JP2020518123A - Device and vacuum system for aligning carriers in a vacuum chamber, and method for aligning carriers - Google Patents

Device and vacuum system for aligning carriers in a vacuum chamber, and method for aligning carriers Download PDF

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Abstract

真空チャンバ(101)内でキャリアを位置合わせするための装置(100)が、説明される。装置は、第1のキャリア(10)を第1の搬送経路に沿って第1の方向(X)に搬送するように構成された第1のキャリア搬送システム(120)と、位置合わせシステム(130)とを含む。位置合わせシステムは、第1のキャリア(10)を位置合わせシステム(130)に取り付けるための第1のマウント(152)と、第1のマウント(152)を少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイス(151)と、位置合わせデバイス(151)を第1のマウント(152)と共に第1の方向(X)に対して横方向の第2の方向(Z)に移動させるように構成された第1のシフトデバイス(141)とを含む。さらに、真空システムおよびキャリアを位置合わせする方法が、説明される。【選択図】図1An apparatus (100) for aligning a carrier within a vacuum chamber (101) is described. The apparatus comprises a first carrier transport system (120) configured to transport a first carrier (10) along a first transport path in a first direction (X), and an alignment system (130). ) And. The alignment system includes a first mount (152) for attaching the first carrier (10) to the alignment system (130) and moving the first mount (152) in at least one alignment direction. The alignment device (151) configured as described above, and the alignment device (151) are moved together with the first mount (152) in a second direction (Z) lateral to the first direction (X). A first shift device (141) configured as described above. Additionally, a vacuum system and method of aligning the carrier are described. [Selection diagram] Figure 1

Description

[0001]本開示の実施形態は、真空チャンバ内でキャリアを位置合わせするための装置および真空システム、ならびに真空チャンバ内でキャリアを位置合わせする方法に関する。より具体的には、真空チャンバ内で基板を保持する基板キャリアを搬送、位置決め、および位置合わせする方法が、説明される。本開示の実施形態は、詳細には、キャリアによって保持された基板上に材料を堆積させるための真空堆積システムに関し、基板は、堆積前にマスクに対して位置合わせされる。本明細書に記載の方法および装置は、有機発光ダイオード(OLED)デバイスの製造に使用することができる。 [0001] Embodiments of the present disclosure relate to an apparatus and vacuum system for aligning a carrier within a vacuum chamber, and a method for aligning a carrier within a vacuum chamber. More specifically, a method of transporting, positioning, and aligning a substrate carrier holding a substrate in a vacuum chamber is described. Embodiments of the present disclosure particularly relate to a vacuum deposition system for depositing material on a substrate held by a carrier, where the substrate is aligned with a mask prior to deposition. The methods and apparatus described herein can be used in the manufacture of organic light emitting diode (OLED) devices.

[0002]基板上への層堆積のための技術は、例えば、熱蒸発、物理的気相堆積(PVD)、および化学気相堆積(CVD)を含む。コーティングされた基板は、いくつかの用途およびいくつかの技術分野で使用することができる。例えば、コーティングされた基板は、有機発光ダイオード(OLED)デバイスの分野で使用することができる。OLEDは、テレビ画面、コンピュータモニタ、携帯電話、他のハンドヘルド装置、および例えば情報を表示するためのその他同種類のものの製造に使用することができる。OLEDディスプレイなどのOLEDデバイスは、全て基板上に堆積された、2つの電極間に位置する有機材料の1つ以上の層を、含むことができる。 Techniques for layer deposition on [0002] substrates include, for example, thermal evaporation, physical vapor deposition (PVD), and chemical vapor deposition (CVD). The coated substrate can be used in some applications and in some technical fields. For example, the coated substrate can be used in the field of organic light emitting diode (OLED) devices. OLEDs can be used in the manufacture of television screens, computer monitors, cell phones, other handheld devices, and the like, for example for displaying information. OLED devices such as OLED displays can include one or more layers of organic material located between two electrodes, all deposited on a substrate.

[0003]基板上にコーティング材料を堆積させている間、基板は、基板キャリアによって保持されてもよく、マスクは、基板の前でマスクキャリアによって保持されてもよい。マスクの開口パターンに対応する材料パターン、例えば複数の画素を、例えば蒸発によって、基板上に堆積させることができる。 [0003] During the deposition of the coating material on the substrate, the substrate may be held by the substrate carrier and the mask may be held by the mask carrier in front of the substrate. A material pattern, for example a plurality of pixels, corresponding to the opening pattern of the mask can be deposited on the substrate, for example by evaporation.

[0004]OLEDデバイスの機能は、典型的には、コーティングパターンの精度および有機材料の厚さに依存し、それらは所定の範囲内になければならない。高解像度OLEDデバイスを得るためには、蒸発した材料の堆積に関する技術的課題を克服する必要がある。特に、基板を支持する基板キャリアおよび/またはマスクを支持するマスクキャリアを真空システムを通って正確かつ円滑に搬送することは、困難である。さらに、マスクに対する基板の正確な位置合わせは、例えば高解像度OLEDデバイスを製造するための、高品質の堆積結果を達成するために、極めて重要である。さらにまた、コーティング材料を効率的に利用することが有益であり、システムのアイドル時間は、できるだけ短く保たれるべきである。 [0004] The functionality of OLED devices typically depends on the accuracy of the coating pattern and the thickness of the organic material, which must be within a given range. In order to obtain high resolution OLED devices, it is necessary to overcome the technical challenges of vaporized material deposition. In particular, it is difficult to accurately and smoothly transport the substrate carrier supporting the substrate and/or the mask carrier supporting the mask through the vacuum system. In addition, accurate alignment of the substrate with respect to the mask is extremely important to achieve high quality deposition results, eg for making high resolution OLED devices. Furthermore, it is beneficial to utilize the coating material efficiently and the idle time of the system should be kept as short as possible.

[0005]上記に鑑みて、真空チャンバ内で基板および/またはマスクを支持するためのキャリアを正確にかつ高い信頼度で搬送、位置決めおよび/または位置合わせするための装置、システムおよび方法を提供することは、有益であろう。 [0005] In view of the above, there is provided an apparatus, system and method for accurately and reliably transporting, positioning and/or aligning a carrier for supporting a substrate and/or mask in a vacuum chamber. That would be beneficial.

[0006]上記に照らして、真空チャンバ内でキャリアを位置合わせするための装置および真空システム、ならびに真空チャンバ内でキャリアを位置合わせする方法が、提供される。本開示のさらなる態様、利点、および特徴は、特許請求の範囲、明細書、および添付の図面から明らかである。 [0006] In light of the above, apparatus and vacuum systems for aligning carriers in a vacuum chamber, and methods of aligning carriers in a vacuum chamber are provided. Further aspects, advantages and features of the disclosure will be apparent from the claims, the description and the accompanying drawings.

[0007]本開示の一態様によれば、真空チャンバ内でキャリアを位置合わせするための装置が、提供される。装置は、第1のキャリアを第1の搬送経路に沿って第1の方向に搬送するように構成された第1のキャリア搬送システムと、位置合わせシステムとを含む。位置合わせシステムは、第1のキャリアを位置合わせシステムに取り付けるための第1のマウントと、第1のマウントを少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイスと、位置合わせデバイスを第1のマウントと共に第1の方向に対して横方向の第2の方向に移動させるように構成された第1のシフトデバイスとを含む。 [0007] According to one aspect of the present disclosure, an apparatus for aligning a carrier within a vacuum chamber is provided. The apparatus includes a first carrier transport system configured to transport a first carrier in a first direction along a first transport path, and an alignment system. An alignment system, a first mount for attaching a first carrier to the alignment system, an alignment device configured to move the first mount in at least one alignment direction, and an alignment device And a first shift device configured to move with the first mount in a second direction transverse to the first direction.

[0008]実施形態において、第1のキャリアは、基板を保持するように構成された基板キャリアである。いくつかの実施形態では、位置合わせシステムは、第1のキャリアによって保持される基板の上に材料を堆積させるために、第1のキャリア、例えば基板キャリアを、第2のキャリア、例えばマスクキャリアに対して位置合わせするように、構成される。 [0008] In an embodiment, the first carrier is a substrate carrier configured to hold a substrate. In some embodiments, the alignment system includes a first carrier, eg, a substrate carrier, onto a second carrier, eg, a mask carrier, to deposit material on the substrate held by the first carrier. Configured to register relative to each other.

[0009]本開示の別の態様によれば、真空チャンバ内でキャリアを位置合わせするための真空システムが、提供される。真空システムは、側壁を有する真空チャンバと、位置合わせシステムとを含む。位置合わせシステムは、第1のキャリアを位置合わせシステムに取り付けるための第1のマウントと、第1のマウントを少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイスと、位置合わせデバイスを第1のマウントと共に第1の方向に対して横方向の第2の方向に移動させるように構成された第1のシフトデバイスと、を含む。位置合わせシステムは、側壁を貫通して延びており、例えば、少なくとも1つの振動減衰要素または振動分離要素を介して、詳細には、側壁の変形の位置合わせシステムへの伝達を低減または防止することができるベローズ要素などの、弾性またはフレキシブルシール要素を介して、側壁にフレキシブルに接続されている。 [0009] According to another aspect of the present disclosure, a vacuum system for aligning a carrier within a vacuum chamber is provided. The vacuum system includes a vacuum chamber having a sidewall and an alignment system. An alignment system, a first mount for attaching a first carrier to the alignment system, an alignment device configured to move the first mount in at least one alignment direction, and an alignment device A first shift device configured to move with the first mount in a second direction transverse to the first direction. The alignment system extends through the sidewall and reduces or prevents transmission of deformation of the sidewall to the alignment system, for example via at least one vibration damping element or vibration isolation element. It is flexibly connected to the side wall via an elastic or flexible sealing element, such as a bellows element that can

[0010]いくつかの実施形態では、真空システムは、真空チャンバ内で第1のキャリアによって保持された基板上に材料を堆積させるための堆積源を含む真空堆積システムである。 [0010] In some embodiments, the vacuum system is a vacuum deposition system that includes a deposition source for depositing material on a substrate held by a first carrier in a vacuum chamber.

[0011]本開示のさらなる態様によれば、真空チャンバ内でキャリアを位置合わせする方法が、提供される。この方法は、第1のキャリアを第1の搬送経路に沿って第1の方向に搬送することと、第1のキャリアを位置合わせシステムの第1のマウントに取り付けることと、を含み、位置合わせシステムは、第1のマウントを少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイスと、位置合わせデバイスを第1のマウントと共に第1の方向に対して横方向の第2の方向に移動させるように構成された第1のシフトデバイスと、を含む。この方法は、第1のマウントに取り付けられた第1のキャリアを、第1のシフトデバイスを用いて第2の方向に移動させることと、位置合わせデバイスを用いて少なくとも1つの位置合わせ方向に第1のキャリアを位置合わせすることと、をさらに含む。 [0011] According to a further aspect of the present disclosure, a method of aligning a carrier in a vacuum chamber is provided. The method includes transporting a first carrier in a first direction along a first transport path and mounting the first carrier on a first mount of an alignment system for alignment. The system comprises an alignment device configured to move the first mount in at least one alignment direction, and the alignment device with the first mount in a second direction transverse to the first direction. A first shift device configured to be moved to. The method comprises moving a first carrier mounted on a first mount in a second direction using a first shift device and using a registration device in at least one registration direction in a first direction. Further comprising aligning the one carrier.

[0012]いくつかの実施形態では、第1のキャリアは、基板を保持する基板キャリアであり、第1のキャリアを位置合わせすることは、マスクを保持する第2のキャリアに対して基板キャリアを位置合わせすることを含む。 [0012] In some embodiments, the first carrier is a substrate carrier that holds the substrate, and aligning the first carrier causes the substrate carrier to be relative to the second carrier that holds the mask. Including aligning.

[0013]いくつかの実施形態では、位置合わせシステムは、真空チャンバの側壁を貫通して延びており、例えば、少なくとも1つの振動減衰要素または振動分離要素を介して、側壁にフレキシブルに接続されている。したがって、側壁の振動または他の変形は、位置合わせシステムに直接伝達されない。位置合わせ精度を向上させることができる。 [0013] In some embodiments, the alignment system extends through a sidewall of the vacuum chamber and is flexibly connected to the sidewall, eg, via at least one vibration damping element or vibration isolation element. There is. Therefore, sidewall vibrations or other deformations are not directly transmitted to the alignment system. Positioning accuracy can be improved.

[0014]実施形態はまた、開示された方法を実行するための装置にも向けられ、記載された各方法態様を実行するための装置部分も含む。これらの方法態様は、ハードウェア構成要素によって、適切なソフトウェアによってプログラムされたコンピュータによって、その2つの任意の組み合わせによって、または任意の他の仕方で実行されてもよい。さらに、本開示による実施形態は、記載された装置を動作させるための方法にも向けられる。記載された装置を動作させる方法は、装置のあらゆる機能を実行するための方法態様を含む。 [0014] Embodiments are also directed to apparatus for performing the disclosed methods and include apparatus portions for performing each described method aspect. These method aspects may be performed by hardware components, by a computer programmed by suitable software, by any combination of the two, or in any other manner. Moreover, embodiments according to the present disclosure are also directed to methods for operating the described apparatus. The method of operating the described device includes method aspects for performing any function of the device.

[0015]本開示の上記の特徴が詳細に理解できるように、上記で簡潔に要約した本開示のより詳細な説明が、実施形態を参照してなされ得る。添付の図面は、本開示の実施形態に関連しており、以下に説明される。 [0015] For a better understanding of the above features of the present disclosure, a more detailed description of the present disclosure, briefly summarized above, may be made with reference to embodiments. The accompanying drawings relate to embodiments of the present disclosure and are described below.

本明細書に記載の実施形態による、キャリアを位置合わせするための装置の概略断面図を示す。FIG. 6 shows a schematic cross-sectional view of an apparatus for aligning carriers according to embodiments described herein. 本明細書に記載の実施形態による、キャリアを位置合わせするための真空システムの概略断面図を示す。FIG. 6 shows a schematic cross-sectional view of a vacuum system for aligning carriers according to embodiments described herein. 搬送位置にある、本明細書に記載の実施形態による、キャリアを位置合わせするための装置の概略断面図を示す。FIG. 7 shows a schematic cross-sectional view of an apparatus for aligning carriers according to embodiments described herein in a transport position. 第2の位置にある図3の実施形態を示す。4 shows the embodiment of FIG. 3 in a second position. 第3の位置にある図3の実施形態を示す。4 shows the embodiment of FIG. 3 in a third position. 本明細書に記載の実施形態による、装置の位置合わせシステムの分解図を示す。FIG. 6 shows an exploded view of an alignment system for a device, according to embodiments described herein. 図5の位置合わせシステムの斜視図を示す。6 shows a perspective view of the alignment system of FIG. 本明細書に記載の実施形態による、真空チャンバ内でキャリアを位置合わせする方法を示す流れ図である。6 is a flow chart illustrating a method of aligning a carrier within a vacuum chamber, according to embodiments described herein.

[0016]次に、本開示の様々な実施形態が詳細に参照され、その1つ以上の例が、図に示される。図面についての以下の説明の中で、同じ参照番号は、同じ構成要素を指す。一般に、個々の実施形態に関する相違点のみが、記載されている。各例は、本開示の説明として提供されており、本開示を限定することを意味していない。 [0016] Reference will now be made in detail to various embodiments of the present disclosure, one or more examples of which are illustrated in the figures. Within the following description of the drawings, the same reference numbers refer to the same components. In general, only the differences with respect to the individual embodiments are described. Each example is provided by way of explanation of the disclosure and is not meant as a limitation of the disclosure.

[0017]さらに、一つの実施形態の一部として図示または説明された特徴は、他の実施形態で、またはそれらと組み合わせて使用されて、さらに別の実施形態を生み出すことができる。本説明はそのような修正および変形を含むことが、意図されている。 [0017] Furthermore, features illustrated or described as part of one embodiment, can be used on or in combination with other embodiments to yield yet another embodiment. This description is intended to cover such modifications and variations.

[0018]図1は、本明細書に記載の実施形態による、真空チャンバ101内で第1のキャリア10を位置合わせするための装置100の概略断面図である。「位置合わせする」という用語は、真空チャンバ内の所定の位置に、詳細には第2のキャリアに対して所定の位置に、キャリアを正確に位置決めすることを指す。第1のキャリアは、少なくとも1つの位置合わせ方向において、詳細には、互いに対して本質的に直角であり得る2つまたは3つの位置合わせ方向において、位置合わせされる。 [0018] FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an apparatus 100 for aligning a first carrier 10 within a vacuum chamber 101, according to embodiments described herein. The term "aligning" refers to the precise positioning of the carrier in position within the vacuum chamber, in particular with respect to the second carrier. The first carrier is aligned in at least one alignment direction, in particular in two or three alignment directions which may be essentially perpendicular to each other.

[0019]以下の説明において、「第1のキャリア」という用語は、図1に概略的に示されるような、基板11を保持するように構成された基板キャリアを指すのに、使用される。「第2のキャリア」という用語は、マスク21を保持するように構成されているマスクキャリアを指すのに使用される(図3参照)。しかしながら、代替的に、第1のキャリア10は、異なる物、例えばマスクまたはシールドを保持するように構成されたキャリアであってもよいことが、理解されるべきである。 [0019] In the following description, the term "first carrier" is used to refer to a substrate carrier configured to hold a substrate 11, as schematically shown in FIG. The term "second carrier" is used to refer to a mask carrier configured to hold the mask 21 (see Figure 3). However, it should be appreciated that, alternatively, the first carrier 10 may be a carrier configured to hold a different object, such as a mask or shield.

[0020]「基板キャリア」は、真空チャンバ101内で第1の搬送経路に沿って基板11を搬送するように構成されたキャリア装置に関する。基板キャリアは、基板11上へのコーティング材料の堆積中に基板11を保持することができる。いくつかの実施形態では、基板11は、例えば搬送中、位置合わせ中および/または堆積中、非水平の向きで、詳細には本質的に垂直の向きで、基板キャリアに保持されてもよい。図1に示す実施形態において、基板11は、本質的に垂直の向きで第1のキャリア10に保持されている。例えば、基板面と重力ベクトルとの間の角度が、10°未満、特に5°未満であってもよい。 [0020] "Substrate carrier" refers to a carrier device configured to transport a substrate 11 within a vacuum chamber 101 along a first transport path. The substrate carrier can hold the substrate 11 during the deposition of the coating material on the substrate 11. In some embodiments, the substrate 11 may be held on the substrate carrier in a non-horizontal orientation, for example during transport, alignment and/or deposition, in particular in an essentially vertical orientation. In the embodiment shown in FIG. 1, the substrate 11 is held on the first carrier 10 in an essentially vertical orientation. For example, the angle between the substrate surface and the gravity vector may be less than 10°, in particular less than 5°.

[0021]例えば、基板11は、真空チャンバ101を通る搬送中、真空チャンバ101内での位置合わせ中、および/または基板上へのコーティング材料の堆積中、第1のキャリア10の保持面に保持されてもよい。詳細には、基板11は、チャッキング装置によって、例えば静電チャック(ESC)によって、または磁気チャックによって、第1のキャリア10に保持されてもよい。チャッキング装置は、第1のキャリア10内に、例えば第1のキャリアに設けられた大気容器内に、一体化されていてもよい。 [0021] For example, the substrate 11 is retained on the retaining surface of the first carrier 10 during transport through the vacuum chamber 101, during alignment within the vacuum chamber 101, and/or during deposition of coating material on the substrate. May be done. In particular, the substrate 11 may be held on the first carrier 10 by a chucking device, for example by an electrostatic chuck (ESC) or by a magnetic chuck. The chucking device may be integrated in the first carrier 10, for example, in an atmosphere container provided in the first carrier.

[0022]第1のキャリア10は、詳細には非水平の向きに、より詳細には本質的に垂直の向きに、基板11を保持するように構成された保持面を有するキャリア本体を含むことができる。第1のキャリアは、第1のキャリア搬送システム120によって第1の搬送経路に沿って移動可能であってもよい。いくつかの実施形態では、第1のキャリア10は、搬送中、例えば磁気浮上システムによって、非接触で保持されてもよい。詳細には、第1のキャリア搬送システム120は、真空チャンバ内で第1の搬送経路に沿って第1のキャリア10を非接触で搬送するように構成された磁気浮上システムであってもよい。第1のキャリア搬送システム120は、位置合わせシステムおよび堆積源が配置されている真空チャンバの堆積領域に第1のキャリアを搬送するように構成されてもよい。 [0022] The first carrier 10 comprises a carrier body having a retaining surface configured to retain the substrate 11, particularly in a non-horizontal orientation, and more particularly in an essentially vertical orientation. You can The first carrier may be movable along the first transport path by the first carrier transport system 120. In some embodiments, the first carrier 10 may be held contactless during transport, such as by a magnetic levitation system. In detail, the first carrier transfer system 120 may be a magnetic levitation system configured to transfer the first carrier 10 in a non-contact manner along the first transfer path in the vacuum chamber. The first carrier transfer system 120 may be configured to transfer the first carrier to a deposition region of a vacuum chamber where an alignment system and a deposition source are located.

[0023]本明細書で使用される「マスクキャリア」は、真空チャンバ内でマスク搬送経路に沿ってマスクを搬送するためにマスクを保持するように構成されたキャリア装置に関する。マスクキャリアは、搬送中、位置合わせ中、および/またはマスクを通った基板上への堆積中、マスクを保持することができる。いくつかの実施形態では、マスクは、搬送中および/または位置合わせ中、非水平の向きで、詳細には本質的に垂直の向きで、マスクキャリアに保持されてもよい。マスクは、チャッキング装置、例えば、クランプなどの機械的チャック、静電チャックまたは磁気チャックによって、マスクキャリアに保持されてもよい。マスクキャリアに接続されていてもよい、またはマスクキャリア内に一体化されていてもよい他の種類のチャッキング装置が、使用されてもよい。 [0023] As used herein, "mask carrier" relates to a carrier device configured to hold a mask for transporting the mask along a mask transport path within a vacuum chamber. The mask carrier can hold the mask during transport, alignment, and/or deposition on the substrate through the mask. In some embodiments, the mask may be held on the mask carrier during transport and/or alignment in a non-horizontal orientation, particularly an essentially vertical orientation. The mask may be held on the mask carrier by a chucking device, for example a mechanical chuck such as a clamp, an electrostatic chuck or a magnetic chuck. Other types of chucking devices may be used, which may be connected to the mask carrier or integrated within the mask carrier.

[0024]例えば、マスクは、エッジ除外マスクまたはシャドーマスクであってもよい。エッジ除外マスクは、基板のコーティング中に1つ以上のエッジ領域に材料が堆積しないように、基板の1つ以上のエッジ領域をマスキングするように構成されたマスクである。シャドーマスクは、基板上に堆積されるべき複数のフィーチャをマスキングするように構成されたマスクである。例えば、シャドーマスクは、複数の小さな開口部、例えば10,000以上の開口部、特に1,000,000以上の開口部を有する開口パターンを含むことができる。 [0024] For example, the mask may be an edge exclusion mask or a shadow mask. An edge exclusion mask is a mask configured to mask one or more edge areas of a substrate so that material is not deposited on the one or more edge areas during coating of the substrate. A shadow mask is a mask configured to mask features to be deposited on a substrate. For example, the shadow mask can include an opening pattern having a plurality of small openings, such as 10,000 or more openings, especially 1,000,000 or more openings.

[0025]本明細書で使用される「本質的に垂直の向き」は、垂直の向きから、すなわち重力ベクトルから10°以下、特に5°以下のずれを有する向きとして理解され得る。例えば、基板(またはマスク)の主表面と重力ベクトルとの間の角度は、+10°と−10°の間、特に0°と−5°の間とすることができる。いくつかの実施形態では、基板(またはマスク)の向きは、搬送中および/または堆積中、正確に垂直でなくてもよく、垂直軸に対してわずかに、例えば0°と−5°の間、特に−1°と−5°の間の傾斜角度だけ、傾いていてもよい。負の角度は、基板(またはマスク)が下向きに傾いている基板(またはマスク)の向きを指す。堆積中における重力ベクトルからの基板の向きのずれは、有益であり、より安定した堆積プロセスをもたらすかもしれず、あるいは、フェイスダウンの向きは、堆積中に基板上のパーティクルを減少させるのに適しているかもしれない。しかしながら、搬送中および/または堆積中の、正確に垂直の向き(+/−1°)もまた、可能である。他の実施形態では、基板およびマスクは、非垂直の向きで搬送されてもよく、および/または基板は、非垂直の向き、例えば本質的に水平の向きでコーティングされてもよい。 [0025] As used herein, "essentially vertical orientation" may be understood as an orientation having a deviation from the vertical orientation, i.e., less than or equal to 10 degrees, especially less than or equal to 5 degrees, from the gravity vector. For example, the angle between the major surface of the substrate (or mask) and the gravity vector can be between +10° and −10°, in particular between 0° and −5°. In some embodiments, the orientation of the substrate (or mask) may not be exactly perpendicular during transport and/or deposition, and may be slightly with respect to the vertical axis, for example between 0° and -5°. , In particular by an angle of inclination between -1° and -5°. A negative angle refers to the orientation of the substrate (or mask) with the substrate (or mask) tilting downwards. Deviation of the substrate orientation from the gravity vector during deposition may be beneficial and may result in a more stable deposition process, or face-down orientation is suitable for reducing particles on the substrate during deposition. May be However, exactly vertical orientations (+/−1°) during transport and/or during deposition are also possible. In other embodiments, the substrate and mask may be transported in a non-vertical orientation, and/or the substrate may be coated in a non-vertical orientation, eg, an essentially horizontal orientation.

[0026]本明細書に記載の実施形態による装置100は、第1の搬送経路に沿って第1のキャリア10を第1の方向Xに搬送するように構成された第1のキャリア搬送システム120、詳細には磁気浮上システムを含む。第1の方向Xは、本質的に水平の方向であり得る。図1において、第1の方向Xは、紙面と直角である。 [0026] The apparatus 100 according to embodiments described herein is configured to transport a first carrier 10 in a first direction X along a first transport path, a first carrier transport system 120. , In particular including magnetic levitation systems. The first direction X can be an essentially horizontal direction. In FIG. 1, the first direction X is perpendicular to the paper surface.

[0027]装置100は、真空チャンバ101内で第1のキャリア10を位置合わせするように構成された位置合わせシステム130をさらに含む。位置合わせシステム130は、真空チャンバ内に第1のキャリア10を正確に位置決めするように構成され得る。いくつかの実施形態において、堆積源105が、真空チャンバ101内に設けられている。堆積源105は、第1のキャリア10によって保持されている基板11上にコーティング材料を堆積させるように構成されている。 [0027] The apparatus 100 further includes an alignment system 130 configured to align the first carrier 10 within the vacuum chamber 101. The alignment system 130 may be configured to accurately position the first carrier 10 within the vacuum chamber. In some embodiments, the deposition source 105 is provided within the vacuum chamber 101. The deposition source 105 is configured to deposit the coating material on the substrate 11 held by the first carrier 10.

[0028]位置合わせシステム130は、第1のキャリア10を位置合わせシステム130に取り付けるための第1のマウント152と、第1のマウント152を少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイス151とを含む。位置合わせシステム130は、第1の方向Xに対して横方向の、詳細には第1の方向と本質的に直角の、第2の方向Zに第1のマウント152と共に位置合わせデバイス151を移動させるように構成された第1のシフトデバイス141を、さらに含む。 [0028] The alignment system 130 is configured to move the first mount 152 in at least one alignment direction and a first mount 152 for attaching the first carrier 10 to the alignment system 130. Alignment device 151. The alignment system 130 moves the alignment device 151 with the first mount 152 in a second direction Z transverse to the first direction X, in particular essentially perpendicular to the first direction. Further included is a first shift device 141 configured to.

[0029]したがって、第1のマウント152は、例えば、第1のマウントに取り付けられた第1のキャリアの粗い位置決めを実行するために、第1のシフトデバイス141によって第2の方向Zに移動させることができ、第1のマウント152は、例えば、第1のマウントに取り付けられた第1のキャリアの精密な位置決めを実行するために、位置合わせデバイス151によってさらに移動させることができる。 [0029] Accordingly, the first mount 152 is moved in the second direction Z by the first shift device 141, for example, to perform a coarse positioning of the first carrier attached to the first mount. The first mount 152 can be further moved by the alignment device 151, for example to perform precise positioning of the first carrier attached to the first mount.

[0030]第2の方向Zは、本質的に水平の方向であり得る。第2の方向Zは、それに沿って第1のキャリアが第1のキャリア搬送システム120によって搬送される第1の方向Xと本質的に直角であってもよい。第1のキャリアを第1の方向Xに搬送した後、第1のキャリアを、第1のマウント152に取り付けて、第1の搬送経路から離れて、例えば、堆積源105に向かって、またはマスクを保持する第2のキャリアに向かって、第2の方向Zにシフトさせることができる。 [0030] The second direction Z may be an essentially horizontal direction. The second direction Z may be essentially perpendicular to the first direction X along which the first carrier is transported by the first carrier transport system 120. After transporting the first carrier in the first direction X, the first carrier is attached to the first mount 152 and away from the first transport path, eg, towards the deposition source 105 or in a mask. Can be shifted in the second direction Z towards the second carrier holding.

[0031]いくつかの実施形態では、少なくとも1つの位置合わせ方向は、第2の方向Zに本質的に対応し得る。したがって、第1のシフトデバイス141および位置合わせデバイス151によって、第1のキャリアを、第2の方向Zに移動させることができる。第1のシフトデバイス141は、第2の方向Zにおける第1のキャリアの変位を実行するように構成されてもよく、位置合わせデバイス151は、第1の方向X、第2の方向Z、および本質的に垂直の方向であり得る第3の方向Yの少なくとも1つにおける第1のキャリアの精密な位置合わせを実行するように構成されてもよい。 [0031] In some embodiments, the at least one alignment direction may essentially correspond to the second direction Z. Therefore, the first carrier can be moved in the second direction Z by the first shift device 141 and the alignment device 151. The first shift device 141 may be configured to perform displacement of the first carrier in the second direction Z, and the alignment device 151 may include the first direction X, the second direction Z, and It may be arranged to perform a fine alignment of the first carrier in at least one of the third directions Y, which may be essentially vertical.

[0032]いくつかの実施形態において、位置合わせデバイス151は、第1のマウント152を、第2の方向Zに、ならびに任意選択で第1の方向Xならびに第1および第2の方向に対して横方向の第3の方向Yのうちの少なくとも一方に、移動させるように構成される。第3の方向Yは、本質的に垂直の方向であってもよい。したがって、第1のキャリアは、第1の方向X、第2の方向Zおよび/または第3の方向Yにおいて、位置合わせデバイス151によって正確に位置決めされることができる。他の実施形態では、位置合わせデバイス151は、第1のマウントを2方向にのみ、例えば第2の方向Zおよび第3の方向Yにのみ、移動させることができる。さらなる実施形態において、位置合わせデバイス151は、第1のマウントを1方向にのみ、詳細には第2の方向Zにのみ、移動させることができる。 [0032] In some embodiments, the alignment device 151 includes a first mount 152 in a second direction Z, and optionally a first direction X and first and second directions. It is configured to move in at least one of the third lateral directions Y. The third direction Y may be an essentially vertical direction. Therefore, the first carrier can be accurately positioned by the alignment device 151 in the first direction X, the second direction Z and/or the third direction Y. In other embodiments, the alignment device 151 can move the first mount in only two directions, eg, the second direction Z and the third direction Y. In a further embodiment, the alignment device 151 can move the first mount only in one direction, in particular only in the second direction Z.

[0033]位置合わせデバイス151および第1のマウント152が、第1のシフトデバイス141によって第2の方向Zに移動することができるように、位置合わせデバイス151および第1のマウント152は、第1のシフトデバイス141の被駆動部143に固定されてもよい。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、第1のシフトデバイス141は、駆動ユニット142と、駆動ユニット142によって第2の方向Zに移動させることができる被駆動部143とを含む。第1のマウント152と共に位置合わせデバイス151は、被駆動部143と共に第2の方向Zに移動可能になるように、被駆動部143に、例えば被駆動部143の前端に、設けられてもよい。被駆動部143は、真空チャンバの外部から真空チャンバ内へ第2の方向Zに直線状に延びているバーまたはアームを含んでもよく、駆動ユニット142によって移動させることができる。 [0033] The alignment device 151 and the first mount 152 are coupled to the first mount 152 so that the alignment device 151 and the first mount 152 can be moved in the second direction Z by the first shift device 141. The shift device 141 may be fixed to the driven portion 143. In some embodiments that can be combined with other embodiments described herein, the first shift device 141 can be moved by the drive unit 142 and the drive unit 142 in the second direction Z. The driven part 143 is included. The alignment device 151 together with the first mount 152 may be provided on the driven part 143, for example, at the front end of the driven part 143, so as to be movable in the second direction Z together with the driven part 143. .. The driven part 143 may include a bar or an arm that linearly extends in the second direction Z from the outside of the vacuum chamber into the vacuum chamber, and can be moved by the driving unit 142.

[0034]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態において、第1のシフトデバイス141の駆動ユニット142は、被駆動部143を第2の方向Zに10mm以上、詳細には20mm以上、さらに詳細には30mm以上の距離だけ移動させるように構成されたリニアアクチュエータを含んでもよい。例えば、駆動ユニット142は、被駆動部143を第2の方向Zに10mm以上の距離だけ移動させるように構成された、機械的アクチュエータ、電気機械的アクチュエータ、例えばステッピングモータ、電気モータ、油圧アクチュエータおよび/または空気圧アクチュエータを含むことができる。 [0034] In some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the drive unit 142 of the first shift device 141 causes the driven portion 143 to be 10 mm or more in the second direction Z. It may include a linear actuator configured to move, in particular, a distance of 20 mm or more, more particularly 30 mm or more. For example, the drive unit 142 includes a mechanical actuator, an electromechanical actuator such as a stepping motor, an electric motor, a hydraulic actuator, and the like configured to move the driven part 143 in the second direction Z by a distance of 10 mm or more. And/or may include pneumatic actuators.

[0035]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態では、位置合わせデバイス151は、第1のマウントを少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された少なくとも1つの精密アクチュエータ、例えば、少なくとも1つのピエゾアクチュエータを含むことができる。詳細には、位置合わせデバイス151は、第1のマウントを2つまたは3つの位置合わせ方向に移動させるように構成された2つまたは3つのピエゾアクチュエータを含む。位置合わせデバイス151のピエゾアクチュエータは、第1のマウント152を第2の方向Zに、ならびに任意選択で第1の方向Xおよび/または第3の方向Yに、移動させるように構成されてもよい。位置合わせデバイス151は、第1のキャリアが取り付けられた第1のマウント152を少なくとも1つの位置合わせ方向に精密に位置決め(または精密に位置合わせ)するように構成されてもよい。例えば、位置合わせデバイスは、5μm未満の精度、詳細にはサブミクロンの精度で、第1のキャリアを位置決めするように構成されてもよい。これにより、位置合わせデバイス151が第1のマウント152と共に第1のシフトデバイスの被駆動部143に設けられていることによって、第1のマウントの粗い位置決めが、第1のシフトデバイス141によって実行されることができ、第1のマウントの精密な位置決めが、位置合わせデバイス151によって提供されることができる。 [0035] In some embodiments, which may be combined with other embodiments described herein, the alignment device 151 is configured to move the first mount in at least one alignment direction. It may include at least one precision actuator, for example at least one piezo actuator. In particular, the alignment device 151 comprises two or three piezo actuators configured to move the first mount in two or three alignment directions. The piezo actuator of the alignment device 151 may be configured to move the first mount 152 in the second direction Z, and optionally in the first direction X and/or the third direction Y. .. The alignment device 151 may be configured to finely position (or finely align) the first mount 152 having the first carrier attached thereto in at least one alignment direction. For example, the alignment device may be configured to position the first carrier with an accuracy of less than 5 μm, in particular submicron accuracy. Accordingly, since the alignment device 151 is provided on the driven portion 143 of the first shift device together with the first mount 152, rough positioning of the first mount is performed by the first shift device 141. The precise positioning of the first mount can be provided by the alignment device 151.

[0036]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態において、第1のマウント152は、第1のキャリア10を第1のマウント152に磁気的に保持するように構成された磁気チャックを含む。例えば、第1のマウント152は、第1のキャリアを第1のマウントに磁気的に保持するように構成された永電磁石(electropermanent magnet)デバイスを含んでもよい。永電磁石デバイスのコイルに電気パルスを印加することにより、永電磁石デバイスは、保持状態と解放状態との間で切り替えることができる。詳細には、電気パルスを印加することによって、永電磁石デバイスの少なくとも1つの磁石の磁化を変化させることができる。 [0036] In some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the first mount 152 is configured to magnetically retain the first carrier 10 to the first mount 152. And a magnetic chuck configured as described above. For example, the first mount 152 may include an electropermanent magnet device configured to magnetically retain the first carrier on the first mount. By applying an electrical pulse to the coil of the permanent electromagnet device, the permanent electromagnet device can be switched between a held state and a released state. In particular, the application of electrical pulses can change the magnetization of at least one magnet of the electromagnet device.

[0037]真空チャンバ内で第1のキャリア10を位置合わせする方法は、(i)第1のキャリア10を第1の搬送経路に沿って第1の方向Xに真空チャンバ101の堆積領域へ搬送すること、を含むことができる。第1のキャリア10は、第1のキャリア搬送システム120によって、詳細には少なくとも1つの磁石ユニット121を有する磁気浮上システムによって、非接触で搬送されてもよい。少なくとも1つの磁石ユニット121は、第1のキャリア10を案内レールに非接触で保持するように構成された能動的に制御された磁石ユニットであってもよい。(ii)堆積領域で位置合わせシステム130の第1のマウント152に第1のキャリアを取り付ける。位置合わせシステム130は、第1のマウントを少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイス151と、位置合わせデバイスを第1のマウントと共に第2の方向Zに移動させるように構成された第1のシフトデバイス141とを、含む。第1のキャリアを第1のマウント152に取り付けることは、第1のマウント152が第1のキャリアに接触して第1のキャリアに付着するまで、第1の搬送経路上に位置する第1のキャリア10に向かって第1のマウント152を移動させることを含むことができる。例えば、第1のマウント152は、第1のキャリアに磁気的に付着する。 [0037] The method of aligning the first carrier 10 in the vacuum chamber includes (i) transporting the first carrier 10 along the first transport path in the first direction X to the deposition region of the vacuum chamber 101. Can be included. The first carrier 10 may be transported contactlessly by the first carrier transport system 120, in particular by a magnetic levitation system having at least one magnet unit 121. The at least one magnet unit 121 may be an actively controlled magnet unit configured to hold the first carrier 10 in a contactless manner on the guide rail. (Ii) Attach the first carrier to the first mount 152 of the alignment system 130 at the deposition area. The alignment system 130 includes an alignment device 151 configured to move the first mount in at least one alignment direction, and an alignment device that moves the alignment device with the first mount in the second direction Z. And a configured first shift device 141. Attaching the first carrier to the first mount 152 means that the first mount 152 is located on the first transport path until the first mount 152 contacts the first carrier and adheres to the first carrier. Moving the first mount 152 toward the carrier 10 can be included. For example, the first mount 152 is magnetically attached to the first carrier.

[0038](iii)第1のシフトデバイス141を用いて第1のキャリアを位置合わせデバイス151と共に第2の方向Zに移動させる。例えば、第1のシフトデバイス141の被駆動部143が、第1のキャリア10を第2の方向Zに10mm以上の距離だけ堆積源105に向かってまたは第2のキャリアに向かって移動させてもよい。(iv)位置合わせデバイス151を用いて第1のキャリアを少なくとも1つの位置合わせ方向において位置合わせする。第1のキャリア10を位置合わせすることは、詳細には、真空チャンバ101内で第1のシフトデバイス141の被駆動部143に設けられた少なくとも1つのピエゾアクチュエータを介して、第2の方向Zに、ならびに任意選択で第1の方向Xおよび第3の方向Yの少なくとも一方に、第1のキャリア10を精密に位置決めすることを含むことができる。したがって、本明細書に記載の装置100を用いて、第1のキャリア10の正確な位置合わせを提供することができる。 [0038] (iii) Use the first shift device 141 to move the first carrier with the alignment device 151 in the second direction Z. For example, even if the driven part 143 of the first shift device 141 moves the first carrier 10 in the second direction Z by a distance of 10 mm or more toward the deposition source 105 or toward the second carrier. Good. (Iv) Align the first carrier with the alignment device 151 in at least one alignment direction. Aligning the first carrier 10 is performed in particular in the second direction Z via the at least one piezo actuator provided in the driven part 143 of the first shift device 141 in the vacuum chamber 101. And, optionally, at least one of the first direction X and the third direction Y, may include precision positioning of the first carrier 10. Thus, the device 100 described herein can be used to provide accurate alignment of the first carrier 10.

[0039]図2は、本明細書に記載のいくつかの実施形態による、真空チャンバ101内でのキャリア位置合わせのための装置200を、概略断面図で示す。装置200は、図1に示す装置100と同様であり、そのため、ここでは繰り返さないが、上記の説明を参照することができる。 [0039] FIG. 2 illustrates, in schematic cross-sectional view, an apparatus 200 for carrier alignment within a vacuum chamber 101, according to some embodiments described herein. The device 200 is similar to the device 100 shown in FIG. 1, so that it is possible to refer to the above description, although not repeated here.

[0040]装置200は、第1のキャリア10を第1の方向Xに搬送するように構成された第1のキャリア搬送システム120を含む。第1のキャリア搬送システム120は、少なくとも1つの磁石ユニット121を有する、詳細には案内構造に第1のキャリア10を非接触で保持するように構成された少なくとも1つの能動的に制御された磁石ユニットを有する磁気浮上システムを、含んでもよい。 [0040] The apparatus 200 includes a first carrier transport system 120 configured to transport a first carrier 10 in a first direction X. The first carrier transport system 120 comprises at least one magnet unit 121, in particular at least one actively controlled magnet configured to hold the first carrier 10 in a guiding structure in a contactless manner. A magnetic levitation system having a unit may be included.

[0041]装置200は、第1のキャリア10を位置合わせシステム130に取り付けるように構成された第1のマウント152と、第1のマウント152を少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイス151と、第1のマウントと共に位置合わせデバイスを、第1の方向Xと本質的に直角であり得る第2の方向Zに移動させるように構成された第1のシフトデバイス141と、を有する位置合わせシステム130をさらに含む。 [0041] The apparatus 200 is configured to move the first mount 152 in at least one alignment direction, and a first mount 152 configured to attach the first carrier 10 to the alignment system 130. An alignment device 151 and a first shift device 141 configured to move the alignment device with the first mount in a second direction Z, which may be essentially perpendicular to the first direction X. Further comprising an alignment system 130 having

[0042]第1のシフトデバイス141は、駆動ユニット142と、駆動ユニット142によって第2の方向Zに移動させることができる被駆動部143とを、含む。位置合わせデバイス151および第1のマウント152は、第1のシフトデバイス141の被駆動部143に設けられており、被駆動部143と共に移動可能である。 [0042] The first shift device 141 includes a drive unit 142 and a driven portion 143 that can be moved in the second direction Z by the drive unit 142. The alignment device 151 and the first mount 152 are provided on the driven portion 143 of the first shift device 141 and are movable together with the driven portion 143.

[0043]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態において、第1のシフトデバイス141の駆動ユニット142は、真空チャンバ101の外部に配置されるように設けられており、および/または被駆動部143は、詳細には真空チャンバ101の側壁102の開口部を貫通して、駆動ユニット142から真空チャンバ101内に延びるように設けられている。 [0043] In some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the drive unit 142 of the first shift device 141 is provided to be located outside the vacuum chamber 101. In particular, the driven part 143 is provided so as to penetrate the opening of the side wall 102 of the vacuum chamber 101 in detail and extend from the drive unit 142 into the vacuum chamber 101.

[0044]駆動ユニット142が、真空チャンバの外部、すなわち大気圧下に配置されている場合、非真空対応の駆動ユニットを使用することができ、これは、通常、真空対応の駆動ユニットよりも費用効率が高く、取り扱いが容易である。さらに、例えば電気モータまたはステッピングモータを含む任意の種類の駆動ユニット142を、設けることができる。機械的なベアリングを含むことがある駆動ユニットによる真空チャンバ内のパーティクルの発生を、回避することができる。例えば、リニアZアクチュエータを使用することができる。駆動ユニットのメンテナンスを、容易にすることができる。 [0044] If the drive unit 142 is located outside the vacuum chamber, ie, at atmospheric pressure, a non-vacuum capable drive unit may be used, which is typically more costly than a vacuum capable drive unit. High efficiency and easy handling. Further, any type of drive unit 142 may be provided, including, for example, an electric motor or a stepper motor. Generation of particles in the vacuum chamber by the drive unit, which may include mechanical bearings, can be avoided. For example, a linear Z actuator can be used. Maintenance of the drive unit can be facilitated.

[0045]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態において、装置200は、位置合わせシステムと真空チャンバ101の壁、詳細には側壁102との間に振動減衰または振動分離を提供するための振動減衰要素103または振動分離要素を、さらに含む。例えば、位置合わせシステム130は、真空チャンバ101の壁を貫通して延びていてもよく、振動減衰要素103を介して壁にフレキシブルに接続されてもよい。本明細書で使用される「フレキシブルに接続された」という用語は、側壁102と位置合わせシステム130との間の相対的な移動、例えば、変形または振動を可能にする、位置合わせシステム130と真空チャンバ101の側壁102との間の接続に関する。言い換えれば、側壁の振動および他の変形が、側壁から位置合わせシステムに実質的に伝達されないように、(真空チャンバの外部に配置された駆動ユニットを含む)位置合わせシステム全体が、側壁に対して移動可能に取り付けられている。これは、ポジショナの駆動ユニットを真空チャンバの側壁に固定しながら、真空チャンバ内でのポジショナの移動を可能にする従来のベローズシールモーションフィードスルーとは対照的である。したがって、従来のモーションフィードスルーは、それらが貫通する真空チャンバの側壁に強固に固定されており、側壁に対する振動減衰はない。 [0045] In some embodiments, which may be combined with other embodiments described herein, the apparatus 200 includes vibration damping between the alignment system and the walls of the vacuum chamber 101, particularly the sidewalls 102. Alternatively, a vibration damping element 103 or a vibration isolation element for providing vibration isolation is further included. For example, the alignment system 130 may extend through the wall of the vacuum chamber 101 and may be flexibly connected to the wall via the vibration damping element 103. The term "flexibly connected" as used herein allows for relative movement between the sidewalls 102 and the alignment system 130, eg, deformation or vibration, and the alignment system 130 and vacuum. It relates to the connection between the side wall 102 of the chamber 101. In other words, the entire alignment system (including the drive unit located outside the vacuum chamber) may be moved relative to the sidewall so that vibrations and other deformations of the sidewall are substantially not transmitted from the sidewall to the alignment system. It is movably attached. This is in contrast to conventional bellows seal motion feedthroughs which allow movement of the positioner within the vacuum chamber while securing the drive unit of the positioner to the side wall of the vacuum chamber. Therefore, conventional motion feedthroughs are rigidly fixed to the sidewalls of the vacuum chamber they penetrate and there is no vibration damping to the sidewalls.

[0046]振動減衰要素103は、位置合わせシステム130が真空気密で貫通している真空チャンバの側壁の開口部を密封してもよい。 [0046] The vibration damping element 103 may seal the opening in the sidewall of the vacuum chamber through which the alignment system 130 is vacuum tight.

[0047]振動減衰要素103または振動分離要素は、少なくとも1つのフレキシブル要素または弾性要素、詳細には少なくとも1つの伸長可能な要素、例えば、ベローズ要素などの軸方向に伸長可能な要素を含むことができる。例えば、振動減衰要素103は、真空チャンバの側壁102と位置合わせシステム130との間で作用する弾性の真空気密シールを含むことができる。いくつかの実施形態では、軸方向に伸長可能な要素の長手方向軸は、第2の方向Zに延びていてもよい。例えば、ベローズ要素などの弾性および/または伸長可能な要素は、位置合わせシステム130が貫通する側壁102の開口部が真空気密で塞がれるように、位置合わせシステム130を真空チャンバの側壁102と接続させることができる。したがって、振動減衰要素が、側壁102と位置合わせシステム130との間の相対的な移動を可能にするので、側壁102の振動および他の変形は、位置合わせシステム130に直接伝達されない。詳細には、位置合わせシステム130の(静止した)本体131が、側壁を貫通して延びており、振動減衰要素103を介して側壁に対して移動可能に取り付けられている。 [0047] The vibration damping element 103 or vibration isolation element may include at least one flexible or elastic element, in particular at least one extensible element, for example an axially extensible element such as a bellows element. it can. For example, the vibration dampening element 103 can include a resilient vacuum tight seal that acts between the sidewall 102 of the vacuum chamber and the alignment system 130. In some embodiments, the longitudinal axis of the axially extensible element may extend in the second direction Z. For example, an elastic and/or extensible element, such as a bellows element, connects the alignment system 130 with the sidewall 102 of the vacuum chamber such that the opening in the sidewall 102 through which the alignment system 130 passes is vacuum tight. Can be made Thus, vibration and other deformations of the sidewall 102 are not directly transmitted to the alignment system 130 because the vibration dampening elements allow relative movement between the sidewall 102 and the alignment system 130. In particular, the (stationary) body 131 of the alignment system 130 extends through the sidewall and is movably mounted to the sidewall via the vibration damping element 103.

[0048]位置合わせシステム130が貫通する真空チャンバ101の側壁102は、真空チャンバ101の頂壁および底壁とは異なる壁、例えば本質的に垂直に伸びる側壁であってもよい。真空チャンバの側壁102は、通常、補強梁または補強リブなどの安定化要素によって強化することができる頂壁よりも安定性が低い。したがって、例えば、真空チャンバ内の圧力が変化したとき、側壁102は、少なくとも部分的に変形または振動することがある。したがって、側壁の変形および他の動きが位置合わせシステムに(直接)伝達されないように、位置合わせシステム130を側壁102から機械的に分離することが、有益である。むしろ、位置合わせシステム130は、真空チャンバの頂壁に固定することができる別個の支持体110に強固に固定されてもよい。これにより、位置合わせ精度を向上させることができ、真空チャンバ内の圧力変化中に側壁102が動いても、位置合わせシステム130の位置を維持することができる。 [0048] The sidewalls 102 of the vacuum chamber 101 through which the alignment system 130 extends may be different than the top and bottom walls of the vacuum chamber 101, eg, sidewalls that extend essentially vertically. The sidewalls 102 of the vacuum chamber are typically less stable than the top wall, which can be reinforced by stabilizing elements such as stiffening beams or ribs. Thus, for example, when the pressure in the vacuum chamber changes, the sidewall 102 may at least partially deform or vibrate. Therefore, it is beneficial to mechanically separate the alignment system 130 from the sidewalls 102 so that deformations and other movements of the sidewalls are not (directly) transferred to the alignment system. Rather, the alignment system 130 may be rigidly fixed to a separate support 110 that may be fixed to the top wall of the vacuum chamber. This can improve the alignment accuracy and maintain the position of the alignment system 130 even if the sidewall 102 moves during pressure changes in the vacuum chamber.

[0049]いくつかの実施形態において、少なくとも1つのさらなるフレキシブル要素104、例えば、ベローズ要素などの軸方向に伸長可能な要素が、位置合わせシステム130の本体131を第1のシフトデバイス141の被駆動部143とフレキシブルに接続することができる。さらなるフレキシブル要素104は、駆動ユニット142を真空チャンバ101の外部に配置することができる一方で、真空チャンバ101の内部で被駆動部143を第2の方向Zに移動させることを可能にし得る。例えば、駆動ユニット142は、真空チャンバの外部で位置合わせシステム130の本体131に(強固に)固定することができる。さらなるフレキシブル要素104は、さらなるフレキシブル要素を囲む真空環境を、さらなるフレキシブル要素の内側の大気環境から分離してもよい。被駆動部143の移動可能なバーまたはアームが、さらなるフレキシブル要素を通って軸方向に延びていてもよい。 [0049] In some embodiments, at least one additional flexible element 104, e.g., an axially extensible element, such as a bellows element, causes the body 131 of the alignment system 130 to be driven by the first shift device 141. It can be flexibly connected to the portion 143. The further flexible element 104 may allow the drive unit 142 to be located outside the vacuum chamber 101, while allowing the driven part 143 to move inside the vacuum chamber 101 in the second direction Z. For example, the drive unit 142 can be (stiffly) fixed to the body 131 of the alignment system 130 outside the vacuum chamber. The additional flexible element 104 may separate the vacuum environment surrounding the additional flexible element from the atmospheric environment inside the additional flexible element. The movable bar or arm of the driven part 143 may extend axially through the further flexible element.

[0050]本明細書に記載の実施形態によれば、第1のマウント152は、第1のシフトデバイス141によって位置合わせデバイス151と共に第2の方向Zに移動させられることができる。詳細には、第1のマウント152が、第1のキャリア10と接触してこれに付着するまで、第1のマウント152は、第1の搬送経路上に位置する第1のキャリア10に向かって第1のシフトデバイス141によって移動させられることができる。次に、第1のキャリアが取り付けられた第1のマウントは、第1のシフトデバイス141によって第2の方向Zに堆積源105に向かってまたは第2のキャリアに向かって移動させられることができる。その後、位置合わせデバイス151による第1のキャリアの精密な位置合わせが、続いて行われてもよい。 [0050] According to the embodiments described herein, the first mount 152 can be moved in the second direction Z with the alignment device 151 by the first shift device 141. Specifically, until the first mount 152 contacts and adheres to the first carrier 10, the first mount 152 moves toward the first carrier 10 located on the first transport path. It can be moved by the first shift device 141. The first mount, on which the first carrier is attached, can then be moved by the first shift device 141 in the second direction Z towards the deposition source 105 or towards the second carrier. .. Then, the fine alignment of the first carrier by the alignment device 151 may be subsequently performed.

[0051]第1のシフトデバイス141の駆動ユニット142(例えば、リニアZアクチュエータとして提供される)は、真空チャンバ101の外部に配置され得る。位置合わせデバイス151および第1のマウント152を保持する第1のシフトデバイス141の被駆動部143の前部が、真空チャンバ内に配置され得る。位置合わせシステム130は、振動減衰要素103を介して側壁に接続されているので、被駆動部143が貫通している真空チャンバ101の側壁102の動きは、位置合わせシステム130に伝達されない。真空チャンバ内の圧力が変化したとしても、あるいは真空チャンバが充満するおよび/または排気されたとしても、第1のキャリアの正確で再現性のある位置合わせを提供することができる。 [0051] The drive unit 142 of the first shift device 141 (eg, provided as a linear Z actuator) may be located outside the vacuum chamber 101. The front of the driven part 143 of the first shift device 141, which holds the alignment device 151 and the first mount 152, can be arranged in a vacuum chamber. Since the alignment system 130 is connected to the side wall via the vibration damping element 103, movement of the side wall 102 of the vacuum chamber 101 through which the driven part 143 penetrates is not transmitted to the alignment system 130. Whether the pressure in the vacuum chamber changes or the vacuum chamber fills and/or is evacuated, accurate and reproducible alignment of the first carrier can be provided.

[0052]図2は、本明細書に記載の実施形態による、真空チャンバ内でキャリアを位置合わせするための真空システムを示す。真空システムは、側壁102を有する真空チャンバ101を含み、側壁は、本質的に垂直の方向(+/−20°)に延びることができる。本明細書に記載の位置合わせシステム130は、側壁102を貫通して延び、振動減衰要素103を介して、詳細にはベローズ要素などのフレキシブルおよび/または伸長可能な要素を介して、側壁102にフレキシブルに接続される。位置合わせシステム130の駆動ユニット142が、真空チャンバの外部に配置され、駆動ユニット142によって移動させることができる位置合わせシステム130の位置合わせデバイス151が、真空チャンバ内に配置されてもよい。位置合わせシステム130の第1のマウント152は、位置合わせデバイス151によって移動させることができ、第1のキャリア10を取り付けるように構成されている。 [0052] FIG. 2 illustrates a vacuum system for aligning a carrier within a vacuum chamber, according to embodiments described herein. The vacuum system includes a vacuum chamber 101 having a sidewall 102, which can extend in an essentially vertical direction (+/−20°). The alignment system 130 described herein extends through the sidewall 102 and to the sidewall 102 via a vibration damping element 103, particularly a flexible and/or extensible element such as a bellows element. Flexible connection. The drive unit 142 of the alignment system 130 may be located outside the vacuum chamber, and the alignment device 151 of the alignment system 130 that may be moved by the drive unit 142 may be located within the vacuum chamber. The first mount 152 of the alignment system 130 can be moved by the alignment device 151 and is configured to mount the first carrier 10.

[0053]位置合わせシステム130は、真空チャンバ内に設けられている、例えば真空チャンバの頂壁に取り付けられている支持体110に(強固に)固定されていてもよい。本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態において、支持体110は、第1の方向Xに延びており、第1のキャリア搬送システム120の少なくとも1つの磁石ユニット121を保持または支持する。したがって、少なくとも1つの磁石ユニット121および位置合わせシステム130の両方が、真空チャンバ内の同じ機械的支持体に固定され、それにより、真空チャンバの振動または他の動きが、位置合わせシステム130および磁気浮上システムの浮上磁石に同程度に伝達される。位置合わせ精度をさらに向上させることができ、キャリアの搬送を容易にすることができる。 [0053] The alignment system 130 may be (stiffly) fixed to a support 110 provided within the vacuum chamber, for example attached to the top wall of the vacuum chamber. In some embodiments that can be combined with other embodiments described herein, the support 110 extends in the first direction X and at least one magnet unit of the first carrier transfer system 120. Holds or supports 121. Thus, both the at least one magnet unit 121 and the alignment system 130 are fixed to the same mechanical support in the vacuum chamber so that vibrations or other movements of the vacuum chamber cause the alignment system 130 and the magnetic levitation. It is equally transmitted to the levitation magnets of the system. The positioning accuracy can be further improved, and the carrier can be easily transported.

[0054]真空システムは、第1のキャリア10によって保持された基板上に1種以上の材料を堆積させるように構成された真空堆積システムであってもよい。堆積源105、詳細には有機材料を蒸発させるように構成された蒸気源が、真空チャンバ内に設けられてもよい。堆積源105は、材料を堆積源105から位置合わせシステムの第1のマウント152に取り付けられた第1のキャリアの方に向けることができるように、配置されてもよい。 [0054] The vacuum system may be a vacuum deposition system configured to deposit one or more materials on the substrate held by the first carrier 10. A deposition source 105, specifically a vapor source configured to vaporize organic materials, may be provided in the vacuum chamber. The deposition source 105 may be arranged such that the material can be directed from the deposition source 105 toward a first carrier mounted to the first mount 152 of the alignment system.

[0055]堆積源105は、移動可能な堆積源であってもよい。詳細には、堆積源105は、第1のキャリアによって保持される基板を通り過ぎて第1の方向Xに移動可能であってもよい。第1の方向Xに堆積源105を並進移動させるための駆動装置が、設けられてもよい。 [0055] The deposition source 105 may be a movable deposition source. In particular, the deposition source 105 may be moveable in a first direction X past a substrate carried by a first carrier. A drive may be provided for translating the deposition source 105 in the first direction X.

[0056]代替的にまたは付加的に、堆積源は、蒸気出口を備えた回転可能な分配管を含むことができる。分配管は、本質的に垂直方向に延びていてもよく、本質的に垂直な回転軸の周りに回転可能であってもよい。堆積材料は、蒸発源のるつぼ内で蒸発させることができ、分配管に設けられた蒸気出口を通って基板の方に向けられることができる。 [0056] Alternatively or additionally, the deposition source may include a rotatable distribution tube with a vapor outlet. The distribution pipe may extend in an essentially vertical direction and may be rotatable about an essentially vertical axis of rotation. The deposited material can be evaporated in the crucible of the evaporation source and can be directed towards the substrate through a vapor outlet provided in the distribution tube.

[0057]詳細には、堆積源105は、本質的に垂直の方向に延びる線状源として提供されてもよい。堆積源105の垂直方向の高さは、基板を通り過ぎて第1の方向Xに堆積源105を移動させることによって、基板をコーティングすることができるように、垂直に配向された基板の高さに適合させることができる。 [0057] In particular, the deposition source 105 may be provided as a linear source extending in an essentially vertical direction. The vertical height of the deposition source 105 is the height of a vertically oriented substrate such that the substrate can be coated by moving the deposition source 105 past the substrate in a first direction X. Can be adapted.

[0058]いくつかの実施形態において、第1のキャリア搬送システム120は、第1のキャリア10を真空チャンバ101内の堆積領域に搬送して、そこで、コーティング材料を基板上に堆積させることができるように、基板11が堆積源105に面するように、構成されてもよい。基板上にコーティング材料を堆積させた後、第1のキャリア搬送システム120は、例えば、コーティングされた基板を真空チャンバから取り出すため、または別のコーティング材料を別の堆積領域で基板上に堆積させるために、第1のキャリア10を堆積領域の外に搬送してもよい。 [0058] In some embodiments, the first carrier transfer system 120 can transfer the first carrier 10 to a deposition region within the vacuum chamber 101 where coating material is deposited on a substrate. Thus, the substrate 11 may be configured to face the deposition source 105. After depositing the coating material on the substrate, the first carrier transport system 120 may, for example, remove the coated substrate from the vacuum chamber or deposit another coating material on the substrate in another deposition area. Alternatively, the first carrier 10 may be transported outside the deposition area.

[0059]堆積源105は、コーティング材料を堆積領域に向けるための複数の蒸気開口部またはノズルを有する分配管を含むことができる。さらに、堆積源は、コーティング材料を加熱し蒸発させるように構成されたるつぼを含むことができる。るつぼは、分配管と流体連通するように、分配管に接続することができる。 [0059] The deposition source 105 can include a distribution tube having a plurality of vapor openings or nozzles for directing coating material to the deposition area. In addition, the deposition source can include a crucible configured to heat and vaporize the coating material. The crucible can be connected to the distribution pipe in fluid communication with the distribution pipe.

[0060]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態において、堆積源は、回転可能であってもよい。例えば、堆積源は、堆積源の蒸気開口部が堆積領域の方に向けられる第1の向きから、蒸気開口部が第2の堆積領域の方に向けられる第2の向きへ、回転可能であってもよい。堆積領域および第2の堆積領域は、堆積源の両側に配置されてもよく、堆積源は、堆積領域と第2の堆積領域との間で約180°の角度回転可能であってもよい。 [0060] In some embodiments, which may be combined with other embodiments described herein, the deposition source may be rotatable. For example, the deposition source may be rotatable from a first orientation in which the vapor openings of the deposition source are directed toward the deposition area to a second orientation in which the vapor openings are directed toward the second deposition area. May be. The deposition region and the second deposition region may be located on opposite sides of the deposition source, and the deposition source may be rotatable about 180° between the deposition region and the second deposition region.

[0061]第1のキャリア搬送システム120は、真空チャンバ101内で第1のキャリア10を非接触搬送するように構成されてもよい。例えば、第1のキャリア搬送システム120は、磁力によって第1のキャリア10を保持し搬送してもよい。詳細には、第1のキャリア搬送システム120は、磁気浮上システムを含んでもよい。 [0061] The first carrier transfer system 120 may be configured to contactlessly transfer the first carrier 10 within the vacuum chamber 101. For example, the first carrier transfer system 120 may hold and transfer the first carrier 10 by magnetic force. In particular, the first carrier transport system 120 may include a magnetic levitation system.

[0062]図2の例示的な実施形態において、第1のキャリア搬送システム120は、少なくとも部分的に第1のキャリア10の上方に配置され、第1のキャリア10の重量の少なくとも一部を支えるように構成された少なくとも1つの磁石ユニット121を含む。少なくとも1つの磁石ユニット121は、第1のキャリア10を非接触で保持するように構成された能動的に制御された磁石ユニットを含んでもよい。第1のキャリア搬送システム120は、第1のキャリア10を第1の方向Xに非接触で移動させるように構成された駆動装置をさらに含んでもよい。いくつかの実施形態において、駆動装置は、少なくとも部分的に第1のキャリア10の下方に配置されてもよい。駆動装置は、第1のキャリアに磁力を加えることによって第1のキャリアを移動させるように構成されたリニアモータなどの駆動装置を含むことができる(図示せず)。 [0062] In the exemplary embodiment of FIG. 2, the first carrier transport system 120 is disposed at least partially above the first carrier 10 and bears at least a portion of the weight of the first carrier 10. At least one magnet unit 121 configured as described above. The at least one magnet unit 121 may include an actively controlled magnet unit configured to hold the first carrier 10 in a contactless manner. The first carrier transfer system 120 may further include a driving device configured to move the first carrier 10 in the first direction X in a non-contact manner. In some embodiments, the drive may be located at least partially below the first carrier 10. The drive device may include a drive device (not shown) such as a linear motor configured to move the first carrier by applying a magnetic force to the first carrier (not shown).

[0063]図3は、本明細書に記載の実施形態による、真空チャンバ101内でキャリアを位置合わせするための装置300を示す。装置300は、図2に示した装置200と類似しており、そのため、上記の説明を参照することができるので、ここでは繰り返さない。 [0063] FIG. 3 illustrates an apparatus 300 for aligning a carrier within a vacuum chamber 101, according to embodiments described herein. The device 300 is similar to the device 200 shown in FIG. 2, so that the above description can be referred to and will not be repeated here.

[0064]装置300の位置合わせシステム300は、第1のキャリア10を位置合わせシステムに取り付けるための第1のマウント152、第2のキャリア20を位置合わせシステムに取り付けるための第2のマウント153、第1のマウントを位置合わせデバイス151と共に第2の方向Zに移動させるように構成された第1のシフトデバイス141、および第2のマウントを第2の方向Zに移動させるように構成された第2のシフトデバイス144を含む。 [0064] The alignment system 300 of the apparatus 300 includes a first mount 152 for attaching the first carrier 10 to the alignment system, a second mount 153 for attaching the second carrier 20 to the alignment system, A first shift device 141 configured to move the first mount with the alignment device 151 in the second direction Z, and a first shift device configured to move the second mount in the second direction Z. 2 shift devices 144 are included.

[0065]第1のキャリア10は、典型的には、コーティングされるべき基板11を保持する基板キャリアであり、第2のキャリア20は、典型的には、堆積中に基板11の前に配置されるべきマスク21を保持するマスクキャリアである。蒸発させた材料を、マスクによって画定された所定のパターンで基板上に正確に堆積させることができるように、位置合わせシステム130を用いて第1のキャリア10および第2のキャリア20を互いに対して位置合わせすることができる。 [0065] The first carrier 10 is typically a substrate carrier that holds the substrate 11 to be coated, and the second carrier 20 is typically placed in front of the substrate 11 during deposition. A mask carrier for holding the mask 21 to be formed. The alignment system 130 is used to move the first carrier 10 and the second carrier 20 relative to each other so that the evaporated material can be accurately deposited on the substrate in a predetermined pattern defined by the mask. Can be aligned.

[0066]詳細には、第2のマウント153に取り付けられた第2のキャリア20を、第2のシフトデバイス144を用いて、第2の方向Zの所定の位置に移動させることができる。第1のキャリア10を、第1のシフトデバイス141を用いて、第2の方向Zの第2のキャリア20に隣接する所定の位置に移動させることができる。次いで、第1のキャリア10を、位置合わせ方向において、詳細には第2の方向Zにおいて、および/または任意選択で1つ以上のさらなる位置合わせ方向において、位置合わせデバイス151を用いて、位置合わせすることができる。 [0066] Specifically, the second carrier 20 mounted on the second mount 153 can be moved to a predetermined position in the second direction Z using the second shift device 144. The first carrier 10 can be moved to a predetermined position adjacent to the second carrier 20 in the second direction Z by using the first shift device 141. The first carrier 10 is then aligned with the alignment device 151 in the alignment direction, in particular in the second direction Z and/or optionally in one or more further alignment directions. can do.

[0067]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態において、位置合わせシステム130は、真空チャンバ101の側壁102を貫通して延び、例えば少なくとも1つの振動減衰要素103または振動分離要素を介して、側壁102にフレキシブルに接続される。振動減衰要素は、ベローズ要素などの、軸方向に伸長可能な要素であってもよい。振動減衰要素は、側壁の変形の位置合わせシステムへの伝達を低減するフレキシブルまたは弾性シール要素であってもよい。フレキシブルまたは弾性シール要素は、側壁と位置合わせシステムとの間の真空気密シールとして機能し得る。上記の説明が参照され、ここでは繰り返さない。 [0067] In some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the alignment system 130 extends through the sidewall 102 of the vacuum chamber 101 and may include, for example, at least one vibration damping element. It is flexibly connected to the side wall 102 via 103 or a vibration isolation element. The vibration damping element may be an axially extensible element, such as a bellows element. The vibration damping element may be a flexible or elastic sealing element that reduces the transmission of sidewall deformations to the alignment system. The flexible or elastic sealing element can function as a vacuum tight seal between the sidewall and the alignment system. Reference is made to the above description and will not be repeated here.

[0068]いくつかの実施形態では、第2のシフトデバイス144は、第2の駆動ユニット145、例えば、リニアアクチュエータまたはモータと、第2の駆動ユニット145によって第2の方向Zに移動される第2の被駆動部146とを含む。第2のマウント153が、第2の被駆動部146と共に移動可能であるように、第2の被駆動部146に設けられている。 [0068] In some embodiments, the second shift device 144 includes a second drive unit 145, such as a linear actuator or motor, and a second drive unit 145 that moves the second shift device 144 in a second direction Z. 2 driven parts 146. The second mount 153 is provided on the second driven portion 146 so as to be movable together with the second driven portion 146.

[0069]第2の駆動ユニット145は、真空チャンバ101の外部に配置され、第2の被駆動部146は、詳細には真空チャンバの側壁102に設けられた開口部を貫通して、真空チャンバ101内に延びていてもよい。第2のマウント153は、第2の被駆動部146の前端で真空チャンバ101内に設けられている。これにより、第2のキャリア20を、真空チャンバ内に設けられた第2のマウント153に取り付けることができる。さらに、真空チャンバの外部に配置された第2の駆動ユニット145を有する第2のシフトデバイス144によって、第2のキャリア20を真空チャンバ101の内部で第2の方向Zに移動させることができる。 [0069] The second drive unit 145 is disposed outside the vacuum chamber 101, and the second driven part 146 penetrates an opening provided in the side wall 102 of the vacuum chamber in detail, and the second driven unit 145 penetrates the vacuum chamber 101. It may extend into 101. The second mount 153 is provided in the vacuum chamber 101 at the front end of the second driven portion 146. As a result, the second carrier 20 can be attached to the second mount 153 provided in the vacuum chamber. Further, the second carrier 20 can be moved inside the vacuum chamber 101 in the second direction Z by the second shift device 144 having the second drive unit 145 arranged outside the vacuum chamber.

[0070]いくつかの実施形態において、位置合わせシステム130は、真空チャンバ内に設けられた支持体110に固定されている本体131を含む。第1のシフトデバイス141の駆動ユニット142および第2のシフトデバイス144の第2の駆動ユニット145は、位置合わせシステム130の本体131に固定されていてもよい。位置合わせシステム130の本体131は、第1のシフトデバイスの被駆動部143および第2のシフトデバイスの第2の被駆動部146のために、側壁102を貫通するフィードスルーを提供することができる。位置合わせシステム130の本体131は、振動減衰要素103を介して、真空チャンバ101の側壁102にフレキシブルに接続されてもよい。 [0070] In some embodiments, the alignment system 130 includes a body 131 secured to a support 110 provided within a vacuum chamber. The drive unit 142 of the first shift device 141 and the second drive unit 145 of the second shift device 144 may be fixed to the body 131 of the alignment system 130. The body 131 of the alignment system 130 can provide a feedthrough through the sidewall 102 for the driven portion 143 of the first shift device and the second driven portion 146 of the second shift device. .. The body 131 of the alignment system 130 may be flexibly connected to the sidewall 102 of the vacuum chamber 101 via a vibration damping element 103.

[0071]位置合わせシステム130の本体131は、支持体110に固定されてもよい。支持体110は、真空チャンバの頂壁に(直接的または間接的に)固定されていてもよく、および/または第1の方向Xに延びていてもよい支持レールもしくは支持桁として設けられてもよい。真空チャンバの頂壁は、垂直に延びる側壁よりも、通常、頑丈に補強されており、可動性が低い。 [0071] The body 131 of the alignment system 130 may be fixed to the support 110. The support 110 may be fixed (directly or indirectly) to the top wall of the vacuum chamber and/or may be provided as a support rail or spar that may extend in the first direction X. Good. The top wall of the vacuum chamber is usually more reinforced and less mobile than the vertically extending side walls.

[0072]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態において、第1のキャリア搬送システム120が、第1のキャリアを第1の搬送経路に沿って第1の方向Xに搬送するように設けられ、第2のキャリア搬送システム122が、第2のキャリア20を第1の搬送経路と平行な第2の搬送経路に沿って第1の方向Xに搬送するように設けられてもよい。第1のキャリア搬送システム120および/または第2のキャリア搬送システム122は、非接触でキャリアを搬送するための磁気浮上システムとして構成されてもよい。詳細には、第1のキャリア搬送システム120は、第1のキャリア10を非接触で保持するための少なくとも1つの磁石ユニット121、詳細には能動的に制御された磁石ユニットを含むことができる。第2のキャリア搬送システム122は、第2のキャリア20を非接触で保持するための少なくとも1つの第2の磁石ユニット123、詳細には能動的に制御された磁石ユニットを含むことができる。典型的には、各磁気浮上システムは、本質的に等しい間隔で第1の方向Xに沿って配置することができる複数の能動的に制御された磁石ユニットを含む。例えば、能動的に制御された磁石ユニットは、支持体110に固定されてもよい。 [0072] In some embodiments, which may be combined with other embodiments described herein, the first carrier transfer system 120 may transfer a first carrier along a first transfer path to a first position. A second carrier transport system 122 is provided for transporting in the direction X so that the second carrier transport system 122 transports the second carrier 20 in the first direction X along a second transport path parallel to the first transport path. May be provided. The first carrier transfer system 120 and/or the second carrier transfer system 122 may be configured as a magnetic levitation system for contactless carrier transfer. In particular, the first carrier transport system 120 can include at least one magnet unit 121, in particular an actively controlled magnet unit, for holding the first carrier 10 in a contactless manner. The second carrier transport system 122 can include at least one second magnet unit 123, in particular an actively controlled magnet unit, for holding the second carrier 20 in a contactless manner. Each magnetic levitation system typically includes a plurality of actively controlled magnet units that can be arranged along the first direction X at essentially equal intervals. For example, the actively controlled magnet unit may be fixed to the support 110.

[0073]図3の概略断面図において、第1のキャリア10と第2のキャリア20は、第1のキャリア搬送システム120と第2のキャリア搬送システム122の能動的に制御された磁石ユニットによって非接触で保持されている。第1のマウント152は、第1のキャリア10から第2の方向Zに離間して設けられ、第2のマウント153は、第2のキャリア20から第2の方向Zに離間して設けられている。 [0073] In the schematic cross-sectional view of FIG. 3, the first carrier 10 and the second carrier 20 are decoupled by the actively controlled magnet units of the first carrier transport system 120 and the second carrier transport system 122. Held in contact. The first mount 152 is provided so as to be separated from the first carrier 10 in the second direction Z, and the second mount 153 is provided so as to be separated from the second carrier 20 in the second direction Z. There is.

[0074]図4Aは、第2の位置にある図3の装置300を示す。第2のマウントを第2の方向Zに第2のキャリア20まで移動させて、第2のキャリア20を第2のマウント153に磁気的に付着させることによって、第2のキャリア20が、第2のマウント153に取り付けられている。次に、第2のキャリア20は、第2のシフトデバイス144によって第2の方向Zに所定の位置まで、例えば20mm以上の距離だけ移動される。詳細には、第2のキャリア20によって保持されるマスク21が、堆積源105に面する所定の位置に位置決めされる。 [0074] FIG. 4A shows the apparatus 300 of FIG. 3 in a second position. By moving the second mount in the second direction Z to the second carrier 20 and magnetically attaching the second carrier 20 to the second mount 153, the second carrier 20 is Mounted on the mount 153. Next, the second carrier 20 is moved by the second shift device 144 in the second direction Z to a predetermined position, for example, a distance of 20 mm or more. Specifically, the mask 21 held by the second carrier 20 is positioned at a predetermined position facing the deposition source 105.

[0075]図4Aにさらに示されるように、基板11を保持する第1のキャリア10が、第1のキャリア搬送システム120によって堆積領域内に搬送され、第1のシフトデバイス141を用いて第1のマウント152を第1のキャリア10まで移動させることによって、第1のマウント152が、第1のキャリアに取り付けられる。 [0075] As further shown in FIG. 4A, a first carrier 10 holding a substrate 11 is transferred into a deposition region by a first carrier transfer system 120 and first using a first shift device 141. The first mount 152 is attached to the first carrier by moving the mount 152 to the first carrier 10.

[0076]図4Bに概略的に示されるように、次に、基板11がマスク21の近くに位置決めされるまで、第1のキャリア10が、第1のシフトデバイス141によって第2の方向Zに第2のキャリア20に向かって移動させられる。続いて、第1のキャリア10は、位置合わせデバイス151を用いて少なくとも1つの位置合わせ方向において、詳細には第2の方向Zにおいて、位置合わせされる。第1のキャリア10は、1つ以上のピエゾアクチュエータを含むことができる位置合わせデバイス151によって、正確に所定の位置に位置決めされ得る。 [0076] As shown schematically in FIG. 4B, the first carrier 10 is then moved by the first shift device 141 in the second direction Z until the substrate 11 is positioned near the mask 21. It is moved towards the second carrier 20. Subsequently, the first carrier 10 is aligned with the alignment device 151 in at least one alignment direction, in particular in the second direction Z. The first carrier 10 can be accurately positioned in position by an alignment device 151, which can include one or more piezo actuators.

[0077]1種以上の材料を、マスク21の開口部を通して堆積源105によって基板11上に堆積させることができる。正確な材料パターンを基板上に堆積させることができる。 [0077] One or more materials may be deposited on substrate 11 by deposition source 105 through openings in mask 21. The exact material pattern can be deposited on the substrate.

[0078]図5は、本明細書に記載の実施形態による、装置の位置合わせシステム130の分解図である。位置合わせシステム130は、図3に示す装置の位置合わせシステムと同様であり、そのため、ここでは繰り返さないが、上記の説明を参照することができる。 [0078] FIG. 5 is an exploded view of an alignment system 130 of an apparatus, according to embodiments described herein. Alignment system 130 is similar to the alignment system of the device shown in FIG. 3, so reference can be made to the above description, although not repeated here.

[0079]位置合わせシステム130は、本体131を含み、本体131は、振動減衰要素103を介して、例えばベローズ要素を介して、真空チャンバ101(図5には図示せず)の側壁102にフレキシブルに接続可能である。駆動ユニット142(例えば第1のZアクチュエータ)および第2の駆動ユニット145(例えば第2のZアクチュエータ)が、真空チャンバ101の外部で本体131に固定されている。いくつかの実施形態では、本体131は、例えば、ねじまたはボルト108を介して、真空チャンバ(図5には図示せず)内で支持体に強固に固定され、側壁102にフレキシブルに接続されている。 [0079] The alignment system 130 includes a body 131 that is flexible to the sidewall 102 of the vacuum chamber 101 (not shown in FIG. 5) via a vibration damping element 103, eg, a bellows element. Can be connected to. The drive unit 142 (for example, the first Z actuator) and the second drive unit 145 (for example, the second Z actuator) are fixed to the main body 131 outside the vacuum chamber 101. In some embodiments, the body 131 is rigidly secured to the support in a vacuum chamber (not shown in FIG. 5) and flexibly connected to the sidewalls 102, eg, via screws or bolts 108. There is.

[0080]駆動ユニット142は、本体131を貫通して真空チャンバ内に延びている第1の被駆動部143を第2の方向Zに移動させるように構成され、第2の駆動ユニット145は、本体131を貫通して真空チャンバ内に延びている第2の被駆動部146を第2の方向Zに移動させるように構成される。位置合わせシステムに第1のキャリアを取り付けるための第1のマウント152が、第1の被駆動部143の前端に設けられ、位置合わせシステムに第2のキャリアを取り付けるための第2のマウント153が、第2の被駆動部146の前端に設けられている。したがって、第1および第2のキャリアを第2の方向Zにおけるそれぞれの所定の位置に位置決めするために、第1のマウント152および第2のマウント153を、それぞれのシフトデバイスによって第2の方向Zに互いに独立して移動させることができる。 [0080] The drive unit 142 is configured to move the first driven portion 143 extending through the body 131 into the vacuum chamber in the second direction Z, and the second drive unit 145 is The second driven part 146 extending through the main body 131 into the vacuum chamber is configured to move in the second direction Z. A first mount 152 for attaching the first carrier to the alignment system is provided at the front end of the first driven part 143, and a second mount 153 for attaching the second carrier to the alignment system is provided. , And is provided at the front end of the second driven portion 146. Therefore, in order to position the first and second carriers in their respective predetermined positions in the second direction Z, the first mount 152 and the second mount 153 are moved by the respective shift devices in the second direction Z. Can be moved independently of each other.

[0081]第1のキャリアおよび第2のキャリアを、被駆動部の前端に設けられた第2のマウントおよび第1のマウントに、互いに隣接して保持できるように、第2の被駆動部146は、第1の被駆動部143よりも真空チャンバ内に突き出ている。 [0081] The second driven portion 146 so that the first carrier and the second carrier can be held adjacent to each other on the second mount and the first mount provided at the front end of the driven portion. Protrudes into the vacuum chamber more than the first driven part 143.

[0082]第1のマウント152は、詳細には少なくとも1つのピエゾアクチュエータを含む、位置合わせデバイス151を介して第1の被駆動部143に接続されている。したがって、位置合わせデバイス151を用いて第1のマウント152を所定の位置に正確に位置決めすることによって、第2のキャリアに対する第1のキャリアの精密な位置決め(または精密な位置合わせ)を実行することができる。 [0082] The first mount 152 is connected to the first driven portion 143 via an alignment device 151, which specifically includes at least one piezo actuator. Thus, performing the precise positioning (or precise alignment) of the first carrier with respect to the second carrier by accurately positioning the first mount 152 in position using the alignment device 151. You can

[0083]図6は、図5の位置合わせシステム130の斜視図を示す。例えば、真空チャンバ内の圧力変化によって側壁が振動するとき、または側壁が動くときに、本体131が側壁102と一緒に動かないように、位置合わせシステム130の本体131と真空チャンバの側壁102との間に、小さな間隙が設けられている。 [0083] FIG. 6 illustrates a perspective view of the alignment system 130 of FIG. The body 131 of the alignment system 130 and the side wall 102 of the vacuum chamber are arranged such that the body 131 does not move with the side wall 102 when the side wall vibrates or moves due to pressure changes in the vacuum chamber. There is a small gap in between.

[0084]いくつかの実施形態では、装置は、第1の方向Xに互いに離間した2つ以上の位置合わせシステムを、堆積領域内に含む。各位置合わせシステムは、本明細書に記載の実施形態による位置合わせシステム130に従って構成することができる。例えば、第1の位置合わせシステムの第1のマウントは、第1のキャリアの前方上部を保持するように構成され、第2の位置合わせシステムの第1のマウントは、第1のキャリアの後方上部を保持するように構成されてもよい。各位置合わせシステムは、それぞれのシフトデバイスのそれぞれの駆動ユニットが真空チャンバの外部に位置するように、真空チャンバの側壁102を貫通して延びていてもよい。さらに、各位置合わせシステムは、それぞれの振動分離要素を介して真空システムの側壁にフレキシブルに接続されてもよい。いくつかの実施形態では、各位置合わせシステムは、真空チャンバ内に設けられている、例えば真空チャンバの頂壁に固定されている、同じ支持体に機械的に固定されている。 [0084] In some embodiments, the apparatus includes two or more alignment systems within the deposition region that are spaced apart from each other in the first direction X. Each alignment system can be configured according to the alignment system 130 according to the embodiments described herein. For example, the first mount of the first alignment system is configured to hold the front upper portion of the first carrier, and the first mount of the second alignment system is rear upper portion of the first carrier. May be configured to hold. Each alignment system may extend through the sidewall 102 of the vacuum chamber such that the respective drive unit of the respective shift device is located outside the vacuum chamber. Furthermore, each alignment system may be flexibly connected to the sidewall of the vacuum system via a respective vibration isolation element. In some embodiments, each alignment system is mechanically fixed to the same support provided within the vacuum chamber, for example fixed to the top wall of the vacuum chamber.

[0085]第1の位置合わせシステムの位置合わせデバイスは、第1のキャリアを第1の方向X、第2の方向Z、および第3の方向Yにおいて位置合わせするように構成されてもよく、第2の位置合わせシステムの位置合わせデバイスは、第1のキャリアを第1の方向Zおよび第3の方向Yにおいて位置合わせするように構成されてもよい。さらなる位置合わせデバイスを有するさらなる位置合わせシステムが、設けられてもよい。その結果、3次元物体である第1のキャリアを、第2のキャリアに対する堆積領域内の所定の並進および回転位置まで正確に位置決めし、回転させることができる。 [0085] The alignment device of the first alignment system may be configured to align the first carrier in a first direction X, a second direction Z, and a third direction Y, The alignment device of the second alignment system may be configured to align the first carrier in the first direction Z and the third direction Y. Additional alignment systems may be provided that have additional alignment devices. As a result, the first carrier, which is a three-dimensional object, can be accurately positioned and rotated to a predetermined translational and rotational position within the deposition region relative to the second carrier.

[0086]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態において、第1のシフトデバイスの被駆動部143は、真空チャンバ101内に配置された構成要素にケーブルなどの供給要素を送り込むように構成される。詳細には、被駆動部143は、真空チャンバの外部から真空チャンバ101内の被駆動部143の前端に配置された構成要素まで延びるケーブルのためのケーブル通路として構成された中空の管要素を含む。例えば、位置合わせデバイス151および第1のマウント152の少なくとも一方に接続された少なくとも1つのケーブルが、被駆動部143の中空の管要素を通って延びることができる。これにより、真空チャンバ内で第2の方向Zに移動可能な構成要素に電力を供給することができる。例えば、位置合わせデバイス151のピエゾアクチュエータおよび/または第1のマウント152の磁気チャックに、被駆動部143を通って真空チャンバの外部から電力を供給することができる。 [0086] In some embodiments that may be combined with other embodiments described herein, the driven portion 143 of the first shift device includes a cable, etc., for components disposed within the vacuum chamber 101. Is configured to feed the supply element of. In particular, the driven part 143 includes a hollow tube element configured as a cable passage for a cable extending from outside the vacuum chamber to a component located at the front end of the driven part 143 in the vacuum chamber 101. . For example, at least one cable connected to at least one of the alignment device 151 and the first mount 152 can extend through the hollow tube element of the driven part 143. This makes it possible to supply electric power to the component movable in the second direction Z in the vacuum chamber. For example, the piezo actuator of the alignment device 151 and/or the magnetic chuck of the first mount 152 can be powered from outside the vacuum chamber through the driven part 143.

[0087]いくつかの実施形態において、第2のシフトデバイスの第2の被駆動部145もまた、ケーブルなどの供給要素を、真空チャンバ内に配置された構成要素に、例えば真空チャンバ内の第2の被駆動部145の前端に設けられた構成要素に、送り込むように構成される。例えば、第2のマウント153に、被駆動部145を通って真空チャンバの外部から電力を供給することができる。 [0087] In some embodiments, the second driven portion 145 of the second shift device also provides a feed element, such as a cable, to a component disposed within the vacuum chamber, such as the first in the vacuum chamber. The second driven part 145 is configured to be fed into the component provided at the front end of the driven part 145. For example, power can be supplied to the second mount 153 from outside the vacuum chamber through the driven part 145.

[0088]図7は、本明細書に記載の実施形態による、真空チャンバ内で第1のキャリアを位置合わせする方法を示す流れ図である。 [0088] FIG. 7 is a flow chart illustrating a method of aligning a first carrier within a vacuum chamber, according to embodiments described herein.

[0089]ボックス830において、コーティングされるべき基板を保持することができる第1のキャリアが、真空チャンバ101内で第1の方向Xに第1の搬送経路に沿って搬送される。第1のキャリアは、堆積源105および位置合わせシステム130が配置されている堆積領域に搬送され得る。いくつかの実施形態では、第1のキャリア10は、複数の能動的に制御された磁石ユニットを含む磁気浮上システムによって非接触で搬送される。 [0089] At box 830, a first carrier capable of holding a substrate to be coated is transported in the vacuum chamber 101 in a first direction X along a first transport path. The first carrier may be transported to the deposition area where the deposition source 105 and the alignment system 130 are located. In some embodiments, the first carrier 10 is carried contactlessly by a magnetic levitation system that includes a plurality of actively controlled magnet units.

[0090]ボックス840において、第1のキャリアは、位置合わせシステム130の第1のマウントに取り付けられる。位置合わせシステムは、第1のマウントを少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイスと、第1のマウントと共に位置合わせデバイスを第1の方向に対して横方向の第2の方向に移動させるように構成された第1のシフトデバイスとを、含む。第2の方向は、第1の方向と本質的に直角の水平方向であり得る。 [0090] At box 840, the first carrier is mounted to the first mount of the alignment system 130. The alignment system includes an alignment device configured to move the first mount in at least one alignment direction and a second mount laterally to the first mount with the alignment device. A first shift device configured to move in the direction of. The second direction can be a horizontal direction that is essentially perpendicular to the first direction.

[0091]ボックス850において、第1のキャリアは、第1のシフトデバイスによって第2の方向に、詳細には、第2のキャリアによって保持される、以前に位置決めされたマスクに向かって、(位置合わせデバイスと共に)移動される。 [0091] In box 850, the first carrier is positioned in a second direction by the first shifting device, specifically toward the previously positioned mask held by the second carrier (position Be moved (along with the matching device).

[0092]ボックス860において、第1のキャリアは、位置合わせデバイスを用いて少なくとも1つの位置合わせ方向において、詳細には、第2の方向において、および任意選択で第1の方向と第3の方向の少なくとも一方において、位置合わせされる。詳細には、第1のキャリア10によって保持される基板が、第2のキャリアによって保持されるマスクと接触するように移動される。 [0092] In box 860, the first carrier is in at least one alignment direction with the alignment device, in particular in the second direction, and optionally in the first and third directions. In at least one of the two. In particular, the substrate carried by the first carrier 10 is moved into contact with the mask carried by the second carrier.

[0093]任意選択のボックス870において、材料が、第1のキャリアによって保持される基板上に堆積される。詳細には、蒸発させた有機材料が、基板を通り過ぎて移動可能であり得る蒸気源によって基板上に堆積される。 [0093] In optional box 870, material is deposited on the substrate carried by the first carrier. In particular, the vaporized organic material is deposited on the substrate by a vapor source that may be movable past the substrate.

[0094]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態において、第1のキャリアは、基板を保持する基板キャリアであり、第1のキャリアを位置合わせすることは、位置合わせシステムの第2のマウントに取り付けられた第2のキャリアに対して第1のキャリアを位置合わせすることを含む。詳細には、第2のキャリアは、マスクを保持するマスクキャリアである。 [0094] In an embodiment that can be combined with other embodiments described herein, the first carrier is a substrate carrier that holds the substrate, and aligning the first carrier is an alignment. Aligning the first carrier with a second carrier mounted on a second mount of the system. Specifically, the second carrier is a mask carrier that holds the mask.

[0095]任意選択のボックス810において、マスク21を保持する第2のキャリア20が、第1の搬送経路と平行に延びる第2の搬送経路に沿って第1の方向Xに堆積領域内へ搬送される。第2のキャリア20は、複数の能動的に制御された磁石ユニットを含む磁気浮上システムによって非接触で搬送されてもよい。 [0095] In optional box 810, the second carrier 20 holding the mask 21 is transported into the deposition region in the first direction X along a second transport path extending parallel to the first transport path. To be done. The second carrier 20 may be contactlessly transported by a magnetic levitation system that includes a plurality of actively controlled magnet units.

[0096]任意選択のボックス820において、第2のキャリア20は、位置合わせシステム130の第2のマウントに取り付けられ、第2のキャリアは、位置合わせシステム130の第2のシフトデバイスによって第2の方向Zに、詳細には堆積源に向かって、移動される。方法は、次にボックス830に進むことができる。 [0096] In optional box 820, the second carrier 20 is mounted on a second mount of the alignment system 130 and the second carrier is second mounted by the second shift device of the alignment system 130. In the direction Z, in particular towards the deposition source. The method can then proceed to box 830.

[0097]本明細書に記載されている装置は、例えばOLEDデバイス製造用の有機材料を、蒸発させるように構成することができる。例えば、堆積源は、蒸発源とすることができ、詳細には、基板上に1種以上の有機材料を堆積させてOLEDデバイスの層を形成するための蒸発源とすることができる。 [0097] The apparatus described herein can be configured to evaporate organic materials, such as for OLED device fabrication. For example, the deposition source can be an evaporation source, in particular an evaporation source for depositing one or more organic materials on a substrate to form a layer of an OLED device.

[0098]本明細書に記載の実施形態は、例えばOLEDディスプレイ製造のための、大面積基板上の蒸着に利用することができる。具体的には、本明細書に記載の実施形態による構造および方法が提供される基板は、例えば、0.5m2以上、詳細には1m2以上の表面積を有する、大面積基板である。例えば、大面積の基板またはキャリアは、約0.67m2(0.73 x 0.92m)の表面積に対応するGEN4.5、約1.4m2(1.1m x 1.3m)の表面積に対応するGEN5、約4.29m2(1.95m x 2.2m)の表面積に対応するGEN7.5、約5.7m2(2.2m x 2.5m)の表面積に対応するGEN8.5、または約8.7m2(2.85m x 3.05m)の表面積に対応するGEN10でさえあり得る。GEN11およびGEN12などのさらに大きな世代ならびに対応する表面積が、同様に実施され得る。GEN世代の半分のサイズもまた、OLEDディスプレイ製造において提供され得る。 [0098] The embodiments described herein can be utilized for vapor deposition on large area substrates, for example, for OLED display fabrication. Specifically, the substrate provided with the structure and method according to the embodiments described herein is a large-area substrate having a surface area of, for example, 0.5 m 2 or more, particularly 1 m 2 or more. For example, a large area substrate or carrier may have a GEN4.5 corresponding to a surface area of about 0.67 m 2 (0.73 x 0.92 m), a surface area of about 1.4 m 2 (1.1 m x 1.3 m). GEN5 corresponding, GEN7.5 corresponding to a surface area of about 4.29 m 2 (1.95 m x 2.2 m), GEN8.5 corresponding to a surface area of about 5.7 m 2 (2.2 m x 2.5 m), Or it could even be GEN10 which corresponds to a surface area of about 8.7 m 2 (2.85 m x 3.05 m). Larger generations such as GEN11 and GEN12 and corresponding surface areas can be implemented as well. Half the size of the GEN generation can also be provided in OLED display manufacturing.

[0099]本明細書に記載の他の実施形態と組み合わせることができるいくつかの実施形態によれば、基板の厚さは、0.1mmから1.8mmであり得る。基板の厚さは、0.5mmなど、約0.9mm以下であり得る。本明細書で使用される「基板」という用語は、詳細には、実質的に非フレキシブルな基板、例えば、ウェハ、サファイアなどの透明結晶のスライス、またはガラス板を含み得る。しかしながら、本開示はそれに限定されず、「基板」という用語は、ウェブまたは箔などのフレキシブルな基板も含み得る。「実質的に非フレキシブル」という用語は、「フレキシブル」と区別されると解釈される。具体的には、実質的に非フレキシブルな基板は、例えば、0.5mm以下などの0.9mm以下の厚さを有するガラス板のように、ある程度のフレキシビリティを有することができるが、実質的に非フレキシブルな基板のフレキシビリティは、フレキシブルな基板と比較して小さい。 [0099] According to some embodiments, which may be combined with other embodiments described herein, the thickness of the substrate may be 0.1 mm to 1.8 mm. The thickness of the substrate can be about 0.9 mm or less, such as 0.5 mm. As used herein, the term “substrate” may specifically include a substantially non-flexible substrate, eg, a wafer, a slice of transparent crystals such as sapphire, or a glass plate. However, the present disclosure is not so limited and the term "substrate" may also include flexible substrates such as webs or foils. The term "substantially inflexible" is taken to be distinct from "flexible". Specifically, a substantially non-flexible substrate may have some flexibility, such as a glass plate having a thickness of 0.9 mm or less, such as 0.5 mm or less, but is substantially The flexibility of a non-flexible substrate is smaller than that of a flexible substrate.

[00100]本明細書に記載の実施形態によれば、基板は、材料堆積に適した任意の材料で作製することができる。例えば、基板は、ガラス(例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラスなど)、金属、ポリマー、セラミック、化合物材料、炭素繊維材料、または堆積プロセスによってコーティングすることができる任意の他の材料もしくは材料の組み合わせからなる群から選択された材料で作製することができる。 [00100] According to the embodiments described herein, the substrate can be made of any material suitable for material deposition. For example, the substrate can be glass (eg, soda lime glass, borosilicate glass, etc.), metal, polymer, ceramic, compound material, carbon fiber material, or any other material or combination of materials that can be coated by a deposition process. It can be made of a material selected from the group consisting of:

[00101]本明細書に記載の実施形態によれば、真空チャンバ内で基板キャリアおよびマスクキャリアを搬送および位置合わせするための方法は、コンピュータプログラム、ソフトウェア、コンピュータソフトウェア製品、ならびにCPU、メモリ、ユーザインターフェース、ならびに装置の対応する構成要素と通信する入力および出力デバイスを有することができる相互に関連するコントローラを使用して、実施することができる。 [00101] According to embodiments described herein, a method for transporting and aligning a substrate carrier and a mask carrier in a vacuum chamber is provided in a computer program, software, computer software product, and CPU, memory, user. It can be implemented using an interface and an interrelated controller that can have input and output devices in communication with corresponding components of the apparatus.

[00102]本開示は、第1のキャリアのための第1のキャリア搬送システムおよび少なくとも1つの寸法において等しいサイズであり得る第2のキャリアのための第2のキャリア搬送システムを提供する。言い換えれば、第2のキャリアは、第1のキャリア搬送システムに適合し、第1のキャリアは、第2のキャリア搬送システムに適合し得る。第1のキャリア搬送システムおよび第2のキャリア搬送システムは、真空システムを通るキャリアの正確かつ円滑な搬送を提供しながら、柔軟に使用することができる。位置合わせシステムは、マスクに対する基板の正確な位置合わせを可能にし、またはその逆も可能である。例えば高解像度OLEDデバイスの製造のための、高品質の処理結果を、達成することができる。 [00102] The present disclosure provides a first carrier transport system for a first carrier and a second carrier transport system for a second carrier that may be of equal size in at least one dimension. In other words, the second carrier may be compatible with the first carrier transport system and the first carrier may be compatible with the second carrier transport system. The first carrier transport system and the second carrier transport system can be used flexibly while providing accurate and smooth transport of carriers through the vacuum system. The alignment system allows for accurate alignment of the substrate with respect to the mask, and vice versa. High quality processing results can be achieved, for example for the production of high resolution OLED devices.

[00103]他の実施形態において、マスクキャリアと基板キャリアは、異なるサイズであってもよい。例えば、図3に概略的に示されるように、マスクキャリアは、詳細には垂直方向において、基板キャリアより大きくてもよい。 [00103] In other embodiments, the mask carrier and the substrate carrier may be of different sizes. For example, as shown schematically in FIG. 3, the mask carrier may be larger than the substrate carrier, particularly in the vertical direction.

[00104]上記は、本開示の実施形態に向けられているが、本開示の基本的な範囲から逸脱することなく、本開示の他のさらなる実施形態を考え出すこともでき、本開示の範囲は、以下の特許請求の範囲によって決定される。 [00104] While the above is directed to the embodiments of the present disclosure, other additional embodiments of the present disclosure can be devised without departing from the basic scope of the present disclosure, and the scope of the present disclosure. , As determined by the following claims.

Claims (16)

真空チャンバ(101)内でのキャリア位置合わせのための装置であって、
第1のキャリア(10)を第1の搬送経路に沿って第1の方向(X)に搬送するように構成された第1のキャリア搬送システム(120)と、
位置合わせシステム(130)と、
を備え、前記位置合わせシステム(130)が、
前記第1のキャリア(10)を前記位置合わせシステム(130)に取り付けるための第1のマウント(152)と、
前記第1のマウント(152)を少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイス(151)と、
前記位置合わせデバイス(151)を前記第1のマウント(152)と共に前記第1の方向(X)に対して横方向の第2の方向(Z)に移動させるように構成された第1のシフトデバイス(141)と、
を備える、装置。
A device for aligning carriers in a vacuum chamber (101), comprising:
A first carrier transport system (120) configured to transport a first carrier (10) along a first transport path in a first direction (X);
An alignment system (130),
And the alignment system (130) comprises
A first mount (152) for attaching the first carrier (10) to the alignment system (130);
An alignment device (151) configured to move the first mount (152) in at least one alignment direction;
A first shift configured to move the alignment device (151) with the first mount (152) in a second direction (Z) transverse to the first direction (X). Device (141),
A device.
前記第1のシフトデバイス(141)が、駆動ユニット(142)と被駆動部(143)とを備え、前記位置合わせデバイス(151)と前記第1のマウント(152)が、前記被駆動部(143)に設けられ、前記被駆動部と共に移動可能である、請求項1に記載の装置。 The first shift device (141) includes a drive unit (142) and a driven part (143), and the alignment device (151) and the first mount (152) include the driven part (152). 143) The device according to claim 1, which is provided at 143) and is movable together with the driven part. 前記駆動ユニット(142)が、前記被駆動部(143)を前記第2の方向(Z)に10mm以上、詳細には20mm以上、さらに詳細には30mm以上の距離移動させるように構成されたリニアアクチュエータを備える、請求項2に記載の装置。 The drive unit (142) is configured to move the driven part (143) in the second direction (Z) by a distance of 10 mm or more, specifically 20 mm or more, and more specifically 30 mm or more. The device of claim 2, comprising an actuator. 前記駆動ユニット(142)が、前記真空チャンバ(101)の外部に配置され、前記被駆動部(143)が、前記真空チャンバの外部から前記真空チャンバ内に延びている、請求項2または3に記載の装置。 The drive unit (142) is arranged outside the vacuum chamber (101), and the driven part (143) extends from the outside of the vacuum chamber into the vacuum chamber. The described device. 前記被駆動部(143)が、前記真空チャンバ(101)内に配置された構成要素に、詳細には前記位置合わせデバイス(151)および前記第1のマウント(152)の少なくとも1つに、ケーブルを送り込むように構成された中空の管要素を備える、請求項2から4のいずれか一項に記載の装置。 The driven part (143) to a component arranged in the vacuum chamber (101), in particular to at least one of the alignment device (151) and the first mount (152), the cable An apparatus according to any one of claims 2 to 4, comprising a hollow tube element configured to deliver the. 前記位置合わせシステム(130)が、前記真空チャンバの壁を貫通して延びており、少なくとも1つの振動減衰要素(103)を介して、前記壁にフレキシブルに接続されている、請求項1から5のいずれか一項に記載の装置。 The alignment system (130) extends through a wall of the vacuum chamber and is flexibly connected to the wall via at least one vibration damping element (103). The apparatus according to claim 1. 前記振動減衰要素(103)が、前記位置合わせシステムへの前記壁の動きの伝達を低減または防止するように構成された少なくとも1つのフレキシブルおよび/または弾性シール要素、詳細にはベローズ要素、を備える、請求項6に記載の装置。 The vibration damping element (103) comprises at least one flexible and/or elastic sealing element, in particular a bellows element, configured to reduce or prevent the transmission of movement of the wall to the alignment system. The device according to claim 6. 前記位置合わせデバイス(151)が、少なくとも1つのピエゾアクチュエータを備える、請求項1から7のいずれか一項に記載の装置。 8. Apparatus according to any one of the preceding claims, wherein the alignment device (151) comprises at least one piezo actuator. 前記位置合わせデバイス(151)が、前記第1のマウント(152)を前記第2の方向(Z)に、ならびに任意選択で、前記第1の方向(X)にならびに/または前記第1および前記第2の方向に対して横方向の第3の方向(Y)に、移動させるように構成される、請求項1から8のいずれか一項に記載の装置。 The alignment device (151) moves the first mount (152) in the second direction (Z) and optionally in the first direction (X) and/or the first and the first 9. A device according to any one of the preceding claims, configured to move in a third direction (Y) transverse to the second direction. 前記第1のマウント(152)が、詳細には永電磁石デバイスを備える、前記第1のキャリアを前記第1のマウントに磁気的に保持するように構成された磁気チャックを備える、請求項1から9のいずれか一項に記載の装置。 The first mount (152) comprises a magnetic chuck configured to magnetically hold the first carrier to the first mount, in particular comprising a permanent electromagnet device. 9. The device according to any one of 9 above. 前記位置合わせシステム(130)が、
第2のキャリアを前記位置合わせシステム(130)に取り付けるための第2のマウント(153)と、
前記第2のマウント(153)を前記第2の方向(Z)に移動させるように構成された第2のシフトデバイス(144)と、
をさらに備える、請求項1から10のいずれか一項に記載の装置。
The alignment system (130)
A second mount (153) for attaching a second carrier to the alignment system (130);
A second shift device (144) configured to move the second mount (153) in the second direction (Z);
The apparatus according to any one of claims 1 to 10, further comprising:
前記第2のシフトデバイス(144)が、第2の駆動ユニット(145)と第2の被駆動部(146)とを備え、前記第2のマウントが、前記真空チャンバ内で前記第2の被駆動部に設けられている、請求項11に記載の装置。 The second shift device (144) comprises a second drive unit (145) and a second driven part (146), and the second mount comprises the second mount within the vacuum chamber. The device according to claim 11, which is provided in the driving unit. 前記第1のキャリア搬送システム(120)が、前記第1のキャリア(10)を前記第1の方向(X)に非接触で搬送するように構成され、複数の能動的に制御された磁石ユニットを備える、磁気浮上システムである、請求項1から12のいずれか一項に記載の装置。 The first carrier transport system (120) is configured to transport the first carrier (10) in the first direction (X) in a non-contact manner, and comprises a plurality of actively controlled magnet units. 13. The apparatus according to any one of claims 1-12, which is a magnetic levitation system comprising. 真空チャンバ内でのキャリア位置合わせのための真空システムであって、
側壁(102)を有する真空チャンバ(101)と、
位置合わせシステム(130)と、
を備え、前記位置合わせシステム(130)が、
前記第1のキャリア(10)を前記位置合わせシステム(130)に取り付けるための第1のマウント(152)と、
前記第1のマウント(152)を少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイス(151)と、
前記位置合わせデバイス(151)を前記第1のマウント(152)と共に前記第1の方向(X)に対して横方向の第2の方向(Z)に移動させるように構成された第1のシフトデバイス(141)と、
を備え、
前記位置合わせシステム(130)が、前記側壁(102)を貫通して延びており、前記側壁(102)にフレキシブルに接続されている、真空システム。
A vacuum system for carrier alignment in a vacuum chamber, comprising:
A vacuum chamber (101) having a sidewall (102),
An alignment system (130),
And the alignment system (130) comprises
A first mount (152) for attaching the first carrier (10) to the alignment system (130);
An alignment device (151) configured to move the first mount (152) in at least one alignment direction;
A first shift configured to move the alignment device (151) with the first mount (152) in a second direction (Z) transverse to the first direction (X). Device (141),
Equipped with
A vacuum system wherein the alignment system (130) extends through the sidewall (102) and is flexibly connected to the sidewall (102).
真空チャンバ内でキャリアを位置合わせする方法であって、
第1のキャリア(10)を第1の搬送経路に沿って第1の方向(X)に搬送することと、
第1のマウント(152)を少なくとも1つの位置合わせ方向に移動させるように構成された位置合わせデバイス(151)と、前記位置合わせデバイスを前記第1のマウントと共に前記第1の方向に対して横方向の第2の方向(Z)に移動させるように構成された第1のシフトデバイス(141)と、を備える位置合わせシステム(130)の前記第1のマウントに前記第1のキャリアを取り付けることと、
前記第1のシフトデバイス(141)を用いて前記第1のキャリアを前記第2の方向(Z)に移動させることと、
前記位置合わせデバイス(151)を用いて前記第1のキャリアを少なくとも1つの位置合わせ方向において位置合わせすることと、
を含む方法。
A method of aligning a carrier in a vacuum chamber, the method comprising:
Transporting the first carrier (10) in the first direction (X) along the first transport path;
An alignment device (151) configured to move a first mount (152) in at least one alignment direction, and the alignment device together with the first mount transverse to the first direction. Mounting the first carrier on the first mount of an alignment system (130) comprising a first shift device (141) configured to move in a second direction (Z) of directions. When,
Moving the first carrier in the second direction (Z) using the first shift device (141);
Aligning the first carrier in at least one alignment direction using the alignment device (151);
Including the method.
前記第1のキャリア(10)が、基板(11)を保持する基板キャリアであり、前記第1のキャリアを位置合わせすることが、前記位置合わせシステムの第2のマウントに取り付けられた第2のキャリア(20)に対して前記第1のキャリアを位置合わせすることを含み、詳細には前記第2のキャリアが、マスク(21)を保持するマスクキャリアである、請求項15に記載の方法。 The first carrier (10) is a substrate carrier holding a substrate (11), and aligning the first carrier is a second mount mounted on a second mount of the alignment system. 16. The method according to claim 15, comprising aligning the first carrier with respect to a carrier (20), in particular the second carrier is a mask carrier carrying a mask (21).
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