JP2020513690A - マイクロパターンおよび/またはナノパターンをエンボス加工するための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
架橋放射線を、架橋放射線透過性の、特にパターン形成されたエンボスロール内に入射させ、これによりエンボスロールを、入射する架橋放射線のための光導体として用いるステップと、
架橋放射線をエンボスロールから出射させるステップと、
エンボスロールによって押圧されたエンボス加工材料を、出射した架橋放射線によって硬化させるステップと、を有している。
架橋放射線を放射するための送信モジュールと、
架橋放射線透過性のエンボスロールと、を有しており、架橋放射線はエンボスロール内に入射可能であって、これによりエンボスロールは入射する架橋放射線のための光導体として使用可能であって、架橋放射線はエンボスロールから出射可能であり、エンボスロールによって押圧されたエンボス加工材料は出射した架橋放射線によって硬化可能である。
エンボスロールは、刊行物、欧州特許第2761371明細書(EP2761371)の説明により製作されてよい。本発明により開示されたさらなる実施形態では、ネガ型としてパターン形成されたマスタを、電子ビームリソグラフィ、原子力顕微鏡、LIGAプロセスによって、またはX線リソグラフィ、またはその他の第1の部分的方法としての製造法によって形成することができる。
第1のステップでは、特にロールに巻き付けられた支持フィルムをインプリント装置に取り付ける。さらに、必要な媒体(例えば、圧縮空気、真空、エンボス加工材料)の現存、脱イオン化、エアフィルタの機能性、測定機器および制御機器のセンサ値の妥当性のような初期チェックも行わなければならない。
n1,n2,n3 屈折率
G,H 境界面
M1,M2,O 様々な屈折率を有する媒質、固体
I,I1,I2,I3 放射線、特に光の強度
x,k 間隔
e 指数関数
c 全反射の境界角度
α,β 屈折角度
F エンボス力
F’ 反力
bp エンボスロールの幅
D エンボスロールの外径
L 入射放射線、特に光
d エンボスロールの内径
s 鏡面
lk 光結合面、特にキャビティ
t,t’,t’’,t’’’ セグメント間の分離壁
1 送信モジュール
2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’ エンボスモジュール、特にエンボスロール
2a エンボスロールの円筒状の外周面
2i エンボスロールの機能的な内周面
2ik 円錐状に形成されたエンボスロールの機能的な内周面
2k 結合エレメントおよび部分鏡面を備えた結合面(エンボスロールの端面)
2s (放射線入射のための)エンボスロールの端面
2sp エンボスロールの鏡面化された端面
3 支持モジュール
4 受信モジュール
5 支持材料
6 上方のコーティングモジュール
7 下方のコーティングモジュール
8 力もしくは圧力生成エレメント、特に駆動装置、モータ
9 少なくとも1つの放射源を備えた放射モジュール
10 クリーニングおよび/または調量のためのガイドおよび/または予荷重および/または接合モジュール
11 閉ループ制御および/またはガイドモジュール
12,13 保護層および/または保護フィルム塗布のためのモジュール及び/又は完全硬化モジュールおよび/または予荷重および/または調量モジュール
14 測定および/または開ループ制御および/または閉ループ制御モジュール
15 インプリント装置
16 円筒体
16a 円筒体の外周面
16k 円錐状に形成された円筒体の外周面
16s 円筒体の外周面16aにおける放射線出射を促進するための欠損個所
17 エンボス加工材料
18,18’ 入射のためのビーム形成体、特に光学的な楔、レンズ、プリズム、鏡、絞り
Claims (13)
- マイクロパターンおよび/またはナノパターンをエンボス加工する方法であって、以下のステップ:
架橋放射線(L)を、前記架橋放射線透過性の、特にパターン形成されたエンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)内に入射させ、これにより前記エンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)を、入射する架橋放射線(L)のための光導体として用いるステップと、
前記架橋放射線(L)を前記エンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)から出射させるステップと、
前記エンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)によって押圧されたエンボス加工材料(17)を、出射した前記架橋放射線(L)によって硬化させるステップと、
を有する、方法。 - 前記架橋放射線(L)を、前記エンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)の端面(2k)のうちの少なくとも1つに入射させる、請求項1記載の方法。
- 少なくとも1つの送信モジュール(1)が前記架橋放射線(L)を前記エンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)内に入射させる、請求項1または2記載の方法。
- 前記架橋放射線(L)は紫外線である、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- 前記エンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)の内側で、前記架橋放射線(L)の複数の全反射が行われる、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
- 前記架橋放射線(L)をフラストレートされた全反射によって前記エンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)から出射させ、同時にエンボス加工材料(17)内に硬化のために入射させる、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
- 前記架橋放射線(L)を、散乱個所(16s)によって出射させる、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。
- 前記エンボス加工材料(17)を前記エンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)によって成形し、時間的に最小限の遅れを持ってまたは同時に、前記エンボス加工材料(17)の硬化を前記架橋放射線(L)によって行う、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。
- マイクロパターンおよび/またはナノパターンをエンボス加工する装置(15)であって、
架橋放射線(L)を放射するための送信モジュール(1)と、
架橋放射線透過性のエンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)と、
を有しており、
前記架橋放射線(L)は前記エンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)内に入射可能であって、これにより前記エンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)は入射する架橋放射線(L)のための光導体として使用可能であって、前記架橋放射線(L)は前記エンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)から出射可能であり、前記エンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)によって押圧されたエンボス加工材料(17)は出射した前記架橋放射線(L)によって硬化可能である、マイクロパターンおよび/またはナノパターンをエンボス加工する装置(15)。 - 請求項1記載の方法のためのエンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)。
- 前記エンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)の内周面(2ik)が円錐状に形成されている、請求項1記載の方法のためのエンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)。
- 前記エンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)の端面(2s,2sk)のうちの少なくとも1つには、放射線入射のために、部分鏡面および/または溝および/またはノッチが設けられている、請求項1記載の方法のためのエンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)。
- 前記架橋放射線(L)は前記エンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)の片側の1つの端面(2s,2k)に入射可能であって、対向する端面(2sp)は全面鏡面化されている、請求項1記載の方法のためのエンボスロール(2,2’,2’’,2’’’,2’’’’,2’’’’’,2’’’’’’,2’’’’’’’)。
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