JP2021002295A - 異常検知装置、異常検知システム、及び異常検知方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】量産開始前に自動で異常検知を可能とすること、及び量産開始初期における異常検知の精度を向上させることを目的とする。【解決手段】製造ラインに含まれる加工装置の加工時の状態に関連する計測パラメータについて計測した計測データに基づいて異常を検知する異常検知装置であって、第1加工条件で製造された複数の既存製品に対する複数の計測データと、前記第1加工条件とは異なる第2加工条件で製造された1つの試作品に対する計測データとに基づき、前記第2加工条件で製品を量産した際に得られると想定される複数の計測データを推定する量産時計測データ推定部と、前記量産時計測データ推定部により推定された複数の計測データに基づいて異常検知モデルを生成する異常検知モデル生成部と、前記第2加工条件で製品を量産した際に得られる計測データと、前記異常検知モデルとに基づいて、前記加工装置の異常を検知する異常検知実行部と、を有することを特徴とする異常検知装置。【選択図】図3

Description

本発明は、異常検知装置、異常検知システム、及び異常検知方法に関する。
従来、半導体製品等を製造する製造ラインには複数の工程が存在し、各工程には被加工物(例えば、半導体ウェハ)に対して加工を行う加工装置が設置されている。例えば、エッチング工程には、加工装置としてプラズマエッチング装置が設置される。
製品の品質管理を行うためには、加工装置による加工の直後に、被加工物に対してなされた加工量(例えば、エッチング量)が所定の範囲内であるか否かを検査することが理想的であるが、加工直後にそのような検査を行うことは難しい。
そこで、被加工物の加工条件(プロセスレシピ)に関連する加工装置の加工時の状態(温度、圧力等)を監視することによって製品の品質管理を行うことが知られている(例えば、特許文献1参照)。具体的には、加工装置に、当該加工装置の状態を計測する状態計測器を組み込み、状態計測器により測定される種々の計測データに基づいて加工装置の異常を検知することが知られている。
また、加工装置の異常検知においては、計測データが正常であるか否かを識別するための閾値を設定する必要がある。この計測データは、加工装置の設置場所や周辺環境、及び加工条件に依存する。このため、異常検知においては、加工装置及び加工条件ごとに正常に加工された複数の被加工物の加工時における計測データを取得し、計測データのばらつき度合から閾値を設定する必要がある(例えば、特許文献2参照)。
特開2006−173373号公報 特開2018−41217号公報
しかしながら、特許文献2に記載の方法では、閾値を設定するためには複数の被加工物の加工時における計測データを取得する必要がある。このように、加工装置を新規に導入した直後や加工条件を変更した直後は、当該加工装置や当該加工条件で加工された複数の被加工物に対する計測データが存在しないことから、人が手動で閾値を設定する必要があるので、閾値が適切な値に設定されず、異常検知の精度が低下する可能性がある。また、製造ラインにおける加工装置の数や、製造する製品の数に比例して、異常検知の対象が増加することにより、人が手動で閾値の設定を行うことが現実的ではなくなる可能性がある。
このため、新規の加工装置や既存の製品とは異なる加工条件で製品の量産を開始する場合、量産開始初期には、異常検知の精度が低いことや、閾値が設定されていないことにより、加工装置の異常が検知されずに見過ごされてしまうことや、過剰に異常が検知されてしまう可能性がある。
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、量産開始前に自動で異常検知を可能とすること、及び量産開始初期における異常検知の精度を向上させることを目的とする。
開示の技術は、製造ラインに含まれる加工装置の加工時の状態に関連する計測パラメータについて計測した計測データに基づいて異常を検知する異常検知装置であって、第1加工条件で製造された複数の既存製品に対する複数の計測データと、前記第1加工条件とは異なる第2加工条件で製造された1つの試作品に対する計測データとに基づき、前記第2加工条件で製品を量産した際に得られると想定される複数の計測データを推定する量産時計測データ推定部と、前記量産時計測データ推定部により推定された複数の計測データに基づいて異常検知モデルを生成する異常検知モデル生成部と、前記第2加工条件で製品を量産した際に得られる計測データと、前記異常検知モデルとに基づいて、前記加工装置の異常を検知する異常検知実行部と、を有することを特徴とする異常検知装置である。
本発明によれば、量産開始前に自動で異常検知を可能とすること、及び量産開始初期の異常検知の精度を向上させることができる。
異常検知システムの概略構成の一例を示す図である。 異常検知システムを構成するコンピュータのハードウェア構成の一例を示す図である。 異常検知装置の機能構成の一例を示す図である。 計測データを例示する図である。 量産時計測データ推定部による量産時計測データの推定方法について説明する図である。 量産時計測データ推定部による量産時計測データの推定方法について説明する図である。 異常検知モデル生成部により生成される異常検知モデルを例示する図である。 異常検知装置の処理の流れを示すフローチャートである。 モデル生成処理の流れを示すフローチャートである。 異常判定処理の流れを示すフローチャートである。 異常検知に対する計測パラメータの寄与度の提示例を示す図である。 工程品質寄与度算出装置の機能構成の一例を示す図である。 品質に対する加工工程の寄与度の提示例を示す図である。
以下、本発明の一実施形態について、添付の図面を参照しながら説明する。なお、各実施形態に係る明細書及び図面の記載に関して、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重畳した説明を省略する。
本実施形態に係る異常検知システム1は、製造ラインを構成する各加工工程に設けられた加工装置の異常を検知し、製品の品質に対する各加工工程の寄与度を算出するシステムである。
まず、異常検知システム1の概略構成について説明する。図1は、異常検知システム1の概略構成の一例を示す図である。異常検知システム1は、製造ライン2に適用されている。製造ライン2は、複数の加工工程を含み、各加工工程には加工装置20が設けられている。また、製造ライン2は、最終の工程として検査工程を含み、検査工程には検査装置30が設けられている。例えば、製造ライン2は、各加工工程において、被加工物Wとしての半導体ウェハに加工を施す半導体製造ラインである。
加工装置20は、被加工物Wに対して、加工条件に基づいて加工を施す装置である。加工工程ごとに同一又は異なる種類の加工装置20が設けられている。加工装置20として、例えば、エッチング装置、露光装置、拡散炉、イオン注入装置等が挙げられる。被加工物Wは、加工工程1、加工工程2、・・・加工工程p(pは2以上の整数)の順番に加工が行われる。
各加工装置20は、加工条件設定部21と、状態計測部22とを有する。加工条件設定部21は、加工装置20が被加工物Wを加工するための加工条件を設定可能とする。例えば、加工装置20がエッチング装置である場合には、加工条件として、温度、圧力、エッチング時間などが含まれる。
状態計測部22は、加工装置20が被加工物Wを加工している際における加工装置20の状態を計測する計測装置である。状態計測部22が計測により取得する計測データは、加工条件に依存するデータである。状態計測部22には、加工装置20の状態に関連する各種の計測パラメータを計測する複数のセンサが含まれる。例えば、計測パラメータとして温度を計測する温度センサ、計測パラメータとして圧力を計測する圧力センサ、計測パラメータとして振動を計測する加速度センサなどが含まれる。状態計測部22は、加工装置20の加工時の状態を表す計測データを異常検知システム1に対して出力する。
検査装置30は、加工工程1〜pによる加工が終了した被加工物Wの品質を検査する検査装置である。例えば、検査装置30は、被加工物Wとしての半導体ウェハに形成された製品の各種電気的特性を測定する半導体テスタである。検査装置30は、製品の品質を表す品質データを異常検知システム1に対して出力する。
異常検知システム1は、製造ライン2に含まれる各加工装置20と、有線又は無線のネットワークを介して接続されている。異常検知システム1は、異常検知装置200と、工程品質寄与度算出装置300とを有する。異常検知装置200と工程品質寄与度算出装置300とは、PC(Personal Computer)やサーバ等のコンピュータにより構成されている。
次に、異常検知システム1のハードウェア構成について説明する。図2は、異常検知システム1を構成するコンピュータ100のハードウェア構成の一例を示す図である。
異常検知システム1に含まれる異常検知装置200及び工程品質寄与度算出装置300は、それぞれ別々のコンピュータ100により構成されていてもよいし、1つのコンピュータ100により構成されていてもよい。
コンピュータ100は、CPU(Central Processing Unit)101と、ROM(Read Only Memory)102と、RAM(Random Access Memory)103と、HDD(Hard Disk Drive)104と、入力装置105と、表示装置106と、通信インタフェース107と、接続インタフェース108と、バス109と、を備える。
CPU101は、プログラムを実行することにより、各部を制御し、異常検知システム1の機能を実現する。CPU101が実行するプログラムは、CD(Compact Disk)、DVD、フラッシュメモリなどの、コンピュータ読み取り可能な任意の記録媒体に記録され得る。
ROM102は、CPU101が実行するプログラムや各種のデータを記憶する。RAM103は、CPU101に作業領域を提供する。HDD104は、CPU101が実行するプログラムや各種のデータを記憶する。コンピュータ100は、HDD104と共に、又はHDD104の代わりにSSD(Solid State Drive)を備えてもよい。
入力装置105は、ユーザの操作に応じた情報を装置内に入力する。入力装置105は、タッチパッド、キーボード、マウス、又はハードウェアボタンであるが、これに限られない。
表示装置106は、ユーザの操作に応じた画面を表示する。表示装置106は、液晶ディスプレイ又は有機EL(Electro Luminescence)ディスプレイであるが、これに限られない。コンピュータ100は、タッチパッドと表示装置106が一体化されたタッチパネルを備えてもよい。
通信インタフェース107は、コンピュータ100をインターネットやLAN(Local Area Network)などのネットワークに接続する。異常検知システム1は、通信インタフェース107を介して、ネットワーク上の外部装置と通信する。接続インタフェース108は、異常検知システム1と製造ライン2とを接続する。
バス109は、CPU101、ROM102、RAM103、HDD104、入力装置105、表示装置106、通信インタフェース107、及び接続インタフェース108を相互に接続する。
次に、異常検知装置200の機能構成について説明する。図3は、異常検知装置200の機能構成の一例を示す図である。
異常検知装置200は、既存製品計測データ記憶部201と、計測データ取得部202と、試作時計測データ記憶部203と、量産時計測データ記憶部204と、量産時計測データ推定部205と、異常検知モデル生成部206と、異常検知モデル記憶部207と、異常検知実行部208と、回帰モデル生成部(第1回帰モデル生成部)210と、回帰モデル記憶部211と、寄与度算出部(第1寄与度算出部)212と、出力部(第1出力部)213と、モデル更新トリガー部214とを有する。異常検知実行部208には、異常度算出部209aと、判定部209bとが含まれる。
量産時計測データ推定部205、異常検知モデル生成部206、異常検知実行部208、回帰モデル生成部210、及び寄与度算出部212は、CPU101がプログラムを実行することにより実現される。
異常検知装置200は、加工工程ごと(加工装置20ごと)に処理を行うので、以下では1つの加工工程における異常検知装置200の処理について説明する。
既存製品計測データ記憶部201は、既存製品に対して取得された複数の計測データ(既存製品計測データ)を記憶する。既存製品とは、所定の加工条件(第1加工条件)に基づいて製造ライン2で加工された複数の被加工物Wにより製造される製品である。ここで、既存製品とは、例えば、1ロット(25枚)分の半導体ウェハであり、各半導体ウェハの加工時に取得された計測データが既存製品計測データ記憶部201に記憶されている。
計測データ取得部202は、試作品又は量産品が加工装置20で加工される際における計測データを各加工装置20の状態計測部22から取得する。ここで、試作品とは、既存製品とは異なる加工条件(第2加工条件)で新たな製品を製造する際に、試作用として製造ライン2で加工される被加工物W(例えば、1枚の半導体ウェハ)を意味する。量産品とは、試作品の製造後に、試作品と同一の加工条件で加工される複数の被加工物W(例えば、1ロット分の半導体ウェハ)を意味する。
試作時計測データ記憶部203は、試作品が加工装置20で加工される際に状態計測部22により計測された計測データ(試作時計測データ)を記憶する。例えば、試作時計測データ記憶部203には、1枚の半導体ウェハが試作品として加工される際における加工時の計測データが記憶される。
量産時計測データ記憶部204は、量産品が加工装置20で加工される際に状態計測部22により計測された計測データ(量産時計測データ)を記憶する。例えば、量産時計測データ記憶部204には、単位数量N(例えばN=25)枚分の半導体ウェハが量産品として加工された際における加工時の計測データが記憶される。
図4は、計測データを例示する図である。図4(A)は、既存製品計測データ記憶部201に記憶された「既存製品計測データ」を例示している。図4(B)は、試作時計測データ記憶部203に記憶された「試作時計測データ」を例示している。
既存製品計測データは、温度、圧力、及び振動の計測値X〜Xを含み、これらの計測データをNセット有する。試作時計測データは、温度、圧力、及び振動の計測値X〜Xを含む。試作時計測データは、1セットのみである。
量産時計測データは、既存製品計測データと同様であり、温度、圧力、及び振動の計測値X〜Xを含み、Nセットの計測データを有する。
図3に戻り、量産時計測データ推定部205は、既存製品計測データ記憶部201に記憶された既存製品計測データ(Nセット)と、試作時計測データ記憶部203に記憶された試作時計測データ(1セット)とに基づき、第2加工条件で製品を量産した際に得られると想定される計測データ(量産時計測データ)を推定する。例えば、量産時計測データ推定部205は、既存製品計測データを平均化した平均化データと、試作時計測データとの差異を求め、この差異に基づいて既存製品計測データ(Nセット)のそれぞれを補正することにより、第2加工条件で製品を量産した場合における量産時計測データ(Nセット)を推定する。
図5及び図6は、量産時計測データ推定部205による量産時計測データの推定方法について説明する図である。図5及び図6に示すように、計測データは、計測値の時間変動を含む波形データである。なお、図5及び図6では、複数の計測パラメータ(温度、圧力、振動)のうち、1つの計測パラメータの波形データのみを示している。波形データは、加工条件に含まれる処理時間に応じたデータ長(期間)を有する。
図5(A)に示すように、まず、量産時計測データ推定部205は、既存製品計測データ記憶部201から既存製品計測データ(Nセット)を読み出し、計測値を平均化することにより、平均化データを生成する。ここで、既存製品計測データ及び平均化データは同一のデータ長T1を有する。
次に、量産時計測データ推定部205は、試作時計測データ記憶部203から試作時計測データを読み出す。試作時計測データは、既存製品計測データとは加工条件が異なることにより、処理時間が異なり、データ長が異なることがある。図5(B)に示すように、試作時計測データのデータ長をT2とする。同図では、T2<T1の場合を例示している。
量産時計測データ推定部205は、動的時間伸縮法を用いることにより、図5(B)に示すように、平均化データと試作時計測データとのワーピングパス(warping path)を求める。そして、図5(C)に示すように、量産時計測データ推定部205は、求めたワーピングパスに基づいて、データ長が等しくなるように、平均化データの時系列を伸縮させることにより、波形同士を位置合わせ(マッチング処理)する。具体的には、量産時計測データ推定部205は、ワーピングパスにより結びついている点同士が同一の時間となるように平均化データの時系列を伸縮させる。
次に、量産時計測データ推定部205は、位置合わせされた平均化データと試作時計測データとのオフセット値を求める。具体的には、量産時計測データ推定部205は、図6(A)に示すように、各時間におけるデータ間の差異(オフセット値)を求める。このオフセット値は、加工条件の差異により生じる値に相当する。
そして、量産時計測データ推定部205は、図6(B)に示すように、既存製品計測データに含まれる各波形データに対して、図5(B)及び図5(C)で示した動的時間伸縮法による位置合わせを行い、上記オフセット値に基づくオフセット補正を行う。これにより、試作時計測データと同一のデータ長T2を有し、加工条件の差異によるオフセットが補正された量産時計測データ(Nセット)が生成される。
図3に戻り、異常検知モデル生成部206は、量産時計測データ推定部205によって推定された量産時計測データと、試作時計測データとを合わせたN+1セット分の計測データに基づいて、量産時に加工装置20の異常を検知するための異常検知モデルを自動的に生成する。具体的には、異常検知モデル生成部206は、アイソレーションフォレスト(Isolation Forest)などの機械学習アルゴリズムにより、異常検知モデルを算出する。
異常検知モデル記憶部207は、異常検知モデル生成部206により生成された異常検知モデルを記憶する。
図7は、異常検知モデル生成部206により生成される異常検知モデルを例示する図である。図7は、温度及び圧力をパラメータとした2次元空間で異常検知モデルを示している。異常検知モデルは、計測データの入力に対して異常度(例えば、平均からの離れ度合い)を出力する関数として表される。なお、計測パラメータが3種以上である場合には、異常検知モデルは3次元以上の関数で表される。
なお、異常検知モデル生成部206は、アイソレーションフォレストに限られず、異常度を出力する関数を求めることが可能であれば、いずれの方法により異常検知モデルを生成してもよい。
また、異常検知モデル生成部206は、量産時計測データ推定部205によって推定された量産時計測データに限られず、量産時に量産時計測データ記憶部204に記憶された量産時計測データに基づいて異常検知モデルを生成することを可能とする。
異常検知モデル生成部206は、モデル更新トリガー部214から任意のタイミングでトリガー信号を受け付けることができる。モデル更新トリガー部214は、異常検知モデル生成部206に対して、トリガー信号を出力することにより、異常検知モデルの生成に用いる計測データを、量産時計測データ推定部205によって推定された量産時計測データから量産時計測データ記憶部204に記憶された量産時計測データに切り替えることと、異常検知モデルの生成に用いる量産時計測データの更新とを実行させる。
モデル更新トリガー部214は、外部からの入力信号に基づいて異常検知モデル生成部206にトリガー信号を送信する。異常検知モデル生成部206は、モデル更新トリガー部214からトリガー信号の入力を受けたタイミングで量産時計測データ記憶部204から量産時計測データを読み出して異常検知モデルを算出し、異常検知モデル記憶部207に書き込む。
図3に戻り、異常検知実行部208に含まれる異常度算出部209aは、異常検知モデル生成部206に記憶された異常検知モデルに基づき、量産時に取得された量産時計測データの異常度を算出する。例えば、異常度算出部209aは、異常検知モデルを表す関数に、量産時計測データを入力することにより、異常度を算出する。異常度算出部209aは、複数の量産時計測データのそれぞれについて異常度を算出する。
判定部209bは、異常度算出部209aにより算出された異常度を所定の閾値と比較して異常の有無を判定する。具体的には、判定部209bは、異常度が閾値より大きい場合には「異常あり」と判定し、その異常度を「外れ値」として、後述する寄与度算出部212、出力部213等へ出力する。また、判定部209bは、異常度が閾値以下である場合には「異常なし」と判定し、その異常度を「正常値」として、寄与度算出部212、出力部213等へ出力する。
回帰モデル生成部210は、量産時計測データ推定部205によって推定された量産時計測データと、試作時計測データとを合わせたN+1セット分の計測データと、異常度算出部209aにより算出されたN+1セット分の計測データの複数の異常度との関係を表す回帰モデルを生成する。例えば、回帰モデル生成部210は、複数の計測パラメータを説明変数とし、異常度を目的変数とし、下式(1)を用いて重回帰分析を行うことにより、回帰モデルを生成する。
α=a+a+a+b ・・・(1)
ここで、a,a,aは、偏回帰係数である。bは、定数項である。
なお、回帰モデル生成部210は、重回帰に限られず、決定木、ランダムフォレストなどの方法により回帰モデルを生成してもよい。
回帰モデル記憶部211は、回帰モデル生成部210により生成された回帰モデルを記憶する。
また、回帰モデル生成部210は、量産時計測データ推定部205によって推定された量産時計測データに限られず、量産時に量産時計測データ記憶部204に記憶された量産時計測データに基づいて回帰モデルを生成することを可能とする。
回帰モデル生成部210は、モデル更新トリガー部214から任意のタイミングでトリガー信号を受け付けることができる。モデル更新トリガー部214は、回帰モデル生成部210に対して、トリガー信号を出力することにより、回帰モデルの生成に用いる計測データを、量産時計測データ推定部205によって推定された量産時計測データから量産時計測データ記憶部204に記憶された量産時計測データに切り替えることと、回帰モデルの生成に用いる量産時計測データの更新とを実行させる。
モデル更新トリガー部214は、外部からの入力信号に基づいて回帰モデル生成部210にトリガー信号を送信する。回帰モデル生成部210は、モデル更新トリガー部214からトリガー信号の入力を受けたタイミングで量産時計測データ記憶部204から量産時計測データを読み出して異常検知モデルを算出し、回帰モデル記憶部211に書き込む。
なお、異常検知モデル生成部206で回帰分析により回帰モデルを生成する場合(例えば、マハラノビス距離や自己回帰モデルなどを異常検知モデルとして使用する場合)には、回帰モデル生成部210の処理を省略し、異常検知モデル生成部206で生成した回帰モデルを回帰モデル記憶部211に格納することが可能である。
寄与度算出部212は、回帰モデル記憶部211に記憶された回帰モデルに基づき、判定部209bにより異常と判定された異常度(目的変数)に対する各計測パラメータ(説明変数)の寄与度を算出する。具体的には、寄与度算出部212は、正常データ記憶部212aを有しており、異常検知実行部208により異常が検知されなかった、すなわち判定部209bにより異常度が「正常値」であると判定された場合に、量産時計測データを正常データとして記憶する。そして、寄与度算出部212は、異常検知実行部208により異常が検知された、すなわち判定部209bにより異常度が「外れ値」であると判定された場合に、当該量産時計測データと正常データとの差分を求め、これを上記回帰モデルに適用することにより、説明変数の重要度を寄与度として算出する。
出力部213は、異常検知実行部208により異常が検知されたことを受けて、加工装置20に異常が生じている可能性がある旨を表す信号を表示装置106等へ出力して表示させる。また、出力部213は、寄与度算出部212により寄与度が算出されたことを受けて、異常検知に対する各計測パラメータの寄与度を表す信号を表示装置106等へ出力して表示させる。
次に、異常検知装置200の処理の流れを説明する。図8は、異常検知装置200の処理の流れを示すフローチャートである。
まず、異常検知装置200は、計測データ取得部202により計測データが取得されたか否かを判定する(ステップS10)。計測データ取得部202により計測データが取得されると(ステップS10:YES)、モデル生成処理(ステップS11)及び異常判定処理(ステップS12)が実行される。
異常検知装置200は、モデル生成処理及び異常判定処理が終了すると、外部から終了信号の入力があったか否かを判定する(ステップS13)。終了信号の入力がなかった場合には(ステップS13:NO)、処理をステップS10に戻し、終了信号の入力があった場合には(ステップS13:YES)、処理を終了する。
図9Aは、ステップS11で実行されるモデル生成処理の流れを示すフローチャートである。このモデル生成処理では、まず、異常検知装置200は、計測データ取得部202により取得された計測データが試作時計測データであるか否かを判定する(ステップS20)。取得された計測データが試作時計測データである場合には(ステップS20:YES)、量産時計測データ推定部205は、既存製品計測データ記憶部201から既存製品計測データを取得し(ステップS21)、既存製品計測データと試作時計測データとに基づいて量産時計測データを推定する(ステップS22)。
次に、異常検知モデル生成部206は、量産時計測データ推定部205により推定された量産時計測データと試作時計測データとに基づいて異常検知モデルを生成する(ステップS23)。ここで、異常検知モデル生成部206により生成された異常検知モデルは、異常検知モデル記憶部207に記憶される。
次に、異常検知実行部208が備える異常度算出部209aは、量産時計測データ推定部205により推定された量産時計測データ及び試作時計測データの異常度を、異常検知モデル記憶部207に記憶された異常検知モデルに基づいて算出する(ステップS24)。また、回帰モデル生成部210は、量産時計測データ推定部205により推定された量産時計測データ及び試作時計測データと、異常度算出部209aにより算出された異常度との関係を表す回帰モデルを生成する(ステップS25)。ここで、回帰モデル生成部210により生成された回帰モデルは、回帰モデル記憶部211に記憶される。この後、異常検知装置200は、モデル生成処理を終了して処理を図8のメインフローに戻す。
一方、ステップS20において、計測データ取得部202により取得された計測データが試作時計測データでなく、量産時計測データであると判定された場合には(ステップS20:NO)、モデル更新トリガー部214がトリガー信号を送信し、異常検知モデル生成部206及び回帰モデル生成部210が受信したか否かを判定する(ステップS26)。トリガー信号が受信されていない場合には(ステップS26:NO)、異常検知装置200は、モデル生成処理を終了して処理を図8のメインフローに戻す。
一方、トリガー信号が受信された場合には(ステップS26:YES)、異常検知モデル生成部206は、量産時計測データ記憶部204から量産時計測データを取得し(ステップS27)、取得した量産時計測データに基づいて異常検知モデルを生成する(ステップS23)。ここで、異常検知モデル生成部206により生成された異常検知モデルは、異常検知モデル記憶部207に記憶される。
この後、異常度算出部209aは、量産時計測データの異常度を異常検知モデルに基づいて算出する(ステップS24)。また、回帰モデル生成部210は、量産時計測データと、異常度算出部209aにより算出された異常度との関係を表す回帰モデルを生成する(ステップS25)。ここで、回帰モデル生成部210により生成された回帰モデルは、回帰モデル記憶部211に記憶される。そして、異常検知装置200は、モデル生成処理を終了して処理を図8のメインフローに戻す。
図9Bは、ステップS12で実行される異常判定処理の流れを示すフローチャートである。この異常判定処理では、まず、異常検知装置200は、異常検知モデル生成部206により生成された異常検知モデルが異常検知モデル記憶部207に記憶されているか、すなわち異常検知モデルが存在するか否かを判定する(ステップS30)。異常検知装置200は、異常検知モデルが存在しない場合は(ステップS30:NO)、異常判定処理を終了して処理を図8のメインフローに戻す。
異常検知モデルが存在する場合には(ステップS30:YES)、異常度算出部209aは、ステップS10で取得された計測データの異常度を異常検知モデルに基づいて算出する(ステップS31)。そして、判定部209bは、算出された異常度を閾値と比較することにより、異常であるか否かを判定する(ステップS32)。判定部209bが「異常あり」と判定した場合には(ステップS32:YES)、出力部213により加工装置20に異常が生じている可能性がある旨の報知(異常報知)が行われる(ステップS33)。
判定部209bにより「異常なし」と判定された場合には(ステップS32:NO)、量産時計測データが正常データとして正常データ記憶部212aに記憶される。
そして、寄与度算出部212により、ステップS32で異常と判定された異常度に対する各計測パラメータの寄与度が算出され(ステップS34)、出力部213により寄与度がユーザに対して提示される(ステップS35)。この後、異常検知装置200は、モデル生成処理を終了して処理を図8のメインフローに戻す。
以上の処理は、加工工程1〜pに対してそれぞれ実行される。
図10は、異常検知に対する計測パラメータの寄与度の提示例を示す図である。図10に示すように、出力部213は、表示装置106等に、計測パラメータごとに寄与度を表示させることにより寄与度を提示する。図10では、異常度に対する寄与度が最も大きい計測パラメータが「圧力」であることが示されている。
次に、工程品質寄与度算出装置300の機能構成について説明する。図11は、工程品質寄与度算出装置300の機能構成の一例を示す図である。
工程品質寄与度算出装置300は、品質データ取得部301と、計測データ取得部302と、回帰モデル生成部(第2回帰モデル生成部)303と、回帰モデル記憶部304と、寄与度算出部(第2寄与度算出部)305と、出力部(第2出力部)306とを有する。回帰モデル生成部303及び寄与度算出部305は、CPU101がプログラムを実行することにより実現される。
工程品質寄与度算出装置300は、量産時において、製造ライン2によりN個の被加工物Wが加工されて検査された後、処理を実行する。
品質データ取得部301は、検査装置30から各被加工物Wを検査することにより得られた製品の品質データQを取得する。
計測データ取得部302は、加工工程1〜pの各加工装置20の状態計測部22から量産時計測データを取得する。なお、計測データ取得部302は、量産時計測データを、異常検知装置200内の量産時計測データ記憶部204から取得してもよい。量産時計測データは、複数の計測パラメータのうちの1つの計測パラメータに関するものであってもよいし、複数の計測パラメータの計測データを統合したものであってもよい。以下、加工工程1〜pの量産時計測データをZ〜Zと表す。
回帰モデル生成部303は、品質データQと量産時計測データをZ〜Zとの関係を表す回帰モデルを生成する。例えば、回帰モデル生成部303は、量産時計測データZ〜Zを説明変数とし、品質データQを目的変数とし、下式(2)を用いて重回帰分析を行うことにより、回帰モデルを生成する。
Q=c+c+・・・+c+d ・・・(2)
ここで、c〜cは、偏回帰係数である。dは、定数項である。
なお、回帰モデル生成部303は、重回帰に限られず、決定木、ランダムフォレストなどの方法により回帰モデルを生成してもよい。
回帰モデル記憶部304は、回帰モデル生成部303により生成された回帰モデルを記憶する。
寄与度算出部305は、回帰モデル記憶部304に記憶された回帰モデルに基づき、品質データQ(目的変数)に対する量産時計測データZ〜Z(説明変数)の重要度を寄与度として算出する。
出力部306は、寄与度算出部305により寄与度が算出されたことを受けて、寄与度を表す信号を表示装置106等へ出力して表示させる。
図12は、品質に対する加工工程の寄与度の提示例を示す図である。図12に示すように、出力部306は、表示装置106等に、加工工程ごとに寄与度を表示させることにより寄与度を提示する。図12では、品質に対する寄与度が最も大きい加工工程が「加工工程2」であることが示されている。
以上説明したように、本実施形態によれば、異常検知システム1は、既存製品計測データ(Nセット)と試作時計測データ(1セット)とに基づいて、第2加工条件で製品を量産した際に得られると推定される計測データ(量産時計測データ)を生成し、推定される量産時計測データに基づいて自動的に異常検知モデルを生成するので、人が手動で異常検知に関する設定を行う必要がなく、量産開始初期における異常検知の精度が向上する。
また、本実施形態によれば、異常検知システム1は、異常検知に対する計測パラメータの寄与度を求めてユーザに提示するので、ユーザは、加工装置20の異常が検知された場合に、異常検知に起因する計測パラメータを容易に特定することができる。
また、本実施形態によれば、異常検知システム1は、品質に対する加工工程の寄与度を求めてユーザに提示するので、ユーザは、製品の品質が劣化した場合に、品質に起因する加工工程を容易に特定することができる。
以上、本発明の好ましい実施形態について詳説したが、本発明は、上述した実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなしに上述した実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。
1 異常検知システム
2 製造ライン
20 加工装置
22 状態計測部
30 検査装置
200 異常検知装置
201 既存製品計測データ記憶部
202 計測データ取得部
203 試作時計測データ記憶部
204 量産時計測データ記憶部
205 量産時計測データ推定部
206 異常検知モデル生成部
207 異常検知モデル記憶部
208 異常検知実行部
209a 異常度算出部
209b 判定部
210 回帰モデル生成部(第1回帰モデル生成部)
211 回帰モデル記憶部
212 寄与度算出部(第1寄与度算出部)
213 出力部(第1出力部)
214 モデル更新トリガー部
300 工程品質寄与度算出装置
301 品質データ取得部
302 計測データ取得部
303 回帰モデル生成部(第2回帰モデル生成部)
304 回帰モデル記憶部
305 寄与度算出部(第2寄与度算出部)
306 出力部(第2出力部)

Claims (6)

  1. 製造ラインに含まれる加工装置の加工時の状態に関連する計測パラメータについて計測した計測データに基づいて異常を検知する異常検知装置であって、
    第1加工条件で製造された複数の既存製品に対する複数の計測データと、前記第1加工条件とは異なる第2加工条件で製造された1つの試作品に対する計測データとに基づき、前記第2加工条件で製品を量産した際に得られると想定される複数の計測データを推定する量産時計測データ推定部と、
    前記量産時計測データ推定部により推定された複数の計測データに基づいて異常検知モデルを生成する異常検知モデル生成部と、
    前記第2加工条件で製品を量産した際に得られる計測データと、前記異常検知モデルとに基づいて、前記加工装置の異常を検知する異常検知実行部と、
    を有することを特徴とする異常検知装置。
  2. 計測データは波形データであって、
    前記量産時計測データ推定部は、動的時間伸縮法によるマッチング処理により、前記第2加工条件で製品を量産した際に得られると想定される複数の計測データを推定することを特徴とする請求項1に記載の異常検知装置。
  3. 前記異常検知実行部は、
    前記異常検知モデルに基づいて、前記第2加工条件で製品を量産した際に得られる計測データの異常度を算出する異常度算出部と、
    前記異常度算出部により算出された異常度を所定の閾値と比較して異常の有無を判定する判定部と、
    を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の異常検知装置。
  4. 計測パラメータは複数存在し、
    前記第2加工条件で製品を量産した際に得られる計測データと、前記異常度との関係を表す回帰モデルを生成する第1回帰モデル生成部と、
    前記第1回帰モデル生成部により生成された回帰モデルに基づき、前記異常度に対する前記各計測パラメータの寄与度を算出する第1寄与度算出部と、
    前記第1寄与度算出部により算出された寄与度を提示する第1出力部と、
    を有することを特徴とする請求項3に記載の異常検知装置。
  5. 請求項1ないし4いずれか1項に記載の異常検知装置と、
    前記製造ラインに含まれる複数の加工工程により加工された製品を検査することにより得られる品質データに基づいて、品質に対する各加工工程の寄与度を算出する工程品質寄与度算出装置と、
    を有する異常検知システムであって、
    加工工程ごとに得られる計測データと、前記品質データとの関係を表す回帰モデルを生成する第2回帰モデル生成部と、
    前記第2回帰モデル生成部により生成された回帰モデルに基づき、前記品質に対する各加工工程の寄与度を算出する第2寄与度算出部と、
    前記第2寄与度算出部により算出された寄与度を提示する第2出力部と、
    を有することを特徴とする異常検知システム。
  6. 製造ラインに含まれる加工装置の加工時の状態に関連する計測パラメータについて計測した計測データに基づいて異常を検知する異常検知方法であって、
    第1加工条件で製造された複数の既存製品に対する複数の計測データと、前記第1加工条件とは異なる第2加工条件で製造された1つの試作品に対する計測データとに基づき、前記第2加工条件で製品を量産した際に得られると想定される複数の計測データを推定する量産時計測データ推定ステップと、
    前記量産時計測データ推定ステップにより推定された複数の計測データに基づいて異常検知モデルを生成する異常検知モデル生成ステップと、
    前記第2加工条件で製品を量産した際に得られる計測データと、前記異常検知モデルとに基づいて、前記加工装置の異常を検知する異常検知実行ステップと、
    を有することを特徴とする異常検知方法。
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005085856A (ja) * 2003-09-05 2005-03-31 Toshiba Corp 製造工程設計方法及び製造工程設計支援方法
JP2010287011A (ja) * 2009-06-11 2010-12-24 Hitachi Ltd 装置異常監視方法及びシステム

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005085856A (ja) * 2003-09-05 2005-03-31 Toshiba Corp 製造工程設計方法及び製造工程設計支援方法
JP2010287011A (ja) * 2009-06-11 2010-12-24 Hitachi Ltd 装置異常監視方法及びシステム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024176347A1 (ja) * 2023-02-21 2024-08-29 株式会社日立ハイテク 異常検出装置及び異常検出方法

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