JP2020519254A5 - - Google Patents

Claims (19)

1. ａ．分析物を含むサンプルを提供する工程；及び
   ｂ．チャネル中の等速電気泳動（ＩＴＰ）によって前記分析物を濃縮する又は輸送する工程
   を含む方法であって、
   前記チャネルの表面はシリコン基板を含み、前記シリコン基板は絶縁層を含む
   ことを特徴とする方法。
2. 前記絶縁層は酸化ケイ素を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. 前記絶縁層は少なくとも約２５０ナノメートルの厚さである、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
4. 前記表面は少なくとも１つのウェルを含む、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
5. 前記少なくとも１つのウェルはマイクロウェルである、ことを特徴とする請求項４に記載の方法。
6. 前記少なくとも１つのウェルはウェルのアレイを含む、ことを特徴とする請求項４に記載の方法。
7. プローブが前記表面に結合される、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
8. 前記プローブはアレイに配置される、ことを特徴とする請求項７に記載の方法。
9. 前記アレイの単一の特徴のプローブは、プローブの少なくとも２つの種を含む、ことを特徴とする請求項８に記載の方法。
10. 前記プローブの少なくとも２つの種は各々、同じ被験体に特異的である、ことを特徴とする請求項９に記載の方法。
11. 前記被験体は、有機体の種、有機体の株、有機体の分岐群、遺伝学的変異体、病原体の形質、抵抗性の形質、および有機体の種の個々のメンバーからなる群から選択される、ことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
12. 前記ＩＴＰは、約８００ボルト以下の電圧で実施される、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
13. 前記チャネルは、１００マイクロメートル以下の高さを持つ、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
14. 前記チャネルは、狭窄部分又はテーパー状部分を含まない、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
15. 前記チャネルは、２０００マイクロメートル以下の幅を持つ、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
16. 前記分析物は核酸を含む、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
17. 前記分析物を前記表面上のプローブに結合する工程を更に含む、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
18. 前記分析物を検出する工程を更に含む、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
19. 前記分析物を前記表面上のプローブに結合する工程、及び前記分析物を検出する工程を更に含み、ここで、前記方法は約６０分以下で実施される、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。