JP2021001924A - 光源、検査装置、ｅｕｖ光の生成方法及び検査方法 - Google Patents

Abstract

【課題】安定してＥＵＶ光を生成することができる光源、検査装置、ＥＵＶ光の生成方法及び検査方法を提供する。【解決手段】本発明に係る光源１０は、回転軸Ｒ１を囲む内周面１４ａを有する容器１１であって、レーザ光Ｌ１の照射によりプラズマを発生する溶融金属１２を保持した容器１１を備え、回転軸Ｒ１を中心に容器１１を回転させ、遠心力によって内周面１４ａに拡がった溶融金属１２に対して、レーザ光Ｌ１を照射することにより発生したプラズマからＥＵＶ光Ｅ１を生成する。【選択図】図１

Description

本発明は、光源、検査装置、ＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）光の生成方法及び検査方法に関するものであり、例えば、ＥＵＶ光を生成するための光源として、スズのドロップレットを利用したレーザ励起光源のＬＰＰ（Ｌａｓｅｒ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ）光源に替わる方式の光源、検査装置、ＥＵＶ光の生成方法及び検査方法に関する。

半導体の微細化を担うリソグラフィ技術に関しては、現在、露光波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを露光光源としたＡｒＦリソグラフィが量産適用されている。また、露光装置の対物レンズとウエハとの間を水で満たして、解像度を高める液浸技術（ＡｒＦ液浸リソグラフィと呼ばれる。）も量産に利用されている。さらに、一層の微細化を実現するために、ＥＵＶ光を用いたＥＵＶＬ（ＥＵＶ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）の実用化に向けて様々な技術開発が行われている。

ＥＵＶＬに用いられるマスクであるＥＵＶマスクは、積層構造として、低熱膨張性ガラスから成る基板の上に、ＥＵＶ光を反射させるための多層膜が設けられている。多層膜は、通常、モリブデンとシリコンを交互に数十層積み重ねた構造になっている。これにより、多層膜は、ＥＵＶ光を垂直で約６５％も反射させることができる。多層膜の上には、ＥＵＶ光を吸収する吸収体が設けられている。吸収体をパターニングすることにより、ブランクスを形成することができる。実際に露光に使うためには、レジストプロセスにより、吸収体をパターン形成する。このようにして、パターン付きＥＵＶマスクが完成する。

ＥＵＶマスクにおける許容できない欠陥の大きさは、従来のＡｒＦマスクの場合に比べると大幅に小さくなっており、検出することが困難となっている。そこで、検査用照明光として、露光光と同じ波長の照明光を用いて検査するアクティニック（Ａｃｔｉｎｉｃ）検査は、パターン検査に不可欠となっている。この際の検査用照明光は、例えば、波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光である。

ＥＵＶマスクの検査装置の一般的な基本構成としては、光源から取り出されるＥＵＶ光を、ＥＵＶ用の多層膜鏡のみで構成される照明光学系によって、ＥＵＶマスクまで導き、ＥＵＶマスクのパターン面における微小な検査領域を照明する。この検査領域におけるＥＵＶマスクのパターンが、多層膜鏡のみで構成される拡大光学系によって、ＣＣＤカメラやＴＤＩ（Ｔｉｍｅ Ｄｅｌａｙ Ｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ）カメラの２次元イメージセンサーの表面に投影（結像）される。そして、観察されたパターンを解析し、パターンが正しいか否かを判断する。こうして、ＥＵＶマスクのパターン検査が行われる。

一般に、ＥＵＶ光源としては、ＤＰＰ（Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ）光源、ＬＤＰ光源及びＬＰＰ（Ｌａｓｅｒ Ｐｒｏｄｕｃｅｄ Ｐｌａｓｍａ）光源が挙げられる。ＬＰＰ光源は、微小な液滴状に噴出されたスズ（Ｓｎ）、または、リチウム（Ｌｉ）等のドロップに対して、レーザ光を集光することによりプラズマを発生させる方式である。

ＥＵＶマスクの検査装置の照明光学系としては、ＥＵＶマスクにおける微小な検査領域を明るく照明できるように、光源から発生するＥＵＶ光を、検査領域を含む狭い領域に集光するような光学系が必要である。このような光学系の一つとしては、光源の発光部をＥＵＶマスクのパターン面に投影する光学系が望ましい。ただし、光学系にはミラーしか利用できないため、例えば、回転楕円面鏡（以下、単に楕円面鏡と呼ぶ。）を１〜数枚用いる光学系が利用されている。楕円面鏡は、２つの集光点を有しており、１つの集光点から発生する光は、もう一方の集光点に集光する性質を有する。

楕円面鏡の２つの集光点を第１集光点及び第２集光点とする。第１集光点が光源の発光部と合うように、かつ、第２集光点がＥＵＶマスク内の微小な検査領域と合うように、光源、楕円面鏡、及び、ＥＵＶマスクを配置する。例えば、光源がＬＰＰ光源の場合には、第１集光点がプラズマの輝点と合うようにする。これにより、微小な検査領域までＥＵＶ光を導いて照明することができる。

また、楕円面鏡を複数枚用いる場合も原理的には同様である。例えば、第１〜第３楕円面鏡を用いる場合には、第１楕円面鏡の第１集光点を光源の発光部に合わせ、第１楕円面鏡の第２集光点を、第２楕円面鏡の第１集光点に合わせる。第２楕円面鏡の第２集光点を第３楕円面鏡の第１集光点に合わせる。そして、第３楕円面鏡の第２集光点を検査領域に合わせる。これにより、光源の発光部をＥＵＶマスクのパターン面に投影することができる。

米国特許第９４７６８４１号明細書

図８に示すように、従来のＬＰＰ光源は、微細なスズの球（ドロップ１１２）に対して、励起用レーザ光Ｌ１０１を集光させて、球面状のスズプラズマを発生させる。発生させたスズプラズマからＥＵＶ光Ｅ１０１をコレクターミラー１１９で取り出している。このようなＬＰＰ光源の課題としては、ターゲットとなる微細なスズのドロップ１１２に対して、励起用レーザ光Ｌ１０１を集光させるため、光源の構造が複雑となることである。また、スズのドロップ１１２を安定して落下・供給することができず、ＥＵＶ光を安定して生成することが困難なことである。

本発明の目的は、このような問題を解決するためになされたものであり、ＥＵＶ光を簡単な構成で安定的に生成することができる光源、検査装置、ＥＵＶ光の生成方法及び検査方法を提供することである。

本発明に係る光源は、回転軸を囲む内周面を有する容器であって、レーザ光の照射によりプラズマを発生する溶融金属を保持した前記容器を備え、前記回転軸を中心に前記容器を回転させ、遠心力によって前記内周面に拡がった前記溶融金属に対して、前記レーザ光を照射することにより発生した前記プラズマからＥＵＶ光を生成する。このような構成とすることにより、ＥＵＶ光を簡単な構成で安定的に生成することができる。

また、本発明に係る検査装置は、前記光源と、前記ＥＵＶ光により検査対象を照明する照明光学系と、前記ＥＵＶ光により照明された前記検査対象からの光を検出して前記検査対象の画像を取得する検出光学系と、を備える。このような構成により、検査対象の検査の信頼性を向上させることができる。

さらに、本発明によるＥＵＶ光の生成方法は、回転軸を囲む内周面を有する容器において、レーザ光の照射によりプラズマを発生する溶融金属を形成するステップと、前記回転軸を中心に前記容器を回転させ、遠心力によって前記内周面に前記溶融金属を拡げるステップと、拡がった前記溶融金属に対して、前記レーザ光を照射するステップと、前記レーザ光を照射することにより前記溶融金属から発生した前記プラズマからＥＵＶ光を生成するステップと、を備える。このような構成とすることにより、ＥＵＶ光を簡単な構成で安定的に生成することができる。

さらに、本発明による検査方法は、前記ＥＵＶ光の生成方法と、生成された前記ＥＵＶ光により検査対象を照明するステップと、前記ＥＵＶ光により照明された前記検査対象からの光を検出して前記検査対象の画像を取得するステップと、を備える。このような構成により、検査対象の検査の信頼性を向上させることができる。

本発明によれば、ＥＵＶ光を簡単な構成で安定的に生成することができる光源、検査装置、ＥＵＶ光の生成方法及び検査方法を提供することができる。

実施形態１に係る光源を例示した構成図である。 実施形態１に係る光源の容器を例示した斜視図である。 実施形態１に係る光源の容器の駆動機構を例示した構成図である。 実施形態１に係るＥＵＶ光の生成方法を例示したフローチャート図である。 （ａ）及び（ｂ）は、実施形態１に係る光源の動作を例示した模式図である。 実施形態２に係る検査装置を例示した構成図である。 実施形態２に係る検査方法を例示したフローチャート図である。 ＬＰＰ光源を例示した図である。 実施形態３に係る光源の主要部を例示した図であり、（a）は、上面図であり、（ｂ）は、断面図である。 実施形態３に係る光源の主要部における別の例を例示した図であり、（a）は、上面図であり、（ｂ）は、断面図である。 実施形態４に係る光源において、デブリシールドを例示した図であり、（a）は、上面図を示し、（ｂ）は、光源におけるデブリシールドの断面図を示す。 （ａ）は、実施形態５に係る光源の主要部を例示した斜視図であり、（ｂ）は、（ａ）に示す光源の主要部の分解斜視図である。 実施形態５に係る光源の主要部を例示した断面図である。 実施形態６に係る光源の主要部を例示した断面図である。

以下、本実施形態の具体的構成について図面を参照して説明する。以下の説明は、本発明の好適な実施の形態を示すものであって、本発明の範囲が以下の実施の形態に限定されるものではない。以下の説明において、同一の符号が付されたものは実質的に同様の内容を示している。

（実施形態１）
実施形態１に係る光源を説明する。光源は、例えば、検査装置において検査対象を照明する照明光の光源である。光源は、露光装置において露光光の光源に用いられてもよい。図１は、実施形態１に係る光源を例示した構成図である。図２は、実施形態１に係る光源の容器を例示した斜視図である。図３は、実施形態１に係る光源の容器の駆動機構を例示した構成図である。

図１〜３に示すように、光源１０は、容器１１を備えている。容器１１は、例えば、坩堝であり、内部で、金属を溶融させることができる。容器１１は、レーザ光Ｌ１の照射によりプラズマを発生する溶融金属１２を保持する。溶融金属１２は、例えば、スズ（Ｓｎ）、または、リチウム（Ｌｉ）等が溶融したものである。なお、溶融金属１２は、レーザ光Ｌ１の照射によりプラズマを発生するものであれば、スズ、リチウムに限らない。

容器１１は、回転軸Ｒ１を有し、回転軸Ｒ１を中心にして回転する。例えば、容器１１には、回転軸Ｒ１と同軸に延びた棒状のシャフト２１が接続されている。シャフト２１が回転軸Ｒ１を中心にして回転することにより、回転力が容器１１に伝達する。よって、容器１１は、回転軸Ｒ１を中心にして回転する。

容器１１は、例えば、一方の開口部が閉じた円筒形状である。容器１１の閉じた部分を底部１３という。容器１１の円筒状の部分を円筒部１４という。容器１１の回転軸Ｒ１は、例えば、鉛直方向に延びている。底部１３が下方に位置し、開いた開口部１５が上方に位置している。底部１３の内側の面を底面１３ａという。底部１３の外側の面を下面１３ｂという。下面１３ｂは、底面１３ａの反対側の面である。回転軸Ｒ１が鉛直方向に延び、開口部１５が上方に位置している場合には、底面１３ａは上方を向き、下面１３ｂは下方を向いている。

円筒部１４の内側の面を内周面１４ａという。円筒部１４の外側の面を外周面１４ｂという。外周面１４ｂは、内周面１４ａの反対側の面である。内周面１４ａは、回転軸Ｒ１を囲んでいる。よって、容器１１は、回転軸Ｒ１を囲む内周面１４ａを有している。

底部１３と円筒部１４との接合部分には溝１６が形成されている。回転軸Ｒ１が鉛直方向の場合には、溝１６は、下方に深くなっている。溝１６の底は、底面１３ａよりも下方に位置している。溝１６は、上方から見て、底面１３ａの周縁に沿って円形に形成されている。溝１６は、溶融金属１２がスズの場合には、スズ溜まりという。

回転軸Ｒ１を囲むように形成された内周面１４ａは、回転軸Ｒ１との距離が一定の円筒状の部分を含んでもよいし、上方ほど外側に拡がったすり鉢状の部分を含んでもよい。例えば、内周面１４ａのすり鉢状の部分は溝１６に接続されている。内周面１４ａの円筒状の部分は、すり鉢状の部分の上方に位置している。

光源１０は、容器１１の他、ヒータ１７、平面鏡１８、デブリシールド１９を備えている。ヒータ１７は、容器１１の近傍に設けられている。ヒータ１７の加熱によって、容器１１内に、溶融金属１２を形成することができる。ヒータ１７は、例えば、容器１１の底部１３の下方に配置されている。溝１６が形成されている場合には、ヒータ１７は、溝１６の直下に配置されている。これにより、溝１６に保持された溶融金属１２を集中して加熱でき、ヒータ１７が消費するエネルギーを低減することができる。

平面鏡１８は、生成されたＥＵＶ光Ｅ１を反射する。すなわち、平面鏡１８は、レーザ光Ｌ１が溶融金属１２に照射されることにより発生したプラズマから生成されたＥＵＶ光Ｅ１を反射する。

平面鏡１８は、開口部１５の近傍において、内周面１４ａにおけるレーザ光Ｌ１が照射される照射スポットに対向するように配置されている。平面鏡１８には、生成されたＥＵＶ光Ｅ１が入射する。平面鏡１８は、入射したＥＵＶ光Ｅ１を反射させる。平面鏡１８は、平面鏡１８におけるＥＵＶ光Ｅ１の入射角及び反射角を維持したまま、スライド移動可能である。具体的には、平面鏡１８は、図１における紙面に直交する方向、すなわち、入射するＥＵＶ光Ｅ１及び反射するＥＵＶ光Ｅ１を含む面に直交する方向に移動可能である。平面鏡１８で反射したＥＵＶ光Ｅ１は、光源１０の外部に出射し、例えば、検査装置における照明光学系の楕円面鏡３１に入射する。

デブリシールド１９は、例えば、シート状である。デブリシールド１９は、溶融金属１２を覆うように開口部１５に配置されている。デブリシールド１９は、溶融金属１２と楕円面鏡３１との間に配置されている。これにより、溶融金属１２から発生するデブリが楕円面鏡３１に付着することを抑制することができる。なお、デブリシールド１９は、レーザ光Ｌ１が溶融金属１２を照射するためのレーザ光Ｌ１の通路、及び、生成されたＥＵＶ光Ｅ１が平面鏡１８に到達するためのＥＵＶ光Ｅ１の通路を確保するように、開口部１５の一部を空けている。

光源１０は、レーザ光Ｌ１を生成する励起用レーザを備えてもよいし、光源１０の外部に設置した励起用レーザからのレーザ光Ｌ１を導入して、溶融金属１２を照射するようにしてもよい。

図３に示すように、光源１０は、容器１１の駆動機構として、軸受け２２、冷却機構２３、金属ベローズ２４、回転モータ２５、スライド機構２６を備えている。容器１１、シャフト２１、軸受け２２、冷却機構２３は、チャンバ２７の内部に配置されている。チャンバ２７の内部は、減圧され、真空状態とされている。

軸受け２２は、シャフト２１を回転可能に固定する。シャフト２１の一端は容器１１の底部１３に接続され、他端は軸受け２２に接続されている。冷却機構２３は、シャフト２１を介して容器１１を冷却する。例えば、冷却機構２３は、冷却水等の冷媒を循環させる機構を有している。そして、シャフト２１に設けられた冷媒の循環路を介して、容器１１を冷却する。

回転モータ２５は、シャフト２１に対して回転軸Ｒ１を中心にして回転する動力を伝達する。これにより、回転モータ２５は、シャフト２１を介して回転軸Ｒ１を中心にして容器１１を回転させる。

スライド機構２６は、シャフト２１を介して容器１１を回転軸Ｒ１が延びる方向にスライド移動させる。これにより、容器１１は、回転軸Ｒ１が延びる方向に移動可能である。例えば、容器１１は、上下方向に移動可能である。よって、容器１１内の溶融金属１２が消費された場合に、容器１１は回転軸Ｒ１に沿って上方に移動可能である。溶融金属１２が消費されると、内周面１４ａにおける溶融金属１２の表面の位置が後退する。そうすると、レーザ光Ｌ１の照射スポット位置が後退することによって発光点が移動することになる。そこで、容器１１を上方に移動させる。これにより、レーザ光Ｌ１の照射スポット位置における溶融金属１２の表面位置が保たれ、常に溶融金属１２上の同じ位置にレーザ光Ｌ１を照射することができる。よって、発光点の位置が変動しないようにすることができる。

なお、溶融金属１２の表面の形状が上方ほど外側に拡がったすり鉢状の部分を含む場合には、スライド機構は、上方だけでなく、回転軸Ｒ１に直交する水平方向にスライド移動してもよい。これにより、レーザ光Ｌ１の焦点は、内周面１４ａに拡がった溶融金属１２の表面位置を維持することができる。溶融金属１２の表面の形状が上方ほど外側に拡がったすり鉢状の部分とは、具体的には、溶融金属１２に働く遠心力と重力との比で決定された傾斜角度（ｔａｎθ）が付いた表面の部分をいう。

次に、光源１０の動作として、ＥＵＶ光の生成方法を説明する。図４は、実施形態１に係るＥＵＶ光の生成方法を例示したフローチャート図である。図５（ａ）及び（ｂ）は、実施形態１に係る光源の動作を例示した断面図である。

図４のステップＳ１１及び図５（ａ）に示すように、まず、容器１１内に溶融金属１２を形成する。容器１１内に溶融金属１２を形成する際には、容器１１の内部に、レーザ光Ｌ１の照射によりプラズマを発生するターゲット金属を投入する。ターゲット金属は、例えば、スズまたはリチウムである。容器１１の底部１３に溝１６が形成されている場合には、溝１６にターゲット金属を投入する。

溝１６の底は、ヒータ１７に近いので、省エネルギーでターゲット金属を溶融することができる。また、溝１６があることにより、ヒータ１７の個数を少なくし、集中的に加熱することができる。さらに、溶融金属１２は、溝１６に留まり、容器１１の底面１３ａ全体に拡がらないので、用いるターゲット金属量を少なくすることができる。ヒータ１７を作動させて、容器１１内に投入されたターゲット金属を真空中で溶融させる。このようにして、回転軸Ｒ１を囲む内周面１４ａを有する容器１１において、レーザ光Ｌ１の照射によりプラズマを発生する溶融金属１２を形成する。

次に、図４のステップＳ１２及び図５（ｂ）に示すように、容器１１の内周面１４ａに溶融金属１２を拡げる。具体的には、回転軸Ｒ１を中心に容器１１を回転させる。回転モータ２５を作動させて、回転軸Ｒ１を中心にした回転をシャフト２１に伝達する。これにより、回転モータ２５は、シャフト２１を介して容器１１を回転させる。所定の回転数まで、ゆっくり回転数を上げる。このようにすることにより、遠心力によって内周面１４ａに溶融金属１２を拡げることができる。溶融金属１２に働く遠心力と重力との比により、溶融金属１２の表面に傾斜角度（ｔａｎθ）が付く場合には、溶融金属１２の表面の形状は、上方ほど外側に拡がったすり鉢状の部分を含むようになる。また、容器１１の内周面１４ａが、上方ほど外側に拡がったすり鉢状の部分を含む場合にも、溶融金属１２は内周面１４ａを登り、すり鉢状に拡がる。

次に、ステップＳ１３に示すように、溶融金属１２に対して、レーザ光Ｌ１を照射する。具体的には、遠心力によって内周面１４ａに拡がった溶融金属１２に対して、励起用レーザから出力されたレーザ光Ｌ１を照射する。レーザ光Ｌ１をレンズ等の光学素子で集光させて溶融金属１２を照射する。そうすると、レーザ光Ｌ１を照射された溶融金属１２からプラズマが発生する。

次に、ステップＳ１４に示すように、発生したプラズマからＥＵＶ光Ｅ１を生成する。溶融金属１２にレーザ光を照射することによりプラズマが発生する。プラズマ中のイオン及び電子が再結合する際に、ＥＵＶ光Ｅ１が生成される。このようにして、溶融金属１２に対して、レーザ光Ｌ１を照射することにより発生したプラズマからＥＵＶ光Ｅ１が生成される。

プラズマから生成されたＥＵＶ光Ｅ１は、平面鏡１８に入射する。平面鏡１８に入射し、平面鏡１８で反射したＥＵＶ光Ｅ１は、照明光として光源１０の外部に取り出される。例えば、照明光学系の楕円面鏡３１に入射する。こうして、光源１０は、ＥＵＶ光Ｅ１を生成する。

次に、容器１１及び溶融金属１２の温度制御方法を説明する。容器１１の近傍には、放射温度計が配置されている。放射温度計は、坩堝等の容器１１の温度を放射温度計で常時モニターし、温度が一定になるようにヒータ１７の加熱を制御する。光源１０の動作中は、溶融金属１２がレーザ光Ｌ１を吸収することによっても加熱される。容器１１及び溶融金属１２の過熱を抑制するために、軸受け２２の機構に水冷ジャケットを組み込んでもよい。これにより、シャフト２１を介して容器１１及び溶融金属１２を冷却することができる。

溶融金属１２から発生するイオンや中性粒子を減速させるために、アルゴンや窒素等の不活性ガスを容器１１内に導入してもよい。これにより、光源１０の劣化を抑制することができる。

次に、本実施形態の効果を説明する。
本実施形態の光源１０は、溶融金属１２が保持された容器１１を、回転軸Ｒ１を中心に回転させる。そして、容器１１の内周面１４ａに拡がった溶融金属１２に対して、レーザ光Ｌ１を照射し、ＥＵＶ光Ｅ１を生成している。よって、ターゲットとなる溶融金属１２が回転するので、溶融金属１２におけるレーザ光Ｌ１が照射される部分は常に円周方向に移動する。これにより、ターゲットの一点だけが過熱されることはないので、安定してＥＵＶ光Ｅ１を生成することができる。例えば、ＥＵＶＬフォトマスク検査用の光源として必要な性能を備えることができる。

また、ターゲットとなる溶融金属１２は液体のため、表面張力が働く。よって、よって、レーザ光Ｌ１の照射によって液体金属が部分的にプラズマ化して、溶融金属１２の表面には瞬間的に窪みができるが、短時間のうちに表面形状がなだらかになる。よって、容器１１が1回転して次に同じ場所にレーザ光Ｌ１が照射される際には、溶融金属１２の表面形状が所定の形状に保たれているので、安定してＥＵＶ光Ｅ１を生成することができる。

スズ等の溶融金属１２の消費に応じて、容器１１を回転軸Ｒ１に沿って上方に移動することができる。よって、溶融金属１２が消費されても、ＥＵＶ光Ｅ１の生成箇所の位置を一定に保つことができ、安定したＥＵＶ光Ｅ１を生成することができる。また、ロードロック機構により、真空状態を維持しながら、断続的に溶融金属１２の基となるターゲット金属のペレットを供給することができる。よって、安定して断続的にＥＵＶ光Ｅ１を生成することができる。

一般に、スズ等の溶融金属１２は、坩堝等の容器１１を劣化させるが、溶融金属１２が容器１１に接触する内周面１４ａは、例えば、窒化チタン（ＴｉＮ）等の被膜で容易に覆うことができる。よって、容器１１の内周面１４ａをコーティングすることにより、容易に耐食性を付与することができる。

デブリシールド１９により、溶融金属１２から飛散するスズ等のデブリやイオン、中性子等が楕円面鏡３１に付着することを抑制することができる。平面鏡１８は、ＥＵＶ光Ｅ１の入射角及び反射角を維持したまま、スライド移動可能であるので、未使用の部分を利用することができ、長寿命化させることができる。

（実施形態２）
次に、実施形態２に係る検査装置を説明する。図６は、実施形態２に係る検査装置を例示した構成図である。図６に示すように、検査装置１は、光源１０、照明光学系３０、検出光学系４０を備えている。検査装置１は、検査対象５０を検査する。検査対象５０は、例えば、ＥＵＶマスクである。なお、検査対象５０は、ＥＵＶマスクに限らない。

照明光学系３０は、ＥＵＶ光Ｅ１により検査対象５０を照明する。照明光学系３０は、楕円面鏡３１〜３３、落とし込み鏡３４を含んでいる。検出光学系４０は、ＥＵＶ光Ｅ１により照明された検査対象５０からの光Ｅ２を検出して検査対象５０の画像を取得する。検出光学系４０は、シュバルツシルト光学系４１、平面鏡４２、凹面鏡４３、検出器４４を備えている。シュバルツシルト光学系４１は、凹面鏡４１ａ及び凸面鏡４１ｂを含む拡大光学系である。ステージ５１上に検査対象５０として、例えば、ＥＵＶマスクが載置されている。

光源１０から取り出されたＥＵＶ光Ｅ１は、楕円面鏡３１に入射する。楕円面鏡３１は、石英を含む基板と、基板の主面にコーティングされた金属膜とを含んでいる。金属膜は、例えば、ルテニウム膜である。ルテニウム膜がコーティングされた面が反射面である。楕円面鏡３２及び楕円面鏡３３の構造も、楕円面鏡３１と同様である。

楕円面鏡３１で反射したＥＵＶ光Ｅ１は、絞られながら進み、集光点ＩＦ１において集光する。集光点ＩＦ１で集光したＥＵＶ光Ｅ１は、集光点ＩＦ１の後で拡がる。その後、ＥＵＶ光Ｅ１は、楕円面鏡３２で反射し、絞られながら進み、集光点ＩＦ２において集光する。その後、集光点ＩＦ２の後で拡がったＥＵＶ光Ｅ１は、楕円面鏡３３で反射される。楕円面鏡３３で反射したＥＵＶ光Ｅ１は、絞られながら進み、落とし込み鏡３４に入射する。落とし込み鏡３４に入射したＥＵＶ光Ｅ１は、落とし込み鏡３４によって反射し、検査対象５０の検査領域を照明する。なお、照明光学系３０は、楕円面鏡３１〜３３及び落とし込み鏡３４以外の光学素子を付加してもよいし、楕円面鏡３１〜３３のいくつかを省いてもよい。

楕円面鏡３１の２つの集光点のうち、第１集光点は、平面鏡１８を介して、プラズマの輝点に位置するように配置されている。楕円面鏡３１の第２集光点は、楕円面鏡３２の第１集光点（集光点ＩＦ１）に位置している。楕円面鏡３２の第２集光点は、楕円面鏡３３の第１集光点（集光点ＩＦ２）に位置している。楕円面鏡３３の第２集光点は、落とし込み鏡３４を介して、検査対象５０の検査領域に位置している。

ＥＵＶ光Ｅ１により照明された検査対象５０からの光Ｅ２は、ＥＵＶ光Ｅ１の反射光及び回折光を含んでおり、検査領域内のパターン情報を含んでいる。検査対象５０からの光Ｅ２は、凹面鏡４１ａ及び凸面鏡４１ｂとで構成されたシュバルツシルト光学系４１によって拡大される。拡大された光Ｅ２は、平面鏡４２で折り返された後に、凹面鏡４３でさらに拡大され、検出器４４に入射する。

検出器４４は、例えば、ＴＤＩカメラである。検出器４４の下側に配置されたセンサー面に検査領域からの光Ｅ２が投影される。これにより、検出器４４は、検査領域のパターンを光学像として入力し、検査領域の画像を取得する。そして、パターンが解析され、欠陥が検出される。

次に、検査装置１を用いた検査方法を説明する。図７は、実施形態２に係る検査方法を例示したフローチャート図である。

図７のステップＳ２１に示すように、まず、照明光として、ＥＵＶ光Ｅ１を生成する。ＥＵＶ光Ｅ１の生成方法は、実施形態１に記載された方法を用いる。

次に、ステップＳ２２に示すように、生成されたＥＵＶ光Ｅ１により検査対象５０を照明する。具体的には、楕円面鏡３１〜３３及び落とし込み鏡３４を含む照明光学系３０を用いて、光源１０で生成されたＥＵＶ光Ｅ１を検査対象５０まで導く。

次に、ステップＳ２３に示すように、ＥＵＶ光Ｅ１により照明された検査対象５０からの光Ｅ２を検出して検査対象５０の画像を取得する。具体的には、シュバルツシルト光学系４１、平面鏡４２、凹面鏡４３、検出器４４を含んだ検出光学系を用いて、検査対象５０の画像を取得する。
次に、ステップＳ２４に示すように、取得した画像を用いて検査対象５０を検査する。このようにして、検査装置１は検査対象５０を検査することができる。

本実施形態の検査装置１によれば、安定して生成されたＥＵＶ光Ｅ１を用いて検査対象５０を検査することができるので、信頼性が高い検査を行うことができる。よって、ＥＵＶＬフォトマスク検査装置として必要な性能を備えることができる。また、シンプルな構造で検査を行うことができるので、検査コストを低減することができる。これ以外の構成及び効果は実施形態１の記載に含まれている。

（実施形態３）
次に、実施形態３に係る光源を説明する。本実施形態は、一定期間毎に溶融金属１２の供給が必要であること、及び、溶融金属１２から発生したイオンが平面鏡１８やレンズ等の光学部品に衝突してダメージを与えることを課題としたものである。光学部品に対するダメージとしては、高速のイオンの衝突により光学部品がスパッタエッチングされること、及び、低速のイオンの衝突により光学部品がデポジションされることが挙げられる。本実施形態の光源は、これらの課題を解決するために、坩堝等の容器１１の近傍に溶融金属１２から発生したイオンの軌道を変化させる磁場を形成する。そして、イオンに対する磁場によって発生したローレンツ力により、イオンの軌道を変更させ、光学部品への衝突を回避させる。また、イオンとして飛び出した溶融金属１２を回収する。

図９は、実施形態３に係る光源の主要部を例示した図であり、（a）は上面図であり、（ｂ）は、断面図である。図９に示すように、本実施形態の光源１０aは、磁石６０を備えている。磁石６０は、例えば、永久磁石でもよいし、直流電流を流した電磁石でもよい。磁石６０は、容器１１の外側に配置されている。例えば、磁石６０は、容器１１の円筒部１４における外周面１４ｂに接近させて配置されている。また、磁石６０は、レーザ光Ｌ１が照射される照射スポットの近傍に配置されている。例えば、磁石６０は、レーザ光Ｌ１の光軸の延長線上に配置されている。

磁石６０は、磁場Ｂを形成する。磁場Ｂの方向は、レーザ光Ｌ１が溶融金属１２を照射する照射スポットの近傍において、レーザ光Ｌ１の光軸及び回転軸Ｒ１に直交する方向が望ましい。すなわち、照射スポット近傍の磁場Ｂの方向は、図９（ｂ）における紙面に直交する方向が望ましい。このようにすることで、磁石６０によって形成された磁場Ｂは、溶融金属１２から発生したイオンの軌道を変化させる。

図９（ｂ）に示すように、磁場Ｂの向きは、例えば、イオンが下方に曲がる向きである。よって、磁石６０は、イオンが容器１１の内部に到達するような軌道に変化させる磁場を形成する。具体的には、イオンは、溶融金属１２より飛び出し、レーザ光Ｌ１のレンズ６２及び平面鏡１８に向かう方向から、容器１１の底部１３の方へ曲げられる。このように、イオンに対するローレンツ力により、イオンの軌道を変更させる。よって、レンズ６２及び平面鏡１８等の光学部品を保護することができる。イオンは、例えば、溶融金属１２がスズの場合には、スズイオンである。

磁石６０には、例えば、水冷パイプ等の温度を調節する温度調整部６１が設けられている。温度調整部６１により、磁石６０は、キュリー温度よりも低い温度に保たれている。容器１１は、セラミックス、例えば、非磁性体のセラミックス等を含むことが好ましい。

一般に、レンズ６２及び平面鏡１８等の光学部品に高速のイオンが衝突すると、イオンは、光学部品をスパッタエッチングする。また、レンズ６２及び平面鏡１８等の光学部品に低速のイオンが衝突すると、イオンは、光学部品にデポジションされる。よって、高速でも低速でもイオンは光学部品にダメージを与える。これに対して、本実施形態では、イオンは、光学部品に向かう方向から容器１１の底部１３の方へ曲げられる。これにより、イオンによるスパッタエッチング及びデポジションを低減することができ、光学部品の寿命を向上させることができる。

また、イオンは容器１１の内部に戻るので、イオンを溶融金属１２の原料として回収することができる。よって、原料の供給サイクルを延ばすことができる。本実施形態では、光学部品の寿命の向上及び原料の供給サイクルの延長により、光源１０ａを、長期的に安定して動作させることができる。

図１０は、実施形態３に係る光源の主要部における別の例を例示した図であり、（a）は、上面図であり、（ｂ）は、断面図である。図１０（a）及び（ｂ）に示すように、別の例の光源１０ｂでは、磁石６０が形成する磁場Ｂの方向は同じであるが、磁場Ｂの向きが逆になっている。光源１０ｂの磁場Ｂの向きは、イオンが上方に曲がる向きである。よって、磁石６０は、イオンが容器１１の上方に配置されたデブリシールド１９に到達するような軌道に変化させる磁場を形成する。具体的には、イオンは、溶融金属１２より飛び出し、レーザ光Ｌ１のレンズ６２及び平面鏡１８に向かう方向から、デブリシールド１９の方へ曲げられる。このように、光源１０ｂにおいても、イオンに対するローレンツ力により、イオンの軌道を変更させ、レンズ６２及び平面鏡１８等の光学部品を保護することができる。これ以外の構成及び効果は、実施形態１〜２の記載に含まれている。

（実施形態４）
次に、実施形態４に係る光源を説明する。本実施形態の光源において、デブリシールド１９は、温度調整機構を備えている。これにより、デポジションされたイオンを適切なタイミングで回収する。

図１１は、実施形態４に係る光源において、デブリシールドを例示した図であり、（a）は、上面図を示し、（ｂ）は、光源におけるデブリシールドの断面図を示す。図１１（a）及び（ｂ）に示すように、本実施形態の光源１０ｃにおいて、デブリシールド１９ａは、シート状であり、例えば、上方から見て円形状である。デブリシールド１９ａは、容器１１の開口部１５を覆い、さらに、外側まで拡がっている。デブリシールド１９ａの中央部は、容器１１の内部に凹んでいる。よって、デブリシールド１９ａは、内周面１４ａに囲まれた領域に位置する部分を有している。

デブリシールド１９ａは、レーザ光Ｌ１が溶融金属１２を照射するためのレーザ光Ｌ１の通路、及び、生成されたＥＵＶ光Ｅ１が平面鏡１８に到達するためのＥＵＶ光Ｅ１の通路となる小さな穴２０が形成されている。穴２０は、照射スポットに対向している。

光源１０ｃは、前述の磁石６０を備えていてもよい。デブリシールド１９ａは、穴２０以外の容器１１の開口部１５を覆っているので、磁場Ｂによって軌道を変えられたイオンのほとんどをデブリシールド１９ａに到達させることができる。また、磁場Ｂで軌道を変えられない中性のスズ等も穴２０以外の部分に到達させることができる。よって、光学部品へのダメージを低減させるとともに、溶融金属１２から飛び出たイオンのほとんどを回収することができる。

光源１０ｃは、デブリシールド１９ａを冷却及び加熱する温度調整部６３を備えている。温度調整部６３は、例えば、冷却流体パイプ６３ａ及びヒータ６３ｂである。冷却流体パイプ６３ａは、デブリシールド１９ａの上面側の端部に配置され、ヒータ６３ｂは、デブリシールド１９ａの下面側の端部に配置されている。温度調整部６３は、デブリシールド１９ａの温度を、溶融金属１２の凝固点以下に調整することができるとともに、溶融金属１２の融点以上に調整することができる。例えば、温度調整部６３は、デブリシールド１９ａの温度を、スズの凝固点以下に調整することができるとともに、スズの融点以上に調整することができる。

なお、温度調整部６３は、デブリシールド１９ａを冷却のみ行ってもよいし、加熱のみ行ってもよい。デブリシールド１９ａを冷却することにより、容器１１からの輻射熱が光学部品に到達することを抑制することができる。

レーザ照射により、高温になった金属は、溶融金属１２から離脱する。例えば、溶融金属１２をスズとして説明する。高温になり、溶融金属１２から離脱したスズは、デブリシールド１９ａでトラップされる。スズが液体状態でデブリシールド１９ａにトラップされた場合には、容器１１の内部に落下するタイミングを制御することが困難である。したがって、光源１０ｃを動作中に、トラップされたスズが容器１１の内部に落下し、溶融金属１２の液面を乱すことにより、ＥＵＶ光Ｅ１の発光を不安定にする場合がある。

そこで、本実施形態では、温度調整部６３により、デブリシールド１９ａをスズの凝固点以下に調整する。これにより、デブリシールド１９ａにトラップされたスズは、固体状態でデブリシールド１９ａに堆積する。よって、溶融金属１２の液面を乱すことにより、ＥＵＶ光Ｅ１の発光を不安定にすることを抑制することができる。

デブリシールド１９ａにトラップされたスズを回収する場合には、光源１０ｃがアイドリング時に、デブリシールド１９ａをスズの融点以上に調整する。これにより、デブリシールド１９ａにトラップされたスズは、液化する。そして、液化したスズは、デブリシールド１９ａの凹んだ中央部、すなわち、内周面１４ａに囲まれた領域に位置する部分から容器１１内に落下する。このようして、溶融金属１２となるスズを回収することができる。なお、溶融金属１２として、スズの場合を説明したが、スズ以外の溶融金属１２の場合も同様である。

本実施形態の光源１０ｃによれば、光源１０ｃのアイドリング時に溶融金属１２を回収することができるので、光源１０ｃの安定性を向上させるとともに、原料の供給サイクルを延ばすことができる。

デブリシールド１９ａは、穴２０以外の容器１１の開口部１５を覆っているので、光学部品への衝突をさらに低減させることができる。また、冷却したデブリシールド１９aは、高温の容器１１から発生する赤外線等の輻射熱を遮断する。よって、平面鏡１８、レンズ６２及び楕円面鏡３１等に輻射熱が到達することを抑制するので、光学部品の寿命を向上させることができる。これ以外の構成及び効果は、実施形態１〜３の記載に含まれている。

（実施形態５）
次に、実施形態５に係る光源を説明する。本実施形態の光源は、坩堝等の容器１１を効果的に冷却すること、及び、容器１１の回転の摺動抵抗を低減することを課題としたものである。回転する容器１１に保持された溶融金属１２をレーザ光Ｌ１で照射する際に、レーザ照射による溶融金属１２の過加熱を抑制するため、容器１１の熱をヒートシンクに逃すことが必要となる。例えば、真空中に配置された容器１１の場合には熱の放散が少ないので特にヒートシンクが必要である。また、ターゲットとなる溶融金属１２の照射位置を安定させるため、容器１１を安定させて回転させる必要がある。したがって、容器１１の回転を支持する軸受には、高い熱伝導性及び低い摺動抵抗が要求される。本実施形態の光源は、容器１１のヒートシンクとなるとともに軸受けとなる円環槽を備えている。

図１２（ａ）は、実施形態５に係る光源の主要部を例示した斜視図であり、（ｂ）は、（ａ）に示す光源の主要部の分解斜視図である。図１３は、実施形態５に係る光源の主要部を例示した断面図である。

図１２（ａ）、（ｂ）及び図１３に示すように、本実施形態の光源１０ｄは、円環槽６４及び容器１１ａを備えている。円環槽６４は、回転軸Ｒ１を中心軸とした円環状である。円環槽６４は、円筒状の内壁６５、円筒状の外壁６６及び円環状の底壁６７を有している。内壁６５及び外壁６６は、同心円状に配置されている。内壁６５及び外壁６６の間で、内壁６５及び外壁６６に挟まれた円環状の空間に液体６８が充填されている。すなわち、内壁６５の外部であって、外壁６６の内部に円環状に液体６８が充填されている。

内壁６５の内部には、シャフト２１が通っている。シャフト２１は容器１１ａに回転動力を伝達する。シャフト２１の外周にはベアリング６９が設けられている。シャフト２１は、ベアリング６９により支持されている。ベアリング６９は、容器１１ａの回転の回転軸受けの機能を有する。

円環槽６４に充填された液体６８は、必ずしも室温で液体である必要はなく、室温から坩堝等の容器１１ａの動作温度までの温度範囲で溶融し、容器１１ａの動作温度において液体状態であれば良い。

液体６８は、例えば、液体金属である。液体金属は、例えば、ガリウム（Ｇａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、鉛（Ｐｂ）、ビスマス（Ｂｉ）、アンチモン（Ｓｂ）等を含んでいる。また、液体金属は、ガリンスタン（Ｇａｌｉｎｓｔａｎ、Ｇａ６８．５−Ｉｎ２１．５−Ｓｎ１０）でもよい。ガリウム（Ｇａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）等の低融点金属は、３００［℃］を超える温度においても低い蒸気圧を保つとともに、化学的に安定である。

液体６８は、イオン液体でもよい。イオン液体は、イオン性液体ともいい、液体で存在する塩（えん）をいう。例えば、塩化ナトリウムは、高温では、溶融して液体になる。このように、イオン液体は、分子として存在するのではなく、イオンとして、存在する液体のことをいう。有機物を含むイオン液体もある。イオン液体の特徴としては、蒸気圧が低いこと、３００［℃］以上の高温でも安定なことが挙げられる。

本実施形態の容器１１ａは、下面１３ｂから下方に突出した円筒状の円筒突起７１を有している。円筒突起７１は、回転軸Ｒ１を中心軸として配置されている。円筒突起７１を含む容器１１ａは、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、グラファイト（Ｃ）等の液体金属に浸食されない材質を含むもの、または、表面がこれらの材質でコーティングされることが好ましい。円筒突起７１は、液体６８中において回転軸Ｒ１を中心に回転する。

円筒突起７１を含む容器１１ａの材質として、窒化アルミニウム（密度３．２８ｇ／ｃｍ^３）、炭化ケイ素（密度３．２２ｇ／ｃｍ^３）、もしくはグラファイト（密度２．２６ｇ／ｃｍ^３）等を使用し、液体金属として、ガリウム（密度６．０９ｇ／ｃｍ^３）、インジウム（密度７．０２ｇ／ｃｍ^３）、アンチモン（密度６．９９ｇ／ｃｍ^３）、スズ（密度６．９９ｇ／ｃｍ^３）等を使用した場合には、液体金属の密度は比較的大きいため、容器１１ａに発生する浮力により、円筒突起７１と円環槽６４との間の静摩擦係数を低減することができる。

円環槽６４の底壁６７には、流体パイプ７０が設けられている。流体パイプ７０には、液体６８を所定の温度に調節するための媒体が循環し、液冷している。これにより、円環槽６４は、円筒突起７１を介して、容器１１ａのヒートシンクの機能を有する。よって、シャフト２１を冷却し、ベアリング６９の寿命を向上させることができる。なお、流体パイプ７０にオイル等を流すことにより、円環槽６４に、ヒートシンクとしての機能の他に、容器１１ａを加熱するヒータの機能を有するようにしてもよい。この場合には、容器１１ａの底部１３の下方に配置されたヒータ１７を省いてもよい。ヒータ１７は、回転する容器１１ａに接触させず、容器１１aを熱輻射で加熱することが好ましい。一方、流体パイプ７０は円環槽６４に接触させ、熱伝導で加熱している。よって、効果的に加熱することができる。

本実施形態の光源１０ｄによれば、円環槽６４は、容器１１ａのヒートシンクの機能を有するので、容器１１aを効果的に冷却することができる。よって、レーザ照射による過加熱を抑制することができる。容器１１ａの本体と、円筒突起７１とを一体化して形成すれば、容器１１とヒートシンクとの間の熱抵抗を小さくすることができるので、効果的に容器１１ａを冷却することができる。例えば、容器１１が真空中で使用される場合には、熱の放散が少ないため、より効果的である。

また、円環槽６４中の円筒突起７１に生じる浮力により、円筒突起７１と円環槽６４との間の静摩擦係数を低減することができる。よって、容器１１ａを回転させるスタートの時点の抵抗を低減させることができる。また、容器１１の回転時の摺動抵抗を低減することができる。このように、容器１１ａの回転に介して抵抗を低減できるので、安定して容器１１ａを回転させることができる。

液体として、液体金属及びイオン液体を用いた場合には、蒸気圧が低いため、坩堝等の容器１１ａの周りにおける真空度の低下を抑制することができる。また、液体金属及びイオン液体はともに使用温度範囲で化学的に安定であり、長期的に熱媒体及び潤滑剤としての性質を保つことができる。これ以外の構成及び効果は、実施形態１〜４の記載に含まれている。

（実施形態６）
次に、実施形態６に係る光源を説明する。本実施形態の光源は、実施形態５の容器１１ａのシャフト２１が十分冷却されない場合に、ベアリング６９が加熱され、ベアリング６９の寿命が短くなることを課題としたものである。そこで、本実施形態では、シャフト２１のベアリング６９を省き、円筒突起７１の内面が円環槽６４の内壁６５に沿って摺動する回転軸受けの機能を有するようにしている。図１４は、実施形態６に係る光源の主要部を例示した断面図である。

図１４に示すように、本実施形態の光源１０ｅは、前述の実施形態の光源１０ｄと比べて、ベアリング６９が設けられていない。光源１０ｅにおいて、円筒突起７１は、円環槽６４の内壁６５に沿って摺動する。例えば、円筒突起７１と内壁６５との間の間隙を小さくすることにより、Ｈｙｄｒｏｄｙｎａｍｉｃ ｂｅａｒｉｎｇ効果を発生させ、低い摺動抵抗で回転軸位置を固定させている。よって、円筒突起７１は、容器１１の回転の回転軸受けの機能を有する。これにより、シャフト２１を支持するベアリング６９を省くことができる。これ以外の構成及び効果は、実施形態１〜５の記載に含まれている。

以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明はその目的と利点を損なうことのない適宜の変形を含み、更に、上記の実施形態よる限定は受けない。また、実施形態１及び２における構成は、適宜、組み合わせてもよい。

１ 検査装置
１０、１０a、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄ、１０ｅ 光源
１１、１１ａ 容器
１２ 溶融金属
１３ 底部
１３ａ 底面
１３ｂ 下面
１４ 円筒部
１４ａ 内周面
１４ｂ 外周面
１５ 開口部
１６ 溝
１７ ヒータ
１８ 平面鏡
１９、１９ａ デブリシールド
２０ 穴
２１ シャフト
２２ 軸受け
２３ 冷却機構
２４ 金属ベローズ
２５ 回転モータ
２６スライド機構
２７ チャンバ
３０ 照明光学系
３１、３２、３３ 楕円面鏡
３４ 落とし込み鏡
４０ 検出光学系
４１ シュバルツシルト光学系
４１ａ 凹面鏡
４１ｂ 凸面鏡
４２ 平面鏡
４３ 凹面鏡
４４ 検出器
５０ 検査対象
５１ ステージ
６０ 磁石
６１ 温度調整部
６２ レンズ
６３ 温度調整部
６３ａ 冷却流体パイプ
６３ｂ ヒータ
６４ 円環槽
６５ 内壁
６６ 外壁
６７ 底壁
６８ 液体
６９ ベアリング
７０ 流体パイプ
７１ 円筒突起
Ｅ１ ＥＵＶ光
Ｅ２ 光
Ｌ１ レーザ光
Ｒ１ 回転軸

Claims (32)

1. 回転軸を囲む内周面を有する容器であって、レーザ光の照射によりプラズマを発生する溶融金属を保持した前記容器を備え、
   前記回転軸を中心に前記容器を回転させ、遠心力によって前記内周面に拡がった前記溶融金属に対して、前記レーザ光を照射することにより発生した前記プラズマからＥＵＶ光を生成する光源。
2. 前記回転軸は鉛直方向に延び、
   前記内周面は、上方ほど外側に拡がったすり鉢状の部分を含む、
   請求項１に記載の光源。
3. 前記容器は、前記回転軸が延びる方向に移動可能である、
   請求項１または２に記載の光源。
4. 前記溶融金属を覆うように配置されたデブリシールドをさらに備えた、
   請求項１〜３のいずれか一項に記載の光源。
5. 生成された前記ＥＵＶ光が入射するとともに、入射した前記ＥＵＶ光を反射させる平面鏡をさらに備え、
   前記平面鏡は、前記平面鏡における前記ＥＵＶ光の入射角及び反射角を維持したまま、スライド移動可能である、
   請求項１〜４のいずれか一項に記載の光源。
6. 前記容器の近傍に配置された磁石をさらに備え、
   前記磁石は、前記溶融金属から発生したイオンの軌道を変化させる磁場を形成する、
   請求項１〜５のいずれか１項に記載の光源。
7. 前記磁石は、前記イオンが前記容器の内部に到達するような前記軌道に変化させる前記磁場を形成する、
   請求項６に記載の光源。
8. 前記溶融金属を覆うように配置されたデブリシールドをさらに備え、
   前記磁石は、前記イオンが前記デブリシールドに到達するような前記軌道に変化させる前記磁場を形成する、
   請求項６に記載の光源。
9. 前記容器は、非磁性体のセラミックスを含み、
   前記磁石は、前記容器の外側に配置され、キュリー温度よりも低い温度に保たれた、
   請求項６〜８のいずれか１項に記載の光源。
10. 前記デブリシールドを冷却する温度調整部をさらに備えた、
    請求項４に記載の光源。
11. 前記デブリシールドを冷却及び加熱する温度調整部をさらに備え、
    前記デブリシールドは、前記溶融金属を回収するように前記内周面に囲まれた領域に位置する部分を有する、
    請求項４に記載の光源。
12. 同心円状に配置された円筒状の内壁及び外壁を有し、前記内壁及び前記外壁の間に円環状に液体が充填された円環槽をさらに備え、
    前記容器は、下面から下方に突出した円筒状の円筒突起であって、前記回転軸を中心軸とした前記円筒突起を有し、
    前記円筒突起は、前記液体中を回転する、
    請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光源。
13. 前記液体は、液体金属またはイオン液体である、
    請求項１２に記載の光源。
14. 前記容器に回転動力を伝達するシャフトを備え、
    前記シャフトは、ベアリングにより支持され、
    前記ベアリングは、前記容器の回転の回転軸受けの機能を有する、
    請求項１２または１３に記載の光源。
15. 前記円筒突起は、前記円環槽の内壁に沿って摺動し、前記容器の回転の回転軸受けの機能を有する、
    請求項１２または１３に記載の光源。
16. 請求項１〜１５のいずれか一項に記載の光源と、
    前記ＥＵＶ光により検査対象を照明する照明光学系と、
    前記ＥＵＶ光により照明された前記検査対象からの光を検出して前記検査対象の画像を取得する検出光学系と、
    を備えた検査装置。
17. 回転軸を囲む内周面を有する容器において、レーザ光の照射によりプラズマを発生する溶融金属を形成するステップと、
    前記回転軸を中心に前記容器を回転させ、遠心力によって前記内周面に前記溶融金属を拡げるステップと、
    拡がった前記溶融金属に対して、前記レーザ光を照射するステップと、
    前記レーザ光を照射することにより前記溶融金属から発生した前記プラズマからＥＵＶ光を生成するステップと、
    を備えたＥＵＶ光の生成方法。
18. 前記回転軸は鉛直方向に延び、
    前記内周面は、上方ほど外側に拡がったすり鉢状の部分を含む、
    請求項１７に記載のＥＵＶ光の生成方法。
19. 前記容器は、前記回転軸が延びる方向に移動可能である、
    請求項１７または１８に記載のＥＵＶ光の生成方法。
20. 前記溶融金属を覆うように配置されたデブリシールドをさらに備えた、
    請求項１７〜１９のいずれか一項に記載のＥＵＶ光の生成方法。
21. 生成された前記ＥＵＶ光が入射するとともに、入射した前記ＥＵＶ光を反射させる平面鏡をさらに備え、
    前記平面鏡は、前記平面鏡における前記ＥＵＶ光の入射角及び反射角を維持したまま、スライド移動可能である、
    請求項１７〜２０のいずれか一項に記載のＥＵＶ光の生成方法。
22. 前記溶融金属から発生したイオンの軌道を変化させる磁場を形成するステップをさらに備えた、
    請求項１７〜２１のいずれか１項に記載のＥＵＶ光の生成方法。
23. 前記磁場を形成するステップにおいて、前記イオンが前記容器の内部に到達するような前記軌道に変化させる前記磁場を形成する、
    請求項２２に記載のＥＵＶ光の生成方法。
24. 前記溶融金属を覆うように配置されたデブリシールドを備えるようにし、
    前記イオンが前記デブリシールドに到達するような前記軌道に変化させる前記磁場を形成する、
    請求項２２に記載のＥＵＶ光の生成方法。
25. 前記容器は、非磁性体のセラミックスを含み、
    前記磁場を形成するステップにおいて、磁石により前記磁場を形成し、前記磁石を前記容器の外側に配置し、キュリー温度よりも低い温度に保つ、
    請求項２２〜２４のいずれか１項に記載のＥＵＶ光の生成方法。
26. 前記デブリシールドを冷却する温度調整部をさらに備えた、
    請求項２０に記載のＥＵＶ光の生成方法。
27. 前記デブリシールドを冷却及び加熱する温度調整部をさらに備え、
    前記デブリシールドは、前記溶融金属を回収するように前記内周面に囲まれた領域に位置する部分を有する、
    請求項２０に記載のＥＵＶ光の生成方法。
28. 同心円状に配置された円筒状の内壁及び外壁を有し、前記内壁及び前記外壁の間に円環状に液体が充填された円環槽をさらに備え、
    前記容器は、下面から下方に突出した円筒状の円筒突起であって、前記回転軸を中心軸とした前記円筒突起を有し、
    前記円筒突起は、前記液体中を回転する、
    請求項１７に記載のＥＵＶ光の生成方法。
29. 前記液体は、液体金属またはイオン液体である、
    請求項２８に記載のＥＵＶ光の生成方法。
30. 前記容器に回転動力を伝達するシャフトを備え、
    前記シャフトは、ベアリングにより支持され、
    前記ベアリングは、前記容器の回転の回転軸受けの機能を有する、
    請求項２８または２９に記載のＥＵＶ光の生成方法。
31. 前記円筒突起は、前記円環槽の内壁に沿って摺動し、前記容器の回転の回転軸受けの機能を有する、
    請求項２８または２９に記載のＥＵＶ光の生成方法。
32. 請求項１７〜３１のいずれか一項に記載のＥＵＶ光の生成方法と、
    生成された前記ＥＵＶ光により検査対象を照明するステップと、
    前記ＥＵＶ光により照明された前記検査対象からの光を検出して前記検査対象の画像を取得するステップと、
    を備えた検査方法。

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