JP2021005541A - 有機ｅｌデバイスの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】年輪状のムラを抑制しながら塗布法により有機層を形成することができる有機ＥＬデバイスの製造方法を提供する。【解決手段】基板に設けられており発光領域を規定するための厚み及び幅を有するバンクを備える有機ＥＬデバイスの製造方法であり、バンクは少なくとも上面が撥液性を有し、発光領域は面積が１ｍｍ２以上であり、発光領域上に有機溶媒を含む塗布液を塗布して第１塗布膜を形成する塗布工程と、該膜を加熱して第１有機層を形成する乾燥工程とを含み、塗布工程は、第１有機層が発光領域内に配置される部分（Ａ１）と、長さＬＢ１を有してバンク上に配置される部分（Ｂ１）とを有するように実施され、乾燥工程はその開始段階において、第１塗布膜の加熱温度を乾燥雰囲気温度に到達させるための昇温工程を含み、昇温工程において加熱温度が乾燥雰囲気温度の８０％に到達するまでの平均昇温速度が１℃／秒以上である製造方法が提供される。【選択図】図２

Description

本発明は、有機ＥＬデバイスの製造方法に関する。

有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）デバイスは、有機化合物の電界発光を利用した発光素子を含むデバイスである。
特開２００９−１６４１１３号公報（特許文献１）には、溶剤を含有する塗布膜に対して、第１の加熱工程、第１の冷却工程及び第２の加熱工程を施して正孔注入層及び／又は正孔輸送層を形成することが記載されている。

特開２００９−１６４１１３号公報

特許文献１に記載されるような、塗布法（塗布液の塗布による塗布膜の形成及び塗布膜の乾燥を含む方法）によって有機ＥＬデバイスの有機層を形成すると、形成される有機層に、図５に示されるような年輪状のムラが発生するという問題があった。この年輪状のムラは、有機層の厚みムラを伴っている。

本発明の目的は、年輪状のムラを抑制しながら塗布法により有機層を形成することができる有機ＥＬデバイスの製造方法を提供することにある。

本発明は、以下に示す有機ＥＬデバイスの製造方法を提供する。
［１］ 発光領域を有する有機ＥＬデバイスの製造方法であって、
前記有機ＥＬデバイスは、基板と、前記基板に設けられており前記発光領域を規定するための厚み及び幅を有するバンクとを備え、
前記バンクは、少なくとも上面が撥液性を有し、
前記発光領域は、その面積が１ｍｍ^２以上であり、
前記製造方法は、
前記発光領域上に、有機溶媒を含む塗布液を塗布して第１塗布膜を形成する塗布工程と、
前記第１塗布膜を加熱して第１有機層を形成する乾燥工程と、
を含み、
前記第１塗布膜を形成する塗布工程は、前記第１有機層が、前記発光領域内に配置される部分（Ａ１）と、前記バンクの幅方向における長さＬ_Ｂ１を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ１）とを有するように実施され、
前記乾燥工程は、その開始段階において、前記第１塗布膜の加熱温度を乾燥雰囲気温度に到達させるための昇温工程を含み、
前記昇温工程において、前記加熱温度が前記乾燥雰囲気温度の８０％に到達するまでの平均昇温速度が１℃／秒以上である、有機ＥＬデバイスの製造方法。
［２］ 前記塗布工程は、前記第１有機層の全ての端部が前記バンク上に位置するように実施される、［１］に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
［３］ 前記塗布工程の前に、第２有機層を形成する工程をさらに含む、［１］又は［２］に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
［４］ 第２有機層を形成する工程は、前記第２有機層が、前記発光領域内に配置される部分（Ａ２）と、前記バンクの幅方向における長さＬ_Ｂ２を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ２）とを有するように実施される、［３］に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
［５］ 前記Ｌ_Ｂ１が前記Ｌ_Ｂ２と同じか又はそれよりも大きい、［４］に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
［６］ 前記第１有機層が発光層である、［１］〜［５］のいずれかに記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。

年輪状のムラを抑制しながら塗布法により有機層を形成することができる有機ＥＬデバイスの製造方法を提供することができる。

本発明に係る有機ＥＬデバイスの製造方法に用いることができるバンク付き基板の一例を示す概略平面図である。 本発明に係る製造方法によって得られる有機ＥＬデバイスの一例におけるバンク周辺を一部拡大して示す概略断面図である。 本発明に係る製造方法によって得られる有機ＥＬデバイスの他の一例におけるバンク周辺を一部拡大して示す概略断面図である。 実施例１及び比較例１における昇温工程の基板の温度プロファイルを示す図である。 比較例１で得られた第１有機層１に対して紫外線を照射することによって第１有機層１を発光させたときに確認された、発光領域における年輪状のムラの状態を示す図である。

以下、実施形態を示しながら本発明について説明する。同一の要素には同一符号を付する。重複する説明は省略する。図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない場合がある。

本発明に係る有機ＥＬデバイス（以下、単に「有機ＥＬデバイス」ともいう。）は、基板と、該基板上に配置されるバンクと、第１有機層とを含む。バンクは、有機ＥＬデバイスの発光領域を規定するものであり、該発光領域を取り囲むように基板上に配置される。有機ＥＬデバイスの発光領域とは、電圧の印加によって発光する二次元的な区域のうち、上記バンクによって取り囲まれた区域を意味する。
有機ＥＬデバイスは、発光領域を１つのみ有していてもよいし、２以上有していてもよい。
例えば、２以上の発光領域は、基板上に二次元配列（又はマトリックス状）に配置されていてもよい。各列における発光領域の間の間隔、各行における発光領域の間の間隔、発光領域の配置例及び発光領域の数等は、有機ＥＬデバイスの仕様等に応じて適宜設定される。
有機ＥＬデバイスは、トップエミッション型のデバイスでもよいし、ボトムエミッション型のデバイスでもよい。

有機ＥＬデバイスの発光領域には、発光を生じさせるための構造部である発光部が設けられている。発光部は、少なくとも、基板側から順に、第１電極（例えば、陽極）と、第１有機層と、第２電極（例えば、陰極）とを含む。第１電極と第２電極との間に、第１有機層以外の有機層が１層又は２層以上設けられていてもよい。第１有機層及び他の有機層は、有機ＥＬデバイスの発光に寄与する層である。

本発明に係る有機ＥＬデバイスの製造方法（以下、単に「有機ＥＬデバイスの製造方法」ともいう。）は、第１有機層を形成する工程（第１有機層形成工程）を含み、第１有機層形成工程は、下記の工程を含む。
発光領域上に、有機溶媒を含む第１有機層形成用塗布液を塗布して第１塗布膜を形成する塗布工程（第１塗布工程）、
第１塗布膜を加熱して第１有機層を形成する乾燥工程（第１乾燥工程）。

有機ＥＬデバイスの製造方法は、第１塗布工程の前、すなわち、第１有機層形成工程の前に、上記他の有機層の１つである第２有機層を形成する工程（第２有機層形成工程）をさらに含んでいてもよい。有機ＥＬデバイスの製造方法は、第２有機層形成工程をさらに含むことが好ましい。
有機ＥＬデバイスの製造方法が第２有機層形成工程をさらに含む場合、得られる有機ＥＬデバイスの発光部は、基板側から順に、第１電極と、第２有機層と、第１有機層と、第２電極とを含む。

発光部は、３以上の有機層を含むことができる。この場合、有機ＥＬデバイスの製造方法は、第３有機層を形成する工程（第３有機層形成工程）、あるいはこれに加えてさらなる有機層形成工程を含む。

有機ＥＬデバイスの構成及び有機ＥＬデバイスの製造方法についてより詳細に説明する。

＜有機ＥＬデバイスの構成＞
（１）基板
図１は、有機ＥＬデバイスの製造方法に用いることができるバンク付き基板の一例を示す概略平面図である。図１に示されるバンク付き基板１０は、基板１１と、第１電極１２（例えば、陽極）と、バンク１３とを有する。
基板１１は、第１電極１２及びバンク１３を支持する支持体であり、例えば、可視光（波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの光）に対して透光性を有する板状の透明部材である。
基板１１の厚みは、例えば３０μｍ以上１１００μｍ以下である。基板１１は、例えばガラス基板又はシリコン基板等のリジッド基板であってもよいし、プラスチック基板又は高分子フィルム等の可撓性基板であってもよい。可撓性基板を用いることで、有機ＥＬデバイスが可撓性を有し得る。

基板１１には発光部を駆動させるための回路が予め形成されていてもよい。基板１１には、例えばＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）やキャパシタ等があらかじめ形成されていてもよい。

（２）第１電極
第１電極１２は、例えば陽極である。ただし、第１電極１２が陰極であり、第２電極が陽極であってもよい。
第１電極１２の平面視形状（基板１１の厚み方向から見た形状）としては、例えば、長方形、正方形等の四角形、他の多角形、及び、四角形や他の多角形において角部に丸味を付けた形状等が挙げられる。第１電極１２の平面視形状は、円形又は楕円形でもよい。また、第１電極１２の平面視形状は、四角形や他の多角形において、少なくとも１辺を弧状（例えば円弧状）にした形状でもよい。
本明細書において、平面視とは、層等の厚み方向から見ることを意味する。

第１電極１２は、金属酸化物、金属硫化物又は金属等からなる薄膜を用いることができ、具体的には、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウム錫酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＺＯ）、金、白金、銀、又は銅等からなる薄膜が用いられる。
有機ＥＬデバイスが基板１１側から光を出射する場合、光透過性を示す第１電極１２が用いられる。

第１電極１２の厚みは、光透過性、電気伝導度等を考慮して適宜決定することができる。第１電極１２の厚みは、例えば１０ｎｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは２０ｎｍ以上１μｍ以下であり、より好ましくは５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。

一実施形態において、第１電極１２と基板１１との間には、絶縁層等で構成される層が設けられてもよい。絶縁層等で構成される層を基板１１の一部とみなすこともできる。

（３）バンク
バンク１３は、有機ＥＬデバイスの発光領域１４を規定するための厚み及び幅を有する隔壁であり、換言すれば、発光領域１４を取り囲むように配置される厚み及び幅を有する隔壁である。バンク１３は、基板１１上、より具体的には、基板１１上に形成された第１電極１２上に配置される。この際、第１電極１２と第２電極との短絡防止の観点から、図１に示されるように、第１電極１２の周縁部の少なくとも一部の直上に配置されるようにバンク１３を配置することが好ましい。

基板１１上にバンク１３を設置することによって発光領域１４を規定し、そこに発光部を構成する有機層を形成することが、該有機層に生じ得る年輪状のムラの抑制に有利であることが本発明者の検討により明らかとなった。
バンク１３で規定されていない発光領域に塗布法により有機層を形成する場合には、たとえ、本発明に従って乾燥工程の条件を適切に制御した場合であっても年輪状のムラの抑制は困難である。

バンク１３は、基板１１の表面上において予め設定されている発光領域１４を区画するために、開口を有するようなパターンで基板１１上に設けられる。
図１に示される例において、バンク１３の平面視形状は四角枠形状を有しているが、これに限定されるものではなく、バンク１３が有する開口形状及び外形形状（いずれも平面視形状）は、所望する発光領域１４の形状や基板１１の形状（いずれも平面視形状）等に応じて適宜選択される。
バンク１３が有する開口形状（すなわち、発光領域１４の形状）は通常、その面積が１ｍｍ^２以上であり、好ましくは５ｍｍ^２以上であり、また、通常１ｍ^２以下である。

一実施形態において、バンク１３が有する開口形状（すなわち、発光領域１４の形状）は、図１に示されるように、正方形、長方形等の方形形状である。
バンク１３が有する開口形状が方形形状を有する場合、その少なくとも１辺の長さは、通常１ｍｍ以上であり、２以上の辺又はすべての辺の長さが１ｍｍ以上であってもよい。辺の長さは、５ｍｍ以上であってもよく、１０ｍｍ以上であってもよく、さらには２０ｍｍ以上であってもよい。バンク１３が有する開口形状が方形形状である場合において、１辺の長さは、通常１０００ｍｍ以下である。
面発光の有機ＥＬデバイスにおいて発光領域１４の面積が大きいほど、年輪状のムラが視認されやすい傾向にあることから、本発明は、発光領域１４の面積が１ｍｍ^２以上である場合のように発光領域１４の面積が大きい場合にとりわけ有利である。

バンク１３は、例えば、１種類以上の樹脂組成物から構成することができる。
塗布法によって発光部を構成する第１有機層等の有機層を形成する場合、バンク１３は、年輪状のムラを抑制する観点、該バンクによって発光領域１４を好適に規定（区画）できるようにする観点、及びバンク１３よりも外側に有機層が濡れ広がらないようにする観点から、少なくともその上面（基板１１とは反対側の面）が撥液性を有しており、好ましくは、その上面及びその側面が撥液性を有している。
バンク１３の少なくとも上面が撥液性を有していることは、バンク１３の少なくとも上面に接するように形成した塗布膜を加熱して有機層を形成する乾燥工程において、塗布膜の収縮ムラを抑制するうえでも有利である。

本明細書における撥液性とは、塗布法で使用する有機層形成用の塗布液に対する撥液性である。「有機層形成用の塗布液に対する撥液性」における有機層は通常、第１電極１２上に最初に形成される有機層（最も第１電極１２寄りの有機層）である。第１電極１２上に最初に形成される有機層は、第１有機層又は第２有機層等であり得る。

少なくともその上面が撥液性を有するバンク１３としては、撥液剤を含む熱可塑性樹脂組成物からなる層、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物からなる層、又は撥液剤を含む熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層等であるバンク、熱可塑性樹脂からなる層、感光性樹脂組成物の硬化物からなる層又は熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層等の少なくとも上面に撥液処理を施してなるバンク等が挙げられる。
撥液処理としては、フッ素樹脂等を含有する撥液剤を塗布する処理、撥液剤の塗布後に、塗布面に紫外線等の活性エネルギー線を照射する処理等が挙げられる。
ＵＶオゾン処理によってバンク１３の少なくとも上面の撥液性を制御してもよい。
撥液剤を含む熱可塑性樹脂組成物からなる層、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物からなる層、又は撥液剤を含む熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層の少なくとも上面に上記撥液処理をさらに施してもよい。

第１有機層に生じる年輪状のムラを抑制するために、後述するように、第１有機層１は、発光領域１４内に配置される部分（Ａ１）と、バンク１３上に配置される部分（Ｂ１）とを有するように形成される。この場合において、第１有機層に生じる年輪状のムラを抑制するために、第１有機層を形成する第１塗布膜は、バンク１３の少なくとも上面に接して形成され、第１塗布膜を形成するための塗布液に対するバンク１３の少なくとも上面の接触角は、好ましくは、３０度以上３５度以下である。同様の理由で、第１塗布膜がバンク１３の側面に接して形成される場合、第１塗布膜を形成するための塗布液に対するバンク１３の側面の接触角は、好ましくは、３０度以上３５度以下である。後述するように、第１有機層は、好ましくは発光層等である。
上記接触角は、後述する［実施例］に記載の方法に従って測定される。

バンク１３は、単層構造であってもよいし、厚み方向に２以上の層を積層した多層構造をあってもよい。バンク１３の作製がより容易であることから、バンク１３は、好ましくは単層構造である。

バンク１３の断面形状は特に制限されず、例えば、バンク１３の発光領域１４に望む側面は、基板１１の表面に対して直交していてもよいし、鋭角をなすように傾斜していてもよい（順テーパ型）。

バンク１３の厚み（高さ）は、例えば０．３μｍ以上１０μｍ以下程度であり、好ましくは０．５μｍ以上５μｍ以下である。
バンク１３の幅（図１に示されるＷ）は、例えば０．５ｍｍ以上２０ｍｍ以下程度であり、好ましくは１ｍｍ以上１０ｍｍ以下である。
バンク１３の外形形状（平面視形状）が方形形状である場合、その１辺の長さは、例えば０．５ｍｍ以上１０００ｍｍ以下程度であり、好ましくは１ｍｍ以上１０００ｍｍ以下程度である。

バンク付き基板１０は、例えば、基板１１に予め設定される発光領域１４上に第１電極１２を形成した後、バンク１３を形成することで製造することができる。

バンク１３は、例えば、塗布法を利用して形成することができる。具体的には、バンク１３の材料を含む塗布液を、第１電極１２が形成された基板１１に塗布してなる塗布膜を乾燥させ、必要に応じて硬化処理を施した後、その塗布膜を所定の形状にパターニングすることで形成できる。塗布法としては、例えば、スピンコート法、スリットコート法等が挙げられる。バンク１３の材料を含む塗布液の溶媒は、バンク１３の材料を溶解できる溶媒であればよい。

また、バンク１３は、例えばインクジェット塗布法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、ディスペンサー塗布法、ノズルコート法等によりパターニングされた塗布膜を形成し、必要に応じて硬化処理を施す直描方式によって形成することもできる。

（４）有機層
上述のように、有機ＥＬデバイスの発光領域には発光部が設けられ、発光部は、基板側から順に、第１電極（例えば、陽極）と、第１有機層等の１層又は２層以上の有機層と、第２電極（例えば、陰極）とを含む。発光部には、通常は、第１有機層以外の有機層が設けられる。

第１有機層は、第１電極１２上に最初に形成される有機層（最も第１電極１２寄りの有機層）であってもよいし、他の有機層を介して第１電極１２上に積層される有機層であってもよい。第１有機層は、例えば正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層又は電子注入層等であり得るが、好ましくは発光層である。
第１有機層が正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層又は電子注入層である場合、発光部は、第１有機層以外の有機層として、少なくとも発光層をさらに有する。
第１有機層が発光層である場合、発光部は有機層として第１有機層のみを有していてもよいが、１層又は２層以上の他の有機層をさらに含むことが好ましい。

正孔注入層は、陽極（例えば、第１電極１２）から発光層への正孔注入効率を改善する機能を有する有機層である。
正孔注入層の材料は公知の正孔注入材料が用いられ得る。正孔注入材料としては、例えば、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム及び酸化アルミニウム等の酸化物；フェニルアミン化合物；スターバースト型アミン化合物；フタロシアニン化合物；アモルファスカーボン；ポリアニリン；ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体が挙げられる。

正孔注入層の厚みは、用いる材料によって最適値が異なり、求められる特性及び層の形成し易さ等を勘案して適宜決定される。正孔注入層の厚みは、例えば１ｎｍ以上１μｍ以下であり、好ましくは２ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。

正孔輸送層は、陽極又は正孔注入層等から発光層への正孔注入を改善する機能を有する層である。
正孔輸送層の材料には、公知の正孔輸送入材料が用いられ得る。正孔輸送層の材料としては、例えば、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン若しくはその誘導体、ピラゾリン若しくはその誘導体、アリールアミン若しくはその誘導体、スチルベン若しくはその誘導体、トリフェニルジアミン若しくはその誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、及びポリ（２，５−チエニレンビニレン）若しくはその誘導体等が挙げられる。また、特開２０１２−１４４７２２号公報に開示されている正孔輸送材料も挙げることができる。

正孔輸送層の厚みは、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように適宜設定される。正孔輸送層の厚みは、例えば１ｎｍ以上１μｍ以下であり、好ましくは２ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。

発光層は、所定の波長の光を発光する機能を有する有機層である。
発光層は通常、主として蛍光及び／又はりん光を発光する有機物、あるいは、該有機物とこれを補助するドーパントとから形成される。ドーパントは、例えば発光効率の向上や、発光波長を変化させるために加えられる。
発光層に含まれる有機物は、低分子化合物でも高分子化合物でもよい。発光層を構成する発光材料としては、例えば、下記の色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料、ドーパント材料が挙げられる。

色素系の発光材料としては、例えば、シクロペンダミン若しくはその誘導体、テトラフェニルブタジエン若しくはその誘導体、トリフェニルアミン若しくはその誘導体、オキサジアゾール若しくはその誘導体、ピラゾロキノリン若しくはその誘導体、ジスチリルベンゼン若しくはその誘導体、ジスチリルアリーレン若しくはその誘導体、ピロール若しくはその誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン若しくはその誘導体、ペリレン若しくはその誘導体、オリゴチオフェン若しくはその誘導体、オキサジアゾールダイマー若しくはその誘導体、ピラゾリンダイマー若しくはその誘導体、キナクリドン若しくはその誘導体、クマリン若しくはその誘導体等が挙げられる。

金属錯体系の発光材料としては、例えば、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属、又はＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ、Ｐｔ、Ｉｒ等を中心金属に有し、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を配位子に有する金属錯体が挙げられる。金属錯体としては、例えば、イリジウム錯体、白金錯体等の三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミニウムキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、フェナントロリンユーロピウム錯体等が挙げられる。

高分子系の発光材料としては、例えば、ポリパラフェニレンビニレン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリパラフェニレン若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、ポリアセチレン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体の他、上記色素材料、金属錯体材料を高分子化した材料等が挙げられる。

上記発光材料のうち、赤色に発光する材料（以下、「赤色発光材料」ともいう。）としては、例えば、クマリン若しくはその誘導体、チオフェン環化合物、及びそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が挙げられる。赤色発光材料としては、特開２０１１−１０５７０１号公報に開示されている材料も挙げられる。

緑色に発光する材料（以下、「緑色発光材料」ともいう。）としては、例えば、キナクリドン若しくはその誘導体、クマリン若しくはその誘導体、及びそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が挙げられる。緑色発光材料としては、特開２０１２−０３６３８８号公報に開示されている材料も挙げられる。

青色に発光する材料（以下、「青色発光材料」ともいう。）としては、例えば、ジスチリルアリーレン若しくはその誘導体、オキサジアゾール若しくはその誘導体、及びそれらの重合体、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリパラフェニレン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が挙げられる。青色発光材料としては、特開２０１２−１４４７２２号公報に開示されている材料も挙げられる。

ドーパント材料としては、例えば、ペリレン若しくはその誘導体、クマリン若しくはその誘導体、ルブレン若しくはその誘導体、キナクリドン若しくはその誘導体、スクアリウム若しくはその誘導体、ポルフィリン若しくはその誘導体、スチリル色素、テトラセン若しくはその誘導体、ピラゾロン若しくはその誘導体、デカシクレン若しくはその誘導体、フェノキサゾン若しくはその誘導体等が挙げられる。

発光層の厚みは、用いる材料によって最適値が異なり、求められる特性及び層の形成し易さ等を勘案して適宜決定される。発光層の厚みは、例えば１ｎｍ以上１μｍ以下であり、好ましくは２ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。

電子輸送層は、陰極又は電子注入層等からの電子注入を改善する機能を有する層である。電子輸送層には公知の電子輸送材料を用いることができる。
電子輸送層の厚みは、用いる材料等によっても異なるが、例えば１ｎｍ以上１μｍ以下であり、好ましくは２ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。

電子注入層は、陰極から発光層への電子注入効率を改善する機能を有する層である。
電子注入層には公知の電子注入材料を用いることができる。
電子注入層の厚みは、用いる材料等によっても異なるが、例えば１ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。

（５）第２電極
第２電極は、例えば陰極である。
陰極は、発光部に含まれる１又は２以上の有機層の上に設けられる。
陰極の材料としては、仕事関数が小さく、発光層への電子注入が容易で、電気伝導度の高い材料が好ましい。有機ＥＬデバイスが陽極側から光を取り出す場合には、発光層から放射される光を陰極で陽極側に反射するために、陰極の材料としては可視光反射率の高い材料が好ましい。
具体的には、陰極には、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属又は周期表の１３族金属等を用いることができる。また、陰極として、導電性金属酸化物又は導電性有機物等からなる透明導電性陰極を用いることもできる。

陰極の厚みは、電気伝導度、耐久性を考慮して適宜設定される。陰極の厚みは、例えば１０ｎｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは２０ｎｍ以上１μｍ以下であり、より好ましくは５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。

有機ＥＬデバイスが２以上の発光領域１４（したがって、２以上の発光部）を有する場合、発光領域ごとに陰極を設けてもよいし、バンク１３を跨いで、すべての発光領域１４に共通の陰極を１つ設けてもよい。

なお、有機ＥＬデバイスの第２電極上には、通常、封止基板が設けられる。その他、有機ＥＬデバイスは、例えば、有機ＥＬ照明デバイスや有機ＥＬディスプレイが備える公知の他の要素を備え得る。

＜有機ＥＬデバイスの製造方法＞
本発明の一実施形態に係る有機ＥＬデバイスの製造方法は、下記の工程を下記の順で含む。
発光領域１４を規定するための、厚み及び幅を有するバンク１３を基板１１上に形成する工程（バンク形成工程）、
第１有機層を形成する工程（第１有機層形成工程）。

本発明の一実施形態に係る有機ＥＬデバイスの製造方法において、第１有機層形成工程は、下記の工程を含む。
発光領域１４上に、有機溶媒を含む第１有機層形成用塗布液を塗布して第１塗布膜を形成する塗布工程（第１塗布工程）、
第１塗布膜を加熱して第１有機層を形成する乾燥工程（第１乾燥工程）。

一実施形態において、有機ＥＬデバイスの製造方法は、第１塗布工程の前、すなわち、第１有機層形成工程の前に、上記他の有機層の１つである第２有機層を形成する工程（第２有機層形成工程）をさらに含んでいてもよい。
一実施形態において、有機ＥＬデバイスの製造方法は、第３有機層を形成する工程（第３有機層形成工程）、あるいはこれに加えてさらなる有機層形成工程を含んでいてもよい。

（１）バンク形成工程
バンク形成工程は通常、例えば図１に示されるようなバンク付き基板１０を作製する工程である。バンク付き基板１０を構成する基板１１、第１電極１２及びバンク１３、並びに、バンク付き基板１０の作製方法については上述の記載が引用される。

上述のように、年輪状のムラを抑制する観点、バンク１３によって発光領域１４を好適に規定（区画）できるようにする観点、及びバンク１３よりも外側に有機層が濡れ広がらないようにする観点から、バンク１３の少なくとも上面（基板１１とは反対側の面）は撥液性を有しており、好ましくは、上面及び側面が撥液性を有している。このために、バンク形成工程は、バンク１３の上面の撥液性を制御する撥液性制御工程を含んでいてもよい。撥液性制御工程は、バンク１３の少なくとも上面の撥液性を調整する工程である。
バンク１３の少なくとも上面が撥液性を有していることは、バンク１３の少なくとも上面に接するように形成した塗布膜を加熱して有機層を形成する乾燥工程において、塗布膜の収縮ムラを抑制するうえでも有利である。

バンク１３の少なくとも上面の撥液性を調整（制御）する方法としては、撥液剤を含む熱可塑性樹脂組成物からなる層、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物からなる層、又は撥液剤を含む熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層等としてバンク１３を形成する方法、熱可塑性樹脂からなる層、感光性樹脂組成物の硬化物からなる層又は熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層等としてバンク１３を形成した後、バンク１３の少なくとも上面に撥液処理を施す方法が挙げられる。
撥液処理としては、フッ素樹脂等を含有する撥液剤を塗布する処理や、撥液剤の塗布後に、塗布面に紫外線等の活性エネルギー線を照射する処理等が挙げられる。
ＵＶオゾン処理によってバンク１３の少なくとも上面の撥液性を制御してもよい。
撥液剤を含む熱可塑性樹脂組成物からなる層、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物からなる層、又は撥液剤を含む熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層の少なくとも上面に上記撥液処理をさらに施してもよい。

第１塗布膜を形成するための塗布液に対するバンク１３の上面及び側面の接触角については上述のとおりである。

（２）第１有機層形成工程
バンク付き基板１０の発光領域１４上（バンク１３の開口部）に、有機溶媒を含む第１有機層形成用の塗布液を塗布して第１塗布膜を形成し（第１塗布工程）、次いで第１塗布膜を加熱して乾燥処理を施すことにより（第１乾燥工程）、第１有機層を形成することができる。
第１有機層形成用の塗布液は、例えば、正孔注入材料を含む塗布液、正孔輸送材料を含む塗布液、発光材料を含む塗布液、電子輸送材料を含む塗布液、電子注入材料を含む塗布液等の機能材料を含む塗布液であり、好ましくは、発光材料を含む塗布液である。

塗布液に含まれる有機溶媒は、塗布液に含まれる機能材料を溶解できるものであり、例えば、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等の塩化物溶媒；テトラヒドロフラン、ブチルセロソルブ等のエーテル溶媒；トルエン、キシレン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート、乳酸ブチル等のエステル溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、２−エチルヘキサノール等のアルコール溶媒等が挙げられる。
有機溶媒は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

中でも、塗布液の塗布性、とりわけインクジェット塗布法での塗布液の塗布性の観点から、有機溶媒は、大気圧で、１６０℃以上２４０℃以下の沸点を有することが好ましい。
２種以上の有機溶媒を併用する場合、少なくとも１種の有機溶媒が上記範囲内の沸点を有することが好ましく、すべての有機溶媒が上記範囲内の沸点を有することがより好ましい。

第１塗布工程における第１有機層形成用の塗布液の塗布法としては、例えば、インクジェット印刷法が挙げられる。ただし、バンク１３の開口部に層を形成可能な塗布法であれば他の公知の塗布法、例えば、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、又はノズルプリント法を用いてもよい。

第１塗布工程は、年輪状のムラを抑制する観点から、第１乾燥工程を経て得られる第１有機層が、発光領域１４内に配置される部分（Ａ１）と、バンク１３上に配置される部分（Ｂ１）とを有するように実施される。

図２は、本発明に係る製造方法によって得られる有機ＥＬデバイスの一例におけるバンク周辺を一部拡大して示す概略断面図である。
図２に示される例において、第１有機層１は、発光領域１４内に配置される部分（Ａ１）と、バンク１３上に配置される部分（Ｂ１）とを有する。第１有機層１が発光領域１４を越えてバンク１３上にまで延在している部分、すなわち部分（Ｂ１）の長さは、バンク１３の幅Ｗ方向における長さで、長さＬ_Ｂ１であり、Ｌ_Ｂ１はゼロより大きく、また、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。

部分（Ｂ１）を有するように、すなわち、端部がバンク１３上に位置するように第１有機層１を形成することは、第１有機層に生じる年輪状のムラの抑制に有利であるとともに、発光領域１４内での発光輝度のムラの低減にも有利である。

年輪状のムラの抑制及び／又は発光輝度のムラの低減の観点から、長さＬ_Ｂ１は、好ましくは２．５ｍｍ以上であり、より好ましくは３ｍｍ以上である。
長さＬ_Ｂ１は、形成した第１有機層について、精密測長機を用いて測定される。

年輪状のムラをより効果的に抑制する観点及び／又は発光領域１４内のできるだけ広い領域にわたって発光輝度のムラを低減する観点から、第１塗布工程は、第１乾燥工程を経て得られる第１有機層１におけるできるだけ多くの端部がバンク１３上に位置するように実施されることが好ましく、第１有機層１の全ての端部がバンク１３上に位置するように実施されることがより好ましい。

年輪状のムラの抑制及び／又は発光輝度のムラの低減の観点から、第１塗布膜は、第１有機層１の部分（Ｂ）に相当する部分がバンク１３の少なくとも上面に接するように形成されることが好ましい。同様の理由で、第１有機層１と第１電極１２との間に第２有機層等の他の有機層が形成される場合においても、第１塗布膜は、第１有機層１の部分（Ｂ）に相当する部分がバンク１３の少なくとも上面に接するように形成されることが好ましい。

第１乾燥工程は、第１塗布工程によって形成された第１塗布膜を加熱して、第１塗布膜中の有機溶媒を除去する乾燥処理を施すことにより第１有機層１を形成する工程である。
第１乾燥工程は、その開始段階において、第１塗布膜の加熱温度を乾燥雰囲気温度に到達させるための昇温工程を含む。

「第１塗布膜の加熱温度」とは、第１乾燥工程に供されている第１塗布膜の温度をいうが、第１乾燥工程に供されている第１塗布膜を有する基板１１（第１塗布膜を有するバンク付き基板１０の基板１１）の温度をもって、第１乾燥工程に供されている第１塗布膜の温度とみなすこととする。第１乾燥工程に供されている第１塗布膜を有する基板１１の温度と、第１乾燥工程に供されている第１塗布膜の温度とは実質的に同温度である。
「乾燥雰囲気温度」とは、第１塗布膜を有する基板１１（第１塗布膜を有するバンク付き基板１０の基板１１）が第１乾燥工程時に置かれる雰囲気の温度をいう。
乾燥雰囲気温度は、第１乾燥工程全体にわたって、通常は一定又は実質的に一定（例えば±２℃程度の振れはあり得る。）である。

昇温工程において、第１塗布膜の加熱温度が乾燥雰囲気温度の８０％に到達するまでの平均昇温速度は、１℃／秒以上とされる。基板１１上に、少なくともその上面が撥液性を有するバンク１３を設置することによって発光領域１４を規定し、そこに、発光領域１４内に配置される部分（Ａ１）と、バンク１３上に配置される部分（Ｂ１）とを有するように第１有機層１を形成する方法を採用したうえで、上記平均昇温速度を１℃／秒以上とすることにより、第１有機層１に生じる年輪状のムラを効果的に抑制又は解消することができる。
年輪状のムラを効果的に抑制する観点から、上記平均昇温速度は、２℃／秒以上であってもよく、５℃／秒以上であってもよく、１０℃／秒以上であってもよい。

上記平均昇温速度は、通常１５０℃／秒以下であり、好ましくは１００℃／秒以下であり、より好ましくは５０℃／秒以下であり、さらに好ましくは３０℃／秒以下である。
上記平均昇温速度が１５０℃／秒を超えると、第１有機層１の表面が荒れ、これに伴って第１有機層１に厚みムラが生じることがある。

昇温工程（第１乾燥工程）開始時における第１塗布膜の温度（基板１１の温度）は、通常１５℃以上５０℃以下であり、好ましくは１５℃以上４０℃以下であってよい。
第１乾燥工程における乾燥雰囲気温度は、第１有機層形成用の塗布液に含まれる有機溶媒の種類やその沸点にもよるが、通常４０℃以上２００℃以下であり、好ましくは５０℃以上１８０℃以下であり、より好ましくは６０℃以上１５０℃以下である。

第１乾燥工程及びそれに含まれる昇温工程は、第１塗布膜を有する基板１１（第１塗布膜を有するバンク付き基板１０の基板１１）を、大気圧下で加熱する工程であってもよく、減圧下で加熱する工程であってもよい。
加熱方法としては、熱風乾燥炉に投入する方法、ホットプレートで加熱する方法、赤外線ヒータによる加熱、マイクロ波照射による加熱、及びこれらの２以上の組み合わせ等が挙げられる。
第１乾燥工程の時間（加熱開始から終了までの時間）は、通常０．５分以上６０分以下であり、好ましくは１分以上３０分以下である。

（３）第２有機層形成工程
一実施形態において、有機ＥＬデバイスの製造方法は、第１塗布工程の前、すなわち、第１有機層形成工程の前に、第２有機層を形成する工程（第２有機層形成工程）をさらに含んでいてもよい。この場合、バンク付き基板１０の発光領域１４上（バンク１３の開口部）に、有機溶媒を含む第２有機層形成用の塗布液を塗布して第２塗布膜を形成し（第２塗布工程）、次いで第２塗布膜を加熱して乾燥処理を施すことにより（第２乾燥工程）、第２有機層を形成することができる。第２有機層を形成した後、上記に従って第１有機層１が形成される。

第２有機層形成用の塗布液は、例えば、正孔注入材料を含む塗布液、正孔輸送材料を含む塗布液、発光材料を含む塗布液、電子輸送材料を含む塗布液、電子注入材料を含む塗布液等の機能材料を含む塗布液であり得るが、好ましくは、正孔注入材料を含む塗布液又は正孔輸送材料を含む塗布液である。
一実施形態において、第２有機層は正孔注入層又は正孔輸送層であり、第１有機層１は発光層である。第１有機層１と第２有機層とは接していてもよいし、接していなくてもよい。

第２塗布工程、第２乾燥工程の条件及び第２有機層形成用の塗布液等の詳細については、それぞれ、第１塗布工程、第１乾燥工程及び第１有機層形成用の塗布液等についての上記記述が引用される。第２乾燥工程の開始段階における、第２塗布膜の加熱温度を乾燥雰囲気温度に到達させるための昇温工程は、第２塗布膜の加熱温度が乾燥雰囲気温度の８０％に到達するまでの平均昇温速度が必ずしも１℃／秒以上でなくてもよいが、第１有機層１及び第２有機層に生じ得る年輪状のムラを抑制する観点からは、上記平均昇温速度は、１℃／秒以上であることが好ましい。

本発明に係る製造方法によって得られる有機ＥＬデバイスの他の一例におけるバンク周辺を一部拡大して示す概略断面図である図３を参照して、第１有機層１及び第２有機層に生じ得る年輪状のムラをより効果的に抑制する観点並びに／又は発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第２塗布工程は、第２乾燥工程を経て得られる第２有機層２が、発光領域１４内に配置される部分（Ａ２）と、バンク１３の幅Ｗ方向における長さＬ_Ｂ２を有してバンク１３上に配置される部分（Ｂ２）とを有するように実施されることが好ましい。長さＬ_Ｂ２はゼロより大きく、また、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。
長さＬ_Ｂ２の測定方法は、長さＬ_Ｂ１の測定方法と同様である。

第１有機層１及び第２有機層２に生じ得る年輪状のムラをより効果的に抑制する観点並びに／又は発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第１有機層１の部分（Ｂ１）の長さＬ_Ｂ１は、第２有機層２の部分（Ｂ２）の長さＬ_Ｂ２と同じか又はそれよりも大きいことが好ましい。
長さＬ_Ｂ１と長さＬ_Ｂ２との差は、第１有機層１及び第２有機層２に生じ得る年輪状のムラをより効果的に抑制する観点並びに／又は発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、好ましくは０ｍｍ以上１ｍｍ以下である。

第１有機層１及び第２有機層２に生じ得る年輪状のムラをより効果的に抑制する観点並びに／又は発光領域１４内のできるだけ広い領域にわたって発光輝度のムラを低減する観点から、第２塗布工程は、第２乾燥工程を経て得られる第２有機層２におけるできるだけ多くの端部がバンク１３上に位置するように実施されることが好ましく、第２有機層２の全ての端部がバンク１３上に位置するように実施されることがより好ましい。

（４）第３有機層形成工程
一実施形態において、有機ＥＬデバイスの製造方法は、第３有機層を形成する工程（第３有機層形成工程）、あるいはこれに加えてさらなる有機層形成工程を含んでいてもよい。
バンク付き基板１０の発光領域１４上（バンク１３の開口部）に、有機溶媒を含む第３有機層形成用の塗布液を塗布して第３塗布膜を形成し（第３塗布工程）、次いで第３塗布膜を加熱して乾燥処理を施すことにより（第３乾燥工程）、第３有機層を形成することができる。

第３有機層の位置は任意である。ただし、本明細書において第２有機層２は、第３有機層よりも下（基板１１側）に配置されるものとする。
例えば、第３有機層の位置は、第２有機層２と第１有機層１との間、又は、第１有機層１の上（基板１１とは反対側）であってよい。
第３有機層形成用の塗布液は、例えば、正孔注入材料を含む塗布液、正孔輸送材料を含む塗布液、発光材料を含む塗布液、電子輸送材料を含む塗布液、電子注入材料を含む塗布液等の機能材料を含む塗布液であり得るが、好ましくは、正孔輸送材料を含む塗布液又は電子輸送材料を含む塗布液である。
一実施形態において、第２有機層は正孔注入層であり、第３有機層は正孔輸送層であり、第１有機層１は発光層である。

第３塗布工程、第３乾燥工程の条件及び第３有機層形成用の塗布液等の詳細については、それぞれ、第１塗布工程、第１乾燥工程及び第１有機層形成用の塗布液等についての上記記述が引用される。第３乾燥工程の開始段階における、第３塗布膜の加熱温度を乾燥雰囲気温度に到達させるための昇温工程は、第３塗布膜の加熱温度が乾燥雰囲気温度の８０％に到達するまでの平均昇温速度が必ずしも１℃／秒以上でなくてもよいが、第１有機層１（第３有機層が第１有機層１の下に配置される場合）及び第３有機層に生じ得る年輪状のムラを抑制する観点からは、上記平均昇温速度は、１℃／秒以上であることが好ましい。

第１有機層１（第３有機層が第１有機層１の下に配置される場合）及び第３有機層に生じ得る年輪状のムラを抑制する観点並びに／又は発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第３塗布工程は、第３乾燥工程を経て得られる第３有機層が、発光領域１４内に配置される部分（Ａ３）と、バンク１３の幅Ｗ方向における長さＬ_Ｂ３を有してバンク１３上に配置される部分（Ｂ３）とを有するように実施されることが好ましい。長さＬ_Ｂ３はゼロより大きく、また、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。
長さＬ_Ｂ３の測定方法は、長さＬ_Ｂ１の測定方法と同様である。

発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第３有機層の部分（Ｂ３）の長さＬ_Ｂ３は、第２有機層２の部分（Ｂ２）の長さＬ_Ｂ２と同じか又はそれよりも大きいことが好ましい。長さＬ_Ｂ３と長さＬ_Ｂ２との差は、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、好ましくは０ｍｍ以上１ｍｍ以下である。
同様の観点から、第３有機層が第１有機層１の下に配置される場合、第１有機層１の部分（Ｂ１）の長さＬ_Ｂ１は、第３有機層の部分（Ｂ３）の長さＬ_Ｂ３と同じか又はそれよりも大きいことが好ましい。長さＬ_Ｂ１と長さＬ_Ｂ３との差は、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、好ましくは０ｍｍ以上１ｍｍ以下である。
同様の観点から、第３有機層が第１有機層１の上に配置される場合、第３有機層の部分（Ｂ３）の長さＬ_Ｂ３は、第１有機層１の部分（Ｂ１）の長さＬ_Ｂ１と同程度であることが好ましい。長さＬ_Ｂ３と長さＬ_Ｂ１との差は、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、好ましくは０ｍｍ以上０．５ｍｍ以下である。

第１有機層１（第３有機層が第１有機層１の下に配置される場合）及び第３有機層に生じ得る年輪状のムラを抑制する観点並びに／又は発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第３塗布工程は、第３乾燥工程を経て得られる第３有機層におけるできるだけ多くの端部がバンク１３上に位置するように実施されることが好ましく、第３有機層の全ての端部がバンク１３上に位置するように実施されることがより好ましい。

所望の１又は２以上の有機層を形成した後、第２電極（例えば、陰極）を形成する工程を実施することにより有機ＥＬデバイスを得ることができる。第２電極の形成方法としては、例えば、第１電極１２の場合と同様の蒸着法及び塗布法が挙げられる。

以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。

下記項目についての測定方法は次のとおりである。
〔ａ〕バンク上面及び側面の接触角
第１有機層形成用の塗布液に対するバンク１３上面及び側面の接触角は、「オートディスペンサシステム ＡＤ−３１Ｓ」（協和界面科学（株）製）を用いて、温度２３℃の環境下で測定した。

〔ｂ〕膜厚及び層部分の長さ
第１有機層の部分（Ａ１）における中心膜厚は、作製した有機ＥＬデバイスを注意深く切断することによって露出した断面について、走査型透過電子顕微鏡を用いて画像を取得し、この画像から任意で選択した１点について測定した。中心膜厚とは、部分（Ａ１）の中心点での膜厚をいう。
第１有機層１のバンク１３の幅Ｗ方向における長さＬ_Ｂ１は、第１塗布膜乾燥後に精密測長機を用いて測定した。Ｌ_Ｂ２、Ｌ_Ｂ３についても同様の方法で測定した。下記の例に示されるＬ_Ｂ１、Ｌ_Ｂ２及びＬ_Ｂ３の値は、正方形形状に形成された有機層の各辺の中心位置での測定値の平均（４点の平均）である。

＜実施例１＞
図１に示される構成のバンク付き基板１０を用意した。
基板１１の外形形状は、１辺の長さが約５０ｍｍの正方形であった。基板１１の材質はガラスである。
バンク１３の外形形状は１辺の長さが約３４ｍｍの正方形であり、バンク１３の開口形状は１辺の長さが約２２ｍｍの正方形であり、バンク１３の幅Ｗは約６ｍｍであった。バンク１３は、撥液剤を含有する感光性樹脂組成物を硬化させてなる層（単層構造）であり、該層を形成後、表面（上面及び側面）をＵＶオゾン処理することによって、第１有機層形成用の塗布液に対するバンク１３上面及び側面の接触角を約３０度程度まで低下させた。
バンク１３は、第１電極１２（陽極）の周縁部の一部の直上に配置されるように位置合わせされている。

上記バンク付き基板１０の発光領域１４（バンク１３の開口部）に、次の手順で第１有機層１（発光層）を形成した。
発光材料を含有する第１有機層形成用の塗布液を用意した。発光材料には、白色発光材料を用いた。塗布液に含まれる有機溶媒としては、シクロヘキシルベンゼンと４−メチルアニソールとの混合溶媒を用いた。回転粘度計を用いて測定した２５℃における塗布液の粘度は、２ｍＰａ・ｓであった。

この塗布液を用いてインクジェット印刷法により発光領域１４に第１塗布膜を形成した。引き続き、第１塗布膜を有するバンク付き基板１０を搬送しながら赤外線ヒータ加熱式の乾燥炉に導入する乾燥工程を行い、第１塗布膜を乾燥させて第１有機層１（発光層）を形成した。第１塗布膜を有するバンク付き基板１０の搬送速度は２ｍ／分、乾燥炉内の乾燥雰囲気温度は１００℃とした。乾燥時間は、４分とした。

乾燥工程の開始段階における昇温工程の基板の温度プロファイルを図４に示す。この温度プロファイルから求められる、第１塗布膜の加熱温度が乾燥雰囲気温度の８０％に到達するまでの平均昇温速度は１．０℃／秒であった。昇温工程（第１乾燥工程）開始時における第１塗布膜の温度は２３℃であった。図４における縦軸である温度は、乾燥工程に供されている第１塗布膜の温度（乾燥工程に供されている第１塗布膜を有するバンク付き基板１０の基板１１の温度）である。

得られた第１有機層１は、その全ての端部がバンク１３上に位置していた。すなわち、第１有機層１は、そのすべての端部について、バンク１３上に配置される部分（Ｂ１）を有していた。得られた第１有機層１の発光領域１４内に配置された部分（Ａ１）の中心膜厚は７５ｎｍであり、部分（Ｂ１）の長さＬ_Ｂ１は３ｍｍであった。上述のとおり、このＬ_Ｂ１の値は、正方形形状に形成された第１有機層の各辺の中心位置での測定値の平均（４点の平均）である。第１有機層は、バンク１３の全周にわたって形成された部分（Ｂ１）のいずれの位置においても、上記平均とほぼ同等の長さを有していた。

第１有機層１に対して紫外線を照射することによって第１有機層１を発光させ、年輪状のムラの有無を目視で確認したところ、年輪状のムラは確認されなかった。

＜比較例１＞
昇温工程において、第１塗布膜の加熱温度が乾燥雰囲気温度の８０％に到達するまでの平均昇温速度を０．６℃／秒としたこと以外は実施例１と同様にして第１有機層１を形成し、年輪状のムラの有無を確認した。発光領域にて確認された年輪状のムラの状態を図５に示す。図５に示されるとおり、年輪状のムラが明確に認められた。
乾燥工程の開始段階における昇温工程の基板の温度プロファイルを図４に示す。昇温工程（第１乾燥工程）開始時における第１塗布膜の温度は２３℃であった。

＜実施例２＞
乾燥工程のために乾燥炉の代わりにホットプレートを用い、乾燥雰囲気温度を４０℃としたこと、乾燥時間を２０分としたこと以外は実施例１と同様にして第１有機層１を形成し、年輪状のムラの有無を確認した（第１塗布膜の加熱温度が乾燥雰囲気温度の８０％に到達するまでの平均昇温速度は１．０℃／秒）。年輪状のムラは確認されなかった。

＜実施例３＞
乾燥雰囲気温度を８０℃としたこと、第１塗布膜の加熱温度が乾燥雰囲気温度の８０％に到達するまでの平均昇温速度を８．７℃／秒としたこと以外は実施例２と同様にして第１有機層１を形成し、年輪状のムラの有無を確認した。年輪状のムラは確認されなかった。

＜比較例２＞
発光領域１４を取り囲むバンク１３を設けなかったこと以外は実施例２と同様にして有機ＥＬデバイスを作製し、年輪状のムラの有無を確認した。年輪状のムラが明確に認められた。

＜比較例３＞
発光領域１４を取り囲むバンク１３を設けなかったこと以外は実施例３と同様にして有機ＥＬデバイスを作製し、年輪状のムラの有無を確認した。年輪状のムラが明確に認められた。

＜実施例４＞
実施例１で用いたものと同じバンク付き基板１０を用意した。
上記バンク付き基板１０の発光領域１４（バンク１３の開口部）に、次の手順で第２有機層（正孔注入層）、第３有機層（正孔輸送層）及び第１有機層（発光層）をこの順に形成した。
正孔注入材料を含有する第２有機層形成用の塗布液を用意した。この塗布液を用いてインクジェット印刷法により発光領域１４に第２塗布膜を形成し、次いで第２塗布膜をホットプレートで乾燥させることによって第２有機層を形成した。第２有機層は、その全ての端部がバンク１３上に位置していた。
次に、正孔輸送材料を含有する第３有機層形成用の塗布液を用意し、この塗布液を用いてインクジェット印刷法により第２有機層上に第３塗布膜を形成し、次いで第３塗布膜をホットプレートで乾燥させることによって第３有機層を形成した。第３有機層は、その全ての端部がバンク１３上に位置していた。
次に、実施例１で用いたものと同じ第１有機層形成用の塗布液を用意し、実施例１と同じ条件で、第３有機層上に第１塗布膜を形成した後に乾燥工程を実施して、第１有機層を形成した。

第２有機層の部分（Ｂ２）の長さＬ_Ｂ２及び第３有機層の部分（Ｂ３）の長さＬ_Ｂ３は、第１有機層の部分（Ａ１）の長さＬ_Ｂ１と同じ３ｍｍとした。上述のとおり、これらのＬ_Ｂ１、Ｌ_Ｂ２及びＬ_Ｂ３の値は、それぞれ、正方形形状に形成された第１有機層、第２有機層及び第３有機層の各辺の中心位置での測定値の平均（４点の平均）である。第１有機層は、バンク１３の全周にわたって形成された部分（Ｂ１）のいずれの位置においても、上記平均とほぼ同等の長さを有していた。同様に、第２有機層は、バンク１３の全周にわたって形成された部分（Ｂ２）のいずれの位置においても、上記平均とほぼ同等の長さを有しており、第３有機層は、バンク１３の全周にわたって形成された部分（Ｂ３）のいずれの位置においても、上記平均とほぼ同等の長さを有していた。
第１塗布膜、第２塗布膜、及び第３塗布膜の加熱温度が乾燥雰囲気温度の８０％に到達するまでの平均昇温速度は、１．０℃／秒とした。

第１有機層上に、電子輸送層及び第２電極（陰極）を形成して、有機ＥＬデバイスを得た。
有機ＥＬデバイスに電流を印加して発光領域を発光させ、年輪状のムラの有無を目視で確認したところ、年輪状のムラは確認されなかった。

１ 第１有機層、２ 第２有機層、１０ バンク付き基板、１１ 基板、１２ 第１電極、１３ バンク、１４ 発光領域。

Claims (6)

1. 発光領域を有する有機ＥＬデバイスの製造方法であって、
   前記有機ＥＬデバイスは、基板と、前記基板に設けられており前記発光領域を規定するための厚み及び幅を有するバンクとを備え、
   前記バンクは、少なくとも上面が撥液性を有し、
   前記発光領域は、その面積が１ｍｍ^２以上であり、
   前記製造方法は、
   前記発光領域上に、有機溶媒を含む塗布液を塗布して第１塗布膜を形成する塗布工程と、
   前記第１塗布膜を加熱して第１有機層を形成する乾燥工程と、
   を含み、
   前記第１塗布膜を形成する塗布工程は、前記第１有機層が、前記発光領域内に配置される部分（Ａ１）と、前記バンクの幅方向における長さＬ_Ｂ１を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ１）とを有するように実施され、
   前記乾燥工程は、その開始段階において、前記第１塗布膜の加熱温度を乾燥雰囲気温度に到達させるための昇温工程を含み、
   前記昇温工程において、前記加熱温度が前記乾燥雰囲気温度の８０％に到達するまでの平均昇温速度が１℃／秒以上である、有機ＥＬデバイスの製造方法。
2. 前記塗布工程は、前記第１有機層の全ての端部が前記バンク上に位置するように実施される、請求項１に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
3. 前記塗布工程の前に、第２有機層を形成する工程をさらに含む、請求項１又は２に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
4. 第２有機層を形成する工程は、前記第２有機層が、前記発光領域内に配置される部分（Ａ２）と、前記バンクの幅方向における長さＬ_Ｂ２を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ２）とを有するように実施される、請求項３に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
5. 前記Ｌ_Ｂ１が前記Ｌ_Ｂ２と同じか又はそれよりも大きい、請求項４に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
6. 前記第１有機層が発光層である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。