JP2021056250A - 画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】外部光の映り込みを抑制することができる上、耐擦傷性が改善されたカバー部材を有する画像表示装置を提供する。【解決手段】画像表示装置であって、表示素子と、該表示素子上に設置された、透明基材を有するカバー部材と、を有し、前記カバー部材は、前記表示素子の側に、凹凸表面を有し、前記表示素子とは反対の側に、平滑な外表面を有する、画像表示装置。【選択図】図１

Description

本発明は、画像表示装置に関する。

通常、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、およびプラズマディスプレイ等の画像表示装置は、表示素子の表示面側に、表示素子の保護のためのカバーガラスを備えている。そのような画像表示装置において、室内照明等の外部光がカバーガラスに映り込むと、表示素子から投影される画像の視認性が低下する。

そこで、そのような外部光の映り込みを抑制するため、カバーガラスの外表面には、しばしば微細な凹凸が形成される（防眩処理）。

防眩処理により、外部からカバーガラスに入射される光の反射光が散乱され、カバーガラスへの外部光の映り込みが抑制される。防眩処理としては、例えば、カバーガラスの表面をエッチングして凹凸を形成する方法、およびカバーガラスの表面に凹凸層をコーティングする方法などが知られている（例えば、特許文献１）。

特表２０１２−５２１９５８号公報

前述のような外部光の映り込みをより抑制するには、カバーガラスの表面に設けられる凹凸をなるべく大きくすることが有効である。

しかしながら、そのような凹凸が大きくなればなるほど、今度はカバーガラスの表面に傷が付きやすくなり、すなわちカバーガラスの耐擦傷性が低下するという問題が生じ得る。

本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、外部光の映り込みを抑制することができる上、耐擦傷性が改善された、カバー部材を有する画像表示装置を提供することを目的とする。

本発明では、
画像表示装置であって、
表示素子と、
該表示素子上に設置された、透明基材を有するカバー部材と、
を有し、
前記カバー部材は、前記表示素子の側に、凹凸表面を有し、前記表示素子とは反対の側に、平滑な外表面を有する、画像表示装置が提供される。

本発明では、外部光の映り込みを抑制することができる上、耐擦傷性が改善されたカバー部材を有する画像表示装置を提供することができる。

本発明の一実施形態による画像表示装置の断面を概略的に示した図である。 本発明の一実施形態による別の画像表示装置の断面を概略的に示した図である。 本発明の一実施形態によるさらに別の画像表示装置の断面を概略的に示した図である。 本発明の一実施形態によるさらに別の画像表示装置の断面を概略的に示した図である。 反射像拡散性指標値Ｒを測定する際に使用される測定装置の一例を模式的に示した図である。

以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。

（本発明の一実施形態による画像表示装置）
図１を参照して、本発明の一実施形態による画像表示装置について説明する。

図１には、本発明の一実施形態による画像表示装置（以下、「第１の画像表示装置」と称する）の断面を概略的に示す。

図１に示すように、第１の画像表示装置１００は、カバー部材１１０と、表示素子１７０とを有する。

カバー部材１１０は、表示素子１７０の前方（画像表示面側）に設置される。すなわち、カバー部材１１０は、外表面１１２および内表面１１４を有し、カバー部材１１０は、内表面１１４が表示素子１７０と対面するように配置される。

カバー部材１１０は、表示素子１７０を保護する役割を有する。カバー部材１１０の外表面１１２は、平坦な表面であり、内表面１１４は、凹凸表面である。

ここで、「（カバー部材１１０の）平坦な表面」とは、算術平均粗さＲａが８ｎｍ未満の表面を意味する。また、「カバー部材１１０の」凹凸表面」とは、算術平均粗さＲａが１０ｎｍ超の表面を意味する。

表示素子１７０は、例えば、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、またはプラズマ表示素子など、画像表示面側、すなわちカバー部材１１０側に、画像を表示できる素子で構成される。

なお、カバー部材１１０と表示素子１７０の間には、隙間、すなわち空気層Ｓが形成される。このため、カバー部材１１０と表示素子１７０の間には、１または２以上の透明なスペーサ部材（図示されていない）が設置されても良い。

カバー部材１１０は、透明基材１２０を有する。透明基材１２０は、相互に対向する第１の表面１２２および第２の表面１２４を有し、第２の表面１２４が表示素子１７０の側となるように配置される。

カバー部材１１０は、さらに、透明基材１２０の第１の表面１２２に設置された、低反射層１３０を有する。低反射層１３０は、第１の画像表示装置１００の外表面１１２から入射される外光の反射を抑制する役割を有する。

低反射層１３０の外表面は、カバー部材１１０の外表面１１２を構成する。従って、低反射層１３０の外表面は、前述の「平坦な表面」を有する。

一方、透明基材１２０の第２の表面１２４は、カバー部材１１０の内表面１１４を構成する。従って、透明基材１２０の第２の表面１２４は、前述の「凹凸表面」を有する。

このような構成の第１の画像表示装置１００では、カバー部材１１０の低反射層１３０の効果により、第１の画像表示装置１００に外部から光（外部光）が入射しても、入射光が観者の方に反射されることを有意に抑制することができる。また、外部光の一部が低反射層１３０を介して透明基材１２０まで入射しても、そのような光は、カバー部材１１０の内表面１１４で散乱され、観者側には反射されにくくなる。このため、第１の画像表示装置１００の内部に進入し、カバー部材１１０の内表面１１４で反射される光による影響も、有意に抑制される。その結果、外部光の反射によって生じ得る反射像が不鮮明になり、外部光の映り込みを有意に抑制することが可能になる。

また、第１の画像表示装置１００では、カバー部材１１０の外表面１１２が、平坦な表面となっており、このため、カバー部材１１０は、良好な耐擦傷性を有する。

従って、第１の画像表示装置１００では、外部光の映り込みを有意に抑制することができるとともに、カバー部材１１０の耐擦傷性を有意に高めることができる。

（各構成部材）
次に、第１の画像表示装置１００に含まれる各構成部材について、より詳しく説明する。なお、各構成部材を表す際には、図１に示した参照符号を使用する。

（透明基材１２０）
透明基材１２０は、例えば、ガラスまたは樹脂などの透明な材料で構成される。透明基材１２０がガラスで構成される場合、透明基材１２０は化学強化されていても良い。

透明基材１２０の第２の表面１２４は、前述のように、凹凸表面である。

この凹凸表面は、以下のような形状パラメータを有しても良い：

算術平均粗さＲａ；１０ｎｍ〜５０ｎｍであり、１３ｎｍ〜４０ｎｍが好ましい
最大高さＲｚ；１００ｎｍ〜５００ｎｍ
粗さ曲線の要素平均長さＲＳｍ；９μｍ〜２５μｍ
そのような第２の表面１２４は、例えば、透明基材１２０の表面をエッチングすることにより、形成されても良い。

一方、透明基材１２０の第１の表面１２２は、平坦な表面であっても良い。例えば、第１の表面１２２は、算術平均粗さＲａが８ｎｍ未満であっても良い。

透明基材１２０の厚さは、例えば、０．５ｍｍ〜５．０ｍｍである。

（低反射層１３０）
低反射層１３０は、外部光の正反射率を低下させる機能を有する。

低反射層１３０は、例えば、低屈折率層と高屈折率層の繰り返し構造を有する多層膜で構成されても良い。

低屈折率層は、例えば、１．１〜１．５の屈折率を有しても良い。低屈折率層は、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）で構成されても良い。

高屈折率層は、例えば、酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、および酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５）からなる群から選択された１種以上で構成されても良い。

なお、繰り返し数は、例えば２〜６である。

低反射層１３０の外表面は、平坦な表面を有する。外表面は、算術平均粗さＲａが８ｎｍ以下であっても良い。

なお、低反射層１３０は、必須の構成ではない。すなわち、第１の画像表示装置１００に所望の光学特性が得られる場合、低反射層１３０は省略しても良い。その場合、透明基材１２０の第１の表面１２２がカバー部材１１０の外表面となり、従って、第１の表面１２２が平坦な表面を有しても良い。

低反射層１３０の厚さは、例えば、２００ｎｍ〜５００ｎｍである。

（カバー部材１１０）
カバー部材１１０は、平坦な外表面１１２の側から測定される反射像拡散性指標値Ｒが０．０１５超であっても良い。この場合、外光の映り込みをよりいっそう抑制することができる。

また、カバー部材１１０は、外表面１１２の側から測定されるヘイズ率が１０％未満であっても良い。この場合、表示素子の上にカバー部材１１０を配置した際に、画像の視認性の低下を、有意に抑制することができる。

また、カバー部材１１０は、外表面１１２の側から測定される光沢度が１３０未満であっても良い。この場合、反射像による眩しさを、有意に抑制することができる。

なお、これらの光学パラメータの測定方法については、後述する。

（表示素子１７０）
表示素子１７０は、前方（カバー部材１１０の側）に画像を表示することができる限り、いかなる構成を有しても良い。表示素子１７０は、例えば、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、またはプラズマ表示素子であっても良い。

（本発明の一実施形態による別の画像表示装置）
次に、図２を参照して、本発明の一実施形態による別の画像表示装置について説明する。

図２には、本発明の一実施形態による別の画像表示装置（以下、「第２の画像表示装置」と称する）の断面を概略的に示す。

図２に示すように、第２の画像表示装置２００は、基本的に、前述の第１の画像表示装置１００と同様の構成を有する。すなわち、第２の画像表示装置２００は、カバー部材２１０と、表示素子２７０とを有する。また、カバー部材２１０と表示素子２７０の間には、空気層Ｓが介在される。

ただし、第２の画像表示装置２００においては、カバー部材２１０の構成が、第１の画像表示装置１００のカバー部材１１０の構成とは異なっている。すなわち、カバー部材２１０は、透明基材２２０の第２の表面２２４に、凹凸層２４０を有する。

換言すれば、カバー部材２１０の内表面２１４は、凹凸層２４０の外表面に対応し、従って、凹凸層２４０によって、カバー部材２１０の凹凸面が形成される。

凹凸層２４０は、屈折率が透明基材２２０の屈折率と接近するように構成される。例えば、透明基材２２０がガラスで構成される場合、凹凸層２４０は、シリカで構成されても良い。

なお、カバー部材２１０が外表面２１２に、平坦な表面を有する低反射層２３０を備える点は、第１の画像表示装置１００の場合と同様である。また、透明基材２２０の第１の表面２２２は、平坦であっても良い。

このような構成を有する第２の画像表示装置２００においても、第１の画像表示装置１００と同様の効果を得ることができる。

すなわち、第２の画像表示装置２００では、第２の画像表示装置２００のカバー部材２１０に外部から光（外部光）が入射しても、低反射層２３０によって、入射光が観者の方に反射されることを有意に抑制することができる。

また、外部光の一部が低反射層２３０を介して透明基材２２０まで入射しても、そのような光は、カバー部材２１０の内表面２１４（凹凸層２４０）で散乱され、観者側には反射されにくくなる。このため、第２の画像表示装置２００の内部に進入し、カバー部材２１０の内表面２１４で反射される光による影響も、有意に抑制される。その結果、カバー部材２１０への外部光の映り込みを有意に抑制することが可能になる。

また、第２の画像表示装置２００では、カバー部材２１０の外表面２１２が、平坦な表面となっている。このため、カバー部材２１０の耐擦傷性を有意に高めることができる。

（各構成部材）
次に、第２の画像表示装置２００を構成する構成部材について、詳しく説明する。ただし、第２の画像表示装置２００を構成する大部分の部材については、前述の第１の画像表示装置１００を構成する構成部材に関する記載が参照できる。従って、ここでは、特に凹凸層２４０について説明する。

（凹凸層２４０）
凹凸層２４０は、カバー部材２１０の内表面２１４、すなわち凹凸表面を構成する。従って、凹凸層２４０は、算術平均粗さＲａが１０ｎｍ超である。

また、凹凸層２４０の凹凸表面は、透明基材１２０の凹凸と同様の形状パラメータを有しても良い。

凹凸層２４０は、例えば、シリカを主成分とする層で構成される。ここで、「シリカを主成分とする」とは、ＳｉＯ_２を９０質量％以上含むことを意味する。

凹凸層２４０の厚さは、例えば、２００ｎｍ〜５００ｎｍである。

（凹凸層２４０の形成方法）
次に、凹凸層２４０の形成方法の一例について説明する。

凹凸層２４０は、例えば、
（ｉ）塗布組成物を調製する工程（調製工程）と、
（ｉｉ）前記塗布組成物を透明基材の第２の表面に塗布する工程（塗布工程）と、
（ｉｉｉ）前記塗布組成物を焼成する工程（焼成工程）と、
を経て形成される。以下、各工程について説明する。

（調製工程）
まず、塗布組成物が調整される。塗布組成物は、シリカ前駆体Ａおよび粒子Ｃの少なくとも一方と、溶媒Ｂとを有し、以下のように調製される。なお、「シリカ前駆体Ａ」とは、シリカを主成分とするマトリクスを形成する物質を意味する。

以下、それぞれについて説明する。

（シリカ前駆体Ａ）
シリカ前駆体Ａは、例えば、アルコキシシラン等のシラン化合物、およびその加水分解縮合物である。シリカ前駆体Ａは、テトラアルコキシシランおよびその加水分解縮合物の少なくとも一方を含むことが好ましい。

（溶媒Ｂ）
溶媒Ｂは、シリカ前駆体Ａを溶解または分散する機能、および／または粒子Ｃを分散する機能を有する。溶媒Ｂは、シリカ前駆体Ａを溶解または分散する機能と、粒子Ｃを分散する分散媒としての機能の両方を有しても良い。

溶媒Ｂは、少なくとも、沸点が１５０℃以下の第１の溶媒Ｂ１を含む。第１の溶媒Ｂ１の沸点は、５０℃〜１４５℃が好ましく、５５℃〜１４０℃がより好ましい。溶媒Ｂ１は、水であっても良い。

溶媒Ｂは、さらに、沸点が１５０℃超の第２の溶媒を含んでも良い。

（粒子Ｃ）
粒子Ｃは、例えば、金属酸化物、金属、顔料または樹脂などで構成される。金属酸化物としては、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＳｎＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＺｎＯ、ＣｅＯ_２、Ｓｂ含有ＳｎＯ_ｘ、Ｓｎ含有Ｉｎ_２Ｏ_３、ＲｕＯ_２等が挙げられる。

粒子Ｃは、中実粒子でも中空粒子でも良く、多孔質粒子等でも良い。粒子Ｃは、１種を単独で用いても、２種以上を併用しても良い。

粒子Ｃとしては、凹凸層２４０の屈折率上昇を抑え、反射率を下げることができる点から、球状、鱗片状、棒状、および針状等のシリカ粒子が好ましい。「鱗片状」とは、扁平な形状を意味する。特に、粒子Ｃとしては、球状シリカ粒子または鱗片状シリカ粒子が好ましい。

（組成）
塗布組成物に含まれるシリカ前駆体Ａと粒子Ｃの合計量は、塗布組成物中の固形分（ただし、シリカ前駆体ＡはＳｉＯ_２換算とする）のうち、３０質量％〜１００質量％が好ましく、４０質量％〜１００質量％がより好ましい。この範囲であれば、透明基材２２０との密着性に優れる凹凸層２４０を形成できる。

塗布組成物の固形分は、塗布組成物中の、溶媒Ｂを除く全成分の含有量の合計で表される。

塗布組成物の固形分濃度は、塗布組成物の全量に対し、０．０５質量％〜２質量％が好ましく、０．１質量％〜１質量％がより好ましい。

塗布組成物の塗布温度における粘度（以下、「液粘度」ともいう）は、例えば、０．００３Ｐａ・Ｓ以下であり、０．００１〜０．００３Ｐａ・Ｓであることが好ましい。塗布組成物の粘度は、Ｂ型粘度計により測定される値である。

（塗布工程）
次に、前述の塗布組成物が、透明基材２２０の第２の表面２２４上に塗布される。塗布組成物の塗布の方法は、特に限られない。塗布組成物は、例えば、スプレー法、または刷毛塗り法などにより、透明基材２２０上に塗布されても良い。

必要な場合、塗布工程の後に、乾燥処理を行っても良い。

（焼成工程）
次に、塗布組成物が焼成され、これにより、凹凸層２４０が形成される。焼成温度は、例えば、１００℃〜７５０℃であり、１５０℃〜５５０℃であることが好ましい。

以上の工程により、透明基材２２０の第２の表面２２４に、凹凸層２４０を形成することができる。

（カバー部材２１０）
第２の画像表示装置２００において、カバー部材２１０は、平坦な外表面２１２の側から測定されるヘイズ率が１０％以下であっても良い。また、カバー部材２１０は、外表面２１２の側から測定される反射像拡散性指標値Ｒが０．０１５以上であっても良い。さらに、カバー部材２１０は、外表面２１２の側から測定される光沢度が１３０以下であっても良い。

（本発明の一実施形態によるさらに別の画像表示装置）
次に、図３を参照して、本発明の一実施形態によるさらに別の画像表示装置について説明する。

図３には、本発明の一実施形態によるさらに別の画像表示装置（以下、「第３の画像表示装置」と称する）の断面を概略的に示す。

図３に示すように、第３の画像表示装置３００は、カバー部材３１０と、表示素子３７０と、両者の間に設置された接着層３８０とを有する。

カバー部材３１０は、表示素子３７０の前方（画像表示面側）に設置される。すなわち、カバー部材３１０は、外表面３１２および内表面３１４を有し、カバー部材３１０は、内表面３１４が接着層３８０と接触するように配置される。

カバー部材３１０の外表面３１２は、平坦な表面であり、内表面３１４は、凹凸表面である。

表示素子３７０は、前述のように、画像表示面側、すなわちカバー部材３１０側に、画像を表示できる素子で構成される。

また、接着層３８０は、カバー部材３１０と表示素子３７０とを接合する役割を有する。

カバー部材３１０は、透明基材３２０を有する。透明基材３２０は、相互に対向する第１の表面３２２および第２の表面３２４を有し、第２の表面３２４が表示素子３７０の側となるように配置される。

カバー部材３１０は、さらに、透明基材３２０の第１の表面３２２に設置された、低反射層３３０を有する。低反射層３３０は、第３の画像表示装置３００の外表面３１２から入射される外部光の反射を抑制する役割を有する。

低反射層３３０は、平坦な表面を有し、低反射層３３０の外表面がカバー部材３１０の外表面３１２を構成する。

一方、透明基材３２０の第２の表面３２４は、凹凸表面を有し、この第２の表面３２４には、反射散乱層３６０が設置される。反射散乱層３６０は、厚さが薄いため、反射散乱層３６０の表面形態には、透明基材３２０の第２の表面３２４の形状が反映される。従って、反射散乱層３６０の表面は、凹凸表面である。また、反射散乱層３６０の凹凸表面が、カバー部材３１０の内表面３１４の凹凸表面を構成する。

反射散乱層３６０は、入射光の一部を視認側に散乱光として反射する役割を有する。

このような構成を有する第３の画像表示装置３００においても、前述の第１および第２の画像表示装置１００、２００と同様の効果を得ることができる。

すなわち、第３の画像表示装置３００では、第３の画像表示装置３００のカバー部材３１０に外部から光（外部光）が入射しても、低反射層３３０によって、入射光が観者の方に反射されることを有意に抑制することができる。
また、外部光の一部が低反射層３３０を介して透明基材３２０まで入射しても、そのような光は、カバー部材３１０の内表面３１４で散乱され、観者側には反射されにくくなる。このため、第３の画像表示装置３００の内部に進入し、カバー部材３１０の内表面３１４で反射される光による影響も、有意に抑制される。その結果、カバー部材３１０への外部光の映り込みを有意に抑制することが可能になる。

また、第３の画像表示装置３００では、カバー部材３１０の外表面３１２が、平坦な表面となっており、このため、カバー部材３１０の耐擦傷性を有意に高めることができる。

（第３の画像表示装置の構成部材）
次に、第３の画像表示装置３００を構成する構成部材について、詳しく説明する。ただし、第３の画像表示装置３００を構成する大部分の部材については、前述の第１の画像表示装置１００を構成する構成部材に関する記載が参照できる。従って、ここでは、反射散乱層３６０および接着層３８０について詳しく説明する。

（反射散乱層３６０）
反射散乱層３６０は、カバー部材３１０の内表面３１４、すなわち凹凸表面を構成する。

従って、反射散乱層３６０の外表面は、１０ｎｍ超の最大表面粗さＲａを有する。

反射散乱層３６０の外表面は、以下のような形状パラメータを有しても良い：
算術平均粗さＲａ；５０ｎｍ〜２００ｎｍであり、８０ｎｍ〜１６０ｎｍが好ましい。

最大高さ；５００ｎｍ〜２０００ｎｍ
粗さ曲線の要素平均長さＲＳｍ；１５μｍ〜５０μｍ
反射散乱層３６０は、例えば、低屈折率層と高屈折率層の繰り返し構造を有する多層膜で構成されても良い。

低屈折率層は、例えば、１．１〜１．５の屈折率を有しても良い。低屈折率層は、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）で構成されても良い。

高屈折率層は、例えば、酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、および酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５）からなる群から選択された１種以上で構成されても良い。

なお、繰り返し数は、例えば２〜６である。

反射散乱層３６０の厚さは、例えば、５０ｎｍ〜２００ｎｍである。

（接着層３８０）
接着層３８０は、例えば、透明な樹脂で構成される。

接着層３８０は、接着剤であっても良い。接着剤としては、例えば、光学用粘着剤ＳＫダイン（登録商標）シリーズ（綜研化学社製）、光学透明接着剤ロックタイト（登録商標）シリーズ（Ｈｅｎｋｅｌ社製）、および光学用透明粘着シートＬＵＣＩＡＣＳ（登録商標）ＣＳ９８６シリーズ（日東電工株式会社製）などが挙げられる。

接着層３８０の厚さは、例えば、２０μｍ〜５００μｍである。

なお、接着層３８０は、複数の層で構成されても良い。

接着層３８０と透明基材３２０の間の屈折率差の絶対値Δｎは、０〜０．１である。このような構成とすることにより、透明基材３２０と反射散乱層３６０との界面、および反射散乱層３６０と接着層３８０との界面における屈折角度の差異が抑制され、視認性の低下を有意に抑制することができる。

Δｎは、０．０７以下であることが好ましく、０．０５以下であることがより好ましい。

（カバー部材３１０）
カバー部材３１０は、平坦な外表面３１２の側から測定されるヘイズ率が２０％未満であっても良い。また、カバー部材３１０は、外表面３１２の側から測定される反射像拡散性指標値Ｒが０．０３以上であっても良い。さらに、カバー部材３１０は、外表面３１２の側から測定される光沢度が８５以下であっても良い。

（本発明の一実施形態によるさらに別の画像表示装置）
次に、図４を参照して、本発明の一実施形態によるさらに別の画像表示装置について説明する。

図４には、本発明の一実施形態によるさらに別の画像表示装置（以下、「第４の画像表示装置」と称する）の断面を概略的に示す。

図４に示すように、第４の画像表示装置４００は、基本的に、前述の第３の画像表示装置３００と同様の構成を有する。すなわち、第４の画像表示装置４００は、カバー部材４１０と、表示素子４７０とを有する。また、カバー部材４１０と表示素子４７０は、接着層４８０により、相互に接合される。

ただし、第４の画像表示装置４００においては、カバー部材４１０の構成が、第３の画像表示装置３００のカバー部材３１０の構成とは異なっている。すなわち、カバー部材４１０は、透明基材４２０の第２の表面４２４に、凹凸層４４０を有し、反射散乱層４６０は、この凹凸層４４０の上に配置される。

前述のように、反射散乱層４６０は、厚さが薄いため、反射散乱層４６０の表面形態には、凹凸層４４０の表面形状が反映される。従って、反射散乱層４６０の表面は、凹凸表面である。また、反射散乱層４６０の凹凸表面が、カバー部材４１０の内表面４１４の凹凸表面となる。

凹凸層４４０は、屈折率が透明基材４２０の屈折率と接近するように構成される。例えば、透明基材４２０がガラスで構成される場合、凹凸層４４０は、シリカで構成されても良い。なお、凹凸層４４０の詳細については、前述の第２の画像表示装置２００における凹凸層２４０に関する説明が参照できる。

また、カバー部材４１０が外表面４１２に、平坦な表面を有する低反射層４３０を備える点は、第３の画像表示装置３００の場合と同様である。また、透明基材４２０の第１の表面４２２は、平坦な表面であっても良い。

このような構成を有する第４の画像表示装置４００においても、第１の画像表示装置１００〜第３の画像表示装置３００と同様の効果を得ることができる。

すなわち、第４の画像表示装置４００では、第４の画像表示装置４００のカバー部材４１０に外部から光（外部光）が入射しても、低反射層４３０によって、入射光が観者の方に反射されることを有意に抑制することができる。また、外部光の一部が低反射層４３０を介して透明基材４２０まで入射しても、そのような光は、カバー部材４１０の内表面４１４で散乱され、観者側には反射されにくくなる。このため、第４の画像表示装置４００の内部に進入し、カバー部材４１０の内表面４１４で反射される光による影響も、有意に抑制される。その結果、外部光の反射像が不鮮明になり、カバー部材４１０への外光の映り込みを有意に抑制することが可能になる。

また、第４の画像表示装置４００では、カバー部材４１０の外表面４１２が、平坦な表面となっており、このため、カバー部材４１０の耐擦傷性を有意に高めることができる。

第４の画像表示装置４００において、カバー部材４１０は、平坦な外表面４１２の側から測定されるヘイズ率が２０％未満であっても良い。また、カバー部材４１０は、外表面４１２の側から測定される反射像拡散性指標値Ｒが０．０３以上であっても良い。また、カバー部材４１０は、外表面４１２の側から測定される光沢度が、８５以下であっても良い。

なお、第４の画像表示装置４００を構成する構成部材については、前述の第１の画像表示装置１００〜第３の画像表示装置３００の構成部材に関する記載が参照できる。従って、ここでは、これ以上説明しない。

以上、第１の画像表示装置１００〜第４の画像表示装置４００を参照して、本発明の一実施形態について説明した。しかしながら、これらは単なる一例であって、本発明がこれらの実施例に限られないことは、当業者には明らかである。

以下、本発明の実施例について説明する。なお、以下の説明において、例１〜例１４、および例３１〜例４１は、実施例である。また、例５１〜例５２は、比較例である。

（例１）
以下の方法により、前述の図２に示したような構成のカバー部材を作製した。

（低反射層の形成）
まず、洗浄された透明基材を準備した。

透明基材には、縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ×厚さ１ｍｍのソーダライム製のガラス基板（ＦＬ１．１；旭硝子社製）を使用した。このガラス基板の波長４００ｎｍ〜１１００ｎｍの光に対する平均透過率は、９０．５％である。また、第１および第２の表面の算術平均粗さＲａは、いずれも０．５ｎｍである。

この透明基材の第１の表面に、低反射層を形成した。

低反射層は、酸化ニオブ膜（波長６３２ｎｍにおける屈折率は、約２．３５）と酸化ケイ素膜（波長６３２ｎｍにおける屈折率は、屈折率約１．４７）の繰り返し構造とし、後反応スパッタ法により成膜した。繰り返し数は４とし、すなわち、酸化ニオブ膜と酸化ケイ素膜とをそれぞれ、４層ずつ成膜した。

後反応スパッタ装置には、ＵＬＤｉｓ（アルバック社製）を使用した。酸化ニオブ膜の成膜の際のターゲットには、メタルニオブターゲットを使用した。成膜ガスはアルゴン（４０ｓｃｃｍ）とし、スパッタ電力は５ｋＷとした。酸化源ガスには酸素（１００ｓｃｃｍ）を使用し、酸化源電力は２ｋＷとした。成膜速度は、０．４２ｎｍ／分とした。

一方、酸化ケイ素膜の成膜の際のターゲットには、ポリシリコンを使用した。成膜ガスはアルゴン（４０ｓｃｃｍ）とし、スパッタ電力６ｋＷとした。酸化源ガスには酸素（１００ｓｃｃｍ）を使用し、酸化源電力は１ｋＷとした。成膜速度は、０．３ｎｍ／分とした。

各膜の厚さは、透明基材から近い順に、４．５ｎｍ（第１の酸化ニオブ膜）、６１．０ｎｍ（第１の酸化ケイ素膜）、１９．５ｎｍ（第２の酸化ニオブ膜）、３０．０ｎｍ（第２の酸化ケイ素膜）、９８．５ｎｍ（第３の酸化ニオブ膜）、１６．５ｎｍ（第３の酸化ケイ素膜）、１４．０ｎｍ（第４の酸化ニオブ膜）、および４８．０ｎｍ（第４の酸化ケイ素膜）とした。以下、係る構成の低反射層を、「ＡＲ１」と称する。

（凹凸層の形成）
次に、透明基材の第２の表面に、以下の方法で、凹凸層を形成した。

（塗布組成物の調製）
２５℃において、１５０．７ｇのソルミックスＡＰ−１１（日本アルコール販売社製）を撹拌しながら、１９ｇのテトラエトキシシラン、１．１ｇのＫＢＭ−３０６６（信越化学社製）、６．２ｇのＳＬＶ液、および２１．８ｇの水を添加した。

このうち、テトラエトキシシランおよびＫＢＭ−３０６６（アルコキシシラン）は、前述のシリカ前駆体Ａに相当する。また、ＳＬＶ液は、鱗片状シリカ粒子（サンラブリーＬＦＳ ＨＮ１５０；ＡＧＣエスアイテック社製）を解砕、分散させた分散液であり、前述の粒子Ｃに対応する。分散媒は水であり、粒子の濃度は、５ｗｔ％である。また、粒子の平均粒子径は、１８５ｎｍであり、平均アスペクト比は８０である。

この混合液に、１０質量％の硝酸水溶液を１．１ｇ添加し、６０℃で６０分間混合した。

これにより、シリカ前駆体Ａ、粒子Ｃ、および溶媒Ｂを含む溶液（以下、「溶液Ｉ」と称する）が得られた。

次に、２７．７ｇの溶液Ｉに、３７２．３ｇのＡＰ−１１を加え、十分に撹拌した。これにより、凹凸層形成用の塗布組成物を得た。

（塗布組成物の塗布）
次に、静電塗装ガンを備える静電塗装装置（液体静電コ一夕ー；旭サナック社製）を用いて、透明基材の第２の表面に、塗布組成物をスプレー塗布した。静電塗装ガンには、カップ径が７０ｍｍの回転霧化式自動静電ガン（サンベル、ＥＳＡ１２０；旭サナック社製）を使用した。塗布の回数は、３回とした。

その後、塗布組成物を３００℃で１時間焼成することにより、透明基材の第２の表面に凹凸層が形成された。

以上の方法により、カバー部材（以下、「例１に係るカバー部材」と称する）が製造された。なお、例１に係るカバー部材において、低反射層の表面は、カバー部材の外表面に対応し、凹凸層の表面は、カバー部材の内表面に対応する。

（例２〜例６）
例１と同様の方法により、カバー部材を作製した。

ただし、これらの例２〜例６では、凹凸層を形成する際に使用する塗布組成物に含まれる成分量、および静電塗装ガンによる塗布の回数を、例１の場合とは変化させた。

これにより、カバー部材（以下、それぞれ、「例２〜例６に係るカバー部材」と称する）が製造された。

（例７）
例１と同様の方法により、カバー部材を作製した。

ただし、この例７では、低反射層の構成（膜厚）を、例１の場合とは変化させた。

すなわち、低反射層は、透明基材から近い順に、７．０ｎｍ（第１の酸化ニオブ膜）、６０．２ｎｍ（第１の酸化ケイ素膜）、１９．０ｎｍ（第２の酸化ニオブ膜）、２０．０ｎｍ（第２の酸化ケイ素膜）、９４．９２ｎｍ（第３の酸化ニオブ膜）、１７．１２ｎｍ（第３の酸化ケイ素膜）、９．３２ｎｍ（第４の酸化ニオブ膜）、および７７．２１ｎｍ（第４の酸化ケイ素膜）とした。以下、係る構成の低反射層を、「ＡＲ２」と称する。

その他の製造条件は、例１の場合と同様である。これにより、カバー部材（以下、「例７に係るカバー部材」と称する）が製造された。

（例８〜例１４）
例７と同様の方法により、カバー部材を作製した。

ただし、これらの例８〜例１４では、凹凸層を形成する際に使用する塗布組成物に含まれる成分量、および静電塗装ガンによる塗布の回数を、例７の場合とは変化させた。

これにより、カバー部材（以下、それぞれ、「例８〜例１４に係るカバー部材」と称する）が製造された。

以下の表１には、例１〜例１４に係るカバー部材における低反射層および凹凸層の仕様などを、まとめて示した。

（評価）
例１〜例１４に係るカバー部材を用いて、以下の評価を実施した。

（表面形状の評価）
各カバー部材において、凹凸層の表面の形状パラメータは、ＪＩＳ Ｂ０６０１−２０１３に規定されている方法に従って測定した。具体的には、凹凸層の算術平均粗さＲａ、最大高さＲｚ、二乗平均平方根高さＲｑ、粗さ曲線の要素平均長さＲＳｍ、二乗平均平方根傾斜ＲΔｑ、スキューネスＲｓｋ、およびクルトシスＲｋｕを測定した。

測定は、カバー部材の中央近傍領域で実施した。測定値は、その領域の３点での算術平均である。

（耐擦傷性の評価）
各カバー部材において、外表面（低反射層側の表面）の耐擦傷性を評価した。耐擦傷性は、鉛筆硬度で評価した。鉛筆硬度は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に準拠して測定した。

（光学特性の評価）
各カバー部材を用いて、以下の光学特性を評価した。

（ヘイズ率）
ヘイズ率は、低反射層の側から、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００（ＩＳＯ１４７８２：１９９９）に準拠した方法により測定した。

（光沢度）
光沢度は、低反射層の側から、ＪＩＳ Ｚ８７４１：１９９７（ＩＳＯ２８１３：１９９４）に記載の６０°鏡面光沢度の評価方法に従って測定した。

（防眩性）
防眩性は、反射像拡散性指標値Ｒ（Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ Ｉｍａｇｅ Ｄｉｆｆｕｓｉｖｅｎｅｓｓ ｉｎｄｅｘ ｖａｌｕｅ）を用いて評価した。

以下、図５を参照して、反射像拡散性指標値Ｒの測定方法について説明する。

図５には、反射像拡散性指標値Ｒを測定する際に使用される測定装置の一例を模式的に示す。

図５に示すように、測定装置５０１は、光源５０７および検出器５１５を有し、測定装置５０１内に、被測定試料、すなわちカバー部材５２０が配置される。カバー部材５２０は、外表面５２２を有する。光源５０７は、カバー部材５２０に向かって、１０１ｍｍ幅のスリット状の光５３１を放射する。光５３１は、外表面５２２に照射される。検出器５１５は、外表面５２２から所定の角度で反射される、光５３１の反射光を受光し、その輝度を検出する。

カバー部材５２０は、外表面５２２が光源５０７および検出器５１５の側となるようにして、測定装置５０１内に配置される。従って、例１〜例１４に係るカバー部材の場合、外表面５２２は、低反射層の外表面である。

測定の際には、測定装置５０１の光源５０７からカバー部材５２０に向かって、光５３１が照射される。光５３１は、カバー部材５２０の法線Ｌの方向に対して、時計回りに５．７゜傾斜した角度φでカバー部材５２０に照射される。なお、実際の測定には誤差が含まれるため、角度φは、より正確には、５．７゜±０．１゜の範囲を含む。

次に、検出器５１５を用いて、カバー部材５２０の外表面５２２に入射した光のうち正反射される光（以下、「第１の反射光５３３」という）の輝度Ｒ_１を測定する。

なお、実際には、第１の反射光５３３の法線Ｌに対する角度（第１の角度α_１）は、α_１＝−φであるため、α_１＝−５．７゜±０．１°である。マイナス（−）の符号は、角度が前記法線Ｌに対して反時計回りに傾斜していることを表し、プラス（＋）の符号は、角度が前記法線に対して時計回りに傾斜していることを表す。

ここで、第１の反射光５３３は、法線Ｌに対して−５．７°傾いた方向を基準（０°）とすると、第１の角度α_１＝０゜±０．１°の範囲となる。

同様に、カバー部材５２０の外表面５２２から、法線Ｌに対して−５．７°傾いた方向を基準として第２の角度α_２で反射される反射光（以下、「第２の反射光５３５」という）の輝度Ｒ_２、および第３の角度α_３で反射される反射光（以下、「第３の反射光５３７」という）の輝度Ｒ_３を測定する。ここで、第２の角度α_２は、法線Ｌに対して−５．７°傾いた方向を基準として、α_２＝０．５°±０．１°である。また、第３の角度α_３は、法線Ｌに対して−５．７°傾いた方向を基準として、α_３＝−０．５°±０．１°である。

得られた各輝度Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３を用いて、以下の（１）式により、カバー部材５２０の反射像拡散性指標値Ｒが算出される。

反射像拡散性指標値Ｒ＝（Ｒ_２＋Ｒ_３）／（２×Ｒ_１） （１）式

反射像拡散性指標値Ｒは、観者の目視による判断結果と相関し、人の視感に近い挙動を示すことが確認されている。例えば、反射像拡散性指標値Ｒが小さな（０に近い）値を示すカバー部材５２０は、反射像の映り込みがより顕著となり、逆に反射像拡散性指標値Ｒが大きな値（１に近いほど大きい）を示すカバー部材５２０では、反射像の映り込みがより抑制される。

なお、このような測定は、例えば、ＤＭ＆Ｓ社製の装置ＳＭＳ−１０００を使用することにより実施できる。この装置を使用する場合、焦点距離が１６ｍｍのＣ１６１４Ａレンズが絞り５．６で使用される。また、カバー部材５２０の外表面５２２からカメラレンズまでの距離は、約３００ｍｍであり、Ｉｍａｇｉｎｇ Ｓｃａｌｅは、０．０２７６〜０．０２７８に設定される。

（ぎらつき）
カバー部材のぎらつきは、以下の方法により評価した。

測定対象のカバー部材を、市販の表示装置（ここでは、ｉＰａｄ−Ａｉｒ（登録商標）を使用）の上に配置する。この際には、カバー部材は、凹凸層の側が表示装置と対面するようにして、表示装置上に配置される。

次に、表示装置をＯＮにして、表示画面全体に、緑単色の画像（ＲＧＢ（０，２５５，０））を表示させる。

カバー部材を介してこの画像を視認した際に、ぎらつきが感じられる場合を×と判定し、ぎらつきが感じられない場合を○と判定した。

以下の表２には、例１〜例１４に係るカバー部材において得られた評価結果を、まとめて示した。

表２に示すように、表面形状の評価結果から、例１〜例１４に係るカバー部材は、いずれも凹凸層の表面におけるＲａが１０ｎｍ超となっていることがわかる。なお、表２には示していないが、例１〜例１４に係るカバー部材において、低反射層の表面における表面粗さ（Ｒａ）は、いずれも、８ｎｍ以下であった。

従って、例１〜例１４に係るカバー部材は、いずれも、外表面が平坦な表面となっており、かつ内表面は、凹凸表面であることがわかった。

また、耐擦傷性の評価結果から、例１〜例１４に係るカバー部材は、外表面が、いずれも１０Ｈ以上の鉛筆硬度を有することがわかった。従って、これらのカバー部材を、凹凸層の側が表示素子の側となるように配置して使用した場合、良好な耐擦傷性が得られると言える。

また、例１〜例１４に係るカバー部材では、反射像拡散性指標値Ｒが、いずれも０．０１６以上となっている。このことから、例１〜例１４に係るカバー部材では、表示素子の上に配置した際に、外光の映り込みを有意に抑制できることがわかった。

また、例１〜例１４に係るカバー部材では、光沢度が１３０未満となっており、反射像による眩しさも、有意に抑制されることがわかった。また、例１〜例１４に係るカバー部材では、ぎらつきも、有意に抑制されていることがわかった。

さらに、例１〜例１３に係るカバー部材では、ヘイズが１０％未満となっており、表示素子の上に配置した際に、画像の視認性を低下させるおそれは少ないことがわかった。

（例３１）
以下の方法により、前述の図４に示したような構成のカバー部材を作製した。

なお、この例３１において、透明基材および低反射層の構成は、前述の例７の場合と同様である。そこで、ここでは、凹凸層および反射層の形成方法について説明する。

（凹凸層の形成）
透明基材の第２の表面に、以下の方法で、凹凸層を形成した。

（塗布組成物の調製）
まず、前述の例１と同様の方法により、溶液Ｉを調製した。

次に、１６６．１ｇの溶液Ｉに、２３３．９ｇのＡＰ−１１を加え、十分に撹拌した。これにより、凹凸層形成用の塗布組成物を得た。

（塗布組成物の塗布）
次に、前述の静電塗装ガンを備える静電塗装装置（液体静電コ一夕ー；旭サナック社製）を用いて、透明基材の第２の表面に、塗布組成物をスプレー塗布した。塗布の回数は、２回とした。

その後、塗布組成物を３００℃で１時間焼成することにより、透明基材の第２の表面に凹凸層が形成された。

（反射層の形成）
次に、凹凸層の上に、反射層を形成した。

反射層は、酸化ニオブ膜（波長６３２ｎｍにおける屈折率は、約２．３５）と酸化ケイ素膜（波長６３２ｎｍにおける屈折率は、屈折率約１．４７）の繰り返し構造とし、後反応スパッタ法により成膜した。繰り返し数は２．５回とし、すなわち、酸化ニオブ膜を３層、および酸化ケイ素膜を２層成膜した。

成膜条件は、例１における（低反射層の形成）の欄に示した条件と同様である。

各膜の厚さは、透明基材から近い順に、１６．０ｎｍ（第１の酸化ニオブ膜）、３４．７５ｎｍ（第１の酸化ケイ素膜）、７２．０ｎｍ（第２の酸化ニオブ膜）、１７．５ｎｍ（第２の酸化ケイ素膜）、および２０．０ｎｍ（第３の酸化ニオブ膜）とした。以下、係る構成の反射層を、「Ｒｅ１」と称する。

以上の方法により、カバー部材（以下、「例３１に係るカバー部材」と称する）が製造された。なお、例３１に係るカバー部材において、低反射層の表面は、カバー部材の外表面に対応し、反射層の表面は、カバー部材の内表面に対応する。

（例３２〜例３６）
例３１と同様の方法により、カバー部材を作製した。

ただし、これらの例３２〜例３６では、凹凸層を形成する際に使用する塗布組成物に含まれる成分量、および静電塗装ガンによる塗布の回数を、例３１の場合とは変化させた。

これにより、カバー部材（以下、それぞれ、「例３２〜例３６に係るカバー部材」と称する）が製造された。

（例３７）
例３１と同様の方法により、カバー部材を作製した。

ただし、この例３７では、凹凸層の形成の際に、塗布組成物の塗布回数を３回とした。また、反射層の構成（膜厚）を、例３１の場合とは変化させた。

すなわち、反射層は、透明基材から近い順に、１６．０ｎｍ（第１の酸化ニオブ膜）、３５．０ｎｍ（第１の酸化ケイ素膜）、６４．０ｎｍ（第２の酸化ニオブ膜）、１２．０ｎｍ（第２の酸化ケイ素膜）、および１８．０ｎｍ（第３の酸化ニオブ膜）とした。以下、係る構成の反射層を、「Ｒｅ２」と称する。

その他の製造条件は、例３１の場合と同様である。これにより、カバー部材（以下、「例３７に係るカバー部材」と称する）が製造された。

（例３８〜例４１）
例３７と同様の方法により、カバー部材を作製した。

ただし、これらの例３８〜例４１では、凹凸層を形成する際に使用する塗布組成物に含まれる成分量、および静電塗装ガンによる塗布の回数を、例３７の場合とは変化させた。

これにより、カバー部材（以下、それぞれ、「例３８〜例４１に係るカバー部材」と称する）が製造された。

以下の表３には、例３１〜例４１に係るカバー部材における低反射層、凹凸層、および反射層の仕様などを、まとめて示した。

（評価）
例３１〜例４１に係るカバー部材を用いて、前述の評価を実施した。

以下の表４には、例３１〜例４１に係るカバー部材において得られた評価結果を、まとめて示した。

表４に示すように、表面形状の評価結果から、例３１〜例４１に係るカバー部材は、いずれも反射層の表面におけるＲａが１０ｎｍ超となっていることがわかる。なお、表４には示していないが、例３１〜例４１に係るカバー部材において、低反射層の表面における表面粗さ（Ｒａ）は、いずれも、８ｎｍ以下であった。

従って、例３１〜例４１に係るカバー部材は、いずれも、外表面が平坦な表面となっており、かつ内表面は、凹凸表面であることがわかった。

また、耐擦傷性の評価結果から、例３１〜例４１に係るカバー部材は、外表面が、いずれも１０Ｈ以上の鉛筆硬度を有することがわかった。従って、これらのカバー部材を、凹凸層の側が表示素子の側となるように配置して使用した場合、良好な耐擦傷性が得られると言える。

また、例３１〜例４１に係るカバー部材では、反射像拡散性指標値Ｒが、いずれも０．０３以上となっている。このことから、例３１〜例４１に係るカバー部材では、表示素子の上に配置した際に、外光の映り込みを有意に抑制できることがわかった。

さらに、例３１〜例４１に係るカバー部材では、ヘイズが２０％未満となっており、表示素子の上に配置した際に、画像の視認性を低下させるおそれは少ないことがわかった。また、例３１〜例４１に係るカバー部材では、ぎらつきも、有意に抑制されていることがわかった。また、例３１〜例３９に係るカバー部材では、光沢度が８５未満となっており、反射像による眩しさも、有意に抑制されることがわかった。

（例５１）
以下の方法により、カバー部材を作製した。

まず、洗浄された透明基材を準備した。透明基材には、例１の場合と同様のガラス基板（ＦＬ１．１；旭硝子社製）を使用した。

次に、この透明基材の第１の表面に、凹凸層を形成した。凹凸層は、以下のように形成した。

まず、前述の例１と同様の方法により、溶液Ｉを調製した。

次に、１１０．７ｇの溶液Ｉに、２８９．３ｇのＡＰ−１１を加え、十分に撹拌した。これにより、凹凸層形成用の塗布組成物を得た。

次に、前述の静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて、透明基材の第１の表面に、塗布組成物をスプレー塗布した。塗布の回数は、３回とした。

その後、塗布組成物を３００℃で１時間焼成することにより、透明基材の第１の表面に凹凸層が形成された。

以上の方法により、カバー部材（以下、「例５１に係るカバー部材」と称する）が製造された。なお、例５１に係るカバー部材において、凹凸層の表面は、カバー部材の外表面に対応し、透明基材の第２の表面（第１の表面とは反対側の表面）は、カバー部材の内表面に対応する。

（例５２）
例５１と同様の方法により、カバー部材を作製した。

ただし、この例５２では、凹凸層を形成する際に使用する塗布組成物に含まれる成分量、および静電塗装ガンによる塗布の回数を、例５１の場合とは変化させた。

これにより、カバー部材（以下「例５２に係るカバー部材」と称する）が製造された。

以下の表５には、例５１〜例５２に係るカバー部材における凹凸層の仕様を、まとめて示した。

（評価）
例５１〜例５２に係るカバー部材を用いて、前述の評価を実施した。

以下の表６には、例５１〜例５２に係るカバー部材において得られた評価結果を、まとめて示した。

表６に示すように、表面形状の評価結果から、例５１〜例５２に係るカバー部材は、いずれも凹凸層の表面におけるＲａが１０ｎｍ超となっており、従って、いずれも、外表面が凹凸表面となっていることがわかる。

また、耐擦傷性の評価結果から、例５１〜例５２に係るカバー部材は、外表面の鉛筆硬度が、いずれも６Ｈ程度しかないことがわかった。従って、これらのカバー部材を、透明基材の第２の表面の側が表示素子と面するように配置した場合、外表面は、あまり良好な耐擦傷性を有さないと言える。

このように、本発明の一実施形態による表示装置では、外部光の映り込みを有意に抑制することができる上、従来に比べてカバー部材の外表面の耐擦傷性を有意に高められることが確認された。

１００ 第１の画像表示装置
１１０ カバー部材
１１２ カバー部材の外表面（平坦な表面）
１１４ カバー部材の内表面（凹凸表面）
１２０ 透明基材
１２２ 第１の表面
１２４ 第２の表面
１３０ 低反射層
１７０ 表示素子
２００ 第２の画像表示装置
２１０ カバー部材
２１２ カバー部材の外表面（平坦表面）
２１４ カバー部材の内表面（凹凸表面）
２２０ 透明基材
２２２ 第１の表面
２２４ 第２の表面
２３０ 低反射層
２４０ 凹凸層
２７０ 表示素子
３００ 第３の画像表示装置
３１０ カバー部材
３１２ カバー部材の外表面（平坦な表面）
３１４ カバー部材の内表面（凹凸表面）
３２０ 透明基材
３２２ 第１の表面
３２４ 第２の表面
３３０ 低反射層
３６０ 反射散乱層
３７０ 表示素子
３８０ 接着層
４００ 第４の画像表示装置
４１０ カバー部材
４１２ カバー部材の外表面（平坦な表面）
４１４ カバー部材の内表面（凹凸表面）
４２０ 透明基材
４２２ 第１の表面
４２４ 第２の表面
４３０ 低反射層
４４０ 凹凸層
４６０ 反射散乱層
４７０ 表示素子
４８０ 接着層
５０１ 測定装置
５０７ 光源
５１５ 検出器
５２０ カバー部材
５２２ 外表面
５３１ 光
５３３ 第１の反射光
５３５ 第２の反射光
５３７ 第３の反射光
Ｓ 空気層（隙間）

Claims (14)

1. 画像表示装置であって、
   表示素子と、
   該表示素子上に設置された、透明基材を有するカバー部材と、
   を有し、
   前記カバー部材は、前記表示素子の側に、凹凸表面を有し、前記表示素子とは反対の側に、平滑な外表面を有する、画像表示装置。
2. 前記透明基材は、相互に対向する第１および第２の表面を有し、
   前記透明基材の前記第１の表面には、前記平滑な外表面を形成する低反射層が設置される、請求項１に記載の画像表示装置。
3. 前記透明基材の前記第２の表面は、前記凹凸表面である、請求項２に記載の画像表示装置。
4. 前記透明基材の前記第２の表面には、前記凹凸表面を形成する凹凸層が設置される、請求項２に記載の画像表示装置。
5. 前記カバー部材と前記表示素子との間には、空気層が設置される、請求項２乃至４のいずれか一つに記載の画像表示装置。
6. 前記カバー部材は、ヘイズ率が１０％以下である、請求項５に記載の画像表示装置。
7. 前記カバー部材は、反射像拡散性指標値Ｒが０．０１５以上である、請求項５または６に記載の画像表示装置。
8. 前記カバー部材は、光沢度が１３０未満である、請求項５乃至７のいずれか一つに記載の画像表示装置。
9. 前記カバー部材は、前記表示素子の側に、前記凹凸表面を形成する反射散乱層を有し、
   前記カバー部材と前記表示素子との間には、接着層が設置され、
   前記接着層は、前記透明基材との屈折率の差ｎの絶対値Δｎが０．０７以下である、請求項２に記載の画像表示装置。
10. 前記透明基材の前記第２の表面には、凹凸層が設置される、請求項９に記載の画像表示装置。
11. 前記カバー部材は、ヘイズ率が２０％未満である、請求項９または１０に記載の画像表示装置。
12. 前記カバー部材は、反射像拡散性指標値Ｒが０．０３以上である、請求項９乃至１１のいずれか一つに記載の画像表示装置。
13. 前記カバー部材は、光沢度が８５未満である、請求項９乃至１２のいずれか一つに記載の画像表示装置。
14. 前記表示素子は、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、およびプラズマ表示素子のいずれか一つである、請求項１乃至１３のいずれか一つに記載の画像表示装置。

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