JP2021006902A - マイクロスコープシステム用放射線デリバリ装置 - Google Patents

Abstract

【課題】レーザ光を回転拡散板によって、空間的にランダム化する場合、空間的パターンが繰り返されることを防止し、均一性を向上させる放射線デリバリ装置を提供する。【解決手段】マイクロスコープ用レーザビームデリバリ装置１４は、それぞれ異なる周波数で周期的に移動するように構成された第１および第２光学拡散板５０，６０を有する。それぞれの光学拡散板は回転するディスクを有してもよい。レーザ光１８は、第１回転拡散板５０によって、空間的にランダム化され、第２拡散板６０によって、その空間パターンはさらにランダム化される。第２拡散板６０は、第１拡散板５０の１回転の後において、いずれかの空間的パターンが繰り返されることを防止する。これは、光が回転する共焦点ディスクを通じて撮像される場合、うなりパターンが生じることを防止し、他の場合において、均一性を向上させる。【選択図】図１

Description

本発明は、特に、しかしながらそれに限らず、マイクロスコープシステムに使用する、放射線デリバリ装置に関する。本発明は、特に、マルチモード光ファイバを有する放射線デリバリ装置に関する。

蛍光マイクロスコープにおいて、光源としてレーザ光を使用することで、他の光源よりも非常に高い輝度を提供できる。従来、マイクロスコープにレーザ光を供給するために、シングルモード光ファイバが使用される。しかし、結果として生じるガウス分布に似たモード分布は、画像の端において大幅に少ない光を供給し、または、ガウス分布のより均一な中央部分のみを使用することで光の大部分を除去することを必要とする。

画像上において均一な光の強度を提供するために、マイクロスコープシステム内の光供給のためにマルチモード光ファイバを使用することが知られている。マルチモードファイバを使用することの問題点は、ファイバに支持されているモードは、光源の高いコヒーレンスによってコヒーレント干渉を発生させ得る。これは、照射の全体的なエンベロープが平坦であっても、画像における小さな空間変化を生じさせる画像におけるスペックルパターンを設ける。

この問題点に対して知られている解決策は、光ファイバを振動させる偏心モータを設け、ファイバからの光を均一化し、均一な画像を提供することを補助することである。このデザインは、充分な振動を設けるために、ファイバが偏心モータの周りを複数回巻き付けられ、空間を埋め、マイクロスコープシステムに振動を加えることを必要とする。その結果、この解決策は、比較的大きいことと大きな振動を生じさせることと、２つの主な欠点を有する。これは、小型のサイズが必要とされる統合されたイメージングシステムにおいて、特に問題となる。また、ナノメートル精度が通常必要とされるイメージングシステムから振動を隔絶することが困難である。代わりに、光にある程度のランダムネスを与え、よって、偏心振動モータが必要でなくなるマルチモードレーザを使用する。しかしながら、マイクロスコープの設計をマルチモードレーザダイオードに限定することは、波長、性能およびコストにおいて限定的すぎると考えられる。

上記で説明した問題を解決することが望ましい。

本発明の第１態様は、放射線デリバリ装置であって、
放射線ビーム入力と、
放射線ビーム出力と、
光路に沿って、前記放射線ビーム入力から前記放射線ビーム出力まで、放射線ビームを供給するように構成されたビームデリバリ手段と、
を有し、
前記ビームデリバリ手段は、
第１光学均一化手段と、
第２光学均一化手段と、
を有し、
前記第１光学均一化手段と前記第光学２均一化手段とは、それぞれ異なる周波数で周期的に移動するよう構成されている、放射線デリバリ装置を設ける。

望ましくは、前記第１光学均一化手段は、前記光路と交差し、前記光路に対して移動できる第１光学拡散板を有する。前記第１光学拡散板は光学的な透過性を有してもよい。あるいは、第１光学拡散板は光学的な反射性を有する。

望ましくは、前記第２光学均一化手段は、前記光路と交差し、前記光路に対して移動できる第２光学拡散板を有する。前記第２光学拡散板は光学的な透過性を有してもよい。あるいは、第２光学拡散板は光学的な反射性を有する。

望ましい実施の形態では、前記第１光学均一化手段と、前記第２光学均一化手段との内の１つまたは両方は、光路に対して回転可能である。望ましくは、それぞれが回転可能な場合、前記第１光学均一化手段と前記第２光学均一化手段とは、それぞれ異なる速度で回転可能である。

望ましい実施の形態では、前記第１および第２光学拡散板は回転可能であり、互いに対してそれぞれ異なる速度で使用時に回転される。

通常、前記第１および第２光学拡散板は、前記放射線ビームが、使用時において、前記第１光学拡散板から前記第２光学拡散板に伝送されるように、前記光路内に配置される。

通常、前記放射線ビーム出力は、出力光ファイバ、望ましくはマルチモード光ファイバ、を有する。前記ビームデリバリ手段は、前記放射線ビームを前記出力光ファイバの入口端内に向けるように構成される。ビームデリバリ手段は、前記放射線ビームを第２光学拡散板から、望ましくは、自由空間を通じて、前記出力光ファイバへ向けるように構成されてもよい。出力ファイバは、出力ファイバの入口端において、望ましくは自由空間から放射線ビームを受けて、出力ファイバの入口端内に放射線ビームを向けるように構成された光カプラを有してもよい。前記光カプラは、放射線ビームを縮小するための、少なくとも１つの光学要素を有してもよい。光カプラは、出力ファイバの入口端内に放射線ビームの焦点を合わせるための、少なくとも１つの光学要素を有してもよい。

望ましい実施の形態では、前記放射線ビーム入力は、入力光ファイバ、望ましくはマルチモード光ファイバ、を有する。前記ビームデリバリ手段は、前記放射線ビームを前記入力光ファイバの出口端から前記第１光学均一化手段に向けるように構成される。前記ビームデリバリ手段は、前記放射線ビームを、前記入力光ファイバから、望ましくは自由空間を通じて、第１光学拡散板へ向けるように構成されてもよい。

光カプラは、入力ファイバの出口端において設けられてもよい。光カプラは、望ましくは、入力ファイバの出口端から放射線ビームを受けて、放射線ビームを自由空間へ放射するように構成される。光カプラは、放射線ビームを拡大するための少なくとも１つの光学要素を有してもよい。光カプラは、第１光学均一化手段上に放射線ビームの焦点を合わせるまたは撮像するための少なくとも１つの光学要素を有してもよい。

ある実施の形態では、前記第２光学均一化手段は、出力ファイバを周期的に、望ましくは往復するように、移動させる手段を有する。

望ましい実施の形態では、第１および第２光学均一化手段のそれぞれの周期的な移動は、第１および第２均一化手段の内の周波数が高い方のいずれかの一周期後における、前記放射線ビーム出力における、放射線ビームの断面空間パターンが、第１および第２均一化手段の内の周波数が高い方の前周期の後における、前記放射線ビーム出力における、放射線ビームの断面空間パターンと、実質的に相関がないように構成される。

望ましくは、前記第１光学均一化手段は、前記放射線ビームの断面空間パターンを変更するように移動可能である。前記第２光学均一化手段は、前記放射線ビームの断面空間パターンをさらに変更するように移動可能である。

本発明の他の態様は、放射線源モジュール、マイクロスコープモジュールおよび第１態様の放射線デリバリ装置を有するマイクロスコープシステムを提供する。前記放射線デリバリ装置は、放射線ビームを放射線源モジュールからマイクロスコープモジュールへ供給するように構成される。

本発明の他の態様は、放射線ビームを均一化する方法を提供し、方法は、
前記放射線ビームを第１光学均一化手段に向けることと、
前記放射線ビームを第１光学均一化手段から第２光学均一化手段に向けることと、
前記第１光学均一化手段および前記第２光学均一化手段を、それぞれ異なる周波数で、周期的に移動させることと、を有する。

望ましい方法は、前記第１光学均一化手段を移動させることにより、前記放射線ビームの断面空間パターンを変更することと、前記第２光学均一化手段を移動させることにより、前記放射線ビームの前記断面空間パターンをさらに変更することと、を含む。

本発明の他の態様は、放射線ビームを均一化する装置であって、前記装置は、前記放射線ビームを第１光学均一化手段に向ける手段と、前記放射線ビームを前記第１光学均一化手段から第２光学均一化手段に向ける手段と、前記第１光学均一化手段を周期的に移動させる手段と、前記第２光学均一化手段を周期的に移動させる手段とを有する。前記移動させる手段は、前記第１光学均一化手段および前記第２光学均一化手段をそれぞれ異なる周波数で移動させるように構成される。

望ましい実施の形態では、マルチモードファイバからのレーザ光は、第１回転拡散板、または、ホモジナイザによって、空間的にランダム化され、第２マルチモードファイバ内に係合される。第２拡散手段、または、ホモジナイザは、空間パターン、特に、レーザ／放射線ビームの断面空間パターンをさらにランダム化するために使用されてもよい。第２拡散手段は、第１拡散板の１回転または周期の後において、いずれかの空間的パターンが繰り返されることを防止する。これは、光が、回転する共焦点ディスクを通じて撮像される場合、うなりパターンが生じることを防止し、他の場合において、均一性を向上させる。望ましい実施の形態では、第２拡散手段は、第１とは異なる速度で作動する第２回転拡散板である。他の実施の形態では、第２拡散手段は、第２ファイバを物理的に移動させる装置である。

望ましい実施の形態は、レーザ源のコヒーレンスに制限をかけることはなく、低減された振動とスペースで非常に良い均一性を提供する。

本発明のさらなる効果は、特定の実施の形態の後続の説明の検討し、および、添付の図面を参照した後、当分野の当業者にとって明確である。

本発明の実施の形態は、例示および添付の図面を参照して説明される。図面において、類似の部品には類似の符号を付されている。

本発明の一の態様に係るマイクロスコープシステムのブロック図であり、本発明の他の態様に係る放射線デリバリ装置を含む。 図１のマイクロスコープシステムの一部である放射線源モジュールの例示のブロック図である。 第１例示光カプラの模式図である。 第２例示光カプラの模式図である。 回転拡散板の模式図である。 本発明の一の態様に係る代替的なマイクロスコープシステムのブロック図であり、本発明の他の態様に係る代替の放射線デリバリ装置を含む。

図面の図１を参照すると、通常符号１０が付されている本発明の一の態様に係る光学マイクロスコープシステムが示されている。マイクロスコープシステム１０は、放射線源モジュール１２、放射線デリバリ装置１４、および、マイクロスコープモジュール１６を有する。マイクロスコープシステム１０は、放射線源モジュール１２に放射される放射線ビーム１８が、放射線デリバリ装置１４によって、マイクロスコープ１６に供給されるように構成される。放射線デリバリ装置１４は、放射線ビーム１８を、光路に沿ってビーム入力からビーム出力に供給するように構成される。特に、放射線デリバリ装置１４は、ビーム１８を入力と出力との間に供給するビームデリバリ手段を有し、ビームデリバリ手段は、本明細書にて後述でより詳細に説明するように、第１および第２光学均一化手段とを有する。

図２は、通常の放射線源モジュール１２の例を示す。放射線源モジュール１２は、放射線を発生および放射するための１つまたはそれより多くの放射線源２０を有する。通常の実施の形態において、放射線は光、特に紫外線（ＵＶ）、可視光またはＮＩＲ（近赤外線）の周波数域である。望ましい実施の形態では、したがって、放射線源モジュール１２は、１つまたはそれより多くの光源２０を有する光源モジュールとして説明してもよい。望ましい実施の形態では、光はレーザ光であり、各光源２０はレーザ装置を有する。しかしながら、各放射線源は、放射線を発生および放射することができるいずれかの光源を有してもよい。放射線源は、発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザダイオード、固体相装置、スーパー発光ダイオード（ＳＬＤ）またはアークランプを含むがこれらに限定しない。各放射線源２０は、１つまたはそれより多くの波長で、放射線または光を発生および放射するように構成される。図２の例では、２つのレーザ装置２０が示されている。しかし、代替の実施の形態では、１つの放射線源または２つより多くの放射線源があってもよいと理解されよう。各レーザ装置２０はシングルモードレーザ装置またはマルチモードレーザ装置であってもよい。望ましい実施の形態では、放射線源モジュール１２は光、望ましくはレーザ光を、複数の波長で放射する。即ち、放射線源モジュール１２は、マルチ波長な放射線源またはレーザ源を有してもよい。図示されているように、これはモジュール１２に、それぞれ異なる波長または異なる周波数域で放射線を発生させる複数の放射線源２０を設けることで実現され得る。あるいは、放射線源モジュール１２は、１つの波長で放射線を放射してもよい。放射線源モジュール１２は１つまたはそれより多くのレーザ装置２０を有する望ましい実施の形態では、結果として生じるビーム１８はコヒーレントなレーザ光を有する。

選択的に、放射線源モジュール１２は、モジュール１２から放射されたビーム１８の断面形状および／または寸法を変更するための放射線制御と調節ユニット２２とを有する。１つより多くの放射線源２０を有する実施の形態では、制御および調節ユニット２２は、各放射線源２０に対応する（図示されていない）制御および調節サブユニットを含んでもよい。制御と調節ユニット２２（またはそれぞれの該当するサブユニット）は、いずれかの望ましい従来の方法で、ビーム１８を制御および調節するための、（図示されていない）いずれかの光学要素または光学要素の組み合わせ、を有してもよい。例えば、制御および調節ユニット２２（またはそれぞれの該当するサブユニット）は、ガリレイ望遠ビームエキスパンダまたはアナモルフィックプリズムまたは円柱光学系および／またはいずれかの他の従来のビーム整形手段、および／または音響光学チューナブルフィルタ（ＡＯＦＴ）または機械的シャッターを有してもよい。

放射線源モジュール１２が１つより多くの放射線源２０を有する実施の形態は、出力放射線ビーム１８を生成するように各放射線源２０からのそれぞれのビームを結合させるためのいずれかの従来の方法で配置された、１つまたはそれより多くの光学要素を有する光結合ユニット２４と含んでもよい。光結合ユニット２４は、例えば、１つまたはそれより多くのミラーおよび／またはビームスプリッタおよび／またはダイクロイックビームコンバイナを有してもよい。図示された実施の形態では、光結合ユニット２４は、光調節ユニット２２の後に配置される。よって、レーザ源２０からの光は、結合される前に調節される。（図示されていない）代替的な実施の形態では、光結合ユニット２４は光調節ユニット２２の前に配置される。よって、レーザ源２０からの光は、調節される前に結合される。

放射線源モジュール１２は、通常、光カプラ２６を含み、光カプラ２６を通じてモジュール１２から放射線ビーム１８が放射される。光カプラ２６は、ビーム１８を光ファイバに向けるための（図示されていない）１つまたはそれより多くの光学要素を含む。通常、光カプラ２６は、光ファイバの端上にビーム１８の焦点を合わせるために、１つまたはそれより多くのレンズ（例えば、コリメータレンズ、コンデンサレンズおよび／または顕微鏡対物レンズ）を有する。構成は、光カプラ２６がビーム１８を自由空間へ放射するようなものであってもよい。

再度図１を参照すると、通常の実施の形態では、放射線デリバリ装置１４は、放射線源モジュール１２から放射線ビーム１８を受けるための入口端３２を有する入力光ファイバ３０を有する。入口端３２は自由空間から放射線ビーム１８を受けてもよい。望ましい実施の形態では、光カプラ２６は、ファイバ３０の入口端３２上に放射線ビーム１８の焦点を合わせるように構成される。ビーム１８とファイバ３０の光学コアとの、それぞれの断面形状と大きさとは、ビーム１８をファイバ３０に沿って伝送できるように互いに適合性を有する。この適合性は、少なくとも部分的に、制御と調節ユニット２２とによって実現されてもよい。（図示されていない）代替的な実施の形態では、本明細書にて後述でより詳細に説明するように、入力光ファイバ３０は省略されてもよい。

放射線デリバリ装置１４は、出力手段も有する。出力手段は、望ましくは、出口端３６を有する出力光ファイバ３４を有し、出口端３６から、放射線ビーム１８をマイクロスコープモジュール１６へ供給する。出口端３６は、放射線ビームを自由空間に放射してもよい。

光ファイバ３０、３４は従来のものであってもよい。光ファイバ３０、３４は、通常、ビーム１８を伝送するための（図示していない）光学的透明なコアを有する。コアは、通常、コアよりも低い屈折率を有する（図示していない）透明なクラッド材料に囲まれている。コアとクラッド材料とは、いずれかの適切な材料、例えば、ガラス（シリカ）またはプラスチックで形成されてもよい。ファイバ３０，３４は、光導波路として説明されてもよい。ファイバ３０，３４は、いずれかの知られている形態、例えば、光パイプとして知られている種類であってもよい。光パイプは、（例えば、ガラスまたはプラスチックで形成された）光学的透明なコアを有するが、クラッド材を有しなくてもよい。

望ましい実施の形態では、出力光ファイバ３４は、マルチモード光ファイバである。入力光ファイバ３０がマルチモード光ファイバであることは望ましいが、代わりにシングルモード光ファイバであってもよい。マルチモード光ファイバは、複数の伝播光路またはモードを支える光ファイバである。複数の光路または光モードは、広域の波長上で並行して支えられてもよい。対照的に、シングルモード光ファイバは、１つのモードのみ支える。マルチモードファイバは、一般的に、シングルモードファイバより大きいコア直径（通常、５０−４００マイクロメートル）を有する。マルチモード光ファイバのコア直径は、その中で伝送する光の波長より大きい。マルチモードファイバ３０、３４のコアは、円形の断面、四角の断面、長方形の断面またはいずれの他の適切な断面を有してもよい。

例示によって、入力ファイバ３０は、５０μｍのコア直径と０．１２の開口数（ＮＡ）を有してもよい。出力ファイバ３４は、２００μｍのコア直径と０．１２の開口数（ＮＡ）を有してもよい。通常の実施の形態では、入力ファイバ３０のコア直径は、出力ファイバのコア直径より小さい。

選択的に、光ファイバ３０の入口端３２と、光ファイバ３４の出口端３６とには、それぞれ、（図示していない）入力コネクタと（図示していない）出力コネクタとを、設けてもよいまたは接続できるようにしてもよい。入力および出力コネクタはいずれかの適切な従来の種類であってもよい。

マイクロスコープモジュール１６は、サンプルを照射または励起させるための放射線ビームを必要とするいずれかの従来の種類の（図示していない）マイクロスコープを有してもよい。例えば、マイクロスコープは、広視野マイクロスコープ、共焦点マイクロスコープ、例えば、回転ディスク共焦点マイクロスコープ、または他の光学マイクロスコープであってもよい。マイクロスコープモジュール１６は従来のものであってもよく、マイクロスコープの操作に必要で当業者によって明らかな、いずれかの他の要素を含んでもよい。マイクロスコープモジュール１６は、通常、光ファイバ３４の出口端３６からの放射線ビーム１８を受けるための（図示していない）光カプラを含む。光カプラは、用途に適するような、１つまたはそれより多くの光学要素を含むいずれかの従来の配置を有してもよい。例えば、光カプラは、いずれか１つまたは多く単一レンズ、複数レンズ、ミラー、複数のミラーまたは適切な光学要素のいずれかの組み合わせを有してもよい。（図示していない）代替的な実施の形態では、放射線デリバリ装置１４は、放射線ビーム１８を必要とするいずれかの他の末端システム、例えば、投影ディスプレイ装置と係合されてもよい。

入力ファイバ３０は、出口端３３を有し、出口端３３から放射線ビーム１８が放射される。ビーム１８は、端３３から自由空間へと放射されてもよい。望ましい実施の形態では、光カプラ４０は、入力ファイバ３０の出口端３３において設けられている。光カプラ４０は、ビーム１８を入力ファイバ３０の出口端３３から受けるため、および、ビーム１８を自由空間へ放射するために構成される。

光カプラ４０は、いずれかの従来の種類の光ファイバから自由空間へのカプラを有してもよい。光カプラ４０は、通常、１つまたはそれより多くの（図示していない）光学要素を有する。光学要素は、ファイバ３０からビーム１８を受けて、自由空間内の対象物に向けるように配置される。選択的に、光カプラ４０は、コリメータを含む。通常、光カプラ４０は、ビーム１８を拡大するために、１つまたはそれより多くの光学要素を有する。望ましくは、光カプラ４０は、対象物上にビーム１８の焦点を合わせるまたは撮像させるための、１つまたはそれより多くの光学要素を有する。光カプラ４０は、通常、該当する場合において、上述で特定したタスクの一部またはその全てを実行する、１つまたはそれより多くのレンズを含む。図３は、コリメータ４１と、ビーム１８を拡大し、自由空間の対象物に焦点を合わせるレンズ４２とを有する光カプラ４０の例示的実施の形態を示す。

出力ファイバ３４は、放射線ビーム１８を受けるための入口端３５を有する。ビーム１８は、自由空間から端３５によって受けられてもよい。望ましい実施の形態では、出力ファイバ３４の入口端３５において光カプラ４４が設けられている。光カプラ４４は、自由空間からビーム１８を受け、出力ファイバ３４の入口端３５内にビーム１８を向けるように構成される。光カプラ４４は、自由空間から光ファイバへのカプラのいずれかの従来の種類を有してもよい。光カプラ４４は、ビーム１８を自由空間から受けて、出力ファイバ３４の入口端３５内に向けるように配置される１つまたはそれより多くの（図示していない）光学要素を有する。通常、光カプラ４４は、ビーム１８を縮小するための１つまたはそれより多くの光学要素を有する。望ましくは、光カプラ４４は、出力ファイバ３４の入口端３５内へビーム１８の焦点を合わせる１つまたはそれより多くの光学要素を有する。光カプラ４４は、通常、必要なタスクを行うために１つまたはそれより多くのレンズを含む。図４は、光カプラ４４の例示的実施の形態を示す。光カプラ４４は、ビーム１８を縮小して、出力ファイバ２４の入口端内に焦点を合わせるためのレンズ４６を有する。

代替的な実施の形態では、１つまたは他のまたは両方のカプラ４０、４４は省略されてもよい。もしいずれかのカプラ４０、４４は除去されたら、それぞれのファイバ３０、３４の該当する端３３、３５は、それぞれの拡散板５０、６０に直接隣接するように（つまり、２ｍｍ以下の間隔で）配置されてもよい。拡散角度は、それぞれのファイバ３０、３４と一致する。

放射線デリバリ装置１４は、入力ファイバ３０と出力ファイバ３４との間に配置された第１光学拡散板５０の望ましい形態で、第１光学均一化手段を有する。望ましい実施の形態では、第１光学拡散板５０は、光カプラ４０、４４との間に配置される。ビーム１８が、入力ファイバ３０から出力ファイバ３４へ第１光学拡散板５０を通じて、伝送されるような配置である。望ましい実施の形態では、光カプラ４０は、ビーム１８を光学拡散板５０に向けるように、および、望ましくは、第１光学拡散板５０上にビーム１８の焦点を合わせるように構成される。実施の形態では、光カプラ４０は、光学拡散板５０上にビーム１８を撮像するように構成される。効果的には、光カプラ４０はビーム１８を拡大する。

（図示していない）代替的な実施の形態では、入力ファイバ３０（およびカプラ４０）は省略されてもよい。その場合、ビーム１８は、撮像または放射線源モジュール１２から直接光学拡散板５０に向けられてもよい。光カプラ２６は、通常、自由空間にある対象物にモジュール１２からビーム１８を向けるように配置された、１つ又はそれより多くの（図示していない）光学要素を有する。選択的には、光カプラ２６はコリメータを含む。通常、光カプラ２６は、ビーム１８を拡大する１つまたはそれより多くの光学要素を有する。望ましくは、光カプラ２６は、対象物上にビーム１８の焦点を合わせるまたは撮像するための、１つまたはそれより多くの光学要素を有する。光カプラ２６は、通常、該当する場合において、上記で特定されるタスクの一部またはすべてを実行するための、１つまたはそれより多くのレンズを含む。そのような実施の形態では、光カプラ２６は、図３に示すようなものであってもよい。装置１４は、放射線源モジュール１２からビーム１８を受けるためのいずれかの適切な入力手段を含んでもよい。例えば、入力手段は、単に（図示していない）開口を有してもよい、および／または、選択的に、レンズ等の１つまたはそれより多くの光学要素を有してもよい。

望ましい実施の形態では、光カプラ４４は、ビーム１８を受けて、および、出力ファイバ３４の入口端内２５にビーム１８を向けるように構成される。通常、光カプラ４４は、出力ファイバ３４の開口数（ＮＡ）に合うようにビーム１８を縮小する。

便宜上、光カプラ４０、４４は、共通軸上で互いに位置合わせされており、ビーム１８は、共通軸と一致するまたは共通軸と平行な光路に沿って、カプラ４０からカプラ４４まで移動してもよい。あるいはまたは加えて、光カプラ４０は、ビーム１８を、第１拡散板５０へ光路に沿ってガイドするための、１つまたはそれより多くの（図示していない）ビームガイド装置を含んでもよい。および／または、光カプラ４４は、受けられてビーム１８にカプラ４４の光学系を位置合わせするための、１つまたはそれより多くの（図示していない）ビームガイド装置を含んでもよい。この場合、カプラ４０，４４は必ずしも互いに位置合わせされなくてもよい。より一般的に、デリバリ装置１４は、ビーム１８を、装置１４の入力から（例えば、望ましい実施の形態の入力ファイバ３０から）装置１４の出力（例えば、望ましい実施の形態の出力ファイバ３４から）まで、光路に沿ってガイドする、１つまたはそれより多くのビームガイド装置（例えば、１つまたは複数のミラー、１つまたは複数のビームスプリッタおよび／または１つまたは複数のレンズのいずれかの適切な配置）を含んでもよい。このような構造によって、装置１４の入力と出力との間の光路は、必ず線形である必要はない。１つまたは複数のビームガイド装置、存在するのなら、装置１４のビームデリバリ手段の一部を形成し、ビームデリバリ手段は光学均一化手段も含む。

光学拡散板５０は、いずれかの従来の形態を有してもよい。望ましい実施の形態では、拡散板５０は光学的な透過性を有するが、光学的な反射性を有してもよい。例えば、拡散板５０は、半透明であるが望ましくは非透明な材料、または光学的に反射的な材料から形成されてもよく、および／または、表面構造、内部構造、表面マーキング（marking）、表面コーティングまたはレンズのいずれかの１つまたはそれより多くのものを、光学拡散効果を設けるために、有してもよい。例えば、拡散板５０は、すりガラス、テフロン（登録商標）、ホログラフィック材料、乳白色ガラスから形成されてもよい。望ましい実施の形態では、拡散板５０は、設計された拡散板を有し、拡散板内には疑似的にランダムなパターンが、通常ガラスまたはプラスチックで形成される光学透過性の基板内にエッチングされている。代替的な実施の形態では、拡散板５０は、反射的な拡散板を有してもよい。例示によって、拡散板５０は、１°−３°の間の半角によって拡散を形成するように構成されてもよい。

望ましい実施の形態では、第１光学拡散板５０は、回転可能な光学拡散板を有する。図５は、回転可能な光学拡散板５０の例を示す。光学拡散板５０は、モータ５２を便宜上有する回転駆動手段に係合されたディスクを便宜上有するが、ディスクは必須ではない。モータ５２は、その中心の周りに拡散板５０を回転させるために操作できる。図示された拡散板５０は、回転ディスク拡散板と呼ばれてもよい。拡散板５０の回転移動は、ビーム１８のパスと平行または実質的平行な軸、または、本例示のカプラ４０、４４との間の共通軸と平行または実質的に平行な軸の周りの移動であることが望ましい。望ましい実施の形態では、ファイバ端３３内への反射を回避するため、回転軸は、ビームパスまたは共通軸と完全に平行ではない（例えば、平行方向から０．５°から５°ずらしていてもよい）。代替的な実施の形態では、拡散板５０は、往復運動する拡散板５０であってもよい。この目的において、拡散板５０は、拡散板５０に往復運動を伝達するため、いずれかの適切な（図示していない）往復運動アクチュエータと係合してもよい。例えば、往復運動アクチュエータは振動装置、例えば、圧電ドライバーを有してもよい。拡散板５０の往復運動は、望ましくは、ビーム１８のパスまたはカプラ４０、４４との間の共通軸に対して、直交しまたは傾斜される。いずれかの場合も、望ましい配置は、使用されているビーム１８に対して拡散効果を有するために、拡散板５０がビーム１８のパスと交差し、ビームのパスに対して移動することができる配置である。

望ましい実施の形態では、拡散板５０は、ビーム１８がカプラ４０からカプラ４４に移動するとき、ビーム１８が拡散板５０を透過するように、光学透過性を有する。便宜上、拡散板５０は、カプラ４０、４４との間の共通軸と交差する。拡散板５０は、ビーム１８のパスに対して直交するまたは傾斜される平面に配置されてもよい。拡散板が、ビーム１８のパスに対して、実質的に垂直だが完全に垂直ではない平面に配置されていることが望ましい。

望ましい実施の形態では、光カプラ４０は、望ましくは拡大とともに、拡散板５０上にビーム１８の焦点を合わせるまたは撮像する。よって、ビーム１８は拡散板５０上に、カプラ４０から放射されるビーム１８の断面積より大きいスポットを形成する。例えば、拡大倍率は２倍から２０倍の間であってもよい。望ましい実施の形態では、カプラ４０によって実施される拡大倍率は、カプラ４０によって実施される拡大倍率は、カプラ４４によって実施される縮小倍率より大きい。例えば、カプラ４０は、ビーム１８を８倍に拡大してもよく、一方で、カプラ４４はビーム１８を２．５倍で縮小する。

拡散板５０は、ビーム１８を拡散または散乱させる。これは、特に、横方向の断面において、即ち、伝播方向に垂直な方向において、光を空間的にランダム化または変更する効果を有する。光は、その強度または振幅および／または位相に対して、空間的にランダム化／変更されてもよい。空間的ランダム化は、放射線源モジュール１２によって生成される光のコヒーレンスの結果として発生し得るスペックルを抑制する。スペックルの発生は、非常にコヒーレントな光源（空間的におよび時間的にシングルモード）および適度にコヒーレントな光源（空間的にシングルモードおよび時間的にマルチモード）において生じる傾向がある。

放射線デリバリ装置は、第２光学拡散板６０という望ましい形態で、第２光学均一化手段を含む。第２光学拡散板６０は、入力ファイバ３０と出力ファイバ３４との間に配置される。望ましい実施の形態では、第２光学拡散板６０は、光カプラ４０、４４との間に配置されている。この配置では、第１および第２光学拡散板５０、６０を通じて、ビーム１８が入力ファイバ３０から出力ファイバ３４まで伝送される。図示された実施の形態では、第２拡散板６０は、第１拡散板５０と出力ファイバ３４との間に配置されるが、代わりに第１拡散板５０と入力ファイバ３４との間に配置されてもよい。

第２光学拡散板６０は、いずれかの従来の形態を有してもよい。望ましい実施の形態では、拡散板６０は光学的な透過性を有するが、代わりに、光学的な反射性を有してもよい。例えば、拡散板６０は、半透明であるが望ましくは非透明な材料、または光学的に反射的な材料から形成されてもよく、および／または、表面構造、内部構造、表面マーキング（marking）、表面コーティングまたはレンズのいずれかの１つまたはそれより多くのものを、光学拡散効果を設けるために、有してもよい。例えば、拡散板６０は、すりガラス、テフロン（登録商標）、ホログラフィック材料、乳白色ガラスから形成されてもよい。望ましい実施の形態では、拡散板５０は、設計された拡散板を有し、拡散板内には疑似的にランダムなパターンが、通常ガラスまたはプラスチックで形成される光学透過性の基板内にエッチングされている。代替的な実施の形態では、拡散板６０は、反射的な拡散板を有してもよい。例示によって、拡散板６０は、１°−３°との間の半角にわたる拡散を形成するように構成されてもよい。

望ましい実施の形態では、第２光学拡散板６０は、例えば、図５に示す種類のような回転可能な光学拡散板を有する。よって、第２拡散板は回転ディスク拡散板であってもよい。拡散板６０の回転移動は、ビーム１８のパスと平行または実質的に平行、または、本例において、カプラ４０、４４との間の共通軸と平行または実質的に平行な軸の周りの移動であることが望ましい。望ましい実施の形態では、回転軸は、ビームパスまたは共通軸と完全に平行ではない（例えば、平行方向から０．５°から５°ずらしていてもよい）。代替的な実施の形態では、拡散板６０は、往復運動する拡散板６０であってもよい。この目的において、拡散板６０は、拡散板６０に往復運動を伝達するため、いずれかの適切な（図示していない）往復運動アクチュエータと係合してもよい。例えば、往復運動アクチュエータは振動装置、例えば、圧電ドライバーを有してもよい。拡散板６０の往復運動は、望ましくは、ビーム１８のパスまたはカプラ４０、４４との間の共通軸に対して、直交しまたは傾斜される。いずれかの場合も、望ましい配置は、使用されているビーム１８に拡散効果を有するために、拡散板６０がビーム１８のパスと交差し、ビームのパスに対して移動することができる配置である。

望ましい実施の形態では、拡散板６０は、ビーム１８がカプラ４０からカプラ４４に移動するとき、ビーム１８が拡散板６０を透過するように、光学透過性を有する。便宜上、拡散板６０は、カプラ４０、４４との間の共通軸と交差する。拡散板６０は、ビーム１８のパスに対して直交するまたは傾斜される平面に配置されてもよい。拡散板が、ビーム１８のパスに対して、（例えば、垂直方向から０．５°から５°の間でずらされている）実質的に垂直だが完全に垂直ではない平面に配置されていることが望ましい。

第１と第２拡散板５０、６０は、いずれかの適切な距離、例えば、１ｍｍから１０ｍｍの間で、ビーム１８の移動の方向において、間隔が空けられてもよい。選択的に、１つまたはそれより多くのレンズ、例えば、１つまたはそれより多くの（図示していない）リレーレンズは、拡散板５０と６０との間に設けられてもよい。

図６は、光学顕微鏡システム１０’の代替的な実施の形態を示す。他で言及がない限り、システム１０’は図１のシステム１０と同じであってもよく、当業者によって明らかなように、同じまたは類似の説明が該当し得る。システム１０’では、第１および第２光学拡散板５０’、６０’は、反射拡散板を有する。例えば、拡散板５０’、６０’は、それぞれ光学的に反射的な表向き表面５１’、６１’を有してもよい。表向き表面５１’、６１’は、構造、マーキング（marking）および／またはビーム１８を拡散させるための他の光学拡散手段を含む。システム１０’は、カプラ４０から放射されるビーム１８がそれぞれの拡散板５０’と６０’とに反射され、カプラ４４に向けられているように配置される。（図示していない）他の実施の形態は、第１およい第２拡散板のいずれか一方が光学的な透過性を有し、他方の拡散板が光学的な反射性を有してもよく、システムは、ビームが１つの拡散板に反射され、他の拡散板を透過し、出力ファイバに向けられるように配置される。

第２拡散板６０、６０’は、第１拡散板５０、５０’と同じ方向または反対方向に回転されてもよい。効果的に、第１および第２拡散板５０、５０’、６０、６０’は異なる速度で回転される。望ましくは、第２拡散板６０、６０’は、第１拡散板５０、５０’よりゆっくり回転されている。例えば、第２拡散板６０、６０’の速度は、第１拡散板５０、５０’の速度の５％と９５％との間であってもよい。例示によって、第１拡散板５０、５０’は約５０００ｒｐｍで回転され、一方で、第２拡散板６０、６０’は約４８００ｒｐｍで回転されてもよい。

より一般的に、第１および第２拡散板５０、５０’、６０、６０’は、互いに異なる速度で効果的に移動される。移動が回転移動であるか往復運動であるかは問わない。望ましい実施の形態では、特に各拡散板５０、５０’、６０、６０’が回転可能な場合、だがこれに限定せず、拡散板５０、５０’、６０、６０’のいずれかが、他の拡散板６０、６０’、５０、５０’の速度の５％から９５％との間の速度で回転され、または別の方法で移動される。回転拡散板において、速度は、回転の速度または回転の周波数であってもよい。往復運動する拡散板または他の往復要素において、速度は直線速度または往復運動の周波数であってもよい。

第２拡散板６０、６０’も、ビーム１８を拡散または散乱させ、その空間パターン、特に横方向の断面における空間パターンをさらにランダム化または変更する。通常、ビーム１８の空間パターンは、その強度（または振幅）および／または位相に対して、さらにランダム化または変更される。この配置では、空間パターンの非均一性が時間と共に変化するため、時間が経過すると（例えば、カメラ露出の間）、非均一性は平均化し、よって、空間パターンが実質的に均一であるまたは少なくとも均一であるように見える。たった１つの周期均一化手段が使用されると、ホモジナイザの１周期後のビームの瞬間的断面スナップショット（snapshot）は、その前の周期と実質的に同じのように見える。即ち、各周期の終わりにおけるそれぞれの空間パターンとの間に相関があり、相関は、マイクロスコープによって形成された画像において、周期的な模様として現れ得る。第２均一化手段を使用することは、そのようないずれかの相関は小さいことを保証する。即ち、両方のホモジナイザが同じ初期状態に戻るまで、周期的なパターンは生じない。これは、第１ホモジナイザの１周期より充分に長い時間がかかる。２つのホモジナイザによって形成される後続の空間パターンは予測可能であるが、実用上、ランダムであるように見える。

有利に、したがって、第２拡散板６０、６０’は、ビーム１８が、特に、第１拡散板５０、５０’の周期的な移動により、視認できる周期的空間パターンを形成することを防止する。結果として、放射線デリバリ装置１４によって供給されるビーム１８はより一様なまたは均一化された強度を有し、サンプルのより均一な照射を提供することができる。マイクロスコープが共焦点マイクロスコープである場合、第２拡散板６０、６０’の作用によって、回転する共焦点ディスクを通じて光を撮像するとき、うなりパターンの形成を防止する。

代替的な実施の形態では、第２拡散板６０は、ファイバ３４とマイクロスコープ１６との間に配置されてもよく、または、ファイバ３４の端３６からビーム１８を受けるためにマイクロスコープ内に統合されてもよい。（図示していない）他の代替的な実施の形態では、第２光学拡散手段は、出力ファイバ３４を、望ましくは、往復的にまたは他の周期的な方法で、ビーム１８のパスに対して、移動させるための手段を有してもよい。例えば、これは、ファイバ３４は振動させるために出力ファイバ３４を振動装置に係合させることで実現されてもよい。いずれかの適切な従来の振動モータまたは他の振動装置、例えば、圧電ドライバーはこの目的に使用されてもよい。望ましくは、振動速度または周波数は、第１拡散板５０、５０’の速度または周波数と異なる。出力ファイバ３４の移動は、ファイバ３４に伝送される光に対して拡散効果を有する。しかしながら、より重要なのは、出力ファイバ３４の移動は、拡散板５０の回転と非同期であるため、拡散板５０の周期的な移動によって生じ得るいずれかの他の周期的空間パターンを妨害する。効果的に、ファイバ３４の振動による妨害効果は、ファイバ３４を振動装置の周りに巻き付けずに、例えば、ファイバ３４の端またはファイバ３４の巻かれていない長さを振動させることによって、実現されてもよい。

より一般的に、第１光学均一化手段と第２光学均一化手段は、それらの移動が同期しないように、異なる周波数で操作される。特に、第１光学均一化手段と第２光学均一化手段とは、それぞれ異なる周波数で周期的に移動する。望ましい実施の形態では、これは第１と第２拡散板５０、５０’、６０、６０’とを回転させることで実現される。望ましい配置では、第１拡散板５０、５０’と第２拡散手段とが同期してまたは一定の位相関係で移動しない。移動の非同期化は、出力ビーム１８、即ち、出力ファイバ３４の出口端３６から照射される放射線ビームにおいて、繰り返しパターンが生じることを防止する。繰り返しパターンは、マイクロスコープまたは他の末端システムによって形成される画像の品質に悪影響を与える可能性がある。望ましい実施の形態では、第１および第２光学均一化手段のそれぞれの周期的移動は、第１および第２均一化手段の内のより早いまたはより高周波数のもののいずれかの１周期後におけるファイバ３４からの放射線ビーム１８の出力の断面空間パターン（特に、断面強度パターン）が、第１および第２均一化手段の内のより早いまたはより高周波数のものの前周期後におけるファイバ３４からの放射線ビーム１８の出力の断面空間パターン（特に、断面強度パターン）と、相関がないまたは実質的に相関がないように構成される。断面パターン、特に断面強度パターンは、より高周波数のホモジナイザの各周期後に繰り返されないという点で、それぞれのパターンは相関が無いまたは実質的に相関が無い。

望ましい実施の形態の使用において、光カプラ４０によって、第１拡散板５０上にスポット、望ましくは拡大されたスポットを形成するために、第１拡散板５０へ、入力ファイバ３０の出口端３３からの光は撮像されるまたは向けられる。ビーム１８は第１拡散板５０から第２拡散板６０に伝播し、第２拡散板６０上に対応するスポットを形成する。選択的に、第１拡散板から第２拡散板へスポットをリレーするために、拡散板５０、６０との間に、１つまたはそれより多くのリレーレンズは設けられている。ビーム１８は、第２拡散板６０から光カプラ４０に（例えば、図示するようにカプラ４０、４４の位置合わせの結果としておよび／またはいずれかの他の従来の１つまたは複数のビームガイド要素によって）向けられる。そこで、カプラ４０は、ビーム１８を出力ファイバ３４の入口端３５内に向ける。カプラ４４は、第２拡散板上にあるスポットをファイバ３４に、望ましくは、縮小と共に、撮像するまたは焦点を合わせるように構成されてもよい。

ビーム１８の直径と、拡散板５０、６０の性質とは、出力ファイバ３４内の光の効率的な係合を設けるため、および、ファイバ３４から充分な均一性を設けるために、有利に設計される。例えば、拡散板５０、６０から出力ファイバ３４内へ光を係合するため、拡散板５０に入射されるビーム直径（Ｄｄ）、拡散板５０、６０の有効合計拡散角（角度ａｌｐｈａの半分）、ファイバ３４のコア直径（Ｄｆ）およびファイバ３４の開口数（ＮＡ）は、以下の関係をおおよそ満たしてもよい。
Ｄｄ＊ｓｉｎ（ａｌｐｈａ）＜Ｄｆ＊ＮＡ・・・［１］

Ｄｄ＊ａｌｐｈａの値が大きいほど、損失も大きくなるが、拡散板が動くほど、モードの変化が多くなり、よってより均一な画像を得ることができる。拡散板５０に照射されるビーム１８がコリメートされていないと、角度（角度ｔｈｅｔａの半分）において少し広がりを有し、よって式［１］は下記によって置き換えられる。
Ｄｄ＊ｓｉｎ（ａｌｐｈａ＋ｔｈｅｔａ）＜Ｄｆ＊ＮＡ・・・［２］

ファイバ３４に入る光は、ファイバ３４の認容角度（ＮＡ）よりも小さい角度と、ファイバ直径（Ｄｆ）よりも少ない空間範囲と、を有する必要がある。これは、第２拡散板６０上のスポットを、縮小倍率Ｍと共に光カプラ４４を通じてファイバ３４へ撮像することによって実現されてもよい。望ましくは、縮小倍率は、大きさ要件を満たすためには、以下を満たす。
Ｄｄ／Ｍ＜Ｄｆ・・・［３］
また、縮小倍率は、角度要件において、以下を満たす（角度ｔｈｅｔａは、コリメートされた入力ビームに対しては省略してもよい）。
Ｍ＊ｓｉｎ（ａｌｐｈａ＋ｔｈｅｔａ）＜ＮＡ・・・［４］

本発明は、本明細書にて説明した１つまたは複数の実施の形態に限定されず、本発明の範囲から離脱せず、補正または改造されてもよい。

Claims (25)

1. 放射線デリバリ装置であって、
   放射線ビーム入力と、
   放射線ビーム出力と、
   光路に沿って、前記放射線ビーム入力から前記放射線ビーム出力へ、放射線ビームを供給するように構成されたビームデリバリ手段と、
   を有し、
   前記ビームデリバリ手段は、
   第１光学均一化手段と、
   第２光学均一化手段と、
   を有し、
   前記第１光学均一化手段と前記第２光学均一化手段とは、それぞれ異なる周波数で周期的に移動するよう構成されている、放射線デリバリ装置。
2. 前記第１光学均一化手段は、前記光路と交差し、前記光路に対して移動できる第１光学拡散板を有する、請求項１に記載の放射線デリバリ装置。
3. 前記第１光学拡散板は光学的な透過性を有する、または、光学的な反射性を有する、請求項２に記載の放射線デリバリ装置。
4. 前記第２光学均一化手段は、前記光路と交差し、前記光路に対して移動できる第２光学拡散板を有する、請求項１から３のいずれか一項に記載の放射線デリバリ装置。
5. 前記第２光学拡散板は光学的な透過性を有する、または、光学的な反射性を有する、請求項４に記載の放射線デリバリ装置。
6. 前記第１光学均一化手段と前記第２光学均一化手段との内の１つまたは両方は、前記光路に対して回転可能である、請求項１から５のいずれか一項に記載の放射線デリバリ装置。
7. 前記第１光学均一化手段と前記第２光学均一化手段とは、それぞれ異なる速度で回転可能である、請求項６に記載の放射線デリバリ装置。
8. 前記第１光学均一化手段は第１光学拡散板を有し、前記第２光学均一化手段は第２光学拡散板を有して、
   前記第１および第２光学拡散板は回転可能であり、互いに対してそれぞれ異なる速度で使用時に回転される、請求項１から７のいずれか一項に記載の放射線デリバリ装置。
9. 前記第１光学均一化手段は第１光学拡散板を有し、前記第２光学均一化手段は第２光学拡散板を有して、
   前記第１および第２光学拡散板は、前記放射線ビームが、使用時において、前記第１光学拡散板から前記第２光学拡散板に伝送されるように、前記光路内に配置される、請求項１から８のいずれか一項に記載の放射線デリバリ装置。
10. 前記放射線ビーム出力は、出力光ファイバ、望ましくはマルチモード光ファイバ、を有し、
    前記ビームデリバリ手段は、前記放射線ビームを前記出力光ファイバの入口端内に向けるように構成される、請求項１から９のいずれか一項に記載の放射線デリバリ装置。
11. 前記ビームデリバリ手段は、前記放射線ビームを前記第２光学拡散板から、前記出力光ファイバへ、望ましくは自由空間を通じて、向けるように構成される、請求項９に従属する請求項１０に記載の放射線デリバリ装置。
12. 前記出力ファイバは、前記出力ファイバの入口端において、光カプラを有し、
    前記光カプラは、望ましくは自由空間から前記放射線ビームを受けて、前記出力ファイバの前記入口端内に前記放射線ビームを向けるように構成され、
    前記光カプラは、前記放射線ビームを縮小するための、少なくとも１つの光学要素を選択的に有する、請求項１１に記載の放射線デリバリ装置。
13. 前記光カプラは、前記出力ファイバの前記入口端内に前記放射線ビームの焦点を合わせるための、少なくとも１つの光学要素を有する、請求項１２に記載の放射線デリバリ装置。
14. 前記放射線ビーム入力は、入力光ファイバ、望ましくはマルチモード光ファイバ、を有し、
    前記ビームデリバリ手段は、前記放射線ビームを前記入力光ファイバの出口端から第１光学均一化手段に向けるように構成される、請求項１から１３のいずれか一項に記載の放射線デリバリ装置。
15. 前記ビームデリバリ手段は、前記放射線ビームを前記入力光ファイバから第１光学拡散板へ、望ましくは自由空間を通じて、向けるように構成される、請求項９に従属する請求項１４に記載の放射線デリバリ装置。
16. 前記入力ファイバの出口端において、光カプラが設けられ、
    前記光カプラは、望ましくは、前記入力ファイバの前記出口端から前記放射線ビームを受けて、前記放射線ビームを自由空間内へ放射するように構成される、請求項１４または１５に記載の放射線デリバリ装置。
17. 前記光カプラは、前記放射線ビームを拡大するための少なくとも１つの光学要素を有する、請求項１６に記載の放射線デリバリ装置。
18. 前記光カプラは、前記第１光学均一化手段上に前記放射線ビームの焦点を合わせるまたは撮像するための少なくとも１つの光学要素を有する、請求項１６または１７に記載の放射線デリバリ装置。
19. 前記第２光学均一化手段は、前記出力ファイバを周期的に、望ましくは、往復的に移動させる手段を有する、請求項１０に記載の放射線デリバリ装置。
20. 前記第１および第２光学均一化手段のそれぞれの周期的な移動は、前記第１および第２均一化手段の内の周波数が高い方のいずれかの一周期後における、前記放射線ビーム出力における前記放射線ビームの断面空間パターンが、前記第１および第２均一化手段の内の周波数が高い方の前周期の後における、前記放射線ビーム出力における前記放射線ビームの断面空間パターンと、概ね相関がないように構成される、請求項１から１９のいずれ一項に記載の放射線デリバリ装置。
21. 前記第１光学均一化手段は、前記放射線ビームの断面空間パターンを変更するように移動可能であり、
    前記第２光学均一化手段は、前記放射線ビームの前記断面空間パターンをさらに変更するように移動可能である、請求項１から２０のいずれ一項に記載の放射線デリバリ装置。
22. 放射線源モジュール、マイクロスコープモジュールおよび請求項１から２３のいずれか一項に記載の放射線デリバリ装置を有するマイクロスコープシステムであって、
    前記放射線デリバリ装置は、放射線ビームを前記放射線源モジュールから前記マイクロスコープモジュールへ供給するように構成される、マイクロスコープシステム。
23. 放射線ビームを均一化する方法であって、
    前記方法は、
    前記放射線ビームを第１光学均一化手段に向けることと、
    前記放射線ビームを前記第１光学均一化手段から第２光学均一化手段に向けることと、
    前記第１光学均一化手段および前記第２光学均一化手段を、それぞれ異なる周波数で、周期的に移動させることと、
    を有する、方法。
24. 前記第１光学均一化手段を移動させることにより、前記放射線ビームの断面空間パターンを変更することと、
    前記第２光学均一化手段を移動させることにより、前記放射線ビームの前記断面空間パターンをさらに変更することと、を含む、請求項２３に記載の方法。
25. 放射線ビームを均一化する装置であって、
    前記装置は、
    前記放射線ビームを、第１光学均一化手段に向ける手段と、
    前記放射線ビームを、前記第１光学均一化手段から第２光学均一化手段に向ける手段と、
    前記第１光学均一化手段を周期的に移動させる手段と、
    前記第２光学均一化手段を周期的に移動させる手段と、
    を有し、
    両方の前記移動させる手段は、前記第１光学均一化手段および前記第２光学均一化手段をそれぞれ異なる周波数で移動させるように構成される、装置。

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