JP2021049521A - 洗浄用支持部材、囲繞部付き洗浄用支持部材および洗浄装置 - Google Patents

Abstract

【課題】洗浄時における微粒子の発生を抑制し、被洗浄物の洗浄力を高めた洗浄用支持部材およびこれを用いた洗浄装置を提供する。【解決手段】枠体と、該枠体の内側面から枠体内に突出し互いに離間して配置された、被洗浄物を支持するための複数の第１支持部とを備えてなる洗浄用支持部材であって、枠体の下面に互いに離間した複数の脚部を有する。【選択図】図１

Description

本開示は、被洗浄物を支持する洗浄用支持部材、囲繞部付き洗浄用支持部材およびこれを用いた洗浄装置に関する。

プラズマエッチング装置等の半導体製造装置では、当該装置からの発塵を防止するために、半導体製造装置を構成している部材を洗浄することが一般的に行われている。このような洗浄に用いられる洗浄用支持部材として、非特許文献１には、（株）フロンケミカル製の「フッ素樹脂（ＰＴＦＥ）ウェハーディッパー柄付」が提案されている。この洗浄用支持部材は、柄の先端に取り付けた枠体内にウェハー等の被洗浄物を載置・保持した状態で、洗浄槽内に浸漬し、超音波洗浄するものである。

前記した部材の洗浄には、主として超音波洗浄が使用される。被洗浄物の洗浄力を高めるためには、洗浄用支持部材から生じる微粒子をできる限り少なくする必要がある。そのため、洗浄用支持部材の体積を小さくすることが要望されている。
その際、被洗浄物を洗浄槽の上から柄等で吊り下げて洗浄する場合は、洗浄液から外にはみ出した部分は汚染されやすくなる。

一方、洗浄用支持部材を洗浄槽の底に置いて、洗浄液から出ないようにすればよいが、その場合、洗浄用支持部材と洗浄槽の底との間に隙間がなくなり、被洗浄物の裏面側に微粒子が溜まってしまう。

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本開示の課題は、洗浄時における微粒子の発生を抑制し、被洗浄物の洗浄力を高めた洗浄用支持部材、囲繞部付き洗浄用支持部材およびこれを用いた洗浄装置を提供することである。

本開示の洗浄用支持部材は、枠体と、該枠体の内側面から枠体内に突出し互いに離間して配置された、被洗浄物を支持するための複数の第１支持部とを備え、枠体の下面に互いに離間した複数の脚部を有する。

本開示の洗浄装置は、洗浄用の純水または超純水が入れられた洗浄槽と、該洗浄槽の底部に設置された超音波振動子と、該超音波振動子で発生した超音波が照射される領域の洗浄槽の底部に載置される上記洗浄用支持部材と、を備えてなる。

本開示によれば、被洗浄物を洗浄槽内にて超音波等で洗浄するにあたり、枠体の内側面から突出した複数の第１支持部で被洗浄物を支持するようにしたので、洗浄用支持部材の体積を小さくすることができ、さらに、枠体の下面に複数の脚部を設けて洗浄槽の底面から被洗浄物を離隔させたので、被洗浄物に付着していた微粒子を被洗浄物の裏面側から枠体の外側に向かって容易に排出することができる。そのため、上記洗浄用支持部材を備えた洗浄装置は、微粒子の発生を抑制し、被洗浄物の洗浄力を高めることができる。

（ａ）は本開示の第１実施形態に係る洗浄用支持部材を示す平面図、（ｂ）は（ａ）のＲ部の拡大図、（ｃ）は（ａ）のＡ-Ａ´線断面図、（ｄ）は（ａ）のＢ-Ｂ´線断面図ある。 本開示の洗浄装置の一例を示す説明図である。 本開示の第２実施形態に係る洗浄用支持部材を示す平面図である。 本開示の第３実施形態に係る洗浄用支持部材を示す平面図である。 本開示の第４実施形態に係る洗浄用支持部材を示す平面図である。 本開示の第５実施形態に係る洗浄用支持部材を示す平面図である。 （ａ）は本開示の第６実施形態に係る洗浄用支持部材を示す平面図、（ｂ）は（ａ）のＣ-Ｃ´線断面図ある。 （ａ）は本開示の第７実施形態に係る洗浄用支持部材を示す平面図、（ｂ）は（ａ）のＤ−Ｄ’線断面図である。 （ａ）は本開示の第８実施形態に係る洗浄用支持部材を示す平面図、（ｂ）は（ａ）のＥ-Ｅ´線断面図ある。 （ａ）は本開示の第９実施形態に係る洗浄用支持部材を示す平面図、は（ａ）のＦ-Ｆ´線断面図ある。 （ａ）は本開示の第１０実施形態に係る囲繞部付き洗浄用支持部材を示す平面図、（ｂ）は（ａ）のＧ部の拡大図である。 本開示の第１１実施形態に係る囲繞部付き洗浄用支持部材を示す平面図である。

＜第１実施形態＞
以下、図面を参照して、本開示の第１実施形態に係る洗浄用支持部材を説明する。図１（ａ）は、当該洗浄用支持部材１を示す平面図、（ｂ）は（ａ）のＲ部の拡大図、（ｃ）は（ａ）のＡ-Ａ´線断面図、（ｄ）は（ａ）のＢ-Ｂ´線断面図ある。

図１（ａ）〜（ｄ）に示す本実施形態の洗浄用支持部材１は、円形の枠体２を有する。この枠体２は、内側面２ａと、外側面２ｂと、上面２ｃと、下面２ｄとを有する。枠体２の寸法は、被洗浄物の寸法によって変化するので、特に限定されるものではないが、例えば幅ｗは１ｍｍ以上４ｍｍ以下であるのがよく、厚さｔ（図１（ｃ）参照）は、２ｍｍ以上５ｍｍ以下であるのがよい。

枠体２の内側面２ａには、複数の第１支持部３が枠体２内に突出して設けられている。複数の第１支持部３は、被洗浄物を支持するためのものである。本実施形態では、図１（ａ）に示すように、第１支持部３は３個設けられているが、２個〜５個であってもよい。洗浄用支持部材１から生じる微粒子の発生をできる限り少なくするうえでは、第１支持部３の個数は少ないのが好ましく、２個または３個であるのがよい。

図１（ｂ）に示すように、第１支持部３は、上面視において、枠体２の内側面２ａから突出した先端部３ａの幅が、枠体２の内側面２ａにある基部３ｂの幅よりも狭くなっているのが好ましい。これにより、第１支持部３の幅が一定である場合よりも、被洗浄物の裏面と接触する面積が少なくなるので、被洗浄物の裏面に付着していた微粒子の脱離および排出が容易となる。
なお、図１（ｂ）に示す第１支持部３の形状は上面視において台形形状であるが、三角形または半円形などの曲面形状であってもよい。

図１（ｃ）、（ｄ）に示すように、枠体２の下面２ｄには複数の脚部４が設けられる。脚部４の数は、微粒子の発生を低減するうえで少ないのが好ましく、本実施形態では、脚部４は３個設けられているが、これに限定されず、３個〜５個であってもよい。
脚部４の高さｈ１は、洗浄槽の底面から被洗浄物を離隔させるのに充分な高さであるのがよく、０．５ｍｍ以上３ｍｍ以下、好ましくは２ｍｍ以下であるのがよい。これにより、洗浄槽の底面と被洗浄物との間に隙間が形成されるので、被洗浄物に付着していた微粒子を被洗浄物の裏面側から枠体２の外側に向かって容易に排出することができる。

図１（ａ）〜（ｄ）に示すように、枠体２の上面２ｃには、複数の保持部５が設けられる。このような保持部５を設けることにより、被洗浄物が薄いものであっても、枠体２から外れるのを防ぐことができる。保持部５の上面２ｃからの高さｈ２は、０．５ｍｍ以上３ｍｍ以下、好ましくは２ｍｍ以下であるのがよい。

保持部５は、図１（ａ）、（ｂ）に示すように、上面視において、枠体２の外側面２ｂ側の端面よりも枠体２の内側面２ａ側の端面の幅が狭くなっているのが好ましい。すなわち、保持部５の幅が一定である場合よりも、超音波の振動によって被洗浄物が径方向に移動しても被洗浄物の外側面と接触する面積が少ないので、被洗浄物の外側面に付着していた微粒子の脱離および排出が容易となる。
本実施形態における保持部５の形状は、上面視において台形であるが、被洗浄物の外側面と接触する面積をより少なくするうえでは、三角形であってもよく、あるいは内側面２ａ側の端面が曲面状であってもよい。

第１支持部３、脚部４および保持部５を有する枠体２は、各種の合成樹脂を成形することによって作製することができる。原料となる合成樹脂材料としては、例えばフッ素樹脂（４フッ化エチレン樹脂等）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ），ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、導電性ポリビニルアルコール等が挙げられる。

なお、本実施形態では、第１支持部３、脚部４および保持部５を１箇所に設けたが、後述する第２実施形態に係る図３に示すように、それらの全部または一部を枠体２の別々の箇所に設けて独立させてもよい。

次に、この実施形態に係る洗浄用支持部材１を備えた洗浄装置を、図２を参照して説明する。すなわち、この洗浄装置は、図２に示すように、純水または超純水等からなる洗浄液１００が入れられた洗浄槽１０１と、該洗浄槽１０１の底部に設置された超音波振動子１０２と、該超音波振動子１０２で発生した超音波が照射される領域の洗浄槽１０１の底部に載置される洗浄用支持部材１と、を備える。

被洗浄物１０３は、洗浄用支持部材１の第１支持部３上に載置され、保持部５で保持された状態で超音波される。その際、枠体２に設けた脚部４によって被洗浄物１０３は洗浄槽１０１の底部から離隔しているので、洗浄槽１０１の底面と被洗浄物１０３との間に隙間が形成される。そのため、被洗浄物１０３に付着していた微粒子を被洗浄物１０３の裏面側から枠体２の外側に向かって容易に排出することができる。
被洗浄物１０３は、例えば、プラズマエッチング装置で用いられる静電チャック、サセプター等のウェハー保持部材やガスノズルである。

＜第２実施形態＞
本開示の第２実施形態に係る洗浄用支持部材を図３に示す。この洗浄用支持部材１０は、複数の第１支持部３１および保持部５１を円形の枠体２１のそれぞれ異なる位置に設けている。本実施形態では、脚部４１は第１支持部３１と同じ箇所に形成されているが、異なる位置に設けてもよい。

保持部５１には、枠体２１の内側面２１ａ側の端面から枠体２１の外側面２１ｂ側の端面に向かって延びる第１スリット６が形成されている。これにより、超音波の振動によって被洗浄物が枠体２１の径方向に移動して保持部５１の端面に当接しても、第１スリット６を通じて、被洗浄物の外側面からの微粒子の排出を容易に行うことができる。

第１スリット６は、保持部５１の上面から枠体２１の下面まで形成されているが、保持部５１の上面に形成されているだけであってもよい。保持部５１の上面に形成される第１スリット６は、枠体２１の外側面２１ｂ側の端面に到達していてもよい。
その他は第１実施形態と同様であるので、詳細な説明は省略する。

＜第３実施形態＞
本開示の第３実施形態に係る洗浄用支持部材を図４に示す。この洗浄用支持部材１１では、第１支持部３２は、枠体２２の内側面２２ａから突出した先端部３２ａから枠体２２の内側面２２ａにある基部３２ｂに向かって延びる第２スリット７を有する。これにより、超音波洗浄時に、第２スリット７を介して、第１支持部３２の上面と被洗浄物の裏面との隙間にも気泡が回り込みやすくなるので、第１支持部３２に接触する被洗浄物の裏面からの微粒子の脱離および排出が容易となる。
その他は第１実施形態と同様であるので、詳細な説明は省略する。

＜第４実施形態＞
本開示の第４実施形態に係る洗浄用支持部材を図５に示す。この洗浄用支持部材１２では、枠体２３に設けた第１支持部３３に、厚み方向に貫通した貫通孔８が形成されている。この実施形態においても、第３実施形態における第２スリット７と同様に、超音波洗浄時に、貫通孔８を介して、第１支持部３３の上面と被洗浄物の裏面との隙間にも気泡が回り込みやすくなるので、第１支持部３３に接触する被洗浄物の裏面からの微粒子の脱離および排出が容易となる。
その他は第１実施形態と同様であるので、詳細な説明は省略する。

＜第５実施形態＞
本開示の第５実施形態に係る洗浄用支持部材を図６に示す。この洗浄用支持部材１３では、保持部５４に、枠体２４の内側面２４ａ側の端面から枠体２４の外側面２４ｂ側の端面に向かって延びる第１スリット６１が形成されており、さらに、第１支持部３４は、枠体２４の内側面２４ａから突出した先端部３４ａから枠体２４の内側面２４ａにある基部３４ｂに向かって延びる第２スリット７１が形成されている。

図６に示す第１スリット６１および第２スリット７１は互いに連通しているが、連通していなくてもよい。
このように、第１スリット６１および第２スリット７１を設けることにより、超音波洗浄時に、被洗浄物の外側面および底部からの微粒子の排出を容易にすることができる
その他は第１実施形態と同様であるので、詳細な説明は省略する。

＜第６実施形態＞
本開示の第６実施形態に係る洗浄用支持部材を図７（ａ）、（ｂ）に示す。この洗浄用支持部材１４では、第１支持部３５の上面と枠体２５の内側面との間に、それらを接続する傾斜部９が一体に形成されている。そのため、被洗浄物を傾斜部９上に載置することができ、被洗浄物の下面と第１支持部３５の上面との間に隙間を形成することができるので、被洗浄物の裏面からの微粒子の脱離および排出がさらに容易となる。

なお、第１支持部３５の上面と枠体２５の上面とが同一面を形成している場合には、傾斜部９は第１支持部３５の上面と保持部５５の端面との間に形成される。
その他は第１実施形態と同様であるので、詳細な説明は省略する。

＜第７実施形態＞
本開示の第７実施形態に係る洗浄用支持部材を図８（ａ）、（ｂ）に示す。この洗浄用支持部材１５は、複数の枠体２６が平面状に配置されてなり、隣り合う枠体２６の外側面が連結部２０で互いに連結されてなる。連結部２０で連結された複数の枠体２６は、洗浄槽の底部に載置される。これにより、単位時間当たりの洗浄の処理数を上げることができ、洗浄作業の効率が向上する。

連結部２０は、複数の枠体２６と一体に形成することができるが、連結部２０を枠体２６に着脱自在に取り付けるようにしてもよい。図８（ｂ）に示すように、連結部２０の下面には、脚部４２が設けられている。これにより、連結部２０と複数の枠体２６とを同一高さで安定に保持することができる。
枠体２６は、それ自体、図１に示す第１実施形態における枠体２と同じものであるが、第２〜第７実施形態における枠体２１、２２、２３、２４、２５であってもよい。
その他は第１実施形態と同様であるので、詳細な説明は省略する。

＜第８実施形態＞
本開示の第８実施形態に係る洗浄用支持部材を図９（ａ）、（ｂ）に示す。この洗浄用支持部材１６は、枠体２７、第１支持部３６および脚部４３に加えて、枠体２７および脚部４３の外側面から外部に向かって伸びる第２支持部１０を有する。
このような構成であると、後述する囲繞部材を第２支持部１０の上面に載置することができ、超音波の振動によって被洗浄物が洗浄用支持部材１６とともに径方向に移動しても、その移動が十分抑制されるため、被洗浄物に対する洗浄効率を向上させることができる。
第２支持部１０の上面に囲繞部材を載置することによって、囲繞部材を洗浄槽の内底面に接触させなくて済むため、囲繞部材と洗浄槽との接触によって生じる脱粒および脱離した粒子の洗浄槽内の浮遊を抑制することができる。
図９（ｂ）に示す第２支持部１０は、枠体２７および脚部４３の両外側面から外部に向かって伸びているが、その少なくともいずれかの外側面から外部に向かって伸びていてもよい。

＜第９実施形態＞
本開示の第９実施形態に係る洗浄用支持部材を図１０（ａ）、（ｂ）に示す。この洗浄用支持部材１７は、枠体２８、第１支持部３７および脚部４４に加えて、枠体２８および脚部４４の外側面から外部に向かって伸びる第２支持部１１を有しており、この第２支持部１１は、複数備えられ、互いに離間して配置されてなる。
このような構成であると、第８実施形態で得られた効果に加え、第８実施形態に示す第２支持部１０よりも第２支持部１１は、表面積を少なくすることができるので、第２支持部１１の各表面から発生する浮遊粒子の個数および量が減少するので、被洗浄物に対する洗浄効果を向上させることができる。

第１支持部３、３１、３２、３３、３４、３５、３６、３７の上面は、粗さ曲線における算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２μｍ以上１．３μｍ以下であってもよい。
上面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２μｍ以上であると、被洗浄物１０３の下面に対するアンカー効果により、被洗浄物１０３の径方向および円周方向への移動を抑制することができるため、被洗浄物に対する洗浄効率を向上させることができる。上面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１．３μｍ以下であると、浮遊粒子が支持部３、３１、３２、３３、３４、３５の上面と被洗浄物１０３の下面との隙間に浮遊粒子が侵入しにくくなるため、被洗浄物に対する洗浄効果を向上させることができる。

第１支持部３、３１、３２、３３、３４、３５、３６、３７の上面は、粗さ曲線における２５％の負荷長さ率での切断レベルと、粗さ曲線における７５％の負荷長さ率での切断レベルとの差を表す、切断レベル差（Ｒδｃ）が０．２μｍ以上１．９μｍ以下であってもよい。
上面の切断レベル差（Ｒδｃ）が０．２μｍ以上であると、被洗浄物１０３の下面に対するアンカー効果により、被洗浄物１０３の径方向および円周方向への移動を抑制することができるため、被洗浄物に対する洗浄効率をさらに向上させることができる。上面の切断レベル差（Ｒδｃ）が１．９μｍ以下であると、浮遊粒子が支持部３、３１、３２、３３、３４、３５の上面と被洗浄物１０３の下面との隙間に浮遊粒子が侵入しにくくなるため、被洗浄物に対する洗浄効果をさらに向上させることができる。

算術平均粗さ（Ｒａ）および切断レベル差（Ｒδｃ）は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１：２００１に準拠し、形状解析レーザ顕微鏡（(株)キーエンス製、ＶＫ−Ｘ１１００またはその後継機種）を用いて測定することができる。測定条件としては、まず、照明方式を同軸落射方式、倍率を２４０倍、カットオフ値λｓを無し、カットオフ値λｃを０．０８ｍｍ、カットオフ値λｆを無し、終端効果の補正を有り、測定対象とする載置面から１か所当たりの測定範囲を、例えば、１４２８μｍ×１０７１μｍに設定して、各測定範囲毎に、測定範囲の長手方向に沿って測定対象とする線を略等間隔に４本引いて、線粗さ計測を行えばよい。測定範囲は軸方向の中央部とし、計測の対象とする長さは、例えば、１２８０μｍである。

＜第１０実施形態および第１１実施形態＞
本開示の第１０実施形態に係る囲繞部付き洗浄用支持部材を図１１に、第１１実施形態に係る囲繞部付き洗浄用支持部材を図１２に、それぞれ示す。
これらの囲繞部付き洗浄用支持部材１０４、１０５は、洗浄用支持部材１７と、洗浄用支持部材１７を取り囲む囲繞部材１８、１９と、を備えている。第１支持部の上面に載置された被洗浄物１０３は、プラズマ生成用ガスを案内するための複数の供給孔１０３ａを円周方向に備えたガスノズルである。

図１１に示す囲繞部材１８は、少なくとも枠体２８を取り囲む形状が環状である。囲繞部材１８は枠体２８を取り囲む環状部１８ａと、環状部１８ａの外周側に接続し、外方に向かって伸びる棒状部１８ｂとを備えている。棒状部１８ｂは、第１棒状部１８ｂａと第２棒状部１８ｂｂと備え、第１棒状部１８ｂａと第２棒状部１８ｂｂとは環状部１８ａの径方向に伸びる同一仮想直線Ｌ上に位置している。
洗浄槽１０１が上面視して矩形状である場合、第１棒状部１８ｂａおよび第２棒状部１８ｂｂの向きを洗浄槽１０１の対角線の方向に合わせることによって、棒状部１８ｂが回転しにくくなるため、この回転に伴う棒状部１８ｂから生じる微粒子の発生を抑制することができる。
環状部１８ａの円周方向に垂直な断面は円状であってもよい。
環状部１８ａの円周方向に垂直な断面が円状であると、環状部１８ａを第２支持部材１０、１１で支持する場合、環状部１８ａは第２支持部材１０、１１の上面に対して面接触ではなく、線接触となるため、接触によって生じる両者からの脱粒が減少し、脱離した微粒子が洗浄槽１０１内を浮遊するおそれを低減することができる。
棒状部１８ｂの長手方向に垂直な断面は円状であってもよい。
棒状部１８ｂの長手方向に垂直な断面が円状であると、棒状部１８ｂの設置、振動等により洗浄槽１０１の内底面に接触したとしても、棒状部１８ｂは洗浄槽１０１の内底面に対して、面接触ではなく、線接触となるため、接触によって生じる両者からの脱粒が減少し、脱離した微粒子が洗浄槽１０１内を浮遊するおそれを低減することができる。
環状部１８ａと棒状部１８ｂとの接続部は、溶接部１８ｃを備えていてもよい。
環状部１８ａと棒状部１８ｂとは、一体的に形成されているとよいが、この形成が困難等の理由により、溶接されていてもよい。溶接部１８ｃを備えることにより、環状部１８ａと棒状部１８ｂとの接続部は、長期間に亘って、気密に封止した状態を維持することができるため、環状部１８ａと棒状部１８ｂとの隙間に微粒子が侵入、固着、脱離し、新たな浮遊粒子として、洗浄槽１０１内を汚染するおそれが低減する。

図１２に示す囲繞部材１９は平板状であり、枠体２７、２８の外側面の外径と略同じ内径の貫通孔を有している。
囲繞部材１８、１９は、例えば、硼珪酸ガラス、石英ガラス等のガラスからなり、枠体２７、２８と隙間を介して第２支持部材１０、１１の上面の外周側に載置されている。このような構成であると、超音波の振動によって被洗浄物１０３が洗浄用支持部材１６とともに径方向に移動しても、その移動が十分抑制されるため、被洗浄物１０３に対する洗浄効率を向上させることができる。

以上、本開示の洗浄用支持部材、囲繞部付き洗浄用支持部材および洗浄装置を実施形態に基づいて説明したが、本開示は以上の実施形態に限定されるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更や改良が可能である。例えば、枠体は円形に限定されるものではなく、矩形等であってもよい。また、枠体２は、合成樹脂に代えて、各種の金属やセラミックを用いて形成してもよく、あるいは合成樹脂と金属やセラミックとを併用してもよい。例えば、枠体２本体は樹脂成形品で構成し、第１支持部３、３１、３２、３３、３４、３５、３６、３７、脚部４、４１、４２、４３、４４および／または保持部５、５１、５４、５５、５６、５７は金属やセラミックで構成し、樹脂成形品である枠体２、２１、２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８本体に取り付けるようにしてもよい。

１、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７ 洗浄用支持部材
１８、１９ 囲繞部材
２、２１、２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８ 枠体
２ａ 内側面
２ｂ 外側面
２ｃ 上面
２ｄ 下面
３、３１、３２、３３、３４、３５、３６、３７ 第１支持部
３ａ、３２ａ 先端部
３ｂ、３２ｂ 基部
４、４１、４２、４３、４４ 脚部
５、５１、５４、５５、５６、５７ 保持部
６、６１ 第１スリット
７、７１ 第２スリット
８ 貫通孔
９ 傾斜部
１０、１１ 第２支持部
２０ 連結部１００ 洗浄液
１０１ 洗浄槽
１０２ 超音波振動子
１０３ 被洗浄物
１０４、１０５ 囲繞部付き洗浄用支持部材

Claims (23)

1. 枠体と、該枠体の内側面から前記枠体内に突出し、互いに離間して配置された、被洗浄物を支持するための複数の第１支持部とを備えてなる洗浄用支持部材であって、前記枠体の下面に互いに離間した複数の脚部を有する洗浄用支持部材。
2. 前記第１支持部の個数は、２個または３個である請求項１に記載の洗浄用支持部材。
3. 前記枠体は、該枠体の上面に、前記被洗浄物を囲繞する、互いに離間した複数の保持部を有する、請求項１または請求項２に記載の洗浄用支持部材。
4. 前記保持部は、前記枠体の外側面側端面の幅よりも前記枠体の内側面側端面の幅が狭い、請求項３に記載の洗浄用支持部材。
5. 前記保持部は、前記枠体の内側面側端面から前記枠体の外側面側端面に向かって延びる第１スリットを備えてなる、請求項３または請求項４に記載の洗浄用支持部材。
6. 前記第１支持部は、前記枠体の内側面から突出した先端部の幅が、前記枠体の内側面にある基部の幅よりも狭い、請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の洗浄用支持部材。
7. 前記第１支持部は、前記枠体の内側面から突出した先端部から前記枠体の内側面にある基部に向かって延びる第２スリットを備えてなる、請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の洗浄用支持部材。
8. 前記第１支持部は、厚み方向に貫通した貫通孔を備えてなる、請求項１乃至請求項７のいずれかに記載の洗浄用支持部材。
9. 前記第１支持部は、前記第１支持部の上面と前記枠体の内側面または前記保持部とを接続する傾斜部を有する、請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の洗浄用支持部材。
10. 複数の前記枠体が、平面状に配置されてなり、隣り合う前記枠体の外側面が互いに連結されてなる、請求項１乃至請求項９のいずれかに記載の洗浄用支持部材。
11. 前記第１支持部の上面は、粗さ曲線における算術平均粗さ（Ｒａ）が０．２μｍ以上１．３μｍ以下である、請求項１乃至請求項１０のいずれかに記載の洗浄用支持部材。
12. 前記第１支持部の上面は、粗さ曲線における２５％の負荷長さ率での切断レベルと、前記粗さ曲線における７５％の負荷長さ率での切断レベルとの差を表す、切断レベル差（Ｒδｃ）が０．２μｍ以上１．９μｍ以下である、請求項１乃至請求項１１のいずれかに記載の洗浄用支持部材。
13. 前記枠体および前記脚部は、その少なくともいずれかの外側面に設けた第２支持部を有する、請求項１乃至請求項１２のいずれかに記載の洗浄用支持部材。
14. 前記第２支持部は、複数備えられ、互いに離間して配置されてなる、請求項１３に記載の洗浄用支持部材。
15. 請求項１乃至請求項１４のいずれかに記載の洗浄用支持部材と、該洗浄用支持部材を取り囲む囲繞部材と、を備えてなる囲繞部付き洗浄用支持部材。
16. 少なくとも前記枠体を取り囲む前記囲繞部材の形状が環状または平板状である、請求項１５に記載の囲繞部付き洗浄用支持部材。
17. 前記囲繞部材は、前記枠体を取り囲む環状部と、該環状部の外周側に接続し、外方に向かって伸びる棒状部とを備えてなる、請求項１５または請求項１６に記載の囲繞部付き洗浄用支持部材。
18. 前記棒状部は、第１棒状部と第２棒状部と備え、前記第１棒状部と前記第２棒状部とは前記環状部の径方向に伸びる同一仮想直線上に位置する、請求項１７に記載の囲繞部付き洗浄用支持部材。
19. 前記環状部の円周方向に垂直な断面は円状である、請求項１８または請求項１９に記載の囲繞部付き洗浄用支持部材。
20. 前記棒状部の長手方向に垂直な断面は円状である、請求項１７乃至請求項１９のいずれかに記載の囲繞部付き洗浄用支持部材。
21. 前記環状部と前記棒状部との接続部は、溶接部を備えている、請求項１７乃至請求項２０のいずれかに記載の囲繞部付き洗浄用支持部材。
22. 洗浄用の純水または超純水が入れられた洗浄槽と、
    該洗浄槽の底部に設置された超音波振動子と、
    該超音波振動子で発生した超音波が照射される領域の前記洗浄槽の底部に載置される、請求項１乃至請求項１４のいずれかに記載の洗浄用支持部材と、を備えてなる洗浄装置。
23. 洗浄用の純水または超純水が入れられた洗浄槽と、
    該洗浄槽の底部に設置された超音波振動子と、
    該超音波振動子で発生した超音波が照射される領域の前記洗浄槽の底部に載置される、
    請求項１５乃至請求項２１のいずれかに記載の囲繞部付き洗浄用支持部材と、を備えてなる洗浄装置。
    
    

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