JP2021008025A - 薄膜フルオロポリマー複合cmp研磨パッド - Google Patents
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- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 202
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 title claims abstract description 95
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 title claims abstract description 94
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 124
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 77
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 43
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 36
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims abstract description 16
- 230000035515 penetration Effects 0.000 claims abstract description 16
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 86
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 claims description 12
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 claims description 8
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 8
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 7
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 claims description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000000441 X-ray spectroscopy Methods 0.000 claims description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 55
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 37
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 37
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 31
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 27
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 22
- 229920011301 perfluoro alkoxyl alkane Polymers 0.000 description 21
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 21
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 20
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 20
- 230000008569 process Effects 0.000 description 20
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 16
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 15
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 15
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 15
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 15
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 11
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 10
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 9
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 8
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 8
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 7
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 6
- 229920000909 polytetrahydrofuran Polymers 0.000 description 6
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 6
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 5
- 229920001780 ECTFE Polymers 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 4
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 4
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 230000003278 mimic effect Effects 0.000 description 3
- 229920009441 perflouroethylene propylene Polymers 0.000 description 3
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000003380 quartz crystal microbalance Methods 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 2
- 238000000540 analysis of variance Methods 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical group 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 2
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 2
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 2
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920005903 polyol mixture Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-diol Chemical compound OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 2
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004634 thermosetting polymer Substances 0.000 description 2
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)C=C1 ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAALZGOZEUHCET-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxecane-5,10-dione Chemical compound O=C1CCCCC(=O)OCCO1 PAALZGOZEUHCET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXKZIDYFAMKWSA-UHFFFAOYSA-N 1,6-dioxacyclododecane-7,12-dione Chemical compound O=C1CCCCC(=O)OCCCCO1 AXKZIDYFAMKWSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHJAYYWUZLWNSQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1,2,2-trifluoroethene;ethene Chemical group C=C.FC(F)=C(F)Cl CHJAYYWUZLWNSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1,3-diol Chemical compound OCC(C)CO QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-1,5-diol Chemical compound OCCC(C)CCO SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- OMRDSWJXRLDPBB-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.C1CCCCC1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.C1CCCCC1 OMRDSWJXRLDPBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- 229920005830 Polyurethane Foam Polymers 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002730 additional effect Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000016571 aggressive behavior Effects 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N butane-1,2-diol Chemical compound CCC(O)CO BMRWNKZVCUKKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013877 carbamide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- QHSJIZLJUFMIFP-UHFFFAOYSA-N ethene;1,1,2,2-tetrafluoroethene Chemical group C=C.FC(F)=C(F)F QHSJIZLJUFMIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229920005570 flexible polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000007431 microscopic evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000004005 microsphere Substances 0.000 description 1
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 1
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000021715 photosynthesis, light harvesting Effects 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000582 polyisocyanurate Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011496 polyurethane foam Substances 0.000 description 1
- 229920003226 polyurethane urea Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000002494 quartz crystal microgravimetry Methods 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005549 size reduction Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002195 soluble material Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000004441 surface measurement Methods 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
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- B24B37/11—Lapping tools
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Abstract
【課題】基板を研磨または平坦化するための研磨面を有する研磨層を含むポリマー−ポリマー複合研磨パッドを提供する。【解決手段】ポリマーマトリックスは、研磨層を形成する。フルオロポリマー粒子は、ポリマーマトリックス中に埋め込まれている。ダイヤモンド砥粒材料は、フルオロポリマー粒子を切削し、切削されたフルオロポリマーをパターン化されたシリコンウェーハに擦り付けて、研磨層の少なくとも一部を覆いかつpH7でポリマーマトリックスよりも大きな負のゼータ電位を有する薄膜を形成する。ウェーハとの摩擦から形成された研磨面は、侵入度1〜10nmでのフッ素濃度が侵入度1〜10μmでのバルクフッ素濃度よりも少なくとも10原子百分率高い。【選択図】なし
Description
発明の背景
ケミカルメカニカルプラナリゼーション(CMP)は、多層3次元電気回路を正確に構築するために集積回路の構成の層を平らにするかまたは平坦化するのに広く使用されている研磨プロセスの一種である。研磨しようとする層は、通常、基礎となる基板上に堆積されている薄膜(10,000オングストローム未満)である。CMPの目的は、ウェーハ表面上の過剰の材料を取り除いて、均一な厚さの極めて平坦な層を生産することであり、前記均一性は、ウェーハ全域にわたって延在する。除去速度および除去の均一性の制御が最も重要である。
ケミカルメカニカルプラナリゼーション(CMP)は、多層3次元電気回路を正確に構築するために集積回路の構成の層を平らにするかまたは平坦化するのに広く使用されている研磨プロセスの一種である。研磨しようとする層は、通常、基礎となる基板上に堆積されている薄膜(10,000オングストローム未満)である。CMPの目的は、ウェーハ表面上の過剰の材料を取り除いて、均一な厚さの極めて平坦な層を生産することであり、前記均一性は、ウェーハ全域にわたって延在する。除去速度および除去の均一性の制御が最も重要である。
CMPは、ナノサイズの粒子を含有する液体(しばしば、スラリーと呼ばれる)を利用する。これは、回転するプラテン上に搭載されている回転する多層ポリマーシートまたはパッドの表面上に供給される。ウェーハが、独立した回転手段を有する独立したフィクスチャまたはキャリアに搭載されて、制御された負荷下でパッドの表面に押し付けられる。これは、ウェーハと研磨パッドとの間で高速の相対運動を導く(すなわち、基板とパッド表面の両方において高速の剪断がある)。パッド/ウェーハ接合部で捕捉されたスラリー粒子は、ウェーハ表面を摩耗させ、除去を導く。速度を制御し、ハイドロプレーニングを防止し、かつ、ウェーハ下にスラリーを効率良く運搬するために、様々なタイプのテクスチャが研磨パッドの上面に組み込まれる。各種の微細ダイヤモンドでパッドを摩耗することによって、微細スケールのテクスチャが生産される。これは、除去速度を制御および増加させるために行われ、一般に、コンディショニングと称される。また、スラリー輸送調節のために、様々なパターンおよび寸法(例えば、XY、円形、放射状)のより大きなスケールの溝が組み込まれる。
CMP中の除去速度は、プレストン式(速度=Kp*P*V、式中、Pは圧力であり、Vは速度であり、そして、Kpは、いわゆるプレストン係数である)に従うと広く観測されている。プレストン係数は、使用されている消耗品セットに特徴的である総合集中定数(lumped sum constant)である。Kpに寄与する最も重要な効果のいくつかは、以下の通り提供される:
(a)パッド接触面積(パッドテクスチャおよび表面機械特性に主に由来する);
(b)作業を行うのに利用可能な接触領域面のスラリー粒子の濃度;および
(c)表面粒子と研磨しようとする層の表面との間の反応速度。
(a)パッド接触面積(パッドテクスチャおよび表面機械特性に主に由来する);
(b)作業を行うのに利用可能な接触領域面のスラリー粒子の濃度;および
(c)表面粒子と研磨しようとする層の表面との間の反応速度。
効果(a)は、主に、パッドの性質およびコンディショニングプロセスによって決まる。効果(b)は、パッドとスラリーの両方によって決まる一方で、効果(c)は、主に、スラリーの性質によって決まる。
大容量多層メモリ素子(例えば、3D NANDフラッシュメモリ)の出現は、さらなる除去速度の増加の必要性を導くに至った。3D NAND製造プロセスの重要な部分は、SiO2およびSi3N4膜の多層スタックを交互にピラミッド状の階段形式で組み立てることからなる。完成したら、スタックは、素子構造の完成の前に平坦化されなければならない厚いSiO2被覆層でキャッピングされる。この厚膜は、一般に、プリメタル絶縁体(PMD)と称される。素子容量は、層化スタック中の層の数に比例する。現在の市販されている素子は、32層および64層を使用しており、産業界は、128層へと急速に進展している。スタック中の各酸化物/窒化物ペアの厚さは、約125nmである。したがって、スタックの厚さは、層の数に正比例して増加する(32=4,000nm、64=8,000nm、128=16,000nm)。PMD工程について、除去しようとするキャッピング絶縁体の総量は、PMDのコンフォーマル堆積と仮定して、スタックの厚さの等倍〜約1.5倍にほぼ等しい。
従来の絶縁体CMPスラリーは、約250nm/minの除去速度を有する。これは、PMD工程にとって不必要に長いCMPプロセス時間をもたらし、これは、現在、3D NAND製造プロセスの主要な障壁となっている。その結果として、より速いCMPプロセスを開発しようとする多くの取り組みがある。大部分の改良は、プロセス条件(より高いPおよびV)、パッドコンディショニングプロセスの変更、およびスラリー設計の改良(特にセリア系スラリーにおける)に焦点を当ててきた。いかなる負の効果の導入もなしに既存のプロセスおよびセリアスラリーと組み合わしてより高い除去速度を達成することができる改良されたパッドが開発できたならば、CMP技術の大幅改良をもたらすだろう。
Hattori等(Proc. ISET07, p.953-4 (2007))は、セリアを含めた様々なランタノイド粒子分散液についてのゼータ電位対pHの比較プロットを開示している。ゼロ電荷のpH(しばしば、等電pHと呼ばれる)は、約6.6と測定された。このpHを下回ると、粒子は、正電位を有し;このpHを上回ると、粒子は、負電位を有する。シリカおよびセリアなどの無機粒子について、等電pHならびに等電pHを上回るおよび下回るpHでの表面電荷は、表面ヒドロキシル基の酸/塩基平衡によって決まる。
市販のセリアスラリーおよび従来のパッドで絶縁体を研磨する場合、粒子とパッドとの間の静電引力は、スラリー中の粒子濃度に対する特徴的な速度依存性を生じさせる。Li等(Proceedings of 2015 Intl. Conf. on Planarization, Chandler, AZ, p. 273-27 (2015))によって議論されているように、スラリーの等電pHを下回るpHでの絶縁体研磨速度に対するコロイダルセリア粒子の濃度依存性は、非常に低い粒子濃度(約1%)で飽和挙動を示す。この濃度を上回ると、より多くの粒子を添加しても研磨速度に影響を及ぼさない。粒子/パッド相互作用が反発的である系では、そのような飽和挙動は見られない。絶縁体研磨についての低粒子濃度セリアスラリーの経済的利点は、その比較的高い価格にもかかわらず、その商業的使用への主な原動力となっている。
シリカ系スラリーを使用した絶縁体CMPについて、使用されるスラリーの大部分は、アルカリ性であり、通常、pH10以上である。シリカ粒子は、約2.2の等電pHを有するので;結果として、これらは、そのスラリーpHで高い負電荷を有する。
先行技術のパッド設計は、概して、速度の増加を達成する手段としてのパッドのポリマー改変を放置してきた。CMPパッドにおいて速度の増加を達成するために使用される主要な方法は、以下の通りである:
a)上部パッド層の組成を変えずに溝設計を最適化すること;
b)上部パッド層の組成を変えずにコンディショニングプロセスを変更すること;
c)上部パッド層のコンディショニング反応を変えることによってより望ましいコンディショニング反応を備えたパッドを提供すること;および
d)より高い硬度または改変された弾性を有する上部パッド層を備えたパッドを提供すること。
a)上部パッド層の組成を変えずに溝設計を最適化すること;
b)上部パッド層の組成を変えずにコンディショニングプロセスを変更すること;
c)上部パッド層のコンディショニング反応を変えることによってより望ましいコンディショニング反応を備えたパッドを提供すること;および
d)より高い硬度または改変された弾性を有する上部パッド層を備えたパッドを提供すること。
これらのあらゆる解決策にもかかわらず、陰イオン性および陽イオン性の両方の粒子スラリーによる研磨に対して研磨欠陥の大幅な増加なしに除去速度を増加させる、平坦化研磨パッドを開発する必要性が依然として存在する。
発明の記載
本発明のある局面は、基板を研磨または平坦化するための研磨面を有する研磨層;研磨層を形成するポリマーマトリックスであって、引張強度を有するポリマーマトリックス;およびポリマーマトリックス中に埋め込まれたフルオロポリマー粒子であって、ポリマーマトリックスの引張強度より低い引張強度を有するフルオロポリマー粒子を含む、半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも1つの基板を研磨または平坦化するのに有用なポリマー−ポリマー複合研磨パッドであって、ダイヤモンド砥粒材料が、フルオロポリマー粒子を切削し、切削されたフルオロポリマーをパターン化されたシリコンウェーハに擦り付けて、研磨層の少なくとも一部を覆いかつpH7でポリマーマトリックスよりも大きな負のゼータ電位を有する薄膜を形成し、そして、ウェーハとの摩擦から形成された研磨面が、侵入度1〜10nmのX線光電子分光法による測定で、侵入度1〜10μmのエネルギー分散型X線分光法で測定されたバルクフッ素濃度よりも少なくとも10パーセント高いフッ素濃度(原子百分率単位)を有する、ポリマー−ポリマー複合研磨パッドを提供する。
本発明のある局面は、基板を研磨または平坦化するための研磨面を有する研磨層;研磨層を形成するポリマーマトリックスであって、引張強度を有するポリマーマトリックス;およびポリマーマトリックス中に埋め込まれたフルオロポリマー粒子であって、ポリマーマトリックスの引張強度より低い引張強度を有するフルオロポリマー粒子を含む、半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも1つの基板を研磨または平坦化するのに有用なポリマー−ポリマー複合研磨パッドであって、ダイヤモンド砥粒材料が、フルオロポリマー粒子を切削し、切削されたフルオロポリマーをパターン化されたシリコンウェーハに擦り付けて、研磨層の少なくとも一部を覆いかつpH7でポリマーマトリックスよりも大きな負のゼータ電位を有する薄膜を形成し、そして、ウェーハとの摩擦から形成された研磨面が、侵入度1〜10nmのX線光電子分光法による測定で、侵入度1〜10μmのエネルギー分散型X線分光法で測定されたバルクフッ素濃度よりも少なくとも10パーセント高いフッ素濃度(原子百分率単位)を有する、ポリマー−ポリマー複合研磨パッドを提供する。
本発明の別の局面は、基板を研磨または平坦化するための研磨面を有する研磨層;研磨層を形成するポリマーマトリックスであって、引張強度を有するポリマーマトリックス;およびポリマーマトリックス中に埋め込まれたフルオロポリマー粒子であって、ポリマーマトリックスの引張強度より低い引張強度を有するフルオロポリマー粒子を含む、半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも1つの基板を研磨または平坦化するのに有用なポリマー−ポリマー複合研磨パッドであって、ダイヤモンド砥粒材料が、フルオロポリマー粒子を切削し、切削されたフルオロポリマーをパターン化されたシリコンウェーハに擦り付けて、研磨層の少なくとも一部を覆いかつpH7でポリマーマトリックスよりも大きな負のゼータ電位を有する薄膜を形成し、そして、ウェーハとの摩擦から形成された研磨面が、侵入度1〜10nmのX線光電子分光法による測定で、侵入度1〜10μmのエネルギー分散型X線分光法で測定されたバルクフッ素濃度よりも少なくとも20パーセント高いフッ素濃度(原子百分率単位)を有し、そして、薄膜が、研磨中、研磨面全体を覆わない、ポリマー−ポリマー複合研磨パッドを提供する。
発明の詳細な説明
本発明は、半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも1つの基板を研磨または平坦化するのに有用なポリマー−ポリマー複合研磨パッドを提供する。本発明は、陽イオン性砥粒粒子を含有するスラリーによるパターン化されたシリコンウェーハの平坦化に特に有益である。本発明の重要な要素は、研磨パッドのマトリックス中へのフルオロポリマー粒子の組み込みによる、上面への増強されたスラリー粒子の吸着を促進するための上部パッド表面特性の改変である。本発明のパッドにおける予想外で新規な効果は、比較的低い濃度(総ポリマー濃度に対しておよそ1〜20wt%)の低引張強度フルオロポリマー粒子の添加が、改善された除去速度および望ましく高い負または正の表面ゼータ電位をもたらすことである。具体的に別途記載のない限り、本明細書は、すべての濃度を重量パーセントで提供する。通常、フルオロポリマーのゼータ電位は、pH7の蒸留水中で測定された場合にマトリックスよりも大きな負である。この負値性の増加は、研磨中の研磨パッドの研磨面に位置する研磨凹凸への正に荷電した粒子の優先的引力を促進することができる。本明細書の目的のために、正に荷電した粒子は、セリア、チタニア、窒素ドープシリカ、アミノシランコーティングシリカおよび陽イオン性界面活性剤で改変された粒子などの陽イオン性粒子を含む。特に、フルオロポリマーで改変されたパッドは、セリア含有スラリーによる研磨に非常に有効である。研磨面は、蒸留水中で5分間浸漬した後10μmのrms面粗度で、pH7の蒸留水を用いて測定された場合に親水性である。例えば、pH7では、ポリウレタンは、一般に、−5mV〜−15mVの範囲のゼータ電位を有するだろう。ポリウレタンのゼータ電位は、通常、低いpHレベルで正であり、pHレベルの上昇と共に負になる。しかしながら、ほとんどのフルオロポリマーは、疎水性であり、pH7で−20mV〜−50mVのゼータ電位を有する。フルオロポリマーのゼータ電位は、pHレベルの変化に伴う変動はポリウレタンよりも小さい傾向にある。
本発明は、半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも1つの基板を研磨または平坦化するのに有用なポリマー−ポリマー複合研磨パッドを提供する。本発明は、陽イオン性砥粒粒子を含有するスラリーによるパターン化されたシリコンウェーハの平坦化に特に有益である。本発明の重要な要素は、研磨パッドのマトリックス中へのフルオロポリマー粒子の組み込みによる、上面への増強されたスラリー粒子の吸着を促進するための上部パッド表面特性の改変である。本発明のパッドにおける予想外で新規な効果は、比較的低い濃度(総ポリマー濃度に対しておよそ1〜20wt%)の低引張強度フルオロポリマー粒子の添加が、改善された除去速度および望ましく高い負または正の表面ゼータ電位をもたらすことである。具体的に別途記載のない限り、本明細書は、すべての濃度を重量パーセントで提供する。通常、フルオロポリマーのゼータ電位は、pH7の蒸留水中で測定された場合にマトリックスよりも大きな負である。この負値性の増加は、研磨中の研磨パッドの研磨面に位置する研磨凹凸への正に荷電した粒子の優先的引力を促進することができる。本明細書の目的のために、正に荷電した粒子は、セリア、チタニア、窒素ドープシリカ、アミノシランコーティングシリカおよび陽イオン性界面活性剤で改変された粒子などの陽イオン性粒子を含む。特に、フルオロポリマーで改変されたパッドは、セリア含有スラリーによる研磨に非常に有効である。研磨面は、蒸留水中で5分間浸漬した後10μmのrms面粗度で、pH7の蒸留水を用いて測定された場合に親水性である。例えば、pH7では、ポリウレタンは、一般に、−5mV〜−15mVの範囲のゼータ電位を有するだろう。ポリウレタンのゼータ電位は、通常、低いpHレベルで正であり、pHレベルの上昇と共に負になる。しかしながら、ほとんどのフルオロポリマーは、疎水性であり、pH7で−20mV〜−50mVのゼータ電位を有する。フルオロポリマーのゼータ電位は、pHレベルの変化に伴う変動はポリウレタンよりも小さい傾向にある。
研磨中、ダイヤモンドコンディショニングディスクなどのコンディショナは、研磨パッドを切削し、表面に新鮮なフルオロポリマーを露出させる。このフルオロポリマーの一部は、上方へ広がり、研磨パッド上に隆起した表面領域を形成する。次いで、ウェーハとフルオロポリマーが擦り合って、研磨パッド表面上に薄膜が形成される。この膜は、10以下の原子層厚など、かなり薄い傾向にある。これらの薄膜は、とても薄いので、これらは、通常、標準的な走査型電子顕微鏡では視認できない。しかしながら、この膜のフッ素濃度は、X線光電子分光装置によって視認可能である。この装置は、フッ素および炭素濃度を侵入度1〜10nmで測定することができる。この膜が研磨面の一部しか覆わないことが重要である。フルオロポリマー膜が表面全体を覆う場合、研磨パッドは、研磨中、疎水性のままである。残念ながら、これらの疎水性パッドは、不十分な研磨除去速度を提供する傾向にある。その上、ポリマーマトリックス上へのフルオロポリマーの塗り込みを促進することができるようにするために、ポリマーマトリックスが十分な機械的完全性を維持することも重要である。例として、かつ、最も有利なことに、研磨パッドを研磨面の下でかつ研磨層と平行にスライシングすることで、ポリマーマトリックス中に固着されたフルオロポリマー粒子の一方の端が残り、もう一方の端が伸び率で少なくとも100%可塑的に変形することができる。
研磨面は、研磨中のパッドを湿らすのに十分なマトリックスポリマーを研磨面に含まなければならない。研磨パッドとスラリーとの間のこの親水性相互作用は、効率的なスラリー分配および研磨を維持するために重要である。本明細書の目的のために、親水性研磨面は、研磨パッドが、蒸留水(pH7)中に5分間浸漬した後10μmのrms面粗度を持つことを指す。ダイヤモンドコンディショニングは、表面テクスチャを生じる。いくつかの状況下で、紙やすりなどの砥粒布でダイヤモンドコンディショニングを模倣することが可能である。通常、フルオロポリマー膜は、研磨パッド表面の20〜80パーセントを覆う。X線光電子分光法で測定された場合のフッ素濃度と侵入度1〜10μmの深部透過型エネルギー分散型X線分光法で測定された場合のフッ素濃度との比較は、この膜の決定的な証拠を提供する。パッドは、侵入度1〜10nmの測定で、侵入度1〜10μmで測定されたマトリックスのバルクにおいてよりも少なくとも10原子百分率高いフッ素濃度を生成することができる。好ましくは、パッドは、侵入度1〜10nmの測定で、侵入度1〜10μmで測定されたマトリックスのバルクにおいてよりも少なくとも20原子百分率高いフッ素濃度を生成することができる。
さらに、比較的低い濃度(総ポリマー濃度に対しておよそ1〜20wt%)の低引張強度フルオロポリマーの添加の別の不測の効果は、パッドコンディショニングデブリのサイズの大幅な低下をもたらすことである。しかしながら、フルオロポリマー粒子は、これらがポリマー−ポリマー複合パッドの2〜30体積パーセントを含むときに有効に機能することができる。これは、観察された欠陥性の低減の要因であると考えられる。本発明のパッドにおけるなお別の予想外で新規な効果は、親ポリマーに添加される特定のフルオロポリマーを変えることによってパッドの表面ゼータ電位が改変される可能性があることである。このことは、望ましく小さいパッドコンディショニングデブリサイズを維持しながら、パッドが、複数のタイプのスラリーに対して増強された研磨速度を生み出すことを可能にし、結果として、欠陥レベルを改善し、かつ、平坦化に関して親パッドの望ましい特性を維持する。加えて、負のゼータ電位は、スラリーを安定化させて、有害なウェーハスクラッチングをもたらし得る有害な粒子降下を制限する助けにもなり得る。したがって、この粒子降下の制限は、しばしば、より低い研磨欠陥をもたらすことができる。
ポリウレタンブロックコポリマーなどの親ポリマーへのフルオロポリマー粒子の添加は、マルチポリマー複合物を形成する。好ましくは、マトリックスは、硬質および軟質セグメントを含有するポリウレタンブロックコポリマーである。多くの他の材料とは異なり、フルオロポリマーは、ポリウレタンマトリックスと結合も連結も形成することなく、独立したポリマーまたは相として存在する。このマトリックスは、多孔性か非多孔性かのいずれであってもよい。フルオロポリマーが周囲のマトリックスよりも顕著により軟質でより展延性であることが好ましい。この低引張強度によって、フルオロポリマーの塗り込みおよびマトリックスを覆う薄膜の形成が可能になることが発見された。低引張強度を塗り込みと組み合わせることは、優れた研磨結果を達成することに不可欠である。その上、フルオロポリマーの添加は、研磨パッドを弱くするが、研磨中に形成される1〜10μmのデブリ粒子の量を減少させる。少量(1〜20重量%)が添加されたときに、得られた材料は、依然として、研磨パッドとしての使用に適した機械特性を持つ。しかし、パッドコンディショニングプロセスに対する反応は、全く異なる。実際に、フルオロポリマーは、研磨マトリックス中の一端に捕捉されたときに100%の伸びが可能である。これらのフルオロポリマーは、表面凹凸間の間隙を埋め、面粗度を低下させる傾向にある。
フッ素化ポリマー粒子(PTFE、PFA)は、市販のパッド配合物中に粉末として使用されたとき、陽イオン性砥粒による半導体基板の研磨時に、欠陥の改善および研磨除去速度の改善を示す。許容されるフッ素化添加物の化学構造は、以下の通りである:
(a)PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)
(b)PFA(テトラフルオロエチレン(TFE)とペルフルオロアルキルビニルエーテル(PFAVE)のコポリマー)
(c)FEP(テトラフルオロエチレン(TFE)とヘキサフルオロプロピレン(HFP)のコポリマー)
(d)PVF(ポリフッ化ビニル)
(a)PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)
(b)PFA(テトラフルオロエチレン(TFE)とペルフルオロアルキルビニルエーテル(PFAVE)のコポリマー)
(c)FEP(テトラフルオロエチレン(TFE)とヘキサフルオロプロピレン(HFP)のコポリマー)
(d)PVF(ポリフッ化ビニル)
追加の許容されるフルオロポリマーの例は、ETFE(エチレンテトラフルオロエチレン)、PVDF(ポリフッ化ビニリデン)およびECTFE(エチレンクロロトリフルオロエチレン)である。好ましくは、フルオロポリマーは、PTFE、PFA、FEP、PVF、ETFE、ECTFEおよびそれらの組み合わせから選択される。
フッ素で末端キャップされたポリテトラフルオロエチレン(PTFE)などの多くの疎水性炭化水素ポリマーは、水中で、通常−20mV未満の高い負のゼータ電位を有し、そして、静水接触角が100°を上回りかなり疎水性である。しかしながら、接触角ヒステリシスは、極めて低い。通常の水中での前進、静止および後退接触角は、それぞれ、110°、110°および95°であり、すなわち、材料表面は、高度に疎水性のままである。PTFEの高い負のゼータ電位の説明は、単純であり、低い表面極性とポリマー表面での水双極子の高い配向度に起因する。ポリフッ化ビニル(PVF)などの他の疎水性フルオロポリマーは、類似の静水接触角を有するが、水中で、通常+30mVを超える高い正のゼータ電位を有することができる。PVFは、それがはるかに高い極性であるという点でPTFEと異なる。正のゼータ電位は、フルオロポリマーを分解して末端キャップする窒素含有重合開始剤の存在に起因する。例えば、アゾ開始剤は、PTFE、PFA、FEP、PVF、ETFE、ECTFEおよびそれらの組み合わせを含めた複数のフルオロポリマーに対して陽イオン性フルオロポリマー粒子を形成することができる。最も好ましくは、陽イオン性フルオロポリマーは、PVFである。
コンディショニングプロセスでは、金属またはセラミックマトリックス中に埋め込まれたダイヤモンド結晶が、切削ツールとして作用し、パッドに切り込みを入れて、材料を除去して、結果として表面テクスチャを形成する。ダイヤモンドコンディショニング相互作用には、塑性変形および破断の2つの基本的な様式がある。ダイヤモンド粒子のタイプ、サイズおよび単位面積当たりの数が一定の効果を持ち得る一方で、研磨パッドの構造は、材料除去の様式に対してはるかに大きな影響を有する。極端な一例として、固体の高靱性ポリマーは、細い溝を作るが必ずしも大量除去にはならない、主に塑性様式のコンディショニング摩耗をもたらすと予想される。他の極端な一例として、脆性のガラス状ポリマーは、破断を介したパッド除去に有利に働き、パッド表面のかなりの部分がスラリー中に放出される。ポリマー複合物またはポリマーフォームについて、その隙間または添加物の体積分率は、コンディショニング様式を破断にシフトさせる傾向にあり、それは、前記隙間間の介在空間または第二の相とほぼ等価な体積を放出するために破壊されるパッドポリマー結合がより少なくて済むからである。CMPパッドに現在使用されているクローズドセルポリウレタンフォームについて、これらの破断断片のサイズは非常に大きく、通常数十ミクロンのサイズである。これらのパッドは、比較的硬いポリマーであるので、このサイズ範囲の粒子は、これらがCMP中に圧力下でスラリー膜に捕捉された場合に、研磨されるウェーハにスクラッチング損傷を引き起こすことが知られている。本発明のパッドについて、フルオロポリマー粒子の添加は、とりわけ小さい直径について、セル状隙間間の介在空間中の材料の引張強度をさらに弱らせるように作用するので、これらは、コンディショニングデブリのサイズを顕著に低下させる。これは、研磨中のスクラッチ密度の低下に寄与する。
本発明のパッド中のフルオロポリマー粒子が研磨中にパッド表面に露出すると、パッドとウェーハの相対運動から生じる高剪断速度は、フルオロポリマー粒子の低剪断強度と一緒に、パッド表面の隣接部分へのフルオロポリマーの塑性流動をもたらす。時間と共に、これは、ウェーハ表面上に薄い不連続のフルオロポリマー膜をもたらす。低レベルの粒子添加では、これは、ウレタンリッチ域とフルオロポリマーリッチ域からなる不均一表面をもたらす。このタイプの不均一表面を有する研磨パッドは、逆荷電粒子による研磨について顕著な研磨速度増強を有する。この不均一表面の有効ゼータ電位は、使用されるフルオロポリマーおよび相対被覆領域によって制御される。例えば、負のゼータ電位を有するPTFE粒子の使用は、親ポリマーと比べて増強された負のゼータ電位を有するパッド表面をもたらす。
同様に、本発明のパッドが使用されたときに生成されるコンディショニングデブリもスラリー粒子に引きつけられるだろう。これらのデブリ粒子は小さいので、スラリー粒子の吸着は、スラリー粒子/パッド粒子凝集物の形成を導くと予想される。これらの凝集体を形成する研磨操作は、2つの理由で従来のパッドよりもはるかに害が少ない。第一に、親デブリははるかにより小さいので、得られる凝集物も相応により小さいだろう。第二に、凝集物は、それらの表面の不均一性に起因して、低い結合強度を有すると予想される。最後に、フルオロポリマーは、スラリーを安定化させ、粒子沈降を遅らせることができる。これは、セリア含有スラリーおよび他の陽イオン性スラリーにとって重要であり得る。例えば、フルオロポリマー粒子は、以下のように、陽イオン性粒子を含有するスラリー中で沈降感受性を有する:a)スラリーについての沈降勾配(%/時間)を決定する;b)スラリー+0.1wt%フルオロポリマー粒子についての沈降勾配(%/時間)を決定する;そして、c)勾配a)−勾配b)が≧5%/時間である。スラリーは、研磨パッド上に限られた時間しか滞在しないので、勾配の小さな変化が研磨欠陥の顕著な減少を提供することができる。
本発明のパッドは、多種多様なスラリーに対して使用して、組み込むべきフルオロポリマー添加物を選択してそれをスラリー粒子およびpHと適合させる新規手段によって増強された研磨速度および低減された欠陥性を達成することができる。
本発明に従うCMP研磨パッドは、以下を含む方法によって製造され得る:イソシアネート末端化ウレタンプレポリマーを提供すること;硬化性成分を別々に提供すること;および、イソシアネート末端化ウレタンプレポリマーと硬化性成分とを合わせて、組み合わせ物を形成し;組み合わせ物を反応させて生成物を形成して;例えば生成物をスカイビング加工して所望の厚さの研磨層を形成し、例えばそれを機械加工することによって研磨層に溝付けすることによって、生成物から研磨層を形成し;そして、研磨層を備えたケミカルメカニカル研磨パッドを形成すること。
本発明のケミカルメカニカル研磨パッドの研磨層の形成において使用されるイソシアネート末端化ウレタンプレポリマーは、好ましくは、多官能性イソシアネートおよび1つがフルオロポリマー粉末である2以上の成分を含有するプレポリマーポリオール混合物を含む、構成要素の反応生成物を含む。フルオロポリマー粉末は、イソシアネートと反応しない。むしろ、フルオロポリマー粉末は、最終重合工程の前に均一な分散を生じさせるためにプレポリマーに加えられる。
本発明のケミカルメカニカル研磨パッドの研磨層の形成において使用されるイソシアネート末端化ウレタンプレポリマーは、好ましくは、多官能性イソシアネートおよび1つがフルオロポリマー粉末である2以上の成分を含有するプレポリマーポリオール混合物を含む、構成要素の反応生成物を含む。フルオロポリマー粉末は、イソシアネートと反応しない。むしろ、フルオロポリマー粉末は、最終重合工程の前に均一な分散を生じさせるためにプレポリマーに加えられる。
本発明は、ポリウレタン、ポリブタジエン、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリスルホンおよびポリカーボネートなどの様々なポリマーマトリックスと共に機能する。好ましくは、マトリックスは、ポリウレタンである。本明細書の目的のために、「ポリウレタン」は、二官能性または多官能性のイソシアネートに由来する生成物、例えば、ポリエーテルウレア、ポリイソシアヌレート、ポリウレタン、ポリウレア、ポリウレタンウレア、それらのコポリマーおよびそれらの混合物である。したがって、CMP研磨パッドは、以下を含む方法によって製造され得る:イソシアネート末端化ウレタンプレポリマーを提供すること;硬化性成分を別々に提供すること;および、イソシアネート末端化ウレタンプレポリマーと硬化性成分とを合わせて、組み合わせ物を形成し、次いで、組み合わせ物を反応させて生成物を形成すること。鋳造ポリウレタンケーキを所望の厚さまでスカイビング加工し、研磨層を溝付けまたは孔開けすることによって、研磨層を形成することが可能である。任意で、ケーキ鋳型をIR照射、誘導または直接電流で予熱すると、多孔質ポリウレタンマトリックスを鋳造する際の生成物変動性を低下させることができる。任意で、熱可塑性ポリマーまたは熱硬化性ポリマーのいずれかを使用することが可能である。最も好ましくは、ポリマーは、架橋熱硬化性ポリマーである。
好ましくは、本発明のケミカルメカニカル研磨パッドの研磨層の形成において使用される多官能性イソシアネートは、脂肪族多官能性イソシアネート、芳香族多官能性イソシアネートおよびそれらの混合物からなる群より選択される。より好ましくは、本発明のケミカルメカニカル研磨パッドの研磨層の形成において使用される多官能性イソシアネートは、2,4−トルエンジイソシアネート;2,6−トルエンジイソシアネート;4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート;ナフタレン−1,5−ジイソシアネート;トリジンジイソシアネート;パラ−フェニレンジイソシアネート;キシリレンジイソシアネート;イソホロンジイソシアネート;ヘキサメチレンジイソシアネート;4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート;シクロヘキサンジイソシアネート;およびそれらの混合物からなる群より選択されるジイソシアネートである。さらにより好ましくは、本発明のケミカルメカニカル研磨パッドの研磨層の形成において使用される多官能性イソシアネートは、ジイソシアネートとプレポリマーポリオールとの反応によって形成されるイソシアネート末端化ウレタンプレポリマーである。
好ましくは、本発明のケミカルメカニカル研磨パッドの研磨層の形成において使用されるイソシアネート末端化ウレタンプレポリマーは、2〜12wt%の未反応イソシアネート(NCO)基を有する。より好ましくは、本発明のケミカルメカニカル研磨パッドの研磨層の形成において使用されるイソシアネート末端化ウレタンプレポリマーは、2〜10wt%(さらにより好ましくは、4〜8wt%;最も好ましくは、5〜7wt%)の未反応イソシアネート(NCO)基を有する。
好ましくは、多官能性イソシアネート末端化ウレタンプレポリマーを形成するために使用されるプレポリマーポリオールは、ジオール、ポリオール、ポリオールジオール、それらのコポリマーおよびそれらの混合物からなる群より選択される。より好ましくは、プレポリマーポリオールは、ポリエーテルポリオール(例えば、ポリ(オキシテトラメチレン)グリコール、ポリ(オキシプロピレン)グリコールおよびそれらの混合物);ポリカーボネートポリオール;ポリエステルポリオール;ポリカプロラクトンポリオール;それらの混合物;ならびに、エチレングリコール;1,2−プロピレングリコール;1,3−プロピレングリコール;1,2−ブタンジオール;1,3−ブタンジオール;2−メチル−1,3−プロパンジオール;1,4−ブタンジオール;ネオペンチルグリコール;1,5−ペンタンジオール;3−メチル−1,5−ペンタンジオール;1,6−ヘキサンジオール;ジエチレングリコール;ジプロピレングリコール;およびトリプロピレングリコールからなる群より選択される1つまたは複数の低分子量ポリオールとのそれらの混合物からなる群より選択される。さらにより好ましくは、プレポリマーポリオールは、ポリテトラメチレンエーテルグリコール(PTMEG);エステル系ポリオール(アジピン酸エチレン、アジピン酸ブチレンなど);ポリプロピレンエーテルグリコール(PPG);ポリカプロラクトンポリオール;それらのコポリマー;およびそれらの混合物からなる群より選択される。最も好ましくは、プレポリマーポリオールは、PTMEGおよびPPGからなる群より選択される。
好ましくは、プレポリマーポリオールがPTMEGであるとき、イソシアネート末端化ウレタンプレポリマーは、2〜10wt%(より好ましくは、4〜8wt%;最も好ましくは、6〜7wt%)の未反応イソシアネート(NCO)濃度を有する。市販のPTMEG系イソシアネート末端化ウレタンプレポリマーの例は、Imuthane(登録商標)プレポリマー(COIM USA, Inc.から入手可能、例えば、PET−80A、PET−85A、PET−90A、PET−93A、PET−95A、PET−60D、PET−70D、PET−75D);Adiprene(登録商標)プレポリマー(Chemturaから入手可能、例えば、LF800A、LF900A、LF910A、LF930A、LF931A、LF939A、LF950A、LF952A、LF600D、LF601D、LF650D、LF667、LF700D、LF750D、LF751D、LF752D、LF753DおよびL325);Andur(登録商標)プレポリマー(Anderson Development Companyから入手可能、例えば、70APLF、80APLF、85APLF、90APLF、95APLF、60DPLF、70APLF、75APLF)を含む。
好ましくは、プレポリマーポリオールがPPGであるとき、イソシアネート末端化ウレタンプレポリマーは、3〜9wt%(より好ましくは、4〜8wt%、最も好ましくは、5〜6wt%)の未反応イソシアネート(NCO)濃度を有する。市販のPPG系イソシアネート末端化ウレタンプレポリマーの例は、Imuthane(登録商標)プレポリマー(COIM USA, Inc.から入手可能、例えば、PPT−80A、PPT−90A、PPT−95A、PPT−65D、PPT−75D);Adiprene(登録商標)プレポリマー(Chemturaから入手可能、例えば、LFG963A、LFG964A、LFG740D);および、Andur(登録商標)プレポリマー(Anderson Development Companyから入手可能、例えば、8000APLF、9500APLF、6500DPLF、7501DPLF)を含む。
好ましくは、本発明のケミカルメカニカル研磨パッドの研磨層の形成において使用されるイソシアネート末端化ウレタンプレポリマーは、0.1wt%未満の遊離トルエンジイソシアネート(TDI)モノマー含量を有する低遊離イソシアネート末端化ウレタンプレポリマーである。
非TDI系イソシアネート末端化ウレタンプレポリマーも使用することができる。例えば、イソシアネート末端化ウレタンプレポリマーは、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)およびポリテトラメチレングリコール(PTMEG)などのポリオールと1,4−ブタンジオール(BDO)などの任意のジオールとの反応によって形成されるものを含み、許容される。そのようなイソシアネート末端化ウレタンプレポリマーが使用されるとき、未反応イソシアネート(NCO)濃度は、好ましくは、4〜10wt%(より好ましくは、4〜10wt%、最も好ましくは、5〜10wt%)である。このカテゴリーの市販のイソシアネート末端化ウレタンプレポリマーの例は、Imuthane(登録商標)プレポリマー(COIM USA, Inc.から入手可能、例えば、27−85A、27−90A、27−95A);Andur(登録商標)プレポリマー(Anderson Development Companyから入手可能、例えば、IE75AP、IE80AP、IE85AP、IE90AP、IE95AP、IE98AP);および、Vibrathane(登録商標)プレポリマー(Chemturaから入手可能、例えば、B625、B635、B821)を含む。
本発明のケミカルメカニカル研磨パッドの研磨層はさらに、複数の微小エレメントを含有してもよい。好ましくは、複数の微小エレメントは、研磨層全体に均一に分散されている。好ましくは、複数の微小エレメントは、閉じ込められた気泡、中空コアポリマー材料、液体充填中空コアポリマー材料、水溶性材料および不溶性相材料(例えば、鉱油)から選択される。より好ましくは、複数の微小エレメントは、研磨層全体に均一に分布している閉じ込められた気泡および中空コアポリマー材料から選択される。好ましくは、複数の微小エレメントは、150μm未満(より好ましくは、50μm未満;最も好ましくは、10〜50μm)の重量平均径を有する。好ましくは、複数の微小エレメントは、ポリアクリロニトリルまたはポリアクリロニトリルコポリマーのいずれかのシェル壁を有するポリマーマイクロバルーン(例えば、Akzo Nobel製のExpancel(登録商標)ミクロスフェア)を含む。好ましくは、複数の微小エレメントは、研磨層中に、多孔率0〜50体積%(好ましくは、多孔率10〜35体積%)で組み込まれる。多孔率体積%は、無充填研磨層の比重と微小エレメントを含有する研磨層の比重との間の差を無充填研磨層の比重で割ることによって決定される。好ましくは、粒子分布を改善するポリマー微小エレメントの平均間隔より小さい平均粒径を有するフルオロポリマー粒子は、粘度を低減し、鋳造を容易にする。
本発明のCMP研磨パッドの研磨層は、多孔性および非多孔性(すなわち、無充填)の両方の構成で提供することができる。好ましくは、本発明のケミカルメカニカル研磨パッドの研磨層は、0.4〜1.15g/cm3(より好ましくは、0.70〜1.0;ASTM D1622 (2014)に従って測定された場合)の密度を示す。
好ましくは、本発明のケミカルメカニカル研磨パッドの研磨層は、ASTM D2240 (2015)に従って測定された場合に28〜75のショアD硬度を示す。
好ましくは、研磨層は、20〜150ミル(510〜3,800μm)の平均厚を有する。より好ましくは、研磨層は、30〜125ミル(760〜3200μm)、さらにより好ましくは、40〜120ミル(1,000〜3,000μm);最も好ましくは、50〜100ミル(1300〜2500μm)の平均厚を有する。
好ましくは、本発明のCMP研磨パッドは、研磨機のプラテンと結合するように適合される。好ましくは、CMP研磨パッドは、研磨機のプラテンに固定されるように適合される。好ましくは、感圧接着剤およびバキュームの少なくとも1つを使用して、CMP研磨パッドをプラテンに固定することができる。
本発明のCMP研磨パッドは、任意で、研磨層と結合する少なくとも1つの追加の層をさらに含む。好ましくは、CMP研磨パッドは、任意で、研磨層に付着された圧縮性の基層をさらに含む。圧縮性の基層は、好ましくは、研磨される基板の表面への研磨層の適合性を改善する。
最終形態の本発明のCMP研磨パッドはさらに、その上面への1つまたは複数の寸法のテクスチャの組み込みを含む。これらは、それらのサイズによってマクロテクスチャまたはマイクロテクスチャに分類され得る。CMPに用いられる一般的なタイプのマクロテクスチャは、流体力学的反応および/またはスラリー輸送を制御し、非限定的に、環状、放射状およびクロスハッチングなどの多くの構成および設計の溝を含む。これらは、機械加工を介して薄い均一なシートに形成しても、ネットシェイプ成形加工を介してパッド表面上に直接形成してもよい。一般的なタイプのマイクロテクスチャは、研磨が行われる基板ウェーハとの接触点である表面凹凸団を生み出す、精細なスケールの形状である。一般的なタイプのマイクロテクスチャは、非限定的に、ダイヤモンド(しばしば、パッドコンディショニングと称される)などの多くの硬質粒子による摩耗によって使用前、使用中または使用後のいずれかに形成されるテクスチャ、およびパッド製作プロセスの間に形成されるマイクロテクスチャを含む。
基板研磨操作における重要な工程は、プロセスの終点を決定することである。終点検出のための1つの人気のあるインサイチュー法は、選択された波長の光に対して透過性であるウィンドウを研磨パッドに設けることを伴う。研磨中、光ビームが、そのウィンドウを通って基板表面に送られ、そこで反射し、ウィンドウを反対に通過して検出器(例えば、分光光度計)に達する。戻り信号に基づいて、終点検出の目的のために基板表面の特性(例えば、その上の膜の厚さ)を判定することができる。そのような光に基づいた終点法を容易にするために、本発明のケミカルメカニカル研磨パッドは、任意で、終点検出ウィンドウをさらに含む。好ましくは、終点検出ウィンドウは、研磨層に組み込まれた一体型ウィンドウ;および、ケミカルメカニカル研磨パッドに組み込まれたプラグ配置終点検出ウィンドウブロックから選択される。十分な透過率を有する本発明の無充填パッドについて、上部パッド層それ自体を、ウィンドウ開口部として使用することができる。本発明のパッドのポリマー相が相分離を示す場合、相分離を局所的に抑制するために、製作中の冷却速度を局所的に増加させることによって上部パッド材料の透過性領域を作り、終点決定ウィンドウ(endpointing window)としての使用に適したより透過性の領域をもたらすこともできる。
CMP研磨パッドは、本発明の背景に記載の通り、研磨スラリーと共に使用される。本発明のパッドは、多種多様なスラリーに対して使用して、組み込むべきフルオロポリマー添加物を選択してそれをスラリー粒子およびpHと適合させる新規手段によって増強された研磨速度および低減された欠陥性を達成することができる。
本発明のCMP研磨パッドは、そのpHが使用される粒子の等電pHを上回るか下回るかのいずれかであるスラリーと共に使用するために設計される。フルオロポリマーを単純な基準に基づいて選ぶことによって、最大速度を選択することができる。例えば、CeO2は、約6.5の等電pHを有する。このpHを下回ると、粒子表面は、正味正電荷を有する。このpHを上回ると、粒子は、正味負電荷を有する。スラリーのpHがスラリー粒子の等電pHを下回る場合、そのpHで負のゼータ電位を有するフルオロポリマー粒子添加(例えば、PTFEまたはPFA)を含有するパッドを選択することは、除去速度の最大の改善をもたらすだろう。同様に、高いpH(例えば、10)を有するコロイダルまたはヒュームドシリカ粒子を使用したスラリーについて、最大研磨速度は、そのpHで正のゼータ電位を有するフルオロポリマー粒子添加(すなわち、PVF)を含有するパッドを選択することによって達成されるだろう。これは、事実上あらゆるスラリーについて速度増強を可能にするので、非常に魅力的な性能である。
シリカスラリーと共に使用したときの本発明のパッドについての重大な新規利点は、本発明の背景に記載の通り、本発明のパッドとシリカ粒子との間の静電引力の追加の効果が、スラリー中に使用される粒子の量の大幅削減に作用し、先行技術のパッドで達成された研磨速度をもたらすことができることである。これは、ユーザーに対してコストの面で重大な利点を提供する。
本発明のCMPパッドは、熱硬化性ウレタンと適合性である様々なプロセスによって製造され得る。これらは、上記のような構成要素を混合して鋳型に流し込み、焼鈍し、所望の厚さのシートにスライスすることを含む。あるいは、これらは、より正確なネットシェイプ成形で製造してもよい。本発明に従う好ましいプロセスは、以下を含む:1.熱硬化性射出成形(しばしば、「反応射出成形」または「RIM」と称される)、2.熱可塑性または熱硬化性射出吹込成形、3.圧縮成形、または4.流動性材料が配置されて固化されることで、パッドのマクロテクスチャまたはマイクロテクスチャの少なくとも一部を作り出す、任意の類似のタイプのプロセス。本発明のある好ましい成形実施態様では、1.流動性材料が構造物または基材中にまたはその上に送られ;2.材料が固化するにつれて、構造物または基材が材料に表面テクスチャを付与し、そして、3.構造物または基材がその後に固化した材料から分離される。
これ以降、本発明のいくつかの実施態様を以下の実施例において詳細に記載する。
実施例:試料調製
研磨パッドの試料、高強度ポリウレタン(試料A)、40μmの孔径を有する中多孔性ポリウレタン(試料B)および20μmの孔径を有する低多孔性ポリウレタン(試料C)を、4種の異なる市販のフルオロポリマー粉末PTFE−1(Chemours Zonyl(商標)MP-1000粒子)、PTFE−2(Chemours Zonyl(商標)MP-1200粒子)、PFA(Solvay P-7010、テトラフルオロエチレン(TFE)とペルフルオロアルキルビニルエーテル(PFAVE)のコポリマー粒子)、およびPVF(窒素末端化ポリフッ化ビニル粒子)を上部パッド材料に多様に添加することで生産した。製造業者のデータから、表面加重平均粒径は、MP-1000が1.6μm、MP-1200が1.7μmに対して、PFA試料は8.9μmであった。硬化性成分およびパッド中に存在する気体または液体が充填されたポリマー微小エレメント成分と混合する前に、フルオロポリマー粉末をポリウレタン配合物のプレポリマー成分に加えて、最終硬化ポリウレタン中での均一な分布を確保した。調製後、フルオロポリマー粒子ありまたはなしの等価なパッドを調製し、試験した。
研磨パッドの試料、高強度ポリウレタン(試料A)、40μmの孔径を有する中多孔性ポリウレタン(試料B)および20μmの孔径を有する低多孔性ポリウレタン(試料C)を、4種の異なる市販のフルオロポリマー粉末PTFE−1(Chemours Zonyl(商標)MP-1000粒子)、PTFE−2(Chemours Zonyl(商標)MP-1200粒子)、PFA(Solvay P-7010、テトラフルオロエチレン(TFE)とペルフルオロアルキルビニルエーテル(PFAVE)のコポリマー粒子)、およびPVF(窒素末端化ポリフッ化ビニル粒子)を上部パッド材料に多様に添加することで生産した。製造業者のデータから、表面加重平均粒径は、MP-1000が1.6μm、MP-1200が1.7μmに対して、PFA試料は8.9μmであった。硬化性成分およびパッド中に存在する気体または液体が充填されたポリマー微小エレメント成分と混合する前に、フルオロポリマー粉末をポリウレタン配合物のプレポリマー成分に加えて、最終硬化ポリウレタン中での均一な分布を確保した。調製後、フルオロポリマー粒子ありまたはなしの等価なパッドを調製し、試験した。
実施例1
10重量パーセントのPTFE−1およびPFAを添加してまたは添加しないで製造された一組の試料Aの物性を調べた。以下の表に示すように、特質の変化は、引張強度、硬度および大半の機械特性の低下であった。特に興味深いことは、弾性挙動に特徴的であった剪断貯蔵弾性率(G’)に対する添加の効果と、試料中の消散されたエネルギーの量を表す剪断損失弾性率(G’’)に対する効果との差であった。40℃での剪断貯蔵弾性率G’は、対照と比べて大幅な低下を示した(PFAについて−31%およびPTFEについて−45%)。剪断損失弾性率G’’は、類似の傾向を示した(PFAについて−26%およびPTFEについて−37%)。試料はすべて、主に弾性ポリマーであったが、G’に対するG’’の比であるtanδは、PFA添加およびPTFE添加についてそれぞれ6%および14%増加した。これは、フルオロポリマー添加によってもたらされたエネルギー消散の増加の直接的な尺度であった。引張強度について、PFA添加では6%およびPTFE添加では14%減少した類似の傾向が観察された。
10重量パーセントのPTFE−1およびPFAを添加してまたは添加しないで製造された一組の試料Aの物性を調べた。以下の表に示すように、特質の変化は、引張強度、硬度および大半の機械特性の低下であった。特に興味深いことは、弾性挙動に特徴的であった剪断貯蔵弾性率(G’)に対する添加の効果と、試料中の消散されたエネルギーの量を表す剪断損失弾性率(G’’)に対する効果との差であった。40℃での剪断貯蔵弾性率G’は、対照と比べて大幅な低下を示した(PFAについて−31%およびPTFEについて−45%)。剪断損失弾性率G’’は、類似の傾向を示した(PFAについて−26%およびPTFEについて−37%)。試料はすべて、主に弾性ポリマーであったが、G’に対するG’’の比であるtanδは、PFA添加およびPTFE添加についてそれぞれ6%および14%増加した。これは、フルオロポリマー添加によってもたらされたエネルギー消散の増加の直接的な尺度であった。引張強度について、PFA添加では6%およびPTFE添加では14%減少した類似の傾向が観察された。
データは、フルオロポリマーをドープした材料が、親材料と比べて減少した物性を有することを示している。この物性の減少は、フルオロポリマーの引張強度が、試料Aのマトリックスの引張強度よりも小さいことを示した。引張強度は、ASTM D412に従って測定された。
フルオロポリマーをドープしたパッドの顕微鏡分析は、ポリマーマトリックス内にランダムに分布していた別々のフルオロポリマー粒子の存在をEDS分析で確認して明らかにした。フルオロカーボン粒子は、同じく存在していた柔軟なポリマー微小エレメントへの引力の証拠もそれとの相互作用の証拠も示さなかった。
実施例2
製造中に様々な量のPTFE−2を加えた試料Bの一組の中多孔性ポリウレタンパッドに対して脱イオン水接触角を測定した。図1に示すように、接触角は、PTFE含量の増加に正比例して、7.5%のPTFE含量で140°前後の定常値まで増加した。PTFEとPFAの両方を添加したパッドはすべて、見るからに親パッドよりも疎水性であった。これにもかかわらず、研磨面は、蒸留水中で5分間浸漬した後10μmのrms面粗度で、pH7の蒸留水を用いて測定された場合に親水性である。
製造中に様々な量のPTFE−2を加えた試料Bの一組の中多孔性ポリウレタンパッドに対して脱イオン水接触角を測定した。図1に示すように、接触角は、PTFE含量の増加に正比例して、7.5%のPTFE含量で140°前後の定常値まで増加した。PTFEとPFAの両方を添加したパッドはすべて、見るからに親パッドよりも疎水性であった。これにもかかわらず、研磨面は、蒸留水中で5分間浸漬した後10μmのrms面粗度で、pH7の蒸留水を用いて測定された場合に親水性である。
実施例3
本発明の有益な効果を実証するために、PTFEおよびPFAを添加したおよび添加しなかった高強度試料Aパッドの一組に対して研磨試験を実施した。添加した各フルオロポリマーの濃度は、8.1%であった。Applied Materials Mirra CMP研磨ツール上、1試験当たり60個の200mmのTEOSモニタウェーハを使用して、各パッド組に対して3種のスラリーを試験した。使用したスラリーは、2種のセリアスラリー(Asahi CES333F2.5およびDA Nano STI2100F)およびヒュームドシリカスラリー(Cabot SS25)であった。使用した条件は、ダウンフォース3psi(20.7kPa)、プラテン速度93rpm、キャリア速度87rpm、およびスラリー流量150ml/分であった。コンディショナは、スラリーのタイプによって変更した。セリアスラリーについて、Saesol LPX-C4ダイヤモンドコンディショナディスクを使用した。シリカスラリーについて、Saesol AK45コンディショナディスクを使用した。すべてのコンディショナを7lbの力(3.2kgf)での研磨と同時に使用した。各ランについて、パッドブレークインコンディショニング工程を7lbの力(3.2kgf)で20分間使用して、均一な初期パッドテクスチャを確保した。研磨除去速度および欠陥性をまとめたものを以下の表2および2Aに示す。実施例3における研磨は、AsahiおよびDaNanoスラリーについてはセリアの等電点を下回るpHで、そして、SS25スラリーではシリカの等電点を上回るpHで行った。
本発明の有益な効果を実証するために、PTFEおよびPFAを添加したおよび添加しなかった高強度試料Aパッドの一組に対して研磨試験を実施した。添加した各フルオロポリマーの濃度は、8.1%であった。Applied Materials Mirra CMP研磨ツール上、1試験当たり60個の200mmのTEOSモニタウェーハを使用して、各パッド組に対して3種のスラリーを試験した。使用したスラリーは、2種のセリアスラリー(Asahi CES333F2.5およびDA Nano STI2100F)およびヒュームドシリカスラリー(Cabot SS25)であった。使用した条件は、ダウンフォース3psi(20.7kPa)、プラテン速度93rpm、キャリア速度87rpm、およびスラリー流量150ml/分であった。コンディショナは、スラリーのタイプによって変更した。セリアスラリーについて、Saesol LPX-C4ダイヤモンドコンディショナディスクを使用した。シリカスラリーについて、Saesol AK45コンディショナディスクを使用した。すべてのコンディショナを7lbの力(3.2kgf)での研磨と同時に使用した。各ランについて、パッドブレークインコンディショニング工程を7lbの力(3.2kgf)で20分間使用して、均一な初期パッドテクスチャを確保した。研磨除去速度および欠陥性をまとめたものを以下の表2および2Aに示す。実施例3における研磨は、AsahiおよびDaNanoスラリーについてはセリアの等電点を下回るpHで、そして、SS25スラリーではシリカの等電点を上回るpHで行った。
本発明のフルオロポリマー粒子を含有するパッドを陽イオン性セリア含有スラリーと共に使用したときに、研磨速度が実質的に増加し、欠陥レベル、特にスクラッチおよびチャターマークが実質的に減少した。陰イオン性シリカ含有スラリーを使用したとき、そのような改善は得られなかった。速度を増加させ欠陥を低減させるセリアを用いたこの電荷特異的反応は、予想外のことであった。
観察された改善についてさらに理解を深めるために、いくつかの試験を実行した。PFA添加物ありの試料Aについての研磨後のパッドの粗度の比較は、対照と比べて低下した粗度を示した(ナノフォーカスレーザープロフィロメーターによって測定された場合にrms粗度の18%の低下)。加えて、8.1wt%のPTFEを添加したおよび添加しなかった高強度パッドについて、セリア含有スラリー(CES333F2.5)およびシリカ系スラリー(Klebosol 1730)による研磨中に、摩擦係数(COF)測定を行った。研磨条件は、表2および2Aに記載の試験に使用したものと同じであった。図2に示すように、シリカスラリーについて、試験したダウンフォース範囲にわたって対照とPTFE試料との間でCOFの有意差はない。セリアスラリーについて、対照とPTFE試料の両方でより高いCOFが観察された。より高いダウンフォースでは、COFの有意差は観察されなかったが、このことは、PTFEパッド添加物が潤滑剤として作用しなかったことを示している。PTFE試料は、試験したダウンフォース範囲全体にわたってほぼ一定のCOFを有していた一方で、対照パッドは、2psi(13.8kPa)を下回るダウンフォースでCOFの上昇を示した。その差は、PTFEを含有するパッドで観察されたより低い粗度によるものであった。
コンディショニングプロセスに対するフルオロポリマー添加の効果についてさらに理解を深めるために別の試験を実行した。この試験では、Buehler卓上研磨機を使用して、コンディショニングプロセスの効果を模倣した。パッド試料を搭載し、10lbの力(4.5kgf)で使用するSaesol AK45コンディショナディスクを用いて脱イオン水でコンディショニングして、パッドブレークインの効果を模倣した。流出した試料をブレークインサイクルの開始時および終了時に採取し、粒子のサイズ分布をAccusizer粒子分析ツールで測定した。図3に示すように、対照パッドと比べて、PTFE含有パッドとPFA含有パッドの両方でパッドデブリサイズ分布の大幅な低下が観察された。1〜10ミクロン範囲の粒子について最も大幅なサイズ低下が生じた。これは、2種のフルオロポリマーを親パッドに加えたときのスクラッチ欠陥の低減と一致した。
上に概説した試験は、本発明の欠陥性改善のある局面を説明することができる一方で、観察された研磨速度の増加を解明できなかった。したがって、追加の試験を実行した。
セリア(酸化セリウム)とパッド試料に使用したフルオロポリマー添加物との間の相互作用を、水晶振動子マイクロバランス(QCM)測定を使用して調べた。QCM測定の間、脱イオン水(pH6)中のPTFEおよびPFA粒子の希釈分散物を、セリア結晶を含有するフローセルに通した。高感度マイクロバランスによって測定された質量の増加によって、セリア結晶への粒子の吸着が実証された。図4に示すように、セリア結晶と数種の異なるサイズのPTFE/PFA粒子との間の引力相互作用が観察された。試験pHでのセリア結晶のゼータ電位が正であったので、結果は、フルオロポリマー粒子が負のゼータ電位を有することを示している。これは、極めて高い負のゼータ電位を示したが、それは、疎水性表面およびその水双極子配向に対する効果によって駆動される。この効果は、ポリウレタンの(負の)ゼータ電位とは大きく異なり、それは、ポリマー鎖中に存在する構造ヒドロキシル基によって駆動される。
この試験および提示された他のデータからの結論は、パッド表面でのフルオロポリマー粒子の存在が、パッド表面へのセリア粒子の全体の引力を増加させ、それゆえに、研磨中の単位時間当たりの粒子/ウェーハ相互作用の全体数を上昇させることによって、研磨速度の増加を助けることである。静電反発が粒子の望ましく高い表面濃度が生じるのを防止するので、この効果は、負に荷電したシリカ粒子がスラリー中に使用されたときには生じない。
加えて、Lumisizer分散分析装置沈降研究を使用してスラリーの安定性を評価した。分散分析装置は、ISO/TR 1309、ISO/TR 18811、ISO18747-1およびISO13318-2に従って操作された。フルオロポリマー添加物ありおよびなしのスラリーの試料を遠心分離し、試料を通過した光透過を測定して、スラリー粒子がどれほど素早く沈降したかを判定した。これは、スラリーの安定性、したがって凝集の尺度である。0.1wt%の添加物ありおよびなしでの測定の勾配を表3に示す。フルオロポリマー粒子が湿潤でない場合、粒子を水溶性にするために、必要に応じて粒子を湿潤させるための最少量の界面活性剤(例えば、Stepan Company製のMerpol(商標)Aリン酸アルコール非イオン性界面活性剤)が必要となる。
添加物ありの試料についての勾配は、添加物なしの勾配よりも一貫して低かったが、このことは、これらが、よりゆっくりと沈降し、したがってより安定であったことを示している。これは、欠陥の低減が、DANanoおよびAsahiなどのセリア粒子を含有するスラリーについてセリア粒子凝集を防止することからも起こり得ることを示した。セリアが凝集をより起こしやすいので、SS25などのシリカスラリーの相対的安定性は、フルオロポリマー添加物ありで見られた限定された欠陥性改善を説明することができる。
実施例4
研磨中のパッド表面の特性に対するフルオロポリマー添加の役割をさらに例証するために、基準として試料Cの低多孔性ポリウレタンを使用し、PTFE−2粒子の添加を変更しながら一連のパッドを調製した。実施例3に記載したプロセスおよびスラリーを使用して各々の試料を研磨した。研磨試験に続いて、X線光電子分光法(XPS)およびエネルギー分散型X線分光法(EDS)を介して各パッドの研磨された試料を分析し、研磨の効果についての組成情報を得た。XPSは、約1〜10nmの表面侵入度を有しており、それによって、表面領域の組成を決定する極めて高感度な方法である一方で、EDSは、約1〜10umの侵入度を有しており、バルク濃度についての情報を提供する。
研磨中のパッド表面の特性に対するフルオロポリマー添加の役割をさらに例証するために、基準として試料Cの低多孔性ポリウレタンを使用し、PTFE−2粒子の添加を変更しながら一連のパッドを調製した。実施例3に記載したプロセスおよびスラリーを使用して各々の試料を研磨した。研磨試験に続いて、X線光電子分光法(XPS)およびエネルギー分散型X線分光法(EDS)を介して各パッドの研磨された試料を分析し、研磨の効果についての組成情報を得た。XPSは、約1〜10nmの表面侵入度を有しており、それによって、表面領域の組成を決定する極めて高感度な方法である一方で、EDSは、約1〜10umの侵入度を有しており、バルク濃度についての情報を提供する。
表4に示すように、フルオロポリマーを含有する使用されたパッドの表面は、バルクと比べて、外面でフッ素の実質的な富化を示した。これは、研磨中のパッド表面上のフルオロカーボン膜の存在を示す強い証拠である。
実施例5
本発明のパッドの研磨されたパッド表面層の特徴についてより多くの情報を得るために、対照パッドおよび10wt%のPTFEを含有する本発明のパッドに対して研磨試験を実施した。全体のプロセスおよびスラリーは実施例3に記載したもので、実施例4の研磨パッドを使用した。この試験については、3種の異なるコンディショナを使用して、研磨速度およびテクスチャに対するそれらの効果を評価した。コンディショナAB45は、セリアスラリーと共に使用するために開発されたコンディショナであり、低粗度のパッド表面をもたらす。コンディショナAK45は、より高い密度のより大きなダイヤモンドを備えたより攻撃性のコンディショナである。コンディショナLPX−V1は、大きなダイヤモンドと小さなダイヤモンドの組み合わせを用いた非常に攻撃性のコンディショナである。研磨後、使用されたパッドの表面テクスチャを、ナノフォーカス非接触レーザープロフィロメーターを使用して調べた。
本発明のパッドの研磨されたパッド表面層の特徴についてより多くの情報を得るために、対照パッドおよび10wt%のPTFEを含有する本発明のパッドに対して研磨試験を実施した。全体のプロセスおよびスラリーは実施例3に記載したもので、実施例4の研磨パッドを使用した。この試験については、3種の異なるコンディショナを使用して、研磨速度およびテクスチャに対するそれらの効果を評価した。コンディショナAB45は、セリアスラリーと共に使用するために開発されたコンディショナであり、低粗度のパッド表面をもたらす。コンディショナAK45は、より高い密度のより大きなダイヤモンドを備えたより攻撃性のコンディショナである。コンディショナLPX−V1は、大きなダイヤモンドと小さなダイヤモンドの組み合わせを用いた非常に攻撃性のコンディショナである。研磨後、使用されたパッドの表面テクスチャを、ナノフォーカス非接触レーザープロフィロメーターを使用して調べた。
図5Aは、3種の異なる研磨圧力(2、3および4psi、13.8、20.7および27.6kPa)で試験した3種のコンディショナの各々についての先行技術対照パッドのTEOS除去速度を示す。低粗度コンディショナは、最高の除去速度をもたらし、他の2種のコンディショナでは速度効果の差はほとんどなかった。本発明のパッド(図5B)について、3種すべてのコンディショナについての研磨速度は、対照と比べて、3種すべてのコンディショナで大幅に高かった。
ナノフォーカス共焦点3D表面計測ツールを使用して研磨領域の中心で形状測定を実施した。各パッドおよびコンディショナについて、ISO 25178に従って測定された二乗平均平方根(rms)粗度の比較を図6に示す。先行技術対照パッドについて、RMS粗度は、コンディショナの攻撃性に比例して増加した。対照的に、本発明のパッドのRMS粗度は、すべてのコンディショナで大幅により低かった。
実施例6
フルオロポリマー添加の速度に対するゼータ電位の重要性をさらに例証するために、実施例3で使用した同じシリカ系およびセリア系の市販のスラリーを用いて、PVFの粒子添加によって調製したパッドをゼータ電位および研磨性能について評価した。以下の表5に示すように、実施例3のパッドで使用した添加物と窒素末端化PVFについてのゼータ電位は、大きく異なる。
フルオロポリマー添加の速度に対するゼータ電位の重要性をさらに例証するために、実施例3で使用した同じシリカ系およびセリア系の市販のスラリーを用いて、PVFの粒子添加によって調製したパッドをゼータ電位および研磨性能について評価した。以下の表5に示すように、実施例3のパッドで使用した添加物と窒素末端化PVFについてのゼータ電位は、大きく異なる。
PTFEおよびPFAのゼータ電位は、大きく負であった一方で、使用されたPVFのゼータ電位は、強く正であった。本発明のパッドへの陽イオン性PVFの添加は、正および負の表面電荷の領域を含有する不均一表面をもたらした。全体のパッド表面が電気負性であるにもかかわらず、得られたパッド表面は、負電荷のスラリー粒子の引力を提供し、例えば、コロイダルシリカには対応する研磨速度の増加を提供した。同様に、セリアなどの正電荷を有するスラリー粒子に対する電荷反発は、そのpHが粒子の等電pHを下回るスラリーにおいて、パッド表面上の引力の減少面積およびパッド接触面上の対応する活性スラリー粒子の低減に起因して、低減された除去速度をもたらした。
したがって、試料製造の間に10wt%のPVFを添加したおよび添加しなかった試料Cの低多孔性ポリウレタン研磨パッドの試料を使用して、比較研磨試験を実行した。これらのパッドを使用し、実施例3で使用したものと同一の条件を使用してTEOSウェーハを研磨した。
表6から明らかなように、研磨速度の結果は、実施例4とは反対の傾向を示した。すなわち、陽イオン性添加物を有する本発明のパッドは、負に荷電したシリカスラリーの速度を増強させた一方で、正に荷電した粒子を有するスラリーと共に使用したときの速度は低下した。
本発明のポリマー−ポリマー複合研磨パッドは、研磨欠陥の大きな減少と共に、研磨除去速度の予想外の大きな増加を提供する。比較的少ない量のフルオロポリマー粒子が全体ではなくより小さい表面を覆うことで、効率的なスラリー分配に必要な研磨パッドの親水性表面を損なうことなしに、研磨効率を増加させる。
Claims (10)
- 基板を研磨または平坦化するための研磨面を有する研磨層;
研磨層を形成するポリマーマトリックスであって、引張強度を有するポリマーマトリックス;および
ポリマーマトリックス中に埋め込まれたフルオロポリマー粒子であって、ポリマーマトリックスの引張強度より低い引張強度を有するフルオロポリマー粒子を含む、半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも1つの基板を研磨または平坦化するのに有用なポリマー−ポリマー複合研磨パッドであって、ダイヤモンド砥粒材料が、フルオロポリマー粒子を切削し、切削されたフルオロポリマーをパターン化されたシリコンウェーハに擦り付けて、研磨層の少なくとも一部を覆いかつpH7でポリマーマトリックスよりも大きな負のゼータ電位を有する薄膜を形成し、そして、ウェーハとの摩擦から形成された研磨面が、侵入度1〜10nmのX線光電子分光法による測定で、侵入度1〜10μmのエネルギー分散型X線分光法で測定されたバルクフッ素濃度よりも少なくとも10パーセント高いフッ素濃度(原子百分率単位)を有する、ポリマー−ポリマー複合研磨パッド。 - ポリマーマトリックス中に埋め込まれたフルオロポリマーから形成された薄膜が、全体ではなくより小さい研磨面を覆い、研磨面が、蒸留水中で5分間浸漬した後10μmのrms面粗度で、pH7の蒸留水を用いて測定された場合に親水性である、請求項1に記載のポリマー−ポリマー複合物。
- フルオロポリマー粒子が、正に荷電した砥粒粒子の優先的引力のために蒸留水中pH7で測定された場合にポリマーマトリックスよりも大きな負のゼータ電位を有する、請求項1に記載のポリマー−ポリマー複合物。
- 薄膜が、陽イオンに荷電した砥粒粒子を使用したときに研磨除去速度を増加させるために、陽イオン性粒子スラリーから正に荷電した粒子を引きつける、請求項1に記載のポリマー−ポリマー複合物。
- 研磨パッドを研磨面の下でかつ研磨層と平行にスライシングすることで、ポリマーマトリックス中に固着されたフルオロポリマー粒子の一方の端が残り、もう一方の端が伸び率で少なくとも100%可塑的に変形することができる、請求項1に記載のポリマー−ポリマー複合物。
- 基板を研磨または平坦化するための研磨面を有する研磨層;
研磨層を形成するポリマーマトリックスであって、引張強度を有するポリマーマトリックス;および
ポリマーマトリックス中に埋め込まれたフルオロポリマー粒子であって、ポリマーマトリックスの引張強度より低い引張強度を有するフルオロポリマー粒子を含む、半導体基板、光学基板および磁性基板の少なくとも1つの基板を研磨または平坦化するのに有用なポリマー−ポリマー複合研磨パッドであって、ダイヤモンド砥粒材料が、フルオロポリマー粒子を切削し、切削されたフルオロポリマーをパターン化されたシリコンウェーハに擦り付けて、研磨層の少なくとも一部を覆いかつpH7でポリマーマトリックスよりも大きな負のゼータ電位を有する薄膜を形成し、そして、ウェーハとの摩擦から形成された研磨面が、侵入度1〜10nmのX線光電子分光法による測定で、侵入度1〜10μmのエネルギー分散型X線分光法で測定されたバルクフッ素濃度よりも少なくとも20パーセント高いフッ素濃度(原子百分率単位)を有し、そして、薄膜が、研磨中、研磨面全体を覆わない、ポリマー−ポリマー複合研磨パッド。 - 研磨面が、蒸留水中で5分間浸漬した後10μmのrms面粗度で、pH7の蒸留水を用いて測定された場合に親水性である、請求項6に記載のポリマー−ポリマー複合物。
- フルオロポリマー粒子が、正に荷電した砥粒粒子の優先的引力のために蒸留水中pH7で測定された場合にポリマーマトリックスよりも大きな負のゼータ電位を有する、請求項6に記載のポリマー−ポリマー複合物。
- 薄膜が、陽イオンに荷電した砥粒粒子を使用したときに研磨除去速度を増加させるために、陽イオン性粒子スラリーから正に荷電した粒子を引きつける、請求項6に記載のポリマー−ポリマー複合物。
- 研磨パッドを研磨面の下でかつ研磨層と平行にスライシングすることで、ポリマーマトリックス中に固着されたフルオロポリマー粒子の一方の端が残り、もう一方の端が伸び率で少なくとも100%可塑的に変形することができる、請求項6に記載のポリマー−ポリマー複合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/435,913 US20200384601A1 (en) | 2019-06-10 | 2019-06-10 | Thin film fluoropolymer composite cmp polishing pad |
US16/435,913 | 2019-06-10 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021008025A true JP2021008025A (ja) | 2021-01-28 |
Family
ID=73651057
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020099553A Pending JP2021008025A (ja) | 2019-06-10 | 2020-06-08 | 薄膜フルオロポリマー複合cmp研磨パッド |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20200384601A1 (ja) |
JP (1) | JP2021008025A (ja) |
KR (1) | KR20200141395A (ja) |
CN (1) | CN112059899B (ja) |
TW (1) | TW202045610A (ja) |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW412462B (en) * | 1997-11-06 | 2000-11-21 | Rodel Inc | Method of manufacturing a memory disk or a semiconductor device, and polishing pad |
JP3076291B2 (ja) * | 1997-12-02 | 2000-08-14 | 日本電気株式会社 | 研磨装置 |
US6180497B1 (en) * | 1998-07-23 | 2001-01-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for producing semiconductor base members |
CN200970715Y (zh) * | 2002-08-02 | 2007-11-07 | 应用材料有限公司 | 一种用于电化学机械抛光的抛光部件 |
US20050042976A1 (en) * | 2003-08-22 | 2005-02-24 | International Business Machines Corporation | Low friction planarizing/polishing pads and use thereof |
US7994021B2 (en) * | 2006-07-28 | 2011-08-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of manufacturing semiconductor device |
CN102029571B (zh) * | 2009-09-24 | 2015-07-29 | 贝达先进材料股份有限公司 | 研磨垫与其应用和其制造方法 |
WO2016061585A1 (en) * | 2014-10-17 | 2016-04-21 | Applied Materials, Inc. | Polishing pads produced by an additive manufacturing process |
WO2016158348A1 (ja) * | 2015-03-30 | 2016-10-06 | ニッタ・ハース株式会社 | 研磨パッド |
-
2019
- 2019-06-10 US US16/435,913 patent/US20200384601A1/en active Pending
-
2020
- 2020-06-08 JP JP2020099553A patent/JP2021008025A/ja active Pending
- 2020-06-08 TW TW109119156A patent/TW202045610A/zh unknown
- 2020-06-09 KR KR1020200069699A patent/KR20200141395A/ko not_active Application Discontinuation
- 2020-06-10 CN CN202010528052.1A patent/CN112059899B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202045610A (zh) | 2020-12-16 |
CN112059899B (zh) | 2022-08-05 |
US20200384601A1 (en) | 2020-12-10 |
CN112059899A (zh) | 2020-12-11 |
KR20200141395A (ko) | 2020-12-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
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