JP2021038429A - 複合化クロムめっき物品 - Google Patents
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Abstract
Description
本実施形態に係る複合化クロムめっき膜2が被覆される対象部材1は、特には限定されないが、例えば、通常のめっきが可能な鉄、鉄合金材、アルミニウム、アルミニウム合金材、銅、銅合金材等の金属部材である。
複合化クロムめっき膜2は、クロムめっき膜21と、このクロムめっき膜21のクラック211に含まれるケイ素化合物22と、を備えている。この複合化クロムめっき膜2は、クロムめっき膜21の形成工程、クラック211の拡大のためのエッチング工程、ケイ素化合物22の前駆体を含有する溶液の塗布工程を経ることで、対象部材1上に形成される。以下、これらの工程について説明する。
クロムめっき膜21は、公知のめっき方法により形成することができ、例えば、上述した対象部材1をクロムめっき液に浸漬し、対象部材1を陽極にして活性化処理を行った後、対象部材1を負極にして、クロムめっき膜21を形成する。このクロムめっき膜21の膜厚は、3μm以上であることが好ましく、10μm以上であることがさらに好ましい。クロムめっき膜21の膜厚を3μm以上とすると、溶液の充填は可能であるが、溶液の浸透できるクラック211の幅と深さ、クラック211の拡大によるめっき後の対象部材の腐食の観点からすると、クロムめっき膜21の膜厚は10μm以上が好ましい。
クロムめっき膜21を対象部材1上に形成した後、このクロムめっき膜21をエッチングし、クロムめっき膜21に内在するクラック211の幅および深さを増大させる。エッチング工程は、対象部材1を陽極として陽極電解を施すことで行うことができる。あるいは、クロムめっきを溶解できる塩酸、硫酸などの溶液への浸漬による化学的溶解によって行うことができる。エッチング工程を簡便化するには、例えば、クロムめっき膜21の形成後、直流電源の極性を反転させ、対象部材1を陽極として電流密度1〜100A/dm2で電解を施すことができる。この場合、クロムめっき膜21に形成されるクラック211の幅と深さは、印可した電流と時間の積となる電気量で制御することができる。例えば、電解時の陽電流密度を25A/dm2とした場合には、電解時間を30〜600秒間程度とすることが好ましい。一方、化学的溶解によるエッチング量は、液温と浸漬時間で制御することができ、例えば、10〜30%の硫酸溶液を用いる場合であれば、30〜80℃、10秒間〜10分間程度の浸漬を行うことが好ましい。
次に、塗布工程について説明する。クロムめっき膜21の形成から塗布工程までの時間は、任意であり、特には限定されない。溶液に含有されるケイ素化合物の前駆体としては、例えば、シランカップリング剤を用いることができる。シランカップリング剤としては、例えば、OH基、アルキル基、アリール基の1種又は2種以上を有するアルコキシシランを用いることができる。あるいは、アルコキシシランの部分加水分解物(オリゴマー)が含有されていてもよい。アルコキシシランとしては、メトキシシランを用いることができる。
(1)本実施形態に係る複合化クロムめっき物品は、クロムめっき膜21に形成されたクラック211の奥底までケイ素化合物が浸透して固化しているため、クラック211を通じて腐食を生じさせる水や塩化物等の腐食液がクロムめっき膜21に浸入するのを防止することができる。そのため、腐食液が対象部材1まで達するのを防止でき、複合化クロムめっき物品の耐食性を向上することができる。特に、この複合化クロムめっき膜2の形成処理は、通常のクロムめっき装置の利用のみで作製でき、真空や加圧装置など特殊な装置は不要である。したがって、簡易な処理、つまり、処理時間が短時間で、工程数も少なく、安価な処理によって、複合化クロムめっき膜2を形成することができる。
以下では、実施例1〜17に係る複合化クロムめっき膜、及び比較例1〜7に係るクロムめっき膜または複合化クロムめっき膜を対象部材上に形成した。
対象部材を一般のアルカリ性脱脂液に浸漬し、付着した油の脱脂を行った後、クロムめっき液に対象部材を浸漬した。次に、通常のクロムめっき操作と同様に、アノード処理25A/dm2、30秒間の活性化処理を施した。続いて、電源極性を反転し、対象部材を陰極として電流密度25A/dm2、処理時間150分間の電解を行い、厚さ52μmのクロムめっき膜を対象部材上に形成した。めっき工程の終了後、電源の極性を反転し、対象部材を陽極として電流密度25A/dm2、120秒間でクロムめっき膜を電解エッチングし、クロムめっき膜のクラックを拡大した。これによって形成されたクラックの幅の平均値は、上述した算出方法により、約0.7μm(最大1.4μm、最小0.2μm)、深さ約20μmであった。エッチング工程の終了後、対象部材をめっき液から引き上げ、水洗、乾燥した。その後、クラックを拡大したクロムめっき膜に対し、上述した用液を1dm2あたり200μLの割合でクロムめっき膜の表面に垂らし、ヘラで広げた。その後、対象部材を水で洗浄した後、表面をスポンジで擦って表面に付着した溶液の膜を除去し、風乾した。クラックへ浸透したケイ素化合物の量を増加させるため、溶液の塗布と水洗作業を3回繰り返し、複合化クロムめっき膜を得た。ケイ素化合物の含有率は0.7wt%であった。
(1)Si強度で、表面からめっき界面までのデータについての積算値(Si積算値)を求める。
(2)スパッタ時間毎のSi強度をSi積算値で割り、溶液の塗布重量を掛け、これをMSiとした。
(3)Cr強度で、表面からめっき界面までの積算値(Cr積算値)を求める。
(4)スパッタ時間毎のCr強度をCr積算値で割り、Crめっき膜の重量を掛け、これをMCrとした。
(5)各スパッタ時間におけるSi重量比率を算出する。すなわち、Msi/(Msi+Mcr)を算出した。
(6)めっき深さを算出した。すなわち、GDSにより、Cr強度がなくなる時間でエッチング時間を深さに換算した。
(7)図4(c)に示すように、縦軸にケイ素化合物の含有率(%)、横軸にめっき表面からの深さ(μm)として、グラフ化した。
以上の方法は、後述する図5(b)、図6(b)、図7(b)、及び図9においても同じである。
実施例1と同様の操作を行い、複合化クロムめっき膜を得た。但し、実施例2〜7は、ケイ素化合物の含有率が相違しており、後述する表1に示すように、約0.6〜1.1wt%となっている。なお、溶液の浸透深さは、クロムめっき膜の膜厚にかかわらず、概ね20〜30μmであると考えられるので、クロムめっき膜の膜厚が大きくなると、ケイ素化合物の含有率は小さくなっている。また、実施例2〜7のクラックの幅は、実施例1と概ね同じであった。また、実施例2〜7では、上述した塗布工程の後、ケイ素化合物の固化を進めるため熱処理を行った。温風乾燥器内での熱処理の温度は、表1に示すとおりであり、各温度で1時間の熱処理を行った。熱処理後に得られた複合化クロムめっき物品に対してキャス試験を行ったところ、実施例2、3では24時間噴霧後、実施例4では32時間噴霧後、実施例5では48時間噴霧後、実施例6では72時間噴霧後、実施例7では216時間噴霧後に、赤さびの発生が確認された。
実施例7と同条件で形成した複合化クロムめっき膜に対し、さらに実施例1で行ったケイ素化合物の溶液の塗布を再度行った。その結果、ケイ素化合物の含有率は1.3wt%であった。このようにして得たクロムめっき物品に対して、キャス試験で耐食性を調べた。結果としては、336時間噴霧後(2週間)であっても、部材表面での変色はなく、赤さびの発生も認められなかった。
実施例1と同様のプロセスで、ケイ素化合物の含有量が約0.9wt%である複合化クロムめっき膜を形成し、その表面に、さらにクロムめっきを施した。すなわち、複合化クロムめっき物品をクロムめっき溶液に浸漬し、アノード処理25A/dm2、30秒間の表面活性化処理を施した。その後、電源の極性を反転し、対象部材を陰極として電流密度25A/dm2、処理時間100分間の電解を行い、厚さ30μmのクロムめっき膜を形成した。この追加のクロムめっき膜の密着性には問題がなかった。
実施例9と同様の手法で第2層のクロムを積層した後、電源の極性を反転し、対象部材を陽極として、クロムめっき皮膜の表面を電流密度25A/dm2で120秒間の条件で電解エッチングしてクラックを拡大した。その後、ケイ素化合物溶液の塗布及び水洗いを行った。これに対して第3層のめっき、電解エッチング、コート、第4層のめっき、電解エッチング、コートとし、全体の膜厚が74μmの4層の複合化クロムめっき膜を形成した。このようにして得られた複合化クロムめっき膜物品においては各複合化クロムめっき膜の密着性に問題は見られなかった。複合化クロムめっき膜全体に占めるケイ素化合物の含有率は1.0wt%であった。
実施例9と同様に積層化し、クロムめっき終了時に、電源の極性を反転し、対象部材を陽極として、クロムめっき膜の表面を電流密度25A/dm2で120秒間の条件で電解エッチングしてクラックを拡大した。その後、溶液の塗布及び水洗い行う一連の作業を合計4回行い、全体の膜厚が42μmの複合化クロムめっき膜を形成した。なお、1回目のクロムめっきでは厚さを約30μmとし、2〜4回目の積層クロムめっきは、クロムめっき時間を30分間とし、各層の厚さを約4μmとした。このようにして得られた複合化クロムめっき物品においては各複合化クロムめっき膜の密着性には問題は見られなかった。
実施例1と同様の操作であるが、クラックを広げる電解エッチング時間のみを60秒〜600秒に変え、クラック幅が異なる複合化クロムめっき膜を得た。クラックの幅は、後述するように図8に記載しており、概ね0.4〜2.3μmであった。いる。これによって、ケイ素化合物の含有量は、0.39〜4.97wt%であった。上述した塗布工程の後、ケイ素化合物の固化を進めるため200℃、1時間の熱処理を行った。熱処理後に得られた複合化クロムめっき物品に対してキャス試験を行ったところ、実施例12、13では24時間噴霧後、実施例14では216時間噴霧後、実施例15では168時間噴霧後、実施例16では336時間噴霧後、実施例17では24時間噴霧後に、赤さびの発生が確認された。
実施例1のクロムめっき工程に準じて、膜厚が36μmのクロムめっき膜を対象部材上に形成した。エッチングを行っていないため、クラックの平均幅は、約0.21μmであった。こうして得られたクロムめっき物品に対して、キャス試験で耐食性を調べた。その結果、1時間噴霧後に赤さびが発生した。
実施例1のクロムめっき工程に準じて、膜厚が40μmのクロムめっき膜を対象部材上に形成した。こうして得られたクロムめっき物品に対してバフ研磨を実施した後、キャス試験で耐食性を調べた。その結果、8時間噴霧後に赤さびが発生した。なお、バス研磨によりクラックが埋められたため、クラック幅の測定はできなかった。
比較例1のクロムめっき工程に準じめっきを行い、膜厚が34μmのクロムめっき物品を形成した。続いて、エッチングは行わず、これに上述した溶液の塗布と水洗作業を3回行った。このクロムめっき物品に対して、キャス試験で耐食性を調べたところ、1時間噴霧後に赤さびが発生した。なお、エッチングを行っていないため、クラックの平均幅は、約0.21μmであった。
比較例3と同様の工程で、膜厚が33μmの複合化クロムめっき膜が形成されたクロムめっき物品に対して、200℃、1時間で熱処理を施した。この物品に対して、キャス試験で耐食性を調べたところ、1時間噴霧後に赤さびが発生した。なお、エッチングを行っていないため、クラックの平均幅は、約0.25μmであった。
比較例3と同様の工程で、膜厚が27μmのクロムめっき膜が形成された物品に対して、200℃、1時間で熱処理を施した。その後、上述した溶液の塗布と水洗作業を3回行った。このクロムめっき物品に対して、キャス試験で耐食性を調べたところ、8時間噴霧後に赤さびが発生した。なお、エッチングを行っていないため、クラックの平均幅は、約0.25μmであった。
JIS H8617−1999(ニッケルめっきおよびニッケル−クロムめっき)では、各使用環境(上記JIS内の参考表1)におけるキャス試験の噴霧時間(上記JIS内の表4)として、通常の屋内環境(住宅、事務所など)で4時間、湿度の高い屋内環境(浴室、ちゅう房など)で8時間、通常の屋外環境(田園、住宅地域など)で16時間、腐食環境の強い屋外環境(海浜、工業地域など)で24時間が規定されている。上記した表1及び表2から明らかなように、本発明の実施例1〜17に係る複合化クロムめっき物品では、16時間噴霧以降に赤さびが発生しており、上記JISに示す屋外環境に対応している。したがって、本発明に係る複合化クロムめっき膜が優れた耐食性を有することがわかる。
2 複合化クロムめっき膜
21 クロムめっき膜
211 クラック
22 ケイ素化合物
Claims (6)
- 対象部材と、
前記対象部材の表面に被覆される複合化クロムめっき膜と、
を備え、
前記複合化クロムめっき膜は、
前記クロムめっき膜と、
前記クロムめっき膜のクラック内で固化したケイ素化合物と、
を備えている、複合化クロムめっき物品。 - 前記複合化クロムめっき膜における、前記ケイ素化合物の含有量は、0.1〜10wt%である、請求項1に記載の複合化クロムめっき物品。
- 前記複合化クロムめっき層の表面に積層される、追加のクロムめっき層をさらに備えている、請求項1または2に記載の複合化クロムめっき物品。
- 対象部材の表面に、クロムめっき膜を形成するステップと、
前記クロムめっき膜が有するクラックをエッチングにより拡張するステップと、
前記クロムめっき膜の表面に、ケイ素化合物の前駆体を含有する溶液を塗布し、水を接触させることで、前記クラック内にケイ素化合物を固化させるステップと、
を備えている、複合化クロムめっき物品の製造方法。 - 前記溶液は、OH基、アルキル基、アリール基の1種又は2種以上を有するアルコキシシランおよびその部分加水分解物を含有する、請求項4に記載の複合化クロムめっき物品の製造方法。
- 前記複合化クロムめっき膜上に、追加のクロムめっき膜を積層するステップをさらに備えている、請求項4または5に記載の複合化クロムめっき物品の製造方法。
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