JP2021004769A - 基板の検査装置、基板の検査方法 - Google Patents
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Abstract
Description
基板を設置する基板用ステージと、
前記基板用ステージ上に設置した基板の第1の表面に対して線状の光を照射する光源と、
前記基板の前記第1の表面と反対側に位置する第2の表面のうち、前記光源から照射された線状の光を透過した領域である明領域を撮像する撮像手段と、
前記明領域の位置を変化させる明領域位置制御手段と、
前記撮像手段により得られた画像を処理する画像処理手段と、を有する基板の検査装置を提供する。
[基板の検査装置]
本発明の発明者らは、基板表面の凹凸を検出することが可能な基板の検査装置について鋭意検討を行った。検討を行う中で、基板の一方の表面である第1の表面に、光源から線状の光を照射した場合に、基板の第1の表面と反対側に位置する第2の表面のうち、光源から照射された線状の光を透過した明領域において、基板表面の凹凸のコントラストが高まることに着目した。そして、基板表面のうちの、上記明領域を撮像(撮影)する操作を、明領域の位置を変化させながら繰り返し実施し、得られた画像をつなぎ合わせることで、基板表面の凹凸を明確にした画像が得られることを見出し、本発明を完成させた。
(基板用ステージ)
基板用ステージ11は、検査を行う基板を設置できるステージであれば良く、その構成は特に限定されない。
(光源)
光源12は、基板用ステージ11上に設置した基板17の第1の表面17Aに対して線状の光を照射できるように構成されていればよく、光源の種類等の具体的な構成については特に限定されない。
(撮像手段)
撮像手段13は、基板17の第1の表面17Aの反対側に位置する第2の表面17Bのうち、光源12から照射された線状の光を透過した領域である明領域を撮像することができる。
(明領域位置制御手段)
既述の様に、本実施形態の基板の検査装置では、基板の第2の表面のうち、明領域を撮像手段13により撮像することができる。そして、明領域の位置を変化させながら、明領域を撮像することを、得られた明領域の画像をつなぎ合わせた場合に検査を行う部分の画像、例えば基板の第2の表面全体の画像が得られるまで繰り返し実施することが好ましい。
(画像処理手段)
画像処理手段15は、撮像手段13で撮像した画像を処理することができる。
[基板の検査方法]
次に、本実施形態の基板の検査方法について説明する。なお、本実施形態の基板の検査方法は、既述の基板の検査装置を用いて好適に実施することができる。このため、既に説明した事項については一部説明を省略する。
基板の第1の表面と反対側に位置する第2の表面のうち、光源から照射された線状の光を透過した領域である明領域を撮像手段により撮像する撮像工程。
明領域の位置を変化させる明領域位置移動工程。
撮像工程と明領域位置移動工程とを繰り返し実施する繰り返し工程。
撮像工程で得られた画像を処理する画像処理工程。
(光照射工程)
光照射工程では、基板用ステージ上に設置された基板の一方の表面である第1の表面に対して、光源から線状の光を照射することができる。これにより、基板の第1の表面とは反対側に位置する第2の表面に、光源からの線状の光に対応する明領域を形成することができる。
(撮像工程)
撮像工程では、基板用ステージ上に設置した基板の、上記第1の表面と反対側に位置する第2の表面のうち、光源から照射された線状の光を透過した領域である明領域を撮像することができる。撮像工程では、少なくとも明領域を撮像すればよく、明領域の周辺も併せて撮像しても良い。明領域の周囲の領域も併せて撮像した場合、後述する画像処理工程において、目的とする明領域を撮像した画像から切り出すことができる。
(明領域位置移動工程)
明領域位置移動工程では、基板の第1の表面に、光源から照射する線状の光の位置を変化させることができる。これにより、基板の第2の表面に形成される明領域の位置も変化させることができる。例えば既述の様に明領域位置制御手段により光源から照射する線状の光の位置を移動させることができる。
(繰り返し工程)
繰り返し工程では撮像工程および明領域位置移動工程とを繰り返し実施することができる。これにより、光源から照射する線状の光の位置の移動方向に沿って、複数の明領域の画像を取得することができる。
(画像処理工程)
画像処理工程では、撮像工程で得られた画像を処理することができる。
[実施例1]
図1に示した基板の検査装置10を用いて基板表面の検査を行った。以下、各部材について説明する。
11 基板用ステージ
12 光源
13 撮像手段
14 明領域位置制御手段
15 画像処理手段
17 基板
17A 第1の表面
17B 第2の表面
20A、20B 明領域
Claims (9)
- 基板を設置する基板用ステージと、
前記基板用ステージ上に設置した基板の第1の表面に対して線状の光を照射する光源と、
前記基板の前記第1の表面と反対側に位置する第2の表面のうち、前記光源から照射された線状の光を透過した領域である明領域を撮像する撮像手段と、
前記明領域の位置を変化させる明領域位置制御手段と、
前記撮像手段により得られた画像を処理する画像処理手段と、を有する基板の検査装置。 - 前記撮像手段がラインスキャンカメラである請求項1に記載の基板の検査装置。
- 前記基板を水平にする傾き補正手段をさらに有する請求項1または請求項2に記載の基板の検査装置。
- 前記光源は、互いに平行な複数の前記線状の光を、前記基板の前記第1の表面に対して照射することが可能である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の基板の検査装置。
- 基板用ステージ上に設置された基板の第1の表面に対して、光源から線状の光を照射する光照射工程と、
前記基板の前記第1の表面と反対側に位置する第2の表面のうち、前記光源から照射された線状の光を透過した領域である明領域を撮像手段により撮像する撮像工程と、
前記明領域の位置を変化させる明領域位置移動工程と、
前記撮像工程と前記明領域位置移動工程とを繰り返し実施する繰り返し工程と、
前記撮像工程で得られた画像を処理する画像処理工程と、を有する基板の検査方法。 - 前記撮像手段がラインスキャンカメラである請求項5に記載の基板の検査方法。
- 前記基板を水平にする傾き補正工程をさらに有する請求項5または請求項6に記載の基板の検査方法。
- 前記光源は、互いに平行な複数の前記線状の光を、前記基板の前記第1の表面に対して照射することが可能である請求項5〜請求項7のいずれか1項に記載の基板の検査方法。
- 前記光照射工程から前記画像処理工程までを、前記基板の第2の表面全体について実施した後、
前記基板を周方向に沿って180度未満の角度回転させ、前記光照射工程から前記画像処理工程までを再度実施する請求項5〜請求項8のいずれか1項に記載の基板の検査方法。
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