JP2020518123A - Device and vacuum system for aligning carriers in a vacuum chamber, and method for aligning carriers - Google Patents
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Abstract
真空チャンバ(101)内でキャリアを位置合わせするための装置(100)が、説明される。装置は、第1のキャリア(10)を第1の搬送経路に沿って第1の方向(X)に搬送するように構成された第1のキャリア搬送システム(120)と、位置合わせシステム(130)とを含む。位置合わせシステムは、第1のキャリア(10)を位置合わせシステム(130)に取り付けるための第1のマウント(152)と、第1のマウント(152)を少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイス(151)と、位置合わせデバイス(151)を第1のマウント(152)と共に第1の方向(X)に対して横方向の第2の方向(Z)に移動させるように構成された第1のシフトデバイス(141)とを含む。さらに、真空システムおよびキャリアを位置合わせする方法が、説明される。【選択図】図1An apparatus (100) for aligning a carrier within a vacuum chamber (101) is described. The apparatus comprises a first carrier transport system (120) configured to transport a first carrier (10) along a first transport path in a first direction (X), and an alignment system (130). ) And. The alignment system includes a first mount (152) for attaching the first carrier (10) to the alignment system (130) and moving the first mount (152) in at least one alignment direction. The alignment device (151) configured as described above, and the alignment device (151) are moved together with the first mount (152) in a second direction (Z) lateral to the first direction (X). A first shift device (141) configured as described above. Additionally, a vacuum system and method of aligning the carrier are described. [Selection diagram] Figure 1
Description
[0001]本開示の実施形態は、真空チャンバ内でキャリアを位置合わせするための装置および真空システム、ならびに真空チャンバ内でキャリアを位置合わせする方法に関する。より具体的には、真空チャンバ内で基板を保持する基板キャリアを搬送、位置決め、および位置合わせする方法が、説明される。本開示の実施形態は、詳細には、キャリアによって保持された基板上に材料を堆積させるための真空堆積システムに関し、基板は、堆積前にマスクに対して位置合わせされる。本明細書に記載の方法および装置は、有機発光ダイオード(OLED)デバイスの製造に使用することができる。 [0001] Embodiments of the present disclosure relate to an apparatus and vacuum system for aligning a carrier within a vacuum chamber, and a method for aligning a carrier within a vacuum chamber. More specifically, a method of transporting, positioning, and aligning a substrate carrier holding a substrate in a vacuum chamber is described. Embodiments of the present disclosure particularly relate to a vacuum deposition system for depositing material on a substrate held by a carrier, where the substrate is aligned with a mask prior to deposition. The methods and apparatus described herein can be used in the manufacture of organic light emitting diode (OLED) devices.
[0002]基板上への層堆積のための技術は、例えば、熱蒸発、物理的気相堆積(PVD)、および化学気相堆積(CVD)を含む。コーティングされた基板は、いくつかの用途およびいくつかの技術分野で使用することができる。例えば、コーティングされた基板は、有機発光ダイオード(OLED)デバイスの分野で使用することができる。OLEDは、テレビ画面、コンピュータモニタ、携帯電話、他のハンドヘルド装置、および例えば情報を表示するためのその他同種類のものの製造に使用することができる。OLEDディスプレイなどのOLEDデバイスは、全て基板上に堆積された、2つの電極間に位置する有機材料の1つ以上の層を、含むことができる。 Techniques for layer deposition on [0002] substrates include, for example, thermal evaporation, physical vapor deposition (PVD), and chemical vapor deposition (CVD). The coated substrate can be used in some applications and in some technical fields. For example, the coated substrate can be used in the field of organic light emitting diode (OLED) devices. OLEDs can be used in the manufacture of television screens, computer monitors, cell phones, other handheld devices, and the like, for example for displaying information. OLED devices such as OLED displays can include one or more layers of organic material located between two electrodes, all deposited on a substrate.
[0003]基板上にコーティング材料を堆積させている間、基板は、基板キャリアによって保持されてもよく、マスクは、基板の前でマスクキャリアによって保持されてもよい。マスクの開口パターンに対応する材料パターン、例えば複数の画素を、例えば蒸発によって、基板上に堆積させることができる。 [0003] During the deposition of the coating material on the substrate, the substrate may be held by the substrate carrier and the mask may be held by the mask carrier in front of the substrate. A material pattern, for example a plurality of pixels, corresponding to the opening pattern of the mask can be deposited on the substrate, for example by evaporation.
[0004]OLEDデバイスの機能は、典型的には、コーティングパターンの精度および有機材料の厚さに依存し、それらは所定の範囲内になければならない。高解像度OLEDデバイスを得るためには、蒸発した材料の堆積に関する技術的課題を克服する必要がある。特に、基板を支持する基板キャリアおよび/またはマスクを支持するマスクキャリアを真空システムを通って正確かつ円滑に搬送することは、困難である。さらに、マスクに対する基板の正確な位置合わせは、例えば高解像度OLEDデバイスを製造するための、高品質の堆積結果を達成するために、極めて重要である。さらにまた、コーティング材料を効率的に利用することが有益であり、システムのアイドル時間は、できるだけ短く保たれるべきである。 [0004] The functionality of OLED devices typically depends on the accuracy of the coating pattern and the thickness of the organic material, which must be within a given range. In order to obtain high resolution OLED devices, it is necessary to overcome the technical challenges of vaporized material deposition. In particular, it is difficult to accurately and smoothly transport the substrate carrier supporting the substrate and/or the mask carrier supporting the mask through the vacuum system. In addition, accurate alignment of the substrate with respect to the mask is extremely important to achieve high quality deposition results, eg for making high resolution OLED devices. Furthermore, it is beneficial to utilize the coating material efficiently and the idle time of the system should be kept as short as possible.
[0005]上記に鑑みて、真空チャンバ内で基板および/またはマスクを支持するためのキャリアを正確にかつ高い信頼度で搬送、位置決めおよび/または位置合わせするための装置、システムおよび方法を提供することは、有益であろう。 [0005] In view of the above, there is provided an apparatus, system and method for accurately and reliably transporting, positioning and/or aligning a carrier for supporting a substrate and/or mask in a vacuum chamber. That would be beneficial.
[0006]上記に照らして、真空チャンバ内でキャリアを位置合わせするための装置および真空システム、ならびに真空チャンバ内でキャリアを位置合わせする方法が、提供される。本開示のさらなる態様、利点、および特徴は、特許請求の範囲、明細書、および添付の図面から明らかである。 [0006] In light of the above, apparatus and vacuum systems for aligning carriers in a vacuum chamber, and methods of aligning carriers in a vacuum chamber are provided. Further aspects, advantages and features of the disclosure will be apparent from the claims, the description and the accompanying drawings.
[0007]本開示の一態様によれば、真空チャンバ内でキャリアを位置合わせするための装置が、提供される。装置は、第1のキャリアを第1の搬送経路に沿って第1の方向に搬送するように構成された第1のキャリア搬送システムと、位置合わせシステムとを含む。位置合わせシステムは、第1のキャリアを位置合わせシステムに取り付けるための第1のマウントと、第1のマウントを少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイスと、位置合わせデバイスを第1のマウントと共に第1の方向に対して横方向の第2の方向に移動させるように構成された第1のシフトデバイスとを含む。 [0007] According to one aspect of the present disclosure, an apparatus for aligning a carrier within a vacuum chamber is provided. The apparatus includes a first carrier transport system configured to transport a first carrier in a first direction along a first transport path, and an alignment system. An alignment system, a first mount for attaching a first carrier to the alignment system, an alignment device configured to move the first mount in at least one alignment direction, and an alignment device And a first shift device configured to move with the first mount in a second direction transverse to the first direction.
[0008]実施形態において、第1のキャリアは、基板を保持するように構成された基板キャリアである。いくつかの実施形態では、位置合わせシステムは、第1のキャリアによって保持される基板の上に材料を堆積させるために、第1のキャリア、例えば基板キャリアを、第2のキャリア、例えばマスクキャリアに対して位置合わせするように、構成される。 [0008] In an embodiment, the first carrier is a substrate carrier configured to hold a substrate. In some embodiments, the alignment system includes a first carrier, eg, a substrate carrier, onto a second carrier, eg, a mask carrier, to deposit material on the substrate held by the first carrier. Configured to register relative to each other.
[0009]本開示の別の態様によれば、真空チャンバ内でキャリアを位置合わせするための真空システムが、提供される。真空システムは、側壁を有する真空チャンバと、位置合わせシステムとを含む。位置合わせシステムは、第1のキャリアを位置合わせシステムに取り付けるための第1のマウントと、第1のマウントを少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイスと、位置合わせデバイスを第1のマウントと共に第1の方向に対して横方向の第2の方向に移動させるように構成された第1のシフトデバイスと、を含む。位置合わせシステムは、側壁を貫通して延びており、例えば、少なくとも1つの振動減衰要素または振動分離要素を介して、詳細には、側壁の変形の位置合わせシステムへの伝達を低減または防止することができるベローズ要素などの、弾性またはフレキシブルシール要素を介して、側壁にフレキシブルに接続されている。 [0009] According to another aspect of the present disclosure, a vacuum system for aligning a carrier within a vacuum chamber is provided. The vacuum system includes a vacuum chamber having a sidewall and an alignment system. An alignment system, a first mount for attaching a first carrier to the alignment system, an alignment device configured to move the first mount in at least one alignment direction, and an alignment device A first shift device configured to move with the first mount in a second direction transverse to the first direction. The alignment system extends through the sidewall and reduces or prevents transmission of deformation of the sidewall to the alignment system, for example via at least one vibration damping element or vibration isolation element. It is flexibly connected to the side wall via an elastic or flexible sealing element, such as a bellows element that can
[0010]いくつかの実施形態では、真空システムは、真空チャンバ内で第1のキャリアによって保持された基板上に材料を堆積させるための堆積源を含む真空堆積システムである。 [0010] In some embodiments, the vacuum system is a vacuum deposition system that includes a deposition source for depositing material on a substrate held by a first carrier in a vacuum chamber.
[0011]本開示のさらなる態様によれば、真空チャンバ内でキャリアを位置合わせする方法が、提供される。この方法は、第1のキャリアを第1の搬送経路に沿って第1の方向に搬送することと、第1のキャリアを位置合わせシステムの第1のマウントに取り付けることと、を含み、位置合わせシステムは、第1のマウントを少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイスと、位置合わせデバイスを第1のマウントと共に第1の方向に対して横方向の第2の方向に移動させるように構成された第1のシフトデバイスと、を含む。この方法は、第1のマウントに取り付けられた第1のキャリアを、第1のシフトデバイスを用いて第2の方向に移動させることと、位置合わせデバイスを用いて少なくとも1つの位置合わせ方向に第1のキャリアを位置合わせすることと、をさらに含む。 [0011] According to a further aspect of the present disclosure, a method of aligning a carrier in a vacuum chamber is provided. The method includes transporting a first carrier in a first direction along a first transport path and mounting the first carrier on a first mount of an alignment system for alignment. The system comprises an alignment device configured to move the first mount in at least one alignment direction, and the alignment device with the first mount in a second direction transverse to the first direction. A first shift device configured to be moved to. The method comprises moving a first carrier mounted on a first mount in a second direction using a first shift device and using a registration device in at least one registration direction in a first direction. Further comprising aligning the one carrier.
[0012]いくつかの実施形態では、第1のキャリアは、基板を保持する基板キャリアであり、第1のキャリアを位置合わせすることは、マスクを保持する第2のキャリアに対して基板キャリアを位置合わせすることを含む。 [0012] In some embodiments, the first carrier is a substrate carrier that holds the substrate, and aligning the first carrier causes the substrate carrier to be relative to the second carrier that holds the mask. Including aligning.
[0013]いくつかの実施形態では、位置合わせシステムは、真空チャンバの側壁を貫通して延びており、例えば、少なくとも1つの振動減衰要素または振動分離要素を介して、側壁にフレキシブルに接続されている。したがって、側壁の振動または他の変形は、位置合わせシステムに直接伝達されない。位置合わせ精度を向上させることができる。 [0013] In some embodiments, the alignment system extends through a sidewall of the vacuum chamber and is flexibly connected to the sidewall, eg, via at least one vibration damping element or vibration isolation element. There is. Therefore, sidewall vibrations or other deformations are not directly transmitted to the alignment system. Positioning accuracy can be improved.
[0014]実施形態はまた、開示された方法を実行するための装置にも向けられ、記載された各方法態様を実行するための装置部分も含む。これらの方法態様は、ハードウェア構成要素によって、適切なソフトウェアによってプログラムされたコンピュータによって、その2つの任意の組み合わせによって、または任意の他の仕方で実行されてもよい。さらに、本開示による実施形態は、記載された装置を動作させるための方法にも向けられる。記載された装置を動作させる方法は、装置のあらゆる機能を実行するための方法態様を含む。 [0014] Embodiments are also directed to apparatus for performing the disclosed methods and include apparatus portions for performing each described method aspect. These method aspects may be performed by hardware components, by a computer programmed by suitable software, by any combination of the two, or in any other manner. Moreover, embodiments according to the present disclosure are also directed to methods for operating the described apparatus. The method of operating the described device includes method aspects for performing any function of the device.
[0015]本開示の上記の特徴が詳細に理解できるように、上記で簡潔に要約した本開示のより詳細な説明が、実施形態を参照してなされ得る。添付の図面は、本開示の実施形態に関連しており、以下に説明される。 [0015] For a better understanding of the above features of the present disclosure, a more detailed description of the present disclosure, briefly summarized above, may be made with reference to embodiments. The accompanying drawings relate to embodiments of the present disclosure and are described below.
[0016]次に、本開示の様々な実施形態が詳細に参照され、その1つ以上の例が、図に示される。図面についての以下の説明の中で、同じ参照番号は、同じ構成要素を指す。一般に、個々の実施形態に関する相違点のみが、記載されている。各例は、本開示の説明として提供されており、本開示を限定することを意味していない。 [0016] Reference will now be made in detail to various embodiments of the present disclosure, one or more examples of which are illustrated in the figures. Within the following description of the drawings, the same reference numbers refer to the same components. In general, only the differences with respect to the individual embodiments are described. Each example is provided by way of explanation of the disclosure and is not meant as a limitation of the disclosure.
[0017]さらに、一つの実施形態の一部として図示または説明された特徴は、他の実施形態で、またはそれらと組み合わせて使用されて、さらに別の実施形態を生み出すことができる。本説明はそのような修正および変形を含むことが、意図されている。 [0017] Furthermore, features illustrated or described as part of one embodiment, can be used on or in combination with other embodiments to yield yet another embodiment. This description is intended to cover such modifications and variations.
[0018]図1は、本明細書に記載の実施形態による、真空チャンバ101内で第1のキャリア10を位置合わせするための装置100の概略断面図である。「位置合わせする」という用語は、真空チャンバ内の所定の位置に、詳細には第2のキャリアに対して所定の位置に、キャリアを正確に位置決めすることを指す。第1のキャリアは、少なくとも1つの位置合わせ方向において、詳細には、互いに対して本質的に直角であり得る2つまたは3つの位置合わせ方向において、位置合わせされる。
[0018] FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an
[0019]以下の説明において、「第1のキャリア」という用語は、図1に概略的に示されるような、基板11を保持するように構成された基板キャリアを指すのに、使用される。「第2のキャリア」という用語は、マスク21を保持するように構成されているマスクキャリアを指すのに使用される(図3参照)。しかしながら、代替的に、第1のキャリア10は、異なる物、例えばマスクまたはシールドを保持するように構成されたキャリアであってもよいことが、理解されるべきである。
[0019] In the following description, the term "first carrier" is used to refer to a substrate carrier configured to hold a
[0020]「基板キャリア」は、真空チャンバ101内で第1の搬送経路に沿って基板11を搬送するように構成されたキャリア装置に関する。基板キャリアは、基板11上へのコーティング材料の堆積中に基板11を保持することができる。いくつかの実施形態では、基板11は、例えば搬送中、位置合わせ中および/または堆積中、非水平の向きで、詳細には本質的に垂直の向きで、基板キャリアに保持されてもよい。図1に示す実施形態において、基板11は、本質的に垂直の向きで第1のキャリア10に保持されている。例えば、基板面と重力ベクトルとの間の角度が、10°未満、特に5°未満であってもよい。
[0020] "Substrate carrier" refers to a carrier device configured to transport a
[0021]例えば、基板11は、真空チャンバ101を通る搬送中、真空チャンバ101内での位置合わせ中、および/または基板上へのコーティング材料の堆積中、第1のキャリア10の保持面に保持されてもよい。詳細には、基板11は、チャッキング装置によって、例えば静電チャック(ESC)によって、または磁気チャックによって、第1のキャリア10に保持されてもよい。チャッキング装置は、第1のキャリア10内に、例えば第1のキャリアに設けられた大気容器内に、一体化されていてもよい。
[0021] For example, the
[0022]第1のキャリア10は、詳細には非水平の向きに、より詳細には本質的に垂直の向きに、基板11を保持するように構成された保持面を有するキャリア本体を含むことができる。第1のキャリアは、第1のキャリア搬送システム120によって第1の搬送経路に沿って移動可能であってもよい。いくつかの実施形態では、第1のキャリア10は、搬送中、例えば磁気浮上システムによって、非接触で保持されてもよい。詳細には、第1のキャリア搬送システム120は、真空チャンバ内で第1の搬送経路に沿って第1のキャリア10を非接触で搬送するように構成された磁気浮上システムであってもよい。第1のキャリア搬送システム120は、位置合わせシステムおよび堆積源が配置されている真空チャンバの堆積領域に第1のキャリアを搬送するように構成されてもよい。
[0022] The
[0023]本明細書で使用される「マスクキャリア」は、真空チャンバ内でマスク搬送経路に沿ってマスクを搬送するためにマスクを保持するように構成されたキャリア装置に関する。マスクキャリアは、搬送中、位置合わせ中、および/またはマスクを通った基板上への堆積中、マスクを保持することができる。いくつかの実施形態では、マスクは、搬送中および/または位置合わせ中、非水平の向きで、詳細には本質的に垂直の向きで、マスクキャリアに保持されてもよい。マスクは、チャッキング装置、例えば、クランプなどの機械的チャック、静電チャックまたは磁気チャックによって、マスクキャリアに保持されてもよい。マスクキャリアに接続されていてもよい、またはマスクキャリア内に一体化されていてもよい他の種類のチャッキング装置が、使用されてもよい。 [0023] As used herein, "mask carrier" relates to a carrier device configured to hold a mask for transporting the mask along a mask transport path within a vacuum chamber. The mask carrier can hold the mask during transport, alignment, and/or deposition on the substrate through the mask. In some embodiments, the mask may be held on the mask carrier during transport and/or alignment in a non-horizontal orientation, particularly an essentially vertical orientation. The mask may be held on the mask carrier by a chucking device, for example a mechanical chuck such as a clamp, an electrostatic chuck or a magnetic chuck. Other types of chucking devices may be used, which may be connected to the mask carrier or integrated within the mask carrier.
[0024]例えば、マスクは、エッジ除外マスクまたはシャドーマスクであってもよい。エッジ除外マスクは、基板のコーティング中に1つ以上のエッジ領域に材料が堆積しないように、基板の1つ以上のエッジ領域をマスキングするように構成されたマスクである。シャドーマスクは、基板上に堆積されるべき複数のフィーチャをマスキングするように構成されたマスクである。例えば、シャドーマスクは、複数の小さな開口部、例えば10,000以上の開口部、特に1,000,000以上の開口部を有する開口パターンを含むことができる。 [0024] For example, the mask may be an edge exclusion mask or a shadow mask. An edge exclusion mask is a mask configured to mask one or more edge areas of a substrate so that material is not deposited on the one or more edge areas during coating of the substrate. A shadow mask is a mask configured to mask features to be deposited on a substrate. For example, the shadow mask can include an opening pattern having a plurality of small openings, such as 10,000 or more openings, especially 1,000,000 or more openings.
[0025]本明細書で使用される「本質的に垂直の向き」は、垂直の向きから、すなわち重力ベクトルから10°以下、特に5°以下のずれを有する向きとして理解され得る。例えば、基板(またはマスク)の主表面と重力ベクトルとの間の角度は、+10°と−10°の間、特に0°と−5°の間とすることができる。いくつかの実施形態では、基板(またはマスク)の向きは、搬送中および/または堆積中、正確に垂直でなくてもよく、垂直軸に対してわずかに、例えば0°と−5°の間、特に−1°と−5°の間の傾斜角度だけ、傾いていてもよい。負の角度は、基板(またはマスク)が下向きに傾いている基板(またはマスク)の向きを指す。堆積中における重力ベクトルからの基板の向きのずれは、有益であり、より安定した堆積プロセスをもたらすかもしれず、あるいは、フェイスダウンの向きは、堆積中に基板上のパーティクルを減少させるのに適しているかもしれない。しかしながら、搬送中および/または堆積中の、正確に垂直の向き(+/−1°)もまた、可能である。他の実施形態では、基板およびマスクは、非垂直の向きで搬送されてもよく、および/または基板は、非垂直の向き、例えば本質的に水平の向きでコーティングされてもよい。 [0025] As used herein, "essentially vertical orientation" may be understood as an orientation having a deviation from the vertical orientation, i.e., less than or equal to 10 degrees, especially less than or equal to 5 degrees, from the gravity vector. For example, the angle between the major surface of the substrate (or mask) and the gravity vector can be between +10° and −10°, in particular between 0° and −5°. In some embodiments, the orientation of the substrate (or mask) may not be exactly perpendicular during transport and/or deposition, and may be slightly with respect to the vertical axis, for example between 0° and -5°. , In particular by an angle of inclination between -1° and -5°. A negative angle refers to the orientation of the substrate (or mask) with the substrate (or mask) tilting downwards. Deviation of the substrate orientation from the gravity vector during deposition may be beneficial and may result in a more stable deposition process, or face-down orientation is suitable for reducing particles on the substrate during deposition. May be However, exactly vertical orientations (+/−1°) during transport and/or during deposition are also possible. In other embodiments, the substrate and mask may be transported in a non-vertical orientation, and/or the substrate may be coated in a non-vertical orientation, eg, an essentially horizontal orientation.
[0026]本明細書に記載の実施形態による装置100は、第1の搬送経路に沿って第1のキャリア10を第1の方向Xに搬送するように構成された第1のキャリア搬送システム120、詳細には磁気浮上システムを含む。第1の方向Xは、本質的に水平の方向であり得る。図1において、第1の方向Xは、紙面と直角である。
[0026] The
[0027]装置100は、真空チャンバ101内で第1のキャリア10を位置合わせするように構成された位置合わせシステム130をさらに含む。位置合わせシステム130は、真空チャンバ内に第1のキャリア10を正確に位置決めするように構成され得る。いくつかの実施形態において、堆積源105が、真空チャンバ101内に設けられている。堆積源105は、第1のキャリア10によって保持されている基板11上にコーティング材料を堆積させるように構成されている。
[0027] The
[0028]位置合わせシステム130は、第1のキャリア10を位置合わせシステム130に取り付けるための第1のマウント152と、第1のマウント152を少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイス151とを含む。位置合わせシステム130は、第1の方向Xに対して横方向の、詳細には第1の方向と本質的に直角の、第2の方向Zに第1のマウント152と共に位置合わせデバイス151を移動させるように構成された第1のシフトデバイス141を、さらに含む。
[0028] The
[0029]したがって、第1のマウント152は、例えば、第1のマウントに取り付けられた第1のキャリアの粗い位置決めを実行するために、第1のシフトデバイス141によって第2の方向Zに移動させることができ、第1のマウント152は、例えば、第1のマウントに取り付けられた第1のキャリアの精密な位置決めを実行するために、位置合わせデバイス151によってさらに移動させることができる。
[0029] Accordingly, the
[0030]第2の方向Zは、本質的に水平の方向であり得る。第2の方向Zは、それに沿って第1のキャリアが第1のキャリア搬送システム120によって搬送される第1の方向Xと本質的に直角であってもよい。第1のキャリアを第1の方向Xに搬送した後、第1のキャリアを、第1のマウント152に取り付けて、第1の搬送経路から離れて、例えば、堆積源105に向かって、またはマスクを保持する第2のキャリアに向かって、第2の方向Zにシフトさせることができる。
[0030] The second direction Z may be an essentially horizontal direction. The second direction Z may be essentially perpendicular to the first direction X along which the first carrier is transported by the first
[0031]いくつかの実施形態では、少なくとも1つの位置合わせ方向は、第2の方向Zに本質的に対応し得る。したがって、第1のシフトデバイス141および位置合わせデバイス151によって、第1のキャリアを、第2の方向Zに移動させることができる。第1のシフトデバイス141は、第2の方向Zにおける第1のキャリアの変位を実行するように構成されてもよく、位置合わせデバイス151は、第1の方向X、第2の方向Z、および本質的に垂直の方向であり得る第3の方向Yの少なくとも1つにおける第1のキャリアの精密な位置合わせを実行するように構成されてもよい。
[0031] In some embodiments, the at least one alignment direction may essentially correspond to the second direction Z. Therefore, the first carrier can be moved in the second direction Z by the
[0032]いくつかの実施形態において、位置合わせデバイス151は、第1のマウント152を、第2の方向Zに、ならびに任意選択で第1の方向Xならびに第1および第2の方向に対して横方向の第3の方向Yのうちの少なくとも一方に、移動させるように構成される。第3の方向Yは、本質的に垂直の方向であってもよい。したがって、第1のキャリアは、第1の方向X、第2の方向Zおよび/または第3の方向Yにおいて、位置合わせデバイス151によって正確に位置決めされることができる。他の実施形態では、位置合わせデバイス151は、第1のマウントを2方向にのみ、例えば第2の方向Zおよび第3の方向Yにのみ、移動させることができる。さらなる実施形態において、位置合わせデバイス151は、第1のマウントを1方向にのみ、詳細には第2の方向Zにのみ、移動させることができる。
[0032] In some embodiments, the
[0033]位置合わせデバイス151および第1のマウント152が、第1のシフトデバイス141によって第2の方向Zに移動することができるように、位置合わせデバイス151および第1のマウント152は、第1のシフトデバイス141の被駆動部143に固定されてもよい。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、第1のシフトデバイス141は、駆動ユニット142と、駆動ユニット142によって第2の方向Zに移動させることができる被駆動部143とを含む。第1のマウント152と共に位置合わせデバイス151は、被駆動部143と共に第2の方向Zに移動可能になるように、被駆動部143に、例えば被駆動部143の前端に、設けられてもよい。被駆動部143は、真空チャンバの外部から真空チャンバ内へ第2の方向Zに直線状に延びているバーまたはアームを含んでもよく、駆動ユニット142によって移動させることができる。
[0033] The
[0034]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態において、第1のシフトデバイス141の駆動ユニット142は、被駆動部143を第2の方向Zに10mm以上、詳細には20mm以上、さらに詳細には30mm以上の距離だけ移動させるように構成されたリニアアクチュエータを含んでもよい。例えば、駆動ユニット142は、被駆動部143を第2の方向Zに10mm以上の距離だけ移動させるように構成された、機械的アクチュエータ、電気機械的アクチュエータ、例えばステッピングモータ、電気モータ、油圧アクチュエータおよび/または空気圧アクチュエータを含むことができる。
[0034] In some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the
[0035]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、位置合わせデバイス151は、第1のマウントを少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された少なくとも1つの精密アクチュエータ、例えば、少なくとも1つのピエゾアクチュエータを含むことができる。詳細には、位置合わせデバイス151は、第1のマウントを2つまたは3つの位置合わせ方向に移動させるように構成された2つまたは3つのピエゾアクチュエータを含む。位置合わせデバイス151のピエゾアクチュエータは、第1のマウント152を第2の方向Zに、ならびに任意選択で第1の方向Xおよび/または第3の方向Yに、移動させるように構成されてもよい。位置合わせデバイス151は、第1のキャリアが取り付けられた第1のマウント152を少なくとも1つの位置合わせ方向に精密に位置決め(または精密に位置合わせ)するように構成されてもよい。例えば、位置合わせデバイスは、5μm未満の精度、詳細にはサブミクロンの精度で、第1のキャリアを位置決めするように構成されてもよい。これにより、位置合わせデバイス151が第1のマウント152と共に第1のシフトデバイスの被駆動部143に設けられていることによって、第1のマウントの粗い位置決めが、第1のシフトデバイス141によって実行されることができ、第1のマウントの精密な位置決めが、位置合わせデバイス151によって提供されることができる。
[0035] In some embodiments, which may be combined with other embodiments described herein, the
[0036]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態において、第1のマウント152は、第1のキャリア10を第1のマウント152に磁気的に保持するように構成された磁気チャックを含む。例えば、第1のマウント152は、第1のキャリアを第1のマウントに磁気的に保持するように構成された永電磁石(electropermanent magnet)デバイスを含んでもよい。永電磁石デバイスのコイルに電気パルスを印加することにより、永電磁石デバイスは、保持状態と解放状態との間で切り替えることができる。詳細には、電気パルスを印加することによって、永電磁石デバイスの少なくとも1つの磁石の磁化を変化させることができる。
[0036] In some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the
[0037]真空チャンバ内で第1のキャリア10を位置合わせする方法は、(i)第1のキャリア10を第1の搬送経路に沿って第1の方向Xに真空チャンバ101の堆積領域へ搬送すること、を含むことができる。第1のキャリア10は、第1のキャリア搬送システム120によって、詳細には少なくとも1つの磁石ユニット121を有する磁気浮上システムによって、非接触で搬送されてもよい。少なくとも1つの磁石ユニット121は、第1のキャリア10を案内レールに非接触で保持するように構成された能動的に制御された磁石ユニットであってもよい。(ii)堆積領域で位置合わせシステム130の第1のマウント152に第1のキャリアを取り付ける。位置合わせシステム130は、第1のマウントを少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイス151と、位置合わせデバイスを第1のマウントと共に第2の方向Zに移動させるように構成された第1のシフトデバイス141とを、含む。第1のキャリアを第1のマウント152に取り付けることは、第1のマウント152が第1のキャリアに接触して第1のキャリアに付着するまで、第1の搬送経路上に位置する第1のキャリア10に向かって第1のマウント152を移動させることを含むことができる。例えば、第1のマウント152は、第1のキャリアに磁気的に付着する。
[0037] The method of aligning the
[0038](iii)第1のシフトデバイス141を用いて第1のキャリアを位置合わせデバイス151と共に第2の方向Zに移動させる。例えば、第1のシフトデバイス141の被駆動部143が、第1のキャリア10を第2の方向Zに10mm以上の距離だけ堆積源105に向かってまたは第2のキャリアに向かって移動させてもよい。(iv)位置合わせデバイス151を用いて第1のキャリアを少なくとも1つの位置合わせ方向において位置合わせする。第1のキャリア10を位置合わせすることは、詳細には、真空チャンバ101内で第1のシフトデバイス141の被駆動部143に設けられた少なくとも1つのピエゾアクチュエータを介して、第2の方向Zに、ならびに任意選択で第1の方向Xおよび第3の方向Yの少なくとも一方に、第1のキャリア10を精密に位置決めすることを含むことができる。したがって、本明細書に記載の装置100を用いて、第1のキャリア10の正確な位置合わせを提供することができる。
[0038] (iii) Use the
[0039]図2は、本明細書に記載のいくつかの実施形態による、真空チャンバ101内でのキャリア位置合わせのための装置200を、概略断面図で示す。装置200は、図1に示す装置100と同様であり、そのため、ここでは繰り返さないが、上記の説明を参照することができる。
[0039] FIG. 2 illustrates, in schematic cross-sectional view, an
[0040]装置200は、第1のキャリア10を第1の方向Xに搬送するように構成された第1のキャリア搬送システム120を含む。第1のキャリア搬送システム120は、少なくとも1つの磁石ユニット121を有する、詳細には案内構造に第1のキャリア10を非接触で保持するように構成された少なくとも1つの能動的に制御された磁石ユニットを有する磁気浮上システムを、含んでもよい。
[0040] The
[0041]装置200は、第1のキャリア10を位置合わせシステム130に取り付けるように構成された第1のマウント152と、第1のマウント152を少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイス151と、第1のマウントと共に位置合わせデバイスを、第1の方向Xと本質的に直角であり得る第2の方向Zに移動させるように構成された第1のシフトデバイス141と、を有する位置合わせシステム130をさらに含む。
[0041] The
[0042]第1のシフトデバイス141は、駆動ユニット142と、駆動ユニット142によって第2の方向Zに移動させることができる被駆動部143とを、含む。位置合わせデバイス151および第1のマウント152は、第1のシフトデバイス141の被駆動部143に設けられており、被駆動部143と共に移動可能である。
[0042] The
[0043]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態において、第1のシフトデバイス141の駆動ユニット142は、真空チャンバ101の外部に配置されるように設けられており、および/または被駆動部143は、詳細には真空チャンバ101の側壁102の開口部を貫通して、駆動ユニット142から真空チャンバ101内に延びるように設けられている。
[0043] In some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the
[0044]駆動ユニット142が、真空チャンバの外部、すなわち大気圧下に配置されている場合、非真空対応の駆動ユニットを使用することができ、これは、通常、真空対応の駆動ユニットよりも費用効率が高く、取り扱いが容易である。さらに、例えば電気モータまたはステッピングモータを含む任意の種類の駆動ユニット142を、設けることができる。機械的なベアリングを含むことがある駆動ユニットによる真空チャンバ内のパーティクルの発生を、回避することができる。例えば、リニアZアクチュエータを使用することができる。駆動ユニットのメンテナンスを、容易にすることができる。
[0044] If the
[0045]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態において、装置200は、位置合わせシステムと真空チャンバ101の壁、詳細には側壁102との間に振動減衰または振動分離を提供するための振動減衰要素103または振動分離要素を、さらに含む。例えば、位置合わせシステム130は、真空チャンバ101の壁を貫通して延びていてもよく、振動減衰要素103を介して壁にフレキシブルに接続されてもよい。本明細書で使用される「フレキシブルに接続された」という用語は、側壁102と位置合わせシステム130との間の相対的な移動、例えば、変形または振動を可能にする、位置合わせシステム130と真空チャンバ101の側壁102との間の接続に関する。言い換えれば、側壁の振動および他の変形が、側壁から位置合わせシステムに実質的に伝達されないように、(真空チャンバの外部に配置された駆動ユニットを含む)位置合わせシステム全体が、側壁に対して移動可能に取り付けられている。これは、ポジショナの駆動ユニットを真空チャンバの側壁に固定しながら、真空チャンバ内でのポジショナの移動を可能にする従来のベローズシールモーションフィードスルーとは対照的である。したがって、従来のモーションフィードスルーは、それらが貫通する真空チャンバの側壁に強固に固定されており、側壁に対する振動減衰はない。
[0045] In some embodiments, which may be combined with other embodiments described herein, the
[0046]振動減衰要素103は、位置合わせシステム130が真空気密で貫通している真空チャンバの側壁の開口部を密封してもよい。
[0046] The
[0047]振動減衰要素103または振動分離要素は、少なくとも1つのフレキシブル要素または弾性要素、詳細には少なくとも1つの伸長可能な要素、例えば、ベローズ要素などの軸方向に伸長可能な要素を含むことができる。例えば、振動減衰要素103は、真空チャンバの側壁102と位置合わせシステム130との間で作用する弾性の真空気密シールを含むことができる。いくつかの実施形態では、軸方向に伸長可能な要素の長手方向軸は、第2の方向Zに延びていてもよい。例えば、ベローズ要素などの弾性および/または伸長可能な要素は、位置合わせシステム130が貫通する側壁102の開口部が真空気密で塞がれるように、位置合わせシステム130を真空チャンバの側壁102と接続させることができる。したがって、振動減衰要素が、側壁102と位置合わせシステム130との間の相対的な移動を可能にするので、側壁102の振動および他の変形は、位置合わせシステム130に直接伝達されない。詳細には、位置合わせシステム130の(静止した)本体131が、側壁を貫通して延びており、振動減衰要素103を介して側壁に対して移動可能に取り付けられている。
[0047] The
[0048]位置合わせシステム130が貫通する真空チャンバ101の側壁102は、真空チャンバ101の頂壁および底壁とは異なる壁、例えば本質的に垂直に伸びる側壁であってもよい。真空チャンバの側壁102は、通常、補強梁または補強リブなどの安定化要素によって強化することができる頂壁よりも安定性が低い。したがって、例えば、真空チャンバ内の圧力が変化したとき、側壁102は、少なくとも部分的に変形または振動することがある。したがって、側壁の変形および他の動きが位置合わせシステムに(直接)伝達されないように、位置合わせシステム130を側壁102から機械的に分離することが、有益である。むしろ、位置合わせシステム130は、真空チャンバの頂壁に固定することができる別個の支持体110に強固に固定されてもよい。これにより、位置合わせ精度を向上させることができ、真空チャンバ内の圧力変化中に側壁102が動いても、位置合わせシステム130の位置を維持することができる。
[0048] The
[0049]いくつかの実施形態において、少なくとも1つのさらなるフレキシブル要素104、例えば、ベローズ要素などの軸方向に伸長可能な要素が、位置合わせシステム130の本体131を第1のシフトデバイス141の被駆動部143とフレキシブルに接続することができる。さらなるフレキシブル要素104は、駆動ユニット142を真空チャンバ101の外部に配置することができる一方で、真空チャンバ101の内部で被駆動部143を第2の方向Zに移動させることを可能にし得る。例えば、駆動ユニット142は、真空チャンバの外部で位置合わせシステム130の本体131に(強固に)固定することができる。さらなるフレキシブル要素104は、さらなるフレキシブル要素を囲む真空環境を、さらなるフレキシブル要素の内側の大気環境から分離してもよい。被駆動部143の移動可能なバーまたはアームが、さらなるフレキシブル要素を通って軸方向に延びていてもよい。
[0049] In some embodiments, at least one additional
[0050]本明細書に記載の実施形態によれば、第1のマウント152は、第1のシフトデバイス141によって位置合わせデバイス151と共に第2の方向Zに移動させられることができる。詳細には、第1のマウント152が、第1のキャリア10と接触してこれに付着するまで、第1のマウント152は、第1の搬送経路上に位置する第1のキャリア10に向かって第1のシフトデバイス141によって移動させられることができる。次に、第1のキャリアが取り付けられた第1のマウントは、第1のシフトデバイス141によって第2の方向Zに堆積源105に向かってまたは第2のキャリアに向かって移動させられることができる。その後、位置合わせデバイス151による第1のキャリアの精密な位置合わせが、続いて行われてもよい。
[0050] According to the embodiments described herein, the
[0051]第1のシフトデバイス141の駆動ユニット142(例えば、リニアZアクチュエータとして提供される)は、真空チャンバ101の外部に配置され得る。位置合わせデバイス151および第1のマウント152を保持する第1のシフトデバイス141の被駆動部143の前部が、真空チャンバ内に配置され得る。位置合わせシステム130は、振動減衰要素103を介して側壁に接続されているので、被駆動部143が貫通している真空チャンバ101の側壁102の動きは、位置合わせシステム130に伝達されない。真空チャンバ内の圧力が変化したとしても、あるいは真空チャンバが充満するおよび/または排気されたとしても、第1のキャリアの正確で再現性のある位置合わせを提供することができる。
[0051] The
[0052]図2は、本明細書に記載の実施形態による、真空チャンバ内でキャリアを位置合わせするための真空システムを示す。真空システムは、側壁102を有する真空チャンバ101を含み、側壁は、本質的に垂直の方向(+/−20°)に延びることができる。本明細書に記載の位置合わせシステム130は、側壁102を貫通して延び、振動減衰要素103を介して、詳細にはベローズ要素などのフレキシブルおよび/または伸長可能な要素を介して、側壁102にフレキシブルに接続される。位置合わせシステム130の駆動ユニット142が、真空チャンバの外部に配置され、駆動ユニット142によって移動させることができる位置合わせシステム130の位置合わせデバイス151が、真空チャンバ内に配置されてもよい。位置合わせシステム130の第1のマウント152は、位置合わせデバイス151によって移動させることができ、第1のキャリア10を取り付けるように構成されている。
[0052] FIG. 2 illustrates a vacuum system for aligning a carrier within a vacuum chamber, according to embodiments described herein. The vacuum system includes a
[0053]位置合わせシステム130は、真空チャンバ内に設けられている、例えば真空チャンバの頂壁に取り付けられている支持体110に(強固に)固定されていてもよい。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態において、支持体110は、第1の方向Xに延びており、第1のキャリア搬送システム120の少なくとも1つの磁石ユニット121を保持または支持する。したがって、少なくとも1つの磁石ユニット121および位置合わせシステム130の両方が、真空チャンバ内の同じ機械的支持体に固定され、それにより、真空チャンバの振動または他の動きが、位置合わせシステム130および磁気浮上システムの浮上磁石に同程度に伝達される。位置合わせ精度をさらに向上させることができ、キャリアの搬送を容易にすることができる。
[0053] The
[0054]真空システムは、第1のキャリア10によって保持された基板上に1種以上の材料を堆積させるように構成された真空堆積システムであってもよい。堆積源105、詳細には有機材料を蒸発させるように構成された蒸気源が、真空チャンバ内に設けられてもよい。堆積源105は、材料を堆積源105から位置合わせシステムの第1のマウント152に取り付けられた第1のキャリアの方に向けることができるように、配置されてもよい。
[0054] The vacuum system may be a vacuum deposition system configured to deposit one or more materials on the substrate held by the
[0055]堆積源105は、移動可能な堆積源であってもよい。詳細には、堆積源105は、第1のキャリアによって保持される基板を通り過ぎて第1の方向Xに移動可能であってもよい。第1の方向Xに堆積源105を並進移動させるための駆動装置が、設けられてもよい。
[0055] The
[0056]代替的にまたは付加的に、堆積源は、蒸気出口を備えた回転可能な分配管を含むことができる。分配管は、本質的に垂直方向に延びていてもよく、本質的に垂直な回転軸の周りに回転可能であってもよい。堆積材料は、蒸発源のるつぼ内で蒸発させることができ、分配管に設けられた蒸気出口を通って基板の方に向けられることができる。 [0056] Alternatively or additionally, the deposition source may include a rotatable distribution tube with a vapor outlet. The distribution pipe may extend in an essentially vertical direction and may be rotatable about an essentially vertical axis of rotation. The deposited material can be evaporated in the crucible of the evaporation source and can be directed towards the substrate through a vapor outlet provided in the distribution tube.
[0057]詳細には、堆積源105は、本質的に垂直の方向に延びる線状源として提供されてもよい。堆積源105の垂直方向の高さは、基板を通り過ぎて第1の方向Xに堆積源105を移動させることによって、基板をコーティングすることができるように、垂直に配向された基板の高さに適合させることができる。
[0057] In particular, the
[0058]いくつかの実施形態において、第1のキャリア搬送システム120は、第1のキャリア10を真空チャンバ101内の堆積領域に搬送して、そこで、コーティング材料を基板上に堆積させることができるように、基板11が堆積源105に面するように、構成されてもよい。基板上にコーティング材料を堆積させた後、第1のキャリア搬送システム120は、例えば、コーティングされた基板を真空チャンバから取り出すため、または別のコーティング材料を別の堆積領域で基板上に堆積させるために、第1のキャリア10を堆積領域の外に搬送してもよい。
[0058] In some embodiments, the first
[0059]堆積源105は、コーティング材料を堆積領域に向けるための複数の蒸気開口部またはノズルを有する分配管を含むことができる。さらに、堆積源は、コーティング材料を加熱し蒸発させるように構成されたるつぼを含むことができる。るつぼは、分配管と流体連通するように、分配管に接続することができる。
[0059] The
[0060]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態において、堆積源は、回転可能であってもよい。例えば、堆積源は、堆積源の蒸気開口部が堆積領域の方に向けられる第1の向きから、蒸気開口部が第2の堆積領域の方に向けられる第2の向きへ、回転可能であってもよい。堆積領域および第2の堆積領域は、堆積源の両側に配置されてもよく、堆積源は、堆積領域と第2の堆積領域との間で約180°の角度回転可能であってもよい。 [0060] In some embodiments, which may be combined with other embodiments described herein, the deposition source may be rotatable. For example, the deposition source may be rotatable from a first orientation in which the vapor openings of the deposition source are directed toward the deposition area to a second orientation in which the vapor openings are directed toward the second deposition area. May be. The deposition region and the second deposition region may be located on opposite sides of the deposition source, and the deposition source may be rotatable about 180° between the deposition region and the second deposition region.
[0061]第1のキャリア搬送システム120は、真空チャンバ101内で第1のキャリア10を非接触搬送するように構成されてもよい。例えば、第1のキャリア搬送システム120は、磁力によって第1のキャリア10を保持し搬送してもよい。詳細には、第1のキャリア搬送システム120は、磁気浮上システムを含んでもよい。
[0061] The first
[0062]図2の例示的な実施形態において、第1のキャリア搬送システム120は、少なくとも部分的に第1のキャリア10の上方に配置され、第1のキャリア10の重量の少なくとも一部を支えるように構成された少なくとも1つの磁石ユニット121を含む。少なくとも1つの磁石ユニット121は、第1のキャリア10を非接触で保持するように構成された能動的に制御された磁石ユニットを含んでもよい。第1のキャリア搬送システム120は、第1のキャリア10を第1の方向Xに非接触で移動させるように構成された駆動装置をさらに含んでもよい。いくつかの実施形態において、駆動装置は、少なくとも部分的に第1のキャリア10の下方に配置されてもよい。駆動装置は、第1のキャリアに磁力を加えることによって第1のキャリアを移動させるように構成されたリニアモータなどの駆動装置を含むことができる(図示せず)。
[0062] In the exemplary embodiment of FIG. 2, the first
[0063]図3は、本明細書に記載の実施形態による、真空チャンバ101内でキャリアを位置合わせするための装置300を示す。装置300は、図2に示した装置200と類似しており、そのため、上記の説明を参照することができるので、ここでは繰り返さない。
[0063] FIG. 3 illustrates an
[0064]装置300の位置合わせシステム300は、第1のキャリア10を位置合わせシステムに取り付けるための第1のマウント152、第2のキャリア20を位置合わせシステムに取り付けるための第2のマウント153、第1のマウントを位置合わせデバイス151と共に第2の方向Zに移動させるように構成された第1のシフトデバイス141、および第2のマウントを第2の方向Zに移動させるように構成された第2のシフトデバイス144を含む。
[0064] The
[0065]第1のキャリア10は、典型的には、コーティングされるべき基板11を保持する基板キャリアであり、第2のキャリア20は、典型的には、堆積中に基板11の前に配置されるべきマスク21を保持するマスクキャリアである。蒸発させた材料を、マスクによって画定された所定のパターンで基板上に正確に堆積させることができるように、位置合わせシステム130を用いて第1のキャリア10および第2のキャリア20を互いに対して位置合わせすることができる。
[0065] The
[0066]詳細には、第2のマウント153に取り付けられた第2のキャリア20を、第2のシフトデバイス144を用いて、第2の方向Zの所定の位置に移動させることができる。第1のキャリア10を、第1のシフトデバイス141を用いて、第2の方向Zの第2のキャリア20に隣接する所定の位置に移動させることができる。次いで、第1のキャリア10を、位置合わせ方向において、詳細には第2の方向Zにおいて、および/または任意選択で1つ以上のさらなる位置合わせ方向において、位置合わせデバイス151を用いて、位置合わせすることができる。
[0066] Specifically, the
[0067]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態において、位置合わせシステム130は、真空チャンバ101の側壁102を貫通して延び、例えば少なくとも1つの振動減衰要素103または振動分離要素を介して、側壁102にフレキシブルに接続される。振動減衰要素は、ベローズ要素などの、軸方向に伸長可能な要素であってもよい。振動減衰要素は、側壁の変形の位置合わせシステムへの伝達を低減するフレキシブルまたは弾性シール要素であってもよい。フレキシブルまたは弾性シール要素は、側壁と位置合わせシステムとの間の真空気密シールとして機能し得る。上記の説明が参照され、ここでは繰り返さない。
[0067] In some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the
[0068]いくつかの実施形態では、第2のシフトデバイス144は、第2の駆動ユニット145、例えば、リニアアクチュエータまたはモータと、第2の駆動ユニット145によって第2の方向Zに移動される第2の被駆動部146とを含む。第2のマウント153が、第2の被駆動部146と共に移動可能であるように、第2の被駆動部146に設けられている。
[0068] In some embodiments, the
[0069]第2の駆動ユニット145は、真空チャンバ101の外部に配置され、第2の被駆動部146は、詳細には真空チャンバの側壁102に設けられた開口部を貫通して、真空チャンバ101内に延びていてもよい。第2のマウント153は、第2の被駆動部146の前端で真空チャンバ101内に設けられている。これにより、第2のキャリア20を、真空チャンバ内に設けられた第2のマウント153に取り付けることができる。さらに、真空チャンバの外部に配置された第2の駆動ユニット145を有する第2のシフトデバイス144によって、第2のキャリア20を真空チャンバ101の内部で第2の方向Zに移動させることができる。
[0069] The
[0070]いくつかの実施形態において、位置合わせシステム130は、真空チャンバ内に設けられた支持体110に固定されている本体131を含む。第1のシフトデバイス141の駆動ユニット142および第2のシフトデバイス144の第2の駆動ユニット145は、位置合わせシステム130の本体131に固定されていてもよい。位置合わせシステム130の本体131は、第1のシフトデバイスの被駆動部143および第2のシフトデバイスの第2の被駆動部146のために、側壁102を貫通するフィードスルーを提供することができる。位置合わせシステム130の本体131は、振動減衰要素103を介して、真空チャンバ101の側壁102にフレキシブルに接続されてもよい。
[0070] In some embodiments, the
[0071]位置合わせシステム130の本体131は、支持体110に固定されてもよい。支持体110は、真空チャンバの頂壁に(直接的または間接的に)固定されていてもよく、および/または第1の方向Xに延びていてもよい支持レールもしくは支持桁として設けられてもよい。真空チャンバの頂壁は、垂直に延びる側壁よりも、通常、頑丈に補強されており、可動性が低い。
[0071] The
[0072]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態において、第1のキャリア搬送システム120が、第1のキャリアを第1の搬送経路に沿って第1の方向Xに搬送するように設けられ、第2のキャリア搬送システム122が、第2のキャリア20を第1の搬送経路と平行な第2の搬送経路に沿って第1の方向Xに搬送するように設けられてもよい。第1のキャリア搬送システム120および/または第2のキャリア搬送システム122は、非接触でキャリアを搬送するための磁気浮上システムとして構成されてもよい。詳細には、第1のキャリア搬送システム120は、第1のキャリア10を非接触で保持するための少なくとも1つの磁石ユニット121、詳細には能動的に制御された磁石ユニットを含むことができる。第2のキャリア搬送システム122は、第2のキャリア20を非接触で保持するための少なくとも1つの第2の磁石ユニット123、詳細には能動的に制御された磁石ユニットを含むことができる。典型的には、各磁気浮上システムは、本質的に等しい間隔で第1の方向Xに沿って配置することができる複数の能動的に制御された磁石ユニットを含む。例えば、能動的に制御された磁石ユニットは、支持体110に固定されてもよい。
[0072] In some embodiments, which may be combined with other embodiments described herein, the first
[0073]図3の概略断面図において、第1のキャリア10と第2のキャリア20は、第1のキャリア搬送システム120と第2のキャリア搬送システム122の能動的に制御された磁石ユニットによって非接触で保持されている。第1のマウント152は、第1のキャリア10から第2の方向Zに離間して設けられ、第2のマウント153は、第2のキャリア20から第2の方向Zに離間して設けられている。
[0073] In the schematic cross-sectional view of FIG. 3, the
[0074]図4Aは、第2の位置にある図3の装置300を示す。第2のマウントを第2の方向Zに第2のキャリア20まで移動させて、第2のキャリア20を第2のマウント153に磁気的に付着させることによって、第2のキャリア20が、第2のマウント153に取り付けられている。次に、第2のキャリア20は、第2のシフトデバイス144によって第2の方向Zに所定の位置まで、例えば20mm以上の距離だけ移動される。詳細には、第2のキャリア20によって保持されるマスク21が、堆積源105に面する所定の位置に位置決めされる。
[0074] FIG. 4A shows the
[0075]図4Aにさらに示されるように、基板11を保持する第1のキャリア10が、第1のキャリア搬送システム120によって堆積領域内に搬送され、第1のシフトデバイス141を用いて第1のマウント152を第1のキャリア10まで移動させることによって、第1のマウント152が、第1のキャリアに取り付けられる。
[0075] As further shown in FIG. 4A, a
[0076]図4Bに概略的に示されるように、次に、基板11がマスク21の近くに位置決めされるまで、第1のキャリア10が、第1のシフトデバイス141によって第2の方向Zに第2のキャリア20に向かって移動させられる。続いて、第1のキャリア10は、位置合わせデバイス151を用いて少なくとも1つの位置合わせ方向において、詳細には第2の方向Zにおいて、位置合わせされる。第1のキャリア10は、1つ以上のピエゾアクチュエータを含むことができる位置合わせデバイス151によって、正確に所定の位置に位置決めされ得る。
[0076] As shown schematically in FIG. 4B, the
[0077]1種以上の材料を、マスク21の開口部を通して堆積源105によって基板11上に堆積させることができる。正確な材料パターンを基板上に堆積させることができる。
[0077] One or more materials may be deposited on
[0078]図5は、本明細書に記載の実施形態による、装置の位置合わせシステム130の分解図である。位置合わせシステム130は、図3に示す装置の位置合わせシステムと同様であり、そのため、ここでは繰り返さないが、上記の説明を参照することができる。
[0078] FIG. 5 is an exploded view of an
[0079]位置合わせシステム130は、本体131を含み、本体131は、振動減衰要素103を介して、例えばベローズ要素を介して、真空チャンバ101(図5には図示せず)の側壁102にフレキシブルに接続可能である。駆動ユニット142(例えば第1のZアクチュエータ)および第2の駆動ユニット145(例えば第2のZアクチュエータ)が、真空チャンバ101の外部で本体131に固定されている。いくつかの実施形態では、本体131は、例えば、ねじまたはボルト108を介して、真空チャンバ(図5には図示せず)内で支持体に強固に固定され、側壁102にフレキシブルに接続されている。
[0079] The
[0080]駆動ユニット142は、本体131を貫通して真空チャンバ内に延びている第1の被駆動部143を第2の方向Zに移動させるように構成され、第2の駆動ユニット145は、本体131を貫通して真空チャンバ内に延びている第2の被駆動部146を第2の方向Zに移動させるように構成される。位置合わせシステムに第1のキャリアを取り付けるための第1のマウント152が、第1の被駆動部143の前端に設けられ、位置合わせシステムに第2のキャリアを取り付けるための第2のマウント153が、第2の被駆動部146の前端に設けられている。したがって、第1および第2のキャリアを第2の方向Zにおけるそれぞれの所定の位置に位置決めするために、第1のマウント152および第2のマウント153を、それぞれのシフトデバイスによって第2の方向Zに互いに独立して移動させることができる。
[0080] The
[0081]第1のキャリアおよび第2のキャリアを、被駆動部の前端に設けられた第2のマウントおよび第1のマウントに、互いに隣接して保持できるように、第2の被駆動部146は、第1の被駆動部143よりも真空チャンバ内に突き出ている。
[0081] The second driven
[0082]第1のマウント152は、詳細には少なくとも1つのピエゾアクチュエータを含む、位置合わせデバイス151を介して第1の被駆動部143に接続されている。したがって、位置合わせデバイス151を用いて第1のマウント152を所定の位置に正確に位置決めすることによって、第2のキャリアに対する第1のキャリアの精密な位置決め(または精密な位置合わせ)を実行することができる。
[0082] The
[0083]図6は、図5の位置合わせシステム130の斜視図を示す。例えば、真空チャンバ内の圧力変化によって側壁が振動するとき、または側壁が動くときに、本体131が側壁102と一緒に動かないように、位置合わせシステム130の本体131と真空チャンバの側壁102との間に、小さな間隙が設けられている。
[0083] FIG. 6 illustrates a perspective view of the
[0084]いくつかの実施形態では、装置は、第1の方向Xに互いに離間した2つ以上の位置合わせシステムを、堆積領域内に含む。各位置合わせシステムは、本明細書に記載の実施形態による位置合わせシステム130に従って構成することができる。例えば、第1の位置合わせシステムの第1のマウントは、第1のキャリアの前方上部を保持するように構成され、第2の位置合わせシステムの第1のマウントは、第1のキャリアの後方上部を保持するように構成されてもよい。各位置合わせシステムは、それぞれのシフトデバイスのそれぞれの駆動ユニットが真空チャンバの外部に位置するように、真空チャンバの側壁102を貫通して延びていてもよい。さらに、各位置合わせシステムは、それぞれの振動分離要素を介して真空システムの側壁にフレキシブルに接続されてもよい。いくつかの実施形態では、各位置合わせシステムは、真空チャンバ内に設けられている、例えば真空チャンバの頂壁に固定されている、同じ支持体に機械的に固定されている。
[0084] In some embodiments, the apparatus includes two or more alignment systems within the deposition region that are spaced apart from each other in the first direction X. Each alignment system can be configured according to the
[0085]第1の位置合わせシステムの位置合わせデバイスは、第1のキャリアを第1の方向X、第2の方向Z、および第3の方向Yにおいて位置合わせするように構成されてもよく、第2の位置合わせシステムの位置合わせデバイスは、第1のキャリアを第1の方向Zおよび第3の方向Yにおいて位置合わせするように構成されてもよい。さらなる位置合わせデバイスを有するさらなる位置合わせシステムが、設けられてもよい。その結果、3次元物体である第1のキャリアを、第2のキャリアに対する堆積領域内の所定の並進および回転位置まで正確に位置決めし、回転させることができる。 [0085] The alignment device of the first alignment system may be configured to align the first carrier in a first direction X, a second direction Z, and a third direction Y, The alignment device of the second alignment system may be configured to align the first carrier in the first direction Z and the third direction Y. Additional alignment systems may be provided that have additional alignment devices. As a result, the first carrier, which is a three-dimensional object, can be accurately positioned and rotated to a predetermined translational and rotational position within the deposition region relative to the second carrier.
[0086]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態において、第1のシフトデバイスの被駆動部143は、真空チャンバ101内に配置された構成要素にケーブルなどの供給要素を送り込むように構成される。詳細には、被駆動部143は、真空チャンバの外部から真空チャンバ101内の被駆動部143の前端に配置された構成要素まで延びるケーブルのためのケーブル通路として構成された中空の管要素を含む。例えば、位置合わせデバイス151および第1のマウント152の少なくとも一方に接続された少なくとも1つのケーブルが、被駆動部143の中空の管要素を通って延びることができる。これにより、真空チャンバ内で第2の方向Zに移動可能な構成要素に電力を供給することができる。例えば、位置合わせデバイス151のピエゾアクチュエータおよび/または第1のマウント152の磁気チャックに、被駆動部143を通って真空チャンバの外部から電力を供給することができる。
[0086] In some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the driven
[0087]いくつかの実施形態において、第2のシフトデバイスの第2の被駆動部145もまた、ケーブルなどの供給要素を、真空チャンバ内に配置された構成要素に、例えば真空チャンバ内の第2の被駆動部145の前端に設けられた構成要素に、送り込むように構成される。例えば、第2のマウント153に、被駆動部145を通って真空チャンバの外部から電力を供給することができる。
[0087] In some embodiments, the second driven
[0088]図7は、本明細書に記載の実施形態による、真空チャンバ内で第1のキャリアを位置合わせする方法を示す流れ図である。 [0088] FIG. 7 is a flow chart illustrating a method of aligning a first carrier within a vacuum chamber, according to embodiments described herein.
[0089]ボックス830において、コーティングされるべき基板を保持することができる第1のキャリアが、真空チャンバ101内で第1の方向Xに第1の搬送経路に沿って搬送される。第1のキャリアは、堆積源105および位置合わせシステム130が配置されている堆積領域に搬送され得る。いくつかの実施形態では、第1のキャリア10は、複数の能動的に制御された磁石ユニットを含む磁気浮上システムによって非接触で搬送される。
[0089] At
[0090]ボックス840において、第1のキャリアは、位置合わせシステム130の第1のマウントに取り付けられる。位置合わせシステムは、第1のマウントを少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイスと、第1のマウントと共に位置合わせデバイスを第1の方向に対して横方向の第2の方向に移動させるように構成された第1のシフトデバイスとを、含む。第2の方向は、第1の方向と本質的に直角の水平方向であり得る。
[0090] At
[0091]ボックス850において、第1のキャリアは、第1のシフトデバイスによって第2の方向に、詳細には、第2のキャリアによって保持される、以前に位置決めされたマスクに向かって、(位置合わせデバイスと共に)移動される。
[0091] In
[0092]ボックス860において、第1のキャリアは、位置合わせデバイスを用いて少なくとも1つの位置合わせ方向において、詳細には、第2の方向において、および任意選択で第1の方向と第3の方向の少なくとも一方において、位置合わせされる。詳細には、第1のキャリア10によって保持される基板が、第2のキャリアによって保持されるマスクと接触するように移動される。
[0092] In
[0093]任意選択のボックス870において、材料が、第1のキャリアによって保持される基板上に堆積される。詳細には、蒸発させた有機材料が、基板を通り過ぎて移動可能であり得る蒸気源によって基板上に堆積される。
[0093] In
[0094]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態において、第1のキャリアは、基板を保持する基板キャリアであり、第1のキャリアを位置合わせすることは、位置合わせシステムの第2のマウントに取り付けられた第2のキャリアに対して第1のキャリアを位置合わせすることを含む。詳細には、第2のキャリアは、マスクを保持するマスクキャリアである。 [0094] In an embodiment that can be combined with other embodiments described herein, the first carrier is a substrate carrier that holds the substrate, and aligning the first carrier is an alignment. Aligning the first carrier with a second carrier mounted on a second mount of the system. Specifically, the second carrier is a mask carrier that holds the mask.
[0095]任意選択のボックス810において、マスク21を保持する第2のキャリア20が、第1の搬送経路と平行に延びる第2の搬送経路に沿って第1の方向Xに堆積領域内へ搬送される。第2のキャリア20は、複数の能動的に制御された磁石ユニットを含む磁気浮上システムによって非接触で搬送されてもよい。
[0095] In
[0096]任意選択のボックス820において、第2のキャリア20は、位置合わせシステム130の第2のマウントに取り付けられ、第2のキャリアは、位置合わせシステム130の第2のシフトデバイスによって第2の方向Zに、詳細には堆積源に向かって、移動される。方法は、次にボックス830に進むことができる。
[0096] In
[0097]本明細書に記載されている装置は、例えばOLEDデバイス製造用の有機材料を、蒸発させるように構成することができる。例えば、堆積源は、蒸発源とすることができ、詳細には、基板上に1種以上の有機材料を堆積させてOLEDデバイスの層を形成するための蒸発源とすることができる。 [0097] The apparatus described herein can be configured to evaporate organic materials, such as for OLED device fabrication. For example, the deposition source can be an evaporation source, in particular an evaporation source for depositing one or more organic materials on a substrate to form a layer of an OLED device.
[0098]本明細書に記載の実施形態は、例えばOLEDディスプレイ製造のための、大面積基板上の蒸着に利用することができる。具体的には、本明細書に記載の実施形態による構造および方法が提供される基板は、例えば、0.5m2以上、詳細には1m2以上の表面積を有する、大面積基板である。例えば、大面積の基板またはキャリアは、約0.67m2(0.73 x 0.92m)の表面積に対応するGEN4.5、約1.4m2(1.1m x 1.3m)の表面積に対応するGEN5、約4.29m2(1.95m x 2.2m)の表面積に対応するGEN7.5、約5.7m2(2.2m x 2.5m)の表面積に対応するGEN8.5、または約8.7m2(2.85m x 3.05m)の表面積に対応するGEN10でさえあり得る。GEN11およびGEN12などのさらに大きな世代ならびに対応する表面積が、同様に実施され得る。GEN世代の半分のサイズもまた、OLEDディスプレイ製造において提供され得る。 [0098] The embodiments described herein can be utilized for vapor deposition on large area substrates, for example, for OLED display fabrication. Specifically, the substrate provided with the structure and method according to the embodiments described herein is a large-area substrate having a surface area of, for example, 0.5 m 2 or more, particularly 1 m 2 or more. For example, a large area substrate or carrier may have a GEN4.5 corresponding to a surface area of about 0.67 m 2 (0.73 x 0.92 m), a surface area of about 1.4 m 2 (1.1 m x 1.3 m). GEN5 corresponding, GEN7.5 corresponding to a surface area of about 4.29 m 2 (1.95 m x 2.2 m), GEN8.5 corresponding to a surface area of about 5.7 m 2 (2.2 m x 2.5 m), Or it could even be GEN10 which corresponds to a surface area of about 8.7 m 2 (2.85 m x 3.05 m). Larger generations such as GEN11 and GEN12 and corresponding surface areas can be implemented as well. Half the size of the GEN generation can also be provided in OLED display manufacturing.
[0099]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態によれば、基板の厚さは、0.1mmから1.8mmであり得る。基板の厚さは、0.5mmなど、約0.9mm以下であり得る。本明細書で使用される「基板」という用語は、詳細には、実質的に非フレキシブルな基板、例えば、ウェハ、サファイアなどの透明結晶のスライス、またはガラス板を含み得る。しかしながら、本開示はそれに限定されず、「基板」という用語は、ウェブまたは箔などのフレキシブルな基板も含み得る。「実質的に非フレキシブル」という用語は、「フレキシブル」と区別されると解釈される。具体的には、実質的に非フレキシブルな基板は、例えば、0.5mm以下などの0.9mm以下の厚さを有するガラス板のように、ある程度のフレキシビリティを有することができるが、実質的に非フレキシブルな基板のフレキシビリティは、フレキシブルな基板と比較して小さい。 [0099] According to some embodiments, which may be combined with other embodiments described herein, the thickness of the substrate may be 0.1 mm to 1.8 mm. The thickness of the substrate can be about 0.9 mm or less, such as 0.5 mm. As used herein, the term “substrate” may specifically include a substantially non-flexible substrate, eg, a wafer, a slice of transparent crystals such as sapphire, or a glass plate. However, the present disclosure is not so limited and the term "substrate" may also include flexible substrates such as webs or foils. The term "substantially inflexible" is taken to be distinct from "flexible". Specifically, a substantially non-flexible substrate may have some flexibility, such as a glass plate having a thickness of 0.9 mm or less, such as 0.5 mm or less, but is substantially The flexibility of a non-flexible substrate is smaller than that of a flexible substrate.
[00100]本明細書に記載の実施形態によれば、基板は、材料堆積に適した任意の材料で作製することができる。例えば、基板は、ガラス(例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラスなど)、金属、ポリマー、セラミック、化合物材料、炭素繊維材料、または堆積プロセスによってコーティングすることができる任意の他の材料もしくは材料の組み合わせからなる群から選択された材料で作製することができる。 [00100] According to the embodiments described herein, the substrate can be made of any material suitable for material deposition. For example, the substrate can be glass (eg, soda lime glass, borosilicate glass, etc.), metal, polymer, ceramic, compound material, carbon fiber material, or any other material or combination of materials that can be coated by a deposition process. It can be made of a material selected from the group consisting of:
[00101]本明細書に記載の実施形態によれば、真空チャンバ内で基板キャリアおよびマスクキャリアを搬送および位置合わせするための方法は、コンピュータプログラム、ソフトウェア、コンピュータソフトウェア製品、ならびにCPU、メモリ、ユーザインターフェース、ならびに装置の対応する構成要素と通信する入力および出力デバイスを有することができる相互に関連するコントローラを使用して、実施することができる。 [00101] According to embodiments described herein, a method for transporting and aligning a substrate carrier and a mask carrier in a vacuum chamber is provided in a computer program, software, computer software product, and CPU, memory, user. It can be implemented using an interface and an interrelated controller that can have input and output devices in communication with corresponding components of the apparatus.
[00102]本開示は、第1のキャリアのための第1のキャリア搬送システムおよび少なくとも1つの寸法において等しいサイズであり得る第2のキャリアのための第2のキャリア搬送システムを提供する。言い換えれば、第2のキャリアは、第1のキャリア搬送システムに適合し、第1のキャリアは、第2のキャリア搬送システムに適合し得る。第1のキャリア搬送システムおよび第2のキャリア搬送システムは、真空システムを通るキャリアの正確かつ円滑な搬送を提供しながら、柔軟に使用することができる。位置合わせシステムは、マスクに対する基板の正確な位置合わせを可能にし、またはその逆も可能である。例えば高解像度OLEDデバイスの製造のための、高品質の処理結果を、達成することができる。 [00102] The present disclosure provides a first carrier transport system for a first carrier and a second carrier transport system for a second carrier that may be of equal size in at least one dimension. In other words, the second carrier may be compatible with the first carrier transport system and the first carrier may be compatible with the second carrier transport system. The first carrier transport system and the second carrier transport system can be used flexibly while providing accurate and smooth transport of carriers through the vacuum system. The alignment system allows for accurate alignment of the substrate with respect to the mask, and vice versa. High quality processing results can be achieved, for example for the production of high resolution OLED devices.
[00103]他の実施形態において、マスクキャリアと基板キャリアは、異なるサイズであってもよい。例えば、図3に概略的に示されるように、マスクキャリアは、詳細には垂直方向において、基板キャリアより大きくてもよい。 [00103] In other embodiments, the mask carrier and the substrate carrier may be of different sizes. For example, as shown schematically in FIG. 3, the mask carrier may be larger than the substrate carrier, particularly in the vertical direction.
[00104]上記は、本開示の実施形態に向けられているが、本開示の基本的な範囲から逸脱することなく、本開示の他のさらなる実施形態を考え出すこともでき、本開示の範囲は、以下の特許請求の範囲によって決定される。 [00104] While the above is directed to the embodiments of the present disclosure, other additional embodiments of the present disclosure can be devised without departing from the basic scope of the present disclosure, and the scope of the present disclosure. , As determined by the following claims.
Claims (16)
第1のキャリア(10)を第1の搬送経路に沿って第1の方向(X)に搬送するように構成された第1のキャリア搬送システム(120)と、
位置合わせシステム(130)と、
を備え、前記位置合わせシステム(130)が、
前記第1のキャリア(10)を前記位置合わせシステム(130)に取り付けるための第1のマウント(152)と、
前記第1のマウント(152)を少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイス(151)と、
前記位置合わせデバイス(151)を前記第1のマウント(152)と共に前記第1の方向(X)に対して横方向の第2の方向(Z)に移動させるように構成された第1のシフトデバイス(141)と、
を備える、装置。 A device for aligning carriers in a vacuum chamber (101), comprising:
A first carrier transport system (120) configured to transport a first carrier (10) along a first transport path in a first direction (X);
An alignment system (130),
And the alignment system (130) comprises
A first mount (152) for attaching the first carrier (10) to the alignment system (130);
An alignment device (151) configured to move the first mount (152) in at least one alignment direction;
A first shift configured to move the alignment device (151) with the first mount (152) in a second direction (Z) transverse to the first direction (X). Device (141),
A device.
第2のキャリアを前記位置合わせシステム(130)に取り付けるための第2のマウント(153)と、
前記第2のマウント(153)を前記第2の方向(Z)に移動させるように構成された第2のシフトデバイス(144)と、
をさらに備える、請求項1から10のいずれか一項に記載の装置。 The alignment system (130)
A second mount (153) for attaching a second carrier to the alignment system (130);
A second shift device (144) configured to move the second mount (153) in the second direction (Z);
The apparatus according to any one of claims 1 to 10, further comprising:
側壁(102)を有する真空チャンバ(101)と、
位置合わせシステム(130)と、
を備え、前記位置合わせシステム(130)が、
前記第1のキャリア(10)を前記位置合わせシステム(130)に取り付けるための第1のマウント(152)と、
前記第1のマウント(152)を少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイス(151)と、
前記位置合わせデバイス(151)を前記第1のマウント(152)と共に前記第1の方向(X)に対して横方向の第2の方向(Z)に移動させるように構成された第1のシフトデバイス(141)と、
を備え、
前記位置合わせシステム(130)が、前記側壁(102)を貫通して延びており、前記側壁(102)にフレキシブルに接続されている、真空システム。 A vacuum system for carrier alignment in a vacuum chamber, comprising:
A vacuum chamber (101) having a sidewall (102),
An alignment system (130),
And the alignment system (130) comprises
A first mount (152) for attaching the first carrier (10) to the alignment system (130);
An alignment device (151) configured to move the first mount (152) in at least one alignment direction;
A first shift configured to move the alignment device (151) with the first mount (152) in a second direction (Z) transverse to the first direction (X). Device (141),
Equipped with
A vacuum system wherein the alignment system (130) extends through the sidewall (102) and is flexibly connected to the sidewall (102).
第1のキャリア(10)を第1の搬送経路に沿って第1の方向(X)に搬送することと、
第1のマウント(152)を少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイス(151)と、前記位置合わせデバイスを前記第1のマウントと共に前記第1の方向に対して横方向の第2の方向(Z)に移動させるように構成された第1のシフトデバイス(141)と、を備える位置合わせシステム(130)の前記第1のマウントに前記第1のキャリアを取り付けることと、
前記第1のシフトデバイス(141)を用いて前記第1のキャリアを前記第2の方向(Z)に移動させることと、
前記位置合わせデバイス(151)を用いて前記第1のキャリアを少なくとも1つの位置合わせ方向において位置合わせすることと、
を含む方法。 A method of aligning a carrier in a vacuum chamber, the method comprising:
Transporting the first carrier (10) in the first direction (X) along the first transport path;
An alignment device (151) configured to move a first mount (152) in at least one alignment direction, and the alignment device together with the first mount transverse to the first direction. Mounting the first carrier on the first mount of an alignment system (130) comprising a first shift device (141) configured to move in a second direction (Z) of directions. When,
Moving the first carrier in the second direction (Z) using the first shift device (141);
Aligning the first carrier in at least one alignment direction using the alignment device (151);
Including the method.
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