JP2021044404A - 放熱材、放熱材の製造方法及び発熱体 - Google Patents

Abstract

【課題】発熱体から生じた熱の放熱性に優れ、かつ被着体への密着性に優れる放熱材及びその製造方法、並びに前記放熱材を備える発熱体の提供。【解決手段】樹脂層と、金属が存在する領域Ａと金属が存在しない領域Ｂとからなる金属パターン層と、を有する放熱材。【選択図】なし

Description

本発明は、放熱材、放熱材の製造方法及び発熱体に関する。

近年、電子機器の小型化と多機能化に伴い、単位面積当たりの発熱量が増加する傾向にある。その結果、電子機器内で局所的に熱が集中するヒートスポットが発生し、電子機器の故障、短寿命化、動作安定性の低下、信頼性の低下等の問題が生じている。このため、発熱体で生じた熱を外部に放散させてヒートスポットの発生を緩和することの重要性が増している。

電子機器の放熱対策のひとつとして、金属板、ヒートシンク等の放熱器を電子機器の発熱体近傍に取り付けて、発熱体で生じた熱を放熱器に伝導し、外部に放散させることが行われている。しかしながら、電子機器の小型化に伴い、電子機器に放熱器を取り付けるのが困難な場合が生じている。そこで、電子機器の小型化に適応しうる放熱手段として、シート状の放熱材が検討されている。

例えば、特許文献１には、放熱シート層の上にシリコーン樹脂中に熱伝導性フィラーを分散させた塗膜が形成された放熱材が記載されている。しかしながら、このような放熱材を樹脂ケース等の樹脂部材で覆われている電子機器の周囲に配置した場合、放熱材から放射される赤外線の多くが樹脂部材を透過することなく吸収される。その結果、樹脂部材に新たなヒートスポットが生じて充分な放熱効果が得られないおそれがある。

そこで、特許文献２及び特許文献３では、金属薄膜シート上に多数のマイクロキャビティを二次元配列した波長選択性の放熱材が提案されている。この放熱材は、電子機器から放射される熱を、周囲の樹脂部材を透過可能な波長の赤外線に変換する。その結果、樹脂部材におけるヒートスポットの生成が緩和され、放熱性が改善する。

特開２０１１−２２２８６２号公報 特許第５００８６１７号 特許第６０３９８２５号

特許文献２、３に記載された放熱材は、金属体の表面に直接開口部を加工することで、マイクロキャビティの配列を形成している。マイクロキャビティのような三次元構造を金属薄膜に精度よく加工するためには、半導体素子の製造過程と同様に、マイクロキャビティの開口部と同等の開口形状を有するマスク又はレジストパターンの形成、ドライエッチング又はウエットエッチングによる金属表面の高アスペクト比加工等が必要となり、低コスト化及び生産性向上の観点から改善の余地がある。
さらに、充分な放熱効果を得るためには、放熱材は電子機器の表面に対する密着性に優れていることが求められる。

上記事情にかんがみ、本発明の一態様は、発熱体から生じた熱の放熱性に優れ、かつ被着体への密着性に優れる放熱材、及びこの放熱材の製造方法を提供することを目的とする。本発明の別の一態様は、この放熱材を備える発熱体を提供することを目的とする。

上記課題を解決するための手段には、以下の実施態様が含まれる。
＜１＞樹脂層と、金属が存在する領域Ａと金属が存在しない領域Ｂとからなる金属パターン層と、を有する放熱材。
＜２＞前記樹脂層が２つ存在し、前記金属パターン層は前記樹脂層の間に配置されている、＜１＞に記載の放熱材。
＜３＞前記２つの樹脂層の材質が同じである、＜２＞に記載の放熱材。
＜４＞前記２つの樹脂層の材質が異なる、＜２＞に記載の放熱材。
＜５＞前記樹脂層の厚みは２ｍｍ以下である、＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の放熱材。
＜６＞前記金属パターン層の間隔は１μｍ〜２０μｍの範囲である、＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の放熱材。
＜７＞樹脂層の一方の面に金属薄膜を形成する工程と、前記金属薄膜の一部を除去して金属が存在する領域Ａと金属が存在しない領域Ｂとからなる金属パターンを形成する工程と、を有する放熱材の製造方法。
＜８＞樹脂層の一方の面にマスクパターンを形成する工程と、前記マスクパターンを介して金属が存在する領域Ａと金属が存在しない領域Ｂとからなる金属パターンを形成する工程と、を有する放熱材の製造方法。
＜９＞＜１＞〜＜８＞のいずれか１項に記載の放熱材を備える、発熱体。

本発明の一態様によれば、発熱体から生じた熱の放熱性に優れ、かつ被着体への密着性に優れる放熱材、及びこの放熱材の製造方法が提供される。本発明の別の一態様によれば、この放熱材を備える発熱体が提供される。

実施例１で作製したサンプルの外観図である。 実施例１で作製したサンプルの断面模式図である。 実施例１で作製したサンプルの吸収波長スペクトルである。 実施例２で作製したサンプルの外観図である。 実施例２で作製したサンプルの断面模式図である。 実施例２で作製したサンプルの吸収波長スペクトルである。 実施例５で作製したサンプルの外観図である。 実施例５で作製したサンプルの断面模式図である。 実施例７で作製したサンプルの外観図である。 実施例７で作製したサンプルの断面模式図である。 実施例８で作製した電子機器の断面模式図である。 実施例９で作製した電子機器の断面模式図である。 実施例１０で作製したヒートパイプの断面模式図である。

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素（要素ステップ等も含む）は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本発明を制限するものではない。
本開示において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
本開示において「〜」を用いて示された数値範囲には、「〜」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
本開示において各成分に該当する粒子は複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する粒子が複数種存在する場合、各成分の粒子径は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の粒子の混合物についての値を意味する。
本開示において実施形態を図面を参照して説明する場合、当該実施形態の構成は図面に示された構成に限定されない。また、各図における部材の大きさは概念的なものであり、部材間の大きさの相対的な関係はこれに限定されない。

＜放熱材＞
本開示の放熱材は、樹脂層と、金属が存在する領域Ａと金属が存在しない領域Ｂとからなる金属パターン層と、を有する放熱材である。

上記構成を有する放熱材は、これを発熱体（特に、周囲に樹脂部材が配置された発熱体）に取り付けた場合、優れた放熱効果を発揮する。その理由は必ずしも明らかではないが、下記のように考えられる。

上記放熱材において、金属パターン層は金属が存在する領域Ａ（以下、単に領域Ａともいう）と金属が存在しない領域Ｂ（以下、単に領域Ｂともいう）とから構成される。金属パターン層に発熱体から放射された熱が伝わると、表面プラズモン共鳴が生じる。このとき、放熱材の表面温度が周囲の温度よりも高いと、放熱材表面から周囲に対して電磁波が放射される。また、放熱材の表面温度が上昇するにつれて放射エネルギーは増大する。表面プラズモン共鳴が最大となる波長を制御することで、放射される電磁波の波長域が変化する。

放熱材が有する金属パターン層の状態により、変換される電磁波の波長域が変化する。したがって、金属パターン層を構成する領域Ａ及び領域Ｂの形状、サイズ、厚み、間隔等を変更することで、変換される電磁波の波長域を制御することができる。その結果、例えば、発熱体の周囲に樹脂部材が配置されていても、樹脂部材を透過しやすい波長域の電磁波の放射率を相対的に増大させることができ、樹脂部材による蓄熱が抑制されて、放熱性が向上すると考えられる。

領域Ａ及び領域Ｂから構成される金属パターンは、表面プラズモン共鳴を生じうる状態であれば特に制限されない。たとえば、同じ形状及びサイズの領域Ａ又は領域Ｂが等間隔で配置されているパターンであることが好ましい。

領域Ａ又は領域Ｂの形状としては、円形又は多角形が挙げられる。この場合、領域Ａ又は領域Ｂのいずれか一方の形状が円形又は多角形であっても、双方の形状が円形又は多角形であってもよい。

領域Ａ又は領域Ｂの形状は、その径または一辺長が直行する２軸方向に対して等しい形状（例えば、真円及び正方形）であっても、その径または一辺長が直行する２軸方向に対して異なる形状（例えば、楕円及び長方形）であってもよい。
領域Ａ又は領域Ｂの径または一辺長が直行する２軸方向に対して等しい場合、偏波依存性が生じにくく、単一のピーク波長をもつ吸収スペクトルが生じる傾向にある。
領域Ａ又は領域Ｂの径または一辺長が直行する２軸方向に対して異なる場合、偏波依存性が生じやすく、複数のピーク波長をもつ吸収スペクトルが生じる傾向にある。

領域Ａ又は領域Ｂのサイズは、所定の波長で表面プラズモン共鳴が生じうる値であれば特に制限されない。たとえば、領域Ａ又は領域Ｂが円形である場合、その直径は０．５μｍ〜１０μｍの範囲であってもよく、領域Ａ又は領域Ｂが四角形である場合、その一辺長は０．５μｍ〜１０μｍの範囲にあってもよい。

領域Ａと領域Ｂとから構成される金属パターンの間隔は、所定の波長で表面プラズモン共鳴が生じうる値であれば特に制限されない。例えば、１μｍ〜２０μｍの範囲であってもよい。本開示において金属パターンの間隔とは、金属パターンを構成する１組の領域Ａ及び領域Ｂのサイズの合計値を意味する。

領域Ａ又は領域Ｂの厚みは、所定の波長で表面プラズモン共鳴が生じうる値であれば特に制限されない。たとえば、０．０１μｍ〜１０μｍの範囲であってもよい。

領域Ａ又は領域Ｂのアスペクト比（厚み／サイズ）は、所定の波長で表面プラズモン共鳴が生じうる値であれば特に制限されない。たとえば、０．０１〜２の範囲内であってもよい。

金属パターン層は、樹脂層の外部に配置されていても、樹脂層の内部に配置されていてもよい。金属パターン層が樹脂層の内部に配置されている場合、２つの樹脂層の間に金属パターン層が配置されていてもよい。この場合、２つの樹脂層の材質は同じであっても異なっていてもよい。
以下では、２つの樹脂層の間に金属パターン層が配置されている場合、被着体側となる樹脂層を「樹脂層１」、被着体と逆側となる樹脂層を「樹脂層２」と称する場合がある。

本開示の放熱材の具体例について、図面を示して説明する。
図１に示す放熱材は、樹脂層１及び樹脂層２と、その間に配置される金属パターン層とを備え、金属パターン層は正方形の領域Ａとその周囲の領域Ｂとから構成されている例である。
図２は図１に示す放熱材の断面図である。金属パターンを構成する領域Ａの一辺長Ｗ、厚みＴ１、間隔Ｐの値を変更することで、変換される電磁波の波長域を所定の範囲に制御することができる。

図４に示す放熱材は、樹脂層１及び樹脂層２と、その間に配置される金属パターン層とを備え、金属パターン層は円形の領域Ａとその周囲の領域Ｂとから構成されている例である。
図５は図４に示す放熱材の断面図である。金属パターンを構成する領域Ａの直径Ｄ、厚みＴ１、間隔Ｐの値を変更することで、変換される電磁波の波長域を所定の範囲に制御することができる。

図７に示す放熱材は、樹脂層と樹脂層の一方の面側に配置される金属パターン層とを備え、金属パターン層は正方形の領域Ａとその周囲の領域Ｂとから構成されている例である。
図８は図７に示す放熱材の断面図である。金属パターンを構成する領域Ａの一辺長Ｗ、厚みＴ１、間隔Ｐの値を変更することで、変換される電磁波の波長域を所定の範囲に制御することができる。

図９に示す放熱材は、樹脂層と樹脂層の一方の面側に配置される金属パターン層とを備え、金属パターン層は正方形の領域Ｂとその周囲の領域Ａとから構成されている例である。
図１０は図９に示す放熱材の断面図である。金属パターンを構成する領域Ｂの一辺長Ｗ、厚みＴ１、間隔Ｐの値を変更することで、変換される電磁波の波長域を所定の範囲に制御することができる。

（樹脂層）
本開示の放熱材は、樹脂層を有している。このため、金属製の放熱材に比べて被着体の表面の形状にあわせて変形させやすく、優れた密着性を達成できる。
樹脂層に含まれる樹脂の種類は特に制限されず、公知の熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、紫外線硬化性樹脂等から選択できる。具体的には、フェノール樹脂、アルキド樹脂、アミノアルキド樹脂、ユリア樹脂、シリコーン樹脂、メラミン尿素樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、塩化ゴム系樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。これらの中でも耐熱性、入手性等の観点からは、アクリル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等が好ましい。樹脂層に含まれる樹脂は、１種のみであっても２種以上であってもよい。

樹脂層に含まれる樹脂は、分子鎖がランダムに混じり合った状態（非晶性樹脂）であっても、分子鎖が任意の方向に配列した状態（結晶性樹脂又は液晶性樹脂）であってもよい。樹脂層に含まれる樹脂が結晶性樹脂又は液晶性樹脂である場合、樹脂層の厚み方向に沿って樹脂の分子鎖を配列させることで、発熱体から放射される熱を金属層までより効率的に伝えることができる。その結果、金属層の温度が上昇して表面プラズモン共鳴が強まり、電磁波の放射エネルギーが相対的に増大し、放熱材の放熱効果をより高めることができる。

樹脂層は、樹脂以外の材料を含んでもよい。例えば、無機粒子、添加剤等を含んでもよい。

樹脂層に含まれる無機粒子は、電気絶縁性粒子（セラミックス粒子等）であっても、導電性粒子（金属粒子、カーボン粒子等）であってもよい。放熱性向上の観点からは、無機粒子は樹脂層に含まれる樹脂よりも熱伝導性に優れていることが好ましい。
樹脂層が無機粒子を含むことで、例えば、発熱体から放射された熱を金属層までより効率的に伝えることができる。その結果、金属層の温度が上昇して表面プラズモン共鳴が強まり、電磁波の放射エネルギーが相対的に増大し、放熱材の放熱効果をより高めることができる。

セラミックス粒子の材質として具体的には、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、ジルコニア、酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化リチウム、二酸化ケイ素等の粒子が挙げられる。樹脂層に含まれるセラミックス粒子の材質は、１種のみであっても２種以上であってもよい。また、セラミックス粒子は単一の材質からなるものであっても２種以上の材質が複合化された状態であってもよい。

導電性粒子の材質として具体的には、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、銀、金、錫、チタン、クロム、パラジウム等の金属、カーボンなどが挙げられる。樹脂層に含まれる導電性粒子の材質は、１種のみであっても２種以上であってもよい。また、導電性粒子は単一の材質からなるものであっても２種以上の材質が複合化された状態であってもよい。

無機粒子の大きさは、特に制限されない。例えば、体積平均粒子径が０．１μｍ〜１μｍの範囲内であってもよい。

樹脂層が含んでもよい添加剤として具体的には、分散剤、造膜助剤、可塑剤、顔料、シランカップリング剤、粘度調整剤等が挙げられる。樹脂層に添加剤を含有させることで、放熱材に所望の機能を付与することができる。

放熱材が２つ以上の樹脂層を有する場合、２つの樹脂層の材質（樹脂層に含まれる樹脂の種類等）は同じであっても異なっていてもよい。また、樹脂層は金属パターン層を保護するための保護層、放熱材を被着体に固定するための接着層等としての機能を有していてもよい。

樹脂層の厚みは、特に制限されない。樹脂層内での熱の蓄積を抑制し、被着体に対する充分な密着性を確保する観点からは、樹脂層の厚みは２ｍｍ以下であることが好ましく、１ｍｍ以下であることがより好ましい。一方、充分な強度を確保する観点からは、樹脂層の厚みは０．１ｍｍ以上であることが好ましく、０．５ｍｍ以上であることが好ましい。放熱材が２つ以上の樹脂層を含む場合、上記厚みは２つ以上の樹脂層の合計厚みである。

樹脂層は、その一部が金属パターン層の領域Ｂを構成していてもよい。この場合、樹脂層の厚みは金属パターン層の領域Ｂの厚みを除いた部分の厚みとする。例えば、樹脂層が樹脂層１と樹脂層２とからなる場合、樹脂層１の厚みは図中のＴ２に相当する厚みである。

放熱効果の観点からは、樹脂層の金属パターン層よりも被着体側に位置する部分の厚みは小さいほど好ましい。例えば、０．５μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以下であることがより好ましく、０．１μｍ以下であることがさらに好ましい。

（金属パターン層）
金属パターン層に含まれる金属として具体的には、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、銀、金、錫、チタン、クロム、パラジウム等が挙げられる。金属層に含まれる金属は、１種のみであっても２種以上であってもよい。また、金属パターン層に含まれる金属は単体であっても合金化された状態であってもよい。

金属が存在する領域Ａと金属が存在しない領域Ｂとから構成されるパターンを有する金属パターン層は、例えば、公知のめっき法、スパッタリング法、蒸着法等の薄膜形成技術により樹脂層の上に金属薄膜を形成した後、リソグラフィ法等でマスクパターンを形成し、領域Ｂに相当する部分を除去して形成することができる。あるいは、樹脂層の上にマスクパターンを形成した後に領域Ａに該当する部分にのみ金属薄膜を形成することができる。

金属パターン層の厚みは特に制限されない。充分な表面プラズモン共鳴を得る観点からは、０．０１μｍ以上であることが好ましく、０．０５μｍ以上であることがより好ましく、０．１μｍ以上であることがさらに好ましい。一方、放熱材の被着体に対する密着性を確保する観点からは、１０μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以下であることがさらに好ましい。

金属パターン層で生じる表面プラズモン共鳴が最大となる波長（吸収率が最大となる波長、以下ピーク波長ともいう）は、熱放射に適した電磁波波長であり、かつ電磁波の放射面に配置されている媒体（例えば、電子部品の周囲に配置される樹脂部材）を透過しやすい帯域に設定することが好ましい。
具体的には、理想的な黒体表面から放射する電磁波の波長帯域である１μｍから３０μｍ程度の範囲で表面プラズモン共鳴が最大になるように設定することが好ましい。
さらに、一般的な樹脂材料を透過しやすい帯域にピーク波長を設定することが好ましい。例えば、１μｍ〜８μｍの範囲にピーク波長を有することが好ましく、１μｍ〜６μｍの範囲にピーク波長を有することがより好ましい。

放熱材が吸収又は放射する電磁波の放射率は特に制限されないが、熱放射性の観点からは、ピーク波長における吸収率又は放射率が１.０（最大値）に近いほど好ましい。例えば、０．８以上であることが好ましく、０．９以上であることがより好ましい。

電磁波の吸収率又は放射率は、電磁界解析手法によるシミュレーション、フーリエ変換赤外分光光度計等による測定などで得ることができる。キルヒホッフの法則により、電磁波の吸収率と放射率は等しいと考えることができる。具体的には、放熱材に対して電磁波を入射したときの、各波長の透過率と反射率を算出または測定し、下記式にて計算することができる。
吸収率（放射率）＝１−透過率−反射率

本開示の放熱材は、これを発熱体の表面に取り付けることで、発熱体表面の温度を低減することができる。発熱体の種類は、特に制限されない。例えば、電子機器に含まれるＩＣ（集積回路）、半導体素子等の電子部品、電子部品を搭載した実装基板、ヒートパイプなどが挙げられる。

発熱体に放熱材が取り付けられる態様は、特に制限されない。例えば、放熱材の取り付け面側に形成した接着層を用いて取り付けても、別途接着剤等を用いて取り付けてもよい。

＜放熱材の製造方法＞
本開示の放熱材の製造方法（第１実施形態）は、樹脂層の一方の面に金属薄膜を形成する工程と、前記金属薄膜の一部を除去して金属が存在する領域Ａと金属が存在しない領域Ｂとからなる金属パターンを形成する工程と、を有する放熱材の製造方法である。

本開示の放熱材の製造方法（第２実施形態）は、樹脂層の一方の面にマスクパターンを形成する工程と、前記マスクパターンを介して金属が存在する領域Ａと金属が存在しない領域Ｂとからなる金属パターンを形成する工程と、を有する放熱材の製造方法である。

必要に応じ、上記方法は金属パターンの上に別の樹脂層を配置する工程をさらに有してもよい。
上記方法によれば、例えば、金属部材の表面に凹凸パターンを形成して放熱材を製造する場合に比べ、簡易な手法で放熱材を製造することができる。
上記方法において金属薄膜及びマスクパターンを形成する方法は特に制限されず、公知の手法で行うことができる。

上記方法における樹脂シートに含まれる樹脂は、上述した放熱材の樹脂層に含まれる樹脂と同様であってよく、その詳細及び好ましい態様も同様である。樹脂シートは、必要に応じて上述した無機粒子、添加剤等を含有してもよい。
上記方法で形成される金属パターンは、上述した放熱材が備える金属パターン層と同様であってよく、その詳細及び好ましい態様も同様である。

＜発熱体＞
本開示の発熱体は、上述した放熱材を備える。発熱体の種類は特に制限されない。例えば、電子機器に含まれるＩＣ（集積回路）、半導体素子等の電子部品、電子部品を搭載した実装基板、ヒートパイプなどが挙げられる。
本開示の発熱体、周囲に樹脂部材（樹脂ケース、封止樹脂等）が配置された状態であってもよい。

放熱材による表面プラズモン共鳴を高める観点からは、発熱体の放熱材が取り付けられる表面の材質は、金属又は放射する電磁波の波長帯域で金属と同様に複素誘電率の実部が負となる媒質（例えば、ＴｉＮ、ＺｒＮ等の金属窒化物）であることが好ましい。あるいは、発熱体の放熱材が取り付けられる表面に、金属又は放射する電磁波の波長帯域で金属と同様に複素誘電率の実部が負となる媒質からなるシートが搭載されていることが好ましい。

以下、実施例を参照して本開示をさらに詳細に説明する。ただし本開示は、以下の実施例に記載された内容に限定されるものではない。

＜実施例１＞
ポリカーボネートフィルム（厚み３０μｍ）の片面に、高周波（ＲＦ）マグネトロンスパッタリング装置で厚み０．１μｍのアルミニウム膜を成膜した。アルミニウム膜に対し、周知のフォトリソグラフィー技術により、図１及び図２に示すような正方形の領域Ａが配列した金属パターンを形成した。各サンプルの金属パターン層は、厚みＴ１を０．１μｍ、間隔Ｐを３μｍ、一辺長さＷを表１に示す値とした。

次いで、ポリカーボネート系ワニスをキャップコーターにより離形処理を施した剥離フィルム上に塗布し、約１４０℃で約８分間乾燥を行い、厚み約０．２μｍのポリカーボネート層を形成した。このポリカーボネート層を金属パターンの上にラミネート法で圧着して、厚みＴ２が０．１μｍのポリカーボネート層（樹脂層１）と厚みが３０μｍのポリカーボネートフィルム（樹脂層２）との間に金属パターン層が配置された放熱材ＲＩ〜ＴＩＶを作製した。

作製した放熱材の金属パターン層から放射される電磁波の波長域が変化しているか否かを実証するために、ＲＣＷＡ（Ｒｉｇｏｒａｏｕｓ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｗａｖｅ Ａｎａｌｙｓｉｓ）法に基づく数値シミュレーションを実施し、吸収波長スペクトルを評価した。この手法は、平面波が周期構造に入射したときの回折波のふるまいを解析する際にしばしば用いられる。結果を表１及び図３に示す。図３には、比較例１として後述する厚み３０μｍの樹脂層で得られる吸収波長スペクトルも併記する。

図３に示すように、いずれのサンプルでも、樹脂の吸収が一般的に小さい波長８μｍ以下の帯域で、吸収率が最大となる波長（ピーク波長、λｐ）が観察された。また表１に示すように、Ｗの値が大きくなるにつれてピーク波長λｐも長くなる傾向がみられた。
なお、いずれのサンプルでもλｐでの吸収率が０．９以上であり、対応する波長域における比較例１の吸収率よりも高かった。

＜実施例２＞
離型処理を施した剥離フィルム上に液状エポキシ系樹脂組成物をキャップコーターで塗布し、硬化して、１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚み０．２μｍのエポキシ樹脂層を形成した。エポキシ樹脂層の上に、無電解めっき法で厚み０．１μｍのニッケル膜を形成した。ニッケル膜に対し、周知のエッチング法で図４及び図５に示すような円形の領域Ａが配列した金属パターンを形成した。各サンプルの金属パターン層は、領域Ａの厚みＴ１を０．１μｍ、間隔Ｐを３μｍ、直径Ｄを表１に示す値とした。

次いで、金属パターンの上に、厚み３０μｍのポリカーボネートシートをラミネート法で圧着して、厚みＴ２が０．１μｍのエポキシ樹脂層（樹脂層１）とポリカーボネート層（樹脂層２）の間に金属パターン層が配置された放熱材ＣＩ〜ＣＩＶを作製した。
実施例１と同様にして、金属パターン表面から放射される電磁波の吸収スペクトル分布を評価した。結果を図６及び表２に示す。

図６に示すように、いずれのサンプルでも、樹脂の吸収が一般的に小さい波長８μｍ以下の帯域で、吸収率が最大となるピーク波長（λｐ）が観察された。また表１に示す通り、Ｗの値が大きくなるにつれてピーク波長λｐも長くなる傾向がみられた。
なお、いずれのサンプルでもλｐでの吸収率が０．９以上であり、対応する波長域における比較例１の吸収率よりも高かった。

＜実施例３＞
ポリカーボネートフィルムの厚みを０．１ｍｍに変更したこと以外は実施例１と同様にして作製した放熱材サンプルＲＩＩを実施例３とした。

＜実施例４＞
ポリカーボネートフィルムの厚みを０．１ｍｍに変更したこと以外は実施例２と同様にして作製した放熱材サンプルＣＩＩＩを実施例４とした。

＜実施例５＞
離型処理を施した剥離フィルム上に液状エポキシ系樹脂組成物をキャップコーターで塗布し、硬化させて、１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚み０．１μｍのエポキシ樹脂層を形成した。エポキシ樹脂層の上に、無電解めっき法で厚み０．１μｍのニッケル膜を形成した。ニッケル膜に対し、周知のエッチング法で図７及び図８に示すような四角形の領域Ａが配列した金属パターンを形成して、厚みＴ２が０．１μｍの樹脂層の上に金属パターン層が配置された放熱材を得た。金属パターンは、領域Ａの一辺長Ｗを１．３μｍ、間隔Ｐを４．５μｍとした。
図示しないが、放熱材の吸収波長スペクトルをシミュレーションで求めた結果、４．２μｍのピーク波長で０．９以上の吸収率が得られた。

＜実施例６＞
離型フィルム上に、液状エポキシ系樹脂組成物をキャップコーターで厚みが約０．２μｍになるように塗布し、常温（２５℃）で１０分〜１５分放置した後に１００℃で３０分乾燥させた。その後、空気に触れていた上面を離型フィルムで覆い、熱プレス（熱板１３０℃、圧力１ＭＰａ，処理時間１分）により平坦化処理を行い、エポキシ樹脂層の両面が離型フィルムで覆われているＢステージシートを得た。

次いで、ポリカーボネートフィルム（厚み約０．１ｍｍ、１００ｍｍ×１００ｍｍ）の片面に、高周波（ＲＦ）マグネトロンスパッタリング装置で、厚み０．１μｍのアルミニウム膜を成膜した。アルミニウム膜に対し、周知のフォトリソグラフィー技術で、一辺長Ｗが１．１μｍの正方形の領域Ａが間隔３μｍで配列した金属パターンを形成した。
Ｂステージシートの一方の離型フィルムを剥し、エポキシ樹脂層を金属パターンにラミネート法で圧着することで、接着層としても機能する厚みＴ２が０．１μｍの半硬化エポキシ樹脂層（樹脂層１）とポリカーボネートフィルム（樹脂層２）との間に金属パターン層が配置された状態の放熱材を得た。

＜実施例７＞
ポリカーボネートフィルム（厚み約０．１ｍｍ、１００ｍｍ×１００ｍｍ）の片面に、高周波（ＲＦ）マグネトロンスパッタリング装置で、厚み０．１μｍのアルミニウム膜を成膜した。アルミニウム膜に対し、周知のフォトリソグラフィー技術により、図９及び図１０に示すような正方形の開口（領域Ｂ）が配列した金属パターンを形成した。領域Ｂの一辺長Ｗは１．６μｍ、間隔Ｐは３μｍとした。

次いで、離形処理を施した剥離フィルム上にポリカーボネート系ワニスをキャップコーターで塗布し、約１４０℃で約８分間乾燥を行い、厚み約０．３μｍのポリカーボネート層を形成した。このポリカーボネート層を金属パターンにラミネート法で圧着することで、厚みＴ２が０．２μｍのポリカーボネート層（樹脂層１）とポリカーボネートフィルム（樹脂層２）との間に金属パターン層が配置された状態の放熱材を得た。
図示しないが、放熱材の吸収波長スペクトルをシミュレーションで求めた結果、４．６μｍのピーク波長で０．９５以上の吸収率が得られた。

＜比較例１＞
アクリル系樹脂１００質量％に対して３０質量％の酢酸ブチルを混合し樹脂組成物を作製した。この樹脂組成物を吹付塗装装置を用いて１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚み１ｍｍのアルミニウム板の全面に吹付塗装し、組成物層を形成した。この組成物層を自然乾燥させ、６０℃、３０分で加熱硬化させて、膜厚が３０μｍのサンプルを作製した。

＜比較例２＞
アクリル系樹脂９５体積％と、二酸化ケイ素粒子５体積％を含む市販の熱放射性塗料を、吹付塗装装置を用いて１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚み１ｍｍのアルミニウム板に吹付塗装し、組成物層を形成した。この組成物層を自然乾燥させ、６０℃、３０分で加熱硬化させて、膜厚が３０μｍのサンプルを作製した。

＜放熱性の評価＞
実施例３〜７及び比較例１、２で作製した放熱材を用いて、下記の手法により放熱性の評価を行った。結果を表３に示す。
市販の面状発熱体（ポリイミドヒーター）をアルミニウム板（５０ｍｍ×８０ｍｍ，厚み２ｍｍ）で挟む。アルミニウム板の表面に、Ｋ熱電対をアルミニウム用はんだで接着する。一方のアルミニウム板の両面の表面全体に放熱材を密着させる。サンプルが貼り付けられたアルミニウム板を、２５℃に設定した恒温槽中央に静置し、アルミニウム板表面の温度変化を測定する。この際、ヒーターの出力は，サンプルが形成されていない状態のアルミニウム板の表面温度が１００℃になるように設定する。ヒーターは一定の熱量を発生しているので、サンプルの放熱効果が高いほど、アルミニウム板表面の温度は低下する。すなわち、アルミニウム板の表面温度が低くなるほど放熱効果が高いといえる。測定したアルミニウム板の表面温度（最高温度）を表３に示す。

表３に示すように、金属パターン層を有するサンプルをアルミニウム板に取り付けた実施例３〜７では、金属パターン層を有しないサンプルをアルミニウム板に取り付けた比較例１、２に比べ、アルミニウム板の表面温度の低減の度合いが大きく、優れた放熱効果を示した。

樹脂中に二酸化ケイ素粒子が分散したサンプルを取り付けた比較例２では、比較例１に比べてアルミニウム板の表面温度が低かったが、実施例に比べるとその低減効果は小さかった。

＜実施例８＞
図１１に示す構成の電子機器に、実施例６で作製した放熱材（放熱材１、２）を取り付けて、温度低減効果を調べた。

図１１に示す電子機器は、電子部品（発熱体）と、これらが実装された回路基板を含んでいる。回路基板は公知のガラスエポキシ基板であり、その表面に銅の配線板が備えられている。一部の電子部品の直下の回路基板には、貫通孔（サーマルビア）が形成されて、回路基板裏面と熱的につなげられている。放熱材１は、樹脂層１側の面が回路基板に貼り付けられ、回路基板と樹脂ケースとで挟み込まれている。放熱材１は、緩衝材としても機能する。
また、放熱材２が電子部品の素子搭載側の面に取り付けられている。この電子機器を作動したところ、電子部品の最高温度が１２５℃（放熱材なし）から８４℃に低下した。

＜実施例９＞
図１２に示す構成の電子機器に、実施例６で作製した放熱材（放熱材１）と、実施例５で作製した放熱材（放熱材２）を取り付けて、温度低減効果を調べた。
図１２に示す電子機器は、図１１に示す電子機器と異なり、樹脂ケースの代わりに封止樹脂が配置されている。さらに、１個の放熱材１が複数の電子部品に対応するように連続して設けられている。この電子機器を作動したところ、電子部品の温度が１４５℃（放熱材なし）から９１℃に低下した。

＜実施例１０＞
図１２に示すようなヒートパイプ（発熱体）に、実施例４で作製した放熱材を取り付けて、温度低減効果を調べた。
図１２に示すヒートパイプはステンレス鋼の管（直径３２ｍｍ）であり、実施例４で作製した放熱材の樹脂層１側の面が貼り付けられている。このヒートパイプの内部に９０℃の水を流したところ、表面温度が８５℃（放熱材なし）から６３℃に低下した。

Claims (9)

1. 樹脂層と、金属が存在する領域Ａと金属が存在しない領域Ｂとからなる金属パターン層と、を有する放熱材。
2. 前記樹脂層が２つ存在し、前記金属パターン層は前記樹脂層の間に配置されている、請求項１に記載の放熱材。
3. 前記２つの樹脂層の材質が同じである、請求項２に記載の放熱材。
4. 前記２つの樹脂層の材質が異なる、請求項２に記載の放熱材。
5. 前記樹脂層の厚みは２ｍｍ以下である、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の放熱材。
6. 前記金属パターン層の間隔は１μｍ〜２０μｍの範囲である、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の放熱材。
7. 樹脂層の一方の面に金属薄膜を形成する工程と、前記金属薄膜の一部を除去して金属が存在する領域Ａと金属が存在しない領域Ｂとからなる金属パターンを形成する工程と、を有する放熱材の製造方法。
8. 樹脂層の一方の面にマスクパターンを形成する工程と、前記マスクパターンを介して金属が存在する領域Ａと金属が存在しない領域Ｂとからなる金属パターンを形成する工程と、を有する放熱材の製造方法。
9. 請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の放熱材を備える、発熱体。

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