あき位相差層８１が得られる。

続いて、第５積層体３７の穴あき偏光子２１側に第３支持層２７を積層し（図７（ｂ））、基材層８４を剥離する（図７（ｃ））。第３支持層２７は、穴あき偏光子２１の貫通穴２２の一方側を塞ぐように設ける。その後、穴あき偏光子２１の貫通穴２２及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に硬化性樹脂（Ｘ）を含む硬化性樹脂組成物を充填し、活性エネルギー線を照射することにより、貫通穴２２，７２内の硬化性樹脂（Ｘ）を硬化させて、穴あき偏光子２１の貫通穴２２及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を形成する（図７（ｄ））。これにより、第３支持層２７上に位相差層付き偏光子４１を得る。位相差層付き偏光子４１は、第３支持層２７上に、偏光子１０及び位相差層７１がこの順に積層されている。硬化物を形成した後に、第３支持層２７は剥離してもよい。得られた偏光子１０は、穴あき偏光子２１の貫通穴２２以外の領域が偏光領域１１となり、硬化物が設けられた貫通穴２２の領域が非偏光領域１２となっている。得られた位相差層７１は、穴あき位相差層８１の貫通穴７２以外の領域が位相差領域７５となり、硬化物が設けられた貫通穴７２の領域が非位相差領域７６となっている。そして、偏光子１０にある非偏光領域１２と、位相差層７１にある非位相差領域７６とは互いに連通している。

上記した方法に代えて、図２（ａ）に示す位相差層付き偏光子４１は、例えば次のようにして製造することもできる。以下では、図２（ａ）に示す位相差層付き偏光子４１を得る場合を示しているが、図２（ｂ）及び（ｄ）に示す位相差層付き偏光子４１も、下記に説明する方法によって製造することができる。図６（ｃ）及び（ｄ）に示すように、第４積層体３５に対して、打抜き、切抜き、切削、又はレーザーカット等により積層方向に貫通する貫通穴３６を形成した後、基材層８４を剥離する。続いて、基材層８４を剥離して露出した側（穴あき位相差層８１側）に第４支持層を積層し、第１支持層２５を剥離する。第４支持層は、穴あき位相差層８１の貫通穴７２の一方側を塞ぐように設ける。その後、穴あき偏光子２１の貫通穴２２及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に硬化性樹脂組成物を充填し、活性エネルギー線を照射することにより、貫通穴２２，７２内の硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂（Ｘ）を硬化させて、穴あき偏光子２１の貫通穴２２及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物を形成する。これにより、第４支持層上に位相差層付き偏光子４１を得る。位相差層付き偏光子４１は、第４支持層上に、位相差層７１及び偏光子１０がこの順に積層されている。硬化物を形成した後に、第４支持層は剥離してもよい。

穴あき偏光子２１の貫通穴２２及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に硬化性樹脂組成物を充填する方法としては、被覆層付き偏光子（１）の製造方法で説明した充填方法が挙げられる。貫通穴２２，７２への硬化性樹脂組成物の充填を、穴あき偏光子２１の表面上に硬化性樹脂組成物をコーティングしながら行う場合、穴あき偏光子２１の表面上にコーティングされた硬化性樹脂組成物の硬化物層は、後述する保護層とすることができる。硬化性樹脂組成物をコーティングする場合は、コーティングにより形成された塗布層表面を覆うように基材フィルムを設けてもよい。基材フィルムは、後述する保護層として用いてもよく、この場合、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物層は、後述する保護層を貼合するための貼合層としてもよい。基材フィルムは、硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂（Ｘ）の硬化後に剥離してもよい。

第３支持層２７及び第４支持層を設ける方法としては、第１支持層２５及び第２支持層２６を設ける方法として例示した方法が挙げられる。

上記のように、原料偏光子２０の厚みが１５μｍ以下であることにより、穴あき偏光子２１に設けられる貫通穴２２の深さも１５μｍ以下とすることができる。位相差層付き偏光子４１について説明したように、位相差層付き偏光子４１における偏光領域１１及び位相差領域７５を含む積層構造部分の厚みは３０μｍ以下であることが好ましいため、原料位相差層である重合硬化層８５の厚みは１５μｍ以下であることが好ましい。そのため、穴あき位相差層８１に設けられる貫通穴７２の深さも１５μｍ以下とすることができる。これにより、貫通穴２２及び貫通穴７２の合計深さを３０μｍ以下とすることができる。したがって、穴あき偏光子２１の貫通穴２２及び穴あき位相差層７１の貫通穴７２への硬化性樹脂（Ｘ）の充填や、貫通穴２２及び貫通穴７２に充填された硬化性樹脂（Ｘ）の硬化処理を短時間で行うことができるため、作業性の低下を抑制することができる。

ここで、位相差層付き偏光子の製造に用いる原料偏光子及び原料位相差層の製造について簡単に説明する。

（原料偏光子）
原料偏光子２０は、貫通穴２２に充填された硬化性樹脂組成物中の硬化性樹脂（Ｘ）を硬化させるために照射する活性エネルギー線によって著しく変質しにくいものであることが好ましい。このような原料偏光子２０は、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させたフィルムや、重合性液晶化合物の硬化層中で二色性色素が配向しているものであり、これらの製造方法は、上述の偏光領域１１において説明したとおりである。

（原料位相差層）
原料位相差層は、全体が位相差特性を有する位相差領域からなる。原料位相差層は、例えば、上記で説明した位相差層７０又は位相差領域が有する位相差特性を有することができる。原料位相差層は、例えば１／４波長板、１／２波長板、逆波長分散性の１／４波長板、又は、ポジティブＣ板として機能する位相差特性を有することができる。

原料位相差層は、例えば、熱可塑性樹脂を一軸延伸又は二軸延伸した延伸フィルム、又は重合性液晶性化合物の重合硬化層等である。

延伸フィルムを構成する熱可塑性樹脂としては、透光性を有する（好ましくは光学的に透明な）熱可塑性樹脂が好ましい。具体的には、鎖状ポリオレフィン系樹脂（ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂等）、環状ポリオレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂等）等のポリオレフィン系樹脂；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のセルロースエステル系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリトリメチレンナフタレート、ポリシクロへキサンジメチルテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチルナフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；（メタ）アクリル系樹脂；ポリスチレン系樹脂；又はこれらの混合物、共重合物等が挙げられる。

重合硬化層を構成する重合性液晶化合物は、重合性反応基を有し、かつ、液晶性を示す化合物である。重合性反応基としては、原料偏光子で例示した重合性反応基が挙げられる。重合性液晶化合物の種類は特に限定されず、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物、及びこれらの混合物を用いることができる。重合性液晶化合物の液晶性は、液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよく、相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。

原料位相差層は、［ｖ］例えば基材フィルム上に形成した配向層上に、重合性液晶化合物を含む位相差層形成用組成物を塗布し、重合性液晶化合物を重合して硬化させる方法、［ｖｉ］基材層上に、位相差層形成用組成物を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を基材層とともに延伸する方法によって形成することができる。基材層としては、原料偏光子で説明した上記の［ｉｉ］で用いた基材フィルムが挙げられる。

原料位相差層を構成する延伸フィルム及び重合硬化層としては、例えば、国際公開２０１８／００３４１６号に記載の位相差層が挙げられる。

＜偏光子複合体＞
（偏光子複合体（１））
図８（ａ）は、本実施形態の偏光子複合体の一例を模式的に示す概略断面図であり、図８（ｂ）は、偏光子複合体の補強材側の概略平面図である。図８（ａ）に示す偏光子複合体４２は、図１（ｂ）に示す位相差層付き偏光子４０と、位相差層付き偏光子４０の位相差層７０側に設けられた補強材５０とを有する。補強材５０は、位相差層付き偏光子４０の位相差層７０側に加えて、偏光子１０側にも設けられていてもよい。

偏光子複合体４２において、補強材５０は、各開口端面が偏光子１０の面に対向するように配列した複数のセル５１を有する。各開口端面は、偏光子１０に直接接して対向していてもよく、図８（ａ）に示す偏光子複合体４２に示すように、位相差層７０を介して偏光子１０の面に対向していてもよい。セル５１は、セル５１を区画するセル隔壁５３に囲まれた中空柱状（筒状）の構造を有し、柱状の構造の軸方向両端が開口した開口端面となっているものである。

偏光子複合体４２において、補強材５０は、図８（ａ）に示すように、偏光子１０の非偏光領域１２及びその周辺に対応（投影）する領域にセル５１が存在するように設けることが好ましく、位相差層付き偏光子４０の全面にセル５１が存在するように設けることがより好ましい。

偏光子１０は非偏光領域１２を有するため、表示装置に適用した場合等に受ける温度変化に伴う偏光子１０の収縮によって非偏光領域１２の周辺にクラックが発生しやすいと考えられる。また、偏光子１０は、偏光領域１１の厚みが１５μｍ以下と薄いため、衝撃を受けた場合にクラックが発生しやすいと考えられる。偏光子複合体４２では、上記のように位相差層付き偏光子４０の片面に補強材５０が設けられているため、温度変化や衝撃を受けた場合に発生する偏光子１０のクラックや、微細なクラックが大きなクラックに進行することを抑制できると考えられる。偏光子複合体４２の耐衝撃性の観点から、補強材５０は、少なくとも位相差層付き偏光子４０の位相差層７０側に設けられることが好ましい。

補強材５０は、偏光子１０とともに表示装置等に適用される。補強材５０のセル５１の内部空間が空洞であると、セル隔壁５３とセル５１の内部空間との屈折率の違い等により表示装置の視認性が低下する虞がある。そのため、偏光子複合体４２における補強材５０のセル５１の内部空間には、透光性の充填材が設けられることが好ましい。偏光子複合体４２の補強材５０において、後述するように複数のセル５１の間に隙間が設けられている場合には、この隙間にも透光性の充填材が設けられることが好ましい。このような充填材については後述する。

（偏光子複合体（２））
図９は、本実施形態の偏光子複合体の他の一例を模式的に示す概略断面図である。図９に示す偏光子複合体４３は、図２（ａ）に示す位相差層付き偏光子４１と、位相差層付き偏光子４１の位相差層７１側に設けられた補強材５０とを有する。ここでは、補強材５０が、位相差層付き偏光子４１の位相差層７１側に設けられている場合を示しているが、補強材５０は、位相差層付き偏光子４１の位相差層７１側に加えて、偏光子１０側にも設けられていてもよい。また、補強材５０を位相差層７１側に設けることなく偏光子１０側に設けてもよいが、耐衝撃性の観点から、補強材５０は、位相差層付き偏光子４０の位相差層７１側に設けられることが好ましい。

補強材５０については、上記で説明したとおりである。補強材５０は、上記したように、補強材５０のセル５１の内部空間及び複数のセル５１の間の隙間に、充填材が設けられていてもよい。

図９に示す偏光子複合体４３は、それぞれ図２（ａ）に示す位相差層付き偏光子４１と補強材５０とを有するものであるが、これに限定されない。例えば、偏光子複合体４３に含まれる位相差層付き偏光子４１は、図２（ｂ）〜（ｅ）に示す位相差層付き偏光子４１であってもよい。

（補強材）
補強材５０が有するセル５１は、上記したように、セル５１を区画するセル隔壁５３に囲まれた中空柱状（筒状）の構造を有し、柱状の構造の軸方向両端が開口した開口端面となっているものである。セル５１は、開口端面として、偏光子複合体４２，４３の偏光子１０との距離が相対的に近い側に配置される第１開口端面と、相対的に遠い側に配置される第２開口端面とを有する。補強材５０は、第１開口端面及び第２開口端面のうちの少なくとも一方が、偏光子１０に対向するように配列していればよく、第１開口端面及び第２開口端面の両方が、偏光子１０に対向するように配列していることが好ましい。

補強材５０が有するセル５１の開口の形状は特に限定されないが、多角形状、円形状、又は楕円形状であることが好ましい。第１開口端面の開口の形状と、第２開口端面の開口の形状とは、同じ大きさの同じ形状であることが好ましいが、異なる形状であってもよく、同じ形状であって大きさが異なっていてもよい。また、補強材５０が有する複数のセルの開口の形状は、互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。

補強材５０が有する複数のセル５１は、開口端面の平面視において、各セル５１の開口が互いに隣接するように配列していることが好ましい。複数のセル５１は、開口端面の平面視において、例えば図８（ｂ）に示すセル５１の開口の形状が六角形等である場合のように、セル５１が互いに隙間なく配置されるように配列していてもよい。あるいは、複数のセル５１は、開口端面の平面視において、セル５１の開口の形状が円形等である場合のように、複数のセル５１のセル隔壁５３の一部が接しており、複数のセル５１の間に隙間を有して配置されるように配列されていてもよい。

補強材５０は、例えば図８（ｂ）に示すように、第１開口端面及び第２開口端面のいずれにおいても開口の形状が六角形状であり、偏光子複合体４２の面方向において、開口が互いに隣り合い隙間なく配置されるように複数のセルが配列したハニカム構造を有することが好ましい。

補強材５０のセル５１の開口の大きさは特に限定されないが、非偏光領域１２の径よりも小さい径を有することが好ましい。セルの径は、３ｍｍ以下であることが好ましく、２ｍｍ以下であってもよく、１ｍｍ以下であってもよく、通常、０．１ｍｍ以上であり、０．５ｍｍ以上であってもよい。このセル５１の開口の径は、開口の外周の任意の二点を結ぶ直線のうち最も長さが長い直線における長さをいう。

補強材５０のセル５１の高さ（セル５１の開口端面に直交する方向の長さ）は、通常０．１μｍ以上であり、０．５μｍ以上であってもよく、１μｍ以上であってもよく、３μｍ以上であってもよく、また、通常１５μｍ以下であり、１３μｍ以下であってもよく、１０μｍ以下であってもよい。

補強材５０のセル５１を区画するセル隔壁５３は、透光性を有することが好ましい。

補強材５０のセル隔壁５３の線幅は、例えば０．０５ｍｍ以上であり、０．１ｍｍ以上であってもよく、０．５ｍｍ以上であってもよく、１ｍｍ以上であってもよく、また、通常５ｍｍ以下であり、３ｍｍ以下であってもよい。

補強材５０のセル隔壁５３は、例えば樹脂材料又は無機酸化物によって形成することができ、樹脂材料によって形成されることが好ましい。樹脂材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂等の硬化性樹脂等が挙げられる。樹脂材料としては、例えば、上記した硬化性樹脂（Ｘ）；上記充填材に用いる熱可塑性樹脂として例示した熱可塑性樹脂等が挙げられる。無機酸化物としては、酸化珪素（ＳｉＯ_２）、酸化アルミニウム等が挙げられる。

位相差層付き偏光子４０，４１の両面側に補強材５０が設けられる場合、２つの補強材５０は互いに同じもの（セル５１の形状及び大きさが同じもの）であってもよく、互いに異なっていてもよい。位相差層付き偏光子４０，４１の両面側に設けられる２つの補強材５０のセル５１の開口は、平面視において互いに重なるように配置されていてもよいが、平面視において互いにずれるように配置されていることが好ましい。

（充填材）
補強材５０に設けてもよい充填材は透光性を有し、補強材５０のセル５１の内部空間を埋めることができるものであれば特に限定されない。充填材は、補強材５０のセル隔壁５３を構成する材料とは異なる材料であることが好ましく、樹脂材料を含むことが好ましい。当該樹脂材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂等の硬化性樹脂等からなる群より選ばれる１種以上が挙げられ、粘着剤又は接着剤であってもよい。

熱可塑性樹脂としては、鎖状ポリオレフィン系樹脂（ポリプロピレン系樹脂等）、環状ポリオレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂等）等のポリオレフィン系樹脂；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等のセルロースエステル系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；（メタ）アクリル系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリエーテル系樹脂；ポリウレタン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；フッ素系樹脂等が挙げられる。

硬化性樹脂としては、例えば上記した硬化性樹脂（Ｘ）が挙げられる。

粘着剤は、それ自体を被着体に貼り付けることで接着性を発現するものであり、いわゆる感圧型接着剤と称されるものである。粘着剤としては、（メタ）アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、ポリウレタン系ポリマー、ポリエーテル系ポリマー、又はゴム系ポリマー等のポリマーを主成分として含むものが挙げられる。本明細書において、主成分とは、粘着剤の全固形分のうち５０質量％以上を含む成分をいう。粘着剤は、活性エネルギー線硬化型、熱硬化型であってもよく、活性エネルギー線照射や加熱により、架橋度や接着力を調整してもよい。

接着剤は、硬化性の樹脂成分を含むものであって、感圧型接着剤（粘着剤）以外の接着剤である。接着剤としては、硬化性の樹脂成分を水に溶解又は分散させた水系接着剤、活性エネルギー線硬化性化合物を含有する活性エネルギー線硬化性接着剤、熱硬化性接着剤等が挙げられる。

接着剤として、偏光板の技術分野で汎用されている水系接着剤を用いることもできる。水系接着剤に含有される樹脂成分としては、ポリビニルアルコール系樹脂やウレタン系樹脂等が挙げられる。活性エネルギー線硬化性接着剤としては、紫外線、可視光、電子線、Ｘ線等の活性エネルギー線の照射によって硬化する組成物が挙げられる。活性エネルギー線硬化性接着剤としては、上記した硬化性樹脂（Ｘ）を含む硬化性樹脂組成物を用いてもよい。熱硬化性接着剤としては、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂等を主成分として含むものが挙げられる。

（偏光子複合体の製造方法）
図８及び図９に示す偏光子複合体４２，４３は、位相差層付き偏光子４０，４１に、補強材５０を形成することによって製造することができる。補強材５０は、例えば、樹脂材料又は無機酸化物を用いて、位相差層付き偏光子４０，４１の表面にセル５１を区画するセル隔壁５３を形成することによって得ることができる。

樹脂材料を用いてセル隔壁５３を形成する方法としては特に限定されないが、例えば、インクジェット印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷等の印刷法；フォトリソグラフィ法；ノズルやダイ等を用いた塗布法等が挙げられる。上記方法では、樹脂材料を、溶媒、添加剤等と混合した樹脂組成物を用いてもよい。添加剤としては、レベリング剤、酸化防止剤、可塑剤、粘着付与剤、有機又は無機の充填剤、顔料、老化防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等が挙げられる。セル隔壁５３は、印刷又は塗布された樹脂組成物に、必要に応じて固化又は硬化のための処理を行って形成してもよい。

無機酸化物を用いてセル隔壁５３を形成する方法としては特に限定されないが、例えば、無機酸化物を蒸着することによって形成することができる。

偏光子複合体４２，４３の補強材５０が充填材を有する場合、位相差層付き偏光子４０，４１に形成した補強材５０に対し、セル５１の内部空間やセル５１の間の隙間に、充填材を構成する材料を充填すればよい。充填材を構成する材料は、例えば、補強材５０上にコーティングすることによって充填してもよい。あるいは、充填材を構成する材料として粘着剤を用いる場合は、離型フィルム上に粘着剤層を設けた粘着シートを貼合して、粘着剤を充填してもよい。

＜光学積層体＞
図１０〜図１２は、本実施形態の光学積層体の一例を模式的に示す概略断面図である。光学積層体は、図１及び図２に示す位相差層付き偏光子４０，４１、図８及び図９に示す偏光子複合体４２，４３の片面側又は両面側に保護層を有するものである。

（光学積層体（１））
図１０（ａ）及び（ｂ）に示す光学積層体４４，４５は、図１（ｂ）及び図２（ａ）に示す位相差層付き偏光子４０，４１と、位相差層付き偏光子４０，４１の偏光子１０側に設けられた保護層１７とを有する。位相差層付き偏光子４１は、図２（ｂ）〜（ｅ）に示す位相差層付き偏光子４１であってもよい。

保護層１７は、偏光子１０上に直接設けられた硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物層である。硬化物層である保護層１７を構成する硬化性樹脂（Ｘ）としては、例えば上記で説明した硬化性樹脂（Ｘ）が挙げられる。保護層１７は、偏光子１０の非偏光領域１２、又は、偏光子１０の非偏光領域１２及び位相差層７１の非位相差領域７６に含まれる硬化物を構成する硬化性樹脂（Ｘ）と同じ硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物層であることが好ましい。

保護層１７が位相差層付き偏光子４０，４１の硬化物を構成する硬化性樹脂（Ｘ）と同じ硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物層である場合、保護層１７は少なくとも偏光子１０の非偏光領域１２を被覆することが好ましい。保護層１７は、偏光子１０の片面の少なくとも一部を被覆していればよいが、偏光子１０の片面の全面を被覆することが好ましい。

光学積層体４４，４５を製造するためには、上記した位相差層付き偏光子４０，４１の製造方法において説明したもののうち、例えば、位相差層付き偏光子４０，４１の偏光子１０側に硬化性樹脂組成物をコーティングし、活性エネルギー線を照射することによって硬化性樹脂（Ｘ）（穴あき偏光子２１の貫通穴２２、又は、穴あき偏光子２１の貫通穴２２及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に充填された硬化性樹脂（Ｘ）とともに）を硬化させる。これにより、位相差層付き偏光子４０，４１の偏光子１０上に、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物層である保護層１７を形成して光学積層体４４，４５を得てもよい。

あるいは、図１０（ａ）に示す光学積層体４４を製造する場合には、次の方法で行ってもよい。上記した第２積層体３３（図４（ｄ））の穴あき偏光子２１の表面上に硬化性樹脂組成物をコーティングすることにより、穴あき偏光子２１の貫通穴２２に硬化性樹脂組成物を充填し、穴あき偏光子２１の表面にも硬化性樹脂組成物の塗布層を形成する。その後、活性エネルギー線の照射により、穴あき偏光子２１の貫通穴２２内及び表面上の硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂（Ｘ）を硬化させて、硬化物及び硬化物層である保護層１７を形成して光学積層体４４を得てもよい。この場合、位相差層７１は、偏光子１０の保護層１７を形成した側とは反対側に設ければよい。これにより、非偏光領域１２に含まれる硬化物と、保護層１７を構成する硬化物層とを一体化することができ、保護層１７を構成する硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物は、非偏光領域１２に含まれる硬化物と同じとすることができる。

図１０（ｂ）に示す光学積層体４５を製造する場合には、次の方法で行ってもよい。上記で説明した第４支持層上に、穴あき位相差層８１及び穴あき偏光子２１をこの順に積層した積層体において、穴あき偏光子２１の表面上に硬化性樹脂組成物をコーティングする。これにより、穴あき偏光子２１の貫通穴２２及び穴あき位相差層８１の貫通穴７２に硬化性樹脂（Ｘ）を含む硬化性樹脂組成物を充填し、穴あき偏光子２１の表面にも硬化性樹脂組成物の塗布層を形成する。その後、活性エネルギー線の照射により、穴あき偏光子２１の貫通穴２２内、穴あき位相差層８１の貫通穴７２内、及び穴あき偏光子２１上の塗布層に含まれる硬化性樹脂（Ｘ）を硬化させて、硬化物及び、硬化物層である保護層１７を形成して光学積層体４５を得てもよい。この場合、非偏光領域１２及び非位相差領域７６に含まれる硬化物と、保護層１７を構成する硬化物層とを一体化することができ、保護層１７を構成する硬化性樹脂（Ｘ）は、非偏光領域１２及び非位相差領域７６に含まれる硬化物を構成する硬化性樹脂（Ｘ）と同じものとすることができる。

図２（ｂ）に示す位相差層付き偏光子４１に、硬化物層である保護層１７を設ける場合は、偏光子１０の偏光領域１１と非偏光領域１２との厚み差を埋めるように保護層１７を設けてもよい。具体的には、図２（ｂ）に示す偏光子１０の、非偏光領域１２において偏光領域１１の厚みよりも小さくなっている側（図２（ｂ）の上側の表面側）において、その厚み差を埋め、かつ、偏光領域１１の表面を被覆するように、硬化性樹脂組成物をコーティングして保護層１７を設ければよい。

図２（ｄ）に示す位相差層付き偏光子４１に、硬化物層である保護層１７を設ける場合は、図２（ｄ）に示す偏光子１０の、偏光領域１１の表面よりも非偏光領域１２が突出している側（図２（ｄ）の上側の表面側）において、その厚み差を埋めるように、硬化性樹脂組成物をコーティングして保護層１７を設けてもよい。この場合、保護層１７は、非偏光領域１２の表面を被覆してもよく、被覆しなくてもよい。

硬化性樹脂組成物をコーティングする場合は、コーティングにより形成された塗布層表面を覆うように基材フィルムを設けてもよい。この場合、基材フィルムを保護層１７とし、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物層を、保護層１７を位相差層付き偏光子４１に貼合するための貼合層としてもよい。基材フィルムは、硬化性樹脂（Ｘ）の硬化後に剥離してもよい。

（光学積層体（２））
図１１（ａ）及び（ｂ）に示す光学積層体４６，４７は、図１（ｂ）及び図２（ａ）に示す位相差層付き偏光子４０，４１の両面側に保護層１７，１８を有する。光学積層体４６，４７は、位相差層付き偏光子４０，４１の片面側にのみ保護層１７（又は１８）を有するものであってもよい。位相差層付き偏光子４１は、図２（ｂ）〜（ｅ）に示す位相差層付き偏光子４１であってもよい。

保護層１７，１８は、粘着剤層又は接着剤層等の貼合層を介して位相差層付き偏光子４０，４１上に設けることができる。この場合、例えば、貼合層を介して、位相差層付き偏光子４０，４１にフィルム状の保護層１７，１８を積層すればよい。光学積層体４７が、図２（ｂ）又は（ｄ）に示す位相差層付き偏光子４１の偏光子１０側に貼合層を介して保護層１７を設けたものである場合は、偏光子１０の偏光領域１１と非偏光領域１２との厚み差を埋めるように貼合層を設けて、保護層１７を設けることが好ましい。光学積層体４７が、図２（ｃ）又は（ｅ）に示す位相差層付き偏光子４１の位相差層７１側に貼合層を介して保護層１８を設けたものである場合は、位相差層７１の位相差領域７５と非位相差領域７６との厚み差を埋めるように貼合層を設けて、保護層１８を設けることが好ましい。

保護層１７，１８は、貼合層を介さずに位相差層付き偏光子４０，４１に直接接するように設けてもよい。位相差層付き偏光子４０，４１の偏光子１０側に設けられる保護層１７，１８は、例えば、保護層１７，１８を構成する樹脂材料を含む組成物を、位相差層付き偏光子４０，４１の偏光子１０上又は位相差層７０，７１上に塗布し、この塗布層を固化又は硬化すること等によって形成することができる。光学積層体４７が、図２（ｂ）又は（ｄ）に示す位相差層付き偏光子４１の偏光子１０側に貼合層を介して保護層１７を設けたものである場合は、偏光子１０の偏光領域１１と非偏光領域１２との厚み差を埋めるように保護層１７を構成する樹脂材料を含む組成物を設けて、保護層１７を形成することが好ましい。光学積層体４７が、図２（ｃ）又は（ｅ）に示す位相差層付き偏光子４１の位相差層７１側に貼合層を介して保護層１８を設けたものである場合は、位相差層７１の位相差領域７５と非位相差領域７６との厚み差を埋めるように保護層１８を構成する樹脂材料を含む組成物を設けて、保護層１８を形成することが好ましい。

（光学積層体（３））
図１２（ａ）及び（ｂ）に示す光学積層体４８，４９は、図８（ａ）及び図９に示す偏光子複合体４２，４３の両面側に保護層１７，１８を有する。光学積層体４８，４９は、偏光子複合体４２，４３の片面側にのみ保護層１７（又は１８）を有するものであってもよい。保護層１７，１８は、粘着剤層又は接着剤層等の貼合層を介して偏光子複合体４２，４３上に設けることができる。この場合、例えば、貼合層を介して、偏光子複合体４２，４３にフィルム状の保護層１７，１８を積層すればよい。偏光子複合体４２，４３の補強材５０側に設けられる保護層１８は、例えば、補強材５０のセル５１の内部空間、及び複数のセル５１の間の隙間等を埋めるように貼合層を設けて、保護層を積層すればよい。あるいは、フィルム状の保護層の片面に貼合層となる材料の塗布層が形成された積層シートを、補強材５０上に積層することによって、補強材５０のセル５１の内部空間、及び複数のセル５１の間の隙間等に貼合層となる材料を充填して保護層を形成してもよい。

保護層１７，１８は、貼合層を介さずに偏光子複合体４２，４３に直接接するように設けてもよい。偏光子複合体４２，４３の偏光子１０側に設けられる保護層１７，１８は、例えば、保護層１７，１８を構成する樹脂材料を含む組成物を、偏光子複合体４２，４３の偏光子１０上に塗布し、この塗布層を固化又は硬化すること等によって形成することができる。偏光子複合体４２，４３の補強材５０側に設けられる保護層１８は、補強材５０のセル５１の内部空間、及び複数のセル５１の間の隙間等を埋めるように、保護層１８を構成する樹脂材料を含む組成物を設けて、保護層１８を形成してもよい。

位相差層付き偏光子４０，４１及び偏光子複合体４２，４３の片面側に設けられる保護層１７（又は１８）が、位相差層付き偏光子４０，４１及び偏光子複合体４２，４３に直接接するように設けられた層である場合、この保護層１７（又は１８）は、位相差層付き偏光子４０及び偏光子複合体４２の非偏光領域１２、又は、位相差層付き偏光子４１及び偏光子複合体４３の非偏光領域１２及び非セル領域５６に含まれる硬化物を構成する硬化性樹脂（Ｘ）と同じ硬化性樹脂（Ｘ）の硬化物層とすることができる。これにより、非偏光領域１２、又は、非偏光領域１２及び非セル領域５６に含まれる硬化物を、保護層１７（又は１８）を構成する硬化物層を構成する硬化性樹脂（Ｘ）と同じ硬化性樹脂（Ｘ）とすることができる。

保護層１７，１８は、一方を貼合層を介して設けた保護層とし、他方を貼合層を介さずに設けた保護層としてもよい。光学積層体４６〜４９に含まれる保護層１７，１８は、互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。

偏光子複合体４２，４３が、位相差層付き偏光子４０，４１の両面に補強材５０を設けた構造を有する場合、保護層１７，１８は、両面にある補強材５０のそれぞれの上に設ければよい。

（保護層）
保護層１７，１８は、光を透過可能な樹脂層であることが好ましく、樹脂フィルムであってもよく、樹脂材料を含む組成物を塗布して形成した塗布層であってもよい。樹脂層に用いられる樹脂としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性等に優れる熱可塑性樹脂であることが好ましい。熱可塑性樹脂としては、上記した原料偏光子２０の製造に用いてもよい基材フィルムを構成する熱可塑性樹脂が挙げられる。光学積層体４４〜４９，９１〜９４が両面に保護層１７，１８を有する場合、保護層１７，１８の樹脂組成は、互いに同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。

保護層１７，１８の厚みは、薄型化の観点から、通常２００μｍ以下であり、１５０μｍ以下であることが好ましく、１００μｍ以下であることがより好ましく、８０μｍ以下であってもよく、６０μｍ以下であってもよい。保護層１７，１８の厚みは、通常５μｍ以上であり、１０μｍ以上であってもよく、２０μｍ以上であってもよい。保護層１７，１８は位相差を有していても、有していなくてもよい。光学積層体４４〜４９，９１〜９４が両面に保護層１７，１８を有する場合、保護層１７，１８の厚みは、互いに同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。

（貼合層）
貼合層は、粘着剤層又は接着剤層である。粘着剤層を形成するための粘着剤及び接着剤層を形成するための接着剤としては、例えば、上記した充填材を構成するために用いる粘着剤及び接着剤が挙げられる。

＜光学表示素子用貼合層を有する積層体＞
図１及び図２に示す位相差層付き偏光子４０，４１、図８及び図９に示す偏光子複合体４２，４３、図１０〜図１２に示す光学積層体４４〜４９は、さらに、液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等の表示装置の光学表示素子（液晶パネル、有機ＥＬ素子）に貼合するための光学表示素子用貼合層を有していてもよい。

図２（ｂ）〜（ｅ）に示す位相差層付き偏光子４１のように偏光領域１１と非偏光領域１２との間、又は、位相差領域７５と非位相差領域７６との間に厚み差が生じている表面に光学表示素子用貼合層を設ける場合は、この厚み差を埋めるように光学表示素子用貼合層を設けることが好ましい。

偏光子複合体４２，４３及び光学積層体４８，４９において、補強材５０の表面に光学表示素子用貼合層を設ける場合は、補強材５０に設けられる充填材として光学表示素子用貼合層を構成する材料を用い、補強材５０のセル５１の内部空間等への充填材の充填と、光学表示素子用貼合層の形成とを同時に行ってもよい。

１０ 偏光子、１１ 偏光領域、１１ｍ 第１平面、１１ｎ 第２平面、１２ 非偏光領域、１７，１８ 保護層、２０ 原料偏光子、２１ 穴あき偏光子、２２ 貫通穴、２５ 第１支持層、２６ 第２支持層、２７ 第３支持層、３１ 第１積層体、３２ 貫通穴、３３ 第２積層体、３４ 第３積層体、３５ 第４積層体、３６ 貫通穴、３７ 第５積層体、４０，４１ 位相差層付き偏光子、４２，４３ 偏光子複合体、４４〜４９ 光学積層体、５０ 補強材、５１ セル、５３ セル隔壁、７０，７１ 位相差層、７２ 貫通穴、７５ 位相差領域、７６ 非位相差領域、８０ 基材層付き重合硬化層、８１ 穴あき位相差層、８４ 基材層、８５ 重合硬化層。

Claims (16)

1. 偏光子と、前記偏光子の一方の面側に設けられた位相差層と、を有する位相差層付き偏光子であって、
   前記偏光子は、厚みが１５μｍ以下の偏光領域と、平面視において前記偏光領域に囲まれた非偏光領域と、を有し、
   前記非偏光領域は、平面視において前記偏光領域に囲まれた貫通穴に、活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物が設けられた領域である、位相差層付き偏光子。
2. 前記位相差層は、位相差特性を有し且つ前記偏光領域に対応する領域に存在する位相差領域と、位相差特性を有さず且つ前記非偏光領域に対応する領域に存在する非位相差領域と、を有し、
   前記非偏光領域及び前記非位相差領域は、活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物を含み、
   前記非位相差領域は、平面視において前記位相差領域に囲まれた貫通穴に、活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物が設けられた領域である、請求項１に記載の位相差層付き偏光子。
3. 前記硬化物の厚みは、前記位相差層付き偏光子における前記偏光領域及び前記位相差領域を含む積層構造部分の厚みと同じである、請求項２に記載の位相差層付き偏光子。
4. 前記硬化物の厚みは、前記位相差層付き偏光子における前記偏光領域及び前記位相差領域を含む積層構造部分の厚みよりも小さい、請求項２に記載の位相差層付き偏光子。
5. 前記硬化物の厚みは、前記位相差層付き偏光子における前記偏光領域及び前記位相差領域を含む積層構造部分の厚みよりも大きい、請求項２に記載の位相差層付き偏光子。
6. 前記位相差領域は、重合性液晶化合物の重合硬化層である、請求項２〜５のいずれか１項に記載の位相差層付き偏光子。
7. 前記非偏光領域は、透光性を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の位相差層付き偏光子。
8. 前記非偏光領域の平面視における径は、０．５ｍｍ以上２０ｍｍ以下である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の位相差層付き偏光子。
9. 前記活性エネルギー線硬化性樹脂は、エポキシ化合物を含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の位相差層付き偏光子。
10. 前記エポキシ化合物は、脂環式エポキシ化合物を含む、請求項９に記載の位相差層付き偏光子。
11. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載の位相差層付き偏光子と、前記位相差層付き偏光子の少なくとも一方の面側に設けられた補強材と、を有する偏光子複合体であって、
    前記補強材は、各開口端面が前記偏光子の面に対向するように配列した複数のセルを有する、偏光子複合体。
12. 前記セルの前記開口の形状は、多角形状、円形状、又は楕円形状である、請求項１１に記載の偏光子複合体。
13. さらに、前記セルの内部空間に透光性の充填材が設けられている、請求項１２に記載の偏光子複合体。
14. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載の位相差層付き偏光子、又は請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の偏光子複合体の片面側又は両面側に保護層を有する、光学積層体。
15. 前記保護層は、前記偏光子上に設けられた活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物層である、請求項１４に記載の光学積層体。
16. 前記保護層を構成する活性エネルギー線硬化性樹脂は、前記非偏光領域に含まれる前記硬化物を構成する活性エネルギー線硬化性樹脂と同じ活性エネルギー線硬化性樹脂である、請求項１５に記載の光学積層体。
    

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