JP2021032435A - 熱処理装置、熱処理システム及び熱処理品の製造方法 - Google Patents
熱処理装置、熱処理システム及び熱処理品の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
[第1実施形態]
[第2実施形態]
[変形例]
Claims (14)
- 光透過部及び気体通過部が設けられたチャンバと、
前記チャンバ内に設けられ、第1位置において酸素ゲッタを支持し、前記第1位置とは異なる第2位置において対象物を含むユニットを支持する支持部と、
前記チャンバ外に設けられ、前記光透過部を通る第1光路に沿って前記酸素ゲッタに第1レーザ光を照射し、前記光透過部を通り且つ前記第1光路とは異なる第2光路に沿って前記ユニットに第2レーザ光を照射する光照射部と、を備える、熱処理装置。 - 前記ユニットは、光吸収ターゲットを更に含み、
前記光照射部は、前記第2光路に沿って前記光吸収ターゲットに前記第2レーザ光を照射する、請求項1に記載の熱処理装置。 - 前記対象物は、光吸収性を有し、
前記光照射部は、前記第2光路に沿って前記対象物に前記第2レーザ光を照射する、請求項1に記載の熱処理装置。 - 前記光透過部は、前記第1光路が通る第1光透過窓と、前記第2光路が通る第2光透過窓と、を有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の熱処理装置。
- 前記第1光透過窓は、前記チャンバを構成する壁部のうち前記第1位置の上方の部分を除く部分に設けられている、請求項4に記載の熱処理装置。
- 前記支持部は、前記酸素ゲッタを支持する第1支持台と、前記ユニットを支持する第2支持台と、を有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の熱処理装置。
- 前記チャンバ内の酸素濃度を測定する酸素濃度計を更に備える、請求項1〜6のいずれか一項に記載の熱処理装置。
- 前記光照射部は、第1光照射条件で前記酸素ゲッタに前記第1レーザ光を照射し、前記第1光照射条件とは異なる第2光照射条件で前記ユニットに前記第2レーザ光を照射する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の熱処理装置。
- 前記ユニットにおける前記第2レーザ光のスポット径は、前記酸素ゲッタにおける前記第1レーザ光のスポット径とは異なる、請求項8に記載の熱処理装置。
- 前記ユニットにおける前記第2レーザ光のパワーは、前記酸素ゲッタにおける前記第1レーザ光のパワーとは異なる、請求項8又は9に記載の熱処理装置。
- 前記光照射部は、前記酸素ゲッタに前記第1レーザ光を照射する第1光照射ヘッドと、前記ユニットに前記第2レーザ光を照射する第2光照射ヘッドと、を有する、請求項1〜10のいずれか一項に記載の熱処理装置。
- 前記光照射部は、前記第1光路に沿って前記酸素ゲッタに前記第1レーザ光が照射され且つ前記第2光路に沿って前記ユニットに前記第2レーザ光が照射されるように駆動する光照射ヘッドを有する、請求項1〜10のいずれか一項に記載の熱処理装置。
- 請求項1〜12のいずれか一項に記載の熱処理装置と、
前記気体通過部に接続された不活性ガス供給装置と、
前記気体通過部に接続された排気装置と、を備える、熱処理システム。 - 光透過部及び気体通過部が設けられたチャンバ内において、第1位置に酸素ゲッタを配置し、前記第1位置とは異なる第2位置に対象物を含むユニットを配置する第1工程と、
前記第1工程の後に、前記気体通過部を介して前記チャンバ内に不活性ガスを充填する第2工程と、
前記第2工程の後に、前記光透過部を通る第1光路に沿って前記酸素ゲッタに第1レーザ光を照射し、前記チャンバ内の酸素濃度が所定値以下に低下した後に、又は、前記酸素ゲッタに対する前記第1レーザ光の照射を開始してから所定時間が経過した後に、前記光透過部を通り且つ前記第1光路とは異なる第2光路に沿って前記ユニットに第2レーザ光を照射し、熱処理が施された前記対象物を熱処理品として得る第3工程と、を備える、熱処理品の製造方法。
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JP2003185812A (ja) * | 2001-12-14 | 2003-07-03 | Mitsubishi Electric Corp | 軽量化ミラー、その製造方法およびその検査方法 |
JP2010056543A (ja) * | 2008-08-01 | 2010-03-11 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Soi基板の作製方法 |
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JP2003185812A (ja) * | 2001-12-14 | 2003-07-03 | Mitsubishi Electric Corp | 軽量化ミラー、その製造方法およびその検査方法 |
JP2010056543A (ja) * | 2008-08-01 | 2010-03-11 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Soi基板の作製方法 |
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