JP2020530385A

JP2020530385A - 水処理装置

Info

Publication number: JP2020530385A
Application number: JP2020506794A
Authority: JP
Inventors: ゲイリー・パウエル
Original assignee: ポーラー・ボルテックス・エルエルシー
Priority date: 2017-08-11
Filing date: 2018-08-13
Publication date: 2020-10-22
Also published as: CN110997575A; IL272293B2; MX2021010749A; EP3615473B1; IL272293A; DK3615473T3; CA3068385C; WO2019030741A1; ES2899685T3; PH12020500301A1; EP3922607A1; IL272293B; PL3615473T3; EP3615473A4; AU2018315753B2; AU2018315753A1; CA3068385A1; HRP20211905T1; KR20200041292A; US10995023B2

Abstract

本願発明は、プール水の効果的な消毒を提供するＡＯＰ（高度酸化プロセス）装置による水処理装置に関する。この装置は多様な標準プール機器に適合する継手を備える。装置本体の反応室内にはノズルと金属触媒が設けられている。ノズルは、金属触媒に衝突する水ジェットを生成し、気泡を生成する。水に同伴した気泡は崩壊し、高温および高圧の変化を引き起こす。これらの変化により、水は化学的に解離し、反応性が非常に高い酸化剤であるヒドロキシルラジカルが生成される。ヒドロキシルは水中の有機汚染物質に付着して高速に破壊する。金属触媒は化学的に変化しないため、本装置は長寿命であり、プール内の化学物質の必要性を大幅に削減する。

Description

本願発明は、一般には水処理装置に関し、より具体的には、本願発明は、一連のノズルとプール水を濾過および消毒するための金属触媒とを含む水処理装置に関する。本願発明により、ユーザーは、有害な化学物質の使用を抑えながら、スイミングプールに藻類およびバクテリアが入らないようにすることができる。

本願は、２０１７年８月１１日に出願された米国仮特許出願番号６２／５４４５９４を基礎とする優先権を主張する。

暑い夏の日に泳ぐことは、暑さを避けリラックスするための最良の方法の一つである。しかし、プールが適切に維持され、水が清潔で活動に安全であるという確信を持つことはほぼ不可能である。市場には、プールの水を濾過および消毒するための多くの利用可能な方法がある。最も一般的に使用される方法と装置は、化学物質または非常に複雑な濾過システムにより、水から有害な細菌と不要な粒子を除去する。塩素は細菌を殺し、藻類を制御するため、全米および世界中のプールで広く使用されている。プールの壁と底を清潔に保ち、藻類の成長を防ぐために、他の化学物質も追加される。一般にプールの水は強く処理されているため、塩素アレルギーや敏感肌の人にとって健康上の問題が生じる可能性がある。皮膚のかゆみや鼻水などの不快な症状が発生し、プールの体験全体が望ましくないものになる可能性がある。健康問題のない人々にとっても、塩素処理されたプール水は、臭いが特に強く、遊泳者の目に到達すると不快感を引き起こす可能性があるため、問題になり得る。

通常、塩素系の物質は水のｐＨ（水素イオン指数）を上昇させるため、影響を受ける水のｐＨのレベルを許容可能な中性値に下げるために塩酸の添加が必要となる。プール内の水質の不適切な監視は、競泳選手などの常に水に触れる遊泳者に複数の健康問題を引き起こす可能性がある。人々は、安全であると想定される制御された環境があることを前提に、プールで泳ぐことを選択するが、上記の様々な潜在的問題により、重大な健康被害がもたらされる可能性がある。

ゆえに、プールの水を濾過して消毒するための代替の方法と装置が不可欠でである。過去半世紀にわたって、スイミングプールでの塩素などの化学物質の使用を完全に排除または大幅に削減するための多くの代替の方法が発見された。現在、プールの水を消毒するための４つの一般的選択肢がある。すなわち、塩塩素発生器、臭素消毒剤、イオナイザー、および高度酸化剤プロセス（ＡＯＰ）である。

塩塩素発生器は、通常、プール機器の電源に接続され、プールで使用されている従来の塩素消毒剤よりも刺激が少ない形態の塩素を生成する。この形態の塩素には、従来の塩素消毒剤のような臭いや刺激性はないため、通常、遊泳者の目や皮膚への刺激が少なくなる。従来型の塩素をプールに直接注いで水を処理する代わりに、塩塩素発生器は、さらに塩が必要になるまで塩素を生成し続ける。しかし、通常、この装置は追加の塩電池の追加のために初期コストと保守コストが高くなるという課題がある。さらに、塩塩素発生器はスイミングプールの水の塩濃度を過剰にする。このような水は腐食性であり、プールライナー、手すり、照明器具などプール機器に損傷を与える可能性がある。

臭素は、塩素と同様に細菌や有機物などの水質汚染物質との反応により水を消毒するが、そのプロセスは異なる。塩素は、汚染物質と反応して結合すると不活性状態になるが、臭素は塩素より安定しており、特に温水において汚染物質と結合した後でも機能し続けるため、塩素よりも長持ちする。さらに、臭素は塩素よりも化学物質のような臭いが少なく、刺激も少ない。しかし、臭素は遊泳者の皮膚に付着すると除去するのがより困難である。さらに、臭素は塩素よりも高価であり、通常は経済的な選択肢ではない。

イオナイザーは、通常、銅、銀、ニッケルなどの金属製の帯電電極を使用して、イオンをプール水に放出する。その後、金属イオンは汚染物質と結合してそれを無効化する。通常、このタイプの消毒剤は安価である。イオナイザーの金属電極の交換も高価ではない。さらに、イオナイザーは、臭い、皮膚刺激、機器の腐食など、塩素がもたらす多くの問題を引き起こさない。ただし、イオナイザーはプールの水を酸化させないため、イオンが汚染物質を除去するのには時間を要する。さらに、銅などの金属汚染が発生する可能性があり、保守費用がかかる可能性がある。

ＡＯＰ装置は、酸化の化学プロセスを利用して、プール水から有機汚染物質を除去する。この装置は、反応性が高く不安定な化学種であるヒドロキシルラジカルを生成する。ヒドロキシルは、細胞に付着し、組成物を破壊することにより、有機汚染物質を殺す。加えて、主に商業用スイミングプールで健康上の懸念になっている、塩素耐性のクリプトスポリジウム・パルバムも殺すことができる。さらに、ヒドロキシルは、塩素、臭素、一過硫酸カリウム、過酸化水素、オゾンなどのほとんどのプール水処理酸化剤よりもきわめて高い酸化能力を有する。したがって、ヒドロキシルは有機物質と迅速に反応し、ユーザーは他の消毒方法と比較して、処理後にプールを使用するために長時間待つ必要がない。ＡＯＰ装置には、ヒドロキシルの生成方法にしたがい、４つのタイプがある。水の電気分解、直接オゾン注入、紫外線（ＵＶ）加速オゾンシステム、および、直接ヒドロキシル注入である。

水電解装置は、一般に、通常は水に浸された銅と銀を帯電した電極、すなわち、カソードとアノードを含む。電荷が加わると、電極が崩壊し、同時に水分子が水素原子とヒドロキシルラジカルに解離する。このタイプの装置は、長期的には金属電極を交換する必要があるだけでなく、プール水中の電流に関する安全性の懸念をもたらすことがある。

オゾンは塩素よりも強力な酸化剤であるため、オゾンガスをプール水に直接注入すると、水を高速で消毒できる。オゾンの半減期は短いため、通常は、生産後すぐに使用される。オゾンは、プールの水戻りラインでのみ有効である。プールの水に戻された後、通常、オゾンは大気中に放出される。さらに、プール内の高濃度のオゾンは有害な可能性があるため、健康と安全の懸念事項になる。ＵＶ加速オゾンシステムなどのオゾンベースのＡＯＰシステムは、酸素をＵＶランプに通すことによりオゾンを生成する。直接ヒドロキシル注入システムは、大気中の酸素ガスを処理することにより酸素原子を生成する。酸素原子がプールに注入され、その後、水中に多数のヒドロキシルが生成される。ヒドロキシルラジカルはオゾンよりも強力な酸化剤であるため、直接ヒドロキシル注入は一般にオゾンによるシステムよりも効果的である。ただし、酸素を処理してヒドロキシルを生成するには、通常、大きなコストを要する。

本願発明は、使用者にとって清潔で安全な水泳の環境を作り出すことを目的とし、同時に、広範囲の保守を必要とする刺激性の強い化学物質や複雑なフィルターの必要性を減らす。本願発明はまた、塩素およびｐＨレベルの定期的監視の必要性を減少させるため、プール機器の保守を効率的かつ容易にする。本願発明は、効果的なＡＯＰシステムとして、ＡＯＰシステムが提供するすべての利点を提供すると同時に従来のＡＯＰに関連する問題を解決する。本願発明は、製造および保守コストが低い単純な構造を含む。本願発明の好ましい実施形態は、本体内部の反応室を含む。反応室は、複数の面取りされた穴と金属触媒を備えたノズルを含む。プールの水が水循環システムによって本体に注入されると、ノズルの複数の穴を通して水の圧力と温度が急激に変化する。その後、水が泡を形成し、泡が崩壊して金属触媒に入る。水泡の急激な変化は、水分子の化学的解離を引き起こし、水素原子とヒドロキシルラジカルを生成する。新たに生成されたヒドロキシルラジカルは、有機物質と反応し、プール水から汚染物質を効果的に除去する。蒸気の泡が崩壊すると、熱、高調波、振動の増加など、複数の効果が発生し、それらはすべて消毒プロセスに寄与する。結果として生じる強いヒドロキシルは、水中の懸濁粒子が凝固して懸濁状態から脱落する環境を作り出す。このプロセスでは、金属触媒は化学反応に関与しないが、水分子の解離を大幅に加速する。本願発明における金属触媒は長い耐用年数を有し、装置の保守を最小限に抑える。化学物質の使用量を減らすことにより、関連する通常の副作用が防止されるため、本願発明の使用者は、健康への影響を継続的に懸念することなく、快適な水泳体験を楽しむことができる。

本願発明の等角図である。切断面Ａの方向を示す本願発明の正面図である。本願発明の切断面Ａの上面図である。本願発明のインレットおよび水圧調波ノズルを示す本願発明の右側面図である。本願発明のアウトレットおよび触媒保持板を示す本願発明の左側面図である。

すべての図は、本願発明の選択されたバージョンを説明するためのものであり、本願発明の範囲を限定することを意図するものではない。

人々はしばしば安全な水泳環境を求めるが、自然の水域は汚染レベルや野生生物の点で不確実であり、通常は地域の気候による季節的変動があるため、清潔な水環境を管理する必要性が生じた。スイミングプールはそのような環境を提供する。しかし、ほとんどの場合、清潔で快適な体験を維持するために、人間の健康に悪影響を与える可能性のある刺激性の化学物質を使用して、水を常に濾過して処理する必要がある。

図１および図２に示すように、本願発明は、第１の継手（１０）、インレット（２０）、本体（３０）、アウトレット（４０）、および、第２の継手（５０）を備える水処理装置である。第１の継手（１０）は、インレット（２０）の末端に、それと同心で、本体（３０）の反対側に接続される。第１の継手（１０）は、本願発明に係る装置を既存のプール水循環システムに接続する手段を提供し、消毒のために加圧水が水処理装置に入ることを可能にする。第１の継手（１０）は、複数の業界標準の濾過システムのアタッチメントに容易に適合可能である。インレット（２０）は、本体（３０）の末端にそれと同心で接続され、第１の継手（１０）と本体（３０）との間に配置される。インレット（２０）は、第１の継手（１０）から本体（３０）への水の流入を案内する。消毒プロセスが行われる本体（３０）を水が流れると、バクテリアや有機物などの汚染物質が水から除去される。アウトレット（４０）は、インレット（２０）とは反対側に、本体（３０）の末端にそれと同心で接続される。第２の継手（５０）は、第１の継手（１０）とは反対側のアウトレット（４０）の末端に、それと同心状に接続され、第１の継手（１０）と同様に、さまざまな標準濾過システムに適合することが可能である。消毒された水は、本体（３０）から、アウトレット（４０）を通って流れ、第２の継手（５０）を通ってプール循環流に戻る。

図２および図３に示すように、本願発明の好ましい実施形態では、インレット（２０）は、第１の狭いセクション（２１）および第１の広いセクション（２２）を含む。第１の狭いセクション（２１）は、第１の継手（１０）の末端に、それと同心で接続される。第１の広いセクション（２２）は、第１の狭いセクション（２１）に対して第１の継手（１０）の反対側に、本体（３０）と末端かつそれと同心で接続される。第１の狭いセクション（２１）と第１の広いセクション（２２）は、本体（３０）に備えられた水圧調和ノズル（３２）に水流を導くために同心に接続されている。アウトレット（４０）は、第２の広いセクション（４１）および第２の狭いセクション（４２）を含む。第２の広いセクション（４１）は、第１の狭いセクション（２２）の反対側で、本体（３０）の末端に、それと同心で接続されている。第２の狭いセクション（４０）は、第１の狭いセクション（２１）の反対側で、第２の継手（５０）の末端に、それと同心で接続されている。第２の広いセクション（４１）と第２の狭いセクション（４２）は、第２の継手（５０）を通して処理水を本願発明に係る装置から流出させるように同心に接続されている。インレットとアウトレットが対称的な構造と配置になっていることにより、水消毒装置がプールの水循環システムに接続された際に、バランスのとれた水流が提供される。

図３に示すように、本願発明に係る装置の本体（３０）は、反応室（３１）、水圧調和ノズル（３２）、金属触媒（３３）、および、触媒保持板（３４）を含む。水圧調和ノズル（３２）は、インレット（２０）に隣接する反応室（３１）内に配置される。図４に示すように、触媒保持板（３４）は、水圧高調波ノズル（３２）の反対側で、アウトレット（４０）に隣接し、反応室（３１）内に同心で配置される。金属触媒（３３）は、水圧調和ノズル（３２）と触媒保持板（３４）との間に配置される。触媒保持板（３４）は、触媒保持板（３４）全体にわたって分布する複数の貫通孔（３４１）を備える。触媒保持板（３４）は、処理された水が本体（３０）から流れ出すことを助けると共に、反応室（３１）内に金属触媒（３３）と水圧調和ノズル（３２）を保持する役割を果たす。触媒保持板（３４）は、ニッケルなどの金属、ＰＶＣ、またはそれらの組み合わせなどの耐腐食性素材で作られるべきであるが、素材はそれらに限定されない。触媒保持板（３４）は、反応室（３１）を本体（３０）の内部に保持するとともに、反応室（３１）の内部の水乱流によって生じる力に耐えることができるよう設計されている。

図３および図４に示すように、水圧調和ノズル（３２）は、円形ディスク（３２１）と複数の面取り穴（３２２）を含む。円形ディスク（３２１）は、触媒保持板（３４）とは反対側の反応室（３１）内で同心に配置される。複数の面取り穴（３２２）は、円形ディスク（３２１）にわたって分布し、複数の面取り穴（３２２）のそれぞれは、インレット（１０）と隣接する側に面取りを有する。本願発明の好ましい実施形態では、複数の面取り穴（３２２）のそれぞれは４５度の面取りを含むが、他の任意の適切な面取りを使用してもよい。プール水循環システムにより、プール水がインレット（２０）および水圧調和ノズル（３２）に送り込まれると、水は最初に複数の面取り穴（３２２）のそれぞれの面取り部分を通り、次により小さい穴を通って流れる。複数の面取り穴（３２２）から出る時に、水圧が劇的に変化し、高速ジェットに変わる。水ジェットは、金属触媒（３３）に衝突した後、水圧が大幅に低下するジェットのよどみ領域に気泡を作る。これらの気泡は水流と共に流れる。低圧領域を離れると、気泡が崩壊し始め、かなりの量の熱エネルギーと衝撃波が水の中を伝播する。この気泡形成と崩壊のプロセス中に作成される高い圧力と温度により、以下の化学式に示すように、水はヒドロキシルラジカルと水素原子に解離する。

ヒドロキシルラジカルは、反応性が高く不安定な化学種である。反応室（３１）内でプロセスが継続すると、ますます多くのヒドロキシルラジカルが水中で生成される。ヒドロキシルラジカルは、すぐに水中の有機汚染物質の細胞に付着し、組成物を破壊し、破壊と破壊を引き起こす。さらに、ヒドロキシルは、塩素、臭素、一過硫酸カリウム、過酸化水素、オゾンなどのほとんどのプール水処理酸化剤よりも高い酸化能力を有するため、非常に高速に有機材料と反応する。ゆえに、ユーザーは、他の消毒方法と比較して、プールを使用するために処理を長時間待つ必要がない。

金属触媒（３３）は、様々な金属、様々な金属の物理的および化学的組み合わせ、および、様々な形態および形状を有してよい。本願発明の金属触媒（３３）の好ましい実施形態は、ニッケル／銅ワイヤ・コイルである。他の実施形態には、ニッケル／銅ワイヤ・メッシュ、焼結ニッケル／銅メッシュ、ニッケル／銅メッシュ・ディスク、銅合金ワイヤ・メッシュ、銅合金ワイヤ・コイル、銅合金ディスクなどが含まれる。金属触媒（３３）は、蒸気の泡が崩壊した後の、水分子の化学解離反応を促進する。金属触媒（３３）は化学的形態を保持するため、反応は無限に進行し、金属触媒を交換する必要はない。従来のイオン化システムでは、全体的動作時間が長くなるとイオン化により材料が消費され、材料が摩耗したり効果がなくなったりした時に一定の間隔で交換する必要が生じる。本願発明における金属触媒（３３）は、反応室の耐摩耗性および耐腐食性の両方を増大させ、本願発明に係る装置の寿命を増大させる。これにより、ユーザーにとって最小のコストで、長期にわたる動作が保証される。本願発明に係る装置のユーザーは、化学物質の使用量を減らし、これらの物質がもたらす副作用を防止できるため、水の健康への影響を継続的に心配することなく、快適な水泳体験を楽しむことができる。

本願発明をその好ましい実施形態に関連して説明したが、特許請求の範囲に記載された本願発明の精神および範囲から逸脱することなく、他の多くの可能な修正および変更が可能であることを理解されたい。

Claims

第１の継手と、
インレットと、
本体と、
アウトレットと、
第２の継手とを含み、
前記第１の継手は、前記本体と反対側で、前記インレットの末端に、前記インレットと同心で接続され、
前記インレットは、前記本体の末端に、前記本体と同心で接続され、
前記アウトレットは、前記インレットと反対側で、前記本体の末端に、前記本体と同心で接続され、
前記第２の継手は、前記第１の継手と反対側で、前記アウトレットの末端に、前記アウトレットと同心で接続され、
前記本体は、水圧調和ノズルと、反応室と、金属触媒と、触媒保持板とを含み、
前記水圧調和ノズルは、前記反応室内で、前記インレットに隣接して位置し、
前記触媒保持板は、前記反応室内で、前記インレットに隣接して、前記水圧調和ノズルの反対側に位置し、
前記金属触媒は、前記水圧調和ノズルと前記触媒保持板との間に位置する、
プール水消毒のための水処理装置。
さらに、前記水圧調和ノズルは、円形ディスクと複数の面取り穴とを含み、
前記円形ディスクは、前記反応室内で、前記反応室と同心に位置し、
前記複数の面取り穴は、前記円形ディスク全体にわたって分布し、
前記複数の面取り穴のそれぞれは面取りされた部分を含み、前記面取りされた部分は前記インレットと隣接する、
請求項１に記載のプール水消毒のための水処理装置。
前記複数の面取り穴のそれぞれの前記面取りされた部分は４５度の面取りである、
請求項２に記載のプール水消毒のための水処理装置。
前記金属触媒は、ニッケルと銅の組み合わせであり、前記組み合わせはワイヤ・コイルである、
請求項１に記載のプール水消毒のための水処理装置。
前記金属触媒は、ニッケルと銅の組み合わせであり、前記組み合わせはワイヤ・メッシュである、
請求項１に記載のプール水消毒のための水処理装置。
前記金属触媒は、ニッケルと銅の組み合わせであり、前記組み合わせは焼結メッシュである、
請求項１に記載のプール水消毒のための水処理装置。
前記金属触媒は、ニッケルと銅の組み合わせであり、前記組み合わせはメッシュ・ディスクである、
請求項１に記載のプール水消毒のための水処理装置。
前記触媒保持板は、複数の貫通孔を含み、
前記複数の貫通孔は前記触媒保持板全体にわたって分布する、
請求項１に記載のプール水消毒のための水処理装置。
さらに、前記インレットは、第１の狭いセクションと第１の広いセクションを含み、
前記アウトレットは、第２の狭いセクションと第２の広いセクションを含み、
前記第１の狭いセクションは、前記第１の継手の末端に、前記第１の継手と同心で接続しており、
前記第１の広いセクションは、前記第１の狭いセクションをはさんで、前記第１の継手の反対側の位置で、前記本体の末端に、前記本体と同心で接続され、
前記第２の広いセクションは、前記第１の広いセクションの反対側の位置で、前記本体の末端に、前記本体と同心で接続され、
前記第２の狭いセクションは、前記第１の狭いセクションの反対側の位置で、前記第２の継手の末端に、前記第２と同心で接続されている、
請求項１に記載のプール水消毒のための水処理装置。
第１の継手と、
インレットと、
本体と、
アウトレットと、
第２の継手とを含み、
前記第１の継手は、前記本体と反対側の位置で、前記インレットの末端に、前記インレットと同心で接続され、
前記インレットは、前記本体の末端に、前記本体と同心で接続され、
前記アウトレットは、前記インレットと反対側の位置で、前記本体の末端に、前記本体と同心で接続され、
前記第２の継手は、前記第１の継手と反対側の位置で、前記アウトレットの末端に、前記アウトレットと同心で接続され、
前記本体は、水圧調和ノズルと、反応室と、金属触媒と、触媒保持板とを含み、
前記水圧調和ノズルは、前記反応室内で、前記インレットに隣接して位置し、
前記触媒保持板は、前記反応室内で、前記インレットに隣接して、前記水圧調和ノズルの反対側に位置し、
前記金属触媒は、前記水圧調和ノズルと前記触媒保持板との間に位置し、
前記水圧調和ノズルは、円形ディスクと複数の面取り穴とを含み、
前記円形ディスクは、前記反応室内で、前記反応室と同心に位置し、
前記複数の面取り穴のそれぞれは、前記円形ディスク全体にわたって分布し、
前記複数の面取り穴のそれぞれは面取りされた部分を含み、前記面取りされた部分は前記インレットと隣接している、
プール水消毒のための水処理装置。
前記複数の面取り穴のそれぞれの前記面取りされた部分は４５度の面取りである、
請求項１０に記載のプール水消毒のための水処理装置。
前記金属触媒は、ニッケルと銅の組み合わせであり、前記組み合わせはワイヤ・コイルである、
請求項１０に記載のプール水消毒のための水処理装置。
前記金属触媒は、ニッケルと銅の組み合わせであり、前記組み合わせは焼結メッシュである、
請求項１０に記載のプール水消毒のための水処理装置。
前記金属触媒は、ニッケルと銅の組み合わせであり、前記組み合わせは焼結メッシュである、
請求項１０に記載のプール水消毒のための水処理装置。
前記金属触媒は、ニッケルと銅の組み合わせであり、前記組み合わせはメッシュ・ディスクである、
請求項１０に記載のプール水消毒のための水処理装置。
前記触媒保持板は、複数の貫通孔を含み、
前記複数の貫通孔は前記触媒保持板全体にわたって分布する、
請求項１０に記載のプール水消毒のための水処理装置。
さらに、前記インレットは、第１の狭いセクションと第１の広いセクションを含み、
前記アウトレットは、第２の狭いセクションと第２の広いセクションを含み、
前記第１の狭いセクションは、前記第１の継手の末端に、前記第１の継手と同心で接続しており、
前記第１の広いセクションは、前記第１の狭いセクションをはさんで、前記第１の継手の反対側の位置で、前記本体の末端に、前記本体と同心で接続され、
前記第２の広いセクションは、前記第１の広いセクションの反対側の位置で、前記本体の末端に、前記本体と同心で接続され、
前記第２の狭いセクションは、前記第１の狭いセクションの反対側の位置で、前記第２の継手の末端に、前記第２と同心で接続されている、
請求項１０に記載のプール水消毒のための水処理装置。
第１の継手と、
インレットと、
本体と、
アウトレットと、
第２の継手とを含み、
前記第１の継手は、前記本体と反対側の位置で、前記インレットの末端に、前記インレットと同心で接続され、
前記インレットは、前記本体の末端に、前記本体と同心で接続され、
前記アウトレットは、前記インレットと反対側の位置で、前記本体の末端に、前記本体と同心で接続され、
前記第２の継手は、前記第１の継手と反対側の位置で、前記アウトレットの末端に、前記アウトレットと同心で接続され、
前記本体は、水圧調和ノズルと、反応室と、金属触媒と、触媒保持板とを含み、
前記水圧調和ノズルは、前記反応室内で、前記インレットに隣接して位置し、
前記触媒保持板は、前記反応室内で、前記インレットに隣接して、前記水圧調和ノズルの反対側に位置し、
記金属触媒は、前記水圧調和ノズルと前記触媒保持板との間に位置し、
前記水圧調和ノズルは、円形ディスクと複数の面取り穴とを含み、
前記円形ディスクは、前記反応室内で、前記反応室と同心に位置し、
前記複数の面取り穴は、前記円形ディスク全体にわたって分布し、
前記複数の面取り穴のそれぞれは面取りされた部分を含み、前記面取りされた部分は前記インレットと隣接し、
前記インレットは、第１の狭いセクションと第１の広いセクションを含み、
前記アウトレットは、第２の狭いセクションと第２の広いセクションを含み、
前記第１の狭いセクションは、前記第１の継手の末端に、前記第１の継手と同心で接続しており、
前記第１の広いセクションは、前記第１の狭いセクションをはさんで、前記第１の継手の反対側の位置で、前記本体の末端に、前記本体と同心で接続され、
前記第２の広いセクションは、前記第１の広いセクションの反対側の位置で、前記本体の末端に、前記本体と同心で接続され、
前記第２の狭いセクションは、前記第１の狭いセクションの反対側の位置で、前記第２の継手の末端に、前記第２と同心で接続されている、

プール水消毒のための水処理装置。
前記複数の面取り穴のそれぞれの前記面取りされた部分は４５度の面取りである、
請求項１８に記載のプール水消毒のための水処理装置。
前記金属触媒は、ニッケルと銅の組み合わせであり、前記組み合わせはワイヤ・コイルである、
請求項１８に記載のプール水消毒のための水処理装置。