JP2021043014A - X線計測装置の校正方法 - Google Patents
X線計測装置の校正方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021043014A JP2021043014A JP2019163979A JP2019163979A JP2021043014A JP 2021043014 A JP2021043014 A JP 2021043014A JP 2019163979 A JP2019163979 A JP 2019163979A JP 2019163979 A JP2019163979 A JP 2019163979A JP 2021043014 A JP2021043014 A JP 2021043014A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- calculated
- calculation step
- ray source
- matrix
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 50
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 106
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims abstract description 22
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 20
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 13
- 230000009466 transformation Effects 0.000 claims description 46
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 26
- 238000013519 translation Methods 0.000 claims description 12
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 abstract description 7
- HPNSNYBUADCFDR-UHFFFAOYSA-N chromafenozide Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C(=O)N(NC(=O)C=2C(=C3CCCOC3=CC=2)C)C(C)(C)C)=C1 HPNSNYBUADCFDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000014616 translation Effects 0.000 description 11
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 3
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- QNRATNLHPGXHMA-XZHTYLCXSA-N (r)-(6-ethoxyquinolin-4-yl)-[(2s,4s,5r)-5-ethyl-1-azabicyclo[2.2.2]octan-2-yl]methanol;hydrochloride Chemical compound Cl.C([C@H]([C@H](C1)CC)C2)CN1[C@@H]2[C@H](O)C1=CC=NC2=CC=C(OCC)C=C21 QNRATNLHPGXHMA-XZHTYLCXSA-N 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
- G01B15/04—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring contours or curvatures
- G01B15/045—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring contours or curvatures by measuring absorption
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
- G01B15/04—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring contours or curvatures
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B21/00—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant
- G01B21/02—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring length, width, or thickness
- G01B21/04—Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring length, width, or thickness by measuring coordinates of points
- G01B21/042—Calibration or calibration artifacts
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/04—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
- G01N23/046—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material using tomography, e.g. computed tomography [CT]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/03—Investigating materials by wave or particle radiation by transmission
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/10—Different kinds of radiation or particles
- G01N2223/101—Different kinds of radiation or particles electromagnetic radiation
- G01N2223/1016—X-ray
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/60—Specific applications or type of materials
- G01N2223/646—Specific applications or type of materials flaws, defects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Pulmonology (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
Description
Rj=[rj1 rj2 rj3] (2)
PPj=A[rj1 rj2 rj3 Tj] (3)
Xm=−inv(Rj)*Tj (4)
Xl=Dis(1〜M)+Xb (5)
Rk=[rk1 rk2 rk3] (6)
Hk=A[rk1 rk2 Tk] (7)
Xs=−inv(Rk)*Tk (8)
ImDis_ij=P*(Disi+Xlj) (9)
CImDis_ij=P*(Disi+Xlj) (10)
EV=Σ(ImDis_ij―CImDis_ij)^2 (11)
102…校正治具
104…板状部材
106…球
108…本体部
110…X線遮蔽カバー
112…ベース
114…線源支持台
116…X線源
118…X線
120…回転テーブル
122…テーブル支持台
124…X線画像検出器
124A…検出面
126…検出器支持台
128…ホストコンピュータ
130…モーションコントローラ
A…内部パラメータ行列
Ax…回転軸
Cc…X線源からのX線画像検出器への垂線の足の位置
CImDis(1〜M)_Sphr_(1〜N)、ImDis(1〜M)_Sphr_(1〜N)、ImPosk_Sphr_(1〜N)、CImDis_ij、ImDis_ij、…球の投影像の重心位置
Cp…回転中心位置
D…球の直径
Disi…i番目のテーブル位置
Fb、Fs…軌跡
FCD…X線源と回転中心位置との距離
f…X線源とX線画像検出器との距離
Hk…射影変換行列
i、j、k、M、N、Q…数
P…射影行列
Posk…k番目の回転位置
PPj…個別射影行列
Rj…j番目の回転行列
Rk…k番目の回転行列
X…球の相対位置
Xa…球の絶対位置
Xb…球の移動位置
Xl…球の補正後移動位置
Xm…X線源の移動位置
Xs…X線源の絶対位置
α…所定角度
Claims (13)
- X線を用いて被測定物を三次元形状計測するX線計測装置の校正方法であって、
前記X線計測装置は、前記X線を発生させるX線源と、前記被測定物を回転可能に載置する回転テーブルと、該被測定物を透過した該X線を検出するX線画像検出器と、を備え、
該X線画像検出器への投影像によって特定可能な形状の基準物体を特定の相対位置間隔でN箇所(N≧4)に配置可能な校正治具を、前記回転テーブルに載置する載置工程と、
前記基準物体の特定の相対位置間隔を変化させずにN箇所に配置された該基準物体の平行移動を複数回行い、該平行移動の前後に前記X線を前記校正治具に照射し前記X線画像検出器の出力から、N箇所にある該基準物体それぞれの投影像の特徴点の位置を特定する前段特徴位置算出工程と、
前記平行移動の前後の位置と対応するN箇所にある該基準物体それぞれの投影像の特徴点の位置とから、該基準物体の前記X線画像検出器の検出面への射影変換を行う個別変換行列をN箇所にある該基準物体それぞれに対して算出する個別行列算出工程と、
前記個別変換行列に基づきN箇所にある前記基準物体それぞれの移動位置を算出する個別位置算出工程と、
前記平行移動の前後の位置それぞれに、N箇所にある該基準物体それぞれの移動位置を付加し、N箇所にある該基準物体の相対位置を算出する座標同一工程と、
前記X線を前記校正治具に照射し前記X線画像検出器の出力から、N箇所にある該基準物体それぞれの投影像の特徴点の位置を特定する後段特徴位置算出工程と、
N箇所にある該基準物体それぞれの投影像の特徴点の位置と前記相対位置から、該基準物体の前記X線画像検出器の検出面への射影変換を行う第1変換行列を算出する変換行列算出工程と、
前記回転テーブルを所定角度で2回以上回転させ、前記後段特徴位置算出工程から前記変換行列算出工程までを繰り返す回転検出工程と、
前記第1変換行列に基づき該所定角度の回転毎の前記基準物体の絶対位置を算出する位置算出工程と、
前記回転テーブルの回転で生じる該基準物体の絶対位置の変化から、前記回転テーブルの回転中心位置を算出する中心位置算出工程と、
を含むことを特徴とするX線計測装置の校正方法。 - 請求項1において、
前記個別行列算出工程で、N箇所に配置された前記基準物体の代わりに前記X線源と前記X線画像検出器とが平行移動したと想定し、前記個別変換行列に基づきN箇所毎に該X線源の移動位置を算出して、該X線源の移動位置に基づきN箇所にある前記基準物体それぞれの移動位置を算出することを特徴とするX線計測装置の校正方法。 - 請求項1または2において、
前記座標同一工程で、前記平行移動の前後の位置それぞれに、N箇所にある前記基準物体それぞれの移動位置を付加した結果を補正後移動位置とし、N箇所にある該基準物体それぞれの投影像の特徴点の位置と該補正後移動位置から、該基準物体の前記X線画像検出器の検出面への射影変換を行う第2変換行列を算出することで、N箇所にある該基準物体の相対位置を算出することを特徴とするX線計測装置の校正方法。 - 請求項3において、
前記座標同一工程で、算出された前記補正後移動位置及び前記第2変換行列を、変数とした該補正後移動位置及び該第2変換行列の初期値とし、該補正後移動位置と該第2変換行列との関係に基づいて算出されたN箇所にある前記基準物体それぞれの投影像の特徴点の位置と、実際に検出されたN箇所にある前記基準物体それぞれの投影像の特徴点の位置との位置誤差を評価することで、前記補正後移動位置と前記第2変換行列とを算出することを特徴とするX線計測装置の校正方法。 - 請求項1乃至4のいずれかにおいて、
前記回転テーブルを特定の角度で複数回回転させ、前記前段特徴位置算出工程から前記座標同一工程までを繰り返し、
繰り返しで得られる複数回の前記相対位置の平均を算出する、あるいは次に繰り返される際の前記平行移動の前後の位置を直前で算出された該相対位置と対応させることを特徴とするX線計測装置の校正方法。 - 請求項1乃至5のいずれかにおいて、
前記校正治具において前記基準物体の全てが1つの平面上にのみ載置されている場合には、前記第1変換行列は射影変換行列とされ、該基準物体が三次元的に載置されている場合には、該第1変換行列は射影行列とされることを特徴とするX線計測装置の校正方法。 - 請求項1乃至6のいずれかにおいて、
前記中心位置算出工程で、更に、前記回転テーブルの回転軸を算出することを特徴とするX線計測装置の校正方法。 - 請求項1乃至7のいずれかにおいて、
前記位置算出工程で、前記回転テーブルの代わりに前記X線源と前記X線画像検出器とが回転したと想定し、前記第1変換行列に基づき前記所定角度の回転毎の該X線源の絶対位置を算出して、該X線源の絶対位置を座標変換することで、前記基準物体の絶対位置を算出することを特徴とするX線計測装置の校正方法。 - 請求項8において、
前記回転テーブルを前記所定角度で3回以上回転させ、前記X線源の絶対位置を算出する際に、該X線源と前記X線画像検出器との距離と、該X線源からの該X線画像検出器への垂線の足の位置とを変数化し、前記第1変換行列に基づき算出される該X線源の絶対位置を真円にフィッティングした仮真円の軌跡上の位置と該X線源の絶対位置との距離誤差を評価することで、該X線源と該X線画像検出器との距離と、該X線源からの該X線画像検出器への垂線の足の位置とを算出することを特徴とするX線計測装置の校正方法。 - 請求項1乃至9のいずれかにおいて、
前記中心位置算出工程で、前記基準物体の絶対位置の変化から、真円でフィッティングされた軌跡の中心位置を算出し、該中心位置を前記回転テーブルの回転中心位置とすることを特徴とするX線計測装置の校正方法。 - 請求項10において、
更に、前記回転テーブルの回転軸を算出する際には、前記軌跡の水平面からの傾斜角度を算出し、該傾斜角度と前記回転中心位置とから該回転軸を算出することを特徴とするX線計測装置の校正方法。 - 請求項1乃至11のいずれかにおいて、
前記基準物体は、球とされていることを特徴とするX線計測装置の校正方法。 - 請求項1乃至12のいずれかにおいて、
前記基準物体の投影像の特徴点の位置は、該投影像の重心位置とされていることを特徴とするX線計測装置の校正方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019163979A JP7257924B2 (ja) | 2019-09-09 | 2019-09-09 | X線計測装置の校正方法 |
US17/014,308 US11346660B2 (en) | 2019-09-09 | 2020-09-08 | Calibration method of x-ray measuring device |
DE102020005518.4A DE102020005518A1 (de) | 2019-09-09 | 2020-09-09 | Kalibrierverfahren einer röntgen-messvorrichtung |
CN202010940511.7A CN112461165A (zh) | 2019-09-09 | 2020-09-09 | X射线测量装置的校正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019163979A JP7257924B2 (ja) | 2019-09-09 | 2019-09-09 | X線計測装置の校正方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021043014A true JP2021043014A (ja) | 2021-03-18 |
JP7257924B2 JP7257924B2 (ja) | 2023-04-14 |
Family
ID=74644307
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019163979A Active JP7257924B2 (ja) | 2019-09-09 | 2019-09-09 | X線計測装置の校正方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11346660B2 (ja) |
JP (1) | JP7257924B2 (ja) |
CN (1) | CN112461165A (ja) |
DE (1) | DE102020005518A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7257925B2 (ja) * | 2019-09-10 | 2023-04-14 | 株式会社ミツトヨ | X線計測装置の校正方法 |
CN113791095B (zh) * | 2021-11-18 | 2022-02-11 | 煤炭科学研究总院 | 一种ct扫描的试样精准位置调节方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005127881A (ja) * | 2003-10-24 | 2005-05-19 | Shimadzu Corp | X線ct装置における回転中心軸の較正方法およびx線ct装置 |
JP2006003200A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-01-05 | Toshiba It & Control Systems Corp | コンピュータ断層撮影装置 |
JP2007078469A (ja) * | 2005-09-13 | 2007-03-29 | Toshiba It & Control Systems Corp | コンピュータ断層撮影装置 |
JP2007333596A (ja) * | 2006-06-15 | 2007-12-27 | Shimadzu Corp | X線ct装置 |
JP2012233919A (ja) * | 2004-05-26 | 2012-11-29 | Werth Messtechnik Gmbh | 座標測定装置及び測定物の測定方法 |
JP2015525665A (ja) * | 2012-08-20 | 2015-09-07 | オレンジデンタル・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトorangedental GmbH & Co. KG | コーンビームコンピュータートモグラフィー装置の幾何学的特徴付け及び較正 |
JP2016538552A (ja) * | 2013-11-28 | 2016-12-08 | ニコン・メトロロジー・エヌヴェ | コンピュータ断層撮影の較正装置および方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3792432B2 (ja) | 1999-04-14 | 2006-07-05 | 東芝Itコントロールシステム株式会社 | コンピュータ断層撮影装置 |
JP5572521B2 (ja) * | 2010-10-26 | 2014-08-13 | 株式会社日立メディコ | X線ct装置、x線ct装置の画像再構成方法 |
JP6553290B2 (ja) * | 2015-09-23 | 2019-07-31 | プリズマティック、センサーズ、アクチボラグPrismatic Sensors Ab | 入射するx線の方向に対するエッジオン型x線検出器の配向の決定 |
US10835199B2 (en) * | 2016-02-01 | 2020-11-17 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Optical geometry calibration devices, systems, and related methods for three dimensional x-ray imaging |
JP6693533B2 (ja) * | 2016-02-16 | 2020-05-13 | 株式会社ニコン | X線装置、x線計測方法および構造物の製造方法 |
CN106526686B (zh) * | 2016-12-07 | 2019-05-07 | 同方威视技术股份有限公司 | 螺旋ct设备和三维图像重建方法 |
US11402524B2 (en) * | 2017-11-14 | 2022-08-02 | Imatrex, Inc. | Geometric calibration of X-ray imaging systems |
JP2019128163A (ja) * | 2018-01-19 | 2019-08-01 | 株式会社ミツトヨ | 計測用x線ct装置、及び、その校正方法 |
-
2019
- 2019-09-09 JP JP2019163979A patent/JP7257924B2/ja active Active
-
2020
- 2020-09-08 US US17/014,308 patent/US11346660B2/en active Active
- 2020-09-09 CN CN202010940511.7A patent/CN112461165A/zh active Pending
- 2020-09-09 DE DE102020005518.4A patent/DE102020005518A1/de active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005127881A (ja) * | 2003-10-24 | 2005-05-19 | Shimadzu Corp | X線ct装置における回転中心軸の較正方法およびx線ct装置 |
JP2012233919A (ja) * | 2004-05-26 | 2012-11-29 | Werth Messtechnik Gmbh | 座標測定装置及び測定物の測定方法 |
JP2006003200A (ja) * | 2004-06-17 | 2006-01-05 | Toshiba It & Control Systems Corp | コンピュータ断層撮影装置 |
JP2007078469A (ja) * | 2005-09-13 | 2007-03-29 | Toshiba It & Control Systems Corp | コンピュータ断層撮影装置 |
JP2007333596A (ja) * | 2006-06-15 | 2007-12-27 | Shimadzu Corp | X線ct装置 |
JP2015525665A (ja) * | 2012-08-20 | 2015-09-07 | オレンジデンタル・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフトorangedental GmbH & Co. KG | コーンビームコンピュータートモグラフィー装置の幾何学的特徴付け及び較正 |
JP2016538552A (ja) * | 2013-11-28 | 2016-12-08 | ニコン・メトロロジー・エヌヴェ | コンピュータ断層撮影の較正装置および方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112461165A (zh) | 2021-03-09 |
US20210072022A1 (en) | 2021-03-11 |
JP7257924B2 (ja) | 2023-04-14 |
DE102020005518A1 (de) | 2021-03-11 |
US11346660B2 (en) | 2022-05-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9625257B2 (en) | Coordinate measuring apparatus and method for measuring an object | |
JP6735667B2 (ja) | コンピュータ断層撮影の較正装置および方法 | |
US8705817B2 (en) | Measurement of geometric quantities intrinsic to an anatomical system | |
US20040234025A1 (en) | Processes and a device for determining the actual position of a structure of an object to be examined | |
US20080002871A1 (en) | Procedure for detecting a deviation in a x-ray system from a target position | |
US7789562B2 (en) | Calibration of a multi-plane X-ray unit | |
JP6711410B2 (ja) | 放射線断層撮影装置の撮像倍率校正方法 | |
JP2019158534A (ja) | 計測用x線ct装置、及び、その断層画像生成方法 | |
JP2021043014A (ja) | X線計測装置の校正方法 | |
Ferrucci et al. | Measurement of the X-ray computed tomography instrument geometry by minimization of reprojection errors—Implementation on experimental data | |
TW561241B (en) | Method and apparatus for calibrating laser three-dimensional digitizing sensor | |
JP7257925B2 (ja) | X線計測装置の校正方法 | |
CN114596222A (zh) | 适用于一般轨迹锥束ct系统几何校正的模体与标定方法 | |
JP7154535B2 (ja) | X線ct装置により得られる投影像を用いた寸法測定方法 | |
CN209032406U (zh) | 一种锥束ct系统几何校准装置 | |
CN110495899A (zh) | 确定几何形状校准的方法和设备和确定关联数据的方法 | |
CN113812971A (zh) | 一种多自由度四维双能锥束ct成像系统及方法 | |
JP2022010983A (ja) | X線計測装置の校正方法 | |
Blumensath et al. | Calibration of robotic manipulator systems for cone-beam tomography imaging | |
Duan et al. | Knowledge-based self-calibration method of calibration phantom by and for accurate robot-based CT imaging systems | |
US7430271B2 (en) | Ray tracing kernel | |
JP2019158541A (ja) | 計測用x線ct装置、及び、その量産ワーク測定方法 | |
CN113963057B (zh) | 成像几何关系标定方法、装置、电子设备以及存储介质 | |
CN114486955A (zh) | 确定至少一个评估测量数据所需的几何参数的计算机实现方法 | |
JP2023095304A (ja) | X線計測装置の校正方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220818 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230322 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230328 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230404 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7257924 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |