JP2020515006A5 - - Google Patents

Claims (35)

1. 非熱的大気圧プラズマを生成するための装置であって、
   プロセス媒体中で非熱的大気圧プラズマを点火するように構成された第１圧電トランスと、
   前記第１圧電トランスに入力電圧を印加するように構成された駆動制御回路と、を備え、
   前記駆動制御回路は、前記第１圧電トランスが変調の結果として音波信号を生成するように、前記入力電圧の変調を行うように構成されている、
   装置。
2. 前記変調は、振幅変調である、
   請求項１記載の装置。
3. 前記駆動制御回路は、搬送周波数を有する交流電圧を入力電圧として前記第１圧電トランスに印加し、前記の印加された入力電圧の振幅を変調周波数で変調するように構成されており、前記変調周波数は前記搬送周波数より小さい、
   請求項１又は２記載の装置。
4. 前記音波信号は、可聴周波数領域及び／又は超音波周波数領域の周波数を有する、
   請求項１乃至３いずれか１項記載の装置。
5. 前記装置はハウジングを備え、
   前記ハウジング内には前記第１圧電トランスが配置されている、
   請求項１乃至４いずれか１項記載の装置。
6. 前記ハウジングは共振容積である、
   請求項５記載の装置。
7. 前記ハウジングは、触媒的に活性なワイヤメッシュを有する、
   請求項６項記載の装置。
8. 前記ハウジングは、ラッパ形状を有する、
   請求項５乃至７いずれか１項記載の装置。
9. 前記ハウジングは、プラズマ点火の際に発生するオゾンを破壊するように構成されている、
   請求項５乃至８いずれか１項記載の装置。
10. 前記第１圧電トランスは、ローゼン型トランスである、
    請求項１乃至９いずれか１項記載の装置。
11. 前記第１圧電トランスは出力領域を備え、別個の対向電極無しで、プロセス媒体中で非熱的大気圧プラズマを点火するために、前記出力領域において高電圧を生成可能である、
    請求項１乃至１０いずれか１項記載の装置。
12. 前記装置はさらに、対向電極を備え、
    前記装置は、前記第１圧電トランスの出力領域と前記対向電極との間に生成される電圧によって、プラズマを点火するように構成されている、
    請求項１乃至１０いずれか１項記載の装置。
13. 化学的反応の加速又は触媒を実現する、
    請求項１乃至１２いずれか１項記載の装置。
14. 汚染物質、例えば窒素酸化物、一酸化炭素、及び／又は、細塵を破壊し又は分解する、
    請求項１３記載の装置。
15. 表面を活性化し又は滅菌するために設けられている、
    請求項１乃至１４いずれか１項記載の装置。
16. 前記プロセス媒体は、ガス状媒体、使用温度及び使用圧力においてガス状である素材、使用温度及び使用圧力においてガス状である素材の混合物、エアロゾル、ガス中に浮遊する、流体及び／又は固体の粒子、流体、又は、生物学的組織である、
    請求項１乃至１５いずれか１項記載の装置。
17. プロセス媒体は排気ガスである、
    請求項１乃至１６いずれか１項記載の装置。
18. 前記排気ガスは内燃機関の排気ガスである、
    請求項１７記載の装置。
19. 前記第１圧電トランスの出力側端面の前に、誘電バリアが配置されており、
    前記装置は、前記出力側端面で生成される高電圧が点火空間に容量的に結合されるように構成されており、前記点火空間内には前記プロセス媒体があり、したがって前記点火空間内において前記プロセス媒体中で非熱的大気圧プラズマが点火される、
    請求項１乃至１８いずれか１項記載の装置。
20. 前記装置は、第２圧電トランスを備え、前記第２圧電トランスは、前記第１圧電トランスに相対向して配置されており、
    前記駆動制御回路は、前記第１圧電トランスと前記第２圧電トランスとの間の電圧によって非熱的大気圧プラズマが生成されるように、前記第２圧電トランスに入力電圧が印加されるように構成されており、
    前記第１圧電トランス及び前記第２圧電トランスは相互に１８０度だけ位相シフトして駆動制御されている、
    請求項１乃至１９いずれか１項記載の装置。
21. 前記装置は、少なくとも１つのさらなる圧電トランスを備え、前記さらなる圧電トランスは前記第１圧電トランスに平行に配置されており、前記第１圧電トランスとは異なる長さを有しており、
    前記駆動制御回路は、前記さらなる圧電トランスが変調の結果として音波信号を生成するように、前記さらなる圧電トランスに印加される入力電圧の変調を行うように構成されている、
    請求項１乃至２０いずれか１項記載の装置。
22. 前記装置は手持ち機器である、
    請求項１乃至２１いずれか１項記載の装置。
23. 前記第１圧電トランスによって生成される非熱的大気圧プラズマの振幅は、前記入力電圧の変調に応じて変動する、
    請求項１乃至２２いずれか１項記載の装置。
24. 前記第１圧電トランスによって生成される非熱的大気圧プラズマの出力は、前記変調の変調周波数に応じて変動する、
    請求項１乃至２３いずれか１項記載の装置。
25. 生成される非熱的大気圧プラズマの出力の変動によって、前記変調の変調周波数と周波数が一致する音波信号が生成される、
    請求項１乃至２４いずれか１項記載の装置。
26. 前記装置は歯科治療に使用されるように設計されている、
    請求項１乃至２５いずれか１項記載の装置。
27. 前記装置は、歯及び／又は歯肉をプラズマ及び超音波周波数領域の音波信号を用いて、洗浄し消毒するように設計されている、
    請求項１乃至２６いずれか１項記載の装置。
28. 請求項１乃至２７いずれか１項記載の装置を有するスピーカー。
29. 請求項１乃至２７いずれか１項記載の装置を有する排気装置。
30. 請求項１乃至２７いずれか１項記載の装置を有する医療機器。
31. 前記医療機器は、虫歯の治療又は創傷の治療のために設計されている、
    請求項３０記載の医療機器。
32. 前記医療機器は、プローブ又は内視鏡である、
    請求項３０又は３１記載の医療機器。
33. 請求項１乃至２７いずれか１項記載の装置を有する害虫防御のための機器。
34. 粒子分析のための分析機器であって、
    請求項１乃至２７いずれか１項記載の装置を有し、
    前記装置は、分析目的のために及び／又は排気ガス流のクリーニングのために及び／又は関連する粒子を分解するために、粒子をイオン化するように、配置及び構成されている、
    分析機器。
35. 請求項１乃至２７いずれか１項記載の装置、又は
    請求項２８記載のスピーカー、又は
    請求項２９記載の排気装置、又は、
    請求項３０記載の医療機器、又は、
    請求項３３記載の害虫防御装置、又は
    請求項３４記載の分析機器を有する、
    パイプシステム。