JP2020515708A - Component device for fastening carrier to device - Google Patents
Component device for fastening carrier to device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020515708A JP2020515708A JP2019536058A JP2019536058A JP2020515708A JP 2020515708 A JP2020515708 A JP 2020515708A JP 2019536058 A JP2019536058 A JP 2019536058A JP 2019536058 A JP2019536058 A JP 2019536058A JP 2020515708 A JP2020515708 A JP 2020515708A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier
- fastening element
- fastening
- substrate
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67709—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations using magnetic elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67712—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
- H01L21/682—Mask-wafer alignment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
- H01L21/68728—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a plurality of separate clamping members, e.g. clamping fingers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
処理チャンバ内での処理中に、キャリアをデバイスに固定又は締結するための構成装置が提供される。構成装置はキャリアに連結される第1の締結要素、及びデバイスに連結される第2の締結要素を備える。第1の締結要素及び第2の締結要素は、互いに対して固定可能又は締結可能であるように構成されている。構成装置は更に、第1の締結要素及び第2の締結要素のうちの1つが機能しなくなったときにキャリアを支持する停止要素を備える。【選択図】図6A component is provided for securing or fastening the carrier to the device during processing in the processing chamber. The component device comprises a first fastening element connected to the carrier and a second fastening element connected to the device. The first fastening element and the second fastening element are configured such that they can be fixed or fastened to each other. The component device further comprises a stop element that supports the carrier when one of the first fastening element and the second fastening element fails. [Selection diagram] Fig. 6
Description
[0001] 本開示の実施形態は、キャリアをデバイスに固定する又は締結するための装置に関連し、より具体的には、処理チャンバ内での処理中の位置合わせデバイス(alignment device)に関する。また、本開示の実施形態は、基板又はマスクを支持するためのキャリア、基板上に層を堆積するための装置(apparatus)、並びに、保持及び位置合わせの構成装置(arrangements)に関する。 [0001] Embodiments of the present disclosure relate to apparatus for securing or fastening a carrier to a device, and more particularly to an alignment device during processing in a processing chamber. Embodiments of the present disclosure also relate to carriers for supporting a substrate or mask, apparatus for depositing layers on the substrate, and holding and alignment arrangements.
[0002] 基板に材料を堆積させるための幾つかの方法は既知である。一例として、基板は、蒸発プロセス、物理的気相堆積(PVD)プロセス(スパッタリングプロセスや噴霧プロセスなど)、又は化学気相堆積(CVD)プロセスを使用することによって、コーティングされうる。プロセスは、コーティングされる基板が配置される堆積装置の処理チャンバ内で実行されうる。堆積材料は処理チャンバ内に供給される。有機材料、分子、金属、酸化物、窒化物、及び炭化物などの複数の材料が、基板上への堆積に使用されうる。更に、エッチング、構造化(structuring)、アニール処理などといったその他の処理が、処理チャンバ内で実行されうる。 [0002] Several methods are known for depositing materials on substrates. As an example, the substrate may be coated by using an evaporation process, a physical vapor deposition (PVD) process (such as a sputtering process or a spray process), or a chemical vapor deposition (CVD) process. The process may be carried out in the processing chamber of a deposition apparatus in which the substrate to be coated is placed. Deposition material is provided in the processing chamber. Multiple materials such as organic materials, molecules, metals, oxides, nitrides, and carbides can be used for deposition on the substrate. In addition, other processes such as etching, structuring, annealing processes, etc. may be performed in the processing chamber.
[0003] 例えば、コーティングプロセスは、例としてはディスプレイ製造技術における、大面積基板向けのものとみなされうる。コーティングされた基板は、幾つかの用途及び幾つか技術分野において使用されうる。例えば、1つの用途は有機発光ダイオード(OLED)パネルである。さらなる用途としては、絶縁パネル、半導体デバイスなどのマイクロエレクトロニクス、薄膜トランジスタ(TFT)付き基板、カラーフィルタなどが含まれる。OLEDは、電気の印加により光を発する(有機)分子の薄膜で構成された固体デバイスである。一例としては、OLEDディスプレイは、電子デバイスに明るいディスプレイを提供することができ、例えば、液晶ディスプレイ(LCD)と比較して使用電力を低減することが可能である。処理チャンバ内では、有機分子が、生成され(例えば、蒸発、スパッタリング、又は噴霧される等)、基板上に層として堆積される。材料は、例えば、境界又は特定のパターンを有するマスクを通過することができ、それにより、基板上の所望の位置に材料が堆積され、例えば、基板上にOLEDパターンが形成される。 [0003] For example, the coating process may be considered for large area substrates, for example in display manufacturing technology. Coated substrates can be used in some applications and in some technical fields. For example, one application is in organic light emitting diode (OLED) panels. Further applications include insulating panels, microelectronics such as semiconductor devices, substrates with thin film transistors (TFTs), color filters and the like. An OLED is a solid-state device composed of a thin film of (organic) molecules that emit light when electricity is applied. As an example, OLED displays can provide bright displays for electronic devices, and can use less power, for example, compared to liquid crystal displays (LCDs). Within the processing chamber, organic molecules are generated (eg, evaporated, sputtered, or atomized, etc.) and deposited as a layer on the substrate. The material can pass, for example, a mask having boundaries or a specific pattern, which deposits the material at desired locations on the substrate, eg, forming an OLED pattern on the substrate.
[0004] 処理された基板の品質、特に堆積層の品質に関連する一側面は、マスクに対する基板の位置合わせである。例えば、良好な処理結果を実現するためには、位置合わせは正確かつ安定的でなければならない。したがって、マスクに対して基板を位置合わせするため、基板及び/又はマスクキャリアに連結されるデバイスが使用される。しかしながら、基板とマスクとの位置合わせに使用されるシステムは、振動などの外部干渉を受けやすいことがある。このような外部干渉は、処理中に基板とマスクの位置合わせを損なうことがあり、処理後の基板の品質を低下させる結果となり、特に堆積層の位置合わせが損なわれることがある。したがって、マスクに対して基板を位置合わせするために使用されるデバイスは、確実な方法でキャリアに固定可能であると都合がよい。 [0004] One aspect related to the quality of processed substrates, and in particular the quality of deposited layers, is the alignment of the substrate with respect to the mask. For example, alignment must be accurate and stable in order to achieve good processing results. Therefore, a device coupled to the substrate and/or the mask carrier is used to align the substrate with respect to the mask. However, the system used to align the substrate and the mask can be subject to external interference such as vibration. Such external interference can impair the alignment of the substrate with the mask during processing, resulting in poor quality of the substrate after processing, and especially alignment of the deposited layer. Therefore, the device used to align the substrate with respect to the mask is conveniently fixable to the carrier in a reliable manner.
[0005] キャリアに位置合わせデバイスを固定するため、キャリアは、例えば、キャリアとデバイスの表面にそれぞれ存在する専用の締結要素を相互作用させることによって、デバイスに締結することができる。 [0005] To secure the alignment device to the carrier, the carrier can be fastened to the device by, for example, interacting with the carrier and dedicated fastening elements respectively present on the surface of the device.
[0006] 以上のことから、キャリアとキャリアに連結されたデバイスとの間の締結動作を改善するために提供されうる、構成装置(arrangements)、キャリア及び装置が必要となる。 [0006] From the above, there is a need for arrangements, carriers and devices that can be provided to improve the fastening operation between a carrier and a device coupled to the carrier.
[0007] 上記に照らして、処理チャンバ内での処理中にキャリアをデバイスに固定又は締結するための構成装置、基板を支持するためのキャリア、基板上に層を堆積するための装置、保持及び位置合わせの構成装置が提供される。本開示のさらなる態様、利点、及び特徴は、特許請求の範囲、明細書、及び添付の図面から明らかにされる。 [0007] In light of the above, a component apparatus for securing or fastening a carrier to a device during processing in a processing chamber, a carrier for supporting a substrate, an apparatus for depositing a layer on a substrate, a holding and An alignment component is provided. Further aspects, advantages and features of the disclosure will be apparent from the claims, the description and the accompanying drawings.
[0008] 一実施形態により、処理チャンバ内での処理中にキャリアをデバイスに固定又は締結するための構成装置が提供される。構成装置は、キャリアに連結された第1の締結要素、デバイスに連結された第2の締結要素を含み、第1の締結要素と第2の締結要素は、互いに対して固定可能又は締結可能であるように構成されており、構成装置はまた、第1の締結要素と第2の締結要素のうちの1つが機能しなくなったときにキャリアを支持するための停止要素を含む。 [0008] One embodiment provides a component for securing or fastening a carrier to a device during processing in a processing chamber. The component device comprises a first fastening element connected to the carrier, a second fastening element connected to the device, the first fastening element and the second fastening element being fixable or fastenable with respect to each other. As configured, the configuration device also includes a stop element for supporting the carrier when one of the first fastening element and the second fastening element fails.
[0009] 別の実施形態によれば、真空チャンバ内で基板又はマスクを支持するためのキャリアが提供される。キャリアは、キャリアをデバイスに固定又は締結するための締結構成装置と、締結構成装置が機能しなくなったときにキャリアを支持する停止要素を含む。 [0009] According to another embodiment, a carrier is provided for supporting a substrate or mask in a vacuum chamber. The carrier includes a fastening component for securing or fastening the carrier to the device and a stop element for supporting the carrier when the fastening component fails.
[0010] 別の実施形態によれば、基板上に層を堆積する装置が提供される。装置は、基板上への層堆積に適合された処理チャンバと、処理チャンバ内のキャリアに関して本書に記載の実施形態に従う構成装置と、基板上に層を形成する堆積材料のための堆積源とを含み、キャリアは、基板又は前記基板と堆積源との間に配置されるマスクを運ぶように構成されている。 [0010] According to another embodiment, an apparatus for depositing a layer on a substrate is provided. The apparatus comprises a processing chamber adapted for layer deposition on a substrate, a component apparatus according to embodiments described herein with respect to a carrier in the processing chamber, and a deposition source for deposition material that forms a layer on the substrate. A carrier is included and is configured to carry a substrate or a mask disposed between the substrate and a deposition source.
[0011] 別の実施形態によれば、保持及び位置合わせの構成装置が提供される。構成装置は、処理チャンバ内での処理中に基板キャリア及び/又はマスクキャリアになるキャリアを支持するための締結デバイスと、前記マスクキャリアに対して前記基板キャリアを移動するための位置合わせデバイスとを含み、締結デバイスは、少なくとも、基板キャリア又はマスクキャリアに連結された第1の締結要素と位置合わせデバイスに連結された第2の締結要素とを備え、第1の締結要素と第2の締結要素は、互いに対して固定可能又は締結可能であるように構成されており、保持及び位置合わせの構成装置は更に、第1の締結要素と第2の締結要素のうちの1つが機能しなくなったときにキャリアを支持する停止要素を備える。 [0011] According to another embodiment, a retention and alignment component is provided. The component apparatus includes a fastening device for supporting a carrier that becomes a substrate carrier and/or a mask carrier during processing in the processing chamber, and an alignment device for moving the substrate carrier with respect to the mask carrier. The fastening device comprises at least a first fastening element coupled to the substrate carrier or the mask carrier and a second fastening element coupled to the alignment device, the first fastening element and the second fastening element being included. Are configured so that they can be fixed or fastened to each other, and the holding and aligning configuration device is further adapted when one of the first fastening element and the second fastening element fails. A stop element for supporting the carrier.
[0012] 本開示の上記の特徴を詳細に理解することができるように、実施形態を参照することによって、上で簡単に概説した本開示のより具体的な説明を得ることができる。添付の図面は、本開示の実施形態に関し、以下において説明される。 [0012] For a better understanding of the above features of the present disclosure, reference can be made to the embodiments to obtain a more specific description of the present disclosure briefly outlined above. The accompanying drawings are described below with respect to embodiments of the present disclosure.
[0013] 本開示の様々な実施形態について、これより詳細に参照する。これらの実施形態の一又は複数の実施例は、図面で示されている。図面の以下の説明において、同じ参照番号は同じ構成要素を表わす。個々の実施形態に関しては、相違点についてのみ説明する。本開示の説明として各実施例が提供されているが、実施例は、本開示を限定することを意図するものではない。更に、1つの実施形態の一部として図示又は説明されている特徴は、更なる実施形態を創出するために、他の実施形態で使用されることも、他の実施形態と併用されることも可能である。説明には、このような修正例及び変形例が含まれることが意図されている。 [0013] Reference will now be made in detail to various embodiments of the present disclosure. One or more examples of these embodiments are illustrated in the drawings. In the following description of the drawings, the same reference numbers represent the same components. With regard to the individual embodiments, only the differences will be described. While each example is provided by way of explanation of the present disclosure, the example is not intended to limit the present disclosure. Furthermore, features illustrated or described as part of one embodiment, can be used on another embodiment or combined with another embodiment to create a further embodiment. It is possible. The description is intended to include such modifications and variations.
[0014] 本書に記載の実施形態は、例えばディスプレイ製造向けに大面積基板の検査に利用されうる。本書に記載の装置及び方法が構成される基板又は基板受容領域は、例えば、1m2以上のサイズを有する大面積基板になりうる。例えば、大面積基板又はキャリアは、約0.67m2の基板(0.73m×0.92m)に相当するGEN4.5、約1.4m2の基板(1.1m×1.3m)に相当するGEN5、約4.29m2の基板(1.95m×2.2m)に相当するGEN7.5、約5.7m2の基板(2.2m×2.5m)に相当するGEN8.5、又は、約8.7m2の基板(2.85m×3.05m)に相当するGEN10でもありうる。GEN11及びGEN12などの更に大型の世代、並びに、それに相当する基板領域も、同様に実装されうる。例えば、OLEDディスプレイ製造に関しては、GEN6を含む上述の基板世代の半分のサイズが、材料蒸発用装置の蒸発によってコーティングされうる。基板世代の半分のサイズは、フル基板サイズの上で動作する幾つかのプロセス、及びあらかじめ処理された基板の半分の上で動作するその後のプロセスから生じる。 [0014] The embodiments described herein may be utilized in the inspection of large area substrates, such as for display manufacturing. The substrate or substrate receiving area in which the devices and methods described herein are constructed can be, for example, a large area substrate having a size of 1 m 2 or more. For example, large area substrates or carrier, corresponds to GEN4.5 corresponds to the substrate of about 0.67m 2 (0.73m × 0.92m), of about 1.4 m 2 substrate (1.1 m × 1.3 m) GEN5, GEN7.5 corresponding to a substrate of about 4.29 m 2 (1.95 m×2.2 m), GEN8.5 corresponding to a substrate of about 5.7 m 2 (2.2 m×2.5 m), or , GEN10 corresponding to a substrate (2.85 m×3.05 m) of about 8.7 m 2 . Larger generations such as GEN11 and GEN12, and corresponding board areas, can be implemented as well. For example, for OLED display manufacturing, half the size of the above mentioned substrate generation, including GEN6, can be coated by evaporation of a device for material evaporation. Half the size of the substrate generation results from some processes operating on the full substrate size and subsequent processes operating on half of the pre-treated substrates.
[0015] 本書で使用する「基板」という用語は具体的には、ウエハ、サファイアなどの透明結晶体のスライス、又はガラス板のような実質的非フレキシブル基板を含みうる。しかしながら、本開示はそれらに限定されるわけではなく、「基板」という用語は、ウェブや箔などのフレキシブル基板も含みうる。「実質的非フレキシブル」という用語は、「フレキシブル」とは区別して理解される。具体的には、0.5mm以下の厚さを有するガラスプレートなどの実質的に非フレキシブルな基板も、ある程度の可撓性を有することがあり、実質的に非フレキシブルな基板の可撓性は、フレキシブル基板と比較して低くなる。 [0015] As used herein, the term "substrate" may specifically include a wafer, a slice of a transparent crystal such as sapphire, or a substantially non-flexible substrate such as a glass plate. However, the present disclosure is not so limited and the term "substrate" may also include flexible substrates such as webs and foils. The term "substantially inflexible" is understood separately from "flexible". Specifically, a substantially non-flexible substrate such as a glass plate having a thickness of 0.5 mm or less may also have some flexibility, and the flexibility of the substantially non-flexible substrate is , Lower than flexible substrates.
[0016] 基板は、材料堆積に好適な任意の材料で作製されうる。例えば、基板は、ガラス(例えばソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラスなど)、金属、ポリマー、セラミック、複合材料、炭素繊維材料、若しくは、堆積プロセスによってコーティングされうる他の任意の材料又は材料の組み合わせからなる群から選択された材料で、作製されうる。 [0016] The substrate can be made of any material suitable for material deposition. For example, the substrate comprises glass (eg, soda lime glass, borosilicate glass, etc.), metal, polymer, ceramic, composite material, carbon fiber material, or any other material or combination of materials that may be coated by a deposition process. It can be made of a material selected from the group.
[0017] 図1は、基板10の上にOLEDを製造するための堆積プロセスの概略図を示しており、図2A及び図2Bは、処理チャンバ内での層堆積中に、基板キャリア11上の基板とマスクキャリア21上のマスク20を支持し、基板10とマスク20は基本的に垂直の姿勢に維持される保持構成装置40の例を示す。
[0017] FIG. 1 shows a schematic diagram of a deposition process for manufacturing an OLED on a
[0018] 図1に示したように、OLEDを製造するために、堆積源30によって有機分子が供給され(例えば、蒸着され)、基板10上に堆積しうる。マスク20を含むマスク構成装置が、基板10と堆積源30との間に配置される。マスク20は、例えば複数の開口部又は孔22によって提供される、特定のパターンを有し、それにより、有機分子が(例えば経路32に沿って)開口部又は孔22を通過して、基板10上に有機化合物の層又は膜を堆積させる。例えば、種々の色特性を有するピクセルを生成するために、種々のマスク、又は、基板10に対するマスク20の種々の位置を使用して、基板10上に複数の層又は膜が堆積されうる。一例としては、第1の層又は膜が堆積されて赤色ピクセル34を生成することが可能であり、第2の層又は膜が堆積されて緑色ピクセル36を生成することが可能であり、かつ、第3の層又は膜が堆積されて青色ピクセル38を生成することが可能である。一又は複数の層又は膜、例えば有機半導体が、アノードとカソードなどの2つの電極(図示せず)の間に配置されうる。この2つの電極の少なくとも一方の電極は、透明でありうる。
[0018] As shown in FIG. 1, organic molecules may be provided (eg, evaporated) by a
[0019] 基板10及びマスク20は、堆積プロセス中に垂直な配向で配置されうる。図1では、矢印が垂直方向Y及び水平方向Xを示している本開示全体を通じて、「垂直方向(vertical direction)」又は「垂直配向(vertical orientation)」という用語は、「水平方向(horizontal direction)」又は「水平配向(horizontal orientation)」と区別するためのものと理解される。つまり、「垂直方向」又は「垂直配向」は、例えば、保持装置及び基板の、実質的に垂直な配向に関連し、正確な垂直方向又は垂直配向からの数度(例えば、10°まで、或いは15°までも可)のずれは、依然として「実質的に垂直な方向」又は「実質的に垂直な配向」と見なされる。垂直方向は、重力に対してほぼ平行でありうる。
[0019] The
[0020] 図2Aは、本書に記載の実施形態による構成装置及び装置で使用されうる処理チャンバ内での層堆積中に、基板キャリア11とマスクキャリア21を支持するための保持構成装置40の概略図を示している。図2Bは、図2Aに示した保持構成装置40の側面図を示す。
[0020] FIG. 2A is a schematic of a holding
[0021] 垂直に動作するツール上で使用される位置合わせシステムは、処理チャンバの外から、すなわち、外気側(atmospheric side)から動作可能である。位置合わせシステムは、例えば処理チャンバの壁を通って延在する剛性アームを用いて、基板キャリア及びマスクキャリアに接続されうる。真空外の位置合わせシステムに関しては、マスクキャリア又はマスクと基板キャリア又は基板との間の機械的経路が長いと、システムは、外部干渉(振動、加熱など)及び許容誤差の影響を受けやすくなる。 [0021] The alignment system used on vertically operating tools can be operated from outside the processing chamber, ie from the atmospheric side. The alignment system can be connected to the substrate carrier and the mask carrier using, for example, rigid arms that extend through the walls of the processing chamber. For out-of-vacuum alignment systems, the long mechanical path between the mask carrier or mask and the substrate carrier or substrate makes the system susceptible to external interference (vibration, heating, etc.) and tolerances.
[0022] 追加的に又は代替的に、位置合わせシステムのアクチュエータは真空チャンバ内に含まれうる。したがって、剛性アームの長さは短縮されうる。例えば、基板キャリアとマスクキャリアに機械的に接触しうるアクチュエータは、マスクキャリア用のトラックと基板キャリア用のトラックとの間に、少なくとも部分的に提供されうる。 [0022] Additionally or alternatively, the actuators of the alignment system may be contained within a vacuum chamber. Therefore, the length of the rigid arm can be shortened. For example, an actuator that can mechanically contact the substrate carrier and the mask carrier can be provided at least partially between the track for the mask carrier and the track for the substrate carrier.
[0023] 保持構成装置40は、基板キャリア11とマスクキャリア21のうちの少なくとも1つに接続可能な2つ以上の位置合わせアクチュエータを含み、保持構成装置40は基板キャリア11を第1の平面内に、或いは第1の平面と平行に支持するように構成されており、2つ以上の位置合わせアクチュエータのうちの第1の位置合わせアクチュエータ41は、基板キャリア11とマスクキャリア21を互いに対して少なくとも第1の方向Yに動かすように構成されててよく、2つ以上の位置合わせアクチュエータのうちの第2の位置合わせアクチュエータ42は、基板キャリア11とマスクキャリア21を互いに対して少なくとも第1の方向Y及び第1の方向Yと異なる第2の方向Xに動かすように構成されており、第1の方向Yと第2の方向Xは第1の平面内にある。2つ以上の位置合わせアクチュエータは、「位置合わせブロック」とも称される。したがって、位置合わせブロック又は位置合わせアクチュエータは、基板10とマスク20の位置を相互に変えることができる。例えば、位置合わせブロックは、基板キャリア11又はマスクキャリア21に固定された第1の要素、及び一又は複数のアクチュエータを備える位置合わせデバイスに固定された第2の要素によって構成されうる。第1の要素は、(すなわち、例えば、機械的、磁気的、電磁気的な)相互作用によって、第2の要素に締結されうる。
[0023] The holding
[0024] 図2Bに示したように、マスク20はマスクキャリア21に装着可能で、保持構成装置40は、基板キャリア11及びマスクキャリア21のうちの少なくとも1つを、特に基板キャリア11とマスクキャリア21の両方を、特に層堆積中に実質的に垂直な配向に支持するように構成されている。堆積は、図2Bに示した矢印に従って、Z方向に沿って起こる。
[0024] As shown in FIG. 2B, the
[0025] 2つ以上の位置合わせアクチュエータを使用して、基板キャリア11とマスクキャリア21を互いに対して少なくとも第1の方向Y及び第2の方向Xに動かすことによって、基板キャリア11はマスクキャリア21又はマスク20に対して位置合わせすることが可能で、堆積層の品質が改善されうる。
[0025] The
[0026] 位置合わせブロックの駆動によって、基板10に対するマスク20の位置の調整を実施するには、正しい位置合わせに対して起こりうる不一致又は偏差をチェックするための光学検査が実行されうる。
[0026] To perform the alignment of the
[0027] 図3は、キャリア51をデバイス52に固定又は締結するための構成装置50を説明している。構成装置50は、キャリア51に連結された第1の締結(クランプ)要素53、及びデバイス52に連結される第2の締結(クランプ)要素54を含む。本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、第1の締結要素は、キャリアの一部、キャリアに装着された締結要素、キャリアと一体形成された締結要素、及びキャリアの表面のうちの1つになりうる。追加的に又は代替的に、本書に記載の実施形態によれば、第2の締結要素は、デバイスの一部、デバイスに装着された締結要素、デバイスと一体形成された締結要素、及びデバイスの表面のうちの1つになりうる。第1の締結要素53及び第2の締結要素54は、相互に固定可能に構成される。この目的にため、デバイス52がキャリア51に締結されると、第1の締結要素53の表面の一部は、第2の締結要素54の表面の一部に接触する。第1の締結要素53及び第2の締結要素54のうちの1つが機能しなくなったときにキャリア51を支持するため、構成装置50は更に停止要素55を含む。キャリア51は、図2Bに示した基板キャリア11又はマスクキャリア21として、基板10又はマスク20を運ぶように構成されうることに留意されたい。
[0027] FIG. 3 illustrates a
[0028] このように、本開示による構成装置50は、キャリア51とデバイス52との間の締結を改善する。有利には、デバイス52は、基板10とマスク20との相対運動を実行するため、キャリア51に締結されうる位置合わせデバイスになりうる。この締結の改良は、例えば、キャリア51が、基板10及び/又はマスク20を基本的に垂直の姿勢で運ぶように構成されるときに有用になりうる。事実、締結要素53、54の相互作用によって、デバイス52をキャリア51に固定した後、停止要素55は、長い間に起こりうる基板10に対するデバイスのドリフト運動を防止又は低減することができる。
[0028] Thus, the
[0029] 図4は、本開示の実施形態による、基板及び/又はマスクを支持するためのキャリア51を示す。キャリア51は、キャリア51をデバイス52に固定するための締結構成装置を含む。締結構成装置は、キャリア51に連結された第1の締結部分501、及びデバイス52に連結された第2の締結部分502(図には示していない)を含む。第1の締結部分501は、第2の締結部分502に固定可能又は締結可能である。特に、図4は、四隅に或いは四隅に隣接して配置された4つの第1の締結部分501を有する矩形形状のキャリア51を示す。キャリア51に固定されるデバイス52は、キャリア51の対応する第1の締結部分501に連結されうる4つの第2の締結部分502を有することができる。代替的に、それぞれ少なくとも第2の締結部分502を有する4つのデバイス52は、各々の第2の締結部分502を、キャリア51上にあって対応する第1の締結部分501に連結することによって、キャリア51に固定することができる。代替的な構成によれば、2つのデバイス52は、それぞれ2つの第2の締結部分502を有し、キャリア51の上にある2つの第1の締結部分501に、対になった状態で固定されうる。
[0029] Figure 4 illustrates a
[0030] 図5は、図4のラインA−Aに沿った第1の締結部分501の断面図を示す。第1の締結部分501は、第2の締結要素54(図には示していない)に接触しうる外面531と、キャリア51に接触する又はヒンジなどの角位置決め要素56に接触する内面532とを有する、第1の締結要素53を含む。接続手段57は、第1の締結要素53を、前記角位置決め要素56及び/又はキャリア51に固定するために提供される。第1の締結要素53は、磁気的に誘引可能な材料、すなわち、磁気プレートを含みうる。永久磁石、電磁石又は電磁永久磁石など、第2の締結部分に含まれる磁石は、磁気材料プレートなどの磁気プレートに接続できる。
[0030] FIG. 5 illustrates a cross-sectional view of the
[0031] 図6は、本開示による非係合状態にある構成装置50の機能を示す。
キャリア51の上にある第1の締結部分501は、第2の締結要素54の表面541に対して、第1の締結要素53の外面531を動かすことによって、デバイス52の上にある第2の締結部分502と係合すること又は係合から外れることが可能である。図6の双方向矢印はこの動きを示している。
[0031] FIG. 6 illustrates the functionality of
The
[0032] 本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる本開示の一部の実施形態により、停止要素55は、少なくとも突起とこれに対応する凹部を含み、突起は凹部と係合可能であるか、凹部に挿入可能である。突起と凹部との係合により、第1の締結要素53は、確実に第2の締結要素54に固定され、ほぼ同じ位置に留まる。実際に、突起と凹部は強固な停止要素として機能し、長い間に起こりうる締結要素間の相対的な滑り運動を低減又は防止することができる。
[0032] According to some embodiments of the present disclosure that may be combined with other embodiments described herein, the
[0033] 特に、図5及び図6に示したように、突起はピン551に、凹部は空洞552になりうるため、ピン551は空洞552に挿入すること、又は空洞552から引き抜くことができる。
[0033] In particular, as shown in FIGS. 5 and 6, the protrusion can be a
[0034] 特に、本開示の一実施形態によれば、ピン551はキャリア51に接続可能であるか、キャリア51の一部となり、空洞552は第2の締結要素54の一部になる。
[0034] In particular, according to one embodiment of the present disclosure, the
[0035] 図6及び図7は、第1の締結要素53の外面531を第2の締結要素54の外面541に接触させることによって、第1の締結要素53(又は第1の締結部分501)が、第2の締結要素54(又は第2の締結部分502)に固定可能か、締結可能であることを示している。第1の締結要素53は、対応する外面531、541の相互(すなわち、相互の磁気、電磁などの)作用によって、第2の締結要素54に締結することができる。
[0035] FIGS. 6 and 7 show that by contacting the
[0036] 例えば、付加的な固定又は締結は、ピン551を対応する空洞552に挿入することによって実行される。このように、デバイス52はキャリア51にしっかりと固定される。停止要素55、及び特に空洞552に連結されたピン551は、例えば、ドリフト運動によって、2つの締結要素53、54の間の相互の締結動作に関して、長い時間に起こりうる問題を低減又は防止することができる。
[0036] For example, additional fixation or fastening is performed by inserting
[0037] 図4及び図5によって示したように、第1の締結要素53は平坦な面を有し、キャリア51に固定されたプレート(例えば、磁気プレート)によって構成されうる。停止要素55は、第1の締結要素53の反対側に配置された2つのピン551を含むことができ、各ピン551は対応する空洞552に挿入可能である。2つのピン551は、キャリアから、例えば、キャリア51の主要な面の垂直ラインに沿って延在するように配向される。このように、第1の締結要素53と第2の締結要素54との間の接続は更に改善される。代替的な構成では、ピン551は、第1の締結要素53に対して異なる配向に従って配置されうる。
[0037] As shown by FIGS. 4 and 5, the
[0038] 本開示の実施形態によれば、キャリアは、例えば位置合わせアクチュエータなどのデバイスに締結されうる。例えば、実施形態は、キャリアに連結された第1の締結要素と、デバイスに連結された第2の締結要素とを含み、第1の締結要素と第2の締結要素は互いに対して固定可能又は締結可能であるように構成されている。停止要素が提供される。停止要素は、第1の締結要素及び第2の締結要素のうちの1つが機能しなくなったときにキャリアを支持する。例えば、キャリアが滑ると、すなわち、第1の締結要素及び第2の締結要素相互に滑ると、例えば、意図していないように動くと、停止要素はキャリアを支持するか、キャリアを捕捉する。別の実施例として、停止要素のうちの1つが機能しなくなったときに、停止要素は、キャリアを支持するか、キャリアを捕捉する。 [0038] According to embodiments of the present disclosure, the carrier may be fastened to a device such as an alignment actuator. For example, embodiments include a first fastening element coupled to a carrier and a second fastening element coupled to a device, the first fastening element and the second fastening element being securable to each other or It is configured so that it can be fastened. A stop element is provided. The stop element supports the carrier when one of the first fastening element and the second fastening element fails. For example, when the carrier slides, that is, slides between the first fastening element and the second fastening element, for example when it moves unintentionally, the stop element supports or captures the carrier. As another example, the stop element supports or captures the carrier when one of the stop elements fails.
[0039] 本書に記載の実施形態によれば、停止要素又は停止要素の構成要素は、締結要素の一方又は両方にあってもよい。例えば、停止要素は、締結要素の一方又は両方に連結されてよく、或いは、締結要素の一方又は両方と一体形成されてもよい。本書に記載の実施形態によれば、停止要素又は停止要素の構成要素は、キャリア及び/又はデバイスの位置にあってよい。例えば、停止要素は、キャリア及び/又はデバイスに連結されてよく、或いは、キャリア及び/又はデバイスと一体形成されてもよい。 [0039] According to embodiments described herein, the stop element or components of the stop element may be on one or both of the fastening elements. For example, the stop element may be coupled to one or both of the fastening elements or may be integrally formed with one or both of the fastening elements. According to the embodiments described herein, the stop element or component of the stop element may be at the location of the carrier and/or device. For example, the stop element may be coupled to the carrier and/or device or may be integrally formed with the carrier and/or device.
[0040] 本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、停止要素は、突起、キャリア及びデバイスのうちの一方、キャリア及びデバイスの対応する他の実体の位置にある凹部によって形成されうる。しかも更に、追加的に又は代替的に、停止要素は、突起、キャリア及びデバイスによって形成されうる。第2の締結要素によって提供されうる、キャリアをデバイスに固定又は締結するための構成装置は、第1の締結要素の突起と重なる突起を更に含む。 [0040] According to embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the stop element may be a recess at the location of one of the protrusion, the carrier and the device, and the corresponding other entity of the carrier and the device. Can be formed by. Moreover, additionally or alternatively, the stop element may be formed by a protrusion, a carrier and a device. The component for fixing or fastening the carrier to the device, which may be provided by the second fastening element, further comprises a protrusion which overlaps the protrusion of the first fastening element.
[0041] 図8Aは、係合状態にある構成装置50を示す。したがって、第2の締結要素54は第1の締結要素53に接触する。ピン551は空洞552に挿入される。図8B及び図8Cは、ピン551が空洞552のいずれの内面にも接触していないときには正常な状態(図8B)にあり、ピン551が空洞552の内面に接触しているときには滑っている状態(図8C)にある、ピン551と空洞552との間の相互作用の詳細を示している。ピンと空洞との間の相互作用は、起こりうる運動を低減する。例えば、磁石が機能していない間に、キャリアは特に垂直に配向された基板に対して滑ることがありうる。ピンと空洞との相互作用は、キャリアの完全な落下を防止する。他の実施形態と組み合せうる更なるオプションの変形例として、ステップ又はフックがあることによって、ピン551は、滑っている状態にある空洞552から引き抜かれることがないように防止されうる。
[0041] FIG. 8A shows
[0042] 本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる本開示の幾つかの実施形態によれば、ピン551は幅を有し、空洞552はエッジを有し、例えば、内側エッジ又は壁は更に大きな幅を形成する。空洞552の更に大きな幅は、ピン551の幅よりも大きくなりうる。したがって、図8Bに示したように、ピン551が空洞552に挿入されると、ピン551と前記空洞552のエッジとの間にクリアランス553が形成される。特に、クリアランス553は、1mmから2mmの間の範囲内であり、好ましくは約1.5mmでありうる。
[0042] According to some embodiments of the present disclosure that may be combined with other embodiments described herein, the
[0043] 本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる本開示の幾つかの実施形態によれば、ピン551は円形の直径(或いは、ある寸法の矩形又は多角形などの別の形状)を有し、空洞552は更なる円形の直径(或いは、更に大きな寸法の矩形又は多角形などの形状)を形成する。特に、ピン551の円形の直径又は寸法は8mmから12mmの間の範囲内であり、好ましくは約10mmとなる。空洞552の更なる円形の直径又は更なる寸法は、9.5mmから13.5mmまでの範囲の直径を有し、好ましくは約11.5mmの直径を有する。必要に応じて、ピン551及び空洞552の輪郭は異なる形状及びサイズを有しうる。
[0043] According to some embodiments of the present disclosure, which may be combined with other embodiments described herein, the
[0044] 本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる本開示の幾つかの実施形態によれば、空洞552は約4mmから6mmの範囲の深さを有し、好ましくは5mmの深さを有しうる。
[0044] According to some embodiments of the present disclosure, which may be combined with other embodiments described herein, the
[0045] ピン551及び空洞552のこれらの寸法は、第1の締結要素53又は第2の締結要素54のうちの少なくとも1つが機能しなくなったときに、停止要素55がキャリア51を支持できるように好ましい範囲の値となるように考慮されていることに留意されたい。これによって、キャリア51は、上述の寸法を有する基板10(又はマスク20)を基本的に垂直の姿勢で運ぶことができると規定(例えば、想定)されている。
[0045] These dimensions of the
[0046] 本開示の幾つかの実施形態によれば、ピン551は第1の締結要素53に接続可能であるか、第1の締結要素53の一部になりうる、及び/又は空洞552は第2の締結要素54の一部になりうる。これを、係合状態にある構成装置50を説明する図9に示す。
[0046] According to some embodiments of the present disclosure, the
[0047] 図10に示した本開示の構成装置50の更なる代替的な実施形態によると、突起、例えばピン551は、第2の締結要素54に接続可能か、第2の締結要素54の一部になり、凹部(例えば空洞552)は、第1の締結要素53の一部になりうる。
[0047] According to a further alternative embodiment of the
[0048] このようなタイプの構成により、2つの対向するピン551は、互いに近くに配置可能で、第1の締結要素53と第2の締結要素54との間のより強力な接続が可能になる。
[0048] With this type of configuration, two opposing
[0049] 図11Aは更に、本開示による構成装置50の実施形態を示す。停止要素55は、第1の締結要素53内に形成された第1の硬質停止エッジ554、及び第2の締結要素54内に形成された第2の硬質停止エッジ555のうちの少なくとも1つを含みうる。第1の硬質停止エッジ554は、第2の締結要素54の一部と係合可能であるか、係合する。第2の硬質停止エッジは、第1の締結要素53の一部と係合可能であるか、係合する。
[0049] FIG. 11A further illustrates an embodiment of a
[0050] 図11Bは、第1の締結要素53と第2の締結要素54が互いに離れた状態で動かされるときには、非係合状態にあることを詳細に示し、図11Cは、第1の締結要素53と第2の締結要素54が互いに接近した状態で動かされるときには、係合状態にあることを示している。硬質停止エッジ554、555は、第1の締結要素53と第2の締結要素54の外面531及び541の上方突起又は下方突起として構成されうる。係合を実現するため、第1の締結要素53の硬質停止エッジ554が第1の締結要素53の外面531の上方突起によって形成される場合には、第2の締結要素54の硬質停止エッジ555は、第2の締結要素54の外面541の対応する下方突起によって形成され、逆もまた同様である。
[0050] FIG. 11B shows in detail that the
[0051] 本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる本開示の幾つかの実施形態によれば、キャリアは、基板10又はマスク20を基本的に垂直な姿勢で運ぶように構成される。
[0051] According to some embodiments of the present disclosure, which may be combined with other embodiments described herein, the carrier is configured to carry the
[0052] 本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる本開示の幾つかの実施形態によれば、第1の締結要素53は、磁気的に誘引可能な材料、すなわち、磁気プレートを含むことが可能で、第2の締結要素54は、永久電磁石を含むことができる。このように、2つの締結要素53、54間の締結作用、及びその結果として、キャリア51とデバイス52との間の固定は更に改善される。
[0052] According to some embodiments of the present disclosure, which may be combined with other embodiments described herein, the
[0053] 特に、永久電磁石要素は、電流を印加することによって、磁化状態と非磁化状態との間で切り換え可能で、永久電磁石要素は、電流を取り除いた後も磁化状態又は非磁化状態に留まるように構成されている。 [0053] In particular, the permanent electromagnet element is switchable between a magnetized state and a non-magnetized state by applying an electric current, and the permanent electromagnet element remains in the magnetized state or the non-magnetized state even after removing the electric current. Is configured.
[0054] 一実施形態によれば、永久電磁石要素は、締結磁石を含む締結磁石アセンブリ及び、少なくとも1つの制御磁石と少なくとも1つのコイルを含む制御磁石アセンブリを含むことができる。特に、1つのコイルは、制御磁石アセンブリの1つの制御磁石を実質的に包み込むことができ、1つの制御磁石の極性を切り換えるように構成されている。永久電磁石は、希土類金属、とりわけネオジウム合金からなる少なくとも1つの永久磁石を含みうる。 [0054] According to one embodiment, the permanent electromagnet element may include a fastening magnet assembly including a fastening magnet and a control magnet assembly including at least one control magnet and at least one coil. In particular, one coil can substantially enclose one control magnet of the control magnet assembly and is configured to switch the polarity of one control magnet. The permanent electromagnet may include at least one permanent magnet of a rare earth metal, especially a neodymium alloy.
[0055] 図12は、基板10の上に層を堆積するための装置60を示している。装置は、層堆積に適合された処理チャンバ61及び、前述の任意の実施形態による構成装置50を含む。構成装置50は、処理チャンバ61内での処理中に、キャリア51をデバイス52に固定又は締結するために使用されうる。装置は更に、基板10の上に層を形成する材料を堆積するための堆積源30を含む。特に、キャリアは、基板10又は基板10と堆積源30との間に配置されたマスク20を運ぶように構成されうる。一実施例として、図12の装置では、キャリア51は、基板10を図2Bの基板キャリア11として運ぶように構成されている。
[0055] FIG. 12 illustrates an
[0056] 装置60の構成装置50の使用は、安定的でより永続的な方法でデバイス52をキャリア51に固定するのに有用である。デバイス52は例えば、処理される基板10の表面に対してマスクパターンを正確に位置合わせするため、マスク20に対してキャリア12を移動するための位置合わせデバイスになりうる。例えば、デバイスは、基板キャリア51とマスクキャリアに接続されうる。有利には、構成装置50は、例えば、基板10の処理(すなわち、層堆積)中に処理チャンバ61内で機能停止することなく長時間にわたって、デバイス52を締結し、締結を維持するために使用される。
[0056] The use of
[0057] 図13は、本開示による保持及び位置合わせの構成装置70を示している。構成装置70は、処理チャンバ内での処理中に、基板キャリア51及び/又はマスクキャリア21を支持するための締結デバイス58を含む。図13の構成装置70は、基板キャリア51を支持するデバイス58の締結を示している。構成装置70は更に、マスクキャリア21に対して基板キャリア51を移動するための位置合わせデバイス52を含む。特に、締結デバイス58は、基板キャリア51又はマスクキャリア21に連結された少なくとも1つの第1の締結要素53と、位置合わせデバイス52に連結された第2の締結要素54を含む。第1の締結要素53及び第2の締結要素54は、互いに対して固定可能又は締結可能であるように構成されている。締結デバイス58は、第1の締結要素53及び第2の締結要素54のうちの1つが機能しなくなったときに、キャリア51を支持する停止要素55を含む。本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる本開示の幾つかの実施形態によれば、位置合わせ構成装置の保持は、基板キャリアを位置合わせデバイスに連結する第1の締結デバイス(図13の参照番号58を参照のこと)、及びマスクキャリアを位置合わせデバイスに連結する第2の締結デバイス(図13には示していない)を含みうる。第2の締結デバイスは、本書に記載の実施形態及び/又は第1の締結デバイスと同様な実施形態によって提供されうる。
[0057] FIG. 13 illustrates a retention and
[0058] 停止要素55は、キャリア51に対するデバイス52のドリフト運動によって経時的に発生しうる第1の締結要素53と第2の締結要素54との間の滑りを防止することができるため、締結デバイス58の締結動作を改善する。
[0058] The
[0059] 本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる本開示の幾つかの実施形態によれば、位置合わせデバイス52は、基板キャリア51及びマスクキャリア21を共に固定又は締結するよう構成されうる。締結デバイス58はそのため、対応する締結要素が機能しなくなったときに、基板キャリア51及びマスクキャリア21を共に支持するための専用の停止要素55を含みうる。
[0059] According to some embodiments of the present disclosure, which may be combined with other embodiments described herein,
[0060] 位置合わせデバイス52は、マスク20に対する基板10の運動を行うため、基板キャリア51及び/又はマスクキャリア21上で作用する一又は複数のアクチュエータを含みうる。アクチュエータはデバイス52と一体化された部分であってよく、或いは、適切な接続手段によってデバイス52に接続される分離された構成要素であってもよい。
[0060]
[0061] 本書に記載の他の実施形態と組み合わされうる本開示の幾つかの実施形態により、第1の締結要素53はヒンジ要素に連結されうる。したがって、位置合わせデバイス52は、異なる方向で、すなわち、キャリア51によって画定される平面(例えば、図2AのXY平面)の直線方向、或いは平行な方向に沿って、平面に垂直な直線方向(例えば、図2Bのz方向)に沿って、及び/又は前記平面に垂直な軸の周りの角度方向に沿って、キャリア51を移動することができる。
[0061] According to some embodiments of the present disclosure, which may be combined with other embodiments described herein, the
[0062] ピン551と空洞552(或いは、突起と凹部)との間にあるクリアランス553は、第1の締結要素53が第2の締結要素54に固定された後であっても、キャリア51の動きを異なる方向に微調整可能になるように機能しうる。例えば、クリアランス553により、キャリア51によって画定される平面に垂直な軸の周りのキャリア51の角運動が可能になる。
[0062] The
[0063] 本開示による実施形態には、デバイス52とキャリア51との間の締結を改善する可能性を含む、幾つかの利点がある。特に、これらの実施形態は、特に、キャリア51が基板10又はマスク20を基本的に垂直な姿勢で運ぶように構成されている場合に、経時的に起こりうる締結要素53と締結要素54との間の滑りを防止する利点を有する。しかも、本開示による実施形態は、幾つかの異なる方向でのキャリア51の位置の微調整を可能にする利点を有する。
[0063] Embodiments according to the present disclosure have several advantages, including the possibility of improving the fastening between the
[0064] 以上の記述は、本開示の実施形態を対象としているが、本開示の基本的な範囲から逸脱することなく、本開示の他の実施形態及び更なる実施形態が考案されてよく、本開示の範囲は、下記の特許請求の範囲によって決定される。
[0064] While the above description is directed to embodiments of the disclosure, other and further embodiments of the disclosure may be devised without departing from the basic scope of the disclosure, The scope of the present disclosure is determined by the claims that follow.
Claims (17)
前記キャリアに連結された第1の締結要素と、
前記デバイスに連結された第2の締結要素とを備え、前記第1の締結要素及び前記第2の締結要素は、互いに対して固定可能又は締結可能であるように構成されており、また、
前記第1の締結要素及び前記第2の締結要素のうちの1つが機能しなくなったときに前記キャリアを支持する停止要素を備える、構成装置。 A component for securing or fastening a carrier to a device during processing in a processing chamber, comprising:
A first fastening element connected to the carrier,
A second fastening element coupled to the device, the first fastening element and the second fastening element being configured to be fixable or fastenable to each other, and
A configuration device comprising a stop element that supports the carrier when one of the first fastening element and the second fastening element fails.
前記キャリアをデバイスに固定又は締結するための締結構成装置と、
前記締結構成装置が機能しなくなったときに前記キャリアを支持する停止要素と
を備える、キャリア。 A carrier for supporting a substrate or mask in a vacuum chamber, comprising:
A fastening configuration device for fixing or fastening the carrier to a device,
A carrier that supports the carrier when the fastening component fails.
内部での層堆積に適合された処理チャンバと、
前記処理チャンバ内のキャリアのための、請求項1から13のいずれか一項に記載の構成装置と、
前記基板上に前記層を形成する堆積材料のための堆積源とを備え、前記キャリアは、前記基板、又は前記基板と前記堆積源との間に配置されるマスクを運ぶように構成される、装置。 An apparatus for depositing a layer on a substrate, comprising:
A processing chamber adapted for internal layer deposition,
14. A component device according to any one of claims 1 to 13 for a carrier in the processing chamber,
A deposition source for a deposition material forming the layer on the substrate, the carrier configured to carry the substrate or a mask disposed between the substrate and the deposition source. apparatus.
処理チャンバ内での処理中に、基板キャリア及び/又はマスクキャリアであるキャリアを支持するための締結デバイスと、
前記マスクキャリアに対して前記基板キャリアを移動するための位置合わせデバイスとを備え、前記締結デバイスは少なくとも、前記基板キャリア又は前記マスクキャリアに連結された第1の締結要素、及び前記位置合わせデバイスに連結された第2の締結要素を備え、前記第1の締結要素及び前記第2の締結要素は互いに対して固定可能又は締結可能であるように構成されており、前記保持及び位置合わせの構成装置は更に、前記第1の締結要素及び前記第2の締結要素のうちの1つが機能しなくなったときに前記キャリアを支持する停止要素を備える、保持及び位置合わせの構成装置。 A holding and aligning component,
A fastening device for supporting a carrier which is a substrate carrier and/or a mask carrier during processing in the processing chamber,
An alignment device for moving the substrate carrier with respect to the mask carrier, the fastening device comprising at least a first fastening element coupled to the substrate carrier or the mask carrier, and the alignment device. A second fastening element connected to the first fastening element and the second fastening element, wherein the first fastening element and the second fastening element are configured such that they can be fixed or fastened to each other, Further comprises a holding and aligning arrangement comprising a stop element for supporting the carrier when one of the first fastening element and the second fastening element fails.
17. The configuration device of claim 16, further comprising a hinge element coupled to the first fastening element.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/EP2018/058466 WO2019192676A1 (en) | 2018-04-03 | 2018-04-03 | Arrangement for clamping a carrier to a device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020515708A true JP2020515708A (en) | 2020-05-28 |
Family
ID=61899275
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019536058A Pending JP2020515708A (en) | 2018-04-03 | 2018-04-03 | Component device for fastening carrier to device |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2020515708A (en) |
KR (1) | KR20190116977A (en) |
CN (1) | CN110557954A (en) |
WO (1) | WO2019192676A1 (en) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006191038A (en) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Samsung Sdi Co Ltd | Aligning system for tray and tray holder |
JP2017538864A (en) * | 2014-12-10 | 2017-12-28 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | Mask configuration for masking a substrate in a processing chamber, apparatus for depositing a layer on a substrate, and method for aligning a mask configuration for masking a substrate in a processing chamber |
JP2018504526A (en) * | 2015-01-12 | 2018-02-15 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | Holding device for supporting a substrate carrier and mask carrier during layer deposition in a processing chamber, method for aligning a substrate carrier and mask carrier supporting a substrate |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6589382B2 (en) * | 2001-11-26 | 2003-07-08 | Eastman Kodak Company | Aligning mask segments to provide a stitched mask for producing OLED devices |
KR100639003B1 (en) * | 2005-01-05 | 2006-10-26 | 삼성에스디아이 주식회사 | Device for aligning of substrate tray holder |
JP5639431B2 (en) * | 2010-09-30 | 2014-12-10 | キヤノントッキ株式会社 | Deposition equipment |
WO2016080235A1 (en) * | 2014-11-17 | 2016-05-26 | シャープ株式会社 | Vapor deposition device, vapor deposition method, and method for manufacturing organic electroluminescence element |
-
2018
- 2018-04-03 JP JP2019536058A patent/JP2020515708A/en active Pending
- 2018-04-03 CN CN201880004447.2A patent/CN110557954A/en active Pending
- 2018-04-03 WO PCT/EP2018/058466 patent/WO2019192676A1/en active Application Filing
- 2018-04-03 KR KR1020197018378A patent/KR20190116977A/en not_active Application Discontinuation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006191038A (en) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Samsung Sdi Co Ltd | Aligning system for tray and tray holder |
JP2017538864A (en) * | 2014-12-10 | 2017-12-28 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | Mask configuration for masking a substrate in a processing chamber, apparatus for depositing a layer on a substrate, and method for aligning a mask configuration for masking a substrate in a processing chamber |
JP2018504526A (en) * | 2015-01-12 | 2018-02-15 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | Holding device for supporting a substrate carrier and mask carrier during layer deposition in a processing chamber, method for aligning a substrate carrier and mask carrier supporting a substrate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2019192676A1 (en) | 2019-10-10 |
KR20190116977A (en) | 2019-10-15 |
CN110557954A (en) | 2019-12-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6723246B2 (en) | Holding device for supporting a substrate carrier and a mask carrier during layer deposition in a processing chamber, a method for aligning a substrate carrier supporting a substrate with a mask carrier | |
JP4375232B2 (en) | Mask deposition method | |
KR101965370B1 (en) | Apparatus and method for transporting a carrier or substrate | |
JP6681977B2 (en) | Apparatus for vacuuming a substrate, system for vacuuming a substrate, and method for transporting a substrate carrier and a mask carrier in a vacuum chamber | |
JP2019513182A (en) | Carrier, vacuum system and method of operating a vacuum system | |
CN109837505B (en) | Film forming apparatus, film forming method, and method for manufacturing organic EL display device | |
KR20180114888A (en) | Positioning arrangement for substrate carrier and mask carrier, transfer system for substrate carrier and mask carrier, and methods therefor | |
JP2019526700A (en) | Apparatus and system for processing a substrate in a vacuum chamber and method for aligning a substrate carrier with respect to a mask carrier | |
JP2020503663A (en) | Substrate carrier for supporting a substrate, mask chucking device, vacuum processing system, and method of operating substrate carrier | |
KR20200012825A (en) | Holding device for holding carrier or component in vacuum chamber, use of holding device for holding carrier or component in vacuum chamber, apparatus for handling carrier in vacuum chamber, and vacuum deposition system | |
CN110557955B (en) | Carrier for supporting a substrate or a mask | |
JP2019526701A (en) | Apparatus and system for processing a substrate in a vacuum chamber and method for transporting a carrier in a vacuum chamber | |
JP2020515708A (en) | Component device for fastening carrier to device | |
KR100468792B1 (en) | Apparatus for holding substrates and shadow masks | |
CN112135693A (en) | Apparatus for lifting a mask from a substrate, substrate carrier, vacuum processing system and method of operating an electro-permanent magnet assembly | |
WO2023160836A1 (en) | Substrate support assembly, substrate processing apparatus method for fixing an edge support frame to a table frame, and method of manufacturing a portion of a display device | |
CN111010877A (en) | Deposition apparatus with mask aligner, mask arrangement for masking substrate and method for masking substrate | |
JP2020518123A (en) | Device and vacuum system for aligning carriers in a vacuum chamber, and method for aligning carriers | |
TW201404905A (en) | An evaporation method by using a pattern mask supported by an electrostatic chuck and an evaporation apparatus thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190829 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190829 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200901 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20210330 |